JP2002541503A - 光導波装置 - Google Patents

光導波装置

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JP2002541503A JP2000609817A JP2000609817A JP2002541503A JP 2002541503 A JP2002541503 A JP 2002541503A JP 2000609817 A JP2000609817 A JP 2000609817A JP 2000609817 A JP2000609817 A JP 2000609817A JP 2002541503 A JP2002541503 A JP 2002541503A
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Abstract

(57)【要約】 自動車産業が隆盛してきて、プラスチック光ファイバが多く必要とされ、これらのファイバの保護外装体4はポリアミド材料からできている。従来のポリアミド材料では、クラッデング体3を形成するフッ化ポリマーに対する粘着力が不足するため、プラスチック光ファイバ(2,3)のクラッデング体3と保護外装体4との間で、温度変化にともなって移動やズレを生じる虞があった。これはピストニングといわれる現象であり、これを抑制するために、光ファイバ(2,3)のコネクターやホルダーは、大変大きな力で保護外装体4と光ファイバ(2,3)とを押さえつける必要があり、このことが信号の減衰をまねいてしまうという問題があった。本発明では、改良されたポリアミド材料を用いて、フッ化ポリマーからなるプラスチック光ファイバ(2,3)におけるクラッデング体3と保護外装体4間の粘着性を大いに改良して進展させたものである。ここで、保護外装体4の材料としては特に改良されたポリアミドT(PA12)を用い、このカルボキシル末端基の最大濃度は15μeq/gで、かつアミノ末端基の濃度は50〜300μeq/gの範囲として装置構成すると、優れた光導波装置が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 <発明の属する技術分野> 本発明は光ファイバを含む光導波装置にかかり、より詳細には、ファイバコア
と、単層または複数層構造からなるファイバクラッデング体と、を含むプラスチ
ック光ファイバを備え、また、このプラスチック光ファイバを内封して保護する
ための保護外装体を備えて構成される光導波装置に関するものである。
【0002】 <背景技術> プラスチック光ファイバは、通信コミュニケーション分野における光伝送要素
として用いられ、干渉や妨害の影響を受けることがなく取り扱い容易であり、そ
の1つの光伝送要素における、送信ユニット−受信ユニット間距離は、数メート
ルから最大100〜150mにまで及ぶ。様々な分野、すなわち交通工学、自動
車製造(乗り物、飛行機、船など)、照明技術(可変形のメッセージサイン)、自動
制御工学(機械制御)、センサ技術などにおいて、このプラスチック光ファイバは
、重要性が大いに増してきている。[Draht(Wire)46(1995)4,pp.187-190]
【0003】 データや信号の伝送に用いられるプラスチック光ファイバは、ファイバコア(
径φ(Core)は約980μm)を含んで構成されており、それらはよくポリメチルメタ
クリル酸塩(PMMA;屈折率n(PMMA)=1.49)から作られている。そして、ファ
イバクラッデング体(外径φ(cladding)は約1000μm)は、単層または複数層の積
層構造を有していて、そのファイバコアを同心または円筒同軸上で内封する構造
となっている。また、フッ素含有プラスチック材料は、その屈折率n(cladding)
を1.35から1.42までの範囲として、主としてクラッデング材料として使用される
。このようなプラスチック導波装置での光吸収は、典型的には130〜150db/km(λ
=650nm)であり、最小曲げ半径は概略5〜10mmである。
【0004】 繊細敏感なプラスチック光ファイバを、機械的・熱的・化学的な影響から防護
するため、保護外装体と呼べるようなプラスチック製クラッデング体が用いられ
ていて、これは多層構造を有していてもよい(WO99/12063)。保護外装体(外径
φ(wave-guide)は約1.5〜2.2mmであり)は、押出し成形手段によってコーティン
グされてもよく、予定される使用や適用状態に依存しながら、例えば、ポリエチ
レン(PE)、ポリビニルクロライド(PVC)、エチレンビニルアセタート(EV
A)、ポリアミド(PA)などにより製作されてもよい。
【0005】 自動車製造分野おいては、ポリアミド材料が保護外装材料として用いられ、そ
こでは、機械的強度(引張り強度、側面圧縮強度)・適用最高温度・化学的抵抗性
などに関する種々の要求に応えられる。しかしながら、プラスチック光ファイバ
に対しての従来のポリアミド製保護外装体は粘着性に乏しく、ファイバクラッデ
ング体はフッ素含有ポリマーから製造されているため、種々の問題を引き起こす
。その保護外装体の粘着性の弱さには特に反対の影響があって、光導波装置(保
護外装体を加えたプラスチック光ファイバ)が周囲にあるものへ導入されるとす
ると(例えば自動車の乗客コンパートメントなどに)、大きな温度変化の影響を受
けやすく、このため、プラスチック光ファイバは、ファイバの熱膨張性の変化や
フッ化ポリマーに対するポリアミドの粘着性の悪さにより、保護外装体との関係
において移動またはズレの現象を引き起こす。
【0006】 結果として、プラスチック光ファイバの面と送受信要素(LED/p-i-nダイオ
ード)間の距離については、おそらくある程度まで増加するものの、受け入れ難
いほどの高い強度損失が起こって、データ送信ラインの故障を引き起こすことが
ある。さらに加えて、もしもプラスチック光ファイバが保護外装体から動きを生
じ、離れてしまうことになると、送信要素または受信要素がダメージを受けるよ
うなリスクを生じることとなるかも知れない。
【0007】 プラスチック光ファイバのピストニングと云えるこのような影響効果を抑制す
るために、コネクター・カプラー・ホルダー類の部材が用いられ、大きなクラン
プ力またはクリップ力を保護外装体に働かせて、保護外装体とプラスチック光フ
ァイバとの間の摩擦力を増加させるようにしている。しかしながら、ファイバコ
アとファイバクラッデング体の間で結果的に起こるインターフェイスの歪により
、増大された信号の減衰をまねく。
【0008】 そこで、コネクター部材の内部から保護層を取り除くとすると、ピストニング
は避けられるが、こんどは、1対のナイフが備えられたショルダリングツールの
不適切なハンドリングによって、ファイバクラッデング体がアセンブリー中にダ
メージを受けてしまうというリスクが生じる。
【0009】 光導波装置に対するコネクター部材により与えられるクランプ力またはクリッ
プ力は、コネクタハウジングのテーパーのある穴にプラスチック光ファイバをし
っかりつなぎ留めることにより、減少させることができる。 それについては、例えば次のような提案がなされていた。すなわち、プラスチ
ック光ファイバの表面を部分的にホットプレートなどの手段によって溶かしてし
まい、結果的な溶融増強によって、コネクターハウジングにプラスチック光ファ
イバを堅固に繋ぎ留めるために、内部テーパーを有するコネクターホールの中に
プレス加工が施されこととなる。しかし、部分的に溶融されてこうした変形や歪
のあるエリアにおいて、プラスチック光ファイバの幾何学的構造は、実質的には
全反射が可能な円柱体構造から外れてしまっているかもしれず、増大された強度
損失がコネクターハウジング内で起きてくる虞がある。
【0010】 EP 0 649 738 A1において開示するように、ポリアミドとポリビニリデン塩
化物の非塩基性コンパウンドは、ポリグルタルイミドをポリアミドに混ぜ合わせ
て用意してもよい。単一ステップの押出し工程により、例えば、2層混合物はポ
リアミドとポリビニリデンフッ化物から作られるし、3層混合物は、ポリアミド
と、ポリアミド−ポリグルタルイミドの混合物とポリビニリデンフッ化物との粘
着促進増強層から作られてもよい。ポリグルタルイミドは、ポリメタクリルイミ
ド(PMMI)としても知られている。
【0011】 プラスチック光ファイバの押出し工程において、大事なことは、直接ファイバ
クラッデング体に接触する保護外装体は、できるだけ低い温度にして適用させる
ことである。ファイバクラッデング体のフッ素含有ポリマーのガラス遷移温度は
、ファイバコア材料の温度(PMMA:106℃)に極めて接近していて、例えばその
温度範囲は80〜120℃である。 ファイバクラッデング体の厚さは、ただの10μmではあるものの、光学的な
特性は正確に調整がなされ、熱的または化学的な効果によって容易に影響され変
化されことが可能である。それゆえに、保護外装体の材料は、できるだけ低い溶
融温度にして押し出しされなければならない。
【0012】 本願特許の発明者は、PMMI(Pleximid 130,レーム社製造,独)と、低粘性ポ
リアミド12(相対粘性1.65, 0.5% m-クレゾールで測定)と、の配合品(ブレン
ド品)について試験を行い、高配合粘着性は、プラスチック光ファイバのケーブ
ル押出し工程における高融点温度と、ファイバの光吸収での不可逆的増加とに、
明らかに結果として帰着することがわかった。ポリアミド12とPMMIとの配
合物は、それゆえに、保護外装体のための材料として用いられることはできない
【0013】 また副次的には、EP 0 649 738 A1のページ6のTableにある参照例として
挙げられたポリグルタルイミド材料は、高粘着性を備えていて、3層プロセスの
ための中間層としてや、プラスチックファイバ押出し工程のためのポリアミド1
2の配合における構成要素としては、これを用いられることはできない。
【0014】 EP 0 767 190 A1において開示するように、ポリアミド材料の粘着力を使用
すると、多重積層ポリマーのパイプまたはパイピング(例えば自動車製造におけ
る給油または冷却潤滑ライン)の製造促進がなされる。ここで使用されるポリア
ミド材料は、いつも低粘着性を有しているというわけではない。加えて云えば、
それら各層の光特性もまた要求されるわけでもない。しかし、EP 0 767 190
A1で記載されているポリアミド材料は、アミノ末端基を過剰に有している。E
P 0 767 190 A1に開示されている粘着促進媒体を使用するプラスチック光ファ
イバを用いる押出成形試験は、本願特許の発明者によって実施されたものであり
、ここにおいて受容可能の押出成形温度が達成され、光ファイバは熱的なダメー
ジを受けることなく、ひき続いて光ファイバは高温度(80℃,24時間)に保持され
、ファイバの外側の層すなわちファイバクラッデング体はブラウン色となる。こ
のことは、モノマーのクラッデング体への拡散とこれに続く化学的反応とに起因
するものである、と見られた。この変色(退色)は、ファイバの光特性には不利な
影響効果を有していた。このようにEP 0 767 190 A1によるポリアミドモール
ディング材料は、プラスチック光ファイバのための粘着促進媒体または保護防護
層としては、除外されなければならない。
【0015】 本発明による光導波装置は、上述した従来の装置の問題点に鑑みてなされたも
のであり、それゆえに、本発明の目的は、大きな温度変化に対しても僅かな関連
付随動作しか起こさないような新規の光導波装置を提供することである。具体的
には、保護外装体を形成するモールディング材料は、ファイバクラッデング体に
よく粘着(付着)されて、それを化学的に攻撃することはない光導波装置とするこ
とである。またそれに加えて、光導波装置の送信動作と減衰特性に関しては、モ
ールディング材料によって内封されていないプラスチック光ファイバのそれに、
確実に対応一致できる装置として構成することである。
【0016】 <発明の開示> 前記課題を解決し、所望の目的を達成するために、本発明による光導波装置は
、以下のように構成されるものである。 本願発明の光導波装置1は、ファイバコア2と、単層または多層構造のファイ
バクラッデング体3と、からなるプラスチック光ファイバ(2、3)を有し、これ
を内部に封入する保護外装体4を備えて構成される。このファイバクラッデング
体3または少なくともこの外側を形成する層は、フッ素含有プラスチック層とな
っており、保護外装体4は主としてポリアミド材料(PA)から作られていて、好
ましくは、PA11, PA12, PA610, PA612, PA1212のいずれかの基から、また、コポ
リアミドは、PA6/12, PA6/9/6, PA6/9/12, PA610/6, PA610/11, PA610/12, PA61
2/6, PA612/11, PA612/12のいずれかの基から、そして、これらの混合物、これ
らのポリアミドおよび/またはコポリアミドの混合、他のホモポリアミドやコポ
リアミドの混合により、構成される。
【0017】 また、本発明の光導波装置において、それらポリアミド材料の融点は220℃
以下として設定され、好ましく210℃以下、さらに好ましくは200℃以下の
温度として設定されるのがよい。 それから、保護外装体4は、ファイバクラッデング体3に対して自己粘着的に
着接されて構成される。 そして、用いられるポリアミド材料のカルボキシル末端基の最大濃度は15μ
eq/gであり、かつ、アミノ末端基の濃度は50〜300μeq/gの範囲と
して設定され構成される。 このようにして、請求項1に記載された本発明の光導波装置は、上記の要求を
満足している。
【0018】 本発明により使用されるポリアミド材料は低粘着性を有するので、できるだけ
低い溶融温度で押出し成形して作られることができる。とりわけ、本発明による
ポリアミド材料は2.0以下の粘性(粘度)を持ち、特には1.8以下に、さらに好まし
くは1.4〜1.8の粘性としてもよい(相対粘性:0.5% m-クレゾールで測定)。この
ようにして、製造工程でのクオリティーを改良することができる。温度試験(80
℃、24時間;以下に示す)によれば、ファイバの外層すなわちクラッデング体での
変色や退色は見られず、ファイバの光特性でも劣性効果が生じていない。
【0019】 サブクレームは、本発明による利点の多い実施の形態を包含している。 プラスチック光ファイバのファイバクラッデング体に対して、改良ポリアミド
材料による保護外装体が良質の粘着性を有するために、端部側でスリップされる
コネクターは、ピストニングのような悪い影響を避けるため、光導波装置に対し
て明らかにより低いクランプ力やクリンプ力を適用する必要がある。このことは
、外部の力に起因するプラスチック光ファイバにおける信号の減衰を減少させる
こととなり、そして、コネクタまたはホルダーの使用を許容でき、これらのもの
は比較的簡単な構造となり、より安価な製造のものが可能となる。さらにまた、
コネクターに近接する保護外装体は、取り外される必要はない。80℃の温度で光
導波装置を24時間保持することでさえ、化学的なプロセスによって誘導された信
号減衰が増加することはない。そして、ファイバクラッデング体においての変色
退色は特には見られない。
【0020】 <発明を実施するための最良の形態> 本発明について、これからは図面および実施の形態を参照しながら説明するが
、添付した1枚の図面は、光導波装置(プラスチック光ファイバのシンプレック
ス導波装置)の一実施の形態においての断面図を示すものである。 ここでの本発明の光導波装置1は概略的に示されていて、図1の断面図では正
確な比例尺とはなっていないが、この光導波装置は特にはデータや信号を送る送
信要素として用いられ、例えば自動車の乗員コンパートメント内での信号送信な
どに使用される。
【0021】 光導波装置の構造としては、光導波装置1は、ステップ・プロファイル・イン
デックス・プラスチック光ファイバと呼ばれる光ファイバを含んでいて、示され
る実施の形態においては、PMMAファイバコア2(φ(core)=980μm,屈折率
n(core)=1.49)と、ファイバクラッデング体3(φ(cladding)=1000μm,屈折
率n(cladding)=1.35〜1.42)とを有し、ファイバクラッデング体3は単一層ま
たは多層構造のフッ素含有ポリマーから作られる。プラスチックPMMAは切り
出しや削りがとても容易であるので、ファイバ面の加工には(クリーンでスムー
ズで溝や筋などがないため)僅かな時間しかかからない。加えて、概略1mmの相
対的に大きな直径にもかかわらず、光ファイバ(2、3)は極めて高い曲げ強度を
もっていて、組立てや組込みを簡便化できる。ファイバコア2の光吸収は、典型
的な例としては、70〜100db/km(λ=570nm)または125〜150db/km(λ=650nm)で
ある。
【0022】 クラッデング材料または外側クラッデング層のための材料として用いられるフ
ッ素含有のポリマーは、ピュアなポリマー、フッ素含有モノポリマーのコーポリ
マー、同様にしてアクリル酸とアクリル酸塩を伴なうフッ素含有モノポリマーの
コーポリマー、同様にしてそのようなポリマーとコーポリマーとの混合からなる
もの、などから成る。材料としては、ビニリデン、フッ化物、テトラフッ化エチ
レン、ヘキサフッ化プロピレン、メタクリル酸テトラフッ化プロピレン、メタク
リル酸ペンタフッ化プロピレン、メタクリル酸トリフッ化エチレン、メタクリル
酸ヘプタデカフッ化デシレスタなどと、それらの混合のものや共重合のものがと
りわけ使用されてもよい。
【0023】 ファイバコア2とファイバクラッデング体3の外径は、IEC 60 793-2で仕様規
定された標準に適合する。ここで、クラッデング体3の外径はφ(cladding)=10
00±60μmであり,コア2の外径φ(core)は代表的にはクラッデング体3の外径
φ(cladding)より10〜20μmほど小さくて、開口数は0.5±0.15とするとよい。
もちろんこの他にも、他の標準値(φ(cladding)=750±45μmまたは500±30μ
m)に従ってもよく、ファイバコア2とファイバクラッデング3の寸法の他の選
択が可能であって、また、コマーシャル・ステップ・インデックス・プロファイル
のプラスチック光ファイバの寸法(φ(cladding)=75μm/125μm/250μm/3
80μm/1500μm/2000μm/3000μm)を適用することもできる。
【0024】 プラスチック光ファイバを内部に封入するモールディング材料は、相互に連携
した押出し成形が適用され、鋭敏なプラスチック光ファイバ(2、3)を外部の影
響から防護している。その厚さは上記の標準に従って選択され、光導波装置の外
径は2.2±0.1mm(φ(cladding)=1000μmまたはφ(cladding)=750μm)である
か、あるいは1.5±0.1mm(φ(cladding)=500μm)である。
【0025】 モールディング材料は、保護外装体4の材料として使用され、特にファイバク
ラッデング体3のフッ素含有ポリマーに対して良好な付着(粘着)性を有しており
、また、この材料は改良されたポリアミドPAから作られていて、前記材料のカ
ルボキシル末端基の最大濃度は15μeq/gとして、アミノ末端基の濃度は90
〜250μeq/gの範囲として、構成されるとよい。上記のアミノ末端基の濃度
は、まだ完全には重合されていないPAに加えられるアミノ鎖転移媒体aminic c
hain transfer agent(鎖転移媒体のシングル重合)によって、調整が図られる。
【0026】 鎖転移媒体の例としては、ヘキシルアミン、オクチルアミン、エチルヘキシル
アミン、トリデシルアミン、ディブチルアミン、ステアリルアミンがあって、ま
た、他の脂肪族、脂環式、芳香族のモノアミンであって2-44C原子、特には4-36
C原子を持つもの、同様にディアミンは、1,4-ディアミノブタン、1,6-ディアミ
ノヘキサン、ディアミノサイクロヘキサン、1,10-ディアミノデカン、1,12-ディ
アミノドデカン、m-またはp-キシリルディアミン、シクロヘキシルディメチレン
ディアミン、bis-(p-アミノシクロヘキシル)メタン、同じく他の脂肪族、脂環式
、芳香族のアミンであって2-44C原子、特には6-36C原子を持つもの、そして、
ポリアミドの主成分であるアミノ拡散モノマーの過剰(剰余)のもの、などが挙げ
られる。
【0027】 本発明の目的にふさわしいポリアミド材料としては、ホモ及びコーポリアミド
があるが、充分な低温度(すなわち最大で220℃)でプロセス化させることができ
るため、プラスチック光ファイバのクラッデング体とファイバコアとに損傷を与
えることはない。本発明によれば、肝要なこととして、使用されるポリアミド材
料は2.0以下の相対粘性(relative viscosity)を有し、特には1.8以下がよく、さ
らにより好ましくは1.4〜1.8とするとよい(相対粘性:0.5% 20℃のm-クレゾー
ルで測定された)。
【0028】 そのようなポリアミド材料は、ポリアミド形成のモノポリマーから作られても
よく、それらの例としては、カプロラクタム、ラウリンラクタム、アミノヘキサ
ン酸、アミノアンデカン酸、ドデカンディオイク酸、ディメリック酸、テレフタ
リック酸、イソフタリック酸、サイクロヘキサンディカルボキシリック酸、ナフ
タリンディカルボキシリック酸、テルトブチルイソフタリック酸、フェニリンダ
ンディカルボキシル酸、ディアミノブタン、ヘキサメチレンディアミン、メチル
ペンタメチレンディアミン、3,3-ディメチル-4,4-キシリレンディアミン、2,2-b
is(p-アミノシクロヘキシル)メタン、bis(p-アミノシクロヘキシル)メタン、イ
ソフォロンディアミン、ポリプロピレングリコールディアミン、ノルボナンディ
アミン、2,3-bis(アミノメチル)シクロヘキサン、TCDディアミンがあり、それら
材料の融点は220℃を最大とし、好ましく210℃以下、より好ましくは20
0℃以下の温度として設定されるのがよい。
【0029】 そして、本発明によれば、上記のポリアミド材料は、PA11, PA12, PA610, PA6
12, PA1212、または、コポリアミドPA6/12, PA6/9/6, PA6/9/12, PA610/6, PA61
0/11, PA610/12, PA612/6, PA612/11, PA612/12、または、これらの混合物、を
含んでおり、PA12は特に好適である。 上記の構成を備えるポリアミド材料にとっては、UV(紫外線)安定性、熱安定
性、結晶化促進性、軟化性、耐炎作用性、外面側の潤滑、無機フィルターのいず
れかに関係する性質を付加されて構成されてもよい。
【0030】 次に示した方法は、ファイバクラッデング体3への改良形ポリアミド材料から
なる保護外装体4の粘着性の試験に関するものである。 ・長さ約500mmの光導波装置の保護外装体4に部分的なショルダリングを施すが
、それにより、残っている保護外装体4の長さは約30mmである。 ・プレートのホールを通して光導波装置のショルダリングされた部分をリーディ
ングするが、そのホールの径は約1.1mmであり、ファイバクラッデング体3の外
径よりやや大きい。 ・光導波装置のショルダリングされた端部を引張り試験機器にチャッキングする
(引張り速度:10mm/min)。 ・プラスチック光ファイバのクラッデング体3から保護外装体4が分離(剥離)す
るときの引張り力を測定する。
【0031】 表1には、PA12タイプのポリマー材料が試験された結果を示す。
【表1】
【0032】 その試験によると、引張り力は、11N(粘着性なし)の最小値と等しいPANo.
1からなる保護外装体を剥がすことを要求していて、典型的には40-50Nと51N
の最大値であって、それぞれのプラスチック光ファイバへの保護外装体の大きく
異なる粘着性に基づくものである。本発明に従って、PA製の保護外装体を有す
る光導波装置について測定された剥離力は68〜75Nの範囲であって、明らかによ
り低い範囲にまで変化されている。 75Nの剥離力の測定された最大値は驚くべきものであって、保護外装体を形成
するモールディング材料のための押し出し成形温度は、概略185〜200℃となって
、これは、コア材料として用いられたPMMA(Tは100〜110℃)の比較的低いガ
ラス遷移温度によるものである。
【0033】 比較的大きな剥離力は、ある光導波装置で測定されたもので、ここでの保護外
装体はEP 0 767 190 A1に開示されているPAから作られている。しかしなが
ら、このPAは、上記本発明のアプリーションには向いていなく、同等な構造を
持つ導波体のヒート保持(80℃で24時間)において、外側クラッデング領域が変色
化(ブラウニング)する結果となった。
【0034】 次に、光導波装置(クラッデング体の径φ(cladding)=1000μm、保護外装体の
径φ(protective sheathing)=2.2mm)の3つの代表的な例について、試験が行わ
れたことを示す。 例1)光導波装置:タイプSB-1000,アサヒ化学工業Co.,Ltd; モールディング材料:Grilamid L16A(本発明によるPA) EMS-Chemie AG,CH-7013 Domat/Ems モールディング材料の工程進行温度:T=190℃、 プロセス進行スピード:60m/min、 分離(剥離)力:68〜75N(平均:73N)
【0035】 例2)光導波装置:タイプSB-1000 モールディング材料:Grilamid L16A(本発明によらない) EMS-Chemie AG,CH-7013 Domat/Ems モールディング材料の工程進行温度:T=190℃、 プロセス進行スピード:60m/min、 分離(剥離)力:48〜51N(平均:49N)
【0036】 例3)光導波装置:タイプSB-1000,アサヒ化学工業Co.,Ltd; モールディング材料:Grilamid L16A(本発明によらないPA) EMS-Chemie AG,CH-7013 Domat/Ems モールディング材料の工程進行温度:T=190℃、 プロセス進行スピード:60m/min、 分離(剥離)力:7〜18N(平均:11N)
【0037】 以上により理解されるように、本発明は記載されたこれら実施の形態に限定さ
れるものではない。本願発明の範囲から逸脱することなしに、種々なものが可能
であるが、次にその例を挙げてみる。 ・光導波装置1の保護外装体4を多層構造とする(部分的にはWO 99/1203を参照
のこと)か、または、厚さ1〜2mmのPVCクラッデング体を供給する。 ・しっかり付着させた補強用要素を用いて構成し、特にはガラスファイバ・カー
ボンファイバ・ミネラルファイバなどを用いる。 ・保護外装体に対して混ぜもの(カーボンブラック、タルクムなど)を用いる。 ・ひとつまたはいくつかの光導波装置について、光送受信要素として、シンプレ
クス・デュプレクス・ツイン・ハイブリッドなどのケーブルに適用する。なお、
次の文献を参照のこと。 A.Weinert:kunststofflichtwellenleiter Grundlagen,Komponebten,installation(プラスチック光ファイバ:基本的事
項、 構成要素、据え付け)Publicis MCD Verlag,1998,pp.55〜62.
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による光導波装置の基本的構成を示す、断面による説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 イロナ シュミット ドイツ ノイシュタット D−96465 ア ム タウ 2 (72)発明者 ヘルムート チューレン スイス ボナドゥツ CH−7402 フェル ザメルストラッセ 39 (72)発明者 ボルケル アイヒホルン スイス チュール CH−7000 リングス トラッセ 170 (72)発明者 トーマス ヴトゥケ ドイツ ヴァルトブレェール D−51545 デンクリンゲルストラッセ 79 (72)発明者 ゲオルグ ステッピルマン スイス ボナドゥツ CH−7402 ヴィア ザブロイン 2 Fターム(参考) 2H050 AB42Z AB43Y AB47Y AB48Y AC71 BB03W BC01 BD03 BD06

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ファイバコアと、単層または複数層構造からなるファイバク
    ラッデング体と、を含むプラスチック光ファイバと、 前記プラスチック光ファイバを内封するための保護外装体と、 を備えて構成される光導波装置であって、 前記ファイバクラッデング体または少なくともこの外側の層は、フッ素含有プ
    ラスチックからなり、 前記保護外装体は、ポリアミド材料であるポリアミドまたはコポリアミドまた
    はそれらの混合物からなって、その融点は220℃以下であり、前記ファイバク
    ラッデング体に対して自己粘着的に着接され、 前記ポリアミド材料のカルボキシル末端基の最大濃度は15μeq/gで、か
    つ前記アミノ末端基の濃度は50〜300μeq/gの範囲として、 構成されることを特徴とする光導波装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光導波装置において、 前記ポリアミド材料であるポリアミドまたはコポリアミドまたはそれらの混合
    物について、その融点は210℃以下または200℃以下に設定されることを特
    徴とする光導波装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の光導波装置において、 前記ポリアミド材料として、 前記ポリアミドは、PA11, PA12, PA610, PA612, PA1212のいずれかの基から、 前記コポリアミドは、PA6/12, PA6/9/6, PA6/9/12, PA610/6, PA610/11, PA61
    0/12, PA612/6, PA612/11, PA612/12のいずれかの基から、 前記混合物は、これらの前記ポリアミドおよび/または前記コポリアミドの混
    合から、 構成されることを特徴とする光導波装置。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の光導波装置において、 前記ポリアミド材料のカルボキシル末端基の最大濃度は15μeq/gで、か
    つ前記アミノ末端基の濃度は90〜250μeq/gの範囲として、構成される
    ことを特徴とする光導波装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の光導波装置において、 前記アミノ末端基の濃度は、モノまたは2官能基アミンの付加、またはポリア
    ミドをつくるジアミン成分の剰余、により調整がなされて構成されることを特徴
    とする光導波装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の光導波装置において、 前記ポリアミド材料は、UV(紫外線)安定性、熱安定性、結晶化促進性、軟化
    性、耐炎作用性、外面潤滑、無機フィルターのいずれかに関係する基を付加して
    、構成されることを特徴とする光導波装置。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載の光導波装置において、 前記ファイバクラッデング体は、 ビニリデンフッ化物、テトラフッ化エチレン、ヘキサフッ化プルピレン、メタ
    クリル酸テトラフッ化プロビレン、メタクリル酸ペンタフッ化プロピレン、メタ
    クリル酸トリフッ化エチレン、メタクリル酸ヘプタデカフッ化デシレスターのい
    ずれか、 または、前記物質による混合物、 または、前記物質による共重合体、 または、前記物質による、アクリル酸またはアクリル酸塩系のポリマー、コー
    ポリマー、ポリマー混合物、 により、構成されることを特徴とする光導波装置。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の光導波装置において、 前記ファイバコアは、ポリメチルメタクリル酸塩(PMMA)から構成される、
    ことを特徴とする光導波装置。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の光導波装置において、 前記プラスチック光ファイバは、その外径を75〜3000μmの範囲として
    、構成されることを特徴とする光導波装置。
  10. 【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の光導波装置において、 前記ファイバクラッデング体は、その外径を100±60μm、または750
    ±45μm、または500±30μm、として構成されることを特徴とする光導
    波装置。
  11. 【請求項11】 請求項1〜10のいずれかに記載の光導波装置において、 前記ファイバコアの径は、これに対応する前記ファイバクラッデング体の外径
    に比べて、約10μmから20μm小さくして構成されることを特徴とする光導
    波装置。
  12. 【請求項12】 請求項1〜11のいずれかに記載の光導波装置において、 前記光導波装置の外径は、0.15mmから5.0mmの範囲で構成されるこ
    とを特徴とする光導波装置。
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