JP2003040649A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2003040649A5 JP2003040649A5 JP2002110829A JP2002110829A JP2003040649A5 JP 2003040649 A5 JP2003040649 A5 JP 2003040649A5 JP 2002110829 A JP2002110829 A JP 2002110829A JP 2002110829 A JP2002110829 A JP 2002110829A JP 2003040649 A5 JP2003040649 A5 JP 2003040649A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical processing
- processing liquid
- storage tank
- glass substrate
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
【0013】
【課題を解決するための手段】第1発明のガラス基板の化学加工方法は、フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から微細な気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬してガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工することを特徴とする。
【課題を解決するための手段】第1発明のガラス基板の化学加工方法は、フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から微細な気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬してガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工することを特徴とする。
【0017】第5発明の化学加工装置は、化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽を備えた化学加工装置において、微細な気泡発生装置と、前記化学加工液貯溜槽から溢出させた化学加工液を受ける溢出液受け槽と、前記溢出液受け槽に受けた化学加工液を再度、化学加工液貯溜槽に送るポンプとを備えている。気泡発生装置は、好適には、ガスの導入を受け、多孔質から成る気泡吐出部から吐出するものである。なお、ポンプによる循環流路には、研磨により生じた反応生成物を除去するためのフィルター、及び/又は、前記気泡発生装置の下側に配され、前記ポンプにより送り出された化学加工液を前記化学加工液貯溜槽に吐出するための多数の孔を有した化学加工液吐出装置を設けるのが好ましい。
Claims (2)
- フッ酸を主成分とした化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽の底部から微細な気泡を伴なう化学加工液の上昇液流を発生させ、この加工液中にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の外表面の片側の一部或いは全部、或いは外表面の両側の一部或いは全部を加工することを特徴とするガラス基板の化学加工方法。
- 化学加工液を貯溜する化学加工液貯溜槽を備えた化学加工装置において、微細な気泡発生装置と、前記化学加工液貯溜槽から溢出させた化学加工液を受ける溢出液受け槽と、前記溢出液受け槽に受けた化学加工液を再度、化学加工液貯溜槽に送るポンプとを備えたことを特徴とする化学加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002110829A JP3524540B2 (ja) | 2001-04-12 | 2002-04-12 | ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001114498 | 2001-04-12 | ||
JP2001-114498 | 2001-04-12 | ||
JP2002110829A JP3524540B2 (ja) | 2001-04-12 | 2002-04-12 | ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003322353A Division JP2004099437A (ja) | 2001-04-12 | 2003-09-16 | ガラス基板の化学加工方法及び化学加工装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003040649A JP2003040649A (ja) | 2003-02-13 |
JP3524540B2 JP3524540B2 (ja) | 2004-05-10 |
JP2003040649A5 true JP2003040649A5 (ja) | 2004-07-08 |
Family
ID=26613523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002110829A Expired - Fee Related JP3524540B2 (ja) | 2001-04-12 | 2002-04-12 | ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3524540B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005008423A (ja) * | 2003-04-24 | 2005-01-13 | Nishiyama Stainless Chem Kk | ガラスの化学加工方法及びその装置。 |
US7045072B2 (en) * | 2003-07-24 | 2006-05-16 | Tan Samantha S H | Cleaning process and apparatus for silicate materials |
JP2007284345A (ja) * | 2004-03-17 | 2007-11-01 | Nishiyama Stainless Chem Kk | フラットパネルディスプレイ用ガラス板の製造方法及びその装置 |
WO2007040127A1 (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置およびテレビジョン受信機 |
WO2007040139A1 (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置の駆動方法および液晶表示装置並びにテレビジョン受信機 |
CN101523477A (zh) | 2006-11-20 | 2009-09-02 | 夏普株式会社 | 显示装置驱动方法、驱动电路、及液晶显示装置以及电视接收机 |
CN101627334B (zh) | 2007-04-16 | 2011-07-20 | 夏普株式会社 | 显示装置、显示装置的驱动装置、及电子设备 |
JP5153383B2 (ja) | 2008-02-26 | 2013-02-27 | 株式会社ジャパンディスプレイイースト | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2013155057A (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-15 | Sanwa Frost Industry Co Ltd | Lcdガラス基板のエッチング方法およびその装置 |
JP2016179913A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | 三和フロスト工業株式会社 | ガラス基板のエッチング方法およびその装置 |
CN114868233A (zh) | 2019-12-26 | 2022-08-05 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0730685Y2 (ja) * | 1984-08-01 | 1995-07-12 | 三洋電機株式会社 | エツチング装置 |
JPH0758078A (ja) * | 1993-08-19 | 1995-03-03 | Matsushita Electron Corp | ウエットエッチング処理装置 |
JPH09260345A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | フィルトレーションシステム |
JPH09260344A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | フィルトレーションシステム |
JP3145080B2 (ja) * | 1998-11-02 | 2001-03-12 | システム テクノロジー インコーポレイティッド | 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置 |
-
2002
- 2002-04-12 JP JP2002110829A patent/JP3524540B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1054082C (zh) | 超声波清洗工件的方法 | |
KR101115173B1 (ko) | 역류 | |
JP2003040649A5 (ja) | ||
JP2006525429A5 (ja) | ||
CA2790107C (en) | Microbubble cleaning system for a large product such as a vehicle | |
WO2014046229A1 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JPH08243474A (ja) | 部品の表面に表面処理溶液を輸送および塗布する方法 | |
TWI509682B (zh) | Substrate processing apparatus and processing method | |
JP2013058655A5 (ja) | ||
CN101607150B (zh) | 降低泡沫的装置及方法 | |
JPH06254538A (ja) | 溶存酸素除去装置 | |
KR20090122894A (ko) | 기판 슬림화 장치 및 기판 슬림화 장치 조립체 | |
JP2000042530A (ja) | 脱気装置 | |
TW503122B (en) | Gas treatment method and apparatus | |
JP2001269670A (ja) | 人工透析由来の廃液の中和処理装置 | |
KR100943756B1 (ko) | 기판 슬림화 장치 | |
KR200177288Y1 (ko) | 반도체 웨이퍼 식각장치 | |
JP2004002205A5 (ja) | ||
TWM394847U (en) | Liquid bubble removal device for substrate wet process | |
JPH03231427A (ja) | 板状体の洗浄方法 | |
JPH0785775B2 (ja) | 固体と液体との化学反応時の脱気方法 | |
JP2009256805A (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法並びに被洗浄物 | |
TWI321551B (en) | Apparatus for uniformly thinning a glass substrate | |
JP2018065121A (ja) | 塗装廃液処理装置 | |
KR100553442B1 (ko) | 도금액 활성정화장치 |