JP2003031475A

JP2003031475A - 現像装置および現像方法

Info

Publication number: JP2003031475A
Application number: JP2001215691A
Authority: JP
Inventors: Osamu Tamada; 修玉田; Masakazu Sanada; 雅和真田; Akiko Tanaka; 晶子田中; Kayoko Nakano; 佳代子中野
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2001-07-16
Filing date: 2001-07-16
Publication date: 2003-01-31

Abstract

(57)【要約】【課題】短時間で基板の全面に処理液を効率よく均一
に供給することができる基板処理装置および基板処理方
法を提供することである。【解決手段】外側カップ５の両側にはそれぞれ待機ポ
ット６，７が配置され、外側カップ５の一方の側部側に
はガイドレール８が配設されている。現像液ノズルアー
ム９およびガスノズルアーム１７がアーム駆動部１０に
よりガイドレール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方
向に移動可能に設けられている。現像液ノズルアーム９
には、下端部にスリット状吐出口１５を有する現像液吐
出ノズル１１がガイドレール８と垂直に取り付けられて
おり、ガスノズルアーム１７には、下端部にスリット状
噴出口１９を有するガス噴出ノズル１６がガイドレール
８と垂直に取り付けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像液を吐出する
現像液吐出ノズルを備えた現像装置および現像方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】図１０は従来の現像装置により基板に現像
液を吐出する工程の一部を示す模式図であり、図１１は
図１０の現像液吐出ノズルの形状を示す模式図である。

【０００４】図１０に示すように、従来の現像装置によ
り基板１００に現像液を吐出する工程では、現像液吐出
ノズル１１のスリット状吐出口１５から現像液５１を吐
出しつつ、現像液吐出ノズル１１を基板１００外の一方
端縁から基板１００上を通過して基板１００外の他方端
縁まで（図中Ａ方向）移動させる。また、図１１に示す
ように、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５
の吐出幅Ｌは、現像処理の対象となる基板１００の直径
とほぼ同じかそれよりも大きく設定されている。

【０００５】これにより、基板１００上のフォトレジス
ト等の感光性膜の全面に現像液５１が供給される。そし
て、供給された現像液５１が、基板１００上の感光性膜
と接触し、表面張力により基板１００上に保持された状
態（液盛り）となる。この状態で一定時間基板１００が
静止される。その結果、基板１００上の感光性膜の現像
が行われる。

【０００６】上記の現像装置では、静止した基板１００
上に現像液を供給することにより、反応によって劣化し
た現像液の劣化の影響が少なく、また非常に穏やかな液
盛りが可能なため、非常に高度な現像性能が得られる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】一方、近年の加工寸法
の縮小に伴い線幅の均一性の要求は日増しに高くなって
きている。現在は、露光用の光源としてＫｒＦ（フッ化
クリプトン）エキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）が主に
用いられ、基板上に線幅０．１８〜０．１３μｍのパタ
ーンが作製されている。さらに、線幅０．１３〜０．１
μｍに対応するＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレー
ザ（波長１９６ｎｍ）や線幅０．１〜０．０７μｍに対
応するＦ２（フッ素ダイマ）エキシマレーザ（波長１５
７ｎｍ）の使用も予想されており、さらなる線幅の精度
の向上が要求されている。

【０００８】しかしながら、ＡｒＦエキシマレーザやＦ
２エキシマレーザを用いたフォトリソグラフィでは、非
常に撥水性が大きいフォトレジスト液が用いられる。そ
のため、基板１００上に形成されたフォトレジスト膜上
に現像液５１が供給された際に、基板１００上に液が存
在しない部分が生じることがある。

【０００９】図１２は現像液が供給された際の基板１０
０の平面図である。図中矢印は現像液吐出ノズル１１の
移動方向（Ａ方向）を示す。領域５２は現像液が存在す
る領域を示しており、領域５３は現像液が存在しない領
域を示している。

【００１０】このように、スリット状吐出口１５から基
板１００上に現像液５１を吐出しながら現像液吐出口ノ
ズル１１を基板１００外の一方端縁から基板１００上を
通過して基板１００外の他方端縁まで移動させた後、基
板１００の主に一方端縁側に現像液が存在しない領域５
３が生じることがある。

【００１１】この現象に対する解決手段の一つとして、
現像液吐出口ノズル１１を低速で移動させる方法が考え
られる。この方法は、現像液吐出ノズル１１を低速で基
板１００上に移動させ現像液を吐出させることにより、
現像液が存在しない領域５３の発生を防止するものであ
る。しかし、現像液吐出口ノズル１１を低速で移動させ
る方法では、基板１００上のフォトレジスト膜に対する
現像液の反応に時間差が発生することから基板１００上
の線幅の不均一化が発生してしまう。

【００１２】また、最近の現像処理においては、生産性
向上およびプロセス優位性（線幅の均一化）のために現
像処理の全体の時間を短縮することが要求されるように
なっている。ここで、現像処理の全体の時間の短縮化が
進むと、現像処理の全体の時間に対する現像液の液盛り
の時間の割合が相対的に大きくなる。その結果、現像液
吐出ノズル１１の移動速度を低速化すると、現像液の供
給時間により現像処理の全体の時間の短縮化が制限され
る。

【００１３】本発明の目的は、短時間で基板の全面に現
像液を効率よく均一に供給することができる現像装置お
よび現像方法を提供することである。

【００１４】

【発明を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る現像装置は、基板を保持する基板保持手段
と、基板保持手段に保持された基板上に現像液を供給す
る現像液吐出ノズルと、基板上に気体を噴出する気体噴
出ノズルと、基板保持手段に静止状態で保持された基板
外の一方の位置から基板上を通過して基板外の他方の位
置まで現像液吐出ノズルおよび気体噴出ノズルを移動さ
せる移動手段とを備えたものである。

【００１５】第１の発明に係る現像装置においては、移
動手段により現像液吐出ノズルおよび気体噴出ノズルが
基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方の位
置から基板上を通過して基板外の他方の位置まで移動さ
れつつ、現像液吐出ノズルから基板上に現像液が供給さ
れるとともに、気体噴出ノズルから基板上に気体が噴出
される。

【００１６】この場合、現像液吐出ノズルにより基板上
に供給される現像液に気体噴出ノズルから噴出される気
体による運動エネルギーが与えられることにより、現像
液吐出ノズルの移動による現像液の慣性が打ち消され
る。それにより、現像液が現像液吐出ノズルに引っ張ら
れることにより発生する基板上の現像処理の不均一が防
止され、短時間で基板の全面に現像液が均一に供給され
る。したがって、現像吐出ノズルの移動速度の高速化が
可能となり、生産向上および現像処理の線幅の均一化を
図ることができる。

【００１７】第２の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、気体噴出ノズルは、現
像液吐出ノズルに設けられたものである。

【００１８】この場合、現像液吐出ノズルとともに気体
噴出ノズルが移動するので、気体噴出ノズルから噴出さ
れる気体による運動エネルギーを、現像液吐出ノズルか
ら吐出される現像液の慣性を打ち消すように効率よく与
えることができる。

【００１９】第３の発明に係る現像装置は、第１または
第２の発明に係る現像装置の構成において、気体噴出ノ
ズルは、現像液吐出ノズルの移動方向の前方側に配設さ
れたものである。

【００２０】この場合、現像液吐出ノズルの前方側から
現像液に気体を噴出することにより、現像液吐出ノズル
の移動に伴って現像液が現像液吐出ノズルの前方側に移
動することを防止することができる。

【００２１】第４の発明に係る現像装置は、第１または
第２の発明に係る現像装置の構成において、気体噴出ノ
ズルは、現像液吐出ノズルの移動方向の後方側に配設さ
れたものである。

【００２２】この場合、現像液吐出ノズルの後方側から
現像液に気体を噴出することにより、現像液吐出ノズル
の移動に伴って現像液が現像液吐出ノズルの前方側に移
動することを防止することができる。

【００２３】第５の発明に係る現像装置は、第１または
第２の発明に係る現像装置の構成において、気体噴出ノ
ズルは、現像液吐出ノズルの移動方向の前方側および後
方側に配設されたものである。

【００２４】この場合、現像液吐出ノズルの前方側およ
び後方側から現像液に気体を噴出することにより、現像
液吐出ノズルの移動に伴って現像液が現像液吐出ノズル
の前方側に移動することをより確実に防止することがで
きる。

【００２５】第６の発明に係る現像装置は、第３または
第５の発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出
ノズルの移動方向の前方側に配設された気体噴出ノズル
は、移動手段による移動方向の後方側斜め下方に向けて
気体を噴出するものである。

【００２６】この場合、現像液吐出ノズルの移動方向の
前方側に配設された気体噴出ノズルが移動方向の後方側
斜め下方に向けて気体を噴出することにより、現像液吐
出ノズルの移動に伴って現像液が現像液吐出ノズルの前
方側に移動することをより確実に防止することができ
る。

【００２７】第７の発明に係る現像装置は、第１〜第６
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直径以上
の領域にわたって形成された現像液吐出口を有し、気体
噴出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直径以上の
領域にわたって形成された気体噴出口を有するものであ
る。

【００２８】この場合、１回の走査で現像液吐出ノズル
から基板上に現像液を供給するとともに基板上に供給さ
れる現像液に気体噴出ノズルにより気体を噴出すること
ができる。

【００２９】第８の発明に係る現像装置は、第１〜第７
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルは、移動手段による移動方向とほぼ垂直な
方向に直線状に現像液を吐出し、気体噴出ノズルは、移
動手段による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に気体
を噴出するものである。

【００３０】この場合、移動方向とほぼ垂直な方向に直
線状に現像液を吐出し、かつ気体を噴出することによ
り、基板上に均一に現像液を供給することができ、さら
に現像液および気体の消費量が少なくなる。

【００３１】第９の発明に係る現像方法は、基板保持手
段に静止状態で保持された基板上に現像液吐出ノズルか
ら現像液を吐出供給する現像方法であって、現像液吐出
ノズルから基板上に現像液を供給しかつ基板上に供給さ
れる現像液に気体噴出ノズルから気体を噴出させつつ現
像液吐出ノズルを気体噴出ノズルとともに基板外の一方
側の位置から基板上を通過して基板外の他方側の位置ま
で移動させるものである。

【００３２】第９の発明に係る現像方法においては、現
像液吐出ノズルおよび気体噴出ノズルが基板保持手段に
静止状態で保持された基板外の一方の位置から基板上を
通過して基板外の他方の位置まで移動されつつ、現像液
吐出ノズルから基板上に現像液が供給されるとともに、
気体噴出ノズルから基板上に供給される現像液に気体が
噴出される。

【００３３】この場合、現像液吐出ノズルにより基板上
に供給される現像液に気体噴出ノズルから噴出される気
体による運動エネルギーが与えられることにより、現像
液吐出ノズルの移動による現像液の慣性が打ち消され
る。それにより、現像液が現像液吐出ノズルに引っ張ら
れることにより発生する基板上の現像処理の不均一が防
止され、短時間で基板の全面に現像液が均一に供給され
る。したがって、現像吐出ノズルの移動速度の高速化が
可能となり、生産向上および現像処理の線幅の均一化を
図ることができる。

【００３４】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施の形態にお
ける現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部
のＸ−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ
−Ｙ線断面図である。

【００３５】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。

【００３６】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、現像液ノズルアーム９およびガスノズルアーム１
７がアーム駆動部１０によりガイドレール８に沿って走
査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられてい
る。外側カップ５の他方の側部側には、純水を吐出する
純水吐出ノズル１４が矢印Ｒの方向に回動可能に設けら
れている。

【００３７】現像液ノズルアーム９には、下端部にスリ
ット状吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイ
ドレール８と平面視において垂直に取り付けられてお
り、ガスノズルアーム１７には、下端部にガス噴出口１
９を有するガス噴出ノズル１６が平面視においてガイド
レール８と垂直に取り付けられている。ガスノズルアー
ム１７は、現像液吐出ノズル１１の移動方向である走査
方向Ａの前方側に配設されている。

【００３８】そして、現像液吐出ノズル１１およびガス
噴出ノズル１６は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。

【００３９】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１２により現像液が供給される。ま
た、ガス噴出ノズル１６には、ガス供給系１８によりガ
スが供給される。制御部１３は、モータ２の回転動作、
アーム駆動部１０による現像液吐出ノズル１１の走査お
よびガス噴出ノズル１６の走査、現像液吐出ノズル１１
からの現像液の吐出およびガス噴出ノズル１６からのガ
スの噴出を制御する。

【００４０】ここで、ガス噴出ノズル１６から噴出され
るガスは、例えば、窒素（Ｎ₂）または圧縮空気等であ
る。

【００４１】図４は現像液吐出ノズル１１およびガス噴
出ノズル１６の概略断面図である。また、図５は現像液
吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５およびガス噴出
ノズル１６のガス噴出口１９を示す模式図であり、図５
（ａ）は現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５
およびガス噴出ノズル１６のガス噴出口１９の一例を示
す正面図であり、図５（ｂ）は現像液吐出ノズル１１の
スリット状吐出口およびガス噴出ノズル１６のガス噴出
口の他の例を示す正面図である。

【００４２】図４（ａ）に示すように、現像液吐出ノズ
ル１１は現像液供給口２１およびスリット状吐出口１５
を有する。また、この現像液吐出ノズル１１の移動方向
の前方側の側壁にガス噴出ノズル１６が取り付けられて
いる。図４（ｂ）に示すように、ガス噴出ノズル１６は
管状部材２２からなり、その周壁にガス噴出口１９が設
けられている。ガス噴出口１９は、ガス噴出ノズル１６
の移動方向である走査方向Ａよりも後方側に向けて斜め
方向にガスを噴出するように調整されている。

【００４３】また、図５（ａ）に示すように、スリット
状吐出口１５は、現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと
垂直に配置される。スリット状吐出口１５のスリット幅
ｔ１は０．０５〜１．０ｍｍであり、本実施の形態では
０．２ｍｍである。また、スリット状吐出口１５の吐出
幅Ｌ１は、現像対象となる基板１００の直径と同じかま
たはそれよりも大きく設定され、直径８インチの基板１
００を現像処理する本実施の形態では２１０ｍｍに設定
される。一方、ガス噴出口１９のスリット幅ｔ２および
噴出幅Ｌ２は、それぞれスリット状吐出口１５のスリッ
ト幅ｔ１および吐出幅Ｌ１と同じかまたはそれよりも大
きく設定される。現像液吐出ノズル１１は、スリット状
吐出口１５が基板１００の表面に対して平行な状態を保
つように走査方向Ａに走査され、またガス噴出ノズル１
６は、ガス噴出口１９が基板１００の表面に対して一定
の気体噴出角度を保つように走査方向Ａに走査される。

【００４４】また、現像液吐出ノズル１１のスリット状
吐出口１５およびガス噴出ノズル１６のガス噴出口１９
の形状を他の形状としてもよい。

【００４５】例えば、図５（ｂ）に示すように、スリッ
ト状吐出口２５およびガス噴出口２９を円形としてもよ
い。この場合、図５（ｂ）に示すスリット状吐出口１５
のスリット幅ｔ３は、図５（ａ）に示したスリット状吐
出口１５のスリット幅ｔ１に対してほぼ同じもしくはそ
れ以上に設定される。そして、図５（ｂ）に示すスリッ
ト状吐出口２５の吐出幅Ｌ３は、図５（ａ）に示したス
リット状吐出口１５の吐出幅Ｌ１に対してほぼ同じもし
くはそれ以上に設定される。同様に、ガス噴出口２９の
スリット幅ｔ４は、図５（ａ）に示したスリット幅ｔ２
に対して同じかまたはそれよりも大きく設定され、図５
（ｂ）に示すスリット状吐出口２５の吐出幅Ｌ４は、図
５（ａ）に示したスリット状吐出口１５の吐出幅Ｌ２に
対してほぼ同じもしくはそれ以上に設定される。

【００４６】また、現像液吐出ノズル１１は、現像液５
１の供給時にはスリット状吐出口１５が基板１００の上
面に対して０．２〜５．０ｍｍ、より好ましくは０．２
〜１．０ｍｍの間隔を保つように走査される。本実施の
形態では、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１
５と基板１００の上面との間隔が１．５±０．５ｍｍに
設定される。

【００４７】本実施の形態では、基板保持部１が基板保
持手段に相当し、現像液吐出ノズル１１が現像液吐出ノ
ズルに相当し、ガス噴出ノズル１６が気体噴出ノズルに
相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制御部
１３が制御手段に相当する。

【００４８】次に、図６を参照しながら図１の現像装置
の動作を説明する。図６は図１の現像装置の動作を説明
する模式的工程図である。

【００４９】まず、図６に示すように、現像装置内に基
板１００が搬入され、基板１００は基板保持部１により
静止状態で保持されている。そして、現像液吐出ノズル
１１は、待機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現
像液の供給時には、現像液吐出ノズル１１およびガス噴
出ノズル１６が上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側
カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降する。

【００５０】次に、現像液吐出ノズル１１およびガス噴
出ノズル１６は、走査開始位置Ｐ１から所定の走査速度
で走査を開始する。この時点では、現像液吐出ノズル１
１から現像液の吐出およびガス噴出ノズル１６からのガ
スの噴出は行わない。本実施の形態では、走査速度は１
０〜５００ｍｍ／秒とする。

【００５１】現像液吐出ノズル１１およびガス噴出ノズ
ル１６の走査開始後、ガス噴出ノズル１６のガス噴出口
１９が基板１００上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２
にてガス噴出口１９からガスが所定の流量で噴出される
とともに、現像液吐出ノズル１１から所定の流量で現像
液吐出ノズル１１による現像液の吐出が開始される。本
実施の形態では、現像液の吐出流量は１．５Ｌ／分とす
る。

【００５２】ここで、ガスの所定の流量とは、一定の流
量としてもよいし、基板１００上に対する現像液の供給
が均一となるように流量制御を行ってもよい。

【００５３】さらに、現像液吐出ノズル１１は吐出開始
位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａに直線状に移動
し、基板１００上にスリット状吐出口１５から現像液を
吐出し、かつガス噴出口１９からガスを噴出しつつ基板
１００上を移動する。これにより、基板１００上の全面
に現像液が均一に供給される。そして、供給された現像
液は、表面張力により基板１００上に保持される。

【００５４】そして、現像液吐出ノズル１１およびガス
噴出ノズル１６が、基板１００上を通過した後、基板１
００上から外れた吐出停止位置Ｐ３でスリット状吐出口
１５からの現像液の吐出およびガス噴出口１９からのガ
スの噴出を停止させる。

【００５５】その後、現像液吐出ノズル１１およびガス
噴出ノズル１６は、外側カップ５内の走査停止位置Ｐ４
に到達した時点で走査を停止し、走査停止位置Ｐ４で上
昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ５まで移動し、
待機ポット７内に下降する。

【００５６】待機ポット７内では、現像液吐出ノズル１
１の先端に付着した現像液を水洗洗浄ノズル（図示せ
ず）で水洗洗浄し、その後残留する水滴を吸引ノズル
（図示せず）で吸引して除去する洗浄処理が行われる。
なお、これらの洗浄処理で発生する水滴の飛沫が現像処
理中の基板に飛び散らないように、待機ポット６，７は
側壁で囲まれている（図３参照）。

【００５７】そして、基板１００上に現像液が保持され
た状態を所定時間（例えば約６０秒）維持し、基板１０
０上のフォトレジスト膜等の感光性膜の現像を進行させ
る。このとき、通常は基板１００を静止させておくが、
モータ２により基板保持部１を回転駆動することによ
り、基板１００上の現像液の流動による現像むらが発生
しない程度のごく低速（約５ｒｐｍ以下）で基板１００
を回転または間欠回転させてもよい。

【００５８】次に、図６（ｂ）に示すように、モータ２
により回転数１０００ｒｐｍ程度で基板１００を回転さ
せ、図１に示すように、純水吐出ノズル１４を図１の矢
印Ｒの方向に回転させ、純水を基板１００の中心部分お
よび周辺部分に供給し、一定時間基板１００の表面を洗
浄する。これにより、純水が基板１００に供給された時
点で現像液の規定度は純水で薄められて速やかに低下す
る。そのため、基板１００上の現像液に純水が供給され
ると濃度の変化に敏感なフォトレジスト膜等の感光性膜
の現像反応は直ちに停止する。そして、一定時間純水に
より洗浄処理を行い、基板１００上に残留した現像液や
現像液に溶解したレジスト成分等を除去する。

【００５９】最後に、図６（ｃ）に示すように、純水吐
出ノズル１４による純水の供給を停止し、モータ２によ
り基板１００を約４０００ｒｐｍ以上の高速で回転さ
せ、基板１００から純水を振り切り、基板１００を乾燥
させる。その後、基板１００の回転を停止させ、現像処
理を終了する。

【００６０】また、走査開始位置Ｐ１と吐出開始位置Ｐ
２の各位置、吐出停止位置Ｐ３と走査停止位置Ｐ４の各
位置は、上記の例に限らず、それぞれ同一の位置として
もよい。すなわち、現像液吐出ノズル１１が走査開始位
置Ｐ１から走査を開始すると同時に、または走査開始位
置Ｐ１から走査を開始するよりも前に走査開始位置Ｐ１
において、現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を
行う構成としてもよい。さらに、ガス噴出ノズル１６が
走査開始位置Ｐ１から走査を開始すると同時に、また
は、走査開始位置Ｐ１から走査を開始するよりも前に走
査開始位置Ｐ１において、ガス噴出ノズル１６によるガ
スの噴出を行う構成としてもよい。

【００６１】また、上記実施の形態においては現像液吐
出ノズル１１およびガス噴出ノズル１６からの現像液、
ガスの噴出開始および吐出停止を同時とする場合につい
て説明したが、これに限定されず各々の動作をずらして
もよい。

【００６２】次に、図６の現像液吐出時におけるガス噴
出ノズル１６のガス噴出口１９から噴出されるガスの効
果について説明する。

【００６３】図７は図６の基板１００上に現像液を吐出
する工程におけるガスの効果を示す模式図であり、図８
は図７のガス噴出ノズル１６の位置を現像液吐出ノズル
１１の移動方向の後方側に配設した場合のガスの効果を
示す模式図であり、図９はガス噴出ノズル１６の位置を
現像液吐出ノズル１１の移動方向の前方側および後方側
に配設した場合のガスの効果を示す模式図である。

【００６４】図７に示すように、現像液吐出ノズル１１
およびガス噴出ノズル１６は基板１００の一方端縁から
基板１００上を通過して他方端縁の位置まで移動する
（図中矢印Ａ）。現像液吐出ノズル１１の移動方向の前
方側にガス噴出ノズル１６を配設した場合、現像液吐出
ノズル１１のスリット状吐出口１５から吐出される現像
液に対してガス噴出ノズル１６のガス噴出口１９から噴
出されるガスにより運動エネルギーが与えられる。それ
により、現像液５１に対して下向後方側に向かって力Ｆ
が発生し撥水性および表面張力の高い現像液５１が、現
像液吐出ノズル１１に引っ張られることなく基板１００
上において供給された位置から移動することが抑制され
る。その結果、基板１００上に均一に現像液５１の供給
を行うことが可能となる。

【００６５】また、図８に示すように、現像液吐出ノズ
ル１１の移動方向の後方側にガス噴出ノズル１６を配設
した場合において、現像液吐出ノズル１１から吐出され
る現像液５１に対してガス噴出ノズル１６のガス噴出口
１９から噴出されるガスにより運動エネルギーが与えら
れる。それにより、現像液５１に対して下向後方側に向
かって力Ｆが発生し撥水性および表面張力の高い現像液
５１が、現像液吐出ノズル１１に引っ張られることなく
基板１００上において供給された位置から移動すること
が抑制される。その結果、基板１００上に均一に現像液
５１の供給を行うことが可能となる。

【００６６】さらに、図９に示すように、現像液吐出ノ
ズル１１の移動方向の前方側および後方側にガス噴出ノ
ズル１６を配設した場合、現像液吐出ノズル１１のスリ
ット状吐出口１５から吐出される現像液に対してガス噴
出ノズル１６ａのガス噴出口１９ａから噴出されるガス
およびガス噴出ノズル１６ｂのガス噴出口１９ｂから噴
出されるガスにより運動エネルギーが与えられる。それ
により、現像液５１に対して下向後方側に向かって力Ｆ
が発生し撥水性および表面張力の高い現像液５１が、現
像液吐出ノズル１１に引っ張られることなく基板１００
上において供給された位置から移動することがさらに抑
制される。その結果、さらに基板１００上に均一に現像
液５１の供給を行うことが可能となる。

【００６７】このように、本実施の形態の現像装置で
は、移動する現像液吐出ノズル１１から吐出される現像
液５１の慣性に対して、ガス噴出口１９から噴出される
ガスの運動エネルギーが与えられることにより、現像液
５１の慣性を打ち消すことができる。したがって、現像
液５１が、移動する現像液吐出ノズル１１に引っ張られ
ることなく基板１００上に均一に供給される。これらの
ことより、現像液吐出ノズル１１の走査を高速化して
も、ガスの噴出量を制御することにより短時間で基板の
全面に現像液を均一に供給することができ、さらに生産
性向上および現像処理の線幅の不均一化を防止すること
ができる。

【００６８】なお、上記実施の形態では、本発明をスリ
ット状吐出口を有する現像液吐出ノズルを用いた現像装
置および現像方法に適用した場合を説明したが、本発明
は、他の現像液吐出ノズルを用いた現像装置および現像
方法にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態における現像装置の平面
図である。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルおよびガス噴出ノズルの概略
断面図である。

【図５】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口およびガ
ス噴出ノズルのガス噴出口を示す模式図である。

【図６】図１の現像装置の動作を説明する模式的工程図
である。

【図７】図６の基板上に現像液を吐出する工程における
ガスの効果を示す模式図である。

【図８】図７のガス噴出ノズルの位置を現像液吐出ノズ
ルの移動方向の後方側に配設させた場合のガスの効果を
示す模式図である。

【図９】ガス噴出ノズルの位置を現像液吐出ノズルの移
動方向の前方側および後方側に配設した場合のガスの効
果を示す模式図である。

【図１０】従来の現像装置により基板に現像液を吐出す
る工程の一部を示す模式図である。

【図１１】図１０の現像液吐出ノズルの形状を示す模式
図である。

【図１２】現像液が供給された際の基板の平面図であ
る。

【符号の説明】

１基板保持部２モータ３回転軸４内側カップ５外側カップ６，７待機ポット８ガイドレール９現像液ノズルアーム１０アーム駆動部１１現像液吐出ノズル１２現像液供給系１３制御部１４純水吐出ノズル１５スリット状吐出口１６ガス噴出ノズル１７ガスノズルアーム１８ガス供給系１９ガス噴出口２１現像液供給口２２管状部材５１現像液５２領域５３領域１００基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者真田雅和京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内 (72)発明者田中晶子京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内 (72)発明者中野佳代子京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内Ｆターム(参考） 2H096 AA25 AA28 GA23 GA26 5F046 LA03 LA04 LA06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板上に現像液を供給す
る現像液吐出ノズルと、前記基板上に気体を噴出する気体噴出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
の位置から前記基板上を通過して基板外の他方の位置ま
で前記現像液吐出ノズルおよび前記気体噴出ノズルを移
動させる移動手段とを備えたことを特徴とする現像装
置。
【請求項２】前記気体噴出ノズルは、前記現像液吐出
ノズルに設けられたことを特徴とする請求項１記載の現
像装置。
【請求項３】前記気体噴出ノズルは、前記現像液吐出
ノズルの移動方向の前方側に配設されたことを特徴とす
る請求項１または２記載の現像装置。
【請求項４】前記気体噴出ノズルは、前記現像液吐出
ノズルの移動方向の後方側に配設されたことを特徴とす
る請求項１または２記載の現像装置。
【請求項５】前記気体噴出ノズルは、前記現像液吐出
ノズルの移動方向の前方側および後方側に配設されたこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の現像装置。
【請求項６】前記現像液吐出ノズルの移動方向の前方
側に配設された前記気体噴出ノズルは、前記移動手段に
よる移動方向の後方側斜め下方に向けて気体を噴出する
ことを特徴とする請求項３または５記載の現像装置。
【請求項７】前記現像液吐出ノズルは、現像処理の対
象となる基板の直径以上の領域にわたって形成された現
像液吐出口を有し、前記気体噴出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直
径以上の領域にわたって形成された気体噴出口を有する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の現像
装置。
【請求項８】前記現像液吐出ノズルは、前記移動手段
による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に現像液を吐
出し、気体噴出ノズルは、前記移動手段による移動方向とほぼ
垂直な方向に直線状に気体を噴出することを特徴とする
請求項１〜７のいずれかに記載の現像装置。
【請求項９】基板保持手段に静止状態で保持された基
板上に現像液吐出ノズルから現像液を吐出供給する現像
方法であって、前記現像液吐出ノズルから前記基板上に現像液を供給し
かつ前記基板上に供給される現像液に気体噴出ノズルか
ら気体を噴出させつつ前記現像液吐出ノズルを前記気体
噴出ノズルとともに前記基板外の一方側の位置から前記
基板上を通過して前記基板外の他方側の位置まで移動さ
せることを特徴とする現像方法。