JP2002543294A - 水性系における腐食を禁止するための方法及び組成物 - Google Patents

水性系における腐食を禁止するための方法及び組成物

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JP2002543294A JP2000615429A JP2000615429A JP2002543294A JP 2002543294 A JP2002543294 A JP 2002543294A JP 2000615429 A JP2000615429 A JP 2000615429A JP 2000615429 A JP2000615429 A JP 2000615429A JP 2002543294 A JP2002543294 A JP 2002543294A
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アーハードト，ウィリアム・シー
チェン，ロンシュン
スタスニー，ドーン
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    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00—Specific treatment goals
    • C02F2303/08—Corrosion inhibition

Abstract

(57)【要約】 水性系と接触する、ステンレス鋼のような金属の腐食を制御するための方法であって、該系に式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、低級アルキル、分岐低級アルキル、アリール、置換アリール、アルキルアリール、置換アルキルアリール及びヘテロ環状置換アリールより成る群から選択されるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが１４以下の炭素原子を有し、そしてｎは１または２である）の少なくともテトラゾリウム化合物を導入することを含み、ここで該テトラゾリウム化合物は所望によって中性の電荷を得るために必要であるときには結合した水溶性イオン種を有することができる、前記の方法。

Description

【発明の詳細な説明】
関連出願への相互参照 本出願は、１９９８年８月１９日出願の０９／１３６８８４号の一部継続出願
、１９９９年５月３日出願の０９／３０３５９６４号の一部継続出願、１９９９
年５月３日出願の０９／３０４１８１号の一部継続出願である。これらの出願の
それぞれの開示は参照によって全体においてここに組み込まれる。
【０００１】 水性系と関連する装置の製造において金属が広く使用されている。「水性系」
とは、通常水性流体を含むかまたはこれと接触する金属を含む全ての系を意味す
る。水系の流体は典型的には、少なくとも約５０重量％の水を含み、残部が固体
（懸濁及び／または溶解している）及び／または非水性流体である流体である。
用語「水性流体」とは、水系の流体のみならず、主として非水性であるが腐食を
限定するために水溶性処理成分が有効に使用し得るために十分な水（少なくとも
約５重量％）が存在する流体を含むことが意図される。そのような非水性の流体
は水と混和性または非混和性であり得る。
【０００２】 典型的な水性系は、蒸発によって冷却源を得る開放再循環冷却系、閉鎖ループ
冷却システム、ボイラー及び類似の水蒸気発生システム、熱交換装置、逆浸透装
置、油製造システム、フラッシュエバポレーター、脱塩プラント、ガス洗浄器、
溶鉱炉、紙及びパルプ処理装置、蒸気発電プラント、地熱システム、食品及び飲
料処理装置、砂糖エバポレーター、採鉱サーキット、ビン洗浄装置、土壌灌漑シ
ステム、住宅向けまたは商業的用途のための閉鎖サーキット加熱システム、水性
系冷凍システム、ダウンウエル（down-well）システム、水性機械加工流体（例
えば、ボーリング、ミリング、リーミング、ブローチ削り、絞り、旋削、切断、
ソーイング、研削、及びねじ山切削操作、または非切断付形、スピニング、延伸
または回転操作における用途）、水性すりみがきシステム、水性グリコール抗凍
結システム、水／グリコール液圧流体、鉄表面予備処理、ポリマーコーティング
システム等を含むがこれらに限定されない。そのような系において種々のタイプ
の水、例えば淡水、汽水、海水、ブライン、下水流出水、産業排水等が利用でき
る。
【０００３】 本発明の組成物を使用して処理され得る水性系は、溶解した酸素、例えば周囲
空気からの酸素を吸収することによって得られるかもしれない酸素を含み得るが
、実質的または完全に酸素を含んでいなくてもよい。さらに、該水性系は、二酸
化炭素、硫化水素、またはアンモニアのような他の溶解ガスを含んでいてもよく
、または実質的または完全にそのようなガスを含まなくてもよい。
【０００４】 水性系において遭遇する腐食にはいくつかの異なったタイプがあり得る。例え
ば、水性系は金属表面全部にわたり均一な腐食を有し得る。水性系はまた、点蝕
またはクレバス腐食のような局所的な腐食を有し得る。これらでは腐食は金属表
面上のある場所にのみ見いだされる。しばしば、局所的腐食の制御が、水性系内
の金属装置の有用寿命を延ばすことにおいて重要な因子であり得る。特に、塩素
及び硫酸塩のような腐食性アニオンの高い含量を含む水性系は特に、全体的及び
局所的な攻撃をこうむりがちである。これらの攻撃的なアニオンは水性系のため
に使用される水源中に、問題を生じるレベルで存在し得るか、またはこれらは、
蒸発冷却系のような水を蒸発させる系の部分であるので、水性系内に有害なレベ
ルに濃縮され得る。
【０００５】 局所的な腐食は系の通常操作に対して、全体的な腐蝕よりも大きな脅威となり
得る。これは、そのような腐食が一カ所に強く起こり、かつ流体流れを運ぶ系構
造中に孔を生じ得るからである。明らかに、これらの孔があくことは、修理がで
きるように全体の水性系のシャットダウンを必要とする漏れを生じ得る。腐食の
問題は通常、莫大な維持費用、並びに装置の破損の結果としてかかる経費を生じ
る。従って、水性系内の金属腐食の禁止が重要である。
【０００６】 以下の説明において、我々は、オリゴマー、ポリマー、コオリゴマー、及びコ
ポリマーなる用語を使用する。オリゴマーによって、我々は、生成物中に組み込
まれるモノマー単位の数が２〜約１０である場合の、単一のモノマーの重合によ
って製造される物質を意味する。ポリマーによっては、生成物へ組み込まれるモ
ノマー単位の数への制限無しに、単一のモノマーの重合によって製造される物質
を意味する。コオリゴマーによっては、生成物中に組み込まれるモノマー単位の
全数が２〜約１０である、１より多いタイプのモノマー（２、３、４等の異なる
モノマー）の重合によって製造される物質を意味する。コポリマーによっては生
成物へ組み込まれるモノマー単位の数への制限無しに、１より多いタイプのモノ
マー（２、３、４等の異なるモノマー）の重合によって製造される物質を意味す
る。
【０００７】 水性系において、金属、例えば鋼の以下の腐食反応が起こる。
【０００８】
【化６１】
【０００９】 相当する金属またはアロイよりも高い還元電位を有するテトラゾリウム化合物
が使用されると、テトラゾリウム分子の還元が金属、例えば鋼またはステンレス
鋼表面上で容易に起こり、不溶性の物質を形成し、これによって鋼のさらなる腐
食を防止する。
【００１０】 本発明の方法は、産業水を次の一般式のテトラゾリウム塩で処理することを含
む。
【００１１】
【化６２】
【００１２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、種々の有機及び無機置換基、例えば低級アルキル
、アリール、アルアルキル、及びヘテロ環状置換アリールより成る群から選択さ
れるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のいずれも１４より多い炭素原子を有さず、そしてｎ
は１または２であり得る）。
【００１３】 この化合物は、上記構造の電荷のバランスをとるために正または負の反対イオ
ンを含み得る。このタイプの化合物の化学的または電気化学的還元はテトラゾリ
ニル及びホルマザンを生じ、これは容易に金属表面上に吸着し、そして腐食保護
のためのフィルムを与える。
【００１４】 我々は、次の一般式によって与えられるある種のテトラゾリウム化合物が、広
い範囲の化合物と共同的に結合して水性系内の金属のための有効な全体的または
局所的な腐食保護を与えることも発見した。
【００１５】
【化６３】
【００１６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、種々の有機及び無機置換基、例えば低級アルキル
、分岐低級アルキル、アリール、置換アリール、アルキルアリール、置換アルキ
ルアリール、及びヘテロ環式置換アリールより成る群から選択されるが、Ｒ1、
Ｒ2及びＲ3のいずれも１４より多い炭素原子を有さず、そしてｎは１または２で
あり得る）。もしテトラゾリウム化合物と組み合わせるために選択された成分も
スケール禁止剤及び／または付着禁止剤であれば、この組合せはまたこれらの水
性系のスケール及び／または付着禁止をも提供する。
【００１７】 アニオン及び／またはカチオンは、使用される置換基に依存して、電荷のバラ
ンスをとるために上記構造と結合し得る。もしＲ1、Ｒ2及びＲ3の全てが中性で
あれば、そのときは上式中に示される構造は正に荷電されており、そしてアニオ
ン種が必要である。
【００１８】 バランスをとるために利用されるアニオン及び／またはカチオンは、ハロゲン
、硝酸塩、亜硝酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、燐酸塩、及び遷移金属酸素
化物のようなアニオン及び／またはカチオンのいずれでもよい。
【００１９】 アニオン及び／またはカチオンは、使用する置換基に依存して、電荷のバラン
スをとるために上記構造体と結合し得る。もしＲ1、Ｒ2及びＲ3の全てが中性で
あるときは、上式中に示された構造は正に帯電しており、そしてアニオン種が必
要である。例えば、本発明にしたがうテトラゾリウム化合物は中性である。最も
単純な場合では、もしＲ1、Ｒ2及びＲ3の全てが中性であれば、一の負電荷を有
するアニオン、例えばＣｌ-である反対イオンが、ｎ＝１についての変化のバラ
ンスをとるために必要とされる。ｎ＝２については、一の負電荷を有する２つの
アニオン、または２の負電荷を有する１つのアニオン、例えばＳＯ4 -2が、電荷
のバランスをとるために必要である。さらに、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3と関係する電荷
が中性でなく、例えばもし基がスルホノ、カルボキシル及び／または第４級窒素
のようなものであれば、関係する反対イオンがテトラゾリウム化合物についての
中性の電荷を提供するために存在すべきである。従って、例えばもしｎ＝２であ
り、Ｒ1が単一のカルボニル基（ＣＯＯ-）で置換されていれば、テトラゾリウム
は塩化亜鉛塩（Ｚｎ2+はこのカルボニル基の２の電荷を中和し、そしてＣｌ-は
２つの環窒素の正の電荷を中和する）であることができる。
【００２０】 本発明に従って利用し得る、このようなテトラゾリウム化合物の例は、ニトロ
ブルー・テトラゾリウムクロライド（3,3'-(3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレ
ン)-ビス-[2-p-ニトロフェニル-5-フェニル-2H-テトラゾリウムクロライド]、以
降ＮＢＴと呼ぶ）、ジスチリルニトロブルーテトラゾリウムクロライド（2,2'-
ジ-p-ニトロフェニル-5,5'-ジスチリル-3,3'-[3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニ
レン]-テトラゾリウムクロライド、以降ＤＮＢＴと呼ぶ）、テトラニトロブルー
テトラゾリウムクロライド（3,3'-(3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-
[2,5-p-ニトロフェニル-2H-テトラゾリウムクロライド]、以降ＴＮＢＴと呼ぶ）
、及びインドニトロテトラゾリウムクロライド（2-(4-インドフェニル)-3-(4-ニ
トロフェニル)-5-フェニルテトラゾリウムクロライド、以降ＩＮＴと呼ぶ）を含
む。
【００２１】 水性系中の金属は、腐食及び／またはスケール発生を防ぐことができるいかな
る金属であってもよい。例えば、該金属は非鉄金属、例えば銅、アルミニウム、
または鉄金属、例えば鉄、鋼（例えば低炭素鋼及びステンレス鋼）、主たるアロ
イ元素としてクロムを含む鉄系アロイ、例えば約１１〜約３０％のＣｒを含む鋼
（これは多くの環境への優秀な腐食抵抗を示す）であることができる。
【００２２】 本発明は、テトラゾリウム化合物がそれ自体他の物質（他の抗腐食及び／また
はスケール禁止成分）の添加無しに使用される場合においてさえ、低濃度のテト
ラゾリウム化合物が使用できるという特に有利な結果を与える。このことは特に
、テトラゾリウム化合物が水性系中に酸素の存在下に、処理されるべき系のｐＨ
が約６以上である場合、例えば冷却水システム、水蒸気発生システム、ガス洗浄
システム及びパルプ及び製紙システムに利用されるときに特にそうである。
【００２３】 本発明のテトラゾリウム化合物は好ましくは水性系に約０．１〜約５０ｐｐｍ
の範囲の活性処理剤量で添加でき、約１〜約２５ｐｐｍの量が特に好ましい。 １つの好ましい面において、本発明は水性系と接触しているステンレス鋼の腐
食を制御するための方法に関し、該方法は該系に次式の少なくとも１種のテトラ
ゾリウム化合物を導入することを含み
【００２４】
【化６４】
【００２５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、低級アルキル、分岐低級アルキル、アリール、置
換アリール、アルキルアリール、置換アルキルアリール及びヘテロ環状置換アリ
ールより成る群から選択されるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが１４以下の炭素原
子を有し、そしてｎは１または２である）、そのようなテトラゾリウム化合物は
所望によって中性の電荷を得るために必要であれば結合した水溶性のイオン種を
有する。
【００２６】 この水性系は少なくとも１種の他の水性系処理物質（テトラゾリウム化合物を
実質的に還元しないように選択されたもの）を含むことができる。そのような物
質はテトラゾリウム化合物と共に、またはそれと別に加えることができる。
【００２７】 他の水性系処理物質は、無機のホスフェート、ボレート、ナイトライト（亜硝
酸塩・エステル）、水中で金属アニオンを放出する化合物、２，３−ジヒドロキ
シ安息香酸、１，１０−フェナントロリン、ポリカルボキシレート、ヒドロカル
ビルポリカルボキシレート、アルキルヒドロキシカルボン酸、アミノヒドロキシ
コハク酸、カルボキシアミン、ポリエポキシコハク酸、変性ポリエポキシコハク
酸、モノホスホン酸、ジホスホン酸、ホスホノカルボン酸、ヒドロキシホスホノ
カルボン酸、アミノホスホン酸、ホスホノメチルアミンオキサイド、ポリマーア
ミンオキサイド、ポリエーテルポリアミノメチレンホスホネート、ポリエーテル
ポリアミノ−メチレンホスホネートＮ−オキサイド、イミノアルキレンホスホン
酸、サルコシンの長鎖脂肪酸誘導体；テロマーの、コテロマーの、ポリマーのま
たはコポリマーの燐含有カルボキシレート、珪酸アルカリ金属塩、モノフルオロ
ホスフェート、アミン、ジアミン、アルカノールアミン、エーテルアミン、脂肪
アミン及びジアミン、４級化アミン、オキシアルキレート化アミン、アルキルピ
リジン、テトラゾール、イミダゾリン及び置換イミダゾリン、アミドアミン、ポ
リアミン、ポリアルキレンポリアミン、ベンゼンスルホン酸のアルキル誘導体、
ベンゾエート及び置換ベンゾエート、アミノベンゾエート、サリチレート、ダイ
マー−トリマー酸、石油オキシデート、ボログルコネート；リグニン、リグノス
ルホネート、タンニン；直鎖Ｃ5〜Ｃ11モノカルボキシレート、Ｃ4〜Ｃ15α，ω
−ジカルボキシレート；カルボン酸及びメルカプトカルボン酸のアミン塩、アミ
ノ酸、ポリアミノ酸、ヒドロキシエーテル酸及び関連するラクトン化合物、Ｎ−
アシルイミノジ酢酸；トリアジン・ジ−及びトリ−カルボン酸、ホスホ−及びホ
スフェートエステル；並びにモノフルオロホスフェート；これらの水溶性塩、及
びこれらの混合物より成る群から選択される。
【００２８】 さらに、上記のように、本発明はまた、１９９８年８月１９日出願の米国特許
出願番号０９／１３６８８４号、１９９９年５月３日出願の０９／３０３５９6
号、１９９９年５月３日出願の０９／３０４１８１号、１９９９年５月１２日出
願の０９／３０９５６４号に開示される化合物のような他の化合物と組み合わせ
たときに有利な結果を提供する。これらの開示はここに参照によって組み込まれ
る。
【００２９】 相乗的に改善された腐食保護を与えるためにテトラゾリウム化合物と組合せ得
る化合物の例は、オルトホスフェートまたはポリホスフェートのような無機ホス
フェート、ボレート、ナイトライト、及び水中で金属アニオンを放出する化合物
、ここで金属アニオンは、モリブデン酸塩、タングステン酸塩、バナジウム酸塩
、メタバナジウム酸塩、クロム酸塩またはこれらの混合物より成る群から選択さ
れる。
【００３０】 無機ホスフェートはオルトホスフェート、ポリホスフェート、これらの水溶性
塩及びこれらの混合物、例えばオルトリン酸及びピロリン酸の混合物、またはこ
れらの水溶性塩、例えばこれらのナトリウム塩及びカリウム塩を含むことができ
る。
【００３１】 ボレートは種々のボレート、例えばテトラボレート、メタボレート、及び／ま
たはオルトボレート（例えばテトラほう酸ナトリウム）またはテトラほう酸ナト
リウムの水和物を含む得る。
【００３２】 ナイトライトは亜硝酸ナトリウムのような亜硝酸塩・エステルを含む。 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質はポリアクリル酸またはポリマ
レイン酸、例えば１９９９年５月３日に出願の上記の米国特許出願０９／３０４
１８１号に開示されるもののようなものである。特に好ましいポリアクリル酸及
びポリマレイン酸は約８０００以下の分子量を有する。
【００３３】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質はポリカルボキシレートを含む
。ポリカルボキシレートは、カルボキシル基で複数置換されている、脂肪族鎖中
に４〜約２０の炭素原子を含む単一の脂肪族化合物、またはその水溶性塩、また
はポリマー化合物（例えばＣ4〜Ｃ15α，ω−ジカルボキシレートまたは１，２
，３，４−ブタンテラカルボン酸のような化合物）であり得る。ポリマーポリカ
ルボキシレートは、カルボキシル基を含むエチレン不飽和モノマーのホモポリマ
ーまたはコポリマー（ターポリマー、テトラポリマー等を含む）であり得る。ポ
リカルボキシレートは２種以上の異なるエチレン不飽和モノマーの重合から得ら
れるコポリマーを含み、各モノマーは１以上のカルボキシル基を含む。そのよう
なポリマーポリカルボキシレートの例は、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、及
び無水ポリマレイン酸、及びそれらの水溶性塩を含む。さらに、ポリカルボキシ
レートは米国特許第４９５７７０４号に開示されるヒドロカルビルポリカルボキ
シレートであることができ、該特許は参照によってここに組み込まれる。
【００３４】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、次式のアルキルヒ
ドロキシカルボン酸またはそのようなヒドロキシカルボン酸の混合物を含む。
【００３５】
【化６５】
【００３６】 ［ａ、ｂ及びｃは０〜６の整数であり、（ａ＋ｂ＋ｃ）＞０であり、ＲB1、ＲB2
、ＲB3はＣ＝ＯまたはＣＹＺ（Ｙ及びＺは、H、OH、CHO、COOH、CH3、CH2(OH)、
CH(OH)2、CH2(COOH)、CH(OH)COOH、CH2(CHO)及びCH(OH)CHOより成る群から別々
に選択され、その選択は分子が十分に水和された形態に記述されたときに最小限
の１つのＯＨ基を有するようになされ、そしてＲB4はＨまたはＣＯＯＨである)
を含む］。またこれらの酸の化学的に同等の環状、脱水、及び水和された形態、
及び水中で上記化合物を形成する加水分解可能なエステル及びアセタール、また
はそのようなアルキルヒドロキシカルボン酸の水溶性塩を含む。このようなヒド
ロキシカルボン酸の例は、酒石酸、メソ酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グルコ
ヘプトン酸、ケトマロン酸、及び糖酸、及びそれらの水溶性塩を含む。
【００３７】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、アミノヒドロキシコハク酸
化合物（またはそのようなアミノヒドロキシコハク酸化合物の混合物）、例えば
米国特許第５１８３５９０号に開示されるようなもの（参照によってここに組み
込まれる）を含む。適切なアミノヒドロキシコハク酸は、次の一般式の化合物よ
り成る群から選択されるもの、及びこれらの水溶性塩を含む。
【００３８】
【化６６】
【００３９】 [式中、ＲC1はＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキル（所望により−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−
ＳＯ3Ｈまたはフェニルにより置換されていてもよい）、Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキ
ル、またはフェニル（所望により−ＯＨまたは−ＣＯＯＨにより置換されていて
もよい）であり、そしてＲC2はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル（所望により−ＨまたはＣ
ＯＯＨにより置換されていてもよい）であり、特に−ＣＨ(ＣＯ2Ｈ)ＣＨ(ＯＨ)(
ＣＯ2Ｈ)を含む］；及び
【００４０】
【化６７】
【００４１】 ｛ＲC2は上記の通りであり、ＺCは次のi)〜iv)より成る群から選択される： ｉ）(ＣＨ2)k［ｋは２〜１０の整数である］、 ｉｉ）−(ＣＨ2)2−ＸC−(ＣＨ2)2−［ＸCは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲC3−（ＲC3 はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アシル、
−Ｃ(Ｏ)ＯＲC4（ＲC4はＣ1〜Ｃ6アルキルまたはベンジルより成る群から選択さ
れる）及び一般式
【００４２】
【化６８】
【００４３】 （ＲC2は上記の通りである）を有する残基より成る群から選択される）］、 ｉｉｉ）一般式
【００４４】
【化６９】
【００４５】 （ＹはＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、アルコキシ、ハロゲン、−ＣＯ2Ｈ、または−Ｓ
Ｏ3Ｈであり、ｍは独立して０または１であり、そしてｐは１または２である）
を有する残基、並びに （ｉｖ）一般式
【００４６】
【化７０】
【００４７】 （ＲC5及びＲC6は独立してＨまたはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、ＱはＨまたはＣ1
〜Ｃ6アルキルであり、ｓは０、１または２であり、ｔは独立して０、１、２ま
たは３であり、ｑは０、１、２、または３であり、そしてｒは１または２である
）を有する残基。そのようなアミノヒドロキシコハク酸化合物の好ましい例は、
イミノジ（２−ヒドロキシコハク酸）、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシ
ニル）−１，６−ヘキサンジアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサク
シニル）−ｍ−キシレンジアミン、並びにこれらの水溶性塩を含む。オルト燐酸
またはその水溶性塩の混合物を少なくとも１種のアミノヒドロキシコハク酸と共
に使用することが好ましい。
【００４８】 テトラゾリウム化合物と組み合わせて使用できる追加の物質は、エポキシコハ
ク酸のようなカルボキシル化剤と複数の窒素原子を含むアミン（例えば国際特許
出願ＷＯ９６／３３９５３に開示されるようなポリエチレンポリアミン）との反
応生成物であるカルボキシアミン化合物を含む。この国際特許出願を参照によっ
てここに組み込む。
【００４９】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は次の一般式ポリエポキシコハ
ク酸（ＰＥＳＡと呼ぶ）を含む。
【００５０】
【化７１】
【００５１】 ［ｌは約２〜約５０、好ましくは２〜２５であり、ＭTは水素または水溶性カチ
オン、例えばＮａ+、ＮＨ4 +またはＫ+であり、そしてＲTは水素、Ｃ1-4アルキル
またはＣ1-4置換アルキル（好ましくはＲTは水素である）である］。好ましくは
ＲTは水素であり、そしてｌは約２〜約１０、約４〜約７の範囲である。処理水
性系におけるＰＥＳＡの使用は、米国特許第５０６２９６２号及び５３４４５９
０号に開示されており、これらの特許を参照によってここに組み込む。オルトホ
スフェート、ポリエポキシコハク酸、アクリル酸／アリルヒドロキシプロピルス
ルホン酸ポリマー、及びアゾールの組合せを使用する腐食禁止法が米国特許第５
２５６３３２号に開示されており、これらの特許を参照によってここに組み込む
。好ましい混合物は、オルト燐酸及び／またはその水溶性塩及びポリエポキシコ
ハク酸の混合物を含む。
【００５２】 次の一般式の変性ポリエポキシコハク酸も本発明のテトラゾリウム化合物と有
効に組合せ得る。
【００５３】
【化７２】
【００５４】 式中、ＲD1（存在するとき）はＨ、置換または非置換アルキルまたはアリール基
（水溶液中での可溶性が失われる長さ以下の炭素鎖を有するもの）、またはエチ
レン不飽和化合物の重合後に得られる繰返単位であり；ＲD2及びＲD3はおのおの
独立してＨ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4置換アルキルであり；ＺDはＯ、
Ｓ、ＮＨ、またはＮＲD1（ＲD1は上記の通りである）であり、ｕは１より大きい
正の整数であり；ｆは正の整数であり、そしてＭDはＨ、水溶性カチオン（例え
ばＮＨ4 +、アルカリ金属）または１〜３の炭素原子を有する非置換低級アルキル
である（ＲD1が存在しないときは、ＺDはＭDＯ3Ｓであり、ＭDは上記した通りで
ある）。そのような化合物の使用は、米国特許第５８７１６９１号及び５４８９
６６６号に開示され、これらの特許は参照によってここに組み込まれる。そのよ
うな変性ポリエポキシコハク酸の例は、上式により誘導体を含み、ここでＲD1は
メタ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−（ｍ−キシリレン）であり、ＺDは−ＮＨ−であ
り、ＲD2及びＲD3の両方はＨであり、ｆは２であり、そしてＭDはＮａまたはＨ
である。実際的な例は典型的には、個々の分子がｕの範囲を有する混合物であり
、以降ｍ−キシレンジアミン／ＰＥＳＡ誘導体と呼ぶ。
【００５５】 テトラゾリウム化合物と組み合わせ得る追加の化合物は２，３−ジヒドロキシ
安息香酸及び１，１０−フェナントロリンを含む。 テトラゾリウム化合物と組み合わせ得る追加の化合物は次の一般式を有するモ
ノホスホン酸
【００５６】
【化７３】
【００５７】 （式中、ＲFはＣ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキル残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖または
分岐鎖アルケニル残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル残基、Ｃ6〜Ｃ10アリール残基
、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキル残基であり、ＲFはさらに、ヒドロキシ、アミノ
、またはハロゲンから独立して選択される基によって単置換、または複数置換さ
れていてよい）、及び次の一般式を有するジホスホン酸化合物
【００５８】
【化７４】
【００５９】 （ＲKはＣ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキレン残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖または分岐
鎖アルケニレン残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキレン残基、Ｃ6〜Ｃ10アリーレン残
基、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキレン残基であり、ＲKはさらに、ヒドロキシ、ア
ミノ、またはハロゲンから独立して選択される基によって単置換、または複数置
換されていてよい）、またはこれらの水溶性塩を含む。
【００６０】 テトラゾリウム化合物と組み合わせ得る追加の物質は、米国特許第３８８６２
０４号、３８８６２０５号、３９２３８７６号、３９３３４２７号、４０２０１
０１号及び４２４６１０３号に開示されるもののようなホスホノカルボン酸（ま
たはこのようなホスホノカルボン酸の混合物）を含み、これら特許の全てを参照
によってここに組み込む。好ましいものは、次の一般式によって定義されるホス
ホノカルボン酸、またはこれらの水溶性塩である。
【００６１】
【化７５】
【００６２】 ［ＲH1はＨ、１〜４の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、またはアルキニ
ル基、アシル、アリール、シクロアルキル、またはアルアルキル基、または次か
ら選択される基であり
【００６３】
【化７６】
【００６４】 （ＲH2はＨ、炭素原子数１〜４のアルキル基、またはカルボキシル基である）、
そしてＸHは次のものから選択される
【００６５】
【化７７】
【００６６】 （−ＰＯ3Ｈ2基はホスホノ基
【００６７】
【化７８】
【００６８】 である）］。このような好ましいホスホノカルボン酸の例は２−ホスホノブタン
−１，２，４−トリカルボン酸、またはその水溶性塩である。 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、米国特許第４６８９２００
号及び４８４７０１７号に開示されるもののようなヒドロキシホスホノカルボン
酸（またはそのようなヒドロキシホスホノカルボン化合物の混合物）であり、こ
れらの両特許を参照によって組み込む。適切なヒドロキシホスホノカルボン酸は
、次の一般式を有するもの、及びその水溶性塩を含む。
【００６９】
【化７９】
【００７０】 （式中、ＲEはＨ、Ｃ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキル残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖ま
たは分岐鎖アルケニル残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル残基、Ｃ6〜Ｃ10アリール
残基、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキル残基であり、ＸEは所望の基であって、Ｃ1
〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキレン残基、Ｃ2〜Ｃ10直鎖または分岐鎖アルケニ
レン残基、またはＣ6〜Ｃ10アリーレン残基である）。そのようなヒドロキシホ
スホノカルボン酸の好ましい例は、２−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸またはその水
溶性塩である。
【００７１】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、米国特許第３６１９４２７
号、３７２３３４７号、３８１６３３３号、４０２９６９６号、４０３３８９６
号、４０７９００６号、４１６３７３３号、４３０７０３８号、４３０８１４７
号及び４６１７１２９号に開示されるもののようなアミノホスホン酸であり、こ
れらの特許は参照によってここに組み込まれる。適切なアミノホスホン酸は次の
一般式を有するもの、またはその水溶性塩である：
【００７２】
【化８０】
【００７３】 ［式中、ＲG2は約１〜約４の炭素原子を有する低級アルキレン、またはアミン、
ヒドロキシ、またはハロゲン置換低級アルキレンであり；ＲG3はＲG2−ＰＯ3Ｈ2 、Ｈ、ＯＨ、アミノ、置換アミノ、または前に定義したＲFであり；ＲG4はＲG3
または次の一般式に表わされる基である：
【００７４】
【化８１】
【００７５】 （ＲG5及びＲG6はそれぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、アミノ、置換アミノ、または前
に定義したＲFであり；ＲG7はＲG5、ＲG6または基ＲG2−ＰＯ3Ｈ2（ＲG2は前に
定義した通りである）であり；ｖは１〜約１５の整数であり；そしてｗは１〜約
１４の整数である）］。そのようなアミノホスホン酸の例は、ジエチレントリア
ミンペンタ（メチレンホスホン酸）、またはその水溶性塩である。
【００７６】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、水溶性ホスホノメチルアミ
ンオキサイド（またはそのような水溶性ホスホノメチルアミンオキサイドの混合
物）、例えば米国特許第５０５１５３２号、５０９６５９５号及び５１６７８６
６号に開示されるものであり、これらの特許を参照によってここに組み込む。適
切なホスホノメチルアミンオキサイドは次の一般式を有するもの、またはこれら
の水溶性塩を含む：
【００７７】
【化８２】
【００７８】 ［式中、ＲA1及びＲA2は次の（１）または（２）を満たす： （１）ＲA1はヒドロカルビル、及びヒドロキシ置換ヒドロカルビル、アルコキシ
置換ヒドロカルビル、カルボキシ置換ヒドロカルビル及びスルホニル置換ヒドロ
カルビルより成る群から選択され；そしてＲA2はヒドロカルビル、及びヒドロキ
シ置換ヒドロカルビル、アルコキシ置換ヒドロカルビル、カルボキシ置換ヒドロ
カルビル及びスルホニル置換ヒドロカルビル、−ＣＨ2ＰＯ3Ｈ2、並びに
【００７９】
【化８３】
【００８０】 より成る群から選択されるか、または （２）ＲA1及びＲA2は共に、３〜５個の炭素原子を環中に有する脂環式の環を形
成する］。ヒドロカルビルは、アルキル、アリール、及びアルカリール基を含み
、これらはアミンオキサイドを水に不溶性にしない。そのようなホスホノメチル
アミンオキサイドの好ましい例はＮ，Ｎ−ビス−ホスホノメチルエタノールアミ
ンＮ−オキサイド（以降ＥＢＯと称する）またはこの水溶性塩である。
【００８１】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、米国特許第５６２９３８５
号（参照によってここに組み込む）に記載されるポリマーアミンオキサイド、米
国特許第５３３８４７７及び５３２２６３６号（両方を参照によってここに組み
込む）にそれぞれ記述されるポリエーテルポリアミノメチレンホスホネート及び
ポリエーテルポリアミノメチレンホスホネートＮ−オキサイド、及び米国特許第
５７８８８５７号（参照によってここに組み込む）に記述されるイミノアルキレ
ンホスホン酸を含む。
【００８２】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、リン含有カルボキシレート
物質（以降Ｐ−カルボキシレートと呼ぶ）であり、これは少なくとも１つの有機
リン基及び複数のカルボキシレート基を含むテロマー、コテロマー、ポリマーま
たはコポリマー化合物である。所望によって、これらの物質はまた、Ｐ−カルボ
キシレートがカルボキシレート以外の置換基を含むモノマーから調製されるとき
は他の置換基を含み得る。リンは末端基として存在でき、この場合それはホスホ
ノ、または末端タイプのホスフィノ型基、またはホスフィノ基として化合物中に
組み込まれていてもよく、ここではリンは２つの炭素原子に直接結合しており、
この配置は場合により「ジアルキル」ホスフィノ基と呼ばれる。これらの可能性
は図式的に次のように表わされる。
【００８３】
【化８４】
【００８４】 左から、ホスホノ、末端タイプのホスフィノ、ジアルキルタイプのホスフィノ。 Ｘは、水素またはカチオン種、例えばアルカリ金属イオン、アンモニウムイオ
ン、または４級化アミン基であり得る。ＹはＸと同じかまたは追加的に置換若し
くは非置換のアルキル、アリール、またはアルキルアリール残基であり、ここで
該置換基はカルボキシレートを含んでいても含まなくてもよい。Ｙは化合物の水
への適切な可溶性を維持するように選択し得る。示した炭素原子はテロマー、コ
テロマー、ポリマー、またはコポリマーの炭素主鎖の一部であり、この主鎖は少
なくとも２つのカルボキシル基及び所望によって他のリン結合、及び所望により
非カルボキシ置換基を含む。
【００８５】 好ましいものは、１００００以下の数平均分子量を有するＰ−カルボキシレー
トであり、特に好ましいものは小さい数平均分子量、例えば２０００以下、特に
１０００以下のオリゴマーまたはポリマーＰ−カルボキシレートである。好まし
い順に、１，２−（隣接）または１，３−置換配置において２以上のカルボキシ
レートが線状のアルキル残基上に置換されているのが特に好ましい。Ｐ−カルボ
キシレートはリン置換（優勢にまたは排他的にホスホノ種として、優勢にまたは
排他的に末端タイプのホスフィノ種として、優勢にまたは排他的にジアルキルホ
スフィノ種として）を含み得、またはこれらの置換タイプを個々の分子中に及び
または特別の調製方法によって生じた分子の混合物中に含む得る。Ｐ−カルボキ
シレートのために使用される種々の調製方法はまた、合成法の一部として種々の
無機リン種をも生成し得る。そのようなＰ−カルボキシレートの混合物及び関係
する無機リン種は、テトラゾリウム化合物と組み合わされたときに本発明の範囲
内であるとみなされる。
【００８６】 本発明における使用のために適切なＰ−カルボキシレートの調製の非限定例、
及び水性系中での、単独または他の水処理剤と組み合わせての腐食及び／または
スケール制御剤としてそれらの使用は、米国特許第2,957,931、4,046,707、4,08
8,678、4,105,551、4,127,483、4,159,946、4,207,405、4,239,648、4,563,284
、4,621,127、4,681,686、5,023,000、5,073,299、5,077,361、5,085,794、5,16
0,630、5,216,099、5,229,030、5,256,302、5,256,746、5,294,687、5,360,550
、5,376,731、5,386,038、5,409,571、5,606,105、5,647,995、5,681,479及び5,
783,728、並びに欧州特許283191A2、360746B1、569731A2、681995A3、786018A1
、792890A1、807635A1、807654A2及び861846A2に開示されており、これらの文献
の全てを参照によってここに組み込む。これらの特許の調査によって認識される
ように、本発明のために有用なＰ−カルボキシレートを製造するために種々の調
製方法が適切である。本発明における使用のために適切なＰ−カルボキシレート
を製造する特別の方法を特定することは本発明の目的ではない。一般に、それら
はリン含有物質を１種以上の重合性モノマーと反応させることによって製造し得
るが、そのうち少なくとも１種のモノマーはカルボキシル基、またはさらなる反
応、例えば加水分解、酸化等によって最終化合物（重合過程の後）中にカルボキ
シル基を生ぜしめることができる基を含む。そのようなモノマーを以降カルボキ
シルモノマーと呼ぶ。本技術において開示される方法は典型的に、リン含有物質
と１以上の不飽和モノマーとの反応によってＰ−カルボキシレートオリゴマーま
たはポリマーを生成させることを含み、モノマーの少なくとも１種はカルボキシ
ルモノマーである。適切なカルボキルモノマーの例は、アクリル酸、マレイン酸
、無水マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマ
ル酸、シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ア
ルファ−メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３
，６−テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テト
ラヒドロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビ
シクロ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチ
ル−１，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−
テトラヒドロフタル酸無水物を含む。好ましいカルボキシルモノマーはアクリル
酸、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸である。
【００８７】 Ｐ−カルボキシレート物質がカルボキル基を含む残基を主比率で含むことが好
ましいが、少なくとも１つのカルボキルモノマーから誘導された残基、及び小比
率（全生成物の５０重量％未満）の残基（カルボキルモノマーではない少なくと
も１つの他のモノマーから得られたもの）を含む、コオリゴマーＰ−カルボキシ
レートまたはコポリマーＰ−カルボキシレートを利用することが有利であり得る
。広い種類の適切な非カルボキシルモノマーが存在し、例えば、２−アクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸（Lubrizol CorporationからAMPSTMとして
商業的に入手できる）、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロパ
ンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン酸
、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエチ
ルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
ル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルアミ
ド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル、
加水分解された酢酸ビニル及びスチレンを含む。
【００８８】 Ｐ−カルボキシレートの範疇に入る具体例は、次の一般式を有するホスホンポ
リマーである：
【００８９】
【化８５】
【００９０】 ［ＸJはＨ、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、またはアンモニウム若
しくはアミン残基であり；ＲJ1は２つの異なる残基
【００９１】
【化８６】
【００９２】 （ｚは２〜１００の整数であり、第１の残基においてＲJ2は−ＣＯＯＨであり、
そして第２の残基においてＲJ2は−ＣＯＮＨＣ(ＣＨ3)2ＣＨ2ＳＯ3ＸJ（ＸJは前
に定義した通りである）である）を含むコポリマー残基である］。
【００９３】 本発明における使用のために適切なＰ−カルボキシレート物質の非限定例は、
Belsperse 161、Belclene 400、Belclene 494、Belclene 500（全てFMC corpora
tionから商業的に入手できる製品）、ホスホノコハク酸、及びBricorr 288（Alb
right and Wilsonの製品）を含む。Bricorr 288は、組成物の重量を基準として
、５０重量％以下のホスホノコハク酸、マレイン酸アルカリ金属塩のホスホン化
ダイマー、ダイマーの重量を基準として半量未満のより高級のホスホン化オリゴ
マーマレエート、及び組成物の約０．５〜約５重量％の燐酸アルカリ金属塩から
本質的に成る組成物として説明されている。
【００９４】 テトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の物質は、サルコシンの長鎖脂肪酸誘
導体（またはそのような脂肪酸サルコシン誘導体の混合物）またはそれらの水溶
性塩を含む。そのような誘導体の一例はＮ−ラウロイルサルコシンである。
【００９５】 本発明のテトラゾリウム化合物は水溶性のアルカリ金属珪酸塩、例えばメタ珪
酸ナトリウムと組み合わせることもできる。そのような珪酸塩は流体が主として
水である系及び内燃機関のための不凍冷却剤として典型的に使用されるグリコー
ルに基づく水性系の両方において、鉄金属及びアルミニウム両方のための腐食禁
止剤として本技術において周知である。珪酸ナトリウムは一般に、式Na2O・xSiO 2 ・yH2O（xは約1〜約3.5の範囲である）によって示され得る。シリカのナトリウ
ムに対するモル比が約３．３である商業的な珪酸ナトリウム溶液が使用し得る。
１：１程度またはそれ以下のSiO2：Na2Oのモル比を有するアルカリ溶液、または
約３．５：１までのSiO2：Na2Oのモル比を有するアルカリ溶液も使用し得る。他
のアルカリ金属珪酸塩、特に珪酸カリウムも使用し得る。本発明において水溶性
のアルカリ金属珪酸塩を使用するときは、珪酸塩を他の禁止剤及び／またはシリ
カ安定剤と組み合わせることが有利であり得る。このような適切な組合せの例は
、米国特許第３７１１２４６号、４０８５０６３号、４４０４１１４号、５１３
７６５７号、５２６２０７８号、５５７８２４６号及び５５８９１０６号に開示
されており、この全てを参照によってここに組み込む。
【００９６】 本発明のテトラゾリウム化合物は、水溶性モノフルオロホスフェート塩とも組
合せ得る。そのような塩の金属表面のための腐食禁止剤としての使用は、米国特
許第４１３２５７２号及び４６１３４５０号に開示されており、この両方を参照
によってここに組み込む。米国特許第５１８２０２８号（参照によってここに組
み込む）に開示されるように、そのような塩は炭酸カルシウムのスケールの制御
及び鉄・マグネシウムの安定化のための実用性をも有する。
【００９７】 本発明においてテトラゾリウム物質と組み合わせるための広い種類の追加の水
性系腐食禁止剤が本技術において知られている。そのような禁止剤の非限定例は
、Corrosion Inhibitors, C.C. Nathan, ed., NACE, 1973; I.L. Rozenfeld, Co
rrosion Inhibitors, McGraw-Hill, 1981; Metals Handbook, 9th Ed., Vol. 13
- Corrosion, pp. 478-497; Corrosion Inhibitors for Corrosion Control, B.
G. Clubley, ed., The Royal Society of Chemistry, 1990; Corrosion Inhibit
ors, European Federation of Corrosion Publications Number 11, The Instit
ute of Materials, 1994; Corrosion, Vol. 2- Corrosion Control, L.L. Sheir
, R.A. Jarman, and G.T. Burstein, eds., Butterworth-Heinemann, 1994, pp.
17:10-17:39; Y.I. Kuznetsov, Organic Inhibitors of Corrosion of Metals,
Plenum, 1996; 及びV.S. Sastri, Corrosion Inhibitors; Principles and App
lication, Wiley, 1998中に見いだすことができる。そのような禁止剤は、アミ
ン（例えば、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン）、アルカノ
ールアミン、エーテルアミン、ジアミン、脂肪アミン及びジアミン、第４アミン
、オキシアルキル化アミン、アルキルピリジン；テトラゾール、例えば米国特許
第５７４４０６９号に開示されたもの（参照によってここに組み込む）；イミダ
ゾリン及び置換イミダゾリン、アミドアミン、ポリアミン（ポリアルキレンポリ
アミン、例えば参照によってここに組み込む米国特許第５２７５７４４号に開示
されるものを含む）、ベンゼンスルホン酸のアルキル誘導体、ベンゾエート及び
置換ベンゾエート（例えばｐ−ｔ−ブチル安息香酸、例えば参照によってここに
組み込む米国特許第５２７５７４４号に開示されるもの）、アミノベンゾエート
、サリチレート、ダイマー・トリマー酸、石油オキシデート、ボログルコネート
；リグニン、タンニン、及びそのスルホン化及び／またはカルボキシル化誘導体
（例えばリグノスルホネート）；直鎖Ｃ5〜Ｃ11モノカルボキシレート、カルボ
ン酸のアミン塩及びメルカプトカルボン酸のアミン塩、例えば参照によってここ
に組み込む米国特許第５７７９９３８号に開示されるもの；アミノ酸、ポリアミ
ノ酸及びこれらの誘導体、例えば参照によってここに組み込む米国特許第４９７
１７２４号、５５３１９３４号、５６１６５４４号、５７５００７０号及び５７
８５８９６号に開示されるもの；ヒドロキシエーテル酸及び関連するラクトン化
合物、例えば参照によってここに組み込む米国特許第５０５５２３０号に開示さ
れるもの、Ｎ−アシルサルコシン、Ｎ−アシルイミノジ酢酸；トリアジンジ−カ
ルボン酸、トリアジントリ−カルボン酸、例えば参照によってここに組み込む米
国特許第４４０２９０７号に開示されるもの、並びにホスホノエステル及びホス
フェートエステル（例えばエトキシル化アルコール）、例えば参照によってここ
に組み込む米国特許第３８７３４６５号、３９３２３０３号、４０６６３９８号
及び５６１１９９１号に開示されるものを含む。
【００９８】 本発明において、本発明の組合せを高めるかまたは追加の官能価を与えるため
の追加の薬剤を使用することが有利であり得る。適切な追加の薬剤は分散剤、銅
腐食禁止剤、アルミニウム腐食禁止剤、水溶性金属塩及びそれらのキレート、ス
ケール及び付着制御剤、封鎖剤、消泡剤、酸化性及び非酸化性殺生物剤、非イオ
ン及びイオン性凝固点降下剤、ｐＨ調整剤、不活性及び活性トレーサー、水不溶
性及び水溶性潤滑剤、界面活性剤、カルシウム硬度調節剤、及び着色剤を含む。
【００９９】 分散剤はしばしば、水性系が懸濁した粒状物質を含むときに系の澄明性を保持
するために使用される。本発明において使用し得る広い種類のポリマー及び非ポ
リマー分散剤が本技術において既知である。好ましいものは、ａ）１以上のエチ
レン不飽和モノマー（この内の少なくとも１種はスルホネート官能価を含む）、
またはその水溶性塩から得られる水溶性スルホン化ポリマーまたはコポリマー、
ｂ）ジイソブチレンと無水マレイン酸との分子量が１００００未満のコポリマー
、またはこれらの水溶性塩である。特に好ましいものはアクリル酸とアリルヒド
ロキシプロピルスルホネートエーテルの約３：１重量比のコポリマーまたはその
水溶性塩である。
【０１００】 本発明のテトラゾリウム化合物と組み合わせて使用できる追加の薬剤は、銅腐
食禁止剤であり、これはヘテロ環式タイプの銅腐食禁止剤、例えばアゾール化合
物を含む。本技術において周知のように、アゾールは典型的に、銅系のアロイの
ための腐食保護を与えるために使用される。しかし、本技術において既知のよう
に、ある種の系においては、アゾール類及び類似のヘテロ環式タイプの銅腐食禁
止剤は、鉄系金属及び／またはアルミニウムのための腐食禁止を追加的に与え、
そしてそのような目的のためのそのような金属の使用は本発明の範囲内であると
みなされる。本技術における当業者が容易に認識できるように、本発明の実施に
おける銅腐食禁止剤の使用は、特別の金属系を保護するうえで本発明の組成物の
性能を高め得、そして／または多金属系への適用可能性を広げ得る。
【０１０１】 適切なアゾール化合物は、トリアゾール、テトラアゾール、ピラゾール、イミ
ダゾール、イソキサゾール、オキサゾール、イソチアゾール、及びチアゾールを
含み、これらは全て所望によってアルキル、アリール、アルアルキル、アルキロ
ール、及びアルケニル基によって置換されていてよく、米国特許第２６１８６０
８号、２７４２３６９号、及び２９４１９５３号に開示され、そして米国特許第
４１０１４４１号中（これらの特許は全て参照によってここに組み込む）にまと
められているものを含む。適切なアゾール及び関連するヘテロ環式環化合物の例
は、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、アルキルまたはアルコキシ置換
ヘンゾトリアゾール（ベンゼン環の４または５位に置換があるもの）、２−メル
カプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾトリアゾール、１，２，３−ト
リアゾール、４−フェニル−１，２，３−トリアゾール、１，２−ナフトトリア
ゾール、４−ニトロベンゾトリアゾール、ピラゾール、６−ニトロインダゾール
、４−ベンジルピラゾール、４，５−ジメチルピラゾール、３−アリルピラゾー
ル、イミダゾール、アデニン、グアニン、ベンズイミダゾール、５−メチルベン
ズイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ベンジルイミダゾール、４−
アリルイミダゾール、４−（ベータヒドロキシエチル）−イミダゾール、プリン
、４−メチルイミダゾール、キサンチン、ヒポキサンチン、２−メチルイミダゾ
ール、イソキサゾール、ベンズイソキサゾール、３−メルカプトベンズイソキサ
ゾール、オキサゾール、２−メルカプトオキサゾール、２−メルカプトベンゾオ
キサゾール、イソチアゾール、３−メルカプトイソチアゾール、２−メルカプト
ベンズイソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアゾール、２，５−ジメルカ
プトチアジアゾール、２，５−ジメルカプトベンゾトリアゾール、５，５’−メ
チレン−ビス−ベンゾトリアゾール、及び４，５，６，７−テトラヒドロベンゾ
トリアゾールを含む。追加の適切なアゾール類は、米国特許第３９８５５０３号
、４２９８５６８号、４７３４２５７号、４７４４９５０号、４８７４５７９号
、５２１７６８６号及び５２３６６２６号（参照によってここに組み込む）に開
示されるもの、並びに米国特許第５１５６７６９号に開示される１−フェニル−
５−メルカプトテトラゾール（参照によってここに組み込む）を含む。適切なア
ゾールは、混合組成物、例えばトリルトリアゾール組成物（参照によってここに
組み込む米国特許第５５０３７７５号に開示される、少なくとも６５重量％の５
−メチルベンゾトリアゾール異性体を含むもの）を含む。特に適切なものは、ハ
ロゲン系の酸化性殺生物剤（例えば塩素）が水性系中に使用されるときに、改善
された腐食性能を与え、不快な臭気がなくそして殺生物剤の使用量を減じるハロ
ゲン耐性アゾールである。そのようなハロゲン耐性アゾールの非限定例は、参照
によってここに組み込まれる米国特許第５７７２９１９号、５８６３４６３号及
び５８６３４６４号に開示され、そしてクロロトリルトリアゾール、ブロモトリ
ルトリアゾール、モノ−ハロ−ベンゾトリアゾール、ジ−ハロ−ベンゾトリアゾ
ール、及びモノ−ハロとジ−ハロ−ベンゾトリアゾールとの混合物を含む。
【０１０２】 好ましいアゾールはトリルトリアゾール、ベンゾトリアゾール及びハロゲン−
耐性アゾール、特にクロロ−トリルトリアゾールである。 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤はアルミニウム腐食禁
止剤を含む。好ましいものは、水溶性硝酸塩、特に硝酸ナトリウム、及び硝酸塩
と珪酸アルカリ金属塩との組合せである。
【０１０３】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は、亜鉛、マンガン、
アルミニウム、錫、ニッケル、イットリウム及び希土類金属（原子番号５７〜７
１）の群から選択される金属の水溶性の金属塩、及び／またはそのような金属の
有機金属キレート（この有機キレート化剤は、該金属イオンに望まれるレベルの
水溶性を与えるように選択される）を含む。知られているように、そのような金
属塩及びキレートは追加の腐蝕禁止保護を与えるために利用し得る。
【０１０４】 腐食禁止剤としての亜鉛イオンの使用は、本技術において周知であり、特に他
の水処理剤、例えばホスフェート、ホスホネート、Ｐ−カルボキシレート、カル
ボキシレート、及びヒドロキシカルボキシレートと組合せての使用は周知である
。好ましい亜鉛イオンの源は硫酸塩、塩化物、酢酸塩、または硝酸亜鉛塩及び酸
化亜鉛を塩基中に溶解することによって得られる亜鉛酸塩である。
【０１０５】 アミノホスホネートと、及びＰ−カルボキシレートと組み合わせた、水処理に
おけるマンガンイオンの使用は、米国特許第４６４０８１８号、欧州特許２８３
１９１Ａ２にそれぞれ開示されており、これらを参照によってここに組み込む。
イットリウム及び５７〜７１の原子数を有するランタン系列の金属のカチオン及
びそれらの有機キレートの水性系中の腐食禁止のための使用は、米国特許第４７
４９５５０号及び５１３００５２号に開示されており、参照によってここに組み
込む。好ましいランタン塩は、ランタン、プラセオジム及びネオジムの塩、及び
これらの混合物を含む商業的に入手できる物質を含む。
【０１０６】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は、スケール及び付着
制御剤を含む。これまでに説明した本発明の組合せの多くは腐食制御及びスケー
ル制御及び／または付着制御（特に炭酸カルシウム付着）を提供するが、追加の
薬剤が特別の種（例えば硫酸バリウムまたは蓚酸カルシウム）についての剥がれ
及び／または付着を制御するために利用されなければならない多くの場合がある
。種々のそのような種の制御のための適切な薬剤は本技術において既知である。
【０１０７】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は金属イオン封鎖剤で
ある。そのような薬剤は、金属イオンまたはアルカリ土類イオンが水性系から付
着することを、または系中の腐蝕禁止剤若しくは他の薬剤が適切に機能すること
を邪魔するすることを防止するために必要である。そのような封鎖剤は本技術に
おいて既知であり、そして場合によって特定のイオンに有効であるように選択さ
れ得る。適切な封鎖剤の例は、エチレンジアミンテトラ（酢酸）ニトロロトリ酢
酸、及びＮ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシンまたはその水溶性塩を含
む。
【０１０８】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は消泡剤を含む。適切
な消泡剤の例は、シリコーン（例えばポリジメチルシロキサン）、ジステアリル
セバクアミド類、ジステアリルアジパミド、及びエチレンオキサイドまたはプロ
ピレンオキサイド縮合物から誘導される関連する生成物、及び脂肪アルコール、
例えばカプリルアルコール、及びそれらのエチレンオキサイド縮合物を含む。
【０１０９】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は、殺生物剤を含む。
殺生物剤の使用は、本発明の水性系において、及び本発明の組成物のための供給
原料において微生物の生長を制御するために必要である場合がある。酸化性及び
非酸化性の殺生物剤の両方がこれらの目的のために利用し得る。適切な酸化性殺
生物剤は、塩素、次亜塩素酸塩、臭素、次亜臭素酸塩、塩素及び／または臭素を
供与する化合物（例えばブロモクロロヒダントイン）、過酢酸、無機ペルオキシ
ド、及びペルオキシド発生剤、二酸化塩素、及びオゾンの少なくとも１種を含む
。適切な非酸化性殺生物剤は、アミン、第４アンモニウム化合物（例えば塩化Ｎ
−アルキルジメチルベンジルアンモニウム）、２−ブロモ−２−ニトロプロパン
−１，３−ジオール、β−ブロモニトロスチレン、ドデシルグアニジン、塩化水
素、２，２−ジブロモ−２−ニトリロプロピオンアミド、グルタルアルデヒド、
クロロフェノール、硫黄含有化合物（例えばスルホン類）、メチレンビスチオシ
アネート及びカルバメート、イソチアゾロン類、臭化プロピオンアミド、トリア
ジン（例えばｔ−ブチルアジン）、及びトリアジン誘導体（例えば参照によって
ここに組み込まれる米国特許第５５３４６２４号に開示されるｔ−ブチルアジン
及びトリアジン誘導体）、ホスホニウム化合物、有機金属化合物（例えばトリブ
チル錫酸化物）、及びそのような殺生物剤の混合物を含む。好ましい非酸化性殺
生物剤は、（ａ）２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール（ＢＮＰ
Ｄ）と、（ｂ）約７５％の５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−
オン及び約２５％の２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物との混
合物であり、該ＢＮＰＤ（ａ）の該混合物（ｂ）に対する重量比は、参照によっ
てここに組み込まれる米国特許第４７３２９０５号に開示されるように約１６：
１〜約１：１である。
【０１１０】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は、凝固点降下剤を含
む。そのような薬剤は、冷凍、除湿、及び内燃機関冷却系のような水性系のため
に必要である。この凝固点降下剤は性質がイオン性でも非イオン性でもよい。適
切なイオン性薬剤の非限定例は、塩化カルシウム、塩化ナトリウム、臭化リチウ
ム、及び塩化リチウムを含む。適切な非イオン性薬剤の例は、水溶性アルコール
、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、エタノール、グリセロー
ル、イソプロパノール、メタノール、及びこれらの混合物である。
【０１１１】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤はｐＨ調節剤を含む。
適切な薬剤の非限定例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム
、塩酸、硫酸、硝酸、二酸化炭素、アンモニア、蓚酸のような有機酸、アルカリ
金属炭酸塩、及びアルカリ金属炭酸水素塩を含む。
【０１１２】 本発明の組成物が、表面と金属との間の移動する接触を含む水性系中（例えば
ポンプ吸排装置を含む系または金属機械加工または成形を含む用途においてみか
けるようなもの）に使用されるときは、機械加工操作の性能を改善するために、
または金属表面の接触の磨耗を減じるために、潤滑剤を使用するのが好ましい。
そのような潤滑剤は水溶性または水不溶性であってよい。天然又は合成の油のよ
うな適切な水不溶性有機潤滑剤は、米国特許第３７２０６９５号、４０５３４２
６号、４２８９６３６号、４４０２８３９号、４４２５２４８号、４６３６３２
１号、４７５８３５９号、４８９５６６８号、５４０１４２８号、５５４７５９
５号、５６１６５４４号及び５６５３６９５号（これらを参照によってここに組
み込む）に開示されるものを含む。いくつかの潤滑剤（例えば、参照によってこ
こに組み込む米国特許第４４０５４２６号及び５４０１４２８号に開示されるも
の）が、本発明の組成物に改善された腐食禁止性能を追加的に付与し得る。
【０１１３】 本発明の組成物の混合物を含む安定な生成物の配合物中、または本発明の特別
の水性系（特にかなりの量の非水性流体が存在する系）への適用のいずれかにお
いて、追加的に界面活性剤を使用するのが有利であり得る。そのような界面活性
剤は、アニオン性、カチオン性、両性または非イオン性であり、そして本技術に
おいて周知である。そのような薬剤は種々の機能（例えば乳化剤、分散剤、屈水
性誘発剤、消泡剤、潤滑剤、腐食禁止剤）のために、本発明の組成物に加え得る
。一定の目的を達成するために適切な界面活性剤を選択する方法は、本技術にお
ける当業者に周知である。本発明の組成物への水溶性が限定された添加剤を利用
するとき（水不溶性有機潤滑剤または脂肪酸誘導体のようなわずかに溶ける物質
に基づく補助腐食禁止剤を使用するとき）、表面活性剤を利用するのが特に望ま
しい。
【０１１４】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は、カルシウム硬度調
節剤を含む。多くの水性系腐食禁止剤の効率、特に開放系再循環冷却系を処理す
るために通常使用されるものは、一定の最小量の水中に溶解したカルシウムに依
存することは本技術における当業者には周知である。本発明の組成物の効率はい
くぶん溶解したカルシウムに依存しないが、本発明において、系中の溶解カルシ
ウム濃度を増加することが有利であり得る。適切なカルシウム硬度調節剤の非限
定例は、カルシウムの炭酸水素塩、炭酸塩、塩化物、硫酸塩、及び酢酸塩、並び
に水酸化カルシウム及び酸化カルシウムを含む。
【０１１５】 本発明のテトラゾリウム化合物と組合せ得る追加の薬剤は、着色剤を含む。そ
のような薬剤の使用の非限定例は、製品の外観の改善、製品の同定の援助、比色
法を利用する自動供給制御システムが制御できる添加剤としての要求を満たすこ
とである。そのような薬剤の非限定例は水溶性染料を含む。
【０１１６】 驚くべきことに、テトラゾリウム化合物は、広い範囲の既知のスケール及び／
または腐食禁止剤と相乗的に結合して、全体的な腐食及び点蝕の両方のための非
常に高められた性能を提供することが見いだされた。この組合せは低い硬度の水
を含む、カルシウム硬度及びｐＨの範囲にわたって有効である。場合により、こ
の組合せを使用するときは、たとえ全活性処理剤の量を一定に保持したときでさ
え、テトラゾリウム化合物を使用しない処理剤に比較して１のオーダーの大きさ
またはそれ以上の腐食速度の減少が起こる。
【０１１７】 本発明のテトラゾリウム化合物は還元可能な種であることが既知である。機構
的な詳細は深くは検討されても十分に理解されてもいないが、本発明の新規な組
成物の腐食禁止効果は、腐食されつつある金属の表面における、可溶性のテトラ
ゾリウム化合物の比較的不溶性で保護性のフィルムへの還元であると考えられる
。この還元は、多段階の過程であり、そして保護フィルムはいくつかの中間還元
生成物を含む得る。可能性として、これらの中間還元生成物のいくつかは保護フ
ィルムの一部ではないかもしれないが、さらに還元されて腐食禁止フィルムを形
成することができる。テトラゾリウム化合物のそのような腐食禁止中間還元生成
物も本発明の範囲内であるとみなされる。
【０１１８】 テトラゾリウム化合物の保護作用は、追加の水処理剤の保護作用と協同して働
いて、有効な水系腐食制御を与える。多くの場合に、追加の水処理剤も、水によ
って形成されたスケール及び付着に対する保護を与え、そしてこれらの場合には
、本発明の組合せは、腐食及び剥がれ／付着の両者の制御のために有効である。
追加の水処理剤は、組成物に他の望ましい性質（例えば粒状物質を分散させる能
力）を付与し得る。しかし、ある種の水処理剤（例えば酸素スカベンジャー）が
溶液中で直接テトラゾリウム化合物を還元し、テトラゾリウム化合物そのものま
たは可能性として腐食禁止中間体還元化合物を、金属表面において保護フィルム
を形成できないようにする可能性もある。結果的に、特別な使用条件下に水性溶
液中でテトラゾリウム化合物を実質的に還元する水処理剤は本発明と共に使用す
るのは適切ではない。使用条件は、テトラゾリウム化合物及びテトラゾリウム還
元性水処理剤の比率のような考慮点を含む（例えば存在する一定量のテトラゾリ
ウム化合物を実質的に還元しない量の還元性水処理剤の利用も本発明の範囲内で
ある）。使用条件はまた、テトラゾリウム化合物及び他の種の純粋な濃度、温度
、時間、追加の酸化剤及び／または還元剤の存在または非存在、テトラゾリウム
化合物とテトラゾリウムを還元する水処理剤との間の相互作用を替え得る他の化
合物の存在また非存在、触媒表面（例えば金属表面）の存在または非存在等を含
む。本技術における当業者は、ある特別の薬剤がテトラゾリウム化合物を使用条
件下で還元するかどうかを容易に決定し得る。テトラゾリウム化合物の還元生成
物は一般に、高度に着色しており、一方元の物質はそうではないので、この決定
をするための単純な方法は視覚的検査及び比色法を含む。
【０１１９】 上記事項を拡張して、テトラゾリウム化合物が腐食を禁止しないような、水性
系はテトラゾリウム化合物の腐食禁止性に影響する物質を含まない。従って、テ
トラゾリウム化合物は、該物質によって還元されてテトラゾリウム化合物が腐食
を禁止できないようになるべきではない。さらに、テトラゾリウム化合物及び／
または追加の物質の腐食禁止及び／または剥がれ保護を無効にするいかなる物質
も、好ましくは水性系に含まれるべきではないか、またはテトラゾリウム化合物
がその意図される腐食禁止及び／または剥がれ保護を達成させる量で好ましくは
含むべきである。
【０１２０】 本発明の好ましい態様において、０．５〜１００００ｐｐｍの、テトラゾリウ
ム化合物と水性系処理物質との組合せが処理の必要において水性系に加えられ、
約１０〜１０００ｐｐｍの該組合せが特に好ましい。他の水性系処理物質のテト
ラゾリウム化合物に対する重量比は好ましくは約１００：１〜１：２０であり、
約２０：１〜１：１の重量比が特に好ましい。
【０１２１】 本発明の組成物が適用され得る水性系のｐＨは約５〜約１２である。ｐＨは好
ましくは約６〜約１０の範囲である。 本発明の組成物は、水性系中に有効な濃度で、スラグ供給によって、または系
が満たされているときに水性流体とブレンドすることによって添加され得る。１
種以上の処理剤成分が系から除かれるかまたは系内で化学的若しくは物理的方法
によって消費される（従って、処理剤の有効性を保持するために補給を要する）
水性系（例えば開放冷却系）を処理するために使用されるとき、本発明の組成物
は連続的な基準、断続的な基準、またはこれら２種の組合せを使用して（例えば
、スラッグ供給によって補充された連続的な低レベルの供給を利用して）系内に
供給され得る。用途によって、本発明の組成物を、１つの原料供給源から単一の
処理剤供給原料内に組み合わせるか、または代りに成分を２以上の処理剤源へ分
離し、各源を独立して連続的又は断続的に系内に系内の適切な濃度を維持するた
めに必要な速度で供給することが有利であり得る。各処理剤源について、水性系
への単一または複数の供給ポイントが利用し得る。
【０１２２】 処理剤の供給のタイミング及び速度は、本技術において既知の種々の方法によ
って制御し得る。一つの適切な方法は、計量ポンプまたは他の供給システム装置
を利用することであり、これらは、固定された速度で、スケジュールどうりに、
メイクアップポンプまたはブローダウンポンプのような他のシステム構成部分に
よって発せられた信号で、またはアナログの若しくはコンピューターによる供給
制御システムによって発せられた信号で連続的に供給するように種々の配置がで
きる。適切な供給システムの非限定例は、米国特許第４６４８０４３号、４６５
９４５９号、４８９７７９７号、５０５６０３６号、５０９２７３９号、及び５
６９５０９２号に開示されている。供給制御システムは、１種以上の処理剤成分
の濃度に相当する信号、処理剤に添加された１種以上の不活性若しくは活性トレ
ーサー物質の濃度に相当する信号、システムの性能の１以上の尺度の値（例えば
、腐食速度メーター、剥がれモニター、熱移動モニター装置、水中の腐食生成物
の量、例えば全鉄若しくは溶解した鉄若しくは他の金属成分など）に相当する信
号、システムの１以上の物性値（例えば温度、流速、伝導率）に相当する信号、
システムの１以上の化学的特性値（例えばｐＨ、カルシウム硬度、還元電位、ア
ルカリ度）に相当する信号、これらの信号の組合せに相当する信号を利用して、
特別の水性系内の効率的な性能のための適切な量の処理剤を供給し維持すること
ができる。代りに、いくつかの系において、本発明のいくつかのまたは全ての化
合物について制御された放出（漸次の放出または時間放出ともよぶ）デリバリー
系を使用することが有利であり得る。そのような制御された放出系において、供
給されるべき物質または物質群は含漬され、または他の方法で制御された放出系
のマトリックス内に組み込まれる。適切な制御された放出デリバリー系は、マト
リックスが水性系内の流体に、または水性系に供給される流体流れに曝露される
ものを含む、そして処理剤成分は徐々に、種々のプロセス（拡散、溶解、浸透圧
差）の作用によって系内に放出され、そしてそれらはさらに、温度、流速、ｐＨ
、水の硬度、伝導率などのような水性流体特性に応答して放出を変えるように設
計され得る。そのような制御された放出デリバリー系の非限定例は、米国特許第
３９８５２９８号、４２２０１５３号、５３１６７７４号、５３６４６２７号及
び５３９１３６９号に開示されている。
【０１２３】 正確な濃度の処理剤またはトレーサー成分を利用する供給系が使用されるとき
は、そのような濃度は、連続的、半連続的、またはバッチ型の、分光分析、例え
ばＵＶ、可視放射、可視吸収、ＩＲ、ラマン、蛍光、燐光など；、電気化学的方
法（ｐＨ，ＯＲＰ、及びイオン選択電極測定を含む）；クロマトグラフ法（ガス
クロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー）；抗体の結合または放出に基づ
く方法；化学的分析／比色法（Hach Companyから商業的に入手できるものなど）
を含む分析技術によって決定され得る。適切な分光分析法は、参照によってここ
に組み込む米国特許第５２４２６０２号に記述されている。水処理剤の系内濃度
を調節する適切な方法は、参照によってここに組み込む米国特許第５４１１８８
９号に開示されている。米国特許第５８５５７９１号（参照によってここに組み
込む）は、ある種の性能モニター及び系の特性に基づいて腐食及び汚れ禁止剤の
供給速度を決定するための適切な方法を開示している。
【０１２４】 所望によって使用し得るトレーサー物質は、何ら特別な処理剤機能を与えない
化合物（不活性トレーサーと呼ぶ）であってよく、または容易にモニターできる
水処理化合物であってもよく、そのような処理化合物は活性トレーサーと呼ばれ
る。適切なトレーサーは可溶性リチウム塩、例えば塩化リチウム、遷移金属、例
えば参照によってここに組み込む米国特許第４９６６７１１号に記述されるもの
、及び蛍光不活性トレーサー、例えば参照によってここに組み込む米国特許第４
７８３３１４号に記述されるものを含む。適切な蛍光不活性トレーサーはモノ−
、ジ−、及びトリスルホン化ナフタレン類（例えばナフタレンスルホン酸または
ナフタレンジスルホン酸の水溶性塩など）を含む。適切な活性トレーサーは、蛍
光で標識されたポリマー、例えば参照によってここに組み込む米国特許第５１７
１４５０号に記述されるもの、光活性化剤と接触したときに光を吸収する、光不
活性の潜在的に検出し得る基を含むポリマー、例えば参照によってここに組み込
む米国特許第５６５４１９８号に記述されるようなもの、アゾール系銅腐食禁止
剤、例えばトリルトリアゾール、及び水溶性モリブデン酸塩及びタングステン酸
塩を含む。
【０１２５】 テトラゾリウム化合物と組み合わされるこれらの化合物の多くは腐食禁止剤と
して既知であるが、これらは一般に、特別なカルシウム硬度及びｐＨの条件下に
のみ有効であることが知られている。例えば、２−ホスホノ−ブタン−１，２，
４−トリカルボン酸（ＰＢＴＣ）のようなある種のホスホノカルボキシレートは
一般に、８を超えるｐＨ及びかなりのカルシウム硬度（すなわちＣａＣＯ3とし
て２００ｍｇ／Ｌより大）を含む水中においてのみ腐食禁止剤として有効である
。示されるように、ＰＢＴＣとテトラゾリウム化合物との組合せは、ｐＨ７．６
において、ＣａＣＯ3として僅か１００ｍｇ／Ｌのカルシウムを含む水中で非常
に有効である。同様の結果が、他の組合せにおいてもみとめられる。多くの水性
系において、ｐＨ及び水の硬度に関して「強い」、すなわち広い範囲の条件にわ
たり十分に機能する処理剤を有することが特に有利である。
【０１２６】 テトラゾリウム化合物の使用は水性系中の腐食を効率的に限定するために必要
な全処理剤添加量を有意に減じることができる。テトラゾリウム化合物の組合せ
の多くは、スケール及び／または付着禁止剤として主としてまたは排他的に使用
される物質とのものである。しかし、この組合せは剥がれ／付着及び腐食制御の
両方に有効である。
【０１２７】 試験方法及び条件 本発明における処理剤の腐食禁止活性を、ビーカー腐食試験装置（ＢＣＴＡ）
を使用して評価した。ＢＣＴＡは空気／ＣＯ2散布機、１０１０低炭素鋼（ＬＣ
Ｓ）クーポン（単数または複数）、１０１０ＬＣＳ電気化学プローブ、及び磁気
攪拌棒を備えた２リットルのビーカーからなる。試験溶液の体積は１．９リット
ルであった。空気／ＣＯ2散布は試験中連続して行った。電気化学的腐食の測定
を行う際に使用した参照電極及び反対電極はHastelloy C22から成っていた。ビ
ーカーを温度制御のために水中に浸けた。電気化学腐食データを、分極抵抗技術
を使用して試験中プローブ上で定期的に得た。全ての試験を、４００ＲＰＭの攪
拌速度を使用して、１２０OＦで実施した。他に注記しない限り、試験時間は１
８時間であった。値を各試験について報告する。ＥＣ（平均）は試験中に電気化
学的に測定した腐食速度の平均値であり、ＥＣ（１８時間）は試験の終了時の腐
食速度値である。後者は期待されるより長い期間の腐食速度をより示すものであ
ると考えられる。
【０１２８】 全ての試験において、試験中、ビーカー内の浸漬したクーポンを写真にとった
。いくつかの試験においては、クーポン上の点蝕の深さを、顕微鏡的技術（ＡＳ
ＴＭ Ｇ４６−９４，５．２．４章を参照）を使用して測定した。これらの点蝕
測定試験のために、２つのクーポンを使用し、クーポン１個について２０個の点
蝕測定した（片側１０個まで）。
【０１２９】 他に注記しない限り、試験水は１００ｍｇ／ＬのＣａ（ＣａＣＯ3として）、
５０ｍｇ／ＬのＭｇ（ＣａＣＯ3として）、１００ｍｇ／Ｌの塩化物、及び１０
０ｍｇ／Ｌのサルフェートを含む。この水を使用して、試験をｐＨ８．６、７．
６及び６．８において実施した。これらのｐＨにおける相当する「Ｍ」アルカリ
度は１１０、３２、及び４ｍｇ／Ｌ（全てＣａＣＯ3として）であった。
【０１３０】 この試験水中の鉄金属の腐食を制御することは比較的困難である。比較的低い
カルシウム硬度は、カルシウムに依存する禁止剤が有効に機能するのを困難にす
る。比較的高いサルフェート及び塩化物濃度（一定のカルシウム量で）は、その
水系を鉄金属に対して（特に点蝕に関して）攻撃的にする。
【０１３１】 炭酸カルシウム及び／または燐酸カルシウムの付着が試験中に起こるのを防止
するために、試験の多くを、試験水に加えた５ｍｇ／Ｌのポリエポキシコハク酸
（ＰＥＳＡ：約５の重合度）及び５ｍｇ／Ｌの活性の、アクリル酸／アリルヒド
ロキシプロピルスルホン酸エーテルＮａ塩のコポリマー（ＡＡ／ＡＨＰＳＥ）を
使用して実施した。いくつかの試験については、５ｍｇ／ＬのＡＡ／ＡＨＰＳＥ
コポリマーのみを使用した。
【０１３２】 添加及び置換（一定の禁止剤量）の両試験を実施した。前者のタイプの試験に
おいては、低レベルのテトラゾリウム化合物（２〜５ｍｇ／Ｌ）を第２の組成物
に加えた。後者では、第２の組成物を一定量（３〜５ｍｇ／Ｌ）で還元し、そし
て同じ量のテトラゾリウム化合物で置換した。
【０１３３】 性能の実施例 実施例１ ｐＨ８．６において実施した試験についてのＢＣＴＡ結果を表１に示す。これ
らの試験のために利用されるテトラゾリウム化合物はＮＢＴであった。Belcor 5
75は、FMCによって販売されているヒドロキシホスホノ酢酸である。Bricorr 288
は、ホスホノコハク酸、マレイン酸のホスホネート化ダイマー、燐酸、及び少重
量比率のより高級の、マレイン酸のホスホネート化オリゴマー（Albright and W
ilsonによって販売）の混合物である。Dequest 2060はMonsantoによって販売さ
れているジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）である。Bayhibit
AMは、Bayerによって販売されている２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカ
ルボン酸である。Goodrite K-752はB.F.Goodrichによって販売されているポリア
クリレートである。
【０１３４】 表１からわかるように、Bricorr 288を除く全ての場合に、低レベルのＮＢＴ
の添加または置換は腐食性能を相乗的に改善する。この場合、例えば特別の試験
条件のような因子がBricorr 288の結果に寄与しているかもしれない。
【０１３５】
【表１】
【０１３６】 実施例２ ＡＡ／ＡＨＰＳＥ及びＰＥＳＡの両方が存在したｐＨ７．６で実施した試験に
ついての腐食結果を表２に示す。ＡＡ／ＡＨＰＳＥでの結果のみを表３に示す。
これらの水中において、１３ｍｐｙ以下のＥＣ（１８）はほとんどの産業用途に
おいて受容できる腐食速度であると考えられる。表３に示したいくつかの場合に
は、テトラゾリウム化合物が存在する場合の腐食速度は受容できない。しかし、
第１成分とテトラゾリウム化合物との組合せの相乗的な改善は明白であり、そし
て本技術の当業者は容易に、必要な禁止剤の全有効量、並びにテトラゾリウム化
合物と関心ある用途のために必要な腐食保護を得るために要する他の成分との相
対比率の両方を容易に決定し得る。
【０１３７】 ｐＨ８．６での結果についての上記した傾向はまた、ｐＨ７．６においてもみ
られる。Bricorr 288を使用した結果を、この物質と組み合わせてテトラゾリウ
ム化合物を利用することによって得られる相乗的改善をさらに明確に示すために
、図１に図示した。
【０１３８】 実施例３ ｐＨ６．８において実施した試験についての腐食結果を次の表に示す。
【０１３９】
【表２】
【０１４０】 A: N,N'-ビス(2-ヒドロキシサクシニル)-6,6-ヘキサンジアミン、Na塩として B:: イミノジ(2-ヒドロキシコハク酸), Na塩として C: N,N'-ビス-(2-ヒドロキシサクシニル)-m-キシレンジアミン, Na塩として。
【０１４１】
【表３】
【０１４２】
【数１】
【０１４３】
【表４】
【０１４４】 点蝕の成長を防止する効率 実施例４ ｐＨ８．６における試験について種々の時間についての点蝕の深さの結果を表
５に示す。結果が示すように、ＮＢＴの添加は点蝕の成長を制限するために非常
に有効である。点蝕は蓚酸のような非リン系禁止剤にとって特に問題である。
【０１４５】
【表５】
【０１４６】 実施例５ オルト燐酸塩を使用したｐＨ７．６での試験についての点蝕の深さ及び点蝕の
計数データを表６に示す。これらの結果は、ＮＢＴが点蝕の深さ及び点蝕の密度
を減じることについて共に有効であることを示す。
【０１４７】
【表６】
【０１４８】 実施例６ 表７に示したものは、全量で１０ｍｇ／Ｌ加えた禁止剤によって得られた点蝕
データであり、これはＮＢＴの点蝕禁止の性質をさらに証明する。点蝕の密度は
ＮＢＴを含む処理剤中でより高いが、点蝕の深さは有意に低かった。全体的な腐
食速度へのＮＢＴの有意の影響がBayhibit AMの場合にみられた。
【０１４９】
【表７】
【０１５０】 追加の実施例 他の試験用水 冷却塔などの水性系中の水の硬度及びｐＨは広く変化し得る。広い硬度範囲及
びｐＨ範囲にわたり有効に機能でき、同時に腐食及び付着の両方を禁止する禁止
剤配合物を有することは非常に有利である。典型的には低いカルシウム量（Ｃａ
ＣＯ3として＜１００ｍｇ／ＬのＣａ）を有しかつ比較的中性のｐＨ（６．５〜
７．５）であるリサイクルした水を使用しなければならない系においては、現在
使用されている多くの処理剤の場合にそうであるようにな、使用する禁止剤が機
能するためにアルカリ性のｐＨ、高い硬度条件に依存する必要性がないことがさ
らに有利である。そのような系の例は、一度冷却系を通る閉鎖ループ冷却系、温
水加熱系等である。以下の実施例はさらに、テトラゾリウム化合物がこの開示に
おいて記述された他の成分と組み合わせて利用されたときの、テトラゾリウム化
合物を含む禁止剤配合物の広い範囲の有効性、並びに本技術において既知の物質
を上回って得られる改善を確認する。
【０１５１】 実施例７ 低いｐＨ、低い硬度 表８は、１５ｍｇ／ＬのＣａ（ＣａＣＯ3として）、７．６ｍｇ／ＬのＭｇ（
ＣａＣＯ3として）、７１ｍｇ／ＬのＣｌ、４８ｍｇ／ＬのＳＯ4を、５ｍｇ／Ｌ
の活性ＡＡ／ＡＨＰＳＥと共に含む、ｐＨ７．０の水からの結果を示す。腐食速
度の有意な減少が５ｍｇ／ＬのＮＢＴが添加されたときに観察された。
【０１５２】
【表８】
【０１５３】 実施例８ 低めのｐＨ及び高めの硬度 ５００ｍｇ／ＬのＣａ（ＣａＣＯ3として）、２５０ｍｇ／ＬのＭｇ（ＣａＣ
Ｏ3として）、７ｍｇ／ＬのＭＡｌｋ（ＣａＣＯ3として）、３５４ｍｇ／Ｌの塩
化物、及び５００ｍｇ／ＬのＳＯ4を含む水中で、ｐＨ６．８で実施したＢＣＴ
Ａ試験の結果を表９に示す。全ての試験は５ｍｇ／Ｌの活性ＡＡ／ＡＨＰＳＥを
含んでいた。この種の条件はしばしば、開放再循環冷却系内で出会うものであり
、そこでは原料（補充）水が蒸留によって数回濃縮され、そして硫酸が比較的低
いｐＨを維持するために添加されている。これらの一連の試験において、禁止剤
の全濃度を、それぞれの対の比較（ＮＢＴ有り及びＮＢＴ無し）一定またはほぼ
一定に維持した。それぞれの場合において、禁止剤または禁止剤ブレンドの一部
のＮＢＴによる置換は、腐食性能の有意な改善を生じた。上記したように、テト
ラゾリウム化合物との全ての組合せが受容できる腐食性能を提供したわけではな
いが、全ての場合にこの組合せは性能を改善した。本技術における当業者は容易
に、特別の水性系において満足な性能を得るために必要な適切な量及び率を決定
し得る。
【０１５４】
【表９】
【０１５５】 高めのｐＨ、中程度の硬度の水 表１０は、３６０ｍｇ／ＬのＣａ（ＣａＣＯ3として）、１８０ｍｇ／ＬのＭ
ｇ（ＣａＣＯ3として）、２５５ｍｇ／Ｌの塩素、２２０ｍｇ／ＬのＳＯ4、及び
３００ｍｇ／ＬのＭａｌｋ（ＣａＣＯ3として）含む水中で、ｐＨ８．６での試
験からの結果を示す。全ての試験は５ｍｇ／Ｌの活性ＡＡ／ＡＨＰＳＥを含む。
この種の条件は、しばしば、原料（補充）水が蒸発によって数回濃縮され、かつ
鉄の腐食を制御することを容易にするために中ｐＨ８にｐＨが制御されている開
放再循環冷却系においてしばしばみられる。これらの条件下でのテトラゾリウム
化合物の添加の効果はこれらの結果から明らかである。
【０１５６】
【表１０】
【０１５７】 追加のテトラゾリウム化合物 ＮＢＴ及び３種の追加のテトラゾリウム化合物であるジスチリルニトロブルー
テトラゾリウムクロライド（ＤＮＢＴ）、テトラニトロブルーテトラゾリウムク
ロライド（ＴＮＢＴ）、及び2-(4-ヨードフェニル)-3-(4-ニトロフェニル)-5-フ
ェニルテトラゾリウムクロライド（ＩＮＴ）をｐＨ７．６で使用して得たデータ
を表１１に示す。試験用水は実施例２についてのものと同じである。ＤＮＢＴと
Belclene200との組合せ以外に、テトラゾリウム化合物と本発明において開示し
た他の物質の組合せの相乗相互作用は明らかである。
【０１５８】
【表１１】
【０１５９】 本発明をその特別の態様と共に説明してきたが、本発明の多数の他の形態及び
修正は本技術における当業者に明らかである。特許請求の範囲及び本発明は一般
に、本発明の真の精神及び範囲内にあるそのような明白な形態及び修正をカバー
するものとみなされる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、Bricorr 288と組み合わせてテトラゾリウム化合物を利用す
ることによって得られる相乗的改善を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 ０９／３０９，５６４ (32)優先日 平成11年５月12日(1999．5．12) (33)優先権主張国 米国（ＵＳ） (31)優先権主張番号 ０９／５０５，７２２ (32)優先日 平成12年２月17日(2000．2．17) (33)優先権主張国 米国（ＵＳ） (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ， ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，Ｃ Ｎ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ， ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 スタスニー，ドーン アメリカ合衆国ペンシルバニア州19014， アストン，ノース・コンベント・ロード 16 (72)発明者 ウィテイカー，キム・エイ アメリカ合衆国ペンシルバニア州19468， リメリック，フォーン・コート 130 Ｆターム(参考） 4K062 AA03 BA09 BA10 BB14 BB15 BB16 BB18 BC21 BC22 DA01 DA10 FA01 FA02 FA05 FA06 【要約の続き】 水溶性イオン種を有することができる、前記の方法。

Claims (306)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （ａ）式 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、低級アルキル、分岐低級アルキル、アリール、置
    換アリール、アルキルアリール、置換アルキルアリール及びヘテロ環状置換アリ
    ールより成る群から選択されるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが１４以下の炭素原
    子を有し、そしてｎは１または２である）のテトラゾリウム化合物、ここで該テ
    トラゾリウム化合物は所望によって中性の電荷を得るために必要であるときには
    結合した水溶性イオン種を有することができ、 （ｂ）該テトラゾリウム化合物を実質的に還元しなように選択された少なくとも
    １種の他の水性系処理物質 の組合せを含む、水性系と接触している金属の腐食を制御するための組成物。
  2. 【請求項２】 他の水性系処理物質が、無機のホスフェート、ボレート、ナ
    イトライト（亜硝酸塩・エステル）、水中で金属アニオンを放出する化合物、２
    ，３−ジヒドロキシ安息香酸、１，１０−フェナントロリン、ポリカルボキシレ
    ート、ヒドロカルビルポリカルボキシレート、アルキルヒドロキシカルボン酸、
    アミノヒドロキシコハク酸、カルボキシアミン、ポリエポキシコハク酸、変性ポ
    リエポキシコハク酸、モノホスホン酸、ジホスホン酸、ホスホノカルボン酸、ヒ
    ドロキシホスホノカルボン酸、アミノホスホン酸、ホスホノメチルアミンオキサ
    イド、ポリマーアミンオキサイド、ポリエーテルポリアミノメチレンホスホネー
    ト、ポリエーテルポリアミノ−メチレンホスホネートＮ−オキサイド、イミノア
    ルキレンホスホン酸、サルコシンの長鎖脂肪酸誘導体；テロマーの、コテロマー
    の、ポリマーのまたはコポリマーの燐含有カルボキシレート、珪酸アルカリ金属
    塩、モノフルオロホスフェート、アミン、ジアミン、アルカノールアミン、エー
    テルアミン、脂肪アミン及びジアミン、４級化アミン、オキシアルキル化アミン
    、アルキルピリジン、テトラゾール、イミダゾリン及び置換イミダゾリン、アミ
    ドアミン、ポリアミン、ポリアルキレンポリアミン、ベンゼンスルホン酸のアル
    キル誘導体、ベンゾエート及び置換ベンゾエート、アミノベンゾエート、サリチ
    レート、ダイマー−トリマー酸、石油オキシデート、ボログルコネート；リグニ
    ン、リグノスルホネート、タンニン；直鎖Ｃ5〜Ｃ11モノカルボキシレート、Ｃ4 〜Ｃ15α，ω−ジカルボキシレート；カルボン酸及びメルカプトカルボン酸のア
    ミン塩、アミノ酸、ポリアミノ酸、ヒドロキシエーテル酸及び関連するラクトン
    化合物、Ｎ−アシルイミノジ酢酸；トリアジン・ジ−及びトリ−カルボン酸、ホ
    スホ−及びホスフェートエステル；並びにモノフルオロホスフェート；これらの
    水溶性塩、及びこれらの混合物より成る群から選択される、請求項１に記載の組
    成物。
  3. 【請求項３】 該テトラゾリウム化合物が、ニトロブルー・テトラゾリウム
    （3,3'-(3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2-p-ニトロフェニル-5-フ
    ェニル-2H-テトラゾリウム]）、ジスチリルニトロブルーテトラゾリウム（2,2'-
    ジ-p-ニトロフェニル-5,5'-ジスチリル-3,3'-[3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニ
    レン]-テトラゾリウム）、テトラニトロブルーテトラゾリウム（3,3'-(3,3'-ジ
    メトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2,5-p-ニトロフェニル-2H-テトラゾリウム
    ］）、及びインドニトロテトラゾリウム（2-(4-インドフェニル)-3-(4-ニトロフ
    ェニル)-5-フェニルテトラゾリウム）の水溶性塩より成る群から選択される、請
    求項１に記載の組成物。
  4. 【請求項４】該テトラゾリウム化合物が、ニトロブルー・テトラゾリウム（
    3,3'-(3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2-p-ニトロフェニル-5-フェ
    ニル-2H-テトラゾリウム]）、ジスチリルニトロブルーテトラゾリウム（2,2'-ジ
    -p-ニトロフェニル-5,5'-ジスチリル-3,3'-[3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレ
    ン]-テトラゾリウム）、テトラニトロブルーテトラゾリウム（3,3'-(3,3'-ジメ
    トキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2,5-p-ニトロフェニル-2H-テトラゾリウム］
    ）、及びインドニトロテトラゾリウム（2-(4-インドフェニル)-3-(4-ニトロフェ
    ニル)-5-フェニルテトラゾリウム）の水溶性塩より成る群から選択される、請求
    項２に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 水溶性イオン種が、ハロゲン、ニトレート、ナイトライト、
    カーボネート、炭酸水素塩、サルフェート、ホスホネート、及び遷移金属酸素化
    物より成る群から選択される、請求項１に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 ハロゲンが塩化物、フッ化物、臭化物及びヨウ化物より成る
    群から選択される請求項５に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 ハロゲンが塩化物である、請求項６に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 遷移金属酸素化物が、モリブデート、クロメート、及びタン
    グステートより成る群から選択される、請求項５に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 遷移金属酸素化物が、モリブデートである、請求項８に記載
    の組成物。
  10. 【請求項１０】 無機ホスフェートが、オルトホスフェート、ポリホスフェ
    ート、これらの水溶性塩及びこれらの混合物である、請求項２に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 無機ホスフェートがオルトリン酸、ピロリン酸またはこれ
    らの水溶性塩、またはこれらの混合物である、請求項２に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 ボレートが、テトラボレート、メタボレート及びオルトボ
    レートより成る群から選択される水溶性ボレートである、請求項２に記載の組成
    物。
  13. 【請求項１３】 水溶性ボレートがテトラほう酸ナトリウム、またはテトラ
    ほう酸ナトリウムの水和物である、請求項１２に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 ナイトライトが亜硝酸ナトリウムである、請求項２に記載
    の組成物。
  15. 【請求項１５】 アニオンを放出する化合物が、モリブレート、タングステ
    ート、バナデート及びクロメートの水溶性塩より成る群から選択される、請求項
    ２に記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 モリブレートの水溶性塩がモリブデン酸ナトリウムまたは
    モリブデン酸ナトリウムの水和物である、請求項１５に記載の組成物。
  17. 【請求項１７】 ポリカルボキシレートが、カルボキシレート基によって複
    数置換された、約４〜約２０の炭素原子を含む脂肪族化合物またはその水溶性塩
    を含む、請求項２に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 ポリカルボキシレートが１，２，３，４−ブタンテトラカ
    ルボン酸である、請求項１７に記載の組成物。
  19. 【請求項１９】 ポリカルボキシレートが、１以上のカルボキシル基を含む
    エチレン性不飽和モノマーの重合によって得られるホモポリマーである、請求項
    ２に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 ホモポリマーがポリアクリル酸またはその水溶性塩である
    、請求項１９に記載の組成物。
  21. 【請求項２１】 ホモポリマーがポリマレイン酸またはその水溶性塩である
    、請求項１９に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 ホモポリマーが無水ポリマレイン酸またはその水溶性塩で
    ある、請求項１９に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 ポリカルボキシレートは２種以上の異なるエチレン不飽和
    モノマーの重合から得られるコポリマーを含み、各モノマーは１以上のカルボキ
    シル基を含む、請求項２に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 アルキルヒドロキシカルボン酸が一般式： 【化２】 ［ａ、ｂ及びｃは０〜６の整数であり、（ａ＋ｂ＋ｃ）＞０であり、ＲB1、ＲB2
    、ＲB3はＣ＝ＯまたはＣＹＺ（Ｙ及びＺは、H、OH、CHO、COOH、CH3、CH2(OH)、
    CH(OH)2、CH2(COOH)、CH(OH)COOH、CH2(CHO)及びCH(OH)CHOより成る群から別々
    に選択され、その選択は分子が十分に水和された形態に記述されたときに最小限
    の１つのＯＨ基を有するようになされ、そしてＲB4はＨまたはＣＯＯＨである)
    を含む］を有するか、またはこれらの酸の化学的に同等の環状、脱水、及び水和
    された形態、及び水中で上記化合物を形成する加水分解可能なエステル及びアセ
    タール、またはそのようなアルキルヒドロキシカルボン酸の水溶性塩を含む、請
    求項２に記載の組成物。
  25. 【請求項２５】 アルキルヒドロキシカルボン酸が、酒石酸、メソ酒石酸、
    クエン酸、グルコン酸、グルコヘプトン酸、ケトマロン酸、及び糖酸、及びそれ
    らの水溶性塩から選択される、請求項２４に記載の組成物。
  26. 【請求項２６】 他の水性系処理物質が、オルトリン酸またはその水溶性塩
    及び少なくとも１種の次一般式を有するヒドロキシカルボン酸の混合物である、
    請求項２に記載の組成物： 【化３】 ［ａ、ｂ及びｃは０〜６の整数であり、（ａ＋ｂ＋ｃ）＞０であり、ＲB1、ＲB2
    、ＲB3はＣ＝ＯまたはＣＹＺ（Ｙ及びＺは、H、OH、CHO、COOH、CH3、CH2(OH)、
    CH(OH)2、CH2(COOH)、CH(OH)COOH、CH2(CHO)及びCH(OH)CHOより成る群から別々
    に選択され、その選択は分子が十分に水和された形態に記述されたときに最小限
    の１つのＯＨ基を有するようになされ、そしてＲB4はＨまたはＣＯＯＨである)
    を含む］、ただしアルキルヒドロキシカルボン酸はこれらの酸の立体異性体及び
    化学的に同等の環状、脱水、及び水和された形態、及び水中で上記化合物を形成
    する加水分解可能なエステル及びアセタール、またはそのようなアルキルヒドロ
    キシカルボン酸の水溶性塩を含む。
  27. 【請求項２７】 ヒドロキシカルボン酸が、酒石酸、メソ酒石酸、クエン酸
    、グルコン酸、グルコヘプトン酸、ケトマロン酸、及び糖酸、及びそれらの水溶
    性塩より成る群から選択される、請求項２６に記載の組成物。
  28. 【請求項２８】 アミノヒドロキシコハク酸が、次の一般式を有するか、ま
    たはその水溶性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化４】 [式中、ＲC1はＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキル（所望により−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−
    ＳＯ3Ｈまたはフェニルにより置換されていてもよい）、Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキ
    ル、またはフェニル（所望により−ＯＨまたは−ＣＯＯＨにより置換されていて
    もよい）であり、そしてＲC2はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル（所望により−ＨまたはＣ
    ＯＯＨにより置換されていてもよい）であり、特に−ＣＨ(ＣＯ2Ｈ)ＣＨ(ＯＨ)(
    ＣＯ2Ｈ)基を含む］；及び 【化５】 ｛ＲC2は上記の通りであり、ＺCは次のi)〜iv)より成る群から選択される： ｉ）(ＣＨ2)k［ｋは２〜１０の整数である］、 ｉｉ）−(ＣＨ2)2−ＸC−(ＣＨ2)2−［ＸCは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲC3−（ＲC3 はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アシル、
    −Ｃ(Ｏ)ＯＲC4（ＲC4はＣ1〜Ｃ6アルキルまたはベンジル及び一般式 【化６】 （ＲC2は上記の通りである）を有する残基より成る群から選択される）］、 ｉｉｉ）一般式 【化７】 （ＹはＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、アルコキシ、ハロゲン、−ＣＯ2Ｈ、または−Ｓ
    Ｏ3Ｈであり、ｍは独立して０または１であり、そしてｐは１または２である）
    を有する残基、並びに （ｉｖ）一般式 【化８】 （ＲC5及びＲC6は独立してＨまたはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、ＱはＨまたはＣ1
    〜Ｃ6アルキルであり、ｓは０、１または２であり、ｔは独立して０、１、２ま
    たは３であり、ｑは０、１、２、または３であり、そしてｒは１または２である
    ）を有する残基。
  29. 【請求項２９】 アミノヒドロキシコハク酸化合物が、イミノジ（２−ヒドロキ
    シコハク酸）、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−１，６−ヘキサ
    ンジアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−ｍ−キシレン
    ジアミン、並びにこれらの水溶性塩より成る群から選択される、請求項２８に記
    載の組成物。
  30. 【請求項３０】 他の水性系処理物質が、オルトリン酸またはその水溶性
    塩及び少なくとも１種のアミノヒドロキシコハク酸の混合物であり、該アミノヒ
    ドロキシコハク酸が、次の一般式を有するか、またはその水溶性塩である、請求
    項２に記載の組成物： 【化９】 [式中、ＲC1はＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキル（所望により−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−
    ＳＯ3Ｈまたはフェニルにより置換されていてもよい）、Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキ
    ル、またはフェニル（所望により−ＯＨまたは−ＣＯＯＨにより置換されていて
    もよい）であり、そしてＲC2はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル（所望により−ＨまたはＣ
    ＯＯＨにより置換されていてもよい）であり、特に−ＣＨ(ＣＯ2Ｈ)ＣＨ(ＯＨ)(
    ＣＯ2Ｈ)を含む］；及び 【化１０】 ｛ＲC2は上記の通りであり、ＺCは次のi)〜iv)より成る群から選択される： ｉ）(ＣＨ2)k［ｋは２〜１０の整数である］、 ｉｉ）−(ＣＨ2)2−ＸC−(ＣＨ2)2−［ＸCは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲC3−（ＲC3 はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アシル、
    −Ｃ(Ｏ)ＯＲC4（ＲC4はＣ1〜Ｃ6アルキルまたはベンジルより成る群から選択さ
    れる）及び一般式 【化１１】 （ＲC2は上記の通りである）を有する残基より成る群から選択される）］、 ｉｉｉ）一般式 【化１２】 （ＹはＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、アルコキシ、ハロゲン、−ＣＯ2Ｈ、または−Ｓ
    Ｏ3Ｈであり、ｍは独立して０または１であり、そしてｐは１または２である）
    を有する残基、並びに （ｉｖ）一般式 【化１３】 （ＲC5及びＲC6は独立してＨまたはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、ＱはＨまたはＣ1
    〜Ｃ6アルキルであり、ｓは０、１または２であり、ｔは独立して０、１、２ま
    たは３であり、ｑは０、１、２、または３であり、そしてｒは１または２である
    ）を有する残基。
  31. 【請求項３１】 アミノヒドロキシコハク酸化合物が、イミノジ（２−ヒド
    ロキシコハク酸）、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−１，６−ヘ
    キサンジアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−ｍ−キシ
    レンジアミン、並びにこれらの水溶性塩より成る群から選択される、請求項３０
    に記載の組成物。
  32. 【請求項３２】 一般式ポリエポキシコハク酸が次の一般式を有するか、そ
    の水溶性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化１４】 ［ｌは約２〜約５０であり、ＭTは水素または水溶性カチオン、例えばＮａ+、Ｎ
    Ｈ4 +またはＫ+であり、そしてＲTは水素、Ｃ1-4アルキルまたはＣ1-4置換アルキ
    ルである］。
  33. 【請求項３３】 ＲTが水素であり、そしてｌは約２〜約１０である、請求
    項３２に記載の組成物。
  34. 【請求項３４】 ＲTが水素であり、そしてｌは約４〜約７である、請求項
    ３２に記載の組成物。
  35. 【請求項３５】 他の水性系処理物質が、オルトリン酸またはその水溶性塩
    及び次の一般式のポリエポキシコハク酸またはその水溶性塩の混合物である、請
    求項２に記載の組成物： 【化１５】 ［ｌは約２〜約５０であり、ＭTは水素または水溶性カチオン、例えばＮａ+、Ｎ
    Ｈ4 +またはＫ+であり、そしてＲTは水素、Ｃ1-4アルキルまたはＣ1-4置換アルキ
    ルである］。
  36. 【請求項３６】 ポリエポキシコハク酸のＲTが水素であり、ｌが約２〜約
    １０である、請求項３５に記載の組成物。
  37. 【請求項３７】 ポリエポキシコハク酸のＲTが水素であり、ｌが約４〜約
    ７である、請求項３５に記載の組成物。
  38. 【請求項３８】 変性ポリエポキシコハク酸が次の一般式を有する、請求項
    ２に記載の組成物： 【化１６】 式中、ＲD1（存在するとき）はＨ、置換または非置換アルキルまたはアリール基
    （水溶液中での可溶性が失われる長さ以下の炭素鎖を有するもの）、またはエチ
    レン性不飽和化合物の重合後に得られる繰返単位であり；ＲD2及びＲD3はおのお
    の独立してＨ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4置換アルキルであり；ＺDはＯ
    、Ｓ、ＮＨ、またはＮＲD1（ＲD1は上記の通りである）であり、ｕは１より大き
    い正の整数であり；ｆは正の整数であり、そしてＭDはＨ、水溶性カチオン（例
    えばＮＨ4 +、アルカリ金属）または１〜３の炭素原子を有する非置換低級アルキ
    ルである（ＲD1が存在しないときは、ＺDはＭDＯ3Ｓであり、ＭDは上記した通り
    である）。
  39. 【請求項３９】 ＲD1がメタキシリレン（メタ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−）
    であり、ＺDは−ＮＨ−であり、ＲD2及びＲD3の両方はＨであり、ＭDはＮａまた
    はＨであり、ｆは２であり、ｕは１より大きい正の整数である、請求項３８に記
    載の組成物。
  40. 【請求項４０】 モノホスホン酸が次の一般式を有するか、またはその水溶
    性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化１７】 （式中、ＲFはＣ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキル残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖または
    分岐鎖アルケニル残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル残基、Ｃ6〜Ｃ10アリール残基
    、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキル残基であり、ＲFはさらに、ヒドロキシ、アミノ
    、またはハロゲンから独立して選択される基によって単置換、または複数置換さ
    れていてよい）
  41. 【請求項４１】 ジホスホン酸が、次の一般式を有するか、またはその水溶
    性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化１８】 （ＲKはＣ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキレン残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖または分岐
    鎖アルケニレン残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキレン残基、Ｃ6〜Ｃ10アリーレン残
    基、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキレン残基であり、ＲKはさらに、ヒドロキシ、ア
    ミノ、またはハロゲンから独立して選択される基によって単置換、または複数置
    換されていてよい）。
  42. 【請求項４２】 ジホスホン酸が、１−ヒドロキシエタン−１、１−ジホス
    ホン酸またはそれらの水溶性塩である、請求項４１に記載の組成物。
  43. 【請求項４３】 ホスホノカルボン酸が一般式： 【化１９】 ［ＲH1はＨ、１〜４の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、またはアルキニ
    ル基、アシル、アリール、シクロアルキル、またはアルアルキル基、または次か
    ら選択される基であり 【化２０】 （ＲH2はＨ、炭素原子数１〜４のアルキル基、またはカルボキシル基である）、
    そしてＸHは次のものから選択される 【化２１】 （−ＰＯ3Ｈ2基はホスホノ基 【化２２】 である）］を有するか、またはその水溶性塩である、請求項２に記載の組成物。
  44. 【請求項４４】 ホスホノカルボン酸が２−ホスホノブタン−１，２，４−
    トリカルボン酸またはその水溶性塩である、請求項４３に記載の組成物。
  45. 【請求項４５】 ヒドロキシホスホノカルボン酸が次の一般式を有するか、
    またはその水溶性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化２３】 （式中、ＲEはＨ、Ｃ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキル残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖ま
    たは分岐鎖アルケニル残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル残基、Ｃ6〜Ｃ10アリール
    残基、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキル残基であり、ＸEは所望の基であって、Ｃ1
    〜Ｃ10直鎖または分岐鎖アルキレン残基、Ｃ2〜Ｃ10直鎖または分岐鎖アルケニ
    レン残基、またはＣ6〜Ｃ10アリーレン残基である）。
  46. 【請求項４６】 ヒドロキシホスホノカルボン酸が、２−ヒドロキシ−ホス
    ホノ酢酸またはその水溶性塩である、請求項４５に記載の組成物。
  47. 【請求項４７】 アミノホスホン酸が次の一般式を有するか、またはその水
    溶性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化２４】 ［式中、ＲG2は約１〜約４の炭素原子を有する低級アルキレン、またはアミン、
    ヒドロキシ、またはハロゲン置換低級アルキレンであり；ＲG3はＲG2−ＰＯ3Ｈ2 、Ｈ、ＯＨ、アミノ、置換アミノ、または前に定義したＲFであり；ＲG4はＲG3
    または次の一般式に表わされる基である： 【化２５】 （ＲG5及びＲG6はそれぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、アミノ、置換アミノ、または前
    に定義したＲFであり；ＲG7はＲG5、ＲG6または基ＲG2−ＰＯ3Ｈ2（ＲG2は前に
    定義した通りである）であり；ｖは１〜約１５の整数であり；そしてｗは１〜約
    １４の整数である）］。
  48. 【請求項４８】 アミノホスホン酸が、ジエチレントリアミンペンタ（メチ
    レンホスホン酸）、またはその水溶性塩である、請求項４７に記載の組成物。
  49. 【請求項４９】 ホスホノメチルアミンオキサイドが次の一般式を有するか
    、またはこれらの水溶性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化２６】 ［式中、ＲA1及びＲA2は次の（１）または（２）を満たす： （１）ＲA1はヒドロカルビル、及びヒドロキシ置換ヒドロカルビル、アルコキシ
    置換ヒドロカルビル、カルボキシ置換ヒドロカルビル及びスルホニル置換ヒドロ
    カルビルより成る群から選択され；そしてＲA2はヒドロカルビル、及びヒドロキ
    シ置換ヒドロカルビル、アルコキシ置換ヒドロカルビル、カルボキシ置換ヒドロ
    カルビル及びスルホニル置換ヒドロカルビル、−ＣＨ2ＰＯ3Ｈ2、並びに 【化２７】 より成る群から選択されるか、または （２）ＲA1及びＲA2は共に、３〜５個の炭素原子を環中に有する脂環式の環を形
    成し、ヒドロカルビルは、アミンオキサイドを水に不溶性にしないアルキル、ア
    リール、及びアルカリール基を含む］。
  50. 【請求項５０】 ホスホノメチルアミンオキサイドがＮ，Ｎ−ビス−ホスホ
    ノメチルエタノールアミンＮ−オキサイドまたはその水溶性塩である、請求項４
    ９に記載の組成物。
  51. 【請求項５１】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマー
    のリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、コ
    オリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシル
    基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、そ
    して得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的に末端タイプ
    のホスフィノ種として存在するリン組込みを含む；またはそれらの水溶性塩であ
    る、請求項２に記載の組成物。
  52. 【請求項５２】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマーの
    リン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、コオ
    リゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシル基
    を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、そし
    て得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的にホスフィノ種
    として存在するリン組込みを含む；またはそれらの水溶性塩である、請求項２に
    記載の組成物。
  53. 【請求項５３】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマー
    のリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、コ
    オリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシル
    基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、そ
    して得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的に末端タイプ
    のジアルキルホスフィノ種として存在するリン組込みを含む；またはそれらの水
    溶性塩である、請求項２に記載の組成物。
  54. 【請求項５４】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマー
    のリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、コ
    オリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシル
    基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、そ
    して得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的にホスホノ、
    末端タイプのホスフィノ、及びジアルキルホスフィノ種の混合物として存在する
    リン組込みを含む；またはそれらの水溶性塩である、請求項２に記載の組成物。
  55. 【請求項５５】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
    ン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シトラ
    コン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メチ
    レングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタ
    ル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．
    ２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２，
    ６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒドロ
    フタル酸無水物より成る群から選択される、請求項５１に記載の組成物。
  56. 【請求項５６】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項５１に
    記載の組成物。
  57. 【請求項５７】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無水
    マレイン酸より成る群から選択される、請求項５１に記載の組成物。
  58. 【請求項５８】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和モ
    ノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択され
    る、請求項５１に記載の組成物。
  59. 【請求項５９】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
    ン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シトラ
    コン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メチ
    レングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタ
    ル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．
    ２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２，
    ６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒドロ
    フタル酸無水物より成る群から選択される、請求項５２に記載の組成物。
  60. 【請求項６０】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項５２に
    記載の組成物。
  61. 【請求項６１】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無水
    マレイン酸より成る群から選択される、請求項５２に記載の組成物。
  62. 【請求項６２】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和モ
    ノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択され
    る、請求項５２に記載の組成物。
  63. 【請求項６３】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
    ン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シトラ
    コン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メチ
    レングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタ
    ル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．
    ２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２，
    ６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒドロ
    フタル酸無水物より成る群から選択される、請求項５３に記載の組成物。
  64. 【請求項６４】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項５３に
    記載の組成物。
  65. 【請求項６５】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無水
    マレイン酸より成る群から選択される、請求項５３に記載の組成物。
  66. 【請求項６６】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和モ
    ノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択され
    る、請求項５３に記載の組成物。
  67. 【請求項６７】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
    ン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シトラ
    コン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メチ
    レングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタ
    ル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．
    ２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２，
    ６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒドロ
    フタル酸無水物より成る群から選択される、請求項５４に記載の組成物。
  68. 【請求項６８】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項５４に
    記載の組成物。
  69. 【請求項６９】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無水
    マレイン酸より成る群から選択される、請求項５４に記載の組成物。
  70. 【請求項７０】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和モ
    ノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択され
    る、請求項５４に記載の組成物。
  71. 【請求項７１】 リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーのリ
    ン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、ま
    たはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５０
    重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基に
    変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非カ
    ルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが、
    優勢にまたは排他的に、末端タイプのホスフィノ種として存在するリン組込みを
    含む、請求項２に記載の組成物。
  72. 【請求項７２】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メチ
    ルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロパ
    ンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン酸
    、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
    アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエチ
    ルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
    ル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルアミ
    ド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニル
    ピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル、
    加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項７１
    に記載の組成物。
  73. 【請求項７３】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水
    マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、
    シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ
    −メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−
    テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ
    ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１
    ，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項７１に記載の組成物。
  74. 【請求項７４】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、イタ
    コン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項７３に記載の組成
    物。
  75. 【請求項７５】 リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーのリ
    ン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、ま
    たはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５０
    重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基に
    変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非カ
    ルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが、
    優勢にまたは排他的に、ホスフィノ種として存在するリン組込みを含む、請求項
    ２に記載の組成物。
  76. 【請求項７６】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メチ
    ルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロパ
    ンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン酸
    、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
    アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエチ
    ルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
    ル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルアミ
    ド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニル
    ピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル、
    加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項７５
    に記載の組成物。
  77. 【請求項７７】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水
    マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、
    シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ
    −メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−
    テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ
    ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１
    ，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項７５に記載の組成物。
  78. 【請求項７８】 カルボキシルモノマーは、アクリル酸、マレイン酸、イタ
    コン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項７７に記載の組成
    物。
  79. 【請求項７９】 リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーのリ
    ン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、ま
    たはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５０
    重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基に
    変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非カ
    ルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが、
    優勢にまたは排他的に、ジアルキルホスフィノ種として存在するリン組込みを含
    む、請求項２に記載の組成物。
  80. 【請求項８０】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メチ
    ルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロパ
    ンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン酸
    、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
    アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエチ
    ルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
    ル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルアミ
    ド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニル
    ピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル、
    加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項７９
    に記載の組成物。
  81. 【請求項８１】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水
    マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、
    シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ
    −メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−
    テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ
    ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１
    ，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項７９に記載の組成物。
  82. 【請求項８２】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、イタ
    コン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項８１に記載の組成
    物。
  83. 【請求項８３】リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーのリン
    含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、また
    はそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５０重
    量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基に変
    化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非カル
    ボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが、優
    勢にまたは排他的に、ホスホノ、末端タイプホスフィノ及びジアルキルホスフィ
    ノ種の混合物として存在するリン組込みを含む、請求項２に記載の組成物。
  84. 【請求項８４】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メチ
    ルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロパ
    ンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン酸
    、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
    アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエチ
    ルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
    ル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルアミ
    ド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニル
    ピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル、
    加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項８３
    に記載の組成物。
  85. 【請求項８５】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水
    マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、
    シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ
    −メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−
    テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ
    ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１
    ，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラ
    ヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項８３に記載の組成物。
  86. 【請求項８６】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、イタ
    コン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項８５に記載の組成
    物。
  87. 【請求項８７】 リン含有カルボキシレートが次の一般式のホスホンポリマ
    ー、またはその水溶性塩である、請求項２に記載の組成物： 【化２８】 ［ＸJはＨ、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、またはアンモニウム若
    しくはアミン残基であり；ＲJ1は２つの異なる残基 【化２９】 （ｚは２〜１００の整数であり、第１の残基においてＲJ2は−ＣＯＯＨであり、
    そして第２の残基においてＲJ2は−ＣＯＮＨＣ(ＣＨ3)2ＣＨ2ＳＯ3ＸJ（ＸJは前
    に定義した通りである）である）を含むコポリマー残基である］
  88. 【請求項８８】 水性処理物質が、組成物の重量を基準として、５０重量％
    以下のホスホノコハク酸、マレイン酸アルカリ金属塩のホスホン化ダイマー、ダ
    イマーの重量を基準として半量未満のより高級のホスホン化オリゴマーマレエー
    ト、及び組成物の約０．５〜約５重量％の燐酸アルカリ金属塩の組成物である、
    請求項２に記載の組成物。
  89. 【請求項８９】 サクロシンの長鎖脂肪酸誘導体がＮ−ラウロイルサルコシ
    ンまたはその水溶性塩であるとして選択される、請求項２に記載の組成物。
  90. 【請求項９０】 組成物が水を含む、請求項１に記載の組成物。
  91. 【請求項９１】 組成物がさらに水を含む、請求項２に記載の組成物。
  92. 【請求項９２】 組成物が、追加的に ｉ）１種以上の分散剤、 ｉｉ）１種以上の銅腐蝕禁止剤、 ｉｉｉ）１種以上のアルミニウム腐蝕禁止剤 ｉｖ）亜鉛、マンガン、アルミニウム、錫、ニッケル、イットリウム、及び希土
    類金属より成る群から選択される金属の１種以上の水溶性金属塩、 ｖ）亜鉛、マンガン、アルミニウム、錫、ニッケル、イットリウム、及び希土類
    金属より成る群から選択される金属イオンの１種以上の水溶性有機金属キレート
    、有機キレート化剤は金属イオンの望まれるレベルの水溶性を付与するように選
    択される、 ｖｉ）１種以上のスケール制御剤、 ｖｉｉ）１種以上の金属イオン封鎖剤、 ｖｉｉｉ）１種以上の消泡剤、 ｉｘ）１種以上の酸化性殺生物剤、 ｘ）１種以上の非酸化性殺生物剤 ｘｉ）１種以上の、水性系の凝固点を下げることができる水溶性アルコール、 ｘｉｉ）１種以上のイオン性凝固点降下剤、 ｘｉｉｉ）１種以上のｐＨ調節剤、 ｘｉｖ）１種以上の不活性トレーサー、 ｘｖ）１種以上の活性トレーサー、 ｘｖｉ）１種以上の水不溶性有機潤滑剤、 ｘｖｉｉ）１種以上の水溶性潤滑剤、 ｘｖｉｉｉ）１種以上の界面活性剤、 ｘｉｘ）１種以上のカルシウム硬度調節剤、 ｘｘ）１種以上の着色剤 より成る群から選択される少なくとも１種の添加剤を含む、請求項２に記載の組
    成物。
  93. 【請求項９３】 組成物が追加的に水を含む、請求項９２に記載の組成物。
  94. 【請求項９４】 分散剤が、１種以上のエチレン不飽和モノマーの重合から
    得られる水溶性スルホン化ポリマーまたはコポリマーである、請求項９２に記載
    の組成物。
  95. 【請求項９５】 水溶性スルホン化コポリマーが、アクリル酸とアリルヒド
    ロキシプロピルスルホネートエーテルの約３：１重量比のコポリマー、またはそ
    の水溶性塩である、請求項９４に記載の組成物。
  96. 【請求項９６】 分散剤が、ジイソブチレンと無水マレイン酸との、１００
    ００未満の分子量を有するコポリマー、またはその水溶性塩である、請求項９６
    に記載の組成物。
  97. 【請求項９７】 銅腐蝕禁止剤トリルトリアゾールである、請求項９２に記
    載の組成物。
  98. 【請求項９８】 銅腐蝕禁止剤が、少なくとも６５重量％の５−メチルベン
    ゾトリアゾールを含む混合トリルトリアゾール組成物である、請求項９２に記載
    の組成物。
  99. 【請求項９９】 腐蝕禁止剤がベンゾトリアゾールである、請求項９２に記
    載の組成物。
  100. 【請求項１００】銅腐蝕禁止剤がメルカプトベンゾチアゾールである、請求
    項９２に記載の組成物。
  101. 【請求項１０１】 銅腐蝕禁止剤が、置換がベンゼン環の４または５位で生
    じているアルキル若しくはアルコキシ置換ベンゾトリアゾールである、請求項９
    ２に記載の組成物。
  102. 【請求項１０２】 置換基が、ｎ−ブチル及びヘキシルオキシより成る群か
    ら選択される、請求項１０１に記載の組成物。
  103. 【請求項１０３】 銅腐蝕禁止剤が１−フェニル−５−メルカプトテトラゾ
    ールである、請求項９２に記載の組成物。
  104. 【請求項１０４】 銅腐蝕禁止剤がハロゲン耐性アゾールである、請求項９
    ２に記載の組成物。
  105. 【請求項１０５】 ハロゲン耐性アゾールがクロロ−トリアゾールである、
    請求項１０４に記載の組成物。
  106. 【請求項１０６】 アルミニウム腐蝕禁止剤が、水溶性硝酸塩である、請求
    項９２に記載の組成物。
  107. 【請求項１０７】 水溶性硝酸塩が硝酸ナトリウムである、請求項１０６に
    記載の組成物。
  108. 【請求項１０８】 水溶性金属塩が亜鉛から得られる、請求項９２に記載の
    組成物。
  109. 【請求項１０９】 亜鉛塩が硫酸塩、塩化物、酢酸塩または硝酸塩である、
    請求項１０８に記載の組成物。
  110. 【請求項１１０】 金属塩が、＋２の酸化状態で得られる、請求項９２に記
    載の組成物。
  111. 【請求項１１１】 マンガン塩が硫酸塩、塩化物、酢酸塩または硝酸塩であ
    る、請求項１１０に記載の組成物。
  112. 【請求項１１２】 金属塩がランタンまたはランタンを含む希土類金属の混
    合物から得られる、請求項９２に記載の組成物。
  113. 【請求項１１３】 ランタンまたはランタンを含む希土類金属の混合物が、
    硫酸塩、塩化物、酢酸塩または硝酸塩から独立して選択される、請求項１１２に
    記載の組成物。
  114. 【請求項１１４】 金属イオン封鎖剤が、エチレンジアミンテトラ（酢酸）
    ニトロロトリ酢酸、及びＮ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシンまたはそ
    の水溶性塩より成る群から選択される、請求項９２に記載の組成物。
  115. 【請求項１１５】 珪酸アルカリ金属塩がメタ珪酸ナトリウムである、請求
    項２に記載の組成物。
  116. 【請求項１１６】 消泡剤が、シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ジス
    テアリルセバクアミド、ジステアリルアジパミド、脂肪アルコール、及び脂肪ア
    ルコールのエチレンオキサイド縮合物より成る群から選択される、請求項９２に
    記載の組成物。
  117. 【請求項１１７】 酸化性殺生物剤が、塩素、次亜塩素酸塩、臭素、次亜臭
    素酸塩、塩素及び／または臭素を供与する化合物、過酢酸、無機ペルオキシド、
    及びペルオキシド発生剤、二酸化塩素、オゾン及びこれらの混合物より成る群か
    ら選択される、請求項９２に記載の組成物。
  118. 【請求項１１８】 非酸化性殺生物剤が、アミン、第４アンモニウム化合物
    、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、β−ブロモニトロスチ
    レン、ドデシルグアニジン塩化水素、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオ
    ンアミド、グルタルアルデヒド、クロロフェノール、スルホン類、メチレンビス
    チオシアネート、メチレンビスカルバメート、イソチアゾロン類、臭化プロピオ
    ンアミド、トリアジン、ホスホニウム化合物、有機金属化合物、それらの混合物
    より成る群から選択される、請求項９２に記載の組成物。
  119. 【請求項１１９】 非酸化性殺生物剤が、（ａ）２−ブロモ−２−ニトロプ
    ロパン−１，３−ジオール（ＢＮＰＤ）と、（ｂ）約７５％の５−クロロ−２−
    メチル−４−イソチアゾリン−３−オン及び約２５％の２−メチル−４−イソチ
    アゾリン−３−オンの混合物との混合物であり、該ＢＮＰＤ（ａ）の該混合物（
    ｂ）に対する重量比が約１６：１〜約１：１である、請求項９２に記載の組成物
    。
  120. 【請求項１２０】 水溶性アルコール凝固点降下剤が、エチレングリコール
    、プロピレングリコール、エタノール、グリセロール、イソプロパノール、メタ
    ノール、及びこれらの混合物より成る群から選択される、請求項９２に記載の組
    成物。
  121. 【請求項１２１】 イオン性凝固点降下剤が、塩化カルシウム、塩化ナトリ
    ウム、臭化リチウム、及び塩化リチウムより成る群から選択される、請求項９２
    に記載の組成物。
  122. 【請求項１２２】 ｐＨ調節剤が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
    酸化リチウム、塩酸、硫酸、硝酸、二酸化炭素、アンモニア、蓚酸のような有機
    酸、アルカリ金属炭酸塩、及びアルカリ金属炭酸水素塩より成る群から選択され
    る、請求項９２に記載の組成物。
  123. 【請求項１２３】 不活性トレーサーが可溶性リチウム塩、遷移金属、蛍光
    物質より成る群から選択される、請求項９２に記載の組成物。
  124. 【請求項１２４】 活性トレーサーが、蛍光で標識されたポリマー、光不活
    性の潜在的に検出し得る基を含むポリマー、水溶性モリブデン酸塩及びアゾール
    系銅腐蝕禁止剤より成る群から選択される、請求項９２に記載の組成物。
  125. 【請求項１２５】 水不溶性有機潤滑剤が、天然油及び合成油より成る群か
    ら選択される、請求項９２に記載の組成物。
  126. 【請求項１２６】 界面活性剤が、アニオン性、カチオン性、両性、及び非
    イオン性界面活性剤より成る群から選択される、請求項９２に記載の組成物。
  127. 【請求項１２７】 カルシウム硬度調節剤が、カルシウムの炭酸水素塩、炭
    酸塩、塩化物、硫酸塩、及び酢酸塩、並びに水酸化カルシウム及び酸化カルシウ
    ムより成る群から選択される、請求項９２に記載の組成物。
  128. 【請求項１２８】 着色剤が、水溶性染料である、請求項９２に記載の組成
    物。
  129. 【請求項１２９】 モノフルオロホスフェートがモノフルオロリン酸ナトリ
    ウムである、請求項２に記載の組成物。
  130. 【請求項１３０】 水性系と接触する金属の腐蝕を制御するための方法であ
    って、該系に、 （ａ）式 【化３０】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、低級アルキル、分岐低級アルキル、アリール、置
    換アリール、アルキルアリール、置換アルキルアリール及びヘテロ環状置換アリ
    ールより成る群から選択されるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが１４以下の炭素原
    子を有し、そしてｎは１または２である）のテトラゾリウム化合物、ここで該テ
    トラゾリウム化合物は所望によって中性の電荷を得るために必要であるときには
    結合した水溶性イオン種を有することができ、及び （ｂ）該テトラゾリウム化合物を実質的に還元しなように選択された少なくとも
    １種の他の水性系処理物質 の組合せを導入することを含む、前記の方法。
  131. 【請求項１３１】 他の水性系処理物質が、無機のホスフェート、ボレート
    、ナイトライト（亜硝酸塩・エステル）、水中で金属アニオンを放出する化合物
    、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、１，１０−フェナントロリン、ポリカルボキ
    シレート、ヒドロカルビルポリカルボキシレート、アルキルヒドロキシカルボン
    酸、アミノヒドロキシコハク酸、カルボキシアミン、ポリエポキシコハク酸、変
    性ポリエポキシコハク酸、モノホスホン酸、ジホスホン酸、ホスホノカルボン酸
    、ヒドロキシホスホノカルボン酸、アミノホスホン酸、ホスホノメチルアミンオ
    キサイド、ポリマーアミンオキサイド、ポリエーテルポリアミノメチレンホスホ
    ネート、ポリエーテルポリアミノ−メチレンホスホネートＮ−オキサイド、イミ
    ノアルキレンホスホン酸、サルコシンの長鎖脂肪酸誘導体；テロマーの、コテロ
    マーの、ポリマーのまたはコポリマーの燐含有カルボキシレート、珪酸アルカリ
    金属塩、モノフルオロホスフェート、アミン、ジアミン、アルカノールアミン、
    エーテルアミン、脂肪アミン及びジアミン、４級化アミン、オキシアルキル化ア
    ミン、アルキルピリジン、テトラゾール、イミダゾリン及び置換イミダゾリン、
    アミドアミン、ポリアミン、ポリアルキレンポリアミン、ベンゼンスルホン酸の
    アルキル誘導体、ベンゾエート及び置換ベンゾエート、アミノベンゾエート、サ
    リチレート、ダイマー−トリマー酸、石油オキシデート、ボログルコネート；リ
    グニン、リグノスルホネート、タンニン；直鎖Ｃ5〜Ｃ11モノカルボキシレート
    、Ｃ4〜Ｃ15α，ω−ジカルボキシレート；カルボン酸及びメルカプトカルボン
    酸のアミン塩、アミノ酸、ポリアミノ酸、ヒドロキシエーテル酸及び関連するラ
    クトン化合物、Ｎ−アシルイミノジ酢酸；トリアジン・ジ−及びトリ−カルボン
    酸、ホスホ−及びホスフェートエステル；並びにモノフルオロホスフェート；こ
    れらの水溶性塩、及びこれらの混合物より成る群から選択される、請求項１３１
    に記載の方法。
  132. 【請求項１３２】 該テトラゾリウム化合物が、ニトロブルー・テトラゾリ
    ウム（3,3'-(3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2-p-ニトロフェニル-
    5-フェニル-2H-テトラゾリウム]）、ジスチリルニトロブルーテトラゾリウム（2
    ,2'-ジ-p-ニトロフェニル-5,5'-ジスチリル-3,3'-[3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフ
    ェニレン]-テトラゾリウム）、テトラニトロブルーテトラゾリウム（3,3'-(3,3'
    -ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2,5-p-ニトロフェニル-2H-テトラゾリ
    ウム］）、及びインドニトロテトラゾリウム（2-(4-インドフェニル)-3-(4-ニト
    ロフェニル)-5-フェニルテトラゾリウム）の水溶性塩より成る群から選択される
    、請求項１３０に記載の方法。
  133. 【請求項１３３】該テトラゾリウム化合物が、ニトロブルー・テトラゾリウ
    ム（3,3'-(3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2-p-ニトロフェニル-5-
    フェニル-2H-テトラゾリウム]）、ジスチリルニトロブルーテトラゾリウム（2,2
    '-ジ-p-ニトロフェニル-5,5'-ジスチリル-3,3'-[3,3'-ジメトキシ-4,4'-ビフェ
    ニレン]-テトラゾリウム）、テトラニトロブルーテトラゾリウム（3,3'-(3,3'-
    ジメトキシ-4,4'-ビフェニレン)-ビス-[2,5-p-ニトロフェニル-2H-テトラゾリウ
    ム］）、及びインドニトロテトラゾリウム（2-(4-インドフェニル)-3-(4-ニトロ
    フェニル)-5-フェニルテトラゾリウム）の水溶性塩より成る群から選択される、
    請求項１３１に記載の方法。
  134. 【請求項１３４】 水溶性イオン種が、ハロゲン、ニトレート、ナイトライ
    ト、カーボネート、炭酸水素塩、サルフェート、ホスホネート、及び遷移金属酸
    素化物より成る群から選択される、請求項１３０に記載の方法。
  135. 【請求項１３５】 ハロゲンが塩化物、フッ化物、臭化物及びヨウ化物より
    成る群から選択される請求項１３４に記載の方法。
  136. 【請求項１３６】 ハロゲンが塩化物である、請求項１３５に記載の方法。
  137. 【請求項１３７】 遷移金属酸素化物が、モリブデート、クロメート、及び
    タングステートより成る群から選択される、請求項１３４に記載の方法。
  138. 【請求項１３８】 遷移金属酸素化物が、モリブデートである、請求項１３
    ７に記載の方法。
  139. 【請求項１３９】 無機ホスフェートが、オルトホスフェート、ポリホスフ
    ェート、これらの水溶性塩及びこれらの混合物である、請求項１３１に記載の方
    法。
  140. 【請求項１４０】 無機ホスフェートがオルトリン酸、ピロリン酸またはこ
    れらの水溶性塩、またはこれらの混合物である、請求項１３１に記載の方法。
  141. 【請求項１４１】 ボレートが、テトラボレート、メタボレート及びオルト
    ボレートより成る群から選択される水溶性ボレートである、請求項１３１に記載
    の方法。
  142. 【請求項１４２】 水溶性ボレートがテトラほう酸ナトリウム、またはテト
    ラほう酸ナトリウムの水和物である、請求項１４１に記載の方法。
  143. 【請求項１４３】 ナイトライトが亜硝酸ナトリウムである、請求項１３１
    に記載の方法。
  144. 【請求項１４４】 アニオンを放出する化合物が、モリブレート、タングス
    テート、バナデート及びクロメートの水溶性塩より成る群から選択される、請求
    項１３１に記載の方法。
  145. 【請求項１４５】 モリブレートの水溶性塩がモリブデン酸ナトリウムまた
    はモリブデン酸ナトリウムの水和物である、請求項１４４に記載の方法。
  146. 【請求項１４６】 ポリカルボキシレートが、カルボキシレート基によって
    複数置換された、約４〜約２０の炭素原子を含む脂肪族化合物またはその水溶性
    塩を含む、請求項１３１に記載の方法。
  147. 【請求項１４７】 ポリカルボキシレートが１，２，３，４−ブタンテトラ
    カルボン酸である、請求項１４６に記載の方法。
  148. 【請求項１４８】 ポリカルボキシレートが、１以上のカルボキシル基を含
    むエチレン性不飽和モノマーの重合によって得られるホモポリマーである、請求
    項１３１に記載の方法。
  149. 【請求項１４９】 ホモポリマーがポリアクリル酸またはその水溶性塩であ
    る、請求項１４８に記載の方法。
  150. 【請求項１５０】 ホモポリマーがポリマレイン酸またはその水溶性塩であ
    る、請求項１４８に記載の方法。
  151. 【請求項１５１】 ホモポリマーが無水ポリマレイン酸またはその水溶性塩
    である、請求項１４８に記載の方法。
  152. 【請求項１５２】 ポリカルボキシレートは２種以上の異なるエチレン不飽
    和モノマーの重合から得られるコポリマーを含み、各モノマーは１以上のカルボ
    キシル基を含む、請求項１３１に記載の方法。
  153. 【請求項１５３】 アルキルヒドロキシカルボン酸が一般式： 【化３１】 ［ａ、ｂ及びｃは０〜６の整数であり、（ａ＋ｂ＋ｃ）＞０であり、ＲB1、ＲB2
    、ＲB3はＣ＝ＯまたはＣＹＺ（Ｙ及びＺは、H、OH、CHO、COOH、CH3、CH2(OH)、
    CH(OH)2、CH2(COOH)、CH(OH)COOH、CH2(CHO)及びCH(OH)CHOより成る群から別々
    に選択され、その選択は分子が十分に水和された形態に記述されたときに最小限
    の１つのＯＨ基を有するようになされ、そしてＲB4はＨまたはＣＯＯＨである)
    を含む］を有するか、またはこれらの酸の化学的に同等の環状、脱水、及び水和
    された形態、及び水中で上記化合物を形成する加水分解可能なエステル及びアセ
    タール、またはそのようなアルキルヒドロキシカルボン酸の水溶性塩を含む、請
    求項１３１に記載の方法。
  154. 【請求項１５４】 アルキルヒドロキシカルボン酸が、酒石酸、メソ酒石酸
    、クエン酸、グルコン酸、グルコヘプトン酸、ケトマロン酸、及び糖酸、及びそ
    れらの水溶性塩から選択される、請求項１５３に記載の方法。
  155. 【請求項１５５】 他の水性系処理物質が、オルトリン酸またはその水溶性
    塩及び少なくとも１種の次一般式を有するヒドロキシカルボン酸の混合物である
    、請求項１３１に記載の方法： 【化３２】 ［ａ、ｂ及びｃは０〜６の整数であり、（ａ＋ｂ＋ｃ）＞０であり、ＲB1、ＲB2
    、ＲB3はＣ＝ＯまたはＣＹＺ（Ｙ及びＺは、H、OH、CHO、COOH、CH3、CH2(OH)、
    CH(OH)2、CH2(COOH)、CH(OH)COOH、CH2(CHO)及びCH(OH)CHOより成る群から別々
    に選択され、その選択は分子が十分に水和された形態に記述されたときに最小限
    の１つのＯＨ基を有するようになされ、そしてＲB4はＨまたはＣＯＯＨである)
    を含む］、ただしアルキルヒドロキシカルボン酸はこれらの酸の立体異性体及び
    化学的に同等の環状、脱水、及び水和された形態、及び水中で上記化合物を形成
    する加水分解可能なエステル及びアセタール、またはそのようなアルキルヒドロ
    キシカルボン酸の水溶性塩を含む。
  156. 【請求項１５６】 ヒドロキシカルボン酸が、酒石酸、メソ酒石酸、クエン
    酸、グルコン酸、グルコヘプトン酸、ケトマロン酸、及び糖酸、及びそれらの水
    溶性塩より成る群から選択される、請求項１５５に記載の方法。
  157. 【請求項１５７】 アミノヒドロキシコハク酸が、次の一般式を有するか、
    またはその水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化３３】 [式中、ＲC1はＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキル（所望により−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−
    ＳＯ3Ｈまたはフェニルにより置換されていてもよい）、Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキ
    ル、またはフェニル（所望により−ＯＨまたは−ＣＯＯＨにより置換されていて
    もよい）であり、そしてＲC2はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル（所望により−ＨまたはＣ
    ＯＯＨにより置換されていてもよい）であり、特に−ＣＨ(ＣＯ2Ｈ)ＣＨ(ＯＨ)(
    ＣＯ2Ｈ)基を含む］；及び 【化３４】 ｛ＲC2は上記の通りであり、ＺCは次のi)〜iv)より成る群から選択される： ｉ）(ＣＨ2)k［ｋは２〜１０の整数である］、 ｉｉ）−(ＣＨ2)2−ＸC−(ＣＨ2)2−［ＸCは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲC3−（ＲC3 はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アシル、
    −Ｃ(Ｏ)ＯＲC4（ＲC4はＣ1〜Ｃ6アルキルまたはベンジル及び一般式 【化３５】 （ＲC2は上記の通りである）を有する残基より成る群から選択される）］、 ｉｉｉ）一般式 【化３６】 （ＹはＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、アルコキシ、ハロゲン、−ＣＯ2Ｈ、または−Ｓ
    Ｏ3Ｈであり、ｍは独立して０または１であり、そしてｐは１または２である）
    を有する残基、並びに （ｉｖ）一般式 【化３７】 （ＲC5及びＲC6は独立してＨまたはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、ＱはＨまたはＣ1
    〜Ｃ6アルキルであり、ｓは０、１または２であり、ｔは独立して０、１、２ま
    たは３であり、ｑは０、１、２、または３であり、そしてｒは１または２である
    ）を有する残基。
  158. 【請求項１５８】 アミノヒドロキシコハク酸化合物が、イミノジ（２−ヒドロ
    キシコハク酸）、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−１，６−ヘキ
    サンジアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−ｍ−キシレ
    ンジアミン、並びにこれらの水溶性塩より成る群から選択される、請求項１５７
    に記載の方法。
  159. 【請求項１５９】 他の水性系処理物質が、オルトリン酸またはその水溶
    性塩及び少なくとも１種のアミノヒドロキシコハク酸の混合物であり、該アミノ
    ヒドロキシコハク酸が、次の一般式を有するか、またはその水溶性塩である、請
    求項１３１に記載の方法： 【化３８】 [式中、ＲC1はＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキル（所望により−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−
    ＳＯ3Ｈまたはフェニルにより置換されていてもよい）、Ｃ4〜Ｃ7シクロアルキ
    ル、またはフェニル（所望により−ＯＨまたは−ＣＯＯＨにより置換されていて
    もよい）であり、そしてＲC2はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル（所望により−ＨまたはＣ
    ＯＯＨにより置換されていてもよい）であり、特に−ＣＨ(ＣＯ2Ｈ)ＣＨ(ＯＨ)(
    ＣＯ2Ｈ)を含む］；及び 【化３９】 ｛ＲC2は上記の通りであり、ＺCは次のi)〜iv)より成る群から選択される： ｉ）(ＣＨ2)k［ｋは２〜１０の整数である］、 ｉｉ）−(ＣＨ2)2−ＸC−(ＣＨ2)2−［ＸCは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲC3−（ＲC3 はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アシル、
    −Ｃ(Ｏ)ＯＲC4（ＲC4はＣ1〜Ｃ6アルキルまたはベンジルより成る群から選択さ
    れる）及び一般式 【化４０】 （ＲC2は上記の通りである）を有する残基より成る群から選択される）］、 ｉｉｉ）一般式 【化４１】 （ＹはＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、アルコキシ、ハロゲン、−ＣＯ2Ｈ、または−Ｓ
    Ｏ3Ｈであり、ｍは独立して０または１であり、そしてｐは１または２である）
    を有する残基、並びに （ｉｖ）一般式 【化４２】 （ＲC5及びＲC6は独立してＨまたはＣ1〜Ｃ6アルキルであり、ＱはＨまたはＣ1
    〜Ｃ6アルキルであり、ｓは０、１または２であり、ｔは独立して０、１、２ま
    たは３であり、ｑは０、１、２、または３であり、そしてｒは１または２である
    ）を有する残基。
  160. 【請求項１６０】 アミノヒドロキシコハク酸化合物が、イミノジ（２−ヒ
    ドロキシコハク酸）、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−１，６−
    ヘキサンジアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシサクシニル）−ｍ−キ
    シレンジアミン、並びにこれらの水溶性塩より成る群から選択される、請求項１
    ５９に記載の方法。
  161. 【請求項１６１】 ポリエポキシコハク酸が次の一般式を有するか、その水
    溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化４３】 ［ｌは約２〜約５０であり、ＭTは水素または水溶性カチオン、例えばＮａ+、Ｎ
    Ｈ4 +またはＫ+であり、そしてＲTは水素、Ｃ1-4アルキルまたはＣ1-4置換アルキ
    ルである］。
  162. 【請求項１６２】 ＲTが水素であり、そしてｌは約２〜約１０である、請
    求項１６１に記載の方法。
  163. 【請求項１６３】 ＲTが水素であり、そしてｌは約４〜約７である、請求
    項１６１に記載の方法。
  164. 【請求項１６４】 他の水性系処理物質が、オルトリン酸またはその水溶性
    塩及び次の一般式のポリエポキシコハク酸またはその水溶性塩の混合物である、
    請求項１３１に記載の方法： 【化４４】 ［ｌは約２〜約５０であり、ＭTは水素または水溶性カチオン、例えばＮａ+、Ｎ
    Ｈ4 +またはＫ+であり、そしてＲTは水素、Ｃ1-4アルキルまたはＣ1-4置換アルキ
    ルである］。
  165. 【請求項１６５】 ポリエポキシコハク酸のＲTが水素であり、ｌが約２〜
    約１０である、請求項１６４に記載の方法。
  166. 【請求項１６６】 ポリエポキシコハク酸のＲTが水素であり、ｌが約４〜
    約７である、請求項１６４に記載の方法。
  167. 【請求項１６７】 変性ポリエポキシコハク酸が次の一般式を有する、請求
    項１３１に記載の方法： 【化４５】 式中、ＲD1（存在するとき）はＨ、置換または非置換アルキルまたはアリール基
    （水溶液中での可溶性が失われる長さ以下の炭素鎖を有するもの）、またはエチ
    レン性不飽和化合物の重合後に得られる繰返単位であり；ＲD2及びＲD3はおのお
    の独立してＨ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4置換アルキルであり；ＺDはＯ
    、Ｓ、ＮＨ、またはＮＲD1（ＲD1は上記の通りである）であり、ｕは１より大き
    い正の整数であり；ｆは正の整数であり、そしてＭDはＨ、水溶性カチオン（例
    えばＮＨ4 +、アルカリ金属）または１〜３の炭素原子を有する非置換低級アルキ
    ルである（ＲD1が存在しないときは、ＺDはＭDＯ3Ｓであり、ＭDは上記した通り
    である）。
  168. 【請求項１６８】 ＲD1がメタキシリレン（メタ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−
    ）であり、ＺDは−ＮＨ−であり、ＲD2及びＲD3の両方はＨであり、ＭDはＮａま
    たはＨであり、ｆは２であり、ｕは１より大きい正の整数である、請求項１６７
    に記載の方法。
  169. 【請求項１６９】 モノホスホン酸が次の一般式を有するか、またはその水
    溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化４６】 （式中、ＲFはＣ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキル残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖または
    分岐鎖アルケニル残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル残基、Ｃ6〜Ｃ10アリール残基
    、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキル残基であり、ＲFはさらに、ヒドロキシ、アミノ
    、またはハロゲンから独立して選択される基によって単置換、または複数置換さ
    れていてよい）
  170. 【請求項１７０】 ジホスホン酸が、次の一般式を有するか、またはその水
    溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化４７】 （ＲKはＣ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキレン残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖または分岐
    鎖アルケニレン残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキレン残基、Ｃ6〜Ｃ10アリーレン残
    基、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキレン残基であり、ＲKはさらに、ヒドロキシ、ア
    ミノ、またはハロゲンから独立して選択される基によって単置換、または複数置
    換されていてよい）。
  171. 【請求項１７１】 ジホスホン酸が、１−ヒドロキシエタン−１、１−ジホ
    スホン酸またはそれらの水溶性塩である、請求項１７０に記載の方法。
  172. 【請求項１７２】 ホスホノカルボン酸が一般式： 【化４８】 ［ＲH1はＨ、１〜４の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、またはアルキニ
    ル基、アシル、アリール、シクロアルキル、またはアルアルキル基、または次か
    ら選択される基であり 【化４９】 （ＲH2はＨ、炭素原子数１〜４のアルキル基、またはカルボキシル基である）、
    そしてＸHは次のものから選択される 【化５０】 （−ＰＯ3Ｈ2基はホスホノ基 【化５１】 である）］を有するか、またはその水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法
    。
  173. 【請求項１７３】 ホスホノカルボン酸が２−ホスホノブタン−１，２，４
    −トリカルボン酸またはその水溶性塩である、請求項１７２に記載の方法。
  174. 【請求項１７４】 ヒドロキシホスホノカルボン酸が次の一般式を有するか
    、またはその水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化５２】 （式中、ＲEはＨ、Ｃ1〜Ｃ12直鎖または分岐鎖アルキル残基、Ｃ2〜Ｃ12直鎖ま
    たは分岐鎖アルケニル残基、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル残基、Ｃ6〜Ｃ10アリール
    残基、またはＣ7〜Ｃ12アルアルキル残基であり、ＸEは所望の基であって、Ｃ1
    〜Ｃ10直鎖または分岐鎖アルキレン残基、Ｃ2〜Ｃ10直鎖または分岐鎖アルケニ
    レン残基、またはＣ6〜Ｃ10アリーレン残基である）。
  175. 【請求項１７５】 ヒドロキシホスホノカルボン酸が、２−ヒドロキシ−ホ
    スホノ酢酸またはその水溶性塩である、請求項１７４に記載の方法。
  176. 【請求項１７６】 アミノホスホン酸が次の一般式を有するか、またはその
    水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化５３】 ［式中、ＲG2は約１〜約４の炭素原子を有する低級アルキレン、またはアミン、
    ヒドロキシ、またはハロゲン置換低級アルキレンであり；ＲG3はＲG2−ＰＯ3Ｈ2 、Ｈ、ＯＨ、アミノ、置換アミノ、または前に定義したＲFであり；ＲG4はＲG3
    または次の一般式に表わされる基である： 【化５４】 （ＲG5及びＲG6はそれぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、アミノ、置換アミノ、または前
    に定義したＲFであり；ＲG7はＲG5、ＲG6または基ＲG2−ＰＯ3Ｈ2（ＲG2は前に
    定義した通りである）であり；ｖは１〜約１５の整数であり；そしてｗは１〜約
    １４の整数である）］。
  177. 【請求項１７７】 アミノホスホン酸が、ジエチレントリアミンペンタ（メ
    チレンホスホン酸）、またはその水溶性塩である、請求項１７６に記載の方法。
  178. 【請求項１７８】 ホスホノメチルアミンオキサイドが次の一般式を有する
    か、またはこれらの水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化５５】 ［式中、ＲA1及びＲA2は次の（１）または（２）を満たす： （１）ＲA1はヒドロカルビル、及びヒドロキシ置換ヒドロカルビル、アルコキシ
    置換ヒドロカルビル、カルボキシ置換ヒドロカルビル及びスルホニル置換ヒドロ
    カルビルより成る群から選択され；そしてＲA2はヒドロカルビル、及びヒドロキ
    シ置換ヒドロカルビル、アルコキシ置換ヒドロカルビル、カルボキシ置換ヒドロ
    カルビル及びスルホニル置換ヒドロカルビル、−ＣＨ2ＰＯ3Ｈ2、並びに 【化５６】 より成る群から選択されるか、または （２）ＲA1及びＲA2は共に、３〜５個の炭素原子を環中に有する脂環式の環を形
    成し、ヒドロカルビルは、アミンオキサイドを水に不溶性にしないアルキル、ア
    リール、及びアルカリール基を含む］。
  179. 【請求項１７９】 ホスホノメチルアミンオキサイドがＮ，Ｎ−ビス−ホス
    ホノメチルエタノールアミンＮ−オキサイドまたはその水溶性塩である、請求項
    １７８に記載の方法。
  180. 【請求項１８０】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマ
    ーのリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、
    コオリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシ
    ル基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、
    そして得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的に末端タイ
    プのホスフィノ種として存在するリン組込みを含む；またはそれらの水溶性塩で
    ある、請求項１３１に記載の方法。
  181. 【請求項１８１】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマー
    のリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、コ
    オリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシル
    基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、そ
    して得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的にホスフィノ
    種として存在するリン組込みを含む；またはそれらの水溶性塩である、請求項１
    ３１に記載の方法。
  182. 【請求項１８２】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマ
    ーのリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、
    コオリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシ
    ル基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、
    そして得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的に末端タイ
    プのジアルキルホスフィノ種として存在するリン組込みを含む；またはそれらの
    水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法。
  183. 【請求項１８３】 リン含有カルボキシレートが、１種以上の不飽和モノマ
    ーのリン含有化合物の存在下での重合によって得られるオリゴマー、ポリマー、
    コオリゴマー、またはコポリマーであり、ここでモノマーが１以上のカルボキシ
    ル基を含むか、または重合後にカルボキシル基に変化する１種以上の基を含み、
    そして得られたリン含有カルボキシレートが、優勢に若しくは排他的にホスホノ
    、末端タイプのホスフィノ、及びジアルキルホスフィノ種の混合物として存在す
    るリン組込みを含む；またはそれらの水溶性塩である、請求項１３１に記載の方
    法。
  184. 【請求項１８４】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレ
    イン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シト
    ラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メ
    チレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフ
    タル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２
    ．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２
    ，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項１８０に記載の方法。
  185. 【請求項１８５】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項１８
    ０に記載の方法。
  186. 【請求項１８６】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無
    水マレイン酸より成る群から選択される、請求項１８０に記載の方法。
  187. 【請求項１８７】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和
    モノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択さ
    れる、請求項１８０に記載の方法。
  188. 【請求項１８８】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレ
    イン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シト
    ラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メ
    チレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフ
    タル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２
    ．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２
    ，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項１８１に記載の方法。
  189. 【請求項１８９】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項１８
    １に記載の方法。
  190. 【請求項１９０】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無
    水マレイン酸より成る群から選択される、請求項１８１に記載の方法。
  191. 【請求項１９１】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和
    モノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択さ
    れる、請求項１８１に記載の方法。
  192. 【請求項１９２】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレ
    イン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シト
    ラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メ
    チレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフ
    タル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２
    ．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２
    ，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項１８２に記載の方法。
  193. 【請求項１９３】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項１８
    ２に記載の方法。
  194. 【請求項１９４】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無
    水マレイン酸より成る群から選択される、請求項１８２に記載の方法。
  195. 【請求項１９５】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和
    モノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択さ
    れる、請求項１８２に記載の方法。
  196. 【請求項１９６】 不飽和モノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無水マレ
    イン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸、シト
    ラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルファ−メ
    チレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフ
    タル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２
    ．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−１，２
    ，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テトラヒド
    ロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項１８３に記載の方法。
  197. 【請求項１９７】 アクリル酸が単一の不飽和モノマーである、請求項１８
    ３に記載の方法。
  198. 【請求項１９８】 単一の不飽和モノマーがマレイン酸、イタコン酸及び無
    水マレイン酸より成る群から選択される、請求項１８３に記載の方法。
  199. 【請求項１９９】 １つの不飽和モノマーがアクリル酸であり、他の不飽和
    モノマーが、マレイン酸、イタコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択さ
    れる、請求項１８３に記載の方法。
  200. 【請求項２００】 リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーの
    リン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、
    またはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５
    ０重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基
    に変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非
    カルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが
    、優勢にまたは排他的に、末端タイプのホスフィノ種として存在するリン組込み
    を含む、請求項１３１に記載の方法。
  201. 【請求項２０１】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メ
    チルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロ
    パンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン
    酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸
    、アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエ
    チルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエス
    テル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルア
    ミド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニ
    ルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル
    、加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項２
    ００に記載の方法。
  202. 【請求項２０２】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無
    水マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸
    、シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルフ
    ァ−メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６
    −テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒ
    ドロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシク
    ロ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−
    １，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項２００に記載の方法
    。
  203. 【請求項２０３】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、イ
    タコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項２０２に記載の
    方法。
  204. 【請求項２０４】 リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーの
    リン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、
    またはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５
    ０重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基
    に変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非
    カルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが
    、優勢にまたは排他的に、ホスフィノ種として存在するリン組込みを含む、請求
    項１３１に記載の方法。
  205. 【請求項２０５】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メ
    チルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロ
    パンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン
    酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸
    、アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエ
    チルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエス
    テル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルア
    ミド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニ
    ルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル
    、加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項２
    ０４に記載の方法。
  206. 【請求項２０６】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無
    水マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸
    、シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルフ
    ァ−メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６
    −テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒ
    ドロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシク
    ロ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−
    １，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項２０４に記載の方法
    。
  207. 【請求項２０７】 カルボキシルモノマーは、アクリル酸、マレイン酸、イ
    タコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項２０６に記載の
    方法。
  208. 【請求項２０８】 リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーの
    リン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、
    またはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５
    ０重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基
    に変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非
    カルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが
    、優勢にまたは排他的に、ジアルキルホスフィノ種として存在するリン組込みを
    含む、請求項１３１に記載の方法。
  209. 【請求項２０９】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メ
    チルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロ
    パンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン
    酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸
    、アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエ
    チルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエス
    テル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルア
    ミド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニ
    ルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル
    、加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項２
    ０８に記載の方法。
  210. 【請求項２１０】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無
    水マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸
    、シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルフ
    ァ−メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６
    −テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒ
    ドロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシク
    ロ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−
    １，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項２０８に記載の方法
    。
  211. 【請求項２１１】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、イ
    タコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項２１０に記載の
    方法。
  212. 【請求項２１２】リン含有カルボキシレートが２以上の不飽和モノマーのリ
    ン含有化合物の存在下での重合から得られるコオリゴマーまたはコポリマー、ま
    たはそれらの水溶性塩であり；リン含有カルボキシレートの主比率の残基（５０
    重量％より大）が、１以上のカルボキシル基を含むか重合後にカルボキシル基に
    変化する１以上の基を含むカルボキシルモノマーから誘導され；残りの基が非カ
    ルボキシルモノマーから得られ、そして得られたリン含有カルボキシレートが、
    優勢にまたは排他的に、ホスホノ、末端タイプホスフィノ及びジアルキルホスフ
    ィノ種の混合物として存在するリン組込みを含む、請求項１３１に記載の方法。
  213. 【請求項２１３】 非カルボキシモノマーが、２−アクリルアミド−２−メ
    チルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロ
    パンスルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸、アリルスルホン
    酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸
    、アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、イソプロペニルホスホン酸、ホスホエ
    チルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエス
    テル及びＣ1〜Ｃ4アルキルエステル、アクリルアミド、アルキル置換アクリルア
    ミド、アリルアルコール、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニ
    ルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、酢酸ビニル
    、加水分解された酢酸ビニル及びスチレンより成る群から選択される、請求項１
    ３２１２に記載の方法。
  214. 【請求項２１４】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、無
    水マレイン酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル酢酸、フマル酸
    、シトラコン酸、メサコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルフ
    ァ−メチレングルタル酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シス−１，２，３，６
    −テトラヒドロフタル酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒ
    ドロフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシク
    ロ［２．２．２］−５−オクテン−２，３−ジカルボン酸無水物、３−メチル−
    １，２，６−テトラヒドロフタル酸無水物、及び２−メチル−１，３，６−テト
    ラヒドロフタル酸無水物より成る群から選択される、請求項２１２に記載の方法
    。
  215. 【請求項２１５】 カルボキシルモノマーが、アクリル酸、マレイン酸、イ
    タコン酸及び無水マレイン酸より成る群から選択される、請求項２１４に記載の
    方法。
  216. 【請求項２１６】 リン含有カルボキシレートが次の一般式のホスホンポリ
    マー、またはその水溶性塩である、請求項１３１に記載の方法： 【化５７】 ［ＸJはＨ、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、またはアンモニウム若
    しくはアミン残基であり；ＲJ1は２つの異なる残基 【化５８】 （ｚは２〜１００の整数であり、第１の残基においてＲJ2は−ＣＯＯＨであり、
    そして第２の残基においてＲJ2は−ＣＯＮＨＣ(ＣＨ3)2ＣＨ2ＳＯ3ＸJ（ＸJは前
    に定義した通りである）である）を含むコポリマー残基である］
  217. 【請求項２１７】 水性処理物質が、組成物の重量を基準として、５０重量
    ％以下のホスホノコハク酸、マレイン酸アルカリ金属塩のホスホン化ダイマー、
    ダイマーの重量を基準として半量未満のより高級のホスホン化オリゴマーマレエ
    ート、及び組成物の約０．５〜約５重量％の燐酸アルカリ金属塩の組成物である
    、請求項１３１に記載の方法。
  218. 【請求項２１８】 サクロシンの長鎖脂肪酸誘導体がＮ−ラウロイルサルコ
    シンまたはその水溶性塩であるとして選択される、請求項１３１に記載の方法。
  219. 【請求項２１９】 組成物が水を含む、請求項１３１に記載の方法。
  220. 【請求項２２０】 組成物がさらに水を含む、請求項１３１に記載の方法。
  221. 【請求項２２１】 組成物が、追加的に ｉ）１種以上の分散剤、 ｉｉ）１種以上の銅腐蝕禁止剤、 ｉｉｉ）１種以上のアルミニウム腐蝕禁止剤 ｉｖ）亜鉛、マンガン、アルミニウム、錫、ニッケル、イットリウム、及び希土
    類金属より成る群から選択される金属の１種以上の水溶性金属塩、 ｖ）亜鉛、マンガン、アルミニウム、錫、ニッケル、イットリウム、及び希土類
    金属より成る群から選択される金属イオンの１種以上の水溶性有機金属キレート
    、有機キレート化剤は金属イオンの望まれるレベルの水溶性を付与するように選
    択される、 ｖｉ）１種以上のスケール制御剤、 ｖｉｉ）１種以上の金属イオン封鎖剤、 ｖｉｉｉ）１種以上の消泡剤、 ｉｘ）１種以上の酸化性殺生物剤、 ｘ）１種以上の非酸化性殺生物剤 ｘｉ）１種以上の、水性系の凝固点を下げることができる水溶性アルコール、 ｘｉｉ）１種以上のイオン性凝固点降下剤、 ｘｉｉｉ）１種以上のｐＨ調節剤、 ｘｉｖ）１種以上の不活性トレーサー、 ｘｖ）１種以上の活性トレーサー、 ｘｖｉ）１種以上の水不溶性有機潤滑剤、 ｘｖｉｉ）１種以上の水溶性潤滑剤、 ｘｖｉｉｉ）１種以上の界面活性剤、 ｘｉｘ）１種以上のカルシウム硬度調節剤、 ｘｘ）１種以上の着色剤 より成る群から選択される少なくとも１種の添加剤を含む、請求項１３１に記載
    の方法。
  222. 【請求項２２２】 組成物が追加的に水を含む、請求項２２１に記載の方法
    。
  223. 【請求項２２３】 分散剤が、１種以上のエチレン不飽和モノマーの重合か
    ら得られる水溶性スルホン化ポリマーまたはコポリマーである、請求項２２１に
    記載の方法。
  224. 【請求項２２４】 水溶性スルホン化コポリマーが、アクリル酸とアリルヒ
    ドロキシプロピルスルホネートエーテルの約３：１重量比のコポリマー、または
    その水溶性塩である、請求項２２３に記載の方法。
  225. 【請求項２２５】 分散剤が、ジイソブチレンと無水マレイン酸との、１０
    ０００未満の分子量を有するコポリマー、またはその水溶性塩である、請求項２
    ２１に記載の方法。
  226. 【請求項２２６】 銅腐蝕禁止剤トリルトリアゾールである、請求項２２１
    に記載の方法。
  227. 【請求項２２７】 銅腐蝕禁止剤が、少なくとも６５重量％の５−メチルベ
    ンゾトリアゾールを含む混合トリルトリアゾール組成物である、請求項２２１に
    記載の方法。
  228. 【請求項２２８】 腐蝕禁止剤がベンゾトリアゾールである、請求項２２１
    に記載の方法。
  229. 【請求項２２９】銅腐蝕禁止剤がメルカプトベンゾチアゾールである、請求
    項２２１に記載の方法。
  230. 【請求項２３０】 銅腐蝕禁止剤が、置換がベンゼン環の４または５位で生
    じているアルキル若しくはアルコキシ置換ベンゾトリアゾールである、請求項２
    ２１に記載の方法。
  231. 【請求項２３１】 置換基が、ｎ−ブチル及びヘキシルオキシより成る群か
    ら選択される、請求項２３０に記載の方法。
  232. 【請求項２３２】 銅腐蝕禁止剤が１−フェニル−５−メルカプトテトラゾ
    ールである、請求項２２１に記載の方法。
  233. 【請求項２３３】 銅腐蝕禁止剤がハロゲン耐性アゾールである、請求項２
    ２１に記載の方法。
  234. 【請求項２３４】 ハロゲン耐性アゾールがクロロ−トリアゾールである、
    請求項２３３に記載の方法。
  235. 【請求項２３５】 アルミニウム腐蝕禁止剤が、水溶性硝酸塩である、請求
    項２２１に記載の方法。
  236. 【請求項２３６】 水溶性硝酸塩が硝酸ナトリウムである、請求項２３５に
    記載の方法。
  237. 【請求項２３７】 水溶性金属塩が亜鉛から得られる、請求項２２１に記載
    の方法。
  238. 【請求項２３８】 亜鉛塩が硫酸塩、塩化物、酢酸塩または硝酸塩である、
    請求項２３７に記載の方法。
  239. 【請求項２３９】 金属塩が、＋２の酸化状態で得られる、請求項２２１に
    記載の方法。
  240. 【請求項２４０】 マンガン塩が硫酸塩、塩化物、酢酸塩または硝酸塩であ
    る、請求項２３９に記載の方法。
  241. 【請求項２４１】 金属塩がランタンまたはランタンを含む希土類金属の混
    合物から得られる、請求項２２１に記載の方法。
  242. 【請求項２４２】 ランタンまたはランタンを含む希土類金属の混合物が、
    硫酸塩、塩化物、酢酸塩または硝酸塩から独立して選択される、請求項２４１に
    記載の方法。
  243. 【請求項２４３】 金属イオン封鎖剤が、エチレンジアミンテトラ（酢酸）
    ニトロロトリ酢酸、及びＮ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシンまたはそ
    の水溶性塩より成る群から選択される、請求項２２１に記載の方法。
  244. 【請求項２４４】 珪酸アルカリ金属塩がメタ珪酸ナトリウムである、請求
    項１３１に記載の方法。
  245. 【請求項２４５】 消泡剤が、シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ジス
    テアリルセバクアミド、ジステアリルアジパミド、脂肪アルコール、及び脂肪ア
    ルコールのエチレンオキサイド縮合物より成る群から選択される、請求項２２１
    に記載の方法。
  246. 【請求項２４６】 酸化性殺生物剤が、塩素、次亜塩素酸塩、臭素、次亜臭
    素酸塩、塩素及び／または臭素を供与する化合物、過酢酸、無機ペルオキシド、
    及びペルオキシド発生剤、二酸化塩素、オゾン及びこれらの混合物より成る群か
    ら選択される、請求項２２１に記載の方法。
  247. 【請求項２４７】 非酸化性殺生物剤が、アミン、第４アンモニウム化合物
    、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、β−ブロモニトロスチ
    レン、ドデシルグアニジン塩化水素、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオ
    ンアミド、グルタルアルデヒド、クロロフェノール、スルホン類、メチレンビス
    チオシアネート、メチレンビスカルバメート、イソチアゾロン類、臭化プロピオ
    ンアミド、トリアジン、ホスホニウム化合物、有機金属化合物、それらの混合物
    より成る群から選択される、請求項２２１に記載の方法。
  248. 【請求項２４８】 非酸化性殺生物剤が、（ａ）２−ブロモ−２−ニトロプ
    ロパン−１，３−ジオール（ＢＮＰＤ）と、（ｂ）約７５％の５−クロロ−２−
    メチル−４−イソチアゾリン−３−オン及び約２５％の２−メチル−４−イソチ
    アゾリン−３−オンの混合物との混合物であり、該ＢＮＰＤ（ａ）の該混合物（
    ｂ）に対する重量比が約１６：１〜約１：１である、請求項２２１に記載の方法
    。
  249. 【請求項２４９】 水溶性アルコール凝固点降下剤が、エチレングリコール
    、プロピレングリコール、エタノール、グリセロール、イソプロパノール、メタ
    ノール、及びこれらの混合物より成る群から選択される、請求項２２１に記載の
    方法。
  250. 【請求項２５０】 イオン性凝固点降下剤が、塩化カルシウム、塩化ナトリ
    ウム、臭化リチウム、及び塩化リチウムより成る群から選択される、請求項２２
    １に記載の方法。
  251. 【請求項２５１】 ｐＨ調節剤が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
    酸化リチウム、塩酸、硫酸、硝酸、二酸化炭素、アンモニア、蓚酸のような有機
    酸、アルカリ金属炭酸塩、及びアルカリ金属炭酸水素塩より成る群から選択され
    る、請求項２２１に記載の方法。
  252. 【請求項２５２】 不活性トレーサーが可溶性リチウム塩、遷移金属、蛍光
    物質より成る群から選択される、請求項２２１に記載の方法。
  253. 【請求項２５３】 活性トレーサーが、蛍光で標識されたポリマー、光不活
    性の潜在的に検出し得る基を含むポリマー、水溶性モリブデン酸塩及びアゾール
    系銅腐蝕禁止剤より成る群から選択される、請求項２２１に記載の方法。
  254. 【請求項２５４】 水不溶性有機潤滑剤が、天然油及び合成油より成る群か
    ら選択される、請求項２２１に記載の方法。
  255. 【請求項２５５】 界面活性剤が、アニオン性、カチオン性、両性、及び非
    イオン性界面活性剤より成る群から選択される、請求項２２１に記載の方法。
  256. 【請求項２５６】 カルシウム硬度調節剤が、カルシウムの炭酸水素塩、炭
    酸塩、塩化物、硫酸塩、及び酢酸塩、並びに水酸化カルシウム及び酸化カルシウ
    ムより成る群から選択される、請求項２２１に記載の方法。
  257. 【請求項２５７】 着色剤が、水溶性染料である、請求項２２１に記載の方
    法。
  258. 【請求項２５８】 モノフルオロホスフェートがモノフルオロリン酸ナトリ
    ウムである、請求項１３１に記載の方法。
  259. 【請求項２５９】 オルトホスフェート種のピロホスフェート種に対する重
    量比が、両種がＰＯ4 -3で示されるときに約２０：１〜約１：２０である、請求
    項１５３に記載の方法。
  260. 【請求項２６０】 水性系が冷却水系である、請求項１５５に記載の方法。
  261. 【請求項２６１】 冷却水系が開放蒸発冷却系である、請求項２６０に記載
    の方法。
  262. 【請求項２６２】 冷却系がワンススルー（once-through）系である、請求
    項２６０に記載の方法。
  263. 【請求項２６３】 冷却系が閉鎖ループ冷却系である、請求項２６０に記載
    の方法。
  264. 【請求項２６４】 閉鎖ループ冷却系が内燃機関の冷却系である、請求項２
    ６３に記載の方法。
  265. 【請求項２６５】 閉鎖ループ冷却系が、塩化カルシウム、塩化リチウム、
    臭化リチウム及び塩化ナトリウムより成る群から選択される少なくとも１種の添
    加剤を含むブラインに基づく系である、請求項２６３に記載の方法。
  266. 【請求項２６６】 閉鎖ループ冷却系が、エチレングリコール、プロピレン
    グリコール、エタノール、グリセロール、イソプロパノール、及びメタノールよ
    り成る群から選択される少なくとも１種の添加剤を含む系である、請求項２６３
    に記載の方法。
  267. 【請求項２６７】 水性系が温水加熱系である、請求項１３０に記載の方法
    。
  268. 【請求項２６８】 水性系が、パルプ製造及び製紙系、食品及び飲料系、ボ
    イラー系、製油系、石油化学加工系、鉱業系、及び水性金属加工流体を利用する
    金属加工系より成る群から選択される、請求項１３０に記載の方法。
  269. 【請求項２６９】 水性系が少なくとも５重量％が水である流体を含む、請
    求項１３０に記載の方法。
  270. 【請求項２７０】 水性系が少なくとも５０重量％が水である流体を含む、
    請求項１３０に記載の方法。
  271. 【請求項２７１】 水性系が少なくとも９０重量％が水である流体を含む、
    請求項１３０に記載の方法。
  272. 【請求項２７２】 水性系が溶解した酸素を含む、請求項１３０に記載の方
    法。
  273. 【請求項２７３】 水性系が、溶解した酸素を実質的にまたは完全に含まな
    い、請求項１３０に記載の方法。
  274. 【請求項２７４】 酸素、二酸化炭素、硫化水素及びアンモニアより成る群
    から選択される少なくとも１種の溶解ガスを含む、請求項１３０に記載の方法。
  275. 【請求項２７５】 水性系が鉄金属を含む、請求項１３０に記載の方法。
  276. 【請求項２７６】 鉄金属が、鋳鉄、軟鋼、低合金鋼、ステンレス鋼より成
    る群から選択される、請求項２７５に記載の方法。
  277. 【請求項２７７】 水性系が非鉄金属を含む、請求項１３０に記載の方法。
  278. 【請求項２７８】 非鉄金属が、アルミニウム、銅、及び銅系アロイより成
    る群から選択される少なくとも１種の金属である、請求項２７７に記載の方法。
  279. 【請求項２７９】 水性系が鉄金属及び非鉄金属の両方を含む、請求項１３
    ０に記載の方法。
  280. 【請求項２８０】 成分が、スラッグ供給によって有効な濃度で系内に導入
    される、請求項１３０に記載の方法。
  281. 【請求項２８１】 成分が、系が満たされているときに、水性流体とブレン
    ドすることによって有効な濃度で系内に導入される、請求項１３０に記載の方法
    。
  282. 【請求項２８２】 成分が、実質的に連続的な基準で系内に供給される、請
    求項１３０に記載の方法。
  283. 【請求項２８３】 成分が、実質的に断続的な基準で系内に供給される、請
    求項１３０に記載の方法。
  284. 【請求項２８４】 成分が、断続的及び連続的な方法の組合せを使用して系
    内に供給される、請求項１３０に記載の方法。
  285. 【請求項２８５】 成分のいくらかが連続的な基準で系内に供給され、そし
    て残りの成分が断続的な基準で供給される、請求項１３０に記載の方法。
  286. 【請求項２８６】 成分を系内に供給する方法が、固定速度での連続的な供
    給及び固定時間スケジュールに基づく供給より成る群から選択される、請求項１
    ３０に記載の方法。
  287. 【請求項２８７】 成分を、アナログ若しくはコンピューター基準による供
    給制御システムによって発生した信号に基づいて有効な濃度で水性系内に供給す
    る方法である、請求項１３０に記載の方法。
  288. 【請求項２８８】 供給制御系が次の少なくとも１つを基準として供給速度
    おけっていする、請求項２８７に記載の方法： ｉ）１種以上の処理成分の濃度 ｉｉ）１種以上の活性または不活性トレーサー物質の濃度 ｉｉｉ）系の性能の１以上の尺度の値 ｉｖ）系の物性の１以上の値 ｖ）系の化学的特性の１以上の値。
  289. 【請求項２８９】 処理剤またはトレーサー成分の濃度が、次のタイプの分
    析技術の連続、半連続またはバッチ型の分析技術によって決定される、請求項２
    ８８に記載の方法： ｉ）分光分析 ｉｉ）電気化学分析 ｉｉｉ）クロマトグラフ分析 ｉｖ）抗体の結合または放出に依存する方法 ｖ）化学による分析方法。
  290. 【請求項２９０】 分析技術がＵＶ吸収スペクトルである、請求項２８９に
    記載の方法。
  291. 【請求項２９１】 成分が系内に、制御された放出デリバリーシステムによ
    って有効な濃度で導入される、請求項１３０に記載の方法。
  292. 【請求項２９２】 成分の組合せが水性系内に、約０．５〜約１００００重
    量ｐｐｍの全濃度で導入される、請求項１３０に記載の方法。
  293. 【請求項２９３】 成分の組合せが水性系内に、約１０〜約１０００重量ｐ
    ｐｍの全濃度で導入される、請求項１３０に記載の方法。
  294. 【請求項２９４】 成分ｂ）の成分ａ）に対する重量比が約１００：１〜約
    １：２０である、請求項１３０に記載の方法。
  295. 【請求項２９５】 成分ｂ）の成分ａ）に対する重量比が約２０：１〜約１
    ：１である、請求項１３０に記載の方法。
  296. 【請求項２９６】 水性系のｐＨが約５〜約１２である、請求項１３０に記
    載の方法。
  297. 【請求項２９７】 水性系のｐＨが約６〜約１０である、請求項１３０に記
    載の方法。
  298. 【請求項２９８】 水性系中の腐食、付着及びスケールを制御する方法であ
    って、該水性系に、 （ａ）式 【化５９】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、低級アルキル、分岐低級アルキル、アリール、置
    換アリール、アルキルアリール、置換アルキルアリール及びヘテロ環状置換アリ
    ールより成る群から選択されるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが１４以下の炭素原
    子を有し、そしてｎは１または２である）のテトラゾリウム化合物、ここで該テ
    トラゾリウム化合物は所望によって中性の電荷を得るために必要であるときには
    結合した水溶性イオン種を有することができ、 （ｂ）該テトラゾリウム化合物を実質的に還元しなように選択された少なくとも
    １種の他の水性系処理物質 の組合せを導入することを含む、前記の方法。
  299. 【請求項２９９】 水性系中と接触するステンレス鋼の腐食を制御する方法
    であって、該水性系に、 （ａ）式 【化６０】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、低級アルキル、分岐低級アルキル、アリール、置
    換アリール、アルキルアリール、置換アルキルアリール及びヘテロ環状置換アリ
    ールより成る群から選択されるが、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが１４以下の炭素原
    子を有し、そしてｎは１または２である）の、少なくとも１種のテトラゾリウム
    化合物、ここで該テトラゾリウム化合物は所望によって中性の電荷を得るために
    必要であるときには結合した水溶性イオン種を有することができる； を導入することを含む、前記の方法。
  300. 【請求項３００】 水性系が、該テトラゾリウム化合物を実質的に還元しな
    ように選択された少なくとも１種の他の水性系処理物質を含む、請求項２９９に
    記載の方法。
  301. 【請求項３０１】 水性系が溶解した酸素を含む、請求項１３０または２９
    ９に記載の方法。
  302. 【請求項３０２】 少なくとも１種のテトラゾリウムが、約０．１〜約５０
    ｐｐｍの活性処理剤濃度で水性系に加えられる、請求項１３０または２９９に記
    載の方法。
  303. 【請求項３０３】 少なくとも１種のテトラゾリウムが、約１〜約２５ｐｐ
    ｍの活性処理剤濃度で水性系に加えられる、請求項１３０または２９９に記載の
    方法。
  304. 【請求項３０４】 水性系のｐＨが約６以上である、請求項１３０または２
    ９９に記載の方法。
  305. 【請求項３０５】 少なくとも１種のテトラゾリウムが、約０．１〜約５０
    ｐｐｍの活性処理剤濃度で水性系に加えられ、水性系のｐＨが約６以上であり、
    そして水性系が酸素を含む、請求項１３０または２９９に記載の方法。
  306. 【請求項３０６】 少なくとも１種のテトラゾリウムが、約１〜約２５ｐｐ
    ｍの活性処理剤濃度で水性系に加えられる、請求項３０５に記載の方法。
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