JP2003014647A - プローブ物質を載せた導波路法による蛍光測定方法 - Google Patents
プローブ物質を載せた導波路法による蛍光測定方法Info
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Abstract
クロアレイチップ基板1における該光導波路層とした部
分における一方側の面に、特定のターゲット物質に対し
て選択的結合性を有するプローブ物質2を付着せしめ
る。また、該プローブ物質2によってターゲット物質3
を選択的に結合させる。マイクロアレイチップ基板1の
光導波路層に光源4から励起光4aを入射させる。そし
て光導波路界面からも生じたエバネッセント波励起によ
る蛍光測定を行う。
Description
た導波路法による蛍光測定方法に関するものである。
グされた試料に上或いは下から励起光を直接当て、ダイ
クロックミラーなどにより励起光(Ex光)と蛍光、燐
光(Em光)を分離し、ホトマルで単体測定し、全スポ
ットを順次スキャンさせて行っていた。
は、スポッティングされている試料を一つ一つスキャン
していくために相当な時間がかかった。また、励起光
(Ex光)、蛍光、燐光(Em光)の光線が共通の光路
を通る為、ダイクロックミラーなどを用いて光を波長で
分離しているが、光学系が複雑になり、またその分暗く
なり、ホトマル単眼測定を余儀なくされていた。また、
複数のスポットを測定する場合でも光学系が複雑になる
為、広い範囲をカバーすることが不可能であった。
置では、一つのプローブ物質に一つのターゲット物質の
組み合わせでしか測定することができず、而も波長も固
定であった。このため条件の組み合わせによる診断、解
析が不可能であった。
って、二次元でとらえる、即ち一枚のマイクロアレイチ
ップ基板の一方側の面に、即ち、光導波路層上にプロー
ブ物質を介して複数のターゲット物質を載せ、これらを
光導波路層を通る励起光を通して一度に同時に測定する
ことができるようになし、またこのような方法であって
複数のターゲット物質に同時に当てる励起光の波長を切
り換えることができるようになしたプローブ物質を載せ
た導波路法による蛍光測定方法を提供せんとするもので
ある。
(1)(2)の測定方法を要旨とするものである。 (1)少なくも一部を光導波路層としたマイクロアレイ
チップ基板における該光導波路層とした部分における一
方側の面に、特定のターゲット物質に対して選択的結合
性を有するプローブ物質を予め付着せしめると共に該プ
ローブ物質によってターゲット物質を選択的に結合さ
せ、更に前記マイクロアレイチップ基板の光導波路層に
励起光を入射させ、該ターゲット物質固有の光学的性質
や結合により生じた光学的性質に関して、光導波路界面
より生じたエバネッセント波励起による蛍光測定を行う
ようになしたことを特徴とするプローブ物質を載せた導
波路法による蛍光測定方法。
ロアレイチップ基板における光導波路層とした部分の端
面を斜めにカットすると共に、該斜めにカットした部分
に対して入射可能な方向から励起光を当てて入射させる
ようになしてもよい。
アレイチップ基板における光導波路層をした部分の端部
の一方側の面に、カップリングプリズムを、その斜面が
外側を向くようにして取着すると共に、該カップリング
プリズムの斜面に対して入射可能な方向から励起光を当
てて入射させるようになしてもよい。
アレイチップ基板における光導波路層とした部分の端部
の一方側の面に、グレーティングを形成し、該グレーテ
ィングに対して入射可能な方向から励起光を当てて入射
させるようになしてもよい。
イクロアレイチップ基板における該光導波路層とした部
分における一方側の面に、特定のターゲット物質に対し
て選択的結合性を有するプローブ物質を予め付着せしめ
ると共に該プローブ物質によってターゲット物質を選択
的に結合させ、更に前記マイクロアレイチップ基板の光
導波路層に励起光を入射させ、該ターゲット物質固有の
光学的性質や結合により生じた光学的性質に関して、光
導波路界面より生じたエバネッセント波励起による蛍光
測定を行うようになした物質の光学的性質の導波路法に
よる蛍光測定方法であって、励起光の波長を切り換える
ようになしたことを特徴とするプローブ物質を載せた導
波路法による蛍光測定方法。
転板に、波長の異なる複数の干渉フィルタを同心的に配
置し、所要の波長の干渉フィルタを選択して励起光を照
射するようになし、もって励起光の波長を切り換えるよ
うになしてもよい。
異なるレーザーヘッドを複数配設すると共に夫々に反射
鏡を取り付け、所要の波長のレーザーヘッドから照射す
るようになし、もって励起光の波長を切り換えるように
なしてもよい。
における一方側に、夫々光源とバンドルーラインファイ
バを向くように波長可変な分光器を配設し、該波長可変
な分光器によって励起光の波長を切り換えるようになし
てもよい。
図面を参照しつつ説明する。図1は本発明に係る測定方
法の概略的説明図、図2乃至図4はマイクロアレイチッ
プ基板における光導波路層への励起光の入射方法の説明
図、図5乃至図7は励起光の波長切り換え方法の説明
図、図8はマイクロアレイチップ基板と波長切り換え干
渉フィルタの部分の斜視図、図9は蛍光検出部分の説明
図、図10はターゲット物質とプローブ物質との結合の
説明図である。
方法について説明する。1はマイクロアレイチップ基板
であり、厚みは数μ〜0.2mm程度である。そしてま
たその周囲は遮光されている。また、該マイクロアレイ
チップ基板1は少なくとも一部を光導波路層としてい
る。また、ここで光導波路層とは、周囲より屈折率の高
い層であって、全反射で光を該層に導入したときに光を
該層に閉じ込めて伝達させる層のことをいう。即ち、光
導波路層に光を全反射条件で導入すると、光は該層の上
(表)と下(裏)界面で全反射しながら進むようになる
ものである。また、この光導波路層の形態としては、高
分子としてはPMMA、アクリルなどの透明な薄層基
板、ガラスではLaSK−N1,LaSF−08などの
重フリントガラス、石英、サファイア、チタニアなどの
薄層研磨基板などが用いられ、その厚みは0.2mm以
下であることが望ましい。また、イオン交換法では、カ
リウム溶融塩中につけ、表面層数ミクロンの屈折率を高
めたソーダガラス基板を用いる方法があげられる。ま
た、屈折率の高い薄層を作る方法としては、透明基板上
にゾルゲル法、CVD法、スピンコート法、スパッタリ
ング法などを用いて光導波路層を形成することが可能で
ある。
導波路層とした部分1Aの一方側の面1A′には、図中
10に示す如き工程を経てプローブ物質2、2、2…を
介してターゲット物質3、3、3…を載せている。尚、
ここでターゲット物質とは被測定対象物、プローブ物質
とはターゲット物質を選択的に結合し、光導波路層上に
とらえるものである。
チップ基板1に未だ何も処理していない状態を示す。
(B)はマイクロアレイチップ基板に特定のターゲット
物質に対して選択的結合性を有するプローブ物質2、
2、2…を点在するよう付着した状態、(C)はプロー
ブ物質2、2、2…にターゲット物質3、3、3…が結
合する過程の状態図、(D)はプローブ物質2、2、2
…にターゲット物質3、3、3…が結合した状態図、
(E)は蛍光測定状態図である。
に示す実施形態ではキセノンランプを用いている。5は
コリメーションレンズ、6は集光レンズである。
ンズ6との間に配設した、励起光の波長切り換え用干渉
フィルタである。尚、該波長切り換え用干渉フィルタ7
はEx用である。また、該波長切り換え用干渉フィルタ
7は、円形の回転板8に、波長の異なる複数の干渉フィ
ルタ9、10、11、12、13、14を同心的に配設
し、所要の波長の干渉フィルタを選択して励起光を照射
するようになしたものである。
レンズであり、これらは前記集光レンズ6と前記マイク
ロアレイチップ基板1との間に配設している。そして励
起光4aは該レンズ16を経てマイクロアレイチップ基
板1の端面に照射され、該マイクロアレイチップ基板1
の光導波路層とした部分1Aに入射されるものである。
ロアレイチップ基板1の光導波路層とした部分1Aへの
入射方法の例を示しており、図2はマイクロアレイチッ
プ基板1における光導波路層とした部分1Aの端面を斜
めにカットすると共に該斜めにカットした部分1aに対
して入射可能な方向から励起光4aを当てるものであ
る。本例の場合は、マイクロアレイチップ基板1が単一
材ガラス、単一材高分子基板の場合に用いられる。
における光導波路層とした部分1Aの端部の一方側の面
に、カップリングプリズム17を、その斜面が外側を向
くようにして取着すると共に、該カップリングプリズム
17の斜面に対して入射可能な方向から励起光4aを当
てるものである。尚、本例の場合は、マイクロアレイチ
ップ基板1がイオン交換された薄層導波路の場合であ
る。
における光導波路層とした部分1Aの端部の一方側の面
に、グレーティング18を形成し、該グレーティング1
8に対して入射可能な方向から励起光4aを当てるもの
である。尚、本例の場合もマイクロアレイチップ基板1
がイオン交換された薄層導波路の場合である。
ット物質の集合体を測定するため前記マイクロアレイチ
ップ基板1のターゲット物質3が載った面の反対側に配
設した受光素子であり、本実施形態では二次元CCD
(冷却、裏面入射)を用いている。尚、該二次元CCD
の他にEBCCD、アバランシェホトダイオードアレ
ー、平面分解能を持ったホトマル、一次元CCDをスキ
ャンして用いてもよい。
前記受光素子19との間に配設した結像レンズである。
21は前記マイクロアレイチップ基板1と前記結像レン
ズ20との間に配設した、蛍光、燐光(Em光)を波長
毎に見られるようにするための波長切り換え用干渉フィ
ルタである。また、該波長切り換え用干渉フィルタ21
は前記波長切り換え用干渉フィルタ7と同様の構成であ
る。即ち、円形の回転板22に、波長の異なる複数の干
渉フィルタ23、24、25、26、27、28を同心
的に配置し、所要の波長の干渉フィルタを選択してマイ
クロアイレチップ基板1から出た光を照射するものであ
る。尚、本実施形態では該波長切り換え用干渉フィルタ
21を用いる場合を示しているが、これは必ずしも用い
る必要はない。
長切り換え方法として図1及び図5に示す如き場合を示
したが、図6又は図7に示すような方法で行うようにし
てもよい。図6は、波長の異なるレーザーヘッド29、
30、31、32を複数配設すると共に夫々に反射鏡3
3,34、35、36を取り付け、所要の波長のレーザ
ーヘッドから照射するようになした場合である。また、
図7は支持板37における一方側に、夫々光源4とバン
ドルーラインファイバ15を向くように波長可変な分光
器38を配設し、該波長可変な分光器38によって励起
光の波長を連続的に切り換えるようになしたものであ
る。
光)4aが波長切り換え用干渉フィルタ7によって所定
の波長とされてバンドルーラインファイバ15及びレン
ズ16を経てマイクロアレイチップ基板1に照射され
る。そして、該マイクロアレイチップ基板1の光導波路
層1Aに入射し、光導波路層の途中に載せられたターゲ
ット物質3、3の部分において蛍光、燐光(Em光)は
受光素子19側に照射される。そしてエバネッセント波
励起による蛍光、燐光(Em光)測定を行うものであ
る。
チップ基板の光導波路層内を通る励起光(Ex光)によ
り光導波路層上に載せた複数のターゲット物質を一度に
同時に励起させることができるものである。そしてま
た、励起光(Ex光)が光導波路界面にあるターゲット
物質を励起させることにより蛍光、燐光(Em光)が光
導波路界面より発せられるため、二次元としてとらえる
のに都合がよく、共焦点顕微鏡などの複雑なシステムが
要らず、また蛍光、燐光(Em光)を測定する際に励起
光(Ex光)の波長分離をしなくてもよく、このための
光学系を省くことができる。また、複数のターゲット物
質に同時に当てる励起光の波長を切り換えることができ
るものである。そして更に、マイクロアレイチップ基板
を結像レンズとの間に波長切り換え用干渉フィルタを配
設する場合には、蛍光、燐光(Em光)を波長毎に見る
ことができるものである。
図11は図12に示した実験の結果を示すグラフであ
り、そしてまた図12に示す実験の工程は、次の通りで
ある。 PMMAからなるマイクロアレイチップ基板1の光導
波路層上における3箇所にアビジン蛋白質を吸着する。
図12(A) BSA蛋白質で空サイトをブロッキングする。図12
(B) ビオチン標識オリゴDNAプローブ(Bio−P5
3)をアビジン蛋白質に結合する。図12(C) 蛍光色素Cy5(λEx635nm、λEm670n
m)で標識したオリゴDNAターゲットを作成し、夫々
のターゲット(赤)Cy5−P53、(緑)Cy5−P
53T、(青)Cy5−CROBCを夫々のプローブに
滴下する。図12(D) 以上の工程を経た後、Cy5−P53、Cy5−P53
T、Cy5−CROBCの結合(ハイブリダイズ)の度
合を蛍光測定し、その蛍光強度によりターゲットの量
を、またその時間経過での蛍光量変化により結合量の変
化を測定した。
であり、青ではCy5−CROBCが結合(ハイブリダ
イズ)しないため、殆ど蛍光が得られず、またCy5−
P53T(緑)ではミスマッチにより結合(ハイブリダ
イズ)した状態を、またCy5−P53(赤)ではフル
マッチにより結合(ハイブリダイズ)した状態を表わし
ている。
基板の光導波路層内を通る励起光(Ex光)により光導
波路層上に載せた複数のターゲット物質を一度に同時に
励起させることができるものである。そしてまた、励起
光(Ex光)が光導波路界面にあるターゲット物質を励
起させることにより蛍光、燐光(Em光)が光導波路界
面より発せられるため、二次元としてとらえるのに都合
がよく、共焦点顕微鏡などの複雑なシステムが要らず、
また蛍光、燐光(Em光)を測定する際に励起光(Ex
光)の波長分離をしなくてもよく、このための光学系を
省くことができる。また、複数のターゲット物質に同時
に当てる励起光の波長を切り換えることができるもので
ある。そして更に、マイクロアレイチップ基板と結像レ
ンズとの間に波長切り換え用干渉フィルタを配設する場
合には、蛍光、燐光(Em光)を波長毎に見ることがで
きるものである。
への励起光の入射方法の一例の説明図である。
る。
ある。
ある。
渉フィルタの部分の斜視図である。
明図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 少なくとも一部を光導波路層としたマイ
クロアレイチップ基板における該光導波路層とした部分
における一方側の面に、特定のターゲット物質に対して
選択的結合性を有するプローブ物質を予め付着せしめる
と共に該プローブ物質によってターゲット物質を選択的
に結合させ、更に前記マイクロアレイチップ基板の光導
波路層に励起光を入射させ、該ターゲット物質固有の光
学的性質や結合により生じた光学的性質に関して、光導
波路界面より生じたエバネッセント波励起による蛍光測
定を行うようになしたことを特徴とするプローブ物質を
載せた導波路法による蛍光測定方法。 - 【請求項2】 マイクロアレイチップ基板における光導
波路層とした部分の端面を斜めにカットすると共に、該
斜めにカットした部分に対して入射可能な方向から励起
光を当てて入射させるようになした請求項1記載のプロ
ーブ物質を載せた導波路法による蛍光測定方法。 - 【請求項3】 マイクロアレイチップ基板における光導
波路層とした部分の端部の一方側の面に、カップリング
プリズムを、その斜面が外側を向くようにして取着する
と共に、該カップリングプリズムの斜面に対して入射可
能な方向から励起光を当てて入射させるようになした請
求項1記載のプローブ物質を載せた導波路法による蛍光
測定方法。 - 【請求項4】 マイクロアレイチップ基板における光導
波路層とした部分の端部の一方側の面に、グレーティン
グを形成し、該グレーティングに対して入射可能な方向
から励起光を当てて入射させるようになした請求項1記
載のプローブ物質を載せた導波路法による蛍光測定方
法。 - 【請求項5】 少なくも一部を光導波路層としたマイク
ロアレイチップ基板における該光導波路層とした部分に
おける一方側の面に、特定のターゲット物質に対して選
択的結合性を有するプローブ物質を予め付着せしめると
共に該プローブ物質によってターゲット物質を選択的に
結合させ、更に前記マイクロアレイチップ基板の光導波
路層に励起光を入射させ、該ターゲット物質固有の光学
的性質や結合により生じた光学的性質に関して、光導波
路界面より生じたエバネッセント波励起による蛍光測定
を行うようになした物質の光学的性質の導波路法による
蛍光測定方法であって、励起光の波長を切り換えるよう
になしたことを特徴とするプローブ物質を載せた導波路
法による蛍光測定方法。 - 【請求項6】 円形回転板に、波長の異なる複数の干渉
フィルタを同心的に配置し、所要の波長の干渉フィルタ
を選択して励起光を照射するようになし、もって励起光
の波長を切り換えるようになした請求項5記載のプロー
ブ物質を載せた導波路法による蛍光測定方法。 - 【請求項7】 波長の異なるレーザーヘッドを複数配設
すると共に、夫々に反射鏡を取り付け、所要の波長のレ
ーザーヘッドから照射するようになし、もって励起光の
波長を切り換えるようになした請求項5記載のプローブ
物質を載せた導波路法による蛍光測定方法。 - 【請求項8】 支持板における一方側に、夫々光源とバ
ンドルーラインファイバを向くように波長可変な分光器
を配設し、該波長可変な分光器によって励起光の波長を
切り換えるようになした請求項5記載のプローブ物質を
載せた導波路法による蛍光測定方法。
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JP2001239916A JP2003014647A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | プローブ物質を載せた導波路法による蛍光測定方法 |
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