JP2003013229A5 - - Google Patents
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- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001194386A JP4388717B2 (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | Cvd成膜装置及びcvd成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001194386A JP4388717B2 (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | Cvd成膜装置及びcvd成膜方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009180938A Division JP5277442B2 (ja) | 2009-08-03 | 2009-08-03 | 微粒子 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003013229A JP2003013229A (ja) | 2003-01-15 |
JP2003013229A5 true JP2003013229A5 (enrdf_load_html_response) | 2008-03-21 |
JP4388717B2 JP4388717B2 (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=19032528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001194386A Expired - Fee Related JP4388717B2 (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | Cvd成膜装置及びcvd成膜方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4388717B2 (enrdf_load_html_response) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1696984A (zh) * | 2004-05-14 | 2005-11-16 | 魏宗兴 | 新信用卡的低成本防盗刷方法 |
JP2006016661A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Utec:Kk | 被覆微粒子、cvd装置及びcvd成膜方法、マイクロカプセル及びその製造方法 |
JP2006022176A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Takayuki Abe | 被覆微粒子 |
JP4750436B2 (ja) * | 2005-03-16 | 2011-08-17 | 孝之 阿部 | 表面処理物の製造方法、表面処理方法及び表面処理装置 |
JP5721923B2 (ja) * | 2005-04-25 | 2015-05-20 | 株式会社ユーテック | 表面処理微粒子、表面処理装置及び微粒子の表面処理方法 |
WO2009098784A1 (ja) * | 2008-02-06 | 2009-08-13 | Youtec Co., Ltd. | プラズマcvd装置、プラズマcvd方法及び攪拌装置 |
JP6496898B2 (ja) * | 2014-07-02 | 2019-04-10 | アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 | 電子部品の製造方法 |
JP6543982B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2019-07-17 | 株式会社豊田中央研究所 | 成膜装置および成膜方法 |
WO2017195449A1 (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | 株式会社ユーテック | 潤滑剤及びその製造方法、潤滑剤用品、潤滑剤エアゾール、潤滑剤付き部材及び潤滑剤付き可動部材の製造方法 |
EP4273296B1 (en) | 2016-07-15 | 2025-03-26 | OneD Material, Inc. | Manufacturing apparatus and method for making silicon nanowires on carbon based powders for use in batteries |
KR102194067B1 (ko) * | 2018-01-25 | 2020-12-22 | 주식회사 모만 | 분말 또는 섬유 균일 코팅장치 |
JP7738908B2 (ja) * | 2020-02-21 | 2025-09-16 | 株式会社StarPlasma | 複合装置及び被覆微粒子の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-27 JP JP2001194386A patent/JP4388717B2/ja not_active Expired - Fee Related
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