JP2003064469A - 耐摩耗性皮膜及びその皮膜を有する摺動部材 - Google Patents

耐摩耗性皮膜及びその皮膜を有する摺動部材

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 Cr-N系イオンプレーティング皮膜の腐食摩耗
特性を改良する。 【解決手段】 3−20原子%のタングステンを固溶す
るCrN型窒化クロム結晶からなるCr-N系イオンプレー
ティング皮膜は、固溶したWの作用により硫酸、硝酸な
どの腐食性酸にさらされ摺動する皮膜の摩耗特性を良好
にする。WはX線回折には同定されず、EPMAにより量が確
認できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は耐摩耗性皮膜に関す
るものであり、さらに詳しく述べるならばCr-N系イオン
プレーティング皮膜及び摺動部材に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、内燃機関の高出力化や、低燃費
化、排ガス対策等のために、内燃機関の摺動部材には高
い耐摩耗性、低い摩擦力、高い耐食性などが求められて
いる。そのため、従来から用いられてきた硬質クロムめ
っき皮膜や窒化処理皮膜に替わり得る新しい表面改質技
術及び皮膜が研究開発されてきた。
【0003】特開昭61−87950号には、イオンプ
レーティングによる窒素及びクロムよりなる各種結晶相
の皮膜が開示されており、ピストンリングに適用された
場合は、いずれの皮膜も硬質クロムめっき皮膜や窒化処
理皮膜以上の摺動性能を有する。イオンプレーティング
法による窒化クロム皮膜は成膜速度が高く、且つ、他の
イオンプレーティング皮膜に比較して密着性に優れるた
め、厚膜での使用が可能であり、ピストンリング等内燃
機関の摺動部材用表面皮膜としては好適なものであっ
た。その結果、多くのイオンプレーティング窒化クロム
皮膜に関する特許出願がなされるに至った。
【0004】特開平6−293954号は結晶粒を皮膜
表面に向かって柱状結晶相で、且つ、ポーラスな窒化ク
ロム皮膜とすることによって、特開昭61−87950
号等のイオンプレーティング窒化クロム皮膜の欠点であ
る「皮膜の欠け易さ」を改良したものである。
【0005】また、特開平6−330348号は皮膜を
クロムとチタン、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、
モリブデン、ハフニウム、タンタル、タングステン及び
アルミニウムとの複合膜とすることにより、窒化クロム
皮膜以上の耐摩耗性、耐焼付性及び初期馴染み性を得た
ものである。すなわち、Cr及びVは窒素ガスと結合し
基体表面に窒化物となって析出すると説明されている
(段落番号0015)。
【0006】しかしながら、今日、ディーゼルエンジン
においては、更なる排気ガス対策の必要性から、大量の
EGRを行うようになってきた。この大量EGRを採用
すると燃焼により生成したススや硫黄酸化物、窒素酸化
物がエンジン内に従来以上の量で戻されることになるの
で、固体燃焼生成物によるアブレシブ摩耗やエンジンの
低温作動時にシリンダ内に発生する硫酸や硝酸による腐
食摩耗が従来以上に顕著になってきた。即ち、燃焼室回
りで摺動が問題となるピストンリング、ライナー、ピス
トンリング溝等では、このような腐食環境においても従
来のイオンプレーティング窒化クロム以上の高い摺動特
性が求められるようになってきており、従来のイオンプ
レーティング窒化クロム皮膜に代わる皮膜が求められて
いる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】窒化物が複合した皮膜
の腐食摩耗は各種窒化物の腐食性により影響される。窒
化物の腐食は金属が窒素から遊離する過程と金属が酸中
でイオン化する過程を伴うと考えられる。窒化クロム自
体は化学的には非常に安定ではあるが、以上のような従
来技術で成膜された従来のイオンプレーティングCr―
N皮膜は硫酸及び硝酸等の腐食摩耗環境では意外に腐食
摩耗を起こし易いことが分かった。したがって、腐食摩
耗環境下での摺動性能を改善したイオンプレーティング
皮膜を提供することが本発明の課題である。
【0008】
【課題を解決するための手段】Cr−M(金属)−N系
イオンプレーティング皮膜の成膜においてはCrもMも
窒素ガスと接触しているが、M元素は必ずしも窒化物と
して皮膜中に存在するのではなく金属形態で存在するこ
とが分かった。但し、X線回析により金属相は同定され
ずCrN窒化物のみが固定される。このような金属成分
すなわちWは腐食摩耗条件でのCrNの腐食性を著しく
改善することが分かった。
【0009】上述の新たな知見に基づく本発明において
は、少なくともその摺動面に、クロム、タングステン及
び窒素を主な構成元素するイオンプレーティング皮膜で
あって、皮膜結晶相が3−20原子%のタングステンを
固溶するCrN型窒化クロム皮膜であるイオンプレーテ
ィング皮膜を有する摺動部材とすることで課題を解決す
ることが出来る。
【0010】
【作用】本発明に係る皮膜の結晶相はX線回折法により
CrN型窒化クロムと同定できる。Wは、X線回折では
同定できず、X線マイクロアナライザー等によりその存
在量を確認することができる。また、Wが3原子%以下
ではCrN皮膜の耐食性は向上せず、また、20原子%
以上では成膜速度が遅くなるので得策ではない。最適
な、W成分範囲は5から15原子%である。CrN結晶
相中に固溶したWはCrN皮膜の耐食性を向上させる。
成膜速度上の問題はあるが、固溶限を超えてWが含まれ
る皮膜も耐食性は良好であるので、W自体がCrNイオン
プレーティング皮膜より耐食性に優れていることが分か
った。
【0011】皮膜形成法はPVDの一種であるイオンプ
レーティング法を用いる。スパッタリング法等も用いる
ことは出来るが、密着性が劣ることや成膜速度か遅いこ
とから、CrN皮膜のメリットを生かせない。従って、
イオンプレーティング法が望ましい。各種のイオンプレ
ーティング方法の中でも特にアークイオンプレーティン
グ法が最も望ましい。これは合金ターゲットを用いるこ
とで、安定した組成比の皮膜を得ることが出来るからで
ある。上述のように、特開平6−330348号におい
ては、クロムとクロム以外の金属も窒素と反応すると考
えられていたが、30原子%以下のW含有範囲ではタン
グステン窒化物はX線回折により同定されない。以下、
実施例に基づき説明する。
【0012】
【実施例】焼結法にてCr−5原子%W、Cr−10原
子%W、Cr−20原子%W、Cr−25原子%W、C
r−30原子%Wの各ターゲット1(陰極)を作成し成
膜を行った。図1は成膜に用いたアークイオンプレーテ
ィング装置を示す。SUS440B相当材の先端部が10Rの
5×5×10mm摺動試験用テストピースを用意した。
摺動用テストピース2のR面に皮膜が形成されるように
セットし成膜を行った。成膜前に、Arガス10mTor
r、バイアス電圧―750Vで10分間ボンバード処理
を行った後、引き続きヒーター8により成膜温度を70
0℃にセットし、バイアス電源7によりバイアス電圧―
10Vとした。さらに、ガス入口6から窒素ガスを流入
し、排気ポンプにより排気量を調整することにより窒素
圧を10mTorrに調整した。アーク電源4により陽極3
と陰極1の間にアーク電流200Aを発生し、処理時間
240分の条件で成膜処理を行った。また、比較例とし
てCr100%のターゲットを用い実施例の条件で成膜
したものも用意した。
【0013】尚、Wが30原子%固溶しているターゲッ
トについても成膜を行ったが、アーク放電が安定しない
ので皮膜形成を途中で中止した。以上の皮膜を成膜した
後、R表面をRz0.4μm以下に研磨により仕上げ、
摺動用テストピースとし腐食摩耗試験を行った。
【0014】まず最初に、X線回折により各皮膜の結晶
相を調査した。その結果、いずれの皮膜もCrN型窒化
クロムであった。ついで、X線マイクロアナライザーに
よりW量を求めた。これら結果を表1に示す。
【0015】
【表1】
【0016】次に、各皮膜の腐食摩耗試験を図2に示す
ようなピン−ドラム摩耗試験機で行った。図において、
12は支点、13はシャフト、14は荷重、15は摩耗
テストピース、16バランス、17は回転軸、18はド
ラム、19は潤滑水(硫酸水溶液)である。円筒状の相
手材(18)FC250の外周面に摺動用テストピース
15のR面を周速0.25m/秒、荷重40Nで押しつ
け、潤滑として pH=2の硫酸水溶液を0.5cc/
分で滴下し、摺動時間6時間の条件で摩耗試験を行っ
た。試験後の10R面の当たり幅を摩耗量の目安とし
た。その結果を表2示す。
【0017】
【表2】
【0018】表2から解るように、本発明に係る窒化ク
ロム結晶中にWを固溶させた皮膜は腐食環境下の摩耗性
能に優れ、約5原子%以上のWを固溶すればCrNを以
上の性能であることが解る。尚、Wが30原子%のター
ゲットを用いたイオンプレーティングでは皮膜の作成が
出来なかった。
【0019】
【発明の効果】以上のように、本発明による皮膜を有す
る摺動部材は、耐硫酸及び硝酸腐食特性と摺動特性の両
方が同時に要求される、エンジン用部品、特に、ピスト
ンリング、シリンダーライナー、バルブリフター等で良
好な摺動性能を示すことが期待される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 アークイオンプレーティング装置を示す図面
である。
【図2】 ピン−ドラム腐食摩耗試験機を示す図面であ
る。
【符号の説明】
1.陰極 2.基板 3.陽極 4.アーク電源 5.真空チャンバー 6.窒素ガス導入口 7.バイアス電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3J044 AA02 BA01 BB14 BB20 BB28 BB36 BB40 BC06 DA06 4K029 BA58 BB07 BC02 BD04 CA04

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】クロム、タングステン及び窒素を主な構成
    元素とする皮膜であって、3−20原子%のタングステ
    ンを固溶するCrN型窒化クロム結晶からなることを特
    徴とする耐摩耗性皮膜。
  2. 【請求項2】イオンプレーティング法により成膜された
    ことを特徴とする請求項1記載の耐摩耗性皮膜。
  3. 【請求項3】少なくとも摺動面に、クロム、タングステ
    ン及び窒素を主な構成元素とし、皮膜結晶相が3−20
    原子%のタングステンを固溶するCrN型窒化クロムで
    あるイオンプレーティング皮膜を有する摺動部材。
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WO2011125657A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 日立ツール株式会社 耐食性に優れた被覆物品の製造方法および被覆物品

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