JP2003050262A - 高周波icソケット、半導体試験装置および半導体試験方法ならびに半導体装置の製造方法 - Google Patents

高周波icソケット、半導体試験装置および半導体試験方法ならびに半導体装置の製造方法

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JP2003050262A
JP2003050262A JP2001240228A JP2001240228A JP2003050262A JP 2003050262 A JP2003050262 A JP 2003050262A JP 2001240228 A JP2001240228 A JP 2001240228A JP 2001240228 A JP2001240228 A JP 2001240228A JP 2003050262 A JP2003050262 A JP 2003050262A
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socket
under test
test
semiconductor
waveform
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JP2001240228A
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Keizo Takechi
啓三 武智
Akio Osaki
昭雄 大崎
Takeshi Fujii
武 藤井
Tetsuya Suzuki
哲也 鈴木
Kazuhiko Murata
和彦 村田
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Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
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Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0433Sockets for IC's or transistors
    • G01R1/0441Details
    • G01R1/045Sockets or component fixtures for RF or HF testing

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スタブ長を低減したICソケットを提供す
る。 【解決手段】 被試験IC50の入出力端子に接触する
複数のコンタクトピン30が先端部を残して基板20に
埋め込まれ、半導体試験装置60のDUTボードと被試
験IC50とを電気的導通を生じるように接続するため
のICソケット1において、前記コンタクトピン30が
埋め込まれる基板20に2つ以上の信号配線層S1,S
2と2つ以上の電源配線層Vdd,Gを設け、半導体試
験装置60のドライバ61またはコンパレータ62に接
続する信号配線23a,23bの一方を被試験IC50
に近い信号配線層S1を使ってコンタクトピン30に接
続し、信号配線の他方を被試験IC50から遠い信号配
線層S3を使ってコンタクトピン30に接続した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体試験装置の
ドライバから被試験ICに印加する試験波形と、被試験
ICから応答波形を半導体試験装置のコンパレータに入
力する際、スタブ配線となるICソケットの実効長さを
最短とする構造により、反射ノイズを低減し、優れた高
周波特性を有する高周波ICソケット、半導体試験装置
および半導体試験方法ならびに半導体装置の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】図3を用いて、従来のICソケットの構
造を説明する。図3は、被試験IC50とプリント配線
基板20との間を電気的導通がとれるように接続するた
めのICソケットの一般的な構造を表した縦断面図であ
り、ピン数及び形状の詳細は図の限りではない。ICソ
ケット1は、スルーホール21を有する多層プリント配
線基板(DUTボード)29と、下端部がプリント配線
基板29のスルーホール21に接続される複数のコンタ
クトピン30を有するICソケットハウジング3と、位
置決めピン35と、位置決めピン35に案内され被試験
IC50をコンタクトピン30の上端部に接触させるプ
ッシャ37と、テスタ60のドライバ61に接続された
高周波ケーブル90aが接続されコンタクトピン30を
介して被試験IC50に試験波形を供給するコネクタ4
0aと、コンタクトピン30を介して被試験IC50か
ら送り出される応答波形を高周波ケーブル90bに接続
されたテスタ60のコンパレータ62に供給するコネク
タ40bとを有して構成される。
【0003】多層プリント配線基板29には、電源配線
層と、コネクタ40aが接続されるスルーホール22a
とコンタクトピン30が接続されるスルーホール21を
接続するドライバ側配線23aと、コネクタ40bが接
続されるスルーホール22bとコンタクトピン30が接
続されるスルーホール21を接続するコンパレータ側配
線23bとが設けられている。ドライバ側配線23aと
スルーホール21は接続点24aで接続され、コンパレ
ータ側配線23bとスルーホール21は接続点24bで
接続されている。
【0004】コンタクトピン30は、ICソケット下方
のプリント配線基板29とICソケット上方に乗る被試
験IC50と間に電気的導通を生じるように接続する働
きを持っている。コンタクトピン30は、上記被試験I
C50とプリント配線基板29のコンタクトを取る働き
を備えるために、図示を省略したスプリングを内蔵し、
伸縮動作を行う構造となっている。被試験IC50が、
被試験IC50の上面から押さえるプッシャ37によ
り、位置決めピン35をガイドにして、図示しないハン
ドラ装置によって、押し下げられる力を受け、コンタク
トピン30を収縮させる。ICソケットのハウジング3
は、絶縁性の材質により構成されており、このハウジン
グ3にコンタクトピン30が埋設されている。
【0005】テスタ60は、試験波形を被試験IC50
に印加するドライバ61と、被試験IC50の応答波形
が入力され、図示を省略した比較電圧と比較し、応答波
形のハイ/ロー判定を行うコンパレータ62と、試験波
形および応答波形を終端する終端電圧源64と、終端抵
抗63を備えている。このような接続は、DTL(Dual
Terminated Logic)接続と呼ばれ、高速デバイスの試
験に用いられる接続方法である。
【0006】これに対し、STL(Single Terminated
Logic)接続と呼ばれる接続方法がある。この接続方法
は、テスタ60のドライバ61とコンパレータ62がテ
スタ上で接続され、同一のケーブルにより被試験IC5
0に接続されている。このSTL接続でI/O切替えを
行った場合、信号伝送が完了するまで待ち時間が必要と
なり、この待ち時間をI/Oデッドバンドと呼んでい
る。高速デバイスにおいては、ドライバ波形に対する被
試験ICの応答時間が早くなり、I/Oデッドバンドが
問題となっている。そこで、これを解消するため、前記
DTL接続が取られるようになってきた。
【0007】ここで、DTL接続における試験信号の流
れについて説明する。まず、ドライバ61から試験波形
を被試験IC50に印加する場合、試験波形は、ドライ
バ61から出力され、高周波ケーブル90aおよびコネ
クタ40aを経由し、プリント配線基板29の内層の伝
送線路23aを通り、接続点24aでプリント配線基板
29スルーホール21に供給される。さらに、試験波形
は、スルーホール21の接続点24bで分岐し、一方は
伝送線路23b、スルーホール22b、コネクタ40
b、高周波ケーブル90bを介し、テスタ60の終端抵
抗63で終端電圧源64に終端され、他方はプリント配
線基板29スルーホール21の接続点24bからスルー
ホール上方に伝わり、ソケットのコンタクトピン30を
介し、被試験IC50に印加される。
【0008】このとき、被試験IC50の入力インピー
ダンスが高いため、反射電圧が発生する。このため、プ
リント配線基板29のスルーホール21の接続点24b
から被試験IC50の入力端までの長さ、すなわち、分
岐点24bからソケットまでの基板厚さとソケットピン
長の和がスタブ配線となり、これが長い程、反射の時間
も長くなり、試験波形が劣化する問題がある。
【0009】つぎに、被試験IC50の応答波形をテス
タ60で受け取る場合は、被試験IC50から出力され
た応答波形は、ソケットのコンタクトピン30、プリン
ト配線基板29のスルーホール21を介し、接続点24
bに到達する。ここで、応答波形はコンパレータ62側
とドライバ61側に分岐して伝送していく。このコンパ
レータへの接続経路とドライバへの接続経路は50Ωの
インピーダンスに整合され、テスタ内で各々50Ωに終
端されている。このため、被試験IC50から見た特性
インピーダンスは、スルーホール21の接続点24bか
ら先が25Ωに見えるため、被試験IC50から出力さ
れた応答波形は、接続点24bで反射し、再び、被試験
IC50に戻ることとなり、応答波形が劣化する。
【0010】この場合も同様に、被試験IC50の出力
ピンからプリント配線基板29スルーホール21の接続
点24bまでの長さ、すなわち、分岐点24bからソケ
ットまでの基板厚さとソケットピン長の和がスタブ配線
となり、このスタブ長が短い程、反射の時間も短く波形
劣化のない応答波形をテスタ60のコンパレータ62で
受けることが可能になる。
【0011】以上、説明したように被試験IC50に試
験波形を印加する場合においても、被試験IC50から
応答波形を出力する場合においても、被試験IC50の
出力ピンからプリント配線基板29スルーホール21の
接続点24bまでの長さ(スタブ配線)を短くすること
が重要となる。
【0012】そのため、一般的には、コンタクトピン長
を短縮した特殊なコンタクトピンの構造が提案されてい
るが、ソケット価格が高価になる問題がある。また、さ
らにコンタクトピン長を短縮するには、物理的な限界が
あり、被試験ICの高速化に対応できない問題があっ
た。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑み、被試験ICの出力ピンからプリント配線基板の
スルーホールの接続点までの長さ(スタブ配線)を短く
し、応答波形の劣化のないICソケットを提供すること
を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、コンタクトピンを埋め込んだソケットハ
ウジングに少なくとも2つ以上のインピーダンス整合さ
れた異なる配線層を備え、テスタのドライバに接続され
る信号配線を被試験ICから遠い配線層を用いて引き出
し、テスタのコンパレータに接続される信号配線を被試
験ICに近い配線層を使って引き出し、被試験ICに接
続されるスタブ配線がコンタクトピンの先端部のみとな
る構造とすることで、高周波信号伝送の妨げとなるスタ
ブ配線長を最短とし、反射ノイズの少ない高周波特性に
優れたICソケットを提供する。
【0015】すなわち、本発明は、回路基板とICとが
電気的導通を生じるように接続するICソケットにおい
て、ソケットハウジングに伝送線路からなる配線層を少
なくとも2つ以上備え、ドライバから入力する試験信号
の分岐を被試験ICに最も近い配線層で行う構造とす
る。
【0016】上記課題を解決するために、本発明は、コ
ンタクトピンが先端部を残して基板に埋め込まれ、半導
体試験装置のDUTボードと被試験ICとを電気的導通
を生じるように接続するためのICソケットにおいて、
前記コンタクトピンが埋め込まれる基板に2つ以上の信
号配線層と2つ以上の電源配線層を設け、半導体試験装
置のドライバまたはコンパレータに接続する信号配線の
一方を被試験ICに近い信号配線層を使ってコンタクト
ピンに接続した。
【0017】本発明は、上記ICソケットにおいて、前
記半導体試験装置のドライバまたはコンパレータに接続
する信号配線の他方を被試験ICから遠い信号配線層を
使ってコンタクトピンに接続した。
【0018】さらに、本発明は、上記ICソケットにお
いて、コンタクトピンを先端部を残して基板に直接埋め
込んだ。
【0019】さらに、本発明は、上記ICソケットを同
一の基板上に複数ユニット分構成するか、コンタクトピ
ンが埋め込まれる基板に1ユニット分のICソケットを
形成し、ICソケットが形成された基板と試験装置のD
UTボードとを接続するコネクタを設けた。
【0020】上記課題を解決するために、本発明は、上
記ICソケットに接続されるドライバおよびコンパレー
タを搭載したピンエレクトロニクスと、基準信号発生器
と、タイミング発生器と、パターン発生器と、波形フォ
ーマッタと、デジタルコンパレータと、フェイルメモリ
と、リファレンス電圧発生器を有して半導体試験装置を
構成した。
【0021】さらに、本発明は、上記半導体製造装置を
使用し、ドライバからICソケットに装着された被試験
ICに試験波形を供給し、被試験ICからの応答波形を
コンパレータで受信するして半導体を試験する方法であ
る。
【0022】上記課題を解決するために、本発明は、上
記半導体試験装置を用いて、被試験ICに試験波形を入
力し、応答波形を検出して被試験ICの良否を判断する
半導体装置検査工程を含んで半導体装置の製造方法とし
た。
【0023】このような信号分岐において、信号が伝わ
る伝送線の遠端に終端抵抗を備えない配線は、スタブ配
線と呼ばれ、高速信号伝送の妨げとなる。そこで、この
スタブ長を最短とするために、ICソケットにインピー
ダンス整合のとられた2つ以上の配線層を設け、ドライ
バの接続とコンパレータの接続を個々別々の配線層を用
いることで、インピーダンスミスマッチから生じる反射
ノイズ、クロストークノイズを低減することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施の形態
にかかるICソケットの構造を図1を用いて説明する。
図1は、本実施の形態にかかるICソケットの縦断面構
造を表した図であり、ピン数及び形状の詳細は図の限り
ではない。
【0025】第1の実施の形態にかかるICソケット1
は、複数(例えば7層)の配線層を有するプリント配線
基板20と、プリント配線基板20に設けた複数のスル
ーホール21、スルーホール22a、スルーホール22
bと、複数のスルーホール21にそれぞれ埋め込まれた
コンタクトピン30と、位置決めピン35と、プッシャ
37と、コネクタ40a,コネクタ40bとを有して構
成される。
【0026】プリント配線基板20は、接地配線G1,
信号配線S1,接地配線G2,電源配線Vdd,接地配
線G3,信号配線S3,接地配線G4の配線層を有して
いる。
【0027】スルーホール21は、プリント配線基板2
0に設けた貫通穴であり内壁面に導電層が設けられ、各
配線層を選択的にコンタクトピン30に電気的に接続す
る。
【0028】スルーホール22a、22bは、テスタ6
0と被試験IC50を接続する。
【0029】テスタ60のドライバ61からの試験信号
が供給される信号配線23aは、コネクタ40aに接続
されたスルーホール22aとスルーホール21を接続す
る伝送線であり、コネクタ40が実装されている面に最
も近い配線層S3に設けられ、スルーホール22aとス
ルーホール21の接続点24aを接続する。
【0030】被試験IC50の応答信号をテスタ60の
コンパレータ62へ供給する信号配線23bは、スルー
ホール21とコネクタ40bに接続されたスルーホール
22bとを接続する伝送線であり、被試験IC50が装
着される面に最も近い配線層S1設けられ、スルーホー
ル22bとスルーホール21の接続点24bを接続す
る。
【0031】コンタクトピン30は、導電材料を用いて
構成され、信号配線を被試験IC50に接続する手段で
あり、先端部がプリント配線基板20の表面の突出する
ようにスルーホール21に埋め込まれる。コンタクトピ
ン30の先端部は、内蔵されたスプリングによって被試
験IC50側に付勢されている。
【0032】位置決めピン35は、プリント配線基板2
0に根元が埋められ上部が基板表面に突出するように設
けられ、プッシャ37を案内する。
【0033】プッシャ37は、位置決めピン35に案内
され被試験IC50をコンタクトピン30の先端部に押
し付ける。
【0034】コネクタ40a,コネクタ40bは、プリ
ント配線基板20の他の表面に設けられ、テスタ60か
らの高周波ケーブル90a、高周波ケーブル90bをス
ルーホール22a、スルーホール22bに接続する手段
である。
【0035】被試験IC50は、下面に設けた入出力端
子であるボールがコンタクトピン30の先端部にホール
ドされ、図示しないハンドラ装置によりプッシャ37を
介して、一定の応力で押し付けられる。コンタクトピン
30は、内蔵されたスプリングが応力により縮んで、被
試験IC50の入出力端子とコンタクトピン30との間
に導通を形成する。
【0036】コンパレータ側配線23bが、被試験IC
50が装着される面に最も近い信号配線層S1に設けら
れるので、被試験IC50と接続点24bとの配線長を
短くすることができ、スタブ配線長を限り無く短くする
ことができる。
【0037】ここで、被試験IC50を試験する際の信
号の流れについて説明する。テスタ60は、試験波形を
被試験IC50に印加するドライバ61と、被試験IC
50の応答波形が入力され、図示しない比較電圧と比較
し、応答波形のハイ/ロー判定を行うコンパレータ62
と、試験波形、および、応答波形を終端する終端電圧源
64と、終端抵抗63を備えている。まず、ドライバ6
1から試験波形を被試験IC50に印加する場合、試験
波形は、ドライバ61から出力され、高周波ケーブル9
0a、コネクタ40aを経由し、プリント配線基板20
のドライバ側配線23aを通り、接続点24aでプリン
ト配線基板20内に埋設されたコンタクトピン30に供
給される。試験波形は、コンタクトピン30を上方に伝
搬し、接続点24bで分岐する。試験波形の一方はコン
タクトピン30の接続点24bから上方に伝わり、被試
験IC50に印加される。他方はコンパレータ側配線2
3b、スルーホール22b、コネクタ40b、高周波ケ
ーブル90bを介し、テスタ60内の終端抵抗63で終
端電圧源64に終端される。
【0038】このとき、被試験IC50の入力インピー
ダンスが高いため、反射電圧が発生するが、接続点24
bから被試験IC50の入力端までの長さは、分岐点2
4bから上方のみであり、コンタクトピン30がプッシ
ャ37から押される力を受けて収縮するため、スタブ配
線長は最短となる。これにより、反射ノイズが減少し、
良好な試験波形が得られる。
【0039】つぎに、被試験IC50の応答波形をテス
タ60で受け取る場合は、被試験IC50から出力され
た応答波形が、ソケットのコンタクトピン30を介し、
プリント配線基板20内部の接続点24bに到達する。
ここで、応答波形はコンパレータ62側とドライバ61
側に分岐して伝送していく。このコンパレータへの接続
経路23bとドライバ61への接続経路は50Ωのイン
ピーダンスに整合されているため、被試験IC50から
見た特性インピーダンスは、コンタクトピン30の接続
点24bから先が25Ωに見えるため、被試験IC50
から出力された応答波形は、接続点24bで反射し、再
び、被試験IC50に戻ることになるが、被試験IC5
0の出力ピンとプリント配線基板20内部の接続点24
bまでの長さ(スタブ配線)が短いため、反射時間も短
く、波形劣化のない応答波形をテスタ60のコンパレー
タ62で受けることが可能になる。
【0040】本実施例において、プリント配線基板20
の信号配線S1,S3は、ストリップ線路の構成をとっ
たが、最外層を使ってマイクロストリップ線路で配線可
能であれば、さらに特性の良好なソケットが実現でき
る。デバイス側の伝送線路23bをマイクロストリップ
とすることで、コンタクトピンのスタブがさらに短縮さ
れ、前記したとおり反射の少ないソケットが実現でき
る。また、デバイス反対側の伝送線路23aは、コンタ
クトピンの下端で接続した方が良い。これは、伝送線路
23aをコンタクトピン30の途中に接続した場合に
は、接続点24aから下に電気の通過しない線路が残
り、そこには回路的に容量が付いたように見え、好まし
くないからである。
【0041】同図中、テスタ60のドライバ61に接続
される伝送線路23aをコネクタ40a、8bが設けら
れる面に最も近い配線層S3に設け、コンパレータ62
に接続される伝送線路23bを被試験IC50が装着さ
れる面に最も近い配線層S1に設けた構造としている
が、逆に、テスタ60のドライバ61に接続される伝送
線路23aを被試験IC50が装着される面に最も近い
配線層S1に設け、コンパレータ62に接続される伝送
線路23bをコネクタ40a、8bが設けられる面に最
も近い配線層S3に設けた構造としても、同様の効果が
得られる。
【0042】第1の実施の形態にかかるICソケット1
の構成は、プリント配線基板20に複数のICソケット
1を構成することが可能であり、多数個の被試験IC5
0を同時に測定する場合に適している。
【0043】図2を用いて、本発明に第2の実施の形態
にかかるICソケットの構造を説明する。図1と同一の
符合は同一の構成要素を表わしている。第2の実施の形
態は、プリント配線基板20に構成したICソケット1
を、ICソケットの下面に設けたコネクタ44によりD
UTボード29の上面に設けたコネクタ45に接続する
ようにした形態である。
【0044】ICソケットの裏面に設けたICソケット
側コネクタ44a,44bは、スルーホール22a,2
2bに電気的に接続される。
【0045】DUTボード29は、複数の配線層を有す
るプリント配線基板を用いて構成され、上面にICソケ
ット側コネクタ44a,44bと対応するコネクタ45
a,45bが設けられる。DUTボード29の下面に
は、図示を省略したスルーホールによってコネクタ45
a,45bに接続されたコネクタ40a,40bが設け
られる。テスタ60は、DUTボード29の配線層を介
して複数のICソケット1に接続される。
【0046】このように構成することにより、プリント
配線基板2枚分の配線層を使用することが可能となり、
信号配線を余裕を持って設定できる利点がある。また、
ICソケット1が1個づつの単位で構成されるため、I
Cソケット1の不具合による交換を容易に行える。
【0047】以上の説明では、ICソケットを、プリン
ト配線基板を用いて構成したが、多層の配線層を有する
基板は、プリント配線基板に限定されるものではない。
【0048】すなわち、多層配線基板として、プリント
配線基板の他、セラミック基板など、絶縁体の内部に電
気配線を設けることで、同様のソケットを構成すること
ができる。被試験ICのパッケージ形状はCSPに限ら
ず、どのパッケージ形状であっても本発明のICソケッ
トを用いることによって、高周波特性に優れた半導体試
験を行うことができる。さらに、本発明のICソケット
におけるコンタクトピンの位置は、必ずしも被試験IC
の電極がある位置とする必要はない。被試験ICの電極
の数以上にコンタクトピンを設け、テスタ側で制御し電
極の有るところだけと信号の受け渡しをすることも可能
である。この場合、デバイスが変わっても、同じソケッ
トを使用できる可能性が有るという利点がある。
【0049】上記、各実施の形態では、パッケージ後の
試験について述べてきたが、本発明のICソケットを用
いて、ウエハ検査を行うことも可能である。
【0050】次に、SPICEシミュレーションを行っ
て、本発明によるICソケットの効果を評価した。図4
はシミュレーションに用いた回路であり、図4(a)
は、ドライバ61から試験波形を被試験LSI50に印
加する場合の例である。ドライバ61の出力はパルス電
圧源で近似した。被試験LSI50は、ランバスDRA
Mの最終出力回路を模擬したトランジスタモデルを用い
た。ソケット長によるスタブを伝送線路で表し、このス
タブ長を、電気長にして10ps、110ps、210
ps、310psと変化させ解析した。これは、伝搬速
度を7ps/mmで換算すると1.4mm、15.7m
m、30.0mm、44.3mmに相当する。
【0051】ドライバ61から振幅1.8Vの試験波形
を被試験LSI50に入力し、被試験LSI50のパッ
ケージ直前で波形をモニタした結果を図5(a)に示
す。ソケット長が短いほど、オーバーシュートが少なく
良好な波形をデバイスに印可できることが確認できる。
ソケット長44.3mmでは、立ちあがり時および立ち
下がり時にオーバーシュートが0.29V発生するのに
対し、本発明の構成を備えたスタブ長1.4mmのIC
ソケットでは、立ちあがり時および立ち下がり時のオー
バーシュートを0.09Vに抑えることができる。
【0052】図4(b)は、被試験LSI50の応答波
形をコンパレータ62で受け取る場合の例である。ラン
バスDRAMの最終出力回路の特性を模擬したトランジ
スタモデルをパルス電圧源で駆動し、その出力波形をコ
ンパレータ62の入力でモニタした結果を図5(b)に
示す。この場合もソケット長が短いほど、オーバーシュ
ートが少なく良好な波形をコンパレータ62が受け取る
ことができる。ソケット長44.3mmでは、立ちあが
り時のオーバーシュートが0.31V発生するのに対
し、本発明の構成を備えたスタブ長1.4mmのICソ
ケットでは、立ちあがり時のオーバーシュートを0.1
1Vに抑えることができる。
【0053】図6を用いて、本発明によるICソケット
を備えたICテスタの構成の概要を説明する。図6は、
本発明によるICソケットを備えたICテスタの一部構
成を示すブロック図である。図6において、ICテスタ
60は、制御コンピュータ71、モニタ72、プリンタ
73、基準信号発生器74、試験回路75を、データバ
ス76に接続して構成される。試験回路75は、ドライ
バ61、アナログコンパレータ62を搭載したピンエレ
クトロニクス692接続される。
【0054】試験回路75は、タイミング発生器75
1、パターン発生器752、フェイルメモリ753、デ
ジタルコンパレータ754、波形フォーマッタ755、
リファレンス電圧発生器756を備えて構成される。
【0055】基準信号発生器74は、試験波形の時間基
準となる基準クロック74aを発生し、タイミング発生
器751へ出力する。タイミング発生器751は、テス
タバス76を介して設定されるタイミング設定信号76
bに従い基準クロック74aを計数し、所望の周期と時
間遅れを持つフェーズ信号751a,751b,751
cを生成する。パターン発生器752は、タイミング発
生器751からのフェーズ信号751bのタイミング
で、パターンデータ信号752aおよび期待値信号75
2bを発生する。波形フォーマッタ755は、被試験デ
バイスを試験するためのテスト波形755aを、タイミ
ング信号751aのタイミングでパターンデータ信号7
52aから論理合成により生成する。ドライバ61は、
テスト波形755aをリファレンス電圧発生器756か
ら入力する波形設定レベル信号756aに従ったハイレ
ベル/ローレベルのテスト波形61aに波形整形し、伝
送線路90a及び本発明によるICソケット1を介し
て、DUT50に印加する。
【0056】アナログコンパレータ62は、本発明によ
るICソケット1及び伝送線路90bを介して、DUT
50の応答波形62aが入力され、リファレンス電圧発
生器756で発生した比較電圧756aと比較し、比較
結果62bを出力する。また、デジタルコンパレータ7
54は、アナログコンパレータ62で比較したDUT5
0の応答波形62bと良品の応答である期待値信号75
2bをフェーズ信号751cのタイミングで比較し、良
否判定を行う。フェイルメモリ753は、DUT50の
良否判定した判定結果754aを格納し、試験終了後に
テスタバス76を介して判定結果76dを制御コンピュ
ータ71に出力する。
【0057】リファレンス電圧発生器756は、波形設
定レベル信号(比較電圧)756aを発生する。
【0058】上記の動作をDUT50の各ピン毎同時に
行い、DUT50の良否判定が完了する。
【0059】すなわち、この発明は、上記ICソケット
に接続されるドライバおよびコンパレータを搭載したピ
ンエレクトロニクスと、基準信号発生器と、タイミング
発生器と、パターン発生器と、波形フォーマッタと、デ
ジタルコンパレータと、フェイルメモリと、リファレン
ス電圧発生器を有することを特徴とする半導体試験装
置、および、この半導体製造装置を使用し、ドライバか
らICソケットに装着された被試験ICに試験波形を供
給し、被試験ICからの応答波形をコンパレータで受信
するようにした半導体試験方法である。
【0060】図7のフローチャートを用いて、本発明に
よるICソケットを用いて検査され、出荷される半導体
装置の製造方法を説明する。図7において、ステップS
1の行程において製造された製品ウエハは、P検(Pell
et検査)により初期の不良選別が行われる(ステップS
2)。そして、選別された良品ウエハは、ステップS3
又はS5に進む。ステップS3に進むかステップS5に
進むかの選択は、製造設備等の関係から選択される。ス
テップS3においては、製品ウエハのダイシングを行
い、良品チップのみが、CSP(Chip Size Package)
やBGA(Ball Grid Array)等に個々にパッケージさ
れる(ステップS4)。そして、パケージされたチップ
は、バーイン試験や選別が行われる(ステップS7)。
また、ステップS2のP検の後ウエハは、ウエハ上でさ
らに一括で配線パターンや保護膜の形成、半田ボール付
けまでを行う(ステップS5)。続いて、配線パターン
等が形成されたウエハは、ダイシングにより個々のチッ
プに分割される(ステップS6)。個々のチップに分割
されたチップは、バーイン試験や選別が行われる(ステ
ップS7)。ステップS7においては、上述した本発明
のICソケットを用いた半導体装置の検査方法が実施さ
れる。つまり、個々に分割された最終形状の製品は、本
発明によるICソケットによりバーンイン試験にかけら
れ最終選別がなされる。そして、最終的に良品となった
ものが出荷される(ステップS8)。
【0061】すなわち、この発明は、図6に示した半導
体試験装置を用いて、被試験ICに試験波形を入力し、
応答波形を検出して被試験ICの良否を判断する半導体
装置検査工程を含んだ半導体装置の製造方法である。
【0062】したがって、本発明のICソケットを用い
ることで、ドライバから立上り、立下りの良好な試験波
形を被試験LSIに印加でき、被試験LSIの出力時
は、立上り、立下りに劣化のない応答波形をコンパレー
タに入力できるため、信頼性の高い半導体試験装置を実
現することができる。また、前記した通り、ウエハの電
極にコンタクトピンが接触するように本発明のICソケ
ットを構成することで、高周波特性に優れたウエハ検査
を行うことも可能である。この場合、パッケージ後の試
験と比べ、コンタクトピンの高い平坦度が要求される
が、コンタクトピンは、内部にバネを持ち伸縮する構造
になっているため、この伸縮動作により平坦のバラ付き
を補うことができる。
【0063】なお、上述した本発明の実施の形態におい
ては、一個のICソケットの構成を示しているが、図8
に示すようにICソケット1をプリント配線基板20上
にマトリクス状に配置形成したり、ICソケット1をD
UTボード29上にマトリクス状に配置することによ
り、複数個の製品を同時に検査することも可能である。
【0064】
【発明の効果】ICソケットのコンタクトピンを埋込む
ソケットハウジング部をプリント配線基板と同様な多層
構造とし、テスタと被試験IC間の2重終端接続(DT
L接続)を異なる配線層による伝送線で配線して、スタ
ブ配線となる被試験ICとコンパレータとの分岐点をソ
ケットハウジングの最上面とする。これにより、スタブ
配線となるコンタクトピンの長さ(実効ピン長)が先端
部分のみとなり、最短となる。
【0065】これにより、高周波においては、インピー
ダンスミスマッチから生じる入力波形の乱れや出力波形
の乱れをなくし、反射ノイズ、クロストークノイズを低
減することができる。また、コンタクトピンの全長に特
性が左右されないため、従来の安価なコンタクトピンの
使用も可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態にかかるICソケッ
トの構造の概要を示す縦断面図。
【図2】本発明の第1の実施の形態にかかるICソケッ
トの構造の概要を示す縦断面図。
【図3】従来のICソケットの構造の概要を示す縦断面
図。
【図4】本発明によるICソケットを評価するためのシ
ミュレーション回路図。
【図5】本発明によるICソケットの効果の解析結果。
【図6】本発明によるICソケットを備えたICテスタ
の一部構成図。
【図7】本発明によるICソケットを用いて検査される
半導体装置の製造方法を示すフローチャート。
【図8】本発明によるICソケットを用いて多数個同時
測定を行う場合の実施例。
【符号の説明】
1 ICソケット 3 ICソケットハウジング 20 プリント配線基板 21 スルーホール 22 スルーホール 23 伝送線路による配線 24 接続点 29 DUTボード 30 コンタクトピン 35 位置決めピン 37 プッシャ 40,44,45 コネクタ 50 被試験IC、被試験LSI 60 ICテスタ 61 ドライバ 62 コンパレータ 63 終端抵抗 64 終端電圧源 69 ピンエレクトロニクス 71 コンピュータ 72 モニタ 73 プリンタ 74 基準信号発生器 75 試験回路 76 テスタバス 90 高周波ケーブル 751 タイミング発生器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大崎 昭雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 藤井 武 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 鈴木 哲也 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 村田 和彦 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2G003 AA07 AE03 AG01 AG08 AG12 AG16 AH02 AH05 AH09 2G132 AF02 AJ01 AL03 AL11 AL19 AL20 5E024 CA03

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被試験ICの入出力端子に接触する複数
    のコンタクトピンが先端部を残して基板に埋め込まれ、
    半導体試験装置のDUTボードと被試験ICとを電気的
    導通を生じるように接続するためのICソケットにおい
    て、前記コンタクトピンが埋め込まれる基板に2つ以上
    の信号配線層と2つ以上の電源配線層を設け、半導体試
    験装置のドライバまたはコンパレータに接続する信号配
    線の一方を被試験ICに近い信号配線層を使ってコンタ
    クトピンに接続したことを特徴とするICソケット。
  2. 【請求項2】 前記半導体試験装置のドライバまたはコ
    ンパレータに接続する信号配線の他方を被試験ICから
    遠い信号配線層を使ってコンタクトピンに接続したこと
    を特徴とする請求項1に記載のICソケット。
  3. 【請求項3】 コンタクトピンを先端部を残して基板に
    直接埋め込んだことを特徴とする請求項1または請求項
    2に記載のICソケット。
  4. 【請求項4】 ICソケットを同一の基板上に複数ユニ
    ット分構成したことを特徴とする請求項1ないし請求項
    3のいずれか1項に記載のICソケット。
  5. 【請求項5】 コンタクトピンが埋め込まれる基板に1
    ユニット分のICソケットを形成し、ICソケットが形
    成された基板と試験装置のDUTボードとを接続するコ
    ネクタを設けたことを特徴とする請求項1ないし請求項
    3のいずれか1項に記載のICソケット。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれか1項
    に記載されたICソケットに接続されるドライバおよび
    コンパレータを搭載したピンエレクトロニクスと、基準
    信号発生器と、タイミング発生器と、パターン発生器
    と、波形フォーマッタと、デジタルコンパレータと、フ
    ェイルメモリと、リファレンス電圧発生器を有すること
    を特徴とする半導体試験装置。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載された半導体製造装置を
    使用し、ドライバからICソケットに装着された被試験
    ICに試験波形を供給し、被試験ICからの応答波形を
    コンパレータで受信することを特徴とする半導体試験方
    法。
  8. 【請求項8】 請求項6に記載の半導体試験装置を用い
    て、被試験ICに試験波形を入力し、応答波形を検出し
    て被試験ICの良否を判断する半導体装置検査工程を含
    むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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