JP2003008239A - Multilayer printed wiring board - Google Patents

Multilayer printed wiring board

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JP2003008239A
JP2003008239A JP2001188918A JP2001188918A JP2003008239A JP 2003008239 A JP2003008239 A JP 2003008239A JP 2001188918 A JP2001188918 A JP 2001188918A JP 2001188918 A JP2001188918 A JP 2001188918A JP 2003008239 A JP2003008239 A JP 2003008239A
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Japan
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printed wiring
wiring board
multilayer printed
layer
power supply
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Application number
JP2001188918A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Inagaki
靖 稲垣
Masanori Nakamura
正則 中村
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer printed wiring board whose electrical connection properties and reliability are superior, without increasing an inductance portion or without causing supply shortage of electric power. SOLUTION: When terminals (electrodes) 98 for power supply are extracted from the side face of the multilayer printed wiring board 10, distances from an IC chip 112 to the terminals 98 can be shortened, an inductance is not increased, and an unstable operation and a malfunction which are caused by the shortage of the electric power are reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、層間樹脂絶縁層
と導体層とがコア基板に交互に積層され、外部基板接続
用端子が配設された多層プリント配線板に関し、特に、
ICチップを載置するパッケージ基板として用いること
のできる多層プリント配線板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board in which interlayer resin insulation layers and conductor layers are alternately laminated on a core board and external board connecting terminals are arranged.
The present invention relates to a multilayer printed wiring board that can be used as a package substrate on which an IC chip is placed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ビルドアップ多層プリント配線板
は、例えば、特開平9−130050号に開示される方
法にて製造されている。プリント配線板の導体回路の表
面に無電解めっきやエッチングにより、粗化層を形成さ
せる。その後、ロールコーターや印刷により層間絶縁樹
脂を塗布、露光、現像して、層間導通のためのバイアホ
ール開口部を形成させて、UV硬化、本硬化を経て層間
樹脂絶縁層を形成する。さらにその層間樹脂絶縁層に、
酸や酸化剤などにより粗化処理を施した粗化面にパラジ
ウムなどの触媒を付ける。そして、薄い無電解めっき膜
を形成し、そのめっき膜上にドライフィルムにてパター
ンを形成し、電解めっきで厚付けしたのち、アルカリで
ドライフィルムを剥離除去し、エッチングして導体回路
を作り出させる。これを繰り返すことにより、ビルドア
ップ多層プリント配線板が得られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, build-up multilayer printed wiring boards have been manufactured, for example, by the method disclosed in JP-A-9-130050. A roughened layer is formed on the surface of the conductor circuit of the printed wiring board by electroless plating or etching. Thereafter, an interlayer insulating resin is applied by a roll coater or printing, exposed and developed to form a via hole opening for interlayer conduction, and UV curing and main curing are performed to form an interlayer resin insulating layer. Furthermore, in the interlayer resin insulation layer,
A catalyst such as palladium is attached to the roughened surface that has been roughened with an acid or an oxidizing agent. Then, a thin electroless plating film is formed, a pattern is formed on the plating film with a dry film, and after thickening with electrolytic plating, the dry film is peeled off with an alkali and etched to create a conductor circuit. . By repeating this, a build-up multilayer printed wiring board is obtained.

【0003】それに対応する技術として、層間絶縁層を
半硬化にした樹脂フィルムを圧着させて、バイアホール
をレーザで形成させることも検討されている。その多層
プリント配線板の表層にはICチップが実装されて、反
対面には、外部基板接続端子であるBGAもしくはPG
Aが配設されている。
As a technique corresponding thereto, it has been considered to form a via hole with a laser by pressing a resin film obtained by semi-curing an interlayer insulating layer. An IC chip is mounted on the surface layer of the multilayer printed wiring board, and on the opposite surface, a BGA or PG that is an external board connection terminal.
A is provided.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】現在、ICチップの高
周波数化に伴い、多層プリント配線板にも供給される電
源も比例して増大される。そのために、電源供給不足が
発生してしまうことが懸念される。特に、起動時に瞬時
に大電力を必要とする。その電力が不足分を補うために
は、時間を要する。時間の経過とともに不足分が補われ
るが、そのタイムラグが動作を不安定にさせてしまい、
ICチップの有する性能を充分に発揮されないという問
題を引き起こしてしまう。それらを補うために、多層プ
リント配線板に、コンデンサを表層に実装させることに
より、コンデンサ内に充電された電力を供給することに
より、不足分を補うことで、電力不足による動作の不安
定を解消させていた。それを図に示して説明をする。図
10は、縦軸にICチップへ供給される電圧、横軸に時
間を取ってある。点線Aで示すようにコンデンサを実装
されていないものであると、ICチップの動作と同時
に、電源が急速に不足してしまうために大きく減衰して
しまう。その後時間の経過とともに、電源の供給が追い
つくために、動作の不安定が解消される。それを補うた
めに、コンデンサに蓄えられた電力を放出することによ
り、初期動作時に起こりうる電源不足を起因とする動作
の不安定を解消させていた(点線B参照)。
At present, as the frequency of IC chips increases, the power supply supplied to the multilayer printed wiring boards also increases proportionately. Therefore, there is a concern that power supply shortage may occur. In particular, it requires a large amount of power instantly at startup. It takes time for the electric power to make up for the shortage. The shortfall is compensated with the passage of time, but the time lag makes the operation unstable,
This causes a problem that the performance of the IC chip is not fully exhibited. In order to compensate for them, by mounting a capacitor on the surface layer of a multilayer printed wiring board, supplying the electric power charged in the capacitor and compensating for the shortage, the unstable operation due to the power shortage is eliminated. I was letting it. This will be described with reference to the figure. In FIG. 10, the vertical axis represents the voltage supplied to the IC chip and the horizontal axis represents time. If the capacitor is not mounted as shown by the dotted line A, the power is rapidly depleted at the same time as the operation of the IC chip, resulting in large attenuation. After that, with the lapse of time, the supply of the power supply catches up, so that the unstable operation is eliminated. In order to compensate for this, the instability of the operation caused by the power shortage that may occur during the initial operation is eliminated by discharging the electric power stored in the capacitor (see dotted line B).

【0005】しかしながら、ICチップが2GHz,3
GHzとさらに高周波領域になると、コンピュータを起
動させるために、大電力が必要となり、そのために電源
の供給不足が引き起こされ、動作時の不安定になること
が懸念されている。図10中の点線Cは、コンデンサを
備える多層プリント配線板で高周波動作させた場合を示
している。特に、初期動作時における電源不足は、OS
やソフトの起動を阻害してしまうために、パソコンやモ
ーバイルなどの装置自体をフリーズさせてしまう。
However, the IC chip is 2 GHz, 3
In the high frequency region of GHz, a large amount of electric power is required to start up the computer, which causes a shortage of power supply, which may cause instability during operation. A dotted line C in FIG. 10 shows a case where a multilayer printed wiring board including a capacitor is operated at a high frequency. In particular, when the power supply is insufficient during the initial operation,
This will freeze the device itself such as a personal computer or mobile because it will hinder the startup of software.

【0006】多層プリント配線板に効率よく電源の供給
を行うために、インダクタンスを低下させる必要があ
る。そのために本発明者は、2つの方法を検討した。ひ
とつは、コンデンサの総容量を大きくする方法である。
もう一つは、ICチップ〜コンデンサ〜電源までの距離
をより短くする方法である。
In order to efficiently supply power to the multilayer printed wiring board, it is necessary to reduce the inductance. Therefore, the present inventor examined two methods. One is to increase the total capacitance of the capacitors.
The other is to shorten the distance from the IC chip to the capacitor to the power supply.

【0007】前者の方法では、多層プリント配線板の表
面に実装するコンデンサの静電容量の総容量を確保する
ために、コンデンサの実装数を増やしたり、コンデンサ
の単体の静電容量を増やしたりするということを行っ
た。しかし、それらを行うためには図9(A)に示すよ
うにコンデンサCの実装するスペースの確保が必要とな
り、コンデンサCの実装するスペースが、信号線Lを引
き出すために外部基板接続端子のエリアよりも大きくな
ってしまい、そのために、信号線Lの配線長も長くなっ
てしまうために、信号遅延などを引き起こしやすくな
り、配線長を起因とするインダクタンスの上昇も懸念さ
れる。
In the former method, in order to secure the total capacitance of the capacitors mounted on the surface of the multilayer printed wiring board, the number of capacitors mounted is increased or the capacitance of a single capacitor is increased. I did that. However, in order to do so, it is necessary to secure a space for mounting the capacitor C as shown in FIG. 9A, and the space for mounting the capacitor C is the area of the external board connecting terminal for drawing out the signal line L. Therefore, the wiring length of the signal line L also becomes long, which easily causes signal delay and the like, and there is a concern that the inductance may increase due to the wiring length.

【0008】後者の方法では、図9(B)に示すように
多層プリント配線板110の厚みを薄くするということ
で層間導通の配線長を短くしたり、図9(C)に示すよ
うに多層プリント配線板110内にコンデンサCを埋め
込んだりして、インダクタンスを低減させる。しかしな
がら、図9(C)に示すように多層プリント配線板を薄
くするために絶縁層を薄くすると、層間絶縁の確保が難
しくなることと基板自体の強度が低下してしまい、反り
などを起因とする電気接続性や信頼性の低下することが
懸念される。また、図9(C)に示すようにコンデンサ
を埋めこむと、埋めこむ技術の確立とコンデンサのリペ
アが不可能となるために、必要な静電容量の確保されな
いということが懸念される。
In the latter method, as shown in FIG. 9 (B), the thickness of the multilayer printed wiring board 110 is reduced to shorten the wiring length for interlayer conduction, or as shown in FIG. 9 (C). The capacitor C is embedded in the printed wiring board 110 to reduce the inductance. However, as shown in FIG. 9C, if the insulating layer is thinned in order to reduce the thickness of the multilayer printed wiring board, it becomes difficult to secure the interlayer insulation and the strength of the substrate itself is reduced, which causes warpage and the like. There is a concern that the electrical connectivity and reliability will deteriorate. Further, when the capacitor is embedded as shown in FIG. 9C, it is feared that the necessary capacitance cannot be secured because the technique for embedding and the repair of the capacitor become impossible.

【0009】本発明は、上述した課題を解決するために
なされたものであり、その目的とするところは、インダ
クタンス分を上昇させないで、電力の供給不足を起こさ
せない、電気接続性や信頼性に優れる多層プリント配線
板を提供することにある。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to improve the electrical connectivity and reliability without increasing the inductance and causing a power supply shortage. It is to provide an excellent multilayer printed wiring board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、請求項1の多層プリント配線板では、層間樹脂絶
縁層と導体層とが交互に積層され、外部基板接続用端子
が配設された多層プリント配線板において、基板の側面
に、電源供給用の端子もしくは電極が配設されたことを
技術的特徴とする。
To achieve the above object, in a multilayer printed wiring board according to a first aspect of the present invention, interlayer resin insulation layers and conductor layers are alternately laminated and external board connection terminals are provided. Another technical feature of the multilayer printed wiring board is that terminals or electrodes for power supply are provided on the side surface of the substrate.

【0011】上記した目的を達成するため、請求項2の
多層プリント配線板では、層間樹脂絶縁層と導体層とが
交互に積層され、外部基板接続用端子が配設された多層
プリント配線板において、基板の側面に、スルーホール
もしくはバイアホールが露出され、前記露出されたスル
ーホールもしくはバイアホールが電源供給用の端子もし
くは電極として用いられることを技術的特徴とする。
In order to achieve the above object, in the multilayer printed wiring board according to the present invention, an interlayer resin insulating layer and a conductor layer are alternately laminated, and an external substrate connecting terminal is provided. A technical feature is that a through hole or a via hole is exposed on a side surface of the substrate and the exposed through hole or via hole is used as a terminal or an electrode for power supply.

【0012】上記した目的を達成するため、請求項3の
多層プリント配線板では、層間樹脂絶縁層と導体層とが
交互に積層され、外部基板接続用端子が配設された多層
プリント配線板において、基板の側面に、導電性金属が
充填されたスルーホールもしくはバイアホールが露出さ
れ、前記露出された前記スルーホールもしくはバイアホ
ールが電源供給用の端子もしくは電極として用いられる
ことを技術的特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, in a multilayer printed wiring board according to a third aspect of the present invention, an interlayer resin insulating layer and a conductor layer are alternately laminated and an external substrate connecting terminal is provided. The technical feature is that a through hole or a via hole filled with a conductive metal is exposed on the side surface of the substrate, and the exposed through hole or via hole is used as a terminal or an electrode for power supply. .

【0013】基板側面から、電源供給要の端子もしくは
電極も引き出すことにより、ICチップ〜コンデンサ
(電源供給用端子)までの距離を短くすることができる
ので、インダクタンスが上昇することがなく、電力不足
を起因となる動作の不安定や誤動作が低減される。な
お、電源供給要の端子もしくは電極も少なくとも一面に
形成されるものであり、二面以上に形成してもよい。
Since the distance from the IC chip to the capacitor (power supply terminal) can be shortened by pulling out the terminal or electrode for power supply from the side surface of the substrate, the inductance does not increase and the power is insufficient. The instability and erroneous operation caused by are reduced. It should be noted that the terminals or electrodes that require power supply are also formed on at least one surface, and may be formed on two or more surfaces.

【0014】基板側面に形成される電源供給用の端子も
しくは電極の導体層としては、めっき、導電性ペース
ト、スパッタによって形成される。その上に、金、銀、
ニッケルなどの耐食性金属を形成してもよい。
The conductor layer of the terminal or electrode for power supply formed on the side surface of the substrate is formed by plating, conductive paste, or sputtering. On top of that, gold, silver,
A corrosion resistant metal such as nickel may be formed.

【0015】スルーホールやバイアホールを露出させた
ものでもよい。図1に示すように、スルーホール36だ
けを電源供給用の端子(電極)98として用いる。もし
くは、図3に示すように、バイアホール60だけを電源
供給用の端子(電極)98として用いる。また、図4に
示すように、スルーホール36とバイアホール60の複
合体での電源供給用の端子(電極)98として用いるな
どを行ってもよい。
The through hole or the via hole may be exposed. As shown in FIG. 1, only the through hole 36 is used as a terminal (electrode) 98 for power supply. Alternatively, as shown in FIG. 3, only the via hole 60 is used as a terminal (electrode) 98 for power supply. Further, as shown in FIG. 4, it may be used as a terminal (electrode) 98 for power supply in a composite of the through hole 36 and the via hole 60.

【0016】このとき、スルーホール内やバイアホール
内には、充填樹脂が充填されていてもよい。充填樹脂に
は、絶縁材料でも、導電性材料でもよい。絶縁材料とし
ては、熱硬化性樹脂、感光性樹脂、熱可塑性樹脂のいず
れかを用いることができる。その一例としては、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、オレフィン樹脂、ポリイミド
樹脂などを用いることができる。導電性材料としては、
めっき、導電性ペースト、半田や金属粒子が含有されて
いる絶縁性樹脂などを用いることができる。それらの単
体でもよいが、2種以上の複合樹脂層としてもよい。
At this time, a filling resin may be filled in the through hole or the via hole. The filling resin may be an insulating material or a conductive material. As the insulating material, any of thermosetting resin, photosensitive resin, and thermoplastic resin can be used. For example, an epoxy resin, a phenol resin, an olefin resin, a polyimide resin, or the like can be used. As the conductive material,
It is possible to use plating, a conductive paste, an insulating resin containing solder or metal particles, or the like. They may be used alone or as a composite resin layer of two or more kinds.

【0017】層間接続はバイアホールによって行われる
のが望ましい。それは、層間絶縁層に、レーザやフォト
エッチングによってバイアホールが形成し、該絶縁層の
表層に粗化層を設けて導体層を形成し、それを繰り返す
ことによってビルドアップ多層プリント配線板を形成さ
せているものである。セミアディティブ法、フルアディ
ティブ法のどちらでもよい。
The interlayer connection is preferably made by a via hole. That is, via holes are formed in the interlayer insulating layer by laser or photo etching, a roughening layer is provided on the surface layer of the insulating layer to form a conductor layer, and the build-up multilayer printed wiring board is formed by repeating the formation of the conductor layer. It is what Either the semi-additive method or the full-additive method may be used.

【0018】特に、コアとなる基板の両面に導体層が設
けられたものであることが望ましい。それによって、基
板側面に形成される電源供給用の端子もしくは電極の導
体層がコア基板に対して、片面もしくは両面として形成
することができるし、図5に示すようにそれぞれで別々
なものを形成することもできる。設計の自由度が増すか
らである。
Particularly, it is desirable that the conductor layers are provided on both surfaces of the substrate to be the core. As a result, the conductor layer of the terminals or electrodes for power supply formed on the side surface of the substrate can be formed on one side or both sides of the core substrate, and as shown in FIG. You can also do it. This is because the degree of freedom in design increases.

【0019】電源供給用の端子もしくは電極は、配線板
の内層に施された電源層に接続されていることが望まし
い。コア基板により、電源供給用の端子もしくは電極が
施されていることが望ましい。さらに、図2に示すよう
にコア基板30に施した電源層52に接続されているこ
とがより望ましい。
It is desirable that the terminals or electrodes for power supply are connected to the power supply layer provided on the inner layer of the wiring board. It is desirable that the core substrate be provided with terminals or electrodes for power supply. Furthermore, as shown in FIG. 2, it is more desirable that the core substrate 30 is connected to the power supply layer 52.

【0020】それによって、電源から電源供給用の端子
もしくは電極までの距離が短くすることができ、インダ
クタンスを増加させることがない。同一層での電源供給
となるので、スルーホールやバイアホールを介さないの
で電力の集中が起こらないために、大容量の電力が供給
されたとしても、問題が発生しない。そのために、動作
の不安定や誤動作が起きないのである。
As a result, the distance from the power supply to the power supply terminal or electrode can be shortened, and the inductance is not increased. Since the power is supplied in the same layer, the concentration of electric power does not occur because it does not pass through the through holes and the via holes. Therefore, even if a large amount of electric power is supplied, no problem occurs. Therefore, unstable operation and malfunction do not occur.

【0021】側面にコンデンサが実装されていることが
望ましい。それにより、ICチップからコンデンサまで
の中間での電力の供給が可能となり、電圧低下時の下げ
幅を小さくすることができるからである。
It is desirable that a capacitor be mounted on the side surface. This makes it possible to supply electric power in the middle of the IC chip to the capacitor, and to reduce the amount of reduction when the voltage drops.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係る多
層プリント配線板について図を参照して説明する。 (第1実施例)図1は第1実施例に係る多層プリント配
線板の斜視図である。第1実施例の多層プリント配線板
10は、上面にICチップ112がフィリップチップ実
装され、裏面に導電性接続ピン96が取り付けられてい
る。多層プリント配線板10は、コア基板30の両面
に、層間樹脂絶縁層と導体層が複数積層されてなるビル
ドアップ層80A、80Bが配設され、該コア基板30
に設けられたスルーホールを介して、上下のビルドアッ
プ層80A、80Bが接続されている。多層プリント配
線板の1以上の側面には、スルーホール36が露出さ
れ、該スルーホール36が電源供給用の端子(または電
極)98を構成している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A multilayer printed wiring board according to embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view of a multilayer printed wiring board according to the first embodiment. In the multilayer printed wiring board 10 of the first embodiment, the IC chip 112 is mounted on the upper surface by the flip chip, and the conductive connection pins 96 are mounted on the back surface. The multilayer printed wiring board 10 is provided with buildup layers 80A and 80B formed by laminating a plurality of interlayer resin insulation layers and conductor layers on both surfaces of the core substrate 30.
The upper and lower buildup layers 80A and 80B are connected to each other through the through holes provided in the. Through holes 36 are exposed on one or more side surfaces of the multilayer printed wiring board, and the through holes 36 form terminals (or electrodes) 98 for power supply.

【0023】図2(A)は、図1に示す多層プリント配
線板10のコア基板30の上面に形成された電源層(ベ
タ層)52を示している。該電源層52には、信号線を
上下に通過させるための通孔52aが形成されている。
電源層52は端子98に接続されている。
FIG. 2A shows a power supply layer (solid layer) 52 formed on the upper surface of the core substrate 30 of the multilayer printed wiring board 10 shown in FIG. The power supply layer 52 is formed with through holes 52a for passing signal lines up and down.
The power supply layer 52 is connected to the terminal 98.

【0024】図2(B)は、図2(A)のB−B断面を
示している。端子98から供給された電力は、電源層5
2及びビルドアップ層80Aに形成されたバイアホール
60を介して、短い距離でICチップ112へ供給され
る。
FIG. 2B shows a BB cross section of FIG. 2A. The power supplied from the terminal 98 is the power supply layer 5
2 and via the via hole 60 formed in the buildup layer 80A to the IC chip 112 at a short distance.

【0025】引き続き、第1実施例の多層プリント配線
板の製造方法について説明する。 (1) 厚さ0.8mmのガラスエポキシ樹脂、FR4,FR
5,又はBT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂からな
る基板の両面に18μmの銅箔がラミネートされている銅
張積層板を出発材料とした。まず、この銅張積層板をパ
ターン状にエッチングすることにより、基板の両面に内
層銅パターンを形成する。
Subsequently, a method of manufacturing the multilayer printed wiring board of the first embodiment will be described. (1) 0.8mm thick glass epoxy resin, FR4, FR
The starting material was a copper clad laminate in which 18 μm copper foil was laminated on both sides of a substrate made of 5, or BT (bismaleimide triazine) resin. First, the copper clad laminate is patterned to form inner layer copper patterns on both surfaces of the substrate.

【0026】(2) 内層銅パターンを形成した基板を水洗
いした後、第二銅錯体と有機酸とを含有するエッチング
液を、スプレーやバブリング等の酸素共存条件で作用さ
せて、導体回路の銅導体を溶解させボイドを形成する処
理により、内層銅パターンの表面に粗化層を設ける。
(2) After the substrate having the inner layer copper pattern formed thereon is washed with water, an etching solution containing a cupric complex and an organic acid is allowed to act under the oxygen coexisting conditions such as spraying and bubbling to make copper of the conductor circuit. A roughening layer is provided on the surface of the inner layer copper pattern by the process of melting the conductor to form voids.

【0027】それ以外にも、酸化−還元処理や無電解め
っきの合金によって粗化層を設けてもよい。形成される
粗化層は、0.1〜5μmの範囲にあるものが望まし
い。その範囲であれば、導体回路と層間樹脂絶縁層の剥
離が起きにくく、エッチングで金属層を除去しても残留
しにくいからである。
Besides, a roughening layer may be provided by an oxidation-reduction treatment or an electroless plating alloy. The roughened layer formed is preferably in the range of 0.1 to 5 μm. This is because if it is within this range, the conductor circuit and the interlayer resin insulation layer are less likely to be peeled off, and even if the metal layer is removed by etching, it does not easily remain.

【0028】(3)該基板の表面に下層層間樹脂絶縁層と
なる半硬化状態にした樹脂フィルムを、温度50〜15
0℃まで昇温しながら圧力5kgf/cm2で真空圧着ラ
ミネートして貼り付ける。もしくは、予め粘度を調整
し、塗布できる状態にした樹脂を、ロールコーター、カ
テーンコーターなどで塗布して形成してもよい。
(3) On the surface of the substrate, a semi-cured resin film to be a lower interlayer resin insulation layer is placed at a temperature of 50 to 15
While heating up to 0 ° C., it is vacuum pressure-bonded and laminated at a pressure of 5 kgf / cm 2 . Alternatively, it may be formed by applying a resin whose viscosity has been adjusted in advance to a state in which it can be applied by a roll coater, a caten coater or the like.

【0029】層間樹脂絶縁層の具体例としては、例え
ば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、
ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹
脂、ポリエーテルスルフォン、フェノキシ樹脂等が挙げ
られる。これらの樹脂は単独で用いてもよいし、2種以
上を併用してもよい。
Specific examples of the interlayer resin insulation layer include, for example, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin,
Examples thereof include polyphenylene resin, polyolefin resin, fluororesin, polyether sulfone, and phenoxy resin. These resins may be used alone or in combination of two or more.

【0030】本発明で用いる樹脂フィルムにおいて、上
記可溶性粒子は、上記難溶性樹脂中にほぼ均一に分散さ
れていることが望ましい。均一な粗さの凹凸を有する粗
化面を形成することができ、樹脂フィルムにバイアホー
ルやスルーホールを形成しても、その上に形成する導体
回路の金属層の密着性を確保することができるからであ
る。また、粗化面を形成する表層部だけに可溶性粒子を
含有する樹脂フィルムを用いてもよい。それによって、
樹脂フィルムの表層部以外は酸または酸化剤にさらされ
ることがないため、層間樹脂絶縁層を介した導体回路間
の絶縁性が確実に保たれる。
In the resin film used in the present invention, it is desirable that the soluble particles are substantially uniformly dispersed in the sparingly soluble resin. It is possible to form a roughened surface having unevenness with a uniform roughness, and even if a via hole or a through hole is formed in the resin film, it is possible to secure the adhesion of the metal layer of the conductor circuit formed thereon. Because you can. Moreover, you may use the resin film which contains a soluble particle only in the surface layer part which forms a roughened surface. Thereby,
Since the parts other than the surface layer of the resin film are not exposed to the acid or the oxidizing agent, the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulation layer is surely maintained.

【0031】上記樹脂フィルムは、上記可溶性粒子、上
記難溶性樹脂以外に、硬化剤、その他の成分等を含有し
ていることが望ましい。
It is desirable that the resin film contains a curing agent and other components in addition to the soluble particles and the poorly soluble resin.

【0032】(4)引き続き、樹脂フィルムを貼り付けた
コア基板に、ドリルにより直径350μmのスルーホー
ル用貫通孔を穿設する。ドリルの代わりにレーザで行っ
てもよい。
(4) Subsequently, a through hole for a through hole having a diameter of 350 μm is formed by drilling in the core substrate to which the resin film is attached. A laser may be used instead of the drill.

【0033】(5)そして、炭酸、エキシマ、YAG、又
はUVレーザにより樹脂フィルムに直径80μmのバイ
アホール用開口を穿設する。その後、樹脂フィルムを熱
硬化させて下層層間樹脂絶縁層を形成する。バイアホー
ルは、レーザによるエリア加工、あるいは、マスクを載
置させてレーザによるエリア加工によって形成させても
よい。又、混在レーザ(炭酸レーザとエキシマレーザと
いった組み合わせを意味する)でもよい。スルーホール
及びバイアホールを共にレーザで形成させてもよい。
(5) Then, an opening for via hole having a diameter of 80 μm is formed in the resin film by carbonic acid, excimer, YAG, or UV laser. Then, the resin film is thermoset to form a lower interlayer resin insulation layer. The via hole may be formed by laser area processing, or by mounting a mask and performing laser area processing. A mixed laser (meaning a combination of a carbon dioxide laser and an excimer laser) may be used. Both the through hole and the via hole may be formed by laser.

【0034】(6)次に、クロム酸、又は、過マンガン酸
塩(過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム)
から成る酸化剤により、コア基板及び下層層間樹脂絶縁
層に形成したスルーホール用貫通孔のデスミヤ処理を行
うと同時に、下層層間樹脂絶縁層表面の粗化処理を行
う。
(6) Next, chromic acid or permanganate (potassium permanganate, sodium permanganate)
The through-hole through-holes formed in the core substrate and the lower interlayer resin insulation layer are desmeared by the oxidizer consisting of, and at the same time, the surface of the lower interlayer resin insulation layer is roughened.

【0035】(7)表面を粗化した層間樹脂絶縁層表面
に、パラジウム触媒を付与し、無電解めっき水溶液中
で、無電解銅めっき膜を形成する。ここでは、無電解銅
めっき膜を形成しているが、スパッタを用いて、銅又は
ニッケル皮膜を形成することも可能である。又、金属層
を形成する前に、表層にドライ処理として、プラズマ、
UV、コロナ処理を行ってもよい。これにより表面を改
質する。
(7) A palladium catalyst is applied to the surface of the roughened interlayer resin insulation layer to form an electroless copper plating film in an electroless plating aqueous solution. Although the electroless copper plating film is formed here, it is also possible to form a copper or nickel film by using sputtering. In addition, before forming the metal layer, plasma, as a dry treatment on the surface layer,
UV or corona treatment may be performed. This modifies the surface.

【0036】(8)無電解銅めっき膜を形成した基板を水
洗いした後、所定パターンのめっきレジストを形成す
る。 《無電解メッキ水溶液》 EDTA:150g/l 硫酸銅:20g/l HCHO:30ml/l NaOH:40g/l 添加剤:50mg/l 《無電解メッキ条件》液温度30℃で、45分
(8) After the substrate on which the electroless copper plating film is formed is washed with water, a plating resist having a predetermined pattern is formed. << Aqueous electroless plating solution >> EDTA: 150 g / l Copper sulfate: 20 g / l HCHO: 30 ml / l NaOH: 40 g / l Additive: 50 mg / l << Electroless plating conditions >> Liquid temperature 30 ° C., 45 minutes

【0037】(9)そして、基板を電解めっき液中に浸漬
し、無電解銅めっき膜を介して電流を流し、電解銅めっ
き膜を形成する。 《電解メッキ水溶液》 硫 酸:150g/l 硫酸銅:160g/l レベリング剤(ポリオキシエチレン系化合物): 30
ml/l 光沢剤(スルホン酸アミン系化合物):0.8ml/l 《電解メッキ条件》 電流密度:1A/dm2 時間:78min 温度:23+/-2℃
(9) Then, the substrate is immersed in an electrolytic plating solution, and an electric current is passed through the electroless copper plated film to form an electrolytic copper plated film. <Electrolytic plating aqueous solution> Sulfuric acid: 150 g / l Copper sulfate: 160 g / l Leveling agent (polyoxyethylene compound): 30
ml / l Brightener (amine sulfonate compound): 0.8ml / l << Electrolytic plating conditions >> Current density: 1A / dm2 Time: 78min Temperature: 23 +/- 2 ℃

【0038】(10)めっきレジストをKOHで剥離除去
し、めっきレジスト下の無電解銅めっき膜をライトエッ
チングにより剥離することで、無電解銅めっき膜及び電
解銅めっき膜からなるバイアホール及びスルーホールを
形成する。バイアホールはフィールド状になっている。
(10) The plating resist is stripped and removed with KOH, and the electroless copper plating film under the plating resist is stripped by light etching to form a via hole and a through hole formed of the electroless copper plating film and the electrolytic copper plating film. To form. The via hole has a field shape.

【0039】(11)バイアホール及びスルーホールに、酸
化―還元処理により形成する。この酸化―還元処理の代
わりに、エッチングにより(例 第二銅錯体と有機酸塩
とを配合した液によってスプレーや浸積することでエッ
チングさせている)、又は、粗化層(Cu−Ni−Pか
らなる合金)を無電解めっきにより粗化層を形成するこ
とも可能である。
(11) The via hole and the through hole are formed by oxidation-reduction treatment. Instead of this oxidation-reduction treatment, etching (eg, etching by spraying or dipping with a solution containing a cupric complex and an organic acid salt) or a roughened layer (Cu-Ni- It is also possible to form a roughened layer by electroless plating of an alloy made of P).

【0040】(12)スルーホール内に樹脂充填剤を充填
し、乾燥炉内の温度100 ℃,20分間乾燥させる。ここ
で、樹脂充填剤としては、下記の原料組成物を用いるこ
とができる。 〔樹脂組成物〕ビスフェノールF型エポキシモノマー
(油化シェル製、分子量310 、YL983U)100重量部、表
面にシランカップリング剤がコーティングされた平均粒
径 1.6μmのSiO2 球状粒子(アドマテック製、CRS
1101−CE、ここで、最大粒子の大きさは後述する内層銅
パターンの厚み(15μm)以下とする) 170重量部、レ
ベリング剤(サンノプコ製、ペレノールS4)1.5 重量
部を攪拌混合することにより、その混合物の粘度を23±
1℃で36000〜49,000cps に調整して得た。 〔硬化剤組成物〕イミダゾール硬化剤(四国化成製、
2E4MZ-CN)6.5 重量部。
(12) A resin filler is filled in the through holes and dried in a drying oven at a temperature of 100 ° C. for 20 minutes. Here, the following raw material composition can be used as the resin filler. [Resin composition] 100 parts by weight of bisphenol F-type epoxy monomer (Made by Yuka Shell, molecular weight 310, YL983U), SiO2 spherical particles with an average particle size of 1.6 μm coated with a silane coupling agent on the surface (Admatech, CRS
1101-CE, where the maximum particle size is not more than the thickness (15 μm) of the inner layer copper pattern described below) 170 parts by weight, and 1.5 parts by weight of a leveling agent (Panenol S4 manufactured by San Nopco) are mixed by stirring to obtain The viscosity of the mixture is 23 ±
It was obtained by adjusting to 360,000 to 49,000 cps at 1 ° C. [Curing agent composition] Imidazole curing agent (manufactured by Shikoku Kasei,
2E4MZ-CN) 6.5 parts by weight.

【0041】また、電源として用いられるスルーホール
には、樹脂充填剤の代わりに、導電性樹脂を充填させ
た。金、銀、銅などの導電性金属が含有された樹脂ペー
ストの粘度を調整したものを用いた。充填には樹脂充填
剤と同じように印刷にて行った。
Further, the through hole used as the power source was filled with a conductive resin instead of the resin filler. A resin paste containing a conductive metal such as gold, silver, or copper, the viscosity of which was adjusted, was used. The filling was performed by printing in the same manner as the resin filler.

【0042】(13)前記(12) の処理を終えた基板の片面
を、スルーホール36の開口からはみ出した樹脂充填剤
の表面を平滑化するように研磨し、次いで、研磨による
傷を取り除くためのバフ研磨やベルトサンダーによる研
磨を行う。このような一連の研磨を基板の他方の面につ
いても同様に行う。研磨の際、半硬化状態にして行って
いるが、完全に硬化した後行ってもよい。次いで、100
℃で1時間、 150℃で1時間の加熱処理を行って樹脂充
填剤と導電性ペーストを完全に硬化した。
(13) One side of the substrate that has been subjected to the treatment of (12) is polished so as to smooth the surface of the resin filler protruding from the opening of the through hole 36, and then to remove scratches due to polishing. Buffing and polishing with a belt sander. Such a series of polishing is similarly performed on the other surface of the substrate. The polishing is carried out in a semi-cured state, but it may be carried out after it is completely cured. Then 100
The resin filler and the conductive paste were completely cured by heat treatment at 1 ° C. for 1 hour and at 150 ° C. for 1 hour.

【0043】樹脂充填材を構成する樹脂は、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、トリアジン樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などを
意味して、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂あるいは、それ
ぞれの複合体でもよく、樹脂内にシリカ、アルミナなど
の無機フィラーなどを含有させて熱膨張率などを整えた
ものでもよい。また、導電性樹脂、金、銀、銅などの導
電性のある金属フィラーを主とするペーストを用いても
よい。更に、上記のもので各々の複合体でもよい。
The resin constituting the resin filler means an epoxy resin, a phenol resin, a fluororesin, a triazine resin, a polyolefin resin, a polyphenylene ether resin, etc., and is a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or a composite thereof. Alternatively, an inorganic filler such as silica or alumina may be contained in the resin to adjust the coefficient of thermal expansion. Alternatively, a paste mainly containing a conductive resin, a conductive metal filler such as gold, silver, or copper may be used. Further, each of the above-mentioned composite materials may be used.

【0044】(14) 層間樹脂絶縁層表面に、パラジウム
触媒を付与し、無電解めっき水溶液中で、無電解銅めっ
き膜を形成する。ここでは、無電解銅めっき膜を形成し
ているが、あるいは、スパッタを用いて、銅又はニッケ
ル皮膜を形成することも可能である。
(14) A palladium catalyst is applied to the surface of the interlayer resin insulation layer to form an electroless copper plating film in an electroless plating aqueous solution. Although the electroless copper plating film is formed here, it is also possible to form the copper or nickel film by using sputtering.

【0045】(15)所定パターンのめっきレジストを形成
した後、電解銅めっき膜を形成してから、めっきレジス
トを剥離除去し、めっきレジスト下の無電解銅めっき膜
をエッチングにより除去することで、無電解銅めっき膜
及び電解銅めっき膜からなる蓋めっきを、スルーホール
の開口部に形成する。このときに、電源層を形成し、そ
の電源層と接続し得る端子もしくは電極部分を形成させ
る。
(15) After forming a plating resist of a predetermined pattern, forming an electrolytic copper plating film, peeling and removing the plating resist, and removing the electroless copper plating film under the plating resist by etching, Lid plating composed of an electroless copper plating film and an electrolytic copper plating film is formed at the opening of the through hole. At this time, a power supply layer is formed and a terminal or an electrode portion that can be connected to the power supply layer is formed.

【0046】(16) 導体回路、バイアホール及びスルー
ホールの開口の蓋めっきに、エッチング(第二銅錯体と
有機酸とを含有するエッチング液)する。このエッチン
グの代わりに、粗化層(Cu−Ni−P)を無電解めっ
きにより形成、又は、酸化―還元処理により粗化層を形
成できる。
(16) Etching (an etching solution containing a cupric complex and an organic acid) is applied to the lid plating of the openings of the conductor circuit, the via holes and the through holes. Instead of this etching, a roughened layer (Cu-Ni-P) can be formed by electroless plating, or a roughened layer can be formed by an oxidation-reduction treatment.

【0047】(17)上述した工程(3)〜(11)の工程を繰
り返すことで、上層層間樹脂絶縁層を形成し、該上層層
間樹脂絶縁層上に無電解銅めっき膜及び電解銅めっき膜
からなるフィールド状のバイアホールを形成する。よっ
て、この場合は、工程を3回繰り返して、スルーホール
上には、3段からなるスタック上に、バイアホールが形
成されている。さらに、最上層の導体層であるスタック
バイアホールのランド径は、150μmであったが、そ
の下層のバイアホールのランド径は、250μmであ
り、最上層スタックバイアホールとその導体回路との間
隙を埋めるように形成させていた。
(17) By repeating the above steps (3) to (11), an upper interlayer resin insulation layer is formed, and an electroless copper plating film and an electrolytic copper plating film are formed on the upper interlayer resin insulation layer. To form a field-shaped via hole. Therefore, in this case, the process is repeated three times to form the via hole on the through hole on the stack of three stages. Further, the land diameter of the stacked via hole, which is the uppermost conductor layer, was 150 μm, but the land diameter of the lower via hole was 250 μm, and the gap between the uppermost stacked via hole and its conductor circuit was It was formed to fill up.

【0048】(18)引き続き、ソルダーレジスト及び半田
バンプを形成する。ソルダーレジストの原料組成物は以
下からなる。DMDGに溶解させた60重量%のクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製)のエポキシ
基50%をアクリル化した感光性付与のオリゴマー(分子
量4000)を 46.67g、メチルエチルケトンに溶解させた
80重量%のビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェ
ル製、エピコート1001)15.0g、イミダゾール硬化剤
(四国化成製、2E4MZ-CN)1.6 g、感光性モノマーであ
る多価アクリルモノマー(日本化薬製、R604 )3g、
同じく多価アクリルモノマー(共栄社化学製、DPE6A )
1.5g、分散系消泡剤(サンノプコ社製、S−65)0.71
gを混合し、さらにこの混合物に対して光開始剤として
のベンゾフェノン(関東化学製)を2g、光増感剤とし
てのミヒラーケトン(関東化学製)を 0.2g加えて、粘
度を25℃で2.0Pa・sに調整したソルダーレジスト組成
物を得る。ソルダーレジスト層としては、種々の樹脂を
使用でき、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂のアクリレート、ノボ
ラック型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂のア
クリレートをアミン系硬化剤やイミダゾール硬化剤など
で硬化させた樹脂を使用できる。特に、ソルダーレジス
ト層に開口を設けて半田バンプを形成する場合には、
「ノボラック型エポキシ樹脂もしくはノボラック型エポ
キシ樹脂のアクリレート」からなり「イミダゾール硬化
剤」を硬化剤として含むものが好ましい。上記(17)で得
られた多層プリント配線板の両面に、上記ソルダーレジ
スト組成物を30μmの厚さで塗布する。また、市販さ
れているソルダーレジスト層を用いることもできる。
(18) Subsequently, a solder resist and a solder bump are formed. The raw material composition of the solder resist consists of the following. 46.67 g of a photosensitizing oligomer (molecular weight 4000) obtained by acrylating 50% of epoxy groups of 60 wt% cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku) dissolved in DMDG was dissolved in methyl ethyl ketone.
80% by weight of bisphenol A type epoxy resin (Yukaka Shell, Epicoat 1001) 15.0 g, imidazole curing agent (Shikoku Kasei, 2E4MZ-CN) 1.6 g, polyvalent acrylic monomer as a photosensitive monomer (Nippon Kayaku) , R604) 3g,
Similarly polyvalent acrylic monomer (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., DPE6A)
1.5 g, dispersion type antifoaming agent (S-65, manufactured by San Nopco) 0.71
2 g of benzophenone (manufactured by Kanto Kagaku) as a photoinitiator and 0.2 g of Michler's ketone (manufactured by Kanto Kagaku) as a photosensitizer were added to the mixture, and the viscosity was 2.0 Pa at 25 ° C. -A solder resist composition adjusted to s is obtained. Various resins can be used for the solder resist layer, for example, bisphenol A type epoxy resin,
A bisphenol A type epoxy resin acrylate, a novolac type epoxy resin, or a resin obtained by curing an acrylate of a novolac type epoxy resin with an amine curing agent or an imidazole curing agent can be used. Especially when forming solder bumps by forming openings in the solder resist layer,
It is preferable to use a "novolac type epoxy resin or an acrylate of a novolac type epoxy resin" and include an "imidazole curing agent" as a curing agent. The solder resist composition having a thickness of 30 μm is applied to both surfaces of the multilayer printed wiring board obtained in (17) above. Also, a commercially available solder resist layer can be used.

【0049】(19)次いで、80℃で20分間、100℃で
30分間の乾燥処理を行った後、円パターン(マスクパタ
ーン)が描画された厚さ5mmのフォトマスクフィルムを
密着させて載置し、1000mJ/cm2の紫外線で露光し、DMT
G現像処理する。そしてさらに、80℃で1時間、 100℃
で1時間、 120℃で1時間、 150℃で3時間の条件で加
熱処理し、開口部を有する(開口径 200μm)ソルダー
レジスト層70(厚み20μm)を形成する。
(19) Then, at 80 ° C. for 20 minutes at 100 ° C.
After drying for 30 minutes, a 5mm-thick photomask film with a circular pattern (mask pattern) was placed in close contact with it, exposed to 1000mJ / cm 2 of ultraviolet light, and DMT was applied.
G Develop. And then at 80 ℃ for 1 hour, 100 ℃
1 hour, 120 ° C. for 1 hour, and 150 ° C. for 3 hours to form a solder resist layer 70 (thickness 20 μm) having openings (opening diameter 200 μm).

【0050】(20)その後、シート状のプリント配線板を
個片に裁断した。裁断には、ルーターやダイシングなど
を用いることができる。そのとき、側面の端子もしくは
電極部分となるスルーホールを二等分するように裁断し
た。それにより、多層プリント配線板の側面部分に露出
した端子もしくは電極が形成された。
(20) After that, the sheet-shaped printed wiring board was cut into individual pieces. A router or dicing can be used for the cutting. At that time, a through hole to be a terminal or an electrode portion on the side surface was cut into two equal parts. As a result, exposed terminals or electrodes were formed on the side surfaces of the multilayer printed wiring board.

【0051】(21)を塩化ニッケル2.3 ×10-1mol/
l、次亜リン酸ナトリウム2.8 ×10-1mol/l、クエ
ン酸ナトリウム1.6 ×10-1mol/l、からなるpH=
4.5の無電解ニッケルめっき液に、20分間浸漬し
て、開口部に厚さ5μmのニッケルめっき層72を形成
する。さらにシアン化金カリウム7.6 ×10-3mol/
l、塩化アンモニウム1.9 ×10-1mol/l、クエン酸
ナトリウム1.2 ×10-1mol/l、次亜リン酸ナトリウ
ム1.7 ×10-1mol/lからなる無電解金めっき液に80
℃の条件で7.5分間浸漬して、厚さ5μmのニッケル
めっき層上に厚さ0.03μmの金めっき層を形成する。
(21) was added to nickel chloride 2.3 × 10 -1 mol /
pH consisting of 1, sodium hypophosphite 2.8 × 10 −1 mol / l, sodium citrate 1.6 × 10 −1 mol / l =
It is dipped in an electroless nickel plating solution of 4.5 for 20 minutes to form a nickel plating layer 72 having a thickness of 5 μm in the opening. Further, potassium gold cyanide 7.6 × 10 -3 mol /
80% in an electroless gold plating solution consisting of 1, ammonium chloride 1.9 × 10 −1 mol / l, sodium citrate 1.2 × 10 −1 mol / l, sodium hypophosphite 1.7 × 10 −1 mol / l
It is immersed for 7.5 minutes under the condition of ° C to form a gold plating layer of 0.03 µm thickness on the nickel plating layer of 5 µm thickness.

【0052】上述の例は中間層としてニッケル、貴金属
層を金で形成したものであるが、ニッケル以外に、パラ
ジウム、チタンなどで形成する場合などがあり、金以外
に銀、白金などがある。また、貴金属層を2層以上で形
成してもよい。表面処理としてドライ処理、プラズマ、
UV、コロナ処理を行ってもよい。それにより、アンダ
ーフィルの充填性が向上させることができる。
In the above-mentioned example, the intermediate layer is formed of nickel and the noble metal layer is made of gold. However, in addition to nickel, it may be formed of palladium, titanium, or the like. In addition to gold, silver, platinum, or the like may be used. Further, the noble metal layer may be formed of two or more layers. Surface treatment is dry treatment, plasma,
UV or corona treatment may be performed. Thereby, the filling property of the underfill can be improved.

【0053】(22)そして、ソルダーレジスト層の開口部
に、半田ペーストを印刷して 230℃でリフローする
ことにより、上面のバイアホールに半田バンプ(半田
体)を形成し、また、下面側のバイアホールに半田を介
して外部基板接続端子である導電性接続ピン96を取り
付ける。なお、導電性接続ピンの代わりにBGAを形成
することも可能である。
(22) Then, solder paste is printed in the openings of the solder resist layer and reflowed at 230 ° C. to form solder bumps (solder bodies) in the via holes on the upper surface, and on the lower surface side. Conductive connection pins 96, which are external board connection terminals, are attached to the via holes via solder. It is also possible to form a BGA instead of the conductive connection pin.

【0054】(第2実施例)実施例1の多層プリント配
線板とほぼ同じである。図3に示すように多層プリント
配線板の側面の端子(電極)98をバイアホール60の
直上にバイアホール60を形成するスタックビアで構成
した。
(Second Embodiment) This is almost the same as the multilayer printed wiring board of the first embodiment. As shown in FIG. 3, the terminal (electrode) 98 on the side surface of the multilayer printed wiring board was formed by a stacked via that forms the via hole 60 directly above the via hole 60.

【0055】(第3実施例)実施例1の多層プリント配
線板とほぼ同じである。図4に示すように多層プリント
配線板の側面の端子(電極)98をスルーホール36直
上にもバイアホール60を形成するスタックビアで構成
した。
(Third Embodiment) This is almost the same as the multilayer printed wiring board of the first embodiment. As shown in FIG. 4, the terminal (electrode) 98 on the side surface of the multilayer printed wiring board was formed by a stack via that also forms the via hole 60 immediately above the through hole 36.

【0056】(第4実施例)実施例1の多層プリント配
線板とほぼ同じである。図5に示すように多層プリント
配線板の側面の端子(電極)をスルーホール36直上に
もバイアホール60を形成するスタックビアで形成させ
たものを、各列千鳥状になった端子(電極)で構成し
た。
(Fourth Embodiment) This is almost the same as the multilayer printed wiring board of the first embodiment. As shown in FIG. 5, the terminals (electrodes) on the side surface of the multilayer printed wiring board are formed by stack vias forming the via holes 60 immediately above the through holes 36, and the terminals (electrodes) are staggered in each row. Composed of.

【0057】(第5実施例)実施例1の多層プリント配
線板とほぼ同じである。側面の端子(電極)にコンデン
サCを実装した。
(Fifth Embodiment) This is almost the same as the multilayer printed wiring board of the first embodiment. The capacitor C was mounted on the terminal (electrode) on the side surface.

【0058】(第6実施例)実施例2と多層プリント配
線板とほぼ同じである。側面の端子(電極)にコンデン
サCを実装した。
(Sixth Embodiment) The second embodiment is almost the same as the multilayer printed wiring board. The capacitor C was mounted on the terminal (electrode) on the side surface.

【0059】(第7実施例)図8に示すように、多層プ
リント配線板の側面に端子(電極)98を形成した。該
電極98は、凹部に形成した金属膜92に導電性ペース
ト98を配置することにより構成した。
(Seventh Embodiment) As shown in FIG. 8, terminals (electrodes) 98 were formed on the side surfaces of a multilayer printed wiring board. The electrode 98 was formed by disposing a conductive paste 98 on the metal film 92 formed in the recess.

【0060】(比較例)実施例1とほぼ同じであるが基
板の裏面から、電源用の端子もしくは電極を基板の下面
の外部端子から行う多層プリント配線板を製造した。実
施例1〜6の多層プリント配線板は、比較例の多層プリ
ント配線板に比べて、インダクタンスの上昇はなかった
し、電圧降下する幅も小さくなった。また、ICチップ
の動作も不安定や誤動作などが確認されなかった。実施
例では、電気的な接続性を向上させた多層プリント配線
板を得ることが出来ることが分かった。
(Comparative Example) A multilayer printed wiring board is manufactured which is almost the same as in Example 1 except that terminals for power supply or electrodes are formed from external terminals on the lower surface of the board from the back surface of the board. In the multilayer printed wiring boards of Examples 1 to 6, the inductance did not increase and the voltage drop width was smaller than that of the multilayer printed wiring boards of the comparative examples. Further, the operation of the IC chip was not confirmed to be unstable or malfunction. In the example, it was found that a multilayer printed wiring board with improved electrical connectivity can be obtained.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、基板側
面から、電源供給要の端子もしくは電極も引き出すこと
のより、ICチップ〜コンデンサ(電源供給用端子)ま
での距離を短くすることができるので、インダクタンス
が上昇することがなく、電力不足を起因とする動作の不
安定や誤動作が低減される。
As described above, according to the present invention, the distance from the IC chip to the capacitor (power supply terminal) can be shortened by drawing out the terminal or electrode for power supply from the side surface of the substrate. Therefore, the inductance does not increase, and the instability or malfunction of the operation due to the power shortage is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2(A)は、図1に示す多層プリント配線板
のコア基板の上面に形成された電源層(ベタ層)52を
示し、 図2(B)は、図2(A)のB−B断面を示し
ている。
2 (A) shows a power supply layer (solid layer) 52 formed on the upper surface of the core substrate of the multilayer printed wiring board shown in FIG. 1, and FIG. 2 (B) shows FIG. 2 (A). 7B shows a cross section taken along line BB of FIG.

【図3】本発明の第2実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第5実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第6実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第7実施例に係る多層プリント配線板
の外観を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing an appearance of a multilayer printed wiring board according to a seventh embodiment of the present invention.

【図9】(A)、(B)、(C)は、従来技術の多層プ
リント配線板の構成を示す説明図である。
9 (A), (B), and (C) are explanatory views showing a configuration of a conventional multilayer printed wiring board.

【図10】ICチップへの供給電圧の経時変化を示すグ
ラフである。
FIG. 10 is a graph showing changes over time in the voltage supplied to the IC chip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 多層プリント配線板 30 コア基板 52 電源層 80A、80B ビルドアップ層 96 導電性接続ピン 98 電源供給用端子(電極) 112 ICチップ C チップコンデンサ 10 Multilayer printed wiring board 30 core substrate 52 power layer 80A, 80B build-up layer 96 conductive connection pin 98 Power supply terminal (electrode) 112 IC chip C chip capacitor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E317 AA22 AA24 BB02 BB03 BB12 BB13 BB14 BB15 CC25 CC32 CC33 CD12 CD27 CD32 GG11 5E338 AA03 BB02 EE14 5E346 AA42 BB06 CC04 CC08 CC09 CC10 CC13 CC14 CC32 DD12 FF03 FF15 FF18 FF45 HH02 HH06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 5E317 AA22 AA24 BB02 BB03 BB12                       BB13 BB14 BB15 CC25 CC32                       CC33 CD12 CD27 CD32 GG11                 5E338 AA03 BB02 EE14                 5E346 AA42 BB06 CC04 CC08 CC09                       CC10 CC13 CC14 CC32 DD12                       FF03 FF15 FF18 FF45 HH02                       HH06

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 層間樹脂絶縁層と導体層とが交互に積層
され、外部基板接続用端子が配設された多層プリント配
線板において、 基板の側面に、電源供給用の端子もしくは電極が配設さ
れたことを特徴とする多層プリント配線板。
1. In a multilayer printed wiring board in which interlayer resin insulation layers and conductor layers are alternately laminated and external board connection terminals are provided, terminals or electrodes for power supply are provided on the side surface of the board. A multilayer printed wiring board characterized by being made.
【請求項2】 層間樹脂絶縁層と導体層とが交互に積層
され、外部基板接続用端子が配設された多層プリント配
線板において、 基板の側面に、スルーホールもしくはバイアホールが露
出され、前記露出されたスルーホールもしくはバイアホ
ールが電源供給用の端子もしく は電極として用いられることを特徴とする多層プリント
配線板。
2. In a multilayer printed wiring board in which interlayer resin insulation layers and conductor layers are alternately laminated and external board connecting terminals are arranged, a through hole or a via hole is exposed at a side surface of the board, and A multilayer printed wiring board, wherein the exposed through hole or via hole is used as a terminal or an electrode for power supply.
【請求項3】 層間樹脂絶縁層と導体層とが交互に積層
され、外部基板接続用端子が配設された多層プリント配
線板において、 基板の側面に、導電性金属が充填されたスルーホールも
しくはバイアホールが露出され、 前記露出された前記スルーホールもしくはバイアホール
が電源供給用の端子もしくは電極として用いられること
を特徴とする多層プリント配線板。
3. A multilayer printed wiring board in which interlayer resin insulation layers and conductor layers are alternately laminated and external board connection terminals are arranged, wherein a through hole or a side surface of the board is filled with a conductive metal. A multilayer printed wiring board, wherein a via hole is exposed, and the exposed through hole or via hole is used as a terminal or an electrode for power supply.
【請求項4】 層間接続はバイアホールによって行われ
る請求項1〜3のいずれか1に記載の多層プリント配線
板。
4. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein interlayer connection is performed by via holes.
【請求項5】 前記電源供給用の端子もしくは電極は、
配線板の内層に施された電源層に接続されている請求項
1〜3のいずれか1に記載の多層プリント配線板。
5. The terminal or electrode for power supply is
The multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, which is connected to a power supply layer provided on an inner layer of the wiring board.
【請求項6】 前記層間樹脂絶縁層と導体層とがコア基
板に積層され、当該コア基板に、電源供給用の端子もし
くは電極が配設されている請求項1〜3のいずれか1に
記載の多層プリント配線板。
6. The interlayer resin insulation layer and the conductor layer are laminated on a core substrate, and terminals or electrodes for power supply are arranged on the core substrate. Multilayer printed wiring board.
【請求項7】 前記側面にコンデンサが実装されている
請求項1〜3のいずれか1に記載の多層プリント配線
板。
7. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein a capacitor is mounted on the side surface.
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