JP2003046234A - 流動状物質の充填方法 - Google Patents
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Abstract
トを充填する場合に、充填不良の発生を防止することが
可能な流動状物質である導電ペーストの充填方法を提供
すること。 【解決手段】 XYテーブル3上に設置したビアホール
を有する片面導体パターンフィルム21の表面に、ペー
ストタンク10より供給パイプ11、中空通路92を介
して導電ペースト50を供給しつつ、スピンドルモータ
8を駆動して回転ヘッド9を回転するとともに、サーボ
モータ4、5を駆動し、回転ヘッド9と片面導体パター
ンフィルム21との相対位置を変える。これにより、片
面導体パターンフィルム21の図示しないビアホール内
に、ビアホールに向かう多数の方向から導電ペースト5
0が押し込み充填され、良好な充填状態が得られる。
Description
孔内に流動状物質を充填する充填方法に関する。
する基材である絶縁基材に形成された孔であるビアホー
ル内に、金属粒子と有機溶剤とにバインダ樹脂成分を添
加した流動状物質である導電ペーストを充填する場合
に、一般的にスクリーン印刷法を用いることが知られて
いる。
導電ペーストの充填においては、まず、ビアホールを形
成した絶縁基材の上方に、ビアホール位置に対応した位
置に透過部をパターン形成したスクリーン版を設置し、
このスクリーン版上に導電ペーストを供給する。その
後、スキージでスクリーン版を押圧しながら、スクリー
ン版上の導電ペーストを、スキージで版上の一端から他
端まで移動させる。
ジは、一般的に、直線的に1方向もしくは直線的に同一
経路を往復する対向する2方向に移動される。
段であるスキージにより、スクリーン版の透過部を通過
し、ビアホール内に押し込まれる。
従来技術では、近年のプリント基板の高密度化に伴い、
ビアホールの径が小さくなった場合に、良好な充填を行
なうことが難しく、充填不良が発生し易いという問題が
ある。
ため鋭意研究を行なった結果、従来のスクリーン印刷法
により流動状物質である導電ペーストを小径のビアホー
ルに充填した場合に、導電ペーストの充填不良を発生す
る原因が、絶縁基材の表面内において1方向あるいは対
向する2方向からのみビアホール内に導電ペーストが押
し込まれ、これによりビアホール内において導電ペース
トが偏在することにあることを突きとめた。
基材に設けた孔内に流動状物質を充填する場合に、充填
不良が発生することを防止することが可能な流動状物質
の充填方法を提供することを目的とする。
め、請求項1に記載の発明では、基材(23)に設けら
れた孔(24)内に、流動状物質(50)を充填する充
填方法であって、基材(23)の表面に流動状物質(5
0)を供給する供給工程と、基材(23)の表面に供給
された流動状物質(50)を、基材(23)の表面内に
おいて3つ以上の方向より孔(24)内に押し込み充填
する充填工程とを備えることを特徴としている。
された流動状物質(50)を、基材(23)の表面内に
おいて基材(23)に設けた孔(24)に向かう3つ以
上の方向から孔(24)内に押し込むことができる。従
って、孔(24)内において流動状物質(50)が偏在
し難く、充填不良が発生することを防止することが可能
である。
填工程における流動状物質(50)の孔(24)内への
充填は、基材(23)の表面に配置された押し込み手段
(9)により行なわれ、この押し込み手段(9)を基材
(23)の表面に略垂直方向を軸として回転運動させる
とともに、押し込み手段(9)の回転軸を基材(23)
の延在方向に移動させることにより、流動状物質(5
0)を3つ以上の方向より孔(24)内に押し込み充填
することができる。
求項2に記載の発明において、押し込み手段(9)の回
転運動は、押し込み手段(9)の中心軸を中心に回転す
る自転運動、もしくは押し込み手段(9)自体は中心軸
を中心に回転することなく押し込み手段(9)の中心軸
とは異なる軸を中心に回転する公転運動であり、充填工
程においては、押し込み手段(9)が、自転運動、公転
運動および直線運動のいずれか2つ以上を同時に行なう
ことにより、流動状物質(50)を3つ以上の方向より
孔(24)内に押し込み充填することができる。
填工程における流動状物質(50)の孔(24)内への
充填は、基材(23)の表面に配置された押し込み手段
(109)により行なわれ、この押し込み手段(10
9)を基材(23)の延在方向に3方向以上直線運動さ
せることにより、流動状物質(50)を3つ以上の方向
より前記孔(24)内に押し込み充填することができ
る。
(23)に設けられた孔(24)は、有底孔(24)で
あることを特徴としている。
有底孔(24)においても、流動状物質(50)を、基
材(23)の表面内において孔(24)に向かう3つ以
上の方向から孔(24)内に押し込むことにより、充填
不良が発生することを防止することが可能である。
(23)は、プリント基板(100)を構成する絶縁基
材(23)であり、孔(24)は、絶縁基材(23)に
設けられたビアホール(24)であることを特徴として
いる。
材(23)の表面内において絶縁基材(23)に設けた
ビアホール(24)に向かう3つ以上の方向からビアホ
ール(24)内に押し込むことができる。従って、ビア
ホール(24)内において流動状物質(50)が偏在し
難く、流動状物質(50)の充填不良が発生することを
防止できる。
材(23)には一表面に導体パターン(22)が形成さ
れ、ビアホール(24)は、導体パターン(22)を底
面とする有底ビアホール(24)であることを特徴とし
ている。
り充填不良を発生し易い有底ビアホール(24)におい
ても、流動状物質(50)を、絶縁基材(23)の表面
内においてビアホール(24)に向かう3つ以上の方向
からビアホール(24)内に押し込むことにより、充填
不良が発生することを防止することが可能である。
動状物質(50)は、具体的には、導電ペースト(5
0)とすることができる。
み手段(9)は、基材(23)と接する部位に、表面に
凹部(94)が形成された押し込み部材(91)を備
え、充填工程において、押し込み部材(91)の凹部
(94)が保持する流動状物質(50)を孔(24)内
に充填することを特徴としている。
部(94)に流動状物質(50)を保持した状態の押し
込み手段(9)を基材(23)延在方向に移動させ、押
し込み部材(91)の凹部(94)が保持する流動状物
質(50)を確実に孔(24)内に充填することができ
る。
は、後述する実施形態記載の具体的手段との対応関係を
示す。
基づいて説明する。
ある導電ペーストを、基材である樹脂フィルムに形成さ
れたビアホール内に充填するための充填装置1の概略構
成図である。充填装置1の構成については後述する。
た導電ペーストの充填工程を含むプリント基板の製造工
程を示す工程別断面図である。
る樹脂フィルム23の片面に貼着された導体箔(本例で
は厚さ18μmの銅箔)をエッチングによりパターン形
成した導体パターン22を有する片面導体パターンフィ
ルムである。本例では、樹脂フィルム23としてポリエ
ーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエー
テルイミド樹脂35〜65重量%とからなる厚さ25〜
200μmの熱可塑性樹脂フィルムを用いている。
基材である。
2の形成が完了すると、次に、図2(b)に示すよう
に、片面導体パターンフィルム21の導体パターン22
が形成された面と対向する面に保護フィルム81をラミ
ネータ等を用いて貼着する。
12μmのポリエチレンテレフタレート樹脂からなる樹
脂フィルムに厚さ5μmの粘着剤層をコーティングした
ものを採用している。
1の貼着が完了すると、次に、図2(c)に示すよう
に、保護フィルム81側から炭酸ガスレーザを照射し
て、樹脂フィルム23に導体パターン22を底面とする
有底ビアホールであるビアホール24を形成する。な
お、ビアホールの形成は、炭酸ガスレーザの出力と照射
時間等を調整することで、導体パターン22に穴を開け
ないようにして、本例では、30〜200μmの径のビ
アホール24を形成した。
81にも、ビアホール24と略同径の開口81aが形成
される。
ザ以外にエキシマレーザ等が使用可能である。レーザ以
外のドリル加工等のビアホール形成方法も可能である
が、レーザビームで穴あけ加工すると、微細な径で穴あ
けでき、導体パターン22にダメージを与えることが少
ないため好ましい。
ける孔であり、有底孔である。
の形成が完了すると、次に、図2(d)に示すように、
ビアホール24内に流動状の層間接続材料である導電ペ
ースト50を充填する。導電ペースト50は、銅、銀、
錫等の金属粒子にバインダ樹脂や有機溶剤を加え、これ
をミキサーによって混練しペースト化したものである。
1により、保護フィルム81の開口81a側から片面導
体パターンフィルム21のビアホール24内に充填され
る。
構成について説明する。
ベース部2上にはテーブル3が配設されており、テーブ
ル3の上面には、保護フィルム81が表面に形成された
片面導体パターンフィルム21が保持されるようになっ
ている。なお、図1において、ビアホール24等の図示
は省略している。
方向(所謂X軸方向)に移動するためのX軸サーボモー
タ4と、テーブル3をX軸サーボモータ4により移動す
る方向に直交する方向(所謂Y軸方向)に移動するため
のY軸サーボモータ5とが接続しており、両サーボモー
タ4、5の駆動によりテーブル3は水平面内のあらゆる
方向に移動できるようになっている。すなわちテーブル
3は、公知の所謂XYテーブルである。
けられ、スタンド部6の上方端部には、テーブル3の上
方に張り出すように、側方に延びるヘッド部7が設けら
れている。そして、ヘッド部7の下面側には、スピンド
ルモータ8が設置されている。
形態の押し込み手段である回転ヘッド9が接続してお
り、スピンドルモータ8の回転に応じて回転ヘッド9は
中心軸を中心に自転運動するようになっている。なお、
回転ヘッド9の中心軸は、テーブル3に設置された片面
導体パターンフィルム21に対し略垂直となっている。
テーブル3側の面)に押し込み部材であるパッド部材9
1を備えている。パッド部材91については後述する。
ストタンク10を備えており、ペーストタンク10とヘ
ッド部7とは、供給パイプ11により接続されている。
また、ヘッド部7、スピンドルモータ8の回転軸および
回転ヘッド9には、図中破線で示す部位に中空通路92
が形成されており、供給パイプ11と連通している。
が配設されており、このポンプ12の駆動により、ペー
ストタンク10内の導電ペースト50を回転ヘッド9の
後述する開口93から吐出できるようになっている。
示す断面図である。前述したように、回転ヘッド9は、
下端面にパッド部材91を備えるとともに、その中央部
には、中空通路92の端部である開口93が設けられて
いる。
に示すように、独立泡が形成された発泡ウレタン樹脂か
らなり、パッド部材91の下端面は、独立泡が露出する
位置まで研磨除去されたものである。従って、押し込み
部材であるパッド部材91には、表面に多数の略半球状
の凹部94が形成されている。なお、図4(b)は、図
4(a)に示すA部の拡大図である。
て説明する。
れた片面導体導体パターンフィルム21を、保護フィル
ム81が形成された面を上側にして、テーブル3の上面
に保持するとともに、回転ヘッド9をパッド部材91が
片面導体パターンフィルム21に形成された保護フィル
ム81に接するようにセットする。
ンク10内の導電ペースト50を供給パイプ11および
中空通路92を介して圧送し、回転ヘッド9の開口93
から保護フィルム81上に供給する。これと同時に、ス
ピンドルモータ8を駆動し、回転ヘッド9を回転させ
る。
ーボモータ5とを適宜駆動し、保護フィルム81を形成
した片面導体パターンフィルム21に対して、回転ヘッ
ド9の中心軸が図5に一点鎖線で示す軌道を描くよう
に、テーブル3を移動させる。すなわち、回転ヘッド9
は、実質的には、自転運動を行ないつつ、片面導体パタ
ーンフィルム21の樹脂フィルム23の延在方向に直線
運動を行なう。
という回転運動するとともに、回転軸を樹脂フィルム2
3の延在方向に移動する。
の速度で自転運動させ、毎秒1mmの速度で直線運動さ
せた。
材91は、片面導体パターンフィルム21に形成された
保護フィルム81との間に若干のクリアランスが形成さ
れるように配置して、開口93から供給される導電ペー
スト50が、パッド部材91の全面に行き渡るようにす
ることが好ましい。本例では、パッド部材81と保護フ
ィルム81との間に50〜100μmのクリアランスを
形成した。
なく、所定インターバル毎にクリアランスを形成し、ク
リアランス形成時以外はパッド部材81と保護フィルム
81とを摺接するものであってもよい。
図5に示すビアホール24においては、回転ヘッド9が
その上方を自転しながら直線移動していくので、図6に
示すように、ビアホール24に向かう多数(少なくとも
3つ以上)の方向から回転ヘッド9のパッド部材91に
より導電ペースト50がビアホール24内に押し込まれ
る。
れた導電ペースト50は、パッド部材91の全面に供給
されると、パッド部材91の凹部に入り込み保持され
る。従って、パッド部材91の全面において安定して導
電ペースト50をビアホール24内に押し込むことがで
きる。
を1つのみ図示し、他のビアホールの図示を省略してい
る。なお、回転ヘッド9の中心軸の移動は、軌道上にビ
アホールが存在しない軌道をとることが好ましい。
アホール24内へ導電ペースト50を充填する前に、導
体パターン22のビアホール24に面する部位を薄くエ
ッチング処理したり還元処理してもよい。これによる
と、後述する層間接続が一層良好に行なわれる。
充填が完了すると、片面導体パターンフィルム21から
保護フィルム81を剥離除去し、図2(e)に示すよう
なビアホール24内に導電ペースト24を充填配置した
片面導体パターンフィルム21を得る。このように、保
護フィルム81を形成した状態で導電ペースト50の充
填を行ない、充填後保護フィルム81を除去すること
で、片面導体パターンフィルム21の樹脂フィルム23
のビアホール24形成部以外に導電ペースト50が付着
することを防止できる。
に導電ペースト50を充填した片面導体パターンフィル
ム21が得られると、図3(f)に示すように、片面導
体パターンフィルム21を複数枚(本例では4枚)積層
する。そしてさらに、積層された複数層の片面導体パタ
ーンフィルム21の上方側には、最上層の導体パターン
22を覆うようにレジスト膜であるカバーレイヤー36
aを積層し、積層された複数層の片面導体パターンフィ
ルム21の下方側には、最下層の導体パターン22を覆
うようにレジスト膜であるカバーレイヤー36bを積層
する。
パターン22の電極となるべき位置に対応して、開口3
9aが穴あけ加工されている。また、カバーレイヤー3
6bには、最下層の導体パターン22の電極となるべき
位置に対応して、開口39bが穴あけ加工されている。
本例では、カバーレイヤー36a、36bには、樹脂フ
ィルム23と同じ熱可塑性樹脂材料であるポリエーテル
エーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイ
ミド樹脂35〜65重量%とからなる樹脂フィルムを用
いている。
フィルム21およびカバーレイヤー36a、36bを積
層したら、これらの上下両面から真空加熱プレス機によ
り加熱しながら加圧する。これにより、図3(g)に示
すように、各片面導体パターンフィルム21およびカバ
ーレイヤー36a、36b相互が接着される。樹脂フィ
ルム23およびカバーレイヤー36a、36bが熱融着
して一体化するとともに、ビアホール24内の導電ペー
スト50により隣接する導体パターン22間を層間接続
した多層のプリント基板100が得られる。
ンフィルム21のビアホール24内への導電ペースト5
0の充填方法によれば、押し込み手段である回転ヘッド
9の中心軸を中心に回転する自転運動(回転運動の1
つ)と、テーブル3が直線移動することによる回転ヘッ
ド9の実質的な直線運動とが同時に行なわれる。
(実質的には絶縁基材である樹脂フィルム23の表面
内)においてビアホール24に向かう3つ以上の多数の
方向から、導電ペースト50をビアホール24内に押し
込み充填することができる。
ペースト50が偏在し難く、導電ペースト50の充填不
良の発生を防止することが可能である。
て、回転ヘッド9は、実質的には、自転運動と直線運動
とを同時に行なうものであったが、自転運動、直線運
動、および回転ヘッド9がそれ自体は中心軸を中心に回
転することなく回転ヘッド9の中心軸とは異なる軸を中
心に回転する公転運動のうち、2つもしくは3つを同時
に行なうものであればよい。すなわち、回転ヘッド9を
自転運動あるいは公転運動のいずれかの回転運動をさせ
るとともに、その回転運動の回転軸を移動するものであ
ればよい。
が、実質的に自転運動しながら公転運動するものであっ
てもよいし、例えば、図8に示すように、回転ヘッド9
が、自転運動はせずに、実質的に、公転運動と直線運動
とを同時に行なうものであってもよいし、例えば、図9
に示すように、回転ヘッド9が、実質的に自転運動、公
転運動および直線運動を同時に行なうものであってもよ
い。
1の表面内(実質的には絶縁基材である樹脂フィルム2
3の表面内)においてビアホール24に向かう3つ以上
の多数の方向から、導電ペースト50をビアホール24
内に押し込み充填することができる。特に、図9に示し
た例の場合には、ビアホール24に向かうほぼ全方向か
ら導電ペースト50をビアホール24内に押し込み充填
することができる。
50の押し込み充填を回転ヘッド9によらず、例えば、
図10に示すように、複数のスキージ109を押し込み
手段として、これらをそれぞれ直線運動させ、ビアホー
ル24に向かう3つ以上の多数の方向(図10の例では
4方向)から、導電ペースト50をビアホール24内に
押し込み充填するものであってもよい。
24の図示を省略している。
部材であるパッド部材91表面の凹部94は、略半球状
であったが、スリット状等の他の形状であってもよい。
パターンフィルム21上への導電ペースト50の供給
は、押し込み手段である回転ヘッド9に設けられた開口
93より行なわれる構成であったが、押し込み手段とは
別に設けた供給手段により片面導体パターンフィルム2
1上に導電ペーストを供給するものであってもよい。た
だし、その場合には、供給手段は、押し込み手段の移動
方向前方に設けられることが好ましい。
3上に1枚の片面導体パターンフィルム21を設置し、
この片面導体パターンフィルム21のビアホール24に
導電ペースト50の押し込み充填を行なったが、テーブ
ル3上に複数の片面導体パターンフィルム21を並設
し、これらの片面導体パターンフィルム21のビアホー
ル24に導電ペースト50の押し込み充填を行なうもの
であってもよい。
ーンフィルム21の有底ビアホールであるビアホール2
4に導電ペースト50を押し込み充填するものであった
が、例えば、有底ビアホールに層間接続用のめっき処理
を施した後、ビアホール内のめっき層の内側に形成され
た有底孔に流動状物質である液状樹脂を押し込み充填す
る場合等にも本発明を適用することができる。
ルム23およびカバーレイヤー36a、36bとしてポ
リエーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリ
エーテルイミド樹脂35〜65重量%とからなる樹脂フ
ィルムを用いたが、これに限らず、ポリエーテルエーテ
ルケトン樹脂とポリエーテルイミド樹脂に非導電性フィ
ラを充填したフィルムであってもよいし、ポリエーテル
エーテルケトンもしくはポリエーテルイミドを単独で使
用することも可能である。
て、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエーテルサルフォンや熱可塑性ポリイミ
ド、または所謂液晶ポリマー等の熱可塑性樹脂フィルム
を用いてもよいし、例えば、Bステージ状態のエポキシ
樹脂、ビスマレイドトリアジン、ポリフェニレンエーテ
ル、ポリイミド等の熱硬化性樹脂フィルムを用いること
もできる。
100を構成する絶縁基材である樹脂フィルム23に設
けたビアホール24に導電ペースト50を押し込み充填
するものであったが、樹脂や金属等の基材に設けた孔内
に、例えば液状樹脂等の流動状物質を充填する場合等に
も、本発明は適用できるものである。特に基材に設けた
孔が有底孔である場合には、充填不良の発生を防止でき
る効果は大きい。
成を示す構成図である。
むプリント基板の概略の製造工程の一部を示す工程別断
面図である。
むプリント基板の概略の製造工程の一部(図1に示した
工程に続く工程)を示す工程別断面図である。
ある回転ヘッドの断面図である。
ッドの動作を示す説明図である。
押し込み方向を模式的に示す説明図である。
示す説明図である。
示す説明図である。
示す説明図である。
るスキージの動作を示す説明図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 基材(23)に設けられた孔(24)内
に、流動状物質(50)を充填する充填方法であって、 前記基材(23)の表面に前記流動状物質(50)を供
給する供給工程と、 前記基材(23)の表面に供給された前記流動状物質
(50)を、前記基材(23)の表面内において3つ以
上の方向より前記孔(24)内に押し込み充填する充填
工程とを備えることを特徴とする流動状物質の充填方
法。 - 【請求項2】 前記充填工程における前記流動状物質
(50)の前記孔(24)内への充填は、前記基材(2
3)の表面に配置された押し込み手段(9)により行な
われ、 この押し込み手段(9)を前記基材(23)の表面に略
垂直方向を軸として回転運動させるとともに、前記押し
込み手段(9)の回転軸を前記基材(23)の延在方向
に移動させることにより、前記流動状物質(50)を前
記3つ以上の方向より前記孔(24)内に押し込み充填
することを特徴とする請求項1に記載の流動状物質の充
填方法。 - 【請求項3】 前記押し込み手段(9)の前記回転運動
は、 前記押し込み手段(9)の中心軸を中心に回転する自転
運動、もしくは前記押し込み手段(9)自体は前記中心
軸を中心に回転することなく前記押し込み手段(9)の
前記中心軸とは異なる軸を中心に回転する公転運動であ
り、 前記充填工程においては、前記押し込み手段(9)が、
前記自転運動、前記公転運動および直線運動のいずれか
2つ以上を同時に行なうことにより、前記流動状物質
(50)を前記3つ以上の方向より前記孔(24)内に
押し込み充填することを特徴とする請求項2に記載の流
動状物質の充填方法。 - 【請求項4】 前記充填工程における前記流動状物質
(50)の前記孔(24)内への充填は、前記基材(2
3)の表面に配置された押し込み手段(109)により
行なわれ、 この押し込み手段(109)を前記基材(23)の延在
方向に3方向以上直線運動させることにより、前記流動
状物質(50)を前記3つ以上の方向より前記孔(2
4)内に押し込み充填することを特徴とする請求項1に
記載の流動状物質の充填方法。 - 【請求項5】 前記基材(23)に設けられた前記孔
(24)は、有底孔(24)であることを特徴とする請
求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の流動状物
質の充填方法。 - 【請求項6】 前記基材(23)は、プリント基板(1
00)を構成する絶縁基材(23)であり、前記孔(2
4)は、前記絶縁基材(23)に設けられたビアホール
(24)であることを特徴とする請求項1ないし請求項
4のいずれか1つに記載の流動状物質の充填方法。 - 【請求項7】 前記絶縁基材(23)には一表面に導体
パターン(22)が形成され、前記ビアホール(24)
は、前記導体パターン(22)を底面とする有底ビアホ
ール(24)であることを特徴とする請求項6に記載の
流動状物質の充填方法。 - 【請求項8】 前記流動状物質(50)は、導電ペース
ト(50)であることを特徴とする請求項6または請求
項7に記載の流動状物質の充填方法。 - 【請求項9】 前記押し込み手段(9)は、前記基材
(23)と接する部位に、表面に凹部(94)が形成さ
れた押し込み部材(91)を備え、 前記充填工程において、前記押し込み部材(91)の前
記凹部(94)が保持する前記流動状物質(50)を前
記孔(24)内に充填することを特徴とする請求項2な
いし請求項8のいずれか1つに記載の流動状物質の充填
方法。
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