JP2003004406A - ウェーハのオリエンテーションフラットの直線性測定装置 - Google Patents
ウェーハのオリエンテーションフラットの直線性測定装置Info
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 78
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オリフラの直線性を短時間で正確に測定す
る。 【解決手段】 ベース１１に直線軌道１１ａを第１方向
に形成する。オリフラ１８ａを有するウェーハ１８が載
るためにプラットフォーム１３の上面を平坦に形成し、
プラットフォームが直線軌道に係合手段１２を介して係
合することにより第１方向に沿って移動する。ウェーハ
のオリフラが当接しかつ第１方向に平行な平坦面１９ａ
を有するブロック１９を第１方向と直交する第２方向に
直線軌道と第１間隔Ｌをあけてベースに取付ける。ウェ
ーハをプラットフォームに載せた状態で固定するウェー
ハ固定手段３４をプラットフォームに設け、直線軌道に
対向し第２方向に変位可能な測定子３９ａを有する測定
具３９を第１方向にブロックと第２間隔Ｍをあけてベー
スに取付ける。測定子の先端と直線軌道の間隔をＮとす
るとき０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍである。
る。 【解決手段】 ベース１１に直線軌道１１ａを第１方向
に形成する。オリフラ１８ａを有するウェーハ１８が載
るためにプラットフォーム１３の上面を平坦に形成し、
プラットフォームが直線軌道に係合手段１２を介して係
合することにより第１方向に沿って移動する。ウェーハ
のオリフラが当接しかつ第１方向に平行な平坦面１９ａ
を有するブロック１９を第１方向と直交する第２方向に
直線軌道と第１間隔Ｌをあけてベースに取付ける。ウェ
ーハをプラットフォームに載せた状態で固定するウェー
ハ固定手段３４をプラットフォームに設け、直線軌道に
対向し第２方向に変位可能な測定子３９ａを有する測定
具３９を第１方向にブロックと第２間隔Ｍをあけてベー
スに取付ける。測定子の先端と直線軌道の間隔をＮとす
るとき０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オリエンテーショ
ンフラット（以下、オリフラという。）の直線性に関係
のある数値データを提供する測定装置に関するものであ
る。
ンフラット（以下、オリフラという。）の直線性に関係
のある数値データを提供する測定装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、オリフラ部分の直線性に関する検
査は、判断するための定量的なデータが全くないまま、
視覚的なやり方で行われていた。一方、ウェーハチャッ
クの装着面に設けられた位置決め機構にウェーハを押し
当ててオリフラの位置決めを行うウェーハのオリフラの
位置決め方法が開示されている（特開平１０−２２３６
８号）。この位置決め方法では、ウェーハチャックの装
着面が傾斜して設けられ、ウェーハをウェーハチャック
に対して浮上させる気体流がエア吹出し手段により発生
される。このように構成された位置決め方法では、ウェ
ーハをウェーハチャックの装着面に載せた状態で、エア
吹出し手段からエアを吹出すと、ウェーハがウェーハチ
ャックの装着面の傾斜に沿って自重により位置決め機構
に向ってスムーズに移動する。この結果、オリフラの位
置決めを確実に行えるようになっている。
査は、判断するための定量的なデータが全くないまま、
視覚的なやり方で行われていた。一方、ウェーハチャッ
クの装着面に設けられた位置決め機構にウェーハを押し
当ててオリフラの位置決めを行うウェーハのオリフラの
位置決め方法が開示されている（特開平１０−２２３６
８号）。この位置決め方法では、ウェーハチャックの装
着面が傾斜して設けられ、ウェーハをウェーハチャック
に対して浮上させる気体流がエア吹出し手段により発生
される。このように構成された位置決め方法では、ウェ
ーハをウェーハチャックの装着面に載せた状態で、エア
吹出し手段からエアを吹出すと、ウェーハがウェーハチ
ャックの装着面の傾斜に沿って自重により位置決め機構
に向ってスムーズに移動する。この結果、オリフラの位
置決めを確実に行えるようになっている。
【０００３】更に、ステージと、粗位置決め機構と、番
号検知手段とを有し、第１レベルのパターン露光の際
に、パターンなしウェーハの正確な粗位置決めを行うこ
とができる露光装置が開示されている（特開平８−７８
３１６号）。この露光装置では、ステージにウェーハを
粗位置決めする少なくとも３個の衝止部材が設けられる
とともに、このステージは前後及び左右のＸＹ方向と回
転のθ方向に移動する。また粗位置決め機構はステージ
上に置かれたウェーハの周縁部を上記衝止部材に衝き当
てて粗位置決めする。更に番号検知手段は粗位置決めさ
れたウェーハに刻印された識別番号を検知し、識別番号
が所定の位置に到来するまでステージを移動させるよう
になっている。
号検知手段とを有し、第１レベルのパターン露光の際
に、パターンなしウェーハの正確な粗位置決めを行うこ
とができる露光装置が開示されている（特開平８−７８
３１６号）。この露光装置では、ステージにウェーハを
粗位置決めする少なくとも３個の衝止部材が設けられる
とともに、このステージは前後及び左右のＸＹ方向と回
転のθ方向に移動する。また粗位置決め機構はステージ
上に置かれたウェーハの周縁部を上記衝止部材に衝き当
てて粗位置決めする。更に番号検知手段は粗位置決めさ
れたウェーハに刻印された識別番号を検知し、識別番号
が所定の位置に到来するまでステージを移動させるよう
になっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、目視によりオ
リフラ部分の直線性を調べる従来の方法では、直線性の
合否を定量的に決めることができなかった。また上記従
来の特開平１０−２２３６８号公報に示されたオリフラ
の位置決め方法や、特開平８−７８３１６号公報に示さ
れた露光装置では、ウェーハのオリフラ自体の直線性を
測定するものではないため、オリフラの加工精度、特に
オリフラの面取り時の加工精度が悪く、例えば図８
（ａ）に示すように、オリフラ８ａの中央に頂点Ｐが形
成されかつこの頂点Ｐを挟む第１辺８ｂ及び第２辺８ｃ
により構成される場合、第１辺８ｂを位置決め機構に合
せたときと第２辺８ｃを位置決め機構に合わせたときで
は、ウェーハ８の結晶方位がずれてしまう不具合があっ
た。更に図８（ｂ）に示すようなウェーハ８のオリフラ
８ａでも同様の問題を生じていた。なお、極めて高度の
人間の専門的技術があって、オリフラの直線性の最大許
容値が２５μｍ以上であれば、目視により測定できるけ
れども、もしオリフラの直線性の最大許容値が２５μｍ
未満であるときには、目視で測定値を決定することが難
しくなる問題点もあった。本発明の目的は、ウェーハの
オリフラの直線性を短時間で正確に測定することができ
る、ウェーハのオリフラの直線性測定装置を提供するこ
とにある。
リフラ部分の直線性を調べる従来の方法では、直線性の
合否を定量的に決めることができなかった。また上記従
来の特開平１０−２２３６８号公報に示されたオリフラ
の位置決め方法や、特開平８−７８３１６号公報に示さ
れた露光装置では、ウェーハのオリフラ自体の直線性を
測定するものではないため、オリフラの加工精度、特に
オリフラの面取り時の加工精度が悪く、例えば図８
（ａ）に示すように、オリフラ８ａの中央に頂点Ｐが形
成されかつこの頂点Ｐを挟む第１辺８ｂ及び第２辺８ｃ
により構成される場合、第１辺８ｂを位置決め機構に合
せたときと第２辺８ｃを位置決め機構に合わせたときで
は、ウェーハ８の結晶方位がずれてしまう不具合があっ
た。更に図８（ｂ）に示すようなウェーハ８のオリフラ
８ａでも同様の問題を生じていた。なお、極めて高度の
人間の専門的技術があって、オリフラの直線性の最大許
容値が２５μｍ以上であれば、目視により測定できるけ
れども、もしオリフラの直線性の最大許容値が２５μｍ
未満であるときには、目視で測定値を決定することが難
しくなる問題点もあった。本発明の目的は、ウェーハの
オリフラの直線性を短時間で正確に測定することができ
る、ウェーハのオリフラの直線性測定装置を提供するこ
とにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、図１、図２及
び図５に示すように、１又は２以上の直線軌道１１ａが
第１方向に形成されたベース１１と、直線軌道１１ａに
係合手段１２を介して係合することにより第１方向に沿
って移動可能に構成され更にオリフラ１８ａ，１８ｂを
有するウェーハ１８が載るための上面が平坦に形成され
たプラットフォーム１３と、第１方向と直交する第２方
向に直線軌道１１ａと所定の第１間隔Ｌをあけてベース
１１に取付けられプラットフォーム１３に載ったウェー
ハ１８のオリフラ１８ａ，１８ｂが当接可能であって第
１方向に平行な平坦面１９ａを有するブロック１９と、
プラットフォーム１３に設けられウェーハ１８をプラッ
トフォーム１３に載せた状態で固定するウェーハ固定手
段３４と、第１方向にブロック１９と所定の第２間隔Ｍ
をあけてベース１１に取付けられ直線軌道１１ａに対向
して第２方向に変位可能な測定子３９ａを有する測定具
３９とを備え、測定子３９ａの先端と直線軌道１１ａと
の間隔をＮとするとき、次の式（１）が満たされたこと
を特徴とするウェーハのオリフラの直線性測定装置であ
る。 ０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍ ……（１）
び図５に示すように、１又は２以上の直線軌道１１ａが
第１方向に形成されたベース１１と、直線軌道１１ａに
係合手段１２を介して係合することにより第１方向に沿
って移動可能に構成され更にオリフラ１８ａ，１８ｂを
有するウェーハ１８が載るための上面が平坦に形成され
たプラットフォーム１３と、第１方向と直交する第２方
向に直線軌道１１ａと所定の第１間隔Ｌをあけてベース
１１に取付けられプラットフォーム１３に載ったウェー
ハ１８のオリフラ１８ａ，１８ｂが当接可能であって第
１方向に平行な平坦面１９ａを有するブロック１９と、
プラットフォーム１３に設けられウェーハ１８をプラッ
トフォーム１３に載せた状態で固定するウェーハ固定手
段３４と、第１方向にブロック１９と所定の第２間隔Ｍ
をあけてベース１１に取付けられ直線軌道１１ａに対向
して第２方向に変位可能な測定子３９ａを有する測定具
３９とを備え、測定子３９ａの先端と直線軌道１１ａと
の間隔をＮとするとき、次の式（１）が満たされたこと
を特徴とするウェーハのオリフラの直線性測定装置であ
る。 ０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍ ……（１）
【０００６】本発明に係るウェーハ１８のオリフラ１８
ａの直線性測定装置１０を用いてオリフラ１８ａの直線
性を測定するには、先ずウェーハ１８が載っていないプ
ラットフォーム１３をブロック１９に対向させるように
第１方向に移動させる。次いでプラットフォーム１３の
上面にウェーハ１８を載せ、このウェーハ１８のオリフ
ラ１８ａを、そのオリフラがブロック１９の平坦面１９
ａに略平行になるように、この平坦面１９ａに当接させ
た後に、ウェーハ１８をウェーハ固定手段３４によりプ
ラットフォーム１３に固定する。次にプラットフォーム
１３を第１方向に移動させることにより、オリフラ１８
ａを測定具３９の測定子３９ａの測定範囲に移動する。
更にプラットフォーム１３を第１方向に移動させること
により、測定具３９の測定子３９ａが測定具のディスプ
レイ３９ｃ上の振れ幅を測定子の出力信号で記録しなが
ら、オリフラ１８ａ上に留まる。測定具３９のディスプ
レイに記録された振れ幅を読取ることにより、オリフラ
１８ａの直線性が定量的に数値データとして与えられ
る。
ａの直線性測定装置１０を用いてオリフラ１８ａの直線
性を測定するには、先ずウェーハ１８が載っていないプ
ラットフォーム１３をブロック１９に対向させるように
第１方向に移動させる。次いでプラットフォーム１３の
上面にウェーハ１８を載せ、このウェーハ１８のオリフ
ラ１８ａを、そのオリフラがブロック１９の平坦面１９
ａに略平行になるように、この平坦面１９ａに当接させ
た後に、ウェーハ１８をウェーハ固定手段３４によりプ
ラットフォーム１３に固定する。次にプラットフォーム
１３を第１方向に移動させることにより、オリフラ１８
ａを測定具３９の測定子３９ａの測定範囲に移動する。
更にプラットフォーム１３を第１方向に移動させること
により、測定具３９の測定子３９ａが測定具のディスプ
レイ３９ｃ上の振れ幅を測定子の出力信号で記録しなが
ら、オリフラ１８ａ上に留まる。測定具３９のディスプ
レイに記録された振れ幅を読取ることにより、オリフラ
１８ａの直線性が定量的に数値データとして与えられ
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１及び図５に示すように、直線性
測定装置１０のベース１１には３本のリニアモーション
ガイド（ＬＭガイド）等の直線軌道１１ａが第１方向に
延びて形成され、この直線軌道１１ａには係合手段１２
を介してプラットフォーム１３が係合する。この係合手
段１２は、図５に詳しく示すように、直線軌道１１ａに
挿入して固定された固定レール１４と、プラットフォー
ム１３の下面に形成された凹溝１３ａに挿入して固定さ
れかつ固定レール１４に針状ころ１７を介して嵌合され
た可動レール１６とを有する。固定レール１４には上方
に突出しかつこのレール１４の長手方向に延びる凸条１
４ａが形成され、可動レール１６には上記凸条１４ａに
相応しかつ凸条１４ａより一回り大きな断面形状を有し
このレール１６の長手方向に延びる凹条１６ａが形成さ
れる。また針状ころ１７は可動レール１６上を回転摺動
するとともに、固定レール１４上を転動するように構成
され、これにより可動レール１６はプラットフォーム１
３とともに固定レール１４、即ち直線軌道１１ａに沿っ
て第１方向に移動するように構成される。またプラット
フォーム１３の上面はウェーハ１８が載るために平坦に
形成される。このウェーハ１８は直径が５０〜３００ｍ
ｍの範囲にあり、かつ第１オリフラ１８ａ及び第２オリ
フラ１８ｂを有する。なお、直線軌道は３本ではなく、
１本、２本又は４本以上であってもよい。また固定レー
ルに凸条ではなく凹溝を形成し、可動レールに凹溝では
なく凸条を形成してもよい。更に固定レールと可動レー
ルとの間には、針状ころではなく鋼球又は滑り軸受を介
装してもよい。
基づいて説明する。図１及び図５に示すように、直線性
測定装置１０のベース１１には３本のリニアモーション
ガイド（ＬＭガイド）等の直線軌道１１ａが第１方向に
延びて形成され、この直線軌道１１ａには係合手段１２
を介してプラットフォーム１３が係合する。この係合手
段１２は、図５に詳しく示すように、直線軌道１１ａに
挿入して固定された固定レール１４と、プラットフォー
ム１３の下面に形成された凹溝１３ａに挿入して固定さ
れかつ固定レール１４に針状ころ１７を介して嵌合され
た可動レール１６とを有する。固定レール１４には上方
に突出しかつこのレール１４の長手方向に延びる凸条１
４ａが形成され、可動レール１６には上記凸条１４ａに
相応しかつ凸条１４ａより一回り大きな断面形状を有し
このレール１６の長手方向に延びる凹条１６ａが形成さ
れる。また針状ころ１７は可動レール１６上を回転摺動
するとともに、固定レール１４上を転動するように構成
され、これにより可動レール１６はプラットフォーム１
３とともに固定レール１４、即ち直線軌道１１ａに沿っ
て第１方向に移動するように構成される。またプラット
フォーム１３の上面はウェーハ１８が載るために平坦に
形成される。このウェーハ１８は直径が５０〜３００ｍ
ｍの範囲にあり、かつ第１オリフラ１８ａ及び第２オリ
フラ１８ｂを有する。なお、直線軌道は３本ではなく、
１本、２本又は４本以上であってもよい。また固定レー
ルに凸条ではなく凹溝を形成し、可動レールに凹溝では
なく凸条を形成してもよい。更に固定レールと可動レー
ルとの間には、針状ころではなく鋼球又は滑り軸受を介
装してもよい。
【０００８】一方、上記第１方向と直交する第２方向に
直線軌道１１ａと所定の第１間隔Ｌ（図１）をあけてブ
ロック１９がベース１１上面に設けられる（図１及び図
５）。このブロック１９はリリース手段２１を介してベ
ース１１に取付けられる。またブロック１９には、プラ
ットフォーム１３に載ったウェーハ１８の第１オリフラ
１８ａ又は第２オリフラ１８ｂが当接可能であり、第１
方向に平行であって、更にベース１１上面に対して垂直
な平坦面１９ａが形成される。なお、上記第１間隔Ｌは
３本の直線軌道１１ａのうち最もブロック１９に近い直
線軌道１１ａとブロック１９との間隔であり、この第１
間隔Ｌは上記最もブロック１９に近い直線軌道１１ａか
らプラットフォーム１３のブロック１９への対向面まで
の長さより長く形成される。上記リリース手段２１は、
図５及び図６に詳しく示すように、ブロック１９の背後
のベース１１上に取付けられたリリース本体２２と、一
端がブロック１９に挿入して固定され他端がリリース本
体２２に摺動可能に挿入されたロッド２３と、略中央が
リリース本体２２に第１ピン３１を介して揺動可能に設
けられかつ下端がロッド２３の他端に第２ピン３２を介
して連結された操作レバー２４とを有する。
直線軌道１１ａと所定の第１間隔Ｌ（図１）をあけてブ
ロック１９がベース１１上面に設けられる（図１及び図
５）。このブロック１９はリリース手段２１を介してベ
ース１１に取付けられる。またブロック１９には、プラ
ットフォーム１３に載ったウェーハ１８の第１オリフラ
１８ａ又は第２オリフラ１８ｂが当接可能であり、第１
方向に平行であって、更にベース１１上面に対して垂直
な平坦面１９ａが形成される。なお、上記第１間隔Ｌは
３本の直線軌道１１ａのうち最もブロック１９に近い直
線軌道１１ａとブロック１９との間隔であり、この第１
間隔Ｌは上記最もブロック１９に近い直線軌道１１ａか
らプラットフォーム１３のブロック１９への対向面まで
の長さより長く形成される。上記リリース手段２１は、
図５及び図６に詳しく示すように、ブロック１９の背後
のベース１１上に取付けられたリリース本体２２と、一
端がブロック１９に挿入して固定され他端がリリース本
体２２に摺動可能に挿入されたロッド２３と、略中央が
リリース本体２２に第１ピン３１を介して揺動可能に設
けられかつ下端がロッド２３の他端に第２ピン３２を介
して連結された操作レバー２４とを有する。
【０００９】またロッド２３の周囲には圧縮コイルばね
２６が設けられ、このばね２６の一端はブロック１９に
圧接されかつ他端はリリース本体２２に圧接される。更
にリリース本体２２と操作レバー２４との間には引張り
コイルばね２７が設けられる。このばね２７の下端はリ
リース本体２２に固着されたロアピン２８に係止され、
ばね２７の上端は操作レバー２４に固着されたアッパピ
ン２９に係止される。ロアピン２８は第１ピン３１を通
る鉛直線上に位置し、アッパピン２９は第１ピン３１か
ら操作レバー２４の長手方向に所定の距離だけ離れた上
方に位置する。操作レバー２４は、ブロック１９の平坦
面１９ａに第１オリフラ１８ａ又は第２オリフラを当接
させてウェーハ１８の位置決め可能な第１の位置（図
５）と、ブロック１９を第１オリフラ１８ａ又は第２オ
リフラ１８ｂから離す、即ちブロック１９を直線軌道１
１ａから離れる第２方向に移動させる第２の位置（図
６）とを揺動するように構成される。
２６が設けられ、このばね２６の一端はブロック１９に
圧接されかつ他端はリリース本体２２に圧接される。更
にリリース本体２２と操作レバー２４との間には引張り
コイルばね２７が設けられる。このばね２７の下端はリ
リース本体２２に固着されたロアピン２８に係止され、
ばね２７の上端は操作レバー２４に固着されたアッパピ
ン２９に係止される。ロアピン２８は第１ピン３１を通
る鉛直線上に位置し、アッパピン２９は第１ピン３１か
ら操作レバー２４の長手方向に所定の距離だけ離れた上
方に位置する。操作レバー２４は、ブロック１９の平坦
面１９ａに第１オリフラ１８ａ又は第２オリフラを当接
させてウェーハ１８の位置決め可能な第１の位置（図
５）と、ブロック１９を第１オリフラ１８ａ又は第２オ
リフラ１８ｂから離す、即ちブロック１９を直線軌道１
１ａから離れる第２方向に移動させる第２の位置（図
６）とを揺動するように構成される。
【００１０】また引張りコイルばね２７のばね定数は圧
縮コイルばね２６のばね定数より大きく形成される。こ
れにより操作レバー２４を第２の位置に操作したとき
に、引張りコイルばね２７の弾性力が圧縮コイルばね２
６の弾性力に打勝って、引張りコイルばね２７が操作レ
バー２４を第２の位置に一時的に保持できるように構成
される。なお、図５及び図６の符号３３は直線軌道１１
ａと平行にベース１１に固着されたフラットバーであ
る。このフラットバー３３は、操作レバー２４を第１の
位置（図５）に操作したときにブロック１９の平坦面１
９ａがフラットバー３３に当接して、ブロック１９の平
坦面１９ａが直線軌道１１ａと平行になるように修正す
る機能を有する。また図５及び図６の符号２４ａは操作
レバー２４の下端に形成され第２ピン３２が挿通される
長孔である。
縮コイルばね２６のばね定数より大きく形成される。こ
れにより操作レバー２４を第２の位置に操作したとき
に、引張りコイルばね２７の弾性力が圧縮コイルばね２
６の弾性力に打勝って、引張りコイルばね２７が操作レ
バー２４を第２の位置に一時的に保持できるように構成
される。なお、図５及び図６の符号３３は直線軌道１１
ａと平行にベース１１に固着されたフラットバーであ
る。このフラットバー３３は、操作レバー２４を第１の
位置（図５）に操作したときにブロック１９の平坦面１
９ａがフラットバー３３に当接して、ブロック１９の平
坦面１９ａが直線軌道１１ａと平行になるように修正す
る機能を有する。また図５及び図６の符号２４ａは操作
レバー２４の下端に形成され第２ピン３２が挿通される
長孔である。
【００１１】一方、プラットフォーム１３には、ウェー
ハ１８をプラットフォーム１３に載せた状態で固定する
ウェーハ固定手段３４が設けられる（図１及び図５）。
このウェーハ固定手段３４は、プラットフォーム１３の
上面に形成されウェーハ１８を吸引固定する吸引口３６
と、プラットフォーム１３に形成され一端が吸引口３６
に連通する吸引孔３７ａと、一端が吸引孔３７ａの他端
に接続され他端が真空タンク（図示せず）に接続された
吸引パイプ３７ｂと、この吸引パイプ３７ｂに設けられ
吸引口３６を負圧又は大気圧に切換える切換弁（図示せ
ず）と、この切換弁をオンオフする切換スイッチ３８と
を有する。上記吸引孔３７ａと吸引パイプ３７ｂにより
吸引通路３７が構成される。また上記切換弁は３ポート
２位置切換えの電磁弁であり、切換スイッチ３８をオン
すると吸引口３６が真空タンクに連通して負圧になり、
オフすると吸引口３６が大気に連通して大気圧になるよ
うに構成される。またベース１１にはスピンドル３９ｄ
の先端に測定子３９ａを有する測定具３９、例えばダイ
ヤルゲージが取付けられる（図１〜図４及び図７）。こ
の測定具３９は第１方向にブロック１９と所定の第２間
隔Ｍ（図１）をあけてベース１１上に位置し、かつ測定
子３９ａは直線軌道１１ａに対向して第２方向に変位可
能に構成される。また測定子３９ａの先端には第１オリ
フラ１８ａ上又は第２オリフラ１８ｂ上を転動可能な鋼
球３９ｂが設けられる。更に測定子３９ａの先端と直線
軌道１１ａとの間隔をＮとするとき、次の式（１）が満
たされるように、測定具３９がベース１１に固定され
る。 ０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍ ……（１） なお、（Ｌ−Ｎ）は、４０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦６０μｍ
の範囲にあることがより好ましい。また測定具３９に
は、上記測定子３９ａの変位に基づくデータを表示する
ディスプレイ３９ｃ、例えば指針が設けられる。
ハ１８をプラットフォーム１３に載せた状態で固定する
ウェーハ固定手段３４が設けられる（図１及び図５）。
このウェーハ固定手段３４は、プラットフォーム１３の
上面に形成されウェーハ１８を吸引固定する吸引口３６
と、プラットフォーム１３に形成され一端が吸引口３６
に連通する吸引孔３７ａと、一端が吸引孔３７ａの他端
に接続され他端が真空タンク（図示せず）に接続された
吸引パイプ３７ｂと、この吸引パイプ３７ｂに設けられ
吸引口３６を負圧又は大気圧に切換える切換弁（図示せ
ず）と、この切換弁をオンオフする切換スイッチ３８と
を有する。上記吸引孔３７ａと吸引パイプ３７ｂにより
吸引通路３７が構成される。また上記切換弁は３ポート
２位置切換えの電磁弁であり、切換スイッチ３８をオン
すると吸引口３６が真空タンクに連通して負圧になり、
オフすると吸引口３６が大気に連通して大気圧になるよ
うに構成される。またベース１１にはスピンドル３９ｄ
の先端に測定子３９ａを有する測定具３９、例えばダイ
ヤルゲージが取付けられる（図１〜図４及び図７）。こ
の測定具３９は第１方向にブロック１９と所定の第２間
隔Ｍ（図１）をあけてベース１１上に位置し、かつ測定
子３９ａは直線軌道１１ａに対向して第２方向に変位可
能に構成される。また測定子３９ａの先端には第１オリ
フラ１８ａ上又は第２オリフラ１８ｂ上を転動可能な鋼
球３９ｂが設けられる。更に測定子３９ａの先端と直線
軌道１１ａとの間隔をＮとするとき、次の式（１）が満
たされるように、測定具３９がベース１１に固定され
る。 ０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍ ……（１） なお、（Ｌ−Ｎ）は、４０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦６０μｍ
の範囲にあることがより好ましい。また測定具３９に
は、上記測定子３９ａの変位に基づくデータを表示する
ディスプレイ３９ｃ、例えば指針が設けられる。
【００１２】このように構成されたウェーハ１８の第１
オリフラ１８ａの直線性測定装置１０の使用方法を図１
〜図７に基づいて説明する。先ず、切換スイッチ３８を
オフにし、ウェーハ１８が載っていないプラットフォー
ム１３をブロック１９に対向させるように第１方向に移
動させるとともに、操作レバー２４を第１の位置（図
５）に操作してブロック１９の平坦面１９ａをフラット
バー３３に当接させる（図１）。次いでプラットフォー
ム１３の上面にウェーハ１８を載せ、このウェーハ１８
の第１オリフラ１８ａをブロック１９の平坦面１９ａに
略平行になるように当接させる（図２及び図５）。この
状態で切換スイッチ３８をオンして吸引口３６を真空タ
ンクに連通することにより、ウェーハ１８をプラットフ
ォーム１３上に吸引固定する。次に操作レバー２４を第
１の位置（図５）から第２の位置（図６）に回転するこ
とにより、ブロック１９を第２方向に移動してウェーハ
１８から離す（図３及び図６）。この状態でウェーハ１
８を載せて固定したままプラットフォーム１３を第１方
向に移動させることにより、第１オリフラ１８ａを測定
具３９の測定子３９ａの先端に圧接する（図４及び図
７）。更にプラットフォーム１３を第１方向に移動させ
ると、測定具３９の測定子３９ａの先端の鋼球３９ｂが
第１オリフラ１８ａ上を転動し、測定具３９のディスプ
レイ３９ｂ、例えば指針が振れる。この測定具３９の測
定子３９ａの先端の鋼球３９ｂが第１オリフラ１８ａの
一端から他端まで転動したときの測定具３９のディスプ
レイ３９ｃの振れ幅を読取り、この振れ幅が最大許容値
以内、例えば２５μｍ以内であるか否かにより、ウェー
ハ１８の第１オリフラ１８ａの直線性の合否を判断でき
る。なお、続けて別のウェーハ１８の第１オリフラ１８
ａの直線性を測定するときには、切換スイッチ３８をオ
フにして測定済みのウェーハ１８をプラットフォーム１
３から下ろした後に、上記手順を繰返す。このようにウ
ェーハ１８の第１オリフラ１８ａの直線性を短時間で正
確に測定することができる。
オリフラ１８ａの直線性測定装置１０の使用方法を図１
〜図７に基づいて説明する。先ず、切換スイッチ３８を
オフにし、ウェーハ１８が載っていないプラットフォー
ム１３をブロック１９に対向させるように第１方向に移
動させるとともに、操作レバー２４を第１の位置（図
５）に操作してブロック１９の平坦面１９ａをフラット
バー３３に当接させる（図１）。次いでプラットフォー
ム１３の上面にウェーハ１８を載せ、このウェーハ１８
の第１オリフラ１８ａをブロック１９の平坦面１９ａに
略平行になるように当接させる（図２及び図５）。この
状態で切換スイッチ３８をオンして吸引口３６を真空タ
ンクに連通することにより、ウェーハ１８をプラットフ
ォーム１３上に吸引固定する。次に操作レバー２４を第
１の位置（図５）から第２の位置（図６）に回転するこ
とにより、ブロック１９を第２方向に移動してウェーハ
１８から離す（図３及び図６）。この状態でウェーハ１
８を載せて固定したままプラットフォーム１３を第１方
向に移動させることにより、第１オリフラ１８ａを測定
具３９の測定子３９ａの先端に圧接する（図４及び図
７）。更にプラットフォーム１３を第１方向に移動させ
ると、測定具３９の測定子３９ａの先端の鋼球３９ｂが
第１オリフラ１８ａ上を転動し、測定具３９のディスプ
レイ３９ｂ、例えば指針が振れる。この測定具３９の測
定子３９ａの先端の鋼球３９ｂが第１オリフラ１８ａの
一端から他端まで転動したときの測定具３９のディスプ
レイ３９ｃの振れ幅を読取り、この振れ幅が最大許容値
以内、例えば２５μｍ以内であるか否かにより、ウェー
ハ１８の第１オリフラ１８ａの直線性の合否を判断でき
る。なお、続けて別のウェーハ１８の第１オリフラ１８
ａの直線性を測定するときには、切換スイッチ３８をオ
フにして測定済みのウェーハ１８をプラットフォーム１
３から下ろした後に、上記手順を繰返す。このようにウ
ェーハ１８の第１オリフラ１８ａの直線性を短時間で正
確に測定することができる。
【００１３】なお、上記実施の形態では、直線性測定装
置１０により第１オリフラ１８ａの直線性を測定した
が、第２オリフラ１８ｂの直線性を測定してもよい。ま
た、上記実施の形態では、測定具のディスプレイの振れ
幅を目視により読取ったが、測定具のディスプレイの振
れ幅を電子信号として出力可能に構成すれば、その電子
信号をコンピュータの入力に接続することにより、各ウ
ェーハのオリフラの直線性データを保存しておくことが
できるとともに、本発明の装置を自動化するときに、コ
ンピュータによりオリフラの直線性の合否の解析又は決
定を行うことができる。
置１０により第１オリフラ１８ａの直線性を測定した
が、第２オリフラ１８ｂの直線性を測定してもよい。ま
た、上記実施の形態では、測定具のディスプレイの振れ
幅を目視により読取ったが、測定具のディスプレイの振
れ幅を電子信号として出力可能に構成すれば、その電子
信号をコンピュータの入力に接続することにより、各ウ
ェーハのオリフラの直線性データを保存しておくことが
できるとともに、本発明の装置を自動化するときに、コ
ンピュータによりオリフラの直線性の合否の解析又は決
定を行うことができる。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、プ
ラットフォームを第１方向に移動してブロックに対向さ
せ、オリフラがブロックに当接するようにウェーハをプ
ラットフォーム上に固定し、ブロックを後退させる。オ
リフラが測定具の測定子の測定範囲に入るように、プラ
ットフォームを第１方向に移動する。測定子が動いてオ
リフラと接触する。測定具の測定子がオリフラの一端か
ら他端まで転動したときの測定具のディスプレイの振れ
幅を読取ることにより、オリフラの直線性を定量的に数
値データとして表示でき、ウェーハのオリフラの直線性
の合否を決定できる。この結果、ウェーハのオリフラの
直線性を短時間で正確に測定することができる。
ラットフォームを第１方向に移動してブロックに対向さ
せ、オリフラがブロックに当接するようにウェーハをプ
ラットフォーム上に固定し、ブロックを後退させる。オ
リフラが測定具の測定子の測定範囲に入るように、プラ
ットフォームを第１方向に移動する。測定子が動いてオ
リフラと接触する。測定具の測定子がオリフラの一端か
ら他端まで転動したときの測定具のディスプレイの振れ
幅を読取ることにより、オリフラの直線性を定量的に数
値データとして表示でき、ウェーハのオリフラの直線性
の合否を決定できる。この結果、ウェーハのオリフラの
直線性を短時間で正確に測定することができる。
【００１５】またウェーハ固定手段が、ウェーハを吸引
固定する吸引口と、吸引口に連通する吸引通路と、吸引
口を負圧又は大気圧に切換える切換弁とを有すれば、ウ
ェーハを傷つけずに、しかも極めて簡単な操作で、ウェ
ーハをプラットフォーム上に固定することができる。ま
たブロックを直線軌道から離れる第２方向に移動させる
リリース手段をベースに取付ければ、ウェーハを載せた
状態でプラットフォームを第１方向に移動するときに、
オリフラがブロックから離れた状態で移動する。この結
果、ウェーハを損傷することはない。更に測定具に表示
されたデータを電子信号として出力可能に構成すれば、
その電子信号をコンピュータの入力に接続することによ
り、各ウェーハのオリフラの直線性データを保存してお
くことができるとともに、本発明の装置を自動化すると
きに、コンピュータによりオリフラの直線性の合否の解
析又は決定を行うことができる。
固定する吸引口と、吸引口に連通する吸引通路と、吸引
口を負圧又は大気圧に切換える切換弁とを有すれば、ウ
ェーハを傷つけずに、しかも極めて簡単な操作で、ウェ
ーハをプラットフォーム上に固定することができる。ま
たブロックを直線軌道から離れる第２方向に移動させる
リリース手段をベースに取付ければ、ウェーハを載せた
状態でプラットフォームを第１方向に移動するときに、
オリフラがブロックから離れた状態で移動する。この結
果、ウェーハを損傷することはない。更に測定具に表示
されたデータを電子信号として出力可能に構成すれば、
その電子信号をコンピュータの入力に接続することによ
り、各ウェーハのオリフラの直線性データを保存してお
くことができるとともに、本発明の装置を自動化すると
きに、コンピュータによりオリフラの直線性の合否の解
析又は決定を行うことができる。
【図１】本発明実施形態のプラットフォームにウェーハ
を載せる前の状態を示す直線性測定装置の平面図。
を載せる前の状態を示す直線性測定装置の平面図。
【図２】プラットフォームにウェーハを載せ、かつウェ
ーハの第１オリフラをブロックに当接させた状態を示す
図１に対応する平面図。
ーハの第１オリフラをブロックに当接させた状態を示す
図１に対応する平面図。
【図３】ブロックをウェーハの第１オリフラから離した
状態を示す図１に対応する平面図。
状態を示す図１に対応する平面図。
【図４】プラットフォームをウェーハとともに第１方向
に移動して第１オリフラを測定具の測定子の測定範囲に
移動した状態を示す図１に対応する平面図。
に移動して第１オリフラを測定具の測定子の測定範囲に
移動した状態を示す図１に対応する平面図。
【図５】図２のＡ−Ａ線断面図。
【図６】図３のＢ−Ｂ線断面図。
【図７】図４のＣ−Ｃ線断面図。
【図８】オリフラの加工精度が悪いウェーハの平面図。
１０ 直線性測定装置
１１ ベース
１１ａ 直線軌道
１２ 係合手段
１３ プラットフォーム
１８ ウェーハ
１８ａ 第１オリフラ（オリエンテーションフラット）
１８ｂ 第２オリフラ（オリエンテーションフラット）
１９ ブロック
１９ａ 平坦面
２１ リリース手段
３４ ウェーハ固定手段
３６ 吸引口
３７ 吸引通路
３９ 測定具
３９ａ 測定子
３９ｃ ディスプレイ
Ｌ 第１間隔
Ｍ 第２間隔
フロントページの続き
(71)出願人 599019270
ミツビシシリコンアメリカ コーポレーシ
ョン
Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｓｉｌｉｃｏｎ
Ａｍｅｒｉｃａ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
アメリカ合衆国 94303−0912 カリフォ
ルニア パロアルト スート100 ファバ
ープレイス 2445
2445 Ｆａｂｅｒ Ｐｌａｃｅ，Ｓｕｉｔ
ｅ100，Ｐａｌｏ Ａｌｔｏ ＣＡ94303−
0912 ＵＳＡ
(72)発明者 シンディ コハネク
アメリカ合衆国 オレゴン セーラム エ
ヌイー タンデム アベニュー 1351 ミ
ツビシシリコンアメリカ コーポレーショ
ン内
(72)発明者 ゲーリー バブ
アメリカ合衆国 オレゴン セーラム エ
ヌイー タンデム アベニュー 1351 ミ
ツビシシリコンアメリカ コーポレーショ
ン内
Ｆターム(参考） 2F062 AA55 AA62 BB08 BC28 EE01
EE62 FF03 FF25 GG18 MM02
MM07 MM09 MM11
Claims (5)
- 【請求項１】 １又は２以上の直線軌道(11a)が第１方
向に形成されたベース(11)と、 前記直線軌道(11a)に係合手段(12)を介して係合するこ
とにより前記第１方向に沿って移動可能に構成され更に
オリエンテーションフラット(18a,18b)を有するウェー
ハ(18)が載るための上面が平坦に形成されたプラットフ
ォーム(13)と、 前記第１方向と直交する第２方向に前記直線軌道(11a)
と所定の第１間隔(L)をあけて前記ベース(11)に取付け
られ前記プラットフォーム(13)に載ったウェーハ(18)の
オリエンテーションフラット(18a,18b)が当接可能であ
って前記第１方向に平行な平坦面(19a)を有するブロッ
ク(19)と、 前記プラットフォーム(13)に設けられ前記ウェーハ(18)
を前記プラットフォーム(13)に載せた状態で固定するウ
ェーハ固定手段(34)と、 前記第１方向に前記ブロック(19)と所定の第２間隔(M)
をあけて前記ベース(11)に取付けられ前記直線軌道(11
a)に対向して前記第２方向に変位可能な測定子(39a)を
有する測定具(39)とを備え、 前記測定子(39a)の先端と前記直線軌道(11a)との間隔を
Ｎとするとき、次の式（１）が満たされたことを特徴と
するウェーハのオリエンテーションフラットの直線性測
定装置。 ０μｍ＜（Ｌ−Ｎ）≦１００μｍ ……（１） - 【請求項２】 ウェーハ固定手段(34)が、プラットフォ
ーム(13)に形成されウェーハ(18)を吸引固定する吸引口
(36)と、前記吸引口(36)に連通する吸引通路(37)と、前
記吸引通路(37)に設けられ前記吸引口(36)を負圧又は大
気圧に切換える切換弁とを有する請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 ブロック(19)を直線軌道(11a)から離れ
る第２方向に移動させるリリース手段(21)がベース(11)
に取付けられた請求項１記載の装置。 - 【請求項４】 測定具(39)に表示されたデータを電子信
号として出力可能に構成された請求項１記載の装置。 - 【請求項５】 直径が５０〜３００ｍｍの範囲のウェー
ハ(18)に適用可能な請求項１記載の装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001183702A JP3849072B2 (ja) | 2001-06-18 | 2001-06-18 | ウェーハのオリエンテーションフラットの直線性測定装置 |
| US09/904,425 US7905030B2 (en) | 2001-06-18 | 2001-07-12 | Linearity measuring apparatus for wafer orientation flat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001183702A JP3849072B2 (ja) | 2001-06-18 | 2001-06-18 | ウェーハのオリエンテーションフラットの直線性測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003004406A true JP2003004406A (ja) | 2003-01-08 |
| JP3849072B2 JP3849072B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=19023601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001183702A Expired - Lifetime JP3849072B2 (ja) | 2001-06-18 | 2001-06-18 | ウェーハのオリエンテーションフラットの直線性測定装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7905030B2 (ja) |
| JP (1) | JP3849072B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021020843A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | Ｊｘ金属株式会社 | リン化インジウム基板 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103940400B (zh) * | 2014-04-24 | 2016-05-25 | 无锡晶美精密滑轨有限公司 | 滑轨外轨测量装置 |
| CN103940318B (zh) * | 2014-04-24 | 2016-09-21 | 无锡晶美精密滑轨有限公司 | 滑轨内轨测量装置 |
| CN105066845B (zh) * | 2015-08-17 | 2018-01-09 | 光隆精密工业（福州）有限公司 | 废气调节阀座内沟平面段差数显检具及其检测方法 |
| CN113084251B (zh) * | 2021-05-06 | 2023-06-27 | 安徽智扬门业股份有限公司 | 多角度切割的防盗门辅助定位平台 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1187348B (it) * | 1985-04-01 | 1987-12-23 | Finike Italiana Marposs | Apparecchiatura per il controllo di dimensioni di pezzi meccanici |
| US4833790A (en) * | 1987-05-11 | 1989-05-30 | Lam Research | Method and system for locating and positioning circular workpieces |
| US5205046A (en) * | 1991-06-05 | 1993-04-27 | Ford Motor Company | Method for measuring surface waviness |
| US5433013A (en) * | 1993-09-24 | 1995-07-18 | Micron Custom Manufacturing Services, Inc. | Fixture for alignment of vacuum nozzles on semiconductor manufacturing equipment |
| JPH087316A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-12 | Canon Inc | 光学的情報記録再生装置 |
| US5735054A (en) * | 1995-06-02 | 1998-04-07 | Cole; Jerry W. | Fixture for a table saw |
| US5639953A (en) * | 1996-02-26 | 1997-06-17 | Hanson Research Corporation | Alignment verification device for a rotating shaft |
| JPH1022368A (ja) * | 1996-07-03 | 1998-01-23 | Fujitsu Ltd | ウェーハのオリエンテーションフラット位置決め方法及びウェーハチャック及び半導体製造／試験装置 |
| US6148532A (en) * | 1998-10-30 | 2000-11-21 | General Electric Company | Flatness gage |
| US6185830B1 (en) * | 1999-03-25 | 2001-02-13 | Lucent Technologies, Inc. | Semiconductor wafer fixture for alignment in a grating exposure process |
| US6408532B1 (en) * | 2000-11-01 | 2002-06-25 | The Clorox Company | S-gauge |
-
2001
- 2001-06-18 JP JP2001183702A patent/JP3849072B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-07-12 US US09/904,425 patent/US7905030B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021020843A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | Ｊｘ金属株式会社 | リン化インジウム基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7905030B2 (en) | 2011-03-15 |
| JP3849072B2 (ja) | 2006-11-22 |
| US20020189118A1 (en) | 2002-12-19 |
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| A977 | Report on retrieval |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090908 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100908 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110908 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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