JP2003007244A - 荷電粒子線装置における像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析装置における像の表示方法及び分析装置 - Google Patents
荷電粒子線装置における像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析装置における像の表示方法及び分析装置Info
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- JP2003007244A JP2003007244A JP2001190797A JP2001190797A JP2003007244A JP 2003007244 A JP2003007244 A JP 2003007244A JP 2001190797 A JP2001190797 A JP 2001190797A JP 2001190797 A JP2001190797 A JP 2001190797A JP 2003007244 A JP2003007244 A JP 2003007244A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 同一視野の複数の異種画像を同時にディスプ
レイ上に表示させ、像の比較観察を容易にした荷電粒子
線装置又は分析装置及びそれらの装置における像の表示
方法を実現する。 【解決手段】 ディスプレイ２１上には基準画像Ｓが表
示されるが、この基準画像Ｓと共に複数の部分像Ｚ１〜
Ｚ６が同時に表示される。この各部分像Ｚ１〜Ｚ６の表
示領域は、基準画像Ｓの中の囲み線２２で囲まれた領域
に対応している。すなわち、囲み線２２の大きさを変化
させれば、それに応じて各部分像の表示領域も変化す
る。このように、基準画像Ｓ中の囲み線をマウス１９や
キーボード２０を用いて任意に移動させ、あるいはその
範囲を任意に変化させることにより、試料の特徴領域に
ついて部分像により状態を比較観察することが可能とな
る。
レイ上に表示させ、像の比較観察を容易にした荷電粒子
線装置又は分析装置及びそれらの装置における像の表示
方法を実現する。 【解決手段】 ディスプレイ２１上には基準画像Ｓが表
示されるが、この基準画像Ｓと共に複数の部分像Ｚ１〜
Ｚ６が同時に表示される。この各部分像Ｚ１〜Ｚ６の表
示領域は、基準画像Ｓの中の囲み線２２で囲まれた領域
に対応している。すなわち、囲み線２２の大きさを変化
させれば、それに応じて各部分像の表示領域も変化す
る。このように、基準画像Ｓ中の囲み線をマウス１９や
キーボード２０を用いて任意に移動させ、あるいはその
範囲を任意に変化させることにより、試料の特徴領域に
ついて部分像により状態を比較観察することが可能とな
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子線装置に
おける像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析
装置における像の表示方法及び分析装置に関する。
おける像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析
装置における像の表示方法及び分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば走査電子顕微鏡では、試料上に電
子ビームを細く集束すると共に、試料上の所定範囲を電
子ビームで走査するようにしている。試料に電子ビーム
を照射することによって２次電子が発生するが、この２
次電子を検出し、この検出信号を１次電子ビームの走査
と同期した陰極線管に供給し、試料の走査像を表示する
ようにしている。
子ビームを細く集束すると共に、試料上の所定範囲を電
子ビームで走査するようにしている。試料に電子ビーム
を照射することによって２次電子が発生するが、この２
次電子を検出し、この検出信号を１次電子ビームの走査
と同期した陰極線管に供給し、試料の走査像を表示する
ようにしている。
【０００３】このような走査電子顕微鏡では、エネルギ
ー分散型のＸ線分析装置を取り付け、Ｘ線分析を行うこ
とができる。その場合、試料への電子ビームの照射に基
づいて試料から発生した特性Ｘ線は、Ｘ線検出器によっ
て検出される。
ー分散型のＸ線分析装置を取り付け、Ｘ線分析を行うこ
とができる。その場合、試料への電子ビームの照射に基
づいて試料から発生した特性Ｘ線は、Ｘ線検出器によっ
て検出される。
【０００４】Ｘ線検出器によって検出されたパルス状の
検出信号は、波高分析器に供給され、その波高（エネル
ギー）に応じて各フレームメモリに試料の電子ビーム照
射位置に対応して記憶される。このようなＸ線検出信号
の記憶を試料の所定領域に渡って行うことにより、各フ
レームメモリにはそれぞれ特定元素のマッピング像が記
憶されることになる。
検出信号は、波高分析器に供給され、その波高（エネル
ギー）に応じて各フレームメモリに試料の電子ビーム照
射位置に対応して記憶される。このようなＸ線検出信号
の記憶を試料の所定領域に渡って行うことにより、各フ
レームメモリにはそれぞれ特定元素のマッピング像が記
憶されることになる。
【０００５】各マッピング像のデータは、フレームメモ
リから読み出されてディスプレイに供給され、ディスプ
レイ上には試料の所定領域における特定元素のマッピン
グ像が表示されることになる。
リから読み出されてディスプレイに供給され、ディスプ
レイ上には試料の所定領域における特定元素のマッピン
グ像が表示されることになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、試料
の所定領域を荷電粒子線で走査又は照射することによ
り、同一観察領域について、試料の形態、内部構造、結
晶構造、構成元素等の情報を有する複数種類の試料像が
得られることになる。このようにして得られた同一観察
領域の複数種類の画像を同時にディスプレイ上に表示
し、比較して観察することができることは好ましい。ま
た、これら複数像の表示領域を任意に選択できることは
装置の操作上望ましい。
の所定領域を荷電粒子線で走査又は照射することによ
り、同一観察領域について、試料の形態、内部構造、結
晶構造、構成元素等の情報を有する複数種類の試料像が
得られることになる。このようにして得られた同一観察
領域の複数種類の画像を同時にディスプレイ上に表示
し、比較して観察することができることは好ましい。ま
た、これら複数像の表示領域を任意に選択できることは
装置の操作上望ましい。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
ものであって、その目的は同一観察領域に属する、複数
の異種画像を同時にディスプレイ上に表示し、像の比較
観察を容易にした荷電粒子線装置又は分析装置及びそれ
らの装置における像の表示方法を実現することにある。
ものであって、その目的は同一観察領域に属する、複数
の異種画像を同時にディスプレイ上に表示し、像の比較
観察を容易にした荷電粒子線装置又は分析装置及びそれ
らの装置における像の表示方法を実現することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく荷電粒子
線装置における像の表示方法は、試料の所定領域を荷電
粒子線で走査又は照射することによって得られる同一領
域についての複数種類の試料像を記憶し、該複数種類の
試料像のうちの一つを基準画像として表示し、領域指定
手段により基準画像中の特定領域が指定された時、前記
基準画像中の指定された特定領域に対応する前記複数種
類の試料像中の領域の画像を部分画像としてそれぞれ読
み出して部分領域表示画面に並べて表示することによ
り、基準画像中の特定領域の移動又は大きさの変更に伴
って前記複数の部分画像の表示領域が変更されるように
したことを特徴としている。
線装置における像の表示方法は、試料の所定領域を荷電
粒子線で走査又は照射することによって得られる同一領
域についての複数種類の試料像を記憶し、該複数種類の
試料像のうちの一つを基準画像として表示し、領域指定
手段により基準画像中の特定領域が指定された時、前記
基準画像中の指定された特定領域に対応する前記複数種
類の試料像中の領域の画像を部分画像としてそれぞれ読
み出して部分領域表示画面に並べて表示することによ
り、基準画像中の特定領域の移動又は大きさの変更に伴
って前記複数の部分画像の表示領域が変更されるように
したことを特徴としている。
【０００９】本発明に基づく荷電粒子線装置は、試料の
所定領域を荷電粒子線で走査又は照射することによって
同一領域について複数種類の試料像を取得し記憶する手
段と、その複数種類の試料像中の一つの試料像を基準画
像としてディスプレイ上に表示する手段と、基準画像中
の特定領域を指定する領域指定手段と、基準画像の特定
領域の位置と大きさを任意に変更するための手段と、基
準画像中で指定された特定領域に対応する前記複数種類
の試料像中の部分領域の像をそれぞれ読み出して部分像
表示画面に並べて表示する手段とを備え、基準画像中の
特定領域を移動又は大きさを変更することにより、前記
部分像表示領域に表示される複数種類の部分像の表示領
域を変化させるようにしたことを特徴としている。
所定領域を荷電粒子線で走査又は照射することによって
同一領域について複数種類の試料像を取得し記憶する手
段と、その複数種類の試料像中の一つの試料像を基準画
像としてディスプレイ上に表示する手段と、基準画像中
の特定領域を指定する領域指定手段と、基準画像の特定
領域の位置と大きさを任意に変更するための手段と、基
準画像中で指定された特定領域に対応する前記複数種類
の試料像中の部分領域の像をそれぞれ読み出して部分像
表示画面に並べて表示する手段とを備え、基準画像中の
特定領域を移動又は大きさを変更することにより、前記
部分像表示領域に表示される複数種類の部分像の表示領
域を変化させるようにしたことを特徴としている。
【００１０】本発明に基づく分析装置における像の表示
方法は、試料上で電子ビームを走査し、走査に伴って得
られた２次電子や反射電子を検出する検出器を有すると
共に、試料からのＸ線を検出し、そのエネルギーに応じ
て分析を行うエネルギー分散型Ｘ線分析装置を備えた分
析装置において、試料の所定領域を走査することによっ
て試料の形態を示す第１の像データと、エネルギー分散
型Ｘ線分析装置から得られた複数のマッピング像データ
とを記憶し、ディスプレイ上に第１の像データに基づく
第１の像と、第１の像中の特定領域に対応する複数の第
２のマッピング像を表示し、第１の像中の特定領域を移
動させることにより、複数の第２のマッピング像の表示
領域を変化させるようにしたことを特徴としている。
方法は、試料上で電子ビームを走査し、走査に伴って得
られた２次電子や反射電子を検出する検出器を有すると
共に、試料からのＸ線を検出し、そのエネルギーに応じ
て分析を行うエネルギー分散型Ｘ線分析装置を備えた分
析装置において、試料の所定領域を走査することによっ
て試料の形態を示す第１の像データと、エネルギー分散
型Ｘ線分析装置から得られた複数のマッピング像データ
とを記憶し、ディスプレイ上に第１の像データに基づく
第１の像と、第１の像中の特定領域に対応する複数の第
２のマッピング像を表示し、第１の像中の特定領域を移
動させることにより、複数の第２のマッピング像の表示
領域を変化させるようにしたことを特徴としている。
【００１１】この発明では、試料の特定領域に対応する
複数のマッピング像を同時に表示できるため各像の比較
観察が容易になると共に、試料の特定領域の位置と大き
さを任意に選択することができる。
複数のマッピング像を同時に表示できるため各像の比較
観察が容易になると共に、試料の特定領域の位置と大き
さを任意に選択することができる。
【００１２】本発明に基づく分析装置は試料上で電子ビ
ームを走査し、走査に伴って得られた２次電子や反射電
子を検出する検出器を有すると共に、試料からのＸ線を
検出し、そのエネルギーに応じて分析を行うエネルギー
分散型Ｘ線分析装置を備えた分析装置において、試料の
所定領域を走査することによって試料の形態を示す第１
の像データを取得する手段と、エネルギー分散型Ｘ線分
析装置から得られた複数のマッピング像データとを記憶
する手段と、ディスプレイ上に第１の像データに基づく
第１の像を表示し、第１の像中に特定領域を識別して表
示するための手段と、第１の特定領域の位置と大きさを
任意に変化させるための手段とを備えており、ディスプ
レイ上に第１の像中の特定領域に対応する複数の第２の
マッピング像を表示し、第１の像中の特定領域を移動さ
せることにより、複数の第２のマッピング像の表示領域
を変化させるようにしたことを特徴としている。
ームを走査し、走査に伴って得られた２次電子や反射電
子を検出する検出器を有すると共に、試料からのＸ線を
検出し、そのエネルギーに応じて分析を行うエネルギー
分散型Ｘ線分析装置を備えた分析装置において、試料の
所定領域を走査することによって試料の形態を示す第１
の像データを取得する手段と、エネルギー分散型Ｘ線分
析装置から得られた複数のマッピング像データとを記憶
する手段と、ディスプレイ上に第１の像データに基づく
第１の像を表示し、第１の像中に特定領域を識別して表
示するための手段と、第１の特定領域の位置と大きさを
任意に変化させるための手段とを備えており、ディスプ
レイ上に第１の像中の特定領域に対応する複数の第２の
マッピング像を表示し、第１の像中の特定領域を移動さ
せることにより、複数の第２のマッピング像の表示領域
を変化させるようにしたことを特徴としている。
【００１３】この発明では、試料の特定領域に対応する
複数のマッピング像を同時に表示できるため各像の比較
観察が容易になると共に、試料の特定領域の位置と大き
さを任意に選択することができる。
複数のマッピング像を同時に表示できるため各像の比較
観察が容易になると共に、試料の特定領域の位置と大き
さを任意に選択することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明に基づくエ
ネルギー分散型Ｘ線分析装置を備えた走査電子顕微鏡の
一例を示したもので、１は電子銃である。電子銃１から
発生し加速された電子ビームＥＢは、コンデンサレンズ
２，対物レンズ３によって試料４上に細く集束される。
電子ビームＥＢは更に偏向器５によって偏向され、試料
４上で電子ビームＥＢは２次元的に走査される。
施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明に基づくエ
ネルギー分散型Ｘ線分析装置を備えた走査電子顕微鏡の
一例を示したもので、１は電子銃である。電子銃１から
発生し加速された電子ビームＥＢは、コンデンサレンズ
２，対物レンズ３によって試料４上に細く集束される。
電子ビームＥＢは更に偏向器５によって偏向され、試料
４上で電子ビームＥＢは２次元的に走査される。
【００１５】詳細には示されていないが、コンデンサレ
ンズ２と対物レンズ３の励磁強度は、コンピュータ６に
よって制御され、また、偏向器５もコンピュータ６によ
って制御されている。この結果、電子ビームＥＢは、試
料４上にフォーカスが合わされ、また、試料４上の電子
ビームＥＢの走査範囲（倍率）は任意に変えられる。
ンズ２と対物レンズ３の励磁強度は、コンピュータ６に
よって制御され、また、偏向器５もコンピュータ６によ
って制御されている。この結果、電子ビームＥＢは、試
料４上にフォーカスが合わされ、また、試料４上の電子
ビームＥＢの走査範囲（倍率）は任意に変えられる。
【００１６】試料４への電子ビームの照射によって照射
点からは２次電子、反射電子及び特性Ｘ線が発生し、そ
の内の２次電子は、２次電子検出器７によって検出され
る。検出器７の検出信号は、増幅器８によって増幅され
た後、画像メモリー９に供給され、電子ビームの走査位
置に対応したアドレスに記憶される。
点からは２次電子、反射電子及び特性Ｘ線が発生し、そ
の内の２次電子は、２次電子検出器７によって検出され
る。検出器７の検出信号は、増幅器８によって増幅され
た後、画像メモリー９に供給され、電子ビームの走査位
置に対応したアドレスに記憶される。
【００１７】試料４への電子ビームの照射によって発生
した反射電子は、反射電子検出器１０によって検出され
る。検出器１０の検出信号は、増幅器１１によって増幅
された後、画像メモリー１２に供給され、電子ビームの
走査に基づく反射電子像データとして記憶される。
した反射電子は、反射電子検出器１０によって検出され
る。検出器１０の検出信号は、増幅器１１によって増幅
された後、画像メモリー１２に供給され、電子ビームの
走査に基づく反射電子像データとして記憶される。
【００１８】試料４への電子ビームの照射によって発生
した特性Ｘ線は、Ｘ線検出器１３によって検出される。
検出器１３に接続された増幅器１４から得られたパルス
状の信号は、波高分析器１５に供給される。波高分析器
１５においては、供給されたパルス信号の波高（Ｘ線の
エネルギーに対応）に応じて信号を識別し、各波高ごと
に複数の画像メモリー１６a〜１６nのいずれかに供給
し、電子ビームの走査に基づくマッピング像データとし
て記憶する。
した特性Ｘ線は、Ｘ線検出器１３によって検出される。
検出器１３に接続された増幅器１４から得られたパルス
状の信号は、波高分析器１５に供給される。波高分析器
１５においては、供給されたパルス信号の波高（Ｘ線の
エネルギーに対応）に応じて信号を識別し、各波高ごと
に複数の画像メモリー１６a〜１６nのいずれかに供給
し、電子ビームの走査に基づくマッピング像データとし
て記憶する。
【００１９】このようにして、試料４上の同一の電子ビ
ーム走査領域についての２次電子像データ、反射電子像
データ、特定元素等の複数のマッピング像データが取得
され、それぞれの像データはメモリーに記憶される。各
像の観察は、コンピュータ６によってメモリーから像デ
ータを読み出し、読み出された像データをＤＡ変換器１
７によってアナログ信号に変換した後、ディスプレイ１
８に供給することにより、行うことができる。
ーム走査領域についての２次電子像データ、反射電子像
データ、特定元素等の複数のマッピング像データが取得
され、それぞれの像データはメモリーに記憶される。各
像の観察は、コンピュータ６によってメモリーから像デ
ータを読み出し、読み出された像データをＤＡ変換器１
７によってアナログ信号に変換した後、ディスプレイ１
８に供給することにより、行うことができる。
【００２０】なお、図中１９はマウス、２０はキーボー
ドである。例えば、キーボード２０の操作により、偏向
器５を制御して試料４上の電子ビームＥＢの２次元走査
範囲の大きさを変更すれば、各像の倍率を任意に設定す
ることができる。また、どのような元素のマッピング像
を選択的に取得すべきかについては、コンピュータ６に
より波高分析器１５を制御し、波高分析器１５で取得希
望の元素に対応した波高値を選ぶようにすればよい。
ドである。例えば、キーボード２０の操作により、偏向
器５を制御して試料４上の電子ビームＥＢの２次元走査
範囲の大きさを変更すれば、各像の倍率を任意に設定す
ることができる。また、どのような元素のマッピング像
を選択的に取得すべきかについては、コンピュータ６に
より波高分析器１５を制御し、波高分析器１５で取得希
望の元素に対応した波高値を選ぶようにすればよい。
【００２１】さて、本発明の一実施の態様においては、
各種像の比較観察のため、ディスプレイ１８上に複数の
異なった像が同時に表示される。図２はその一例を示し
ており、ディスプレイ画面２１の一部には、基準画像Ｓ
が表示される。この基準画像Ｓは例えば２次電子像であ
るが、反射電子像であっても良い。
各種像の比較観察のため、ディスプレイ１８上に複数の
異なった像が同時に表示される。図２はその一例を示し
ており、ディスプレイ画面２１の一部には、基準画像Ｓ
が表示される。この基準画像Ｓは例えば２次電子像であ
るが、反射電子像であっても良い。
【００２２】基準画像として何を表示するかを選択指定
するため、基準画像選択エリアＡがディスプレイ画面２
１の左上部分に設けられている。この基準画像選択エリ
アＡには、画像メモリ９，１２，１６ａ〜１６ｎに記憶
されているすべての画像が読み出され、エリア内に収ま
る大きさで、並べて表示される。オペレータは、例えば
マウスを用いて、その中の一つを基準画像として選択す
ることができる。選択された画像が例えば２次電子像の
場合、コンピュータ６はメモリー９から２次電子像デー
タを読み出し、そのデータに基づいてディスプレイ２１
上左下の基準画像表示エリアＣに像の表示を行う。
するため、基準画像選択エリアＡがディスプレイ画面２
１の左上部分に設けられている。この基準画像選択エリ
アＡには、画像メモリ９，１２，１６ａ〜１６ｎに記憶
されているすべての画像が読み出され、エリア内に収ま
る大きさで、並べて表示される。オペレータは、例えば
マウスを用いて、その中の一つを基準画像として選択す
ることができる。選択された画像が例えば２次電子像の
場合、コンピュータ６はメモリー９から２次電子像デー
タを読み出し、そのデータに基づいてディスプレイ２１
上左下の基準画像表示エリアＣに像の表示を行う。
【００２３】この基準画像Ｓには囲み線２２が重畳表示
されている。囲み線２２の初期範囲や位置は、例えば、
キーボード２０あるいはマウス１９の操作によって設定
することができる。この基準画像Ｓの周囲には、スクロ
ールボタンＢ１〜Ｂ８が表示されている。このスクロー
ルボタンのいずれかにディスプレイ上に表示されるカー
ソル（図示せず）を合わせ、マウス１９をクリックすれ
ば、スクロールボタンの指示方向に囲み線２２が移動す
る。
されている。囲み線２２の初期範囲や位置は、例えば、
キーボード２０あるいはマウス１９の操作によって設定
することができる。この基準画像Ｓの周囲には、スクロ
ールボタンＢ１〜Ｂ８が表示されている。このスクロー
ルボタンのいずれかにディスプレイ上に表示されるカー
ソル（図示せず）を合わせ、マウス１９をクリックすれ
ば、スクロールボタンの指示方向に囲み線２２が移動す
る。
【００２４】例えば、スクロールボタンＢ５の位置にカ
ーソルを位置させ、マウス１９をクリックすれば、囲み
線２２は下方に移動する。また、スクロールボタンＢ８
の位置にカーソルを位置させ、マウス１９をクリックす
れば、囲み線２２は左上方に移動する。なお、スクロー
ルボタンは８方向の移動のために８個設けたが、その数
は、上下左右の４個であっても良い。
ーソルを位置させ、マウス１９をクリックすれば、囲み
線２２は下方に移動する。また、スクロールボタンＢ８
の位置にカーソルを位置させ、マウス１９をクリックす
れば、囲み線２２は左上方に移動する。なお、スクロー
ルボタンは８方向の移動のために８個設けたが、その数
は、上下左右の４個であっても良い。
【００２５】囲み線２２の移動は、スクロールボタンに
よる方式に限定されない。例えば、囲み線２２の内部に
カーソルを位置させ、その状態でマウスをクリックして
ドラッグすることにより、囲み線の移動を任意の方向に
行うことができる。
よる方式に限定されない。例えば、囲み線２２の内部に
カーソルを位置させ、その状態でマウスをクリックして
ドラッグすることにより、囲み線の移動を任意の方向に
行うことができる。
【００２６】また、囲み線２２の大きさ（範囲）や形状
を変えたい場合には、キーボード２０によって数値を入
力して指示することもできるが、ディスプレイ上で囲み
線の辺又はコーナーにカーソルを一致させてマウスをド
ラッグし、囲み線の大きさや形状を変化させることによ
って行っても良い。
を変えたい場合には、キーボード２０によって数値を入
力して指示することもできるが、ディスプレイ上で囲み
線の辺又はコーナーにカーソルを一致させてマウスをド
ラッグし、囲み線の大きさや形状を変化させることによ
って行っても良い。
【００２７】さて、ディスプレイ２１上には基準画像Ｓ
が表示されるが、この基準画像Ｓと共に画面右半分の部
分像表示エリアＤには複数の部分像Ｚ１〜Ｚ６が同時に
表示される。例えば、Ｚ１は反射電子像であり、Ｚ２は
２次電子像、Ｚ３は銅（Ｃu）のマッピング像、Ｚ４は
鉄（Ｆe）のマッピング像、Ｚ５は鉛（Ｐｂ）のマッピ
ング像、Ｚ６は硫黄（Ｓ）のマッピング像である。な
お、複数の部分像Ｚ１〜Ｚ６の画像データは、メモリー
９，１２，メモリー１６a〜１６ｎからコンピュータ６
によって読み出される。
が表示されるが、この基準画像Ｓと共に画面右半分の部
分像表示エリアＤには複数の部分像Ｚ１〜Ｚ６が同時に
表示される。例えば、Ｚ１は反射電子像であり、Ｚ２は
２次電子像、Ｚ３は銅（Ｃu）のマッピング像、Ｚ４は
鉄（Ｆe）のマッピング像、Ｚ５は鉛（Ｐｂ）のマッピ
ング像、Ｚ６は硫黄（Ｓ）のマッピング像である。な
お、複数の部分像Ｚ１〜Ｚ６の画像データは、メモリー
９，１２，メモリー１６a〜１６ｎからコンピュータ６
によって読み出される。
【００２８】この部分像Ｚ１〜Ｚ６の表示領域は、基準
画像Ｓの中の囲み線２２で囲まれた領域に対応してい
る。すなわち、囲み線２２の大きさや位置を変化させれ
ば、それに応じて各部分像の表示領域も変化する。例え
ば、囲み線を小さくすれば、部分像の表示領域の大きさ
は一定であるため倍率の高いマッピング像が表示される
ことになる。逆に囲み線を大きくすれば、各部分像の倍
率は低くなる。
画像Ｓの中の囲み線２２で囲まれた領域に対応してい
る。すなわち、囲み線２２の大きさや位置を変化させれ
ば、それに応じて各部分像の表示領域も変化する。例え
ば、囲み線を小さくすれば、部分像の表示領域の大きさ
は一定であるため倍率の高いマッピング像が表示される
ことになる。逆に囲み線を大きくすれば、各部分像の倍
率は低くなる。
【００２９】このように、基準画像Ｓ中の囲み線の位置
をマウス１９やキーボード２０を用いて任意に移動さ
せ、あるいはその範囲を任意に変化させることにより、
試料の特徴領域について各元素の分布状態を各マッピン
グ像の部分像により比較観察することが可能となる。
をマウス１９やキーボード２０を用いて任意に移動さ
せ、あるいはその範囲を任意に変化させることにより、
試料の特徴領域について各元素の分布状態を各マッピン
グ像の部分像により比較観察することが可能となる。
【００３０】次に基準画像Ｓ中の囲み線２２で囲まれた
領域に対応する各画像データを読み出す手順について説
明する。図３はメモリー９，メモリー１２，メモリー１
６a〜１６ｎに記憶されている元画像を示しており、こ
の元画像のサイズをＷ×Ｈ、また、基準画像Ｓのサイズ
を図４に示すようにＷ２×Ｈ２とし、各部分像の画像１
枚あたりの表示可能領域をＣx1×Ｃy1，表示倍率をＭ１
とする。
領域に対応する各画像データを読み出す手順について説
明する。図３はメモリー９，メモリー１２，メモリー１
６a〜１６ｎに記憶されている元画像を示しており、こ
の元画像のサイズをＷ×Ｈ、また、基準画像Ｓのサイズ
を図４に示すようにＷ２×Ｈ２とし、各部分像の画像１
枚あたりの表示可能領域をＣx1×Ｃy1，表示倍率をＭ１
とする。
【００３１】このようなパラメータが与えられたとき、
元画像における表示領域の基準座標（ｘ、ｙ）、表示サ
イズ（Ｃｘ、Ｃｙ）が求められれば囲み線２２で囲まれ
た領域に対応する画像データを読み出すことができる。
元画像における表示領域の基準座標（ｘ、ｙ）、表示サ
イズ（Ｃｘ、Ｃｙ）が求められれば囲み線２２で囲まれ
た領域に対応する画像データを読み出すことができる。
【００３２】この場合、まず第１ステップとして、図３
に示す元画像に対する図４に示す基準画像Ｓの倍率Ｍ２
が次の式によって計算される。Ｍ２＝Ｗ２／Ｗ＝Ｈ２／
Ｈ次に第２ステップとして、基準画像Ｓにおいて、各部
分像が表示される大きさに相当する大きさ（Ｃx2，Ｃy
2）が次の式によって求められる。
に示す元画像に対する図４に示す基準画像Ｓの倍率Ｍ２
が次の式によって計算される。Ｍ２＝Ｗ２／Ｗ＝Ｈ２／
Ｈ次に第２ステップとして、基準画像Ｓにおいて、各部
分像が表示される大きさに相当する大きさ（Ｃx2，Ｃy
2）が次の式によって求められる。
【００３３】Ｃx2＝Ｃx1＊Ｍ２／Ｍ１
Ｃy2＝Ｃy1＊Ｍ２／Ｍ１
次に、基準画像Ｓで囲み線２２を移動させ、部分像の表
示領域を確定する。すなわち、この動作は、図４におい
て囲み線２２の基準座標（ｘ２，ｙ２）を確定すること
に相当する。
示領域を確定する。すなわち、この動作は、図４におい
て囲み線２２の基準座標（ｘ２，ｙ２）を確定すること
に相当する。
【００３４】この基準座標（ｘ２，ｙ２）が確定した
ら、図３の元画像で部分像の表示領域に表示する領域の
基準座標（ｘ、ｙ）、表示サイズ（Ｃｘ、Ｃｙ）を計算
により求める。この計算式は次の通りである。
ら、図３の元画像で部分像の表示領域に表示する領域の
基準座標（ｘ、ｙ）、表示サイズ（Ｃｘ、Ｃｙ）を計算
により求める。この計算式は次の通りである。
【００３５】ｘ＝ｘ２／Ｍ２ ｙ＝ｙ２／Ｍ２
Ｃｘ＝Ｃx1／Ｍ Ｃｙ＝Ｃy1／Ｍ
このようにして、囲み線２２が設定されたら、それに応
じて各元画像から囲み線２２に囲まれた領域に対応する
各部分像の画像データが読み出される。
じて各元画像から囲み線２２に囲まれた領域に対応する
各部分像の画像データが読み出される。
【００３６】以上本発明の実施の形態を説明したが、本
発明はこの実施の形態に限定されない。例えば、部分像
の表示領域を設定するために囲み線を用いたが、表示領
域の輝度を他の領域の輝度と相違させて区別させること
も可能である。また、基準画像中の部分像表示領域につ
いては他の領域とは異なった色で表示することもでき
る。
発明はこの実施の形態に限定されない。例えば、部分像
の表示領域を設定するために囲み線を用いたが、表示領
域の輝度を他の領域の輝度と相違させて区別させること
も可能である。また、基準画像中の部分像表示領域につ
いては他の領域とは異なった色で表示することもでき
る。
【００３７】さらに、部分像表示領域に表示する部分像
の種類を任意に選択することができるようにすることが
好ましい。その場合には、基準画像選択領域に、同一試
料領域について取得したすべての種類の試料像を並べて
表示しておき、その中から基準画像として表示するもの
を選択すると共に、部分像表示領域に表示する部分像の
種類も選択指定するようにすれば良い。
の種類を任意に選択することができるようにすることが
好ましい。その場合には、基準画像選択領域に、同一試
料領域について取得したすべての種類の試料像を並べて
表示しておき、その中から基準画像として表示するもの
を選択すると共に、部分像表示領域に表示する部分像の
種類も選択指定するようにすれば良い。
【００３８】さらに、上述した実施例ではエネルギー分
散型Ｘ線分析装置を備えた走査型電子顕微鏡に本発明を
適用した。しかしながら、本発明は、荷電粒子線を試料
に照射／走査し、試料から発生した２次電子、２次イオ
ンなどの２次荷電粒子や、試料により影響を受けた１次
荷電粒子、さらには試料から発生した放射線を検出し、
それに基づいて試料の同一領域について異なった種類の
試料像を取得することのできる集束イオンビーム装置、
透過型電子顕微鏡、イオン分析装置などの荷電粒子線装
置あるいは分析装置に広く適用することができる。
散型Ｘ線分析装置を備えた走査型電子顕微鏡に本発明を
適用した。しかしながら、本発明は、荷電粒子線を試料
に照射／走査し、試料から発生した２次電子、２次イオ
ンなどの２次荷電粒子や、試料により影響を受けた１次
荷電粒子、さらには試料から発生した放射線を検出し、
それに基づいて試料の同一領域について異なった種類の
試料像を取得することのできる集束イオンビーム装置、
透過型電子顕微鏡、イオン分析装置などの荷電粒子線装
置あるいは分析装置に広く適用することができる。
【００３９】例えば透過型電子顕微鏡の場合には、ＴＶ
カメラなどの撮像手段又は走査透過像検出器を用いるこ
とにより、試料の同一領域（視野）について、明視野像
（透過像）、暗視野像、電子線回折像、あるいはフォー
カスを少しずつ変えて撮像した複数のスルーフォーカス
像などを像データとして取得し記録することができる。
また、エネルギーフィルタを備えた透過型電子顕微鏡の
場合には、同一領域について異なるエネルギー損失に基
づく複数のフィルタ像を得ることができる。本発明は、
このような透過型電子顕微鏡によって取得し記録された
同一領域（視野）についての複数種類の像を対象として
も実施することができるものである。
カメラなどの撮像手段又は走査透過像検出器を用いるこ
とにより、試料の同一領域（視野）について、明視野像
（透過像）、暗視野像、電子線回折像、あるいはフォー
カスを少しずつ変えて撮像した複数のスルーフォーカス
像などを像データとして取得し記録することができる。
また、エネルギーフィルタを備えた透過型電子顕微鏡の
場合には、同一領域について異なるエネルギー損失に基
づく複数のフィルタ像を得ることができる。本発明は、
このような透過型電子顕微鏡によって取得し記録された
同一領域（視野）についての複数種類の像を対象として
も実施することができるものである。
【００４０】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、試料の特
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
【００４１】請求項２記載の発明によれば、試料の状態
に応じて最適な範囲の各種像の比較観察を行うことがで
きる。請求項３記載の発明によれば、特定領域を囲み線
で表示するので、部分像と特定領域との対比が容易にな
る。
に応じて最適な範囲の各種像の比較観察を行うことがで
きる。請求項３記載の発明によれば、特定領域を囲み線
で表示するので、部分像と特定領域との対比が容易にな
る。
【００４２】請求項４記載の発明によれば、特定領域と
他の領域との異なる輝度又は色で表示するので、部分像
と特定領域との対比が容易になる。請求項５記載の発明
によれば、特定領域の移動を容易に行うことができる。
他の領域との異なる輝度又は色で表示するので、部分像
と特定領域との対比が容易になる。請求項５記載の発明
によれば、特定領域の移動を容易に行うことができる。
【００４３】請求項６記載の発明によれば、スクロール
ボタンを設けることで、簡単に特定領域の位置を変える
ことができる。請求項７記載の発明によれば、基準画像
の選択を容易に行うことができる。
ボタンを設けることで、簡単に特定領域の位置を変える
ことができる。請求項７記載の発明によれば、基準画像
の選択を容易に行うことができる。
【００４４】請求項８記載の発明によれば、部分像を表
示する試料像の種類を任意に選択することで操作性が向
上する。請求項９記載の発明によれば、試料像として、
２次電子像、反射電子像、複数種類の元素のマッピング
像を用いて観察を行なうことができる。
示する試料像の種類を任意に選択することで操作性が向
上する。請求項９記載の発明によれば、試料像として、
２次電子像、反射電子像、複数種類の元素のマッピング
像を用いて観察を行なうことができる。
【００４５】請求項１０記載の発明によれば、試料の特
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
【００４６】請求項１１記載の発明によれば、試料の特
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
【００４７】請求項１２記載の発明によれば、試料の特
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
定領域に対応する複数の部分像を同時に表示できるた
め、各像の比較観察が容易になると共に、試料の特定領
域の位置を任意に選択することができる。
【図１】本発明に基づく方法を実施するための走査電子
顕微鏡の一例を示す図である。
顕微鏡の一例を示す図である。
【図２】ディスプレイ上に表示される像を示す図であ
る。
る。
【図３】元画像の座標値、サイズを示す図である。
【図４】基準画像のサイズ、囲み線の座標値等を示す図
である。
である。
１ 電子銃
２ コンデンサレンズ
３ 対物レンズ
４ 試料
５ 偏向器
６ コンピュータ
７ ２次電子検出器
８、１１，１４ 増幅器
９，１２，１６ 画像メモリー
１０ 反射電子検出器
１３ Ｘ線検出器
１５ 波高分析器
１７ ＤＡ変換器
１８ ディスプレイ
１９ マウス
２０ キーボード
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 酒井 巖
東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本
電子エンジニアリング株式会社内
Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA05 BA07 BA15 CA01
CA03 DA01 DA06 EA03 FA06
GA06 HA13 JA13 JA16 KA01
NA08 NA10 NA11 NA13 NA17
Claims (12)
- 【請求項１】 試料の所定領域を荷電粒子線で走査又は
照射することによって得られる同一領域についての複数
種類の試料像を記憶し、該複数種類の試料像のうちの一
つを基準画像として表示し、領域指定手段により基準画
像中の特定領域が指定された時、前記基準画像中の指定
された特定領域に対応する前記複数種類の試料像中の領
域の画像を部分画像としてそれぞれ読み出して部分領域
表示画面に並べて表示することにより、基準画像中の特
定領域の移動又は大きさの変更に伴って前記複数の部分
画像の表示領域が変更されるようにしたことを特徴とす
る荷電粒子線装置における像の表示方法。 - 【請求項２】 基準画像中の特定領域の形状及び大きさ
を任意に設定できるようにしたことを特徴とする請求項
１記載の荷電粒子線装置における像の表示方法。 - 【請求項３】 前記領域指定手段は、基準画像中の特定
領域を識別できるように、特定領域を囲み線で表示する
ようにしたことを特徴とする請求項１又は２記載の荷電
粒子線装置における像の表示方法。 - 【請求項４】 前記領域指定手段は、基準画像中の特定
領域を識別できるように、特定領域と他の領域とを異な
る輝度又は色で表示するようにしたことを特徴とする請
求項１又は２記載の荷電粒子線装置における像の表示方
法。 - 【請求項５】 基準画像中の特定領域の移動を、基準画
像の特定領域内又は境界上にポインティングデバイスを
移動させ、ポインティングデバイスをドラッグすること
によって行うようにしたことを特徴とする請求項１又は
２記載の荷電粒子線装置における像の表示方法。 - 【請求項６】 基準画像中の特定領域の移動を、少なく
とも４方向の移動に対応したスクロールボタンを設け、
当該スクロールボタンを操作することによって行うよう
にしたことを特徴とする請求項１又は２記載の荷電粒子
線装置における像の表示方法。 - 【請求項７】 前記複数種類の試料像を基準画像選択画
面に並べて縮小表示し、その中から一つの試料像を基準
画像として指示選択することができるようにしたことを
特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の荷電粒子線
装置における像の表示方法。 - 【請求項８】 部分像を表示する試料像の種類を任意に
選択変更することができるようにしたことを特徴とする
請求項１又は２記載の荷電粒子線装置における像の表示
方法。 - 【請求項９】 前記複数種類の試料像は２次電子像又は
反射電子像と、複数種類の元素のマッピング像、明視野
像、暗視野像、電子線回折像、あるいはスルーフォーカ
ス像のいずれかを含むことを特徴とする請求項１乃至８
の何れかに記載の荷電粒子線装置における像の表示方
法。 - 【請求項１０】 試料の所定領域を荷電粒子線で走査又
は照射することによって同一領域について複数種類の試
料像を取得し記憶する手段と、その複数種類の試料像中
の一つの試料像を基準画像としてディスプレイ上に表示
する手段と、基準画像中の特定領域を指定する領域指定
手段と、基準画像の特定領域の位置と大きさを任意に変
更するための手段と、基準画像中で指定された特定領域
に対応する前記複数種類の試料像中の部分領域の像をそ
れぞれ読み出して部分像表示画面に並べて表示する手段
とを備え、基準画像中の特定領域を移動又は大きさを変
更することにより、前記部分像表示領域に表示される複
数種類の部分像の表示領域を変化させるようにしたこと
を特徴とする荷電粒子線装置。 - 【請求項１１】 試料上で電子ビームを走査し、走査に
伴って得られた２次電子や反射電子を検出する検出器を
有すると共に、試料からのＸ線を検出し、そのエネルギ
ーに応じて分析を行うエネルギー分散型Ｘ線分析装置を
備えた分析装置において、試料の所定領域を走査するこ
とによって試料の形態を示す第１の像データと、エネル
ギー分散型Ｘ線分析装置から得られた複数のマッピング
像データとを記憶し、ディスプレイ上に第１の像データ
に基づく第１の像と、第１の像中の特定領域に対応する
複数の第２のマッピング像を表示し、第１の像中の特定
領域を移動させることにより、複数の第２のマッピング
像の表示領域を変化させるようにしたことを特徴とする
分析装置における像の表示方法。 - 【請求項１２】 試料上で電子ビームを走査し、走査に
伴って得られた２次電子や反射電子を検出する検出器を
有すると共に、試料からのＸ線を検出し、そのエネルギ
ーに応じて分析を行うエネルギー分散型Ｘ線分析装置を
備えた分析装置において、試料の所定領域を走査するこ
とによって試料の形態を示す第１の像データを取得する
手段と、エネルギー分散型Ｘ線分析装置から得られた複
数のマッピング像データとを記憶する手段と、ディスプ
レイ上に第１の像データに基づく第１の像を表示し、第
１の像中に特定領域を識別して表示するための手段と、
第１の特定領域の位置と大きさを任意に変化させるため
の手段とを備えており、ディスプレイ上に第１の像中の
特定領域に対応する複数の第２のマッピング像を表示
し、第１の像中の特定領域を移動させることにより、複
数の第２のマッピング像の表示領域を変化させるように
したことを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001190797A JP2003007244A (ja) | 2001-06-25 | 2001-06-25 | 荷電粒子線装置における像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析装置における像の表示方法及び分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001190797A JP2003007244A (ja) | 2001-06-25 | 2001-06-25 | 荷電粒子線装置における像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析装置における像の表示方法及び分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003007244A true JP2003007244A (ja) | 2003-01-10 |
Family
ID=19029517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001190797A Withdrawn JP2003007244A (ja) | 2001-06-25 | 2001-06-25 | 荷電粒子線装置における像の表示方法および荷電粒子線装置、並びに分析装置における像の表示方法及び分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003007244A (ja) |
Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007127601A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Shimadzu Corp | Ｘ線検査装置 |
| JP2007311298A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 集束イオンビーム装置 |
| JP2008084643A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Fujitsu Ltd | 電子顕微鏡及び立体観察方法 |
| JP2016091814A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および画像生成方法 |
| WO2019239497A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
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| CN114341631A (zh) * | 2019-09-04 | 2022-04-12 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子束装置 |
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-
2001
- 2001-06-25 JP JP2001190797A patent/JP2003007244A/ja not_active Withdrawn
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| JPWO2019239497A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2021-04-01 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
| US11264201B2 (en) | 2018-06-12 | 2022-03-01 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device |
| JP7035183B2 (ja) | 2018-06-12 | 2022-03-14 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
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