JP2002538244A - ポリエチレンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
造されたフィルムに関する。
は、線状ポリエチレンポリマーは、一般的にLDPE(低密度ポリエチレン)と
呼ばれている分枝したエチレンホモポリマーのような他のポリエチレンポリマー
から、それを区別する特性を有する。これらの特性のあるものは、Anders
on他、米国特許第4,076,698号により記載されている。
。このようなものの例は、米国特許第3,709,853号、同第4,003,
712号、同第4,011,382号、同第4,302,566号、同第4,5
43,399号、同第4,882,400号、同第5,352,749号及び同
第5,541,270号並びにカナダ特許第991,798号並びにベルギー特
許第839,380号に示されている。
り、少なくとも米国特許第3,113,115号の発行以降知られている。その
後、新規な又は改良されたチーグラー−ナッタ型触媒に関して、多数の特許が発
行された。このような特許の例は、米国特許第3,594,330号、同第3,
676,415号、同第3,644,318号、同第3,917,575号、同
第4,105,847号、同第4,148,754号、同第4,256,866
号、同第4,298,713号、同第4,311,752号、同第4,363,
904号、同第4,481,301号及び再発行特許第33,683号である。
合物である共触媒とからなるものとして公知であるチーグラー−ナッタ型触媒が
開示されている。ハロゲン化炭化水素のような活性化剤及び電子供与体のような
活性改質剤が、任意にこの触媒と共に使用される。
素を使用することは、米国特許第3,354,139号並びにヨーロッパ特許第
EP0 529 977 B1号及び同第EP0 703 246 A1号に開
示されている。開示されているように、ハロゲン化炭化水素は、エタン生成の速
度を低下させ、触媒効率を改良するか又は他の効果を与えることができる。この
ようなハロゲン化炭化水素の典型は、モノハロゲン又はポリハロゲン置換した、
炭素数1〜12の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素である。
代表的脂肪族化合物には、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化メチレ
ン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホル
ム、四塩化炭素、四臭化炭素、四ヨウ化炭素、塩化エチル、臭化エチル、1,2
−ジクロロエタン、1,2−ジブロモエタン、メチルクロロホルム、ペルクロロ
エチレン等が含まれる。代表的脂環式化合物には、クロロシクロプロパン、テト
ラクロロシクロペンタン等が含まれる。代表的芳香族化合物には、クロロベンゼ
ン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロリド等が含まれる。これらの化合物
は、個別に又はこれらの混合物として使用することができる。
合に、任意に電子供与体を使用することも公知である。このような電子供与体は
、しばしば、触媒の効率を上昇させる上で及び/又はエチレン以外のオレフィン
を重合させる場合にポリマーの立体特異性を抑制する上で助けとなる。典型的に
ルイス塩基として知られている電子供与体は、触媒製造工程の間に使用されると
き、内部電子供与体と呼ばれる。触媒製造工程の間以外で使用されるとき電子供
与体は、外部電子供与体と呼ばれる。例えば、外部電子供与体は、予備生成した
触媒、プレポリマー及び/又は重合媒体に添加することができる。
リマーのアタクチック形を減少させ、アイソタクチックポリマーの製造を増加さ
せるために使用される。電子供与体を使用することによって、一般的に、アイソ
タクチックポリプロピレンの製造に於ける触媒の生産性が改良される。このこと
は一般的に米国特許第4,981,930号に示されている。
成する、エチレン重合の分野に於いて、電子供与体は、ポリマーの分子量分布(
MWD)及び重合媒体中の触媒の活性を抑制するために使用される。線状ポリエ
チレンを製造する際に内部電子供与体を使用することを記載している代表的特許
は、米国特許第3,917,575号、同第4,187,385号、同第4,2
56,866号、同第4,293,673号、同第4,296,223号、再発
行第33,683号、米国特許第4,302,565号、同第4,302,56
6号及び同第5,470,812号である。分子量分布を制御するためにテトラ
ヒドロフラン(THF)のような外部モノエーテル電子供与体を使用することは
、米国特許第5,055,535号に示されており、触媒粒子の反応性を制御す
るために外部電子供与体を使用することは、米国特許第5,410,002号に
記載されている。
、エーテル、ケトン、アミン、アミド、ニトリル、アルデヒド、チオエーテル、
チオエステル、炭酸エステル、酸素原子を含有する有機ケイ素化合物及び炭素又
は酸素原子を介して有機基に結合されたリン、ヒ素又はアンチモン化合物が含ま
れる。
の中に、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属化合物に対する内部電子供与体の
モル比1:1〜約1000:1の、少なくとも1種又はそれ以上の内部電子供与
体、共触媒としてのトリメチルアルミニウム(TMA)及び式1: R1 −CH2 −O−CH2 −R2 又は式2:
周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択された
元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並びに1〜
30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15
族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物
を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、 R3 及びR4 は結合して、環式又は多環式構造の一部を形成し、そして、1〜
30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15
族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物
を含む飽和及び不飽和脂肪族基並びに1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、
元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択さ
れた元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む置換及び非置換芳香族基からな
る群から独立に選ばれた炭化水素であり、 R5 は、1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第
14族、第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又は
これらの混合物を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、 R6 、R7 、R8 及びR9 は独立に、1〜30個の炭素原子及び0〜30個の
、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択
された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並び
に1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、
第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの
混合物を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれる) の、少なくとも1個の炭素−酸素−炭素結合(C−O−C)を含有する、少なく
とも1種又はそれ以上の外部電子供与体化合物を含むチーグラー−ナッタ型重合
触媒を導入することを含む。
て使用することができる。
。本明細書で定義した外部電子供与体及び/又はTMAを、任意の方式で重合媒
体中に添加することができる。本明細書で定義した外部電子供与体及び/又はT
MAを、重合媒体への添加の直前に触媒に添加することができるか又は触媒とは
別にして、当該技術分野で公知の任意の方式で重合媒体に添加することができる
。例えば、本明細書で定義した外部電子供与体を、任意的に、TMA共触媒と予
備混合することができる。
ような外部電子供与体を、熱除去手段、例えば、熱交換器の前に添加して、該熱
除去手段の汚染速度を遅くすることが有利であろう。
l and Engineering News”、第63(5)巻、第27頁
、1985年で公表されたような「元素周期表」を参照して行われる。このフォ
ーマットに於いて、族は1〜18の番号が付けられている。
、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属化合物に対する内部電子供与体のモル比
1:1〜約1000:1の、少なくとも1種又はそれ以上の内部電子供与体、ト
リメチルアルミニウム(TMA)共触媒及び式1: R1 −CH2 −O−CH2 −R2 又は式2:
周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選ばれた元
素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並びに1〜3
0個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15族
、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を
含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、 R3 及びR4 は、結合して、環式又は多環式構造の一部を形成し、そして、1
〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第1
5族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合
物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並びに1〜30個の炭素原子及び0〜30個の
、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択
された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む置換及び非置換芳香族基から
なる群から独立に選択された炭化水素であり、 R5 は1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第1
4族、第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこ
れらの混合物を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、 R6 、R7 、R8 及びR9 は独立に、1〜30個の炭素原子及び0〜30個の
、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択
された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並び
に1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、
第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの
混合物を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれる) の、少なくとも1個の炭素−酸素−炭素結合(C−O−C)を含む、少なくとも
1種又はそれ以上の外部電子供与体化合物を含むチーグラー−ナッタ型触媒の特
定の組合せの使用の予想外の発見が含まれる。
て使用することができる。
ル、C2 〜C30アルケニル、C4 〜C30ジエニル、C3 〜C30シクロアルキル、
C3 〜C30シクロアルケニル、C4 〜C30シクロジエニル、C6 〜C30アリール
、C7 〜C30アラルキル及びC7 〜C30アルカリールである。また、例は、1〜
30個の炭素原子及び1〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15
族、第16族及び第17族から選ばれた元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を
含有する炭化水素、例えば、B1 〜B30ボロ炭化水素、Si1 〜Si30シラ炭化
水素、P1 〜P30ホスファ炭化水素、S1 〜S30チア炭化水素、Cl1 〜Cl30 クロロ炭化水素及びハロゲンの混合物を含有するハロゲン化炭化水素である。
キル、C2 〜C30アルケニル、C4 〜C30ジエニル、C3 〜C30シクロアルキル
、C3 〜C30シクロアルケニル、C4 〜C30シクロジエニル、C6 〜C30アリー
ル、C7 〜C30アラルキル及びC7 〜C30アルカリールである(但し、R3 及び
R4 は、連結して、環式又は単環式構造の一部を形成する)。また、例は、1〜
30個の炭素原子及び1〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15
族、第16族及び第17族から選ばれた元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を
含有する炭化水素、例えば、B1 〜B30ボロ炭化水素、Si1 〜Si30シラ炭化
水素、P1 〜P30ホスファ炭化水素、S1 〜S30チア炭化水素、Cl1 〜Cl30 クロロ炭化水素及びハロゲンの混合物を含有するハロゲン化炭化水素である(但
し、R3 及びR4 は、連結して、環式又は単環式構造の一部を形成する)。
素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択され
た元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む置換及び非置換芳香族炭化水素、
例えば、B1 〜B30ボロ炭化水素、Si1 〜Si30シラ炭化水素、P1 〜P30ホ
スファ炭化水素、S1 〜S30チア炭化水素、Cl1 〜Cl30クロロ炭化水素及び
ハロゲンの混合物を含むハロゲン化炭化水素である。
キル、C3 〜C30シクロアルケニル、C4 〜C30シクロジエニル、C6 〜C30ア
リール、C7 〜C30アラルキル及びC7 〜C30アルカリールである。また、例は
、1〜30個の炭素原子及び1〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、
第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの
混合物を含む炭化水素、例えば、B1 〜B30ボロ炭化水素、Si1 〜Si30シラ
炭化水素、P1 〜P30ホスファ炭化水素、S1 〜S30チア炭化水素、Cl1 〜C
l30クロロ炭化水素及びハロゲンの混合物を含むハロゲン化炭化水素である。
物の例は、アルキル、アルケニル、ジエニル及びアリール置換化合物のような1
個のC−O−C結合を含む化合物である。具体例は、ジメチルエーテル、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジ
イソアミルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオクチルエーテル、ジベンジルエ
ーテル、ジアリルエーテル、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、ア
リルベンジルエーテル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ブ
チルメチルエーテル、ブチルエチルエーテル、イソアミルメチルエーテル、イソ
アミルエチルエーテル、イソアミルプロピルエーテル、イソアミルブチルエーテ
ル等である。また、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び
第17族からのヘテロ原子を含有する式1の炭化水素の例は、ビス(トリメチル
シリルメチル)エーテル、トリメチルシリルメチルメチルエーテル、ビス(2,
2,2−トリフルオロエチル)エーテル、ベンジル3−ブロモプロピルエーテル
、ベンジル3−ブロモ−2−クロロプロピルエーテル、ベンジルクロロメチルエ
ーテル、ブチル2−クロロエチルエーテル、クロロメチルメチルエーテル、クロ
ロメチルエチルエーテル、ジメチル2−メトキシエチルボラート、ジメチルメト
キシメチルボラート、ジメトキシ−2−メトキシエチルボラン、ジフェニル−2
−メトキシエチルホスフィン、ジフェニルメトキシメチルホスフィン、2−(2
−チエニル)エチルエチルエーテル、2−(2−チエニル)エチルメチルエーテ
ル、2−(3−チエニル)エチルエチルエーテル、2−(3−チエニル)エチル
メチルエーテル、2−(2−メトキシメチル)−1,3,2−ジオキサホスホラ
ン、1−(2−メトキシエチル)ピロール、1−(2−メトキシエチル)ピラゾ
ール、1−(2−メトキシエチル)イミダゾール、2−(2−メトキシエチル)
ピリジン等である。
レンオキシド、1,2−エポキシブタン、2,3−エポキシブタン、1,2−エ
ポキシブト−3−エン、シクロペンテンオキシド、トリメチレンオキシド、スチ
レンオキシド、3,3−ジメチルオキセタン、フラン、2,3−ジヒドロフラン
、2,5−ジヒドロフラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラ
ン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、4,5−ジヒドロ−2−メチルフラ
ン、2−メチルフラン、2−エチルフラン、2−tert−ブチルフラン、2,
5−ジメチルフラン、2,3−ジメチルフラン、1,2−ピラン、1,4−ピラ
ン、テトラヒドロピラン、3−メチルテトラヒドロピラン、オキソカン(oxo
cane)、2,3−ベンゾフラン、2,3−ジヒドロベンゾフラン、2−メチ
ルベンゾフラン、フタラン、ジベンゾフラン、キサンテン、クロマン、イソクロ
マン等のような、環式又は多環式構造の一部を形成する環式化合物である。また
、例は、例えば、2,5−ジメトキシフラン、2−メトキシフラン、3−メトキ
シフラン、2−メトキシテトラヒドロピラン、3−メトキシテトラヒドロピラン
、1,3−ジオキソラン、2−メチル−1,3−ジオキソラン、2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン、2−エチル−2−メチル−1,3−ジオキソラン、
2,2−テトラメチレン−1,3−ジオキソラン、2,2−ペンタメチレン−1
,3−ジオキソラン、2−ビニル−1,3−ジオキソラン、2−メトキシ−1,
3−ジオキソラン、1,4−ジオキサスピロ[4.4]ノン−6−エン、1,4
,9,12−テトラオキサジスピロ(4.2.4.2)テトラデカン、1,3−
ジオキサン、1,4−ジオキサン、4−メチル−1,3−ジオキサン、1,3,
5−トリオキサン、2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカ
ン、12−クラウン−4,15−クラウン−5、シス−4,7−ジヒドロ−1,
3−ジオキセピン、1,7−ジオキサスピン(5.5)ウンデカン、3,4−エ
ポキシテトラヒドロフラン、2,2−ジメチル−4−ビニル−1,3−ジオキソ
ラン等のような、1個より多くのC−O−C結合を含有する環式化合物である。
また、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から
のヘテロ原子を含む式2の炭化水素の例は、エピクロロヒドリン、3−ブロモフ
ラン、2−クロロメチル−1,3−ジオキソラン、4−クロロテトラヒドロピラ
ン、トリ−2−フリルホスフィン、1−フルフリルピロール、3−フリルメチル
ホウ酸ジメチル、2−トリメチルシリルフラン、3−トリメチルシリルフラン、
2−トリメチルシリル−1,3−ジオキソラン、2−(3−チエニル)−1,3
−ジオキソラン、2−ブロモクロロメチル−1,3−ジオキソラン、オキサゾー
ル、1,3,4−オキサジアゾール、3,4−ジクロロ−1,2−エポキシブタ
ン、3,4−ジブロモ−1,2−エポキシブタン等である。
ル、アルケニル、ジエニル及びアリール置換芳香族化合物のような1個のC−O
−C結合を含む化合物である。具体例は、ジフェニルエーテル、ビス(2−トリ
ル)エーテル、ビス(3−トリル)エーテル、ビス(1−ナフチル)エーテル、
ビス(2−ナフチル)エーテル、アリルフェニルエーテル、アリル2−トリルエ
ーテル、アリル3−トリルエーテル、アリル1−ナフチルエーテル、アリル2−
ナフチルエーテル、ベンジルフェニルエーテル、ベンジル2−トリルエーテル、
ベンジル3−トリルエーテル、ベンジル1−ナフチルエーテル、ベンジル2−ナ
フチルエーテル、エチルフェニルエーテル、エチル2−トリルエーテル、エチル
3−トリルエーテル、エチル1−ナフチルエーテル、エチル2−ナフチルエーテ
ル、メチルフェニルエーテル、メチル2−トリルエーテル、メチル3−トリルエ
ーテル、メチル1−ナフチルエーテル、メチル2−ナフチルエーテル等である。
また、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から
のヘテロ原子を含有する式3の炭化水素の例は、2−エトキシ−1−メチルピロ
ール、3−メトキシ−1−メチルピロール、2−エトキシチオフェン、3−メト
キシチオフェン、3−メトキシ−1−メチルピラゾール、4−メトキシ−1−メ
チルピラゾール、5−メトキシ−1−メチルピラゾール、2−メトキシ−1−メ
チルイミダゾール、4−メトキシ−1−メチルイミダゾール、5−メトキシ−1
−メチルイミダゾール、3−メトキシ−1−フェニルピラゾール、4−メトキシ
−1−フェニルピラゾール、5−メトキシ−1−フェニルピラゾール、2−メト
キシ−1−フェニルイミダゾール、4−メトキシ−1−フェニルイミダゾール、
5−メトキシ−1−フェニルイミダゾール、4−メトキシ−1−メチル−1,2
,3−トリアゾール、5−メトキシ−1−メチル−1,2,3−トリアゾール、
4−メトキシ−1−フェニル−1,2,3−トリアゾール、5−メトキシ−1−
フェニル−1,2,3−トリアゾール、3−メトキシ−1−メチル−1,2,4
−トリアゾール、5−メトキシ−1−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−
メトキシ−1−フェニル−1,2,4−トリアゾール、5−メトキシ−1−フェ
ニル−1,2,4−トリアゾール、5−メトキシ−1−メチルテトラゾール、5
−メトキシ−1−フェニルテトラゾール、3−メトキシイソキサゾール、4−メ
トキシイソキサゾール、5−メトキシイソキサゾール、2−メトキシオキサゾー
ル、4−メトキシオキサゾール、5−メトキシオキサゾール、3−メトキシ−1
,2,4−オキサジアゾール、5−メトキシ−1,2,4−オキサジアゾール、
2−メトキシ−1,3,4−オキサジアゾール、3−メトキシイソチアゾール、
4−メトキシイソチアゾール、5−メトキシイソチアゾール、2−メトキシチア
ゾール、4−メトキシチアゾール、5−メトキシチアゾール、2−メトキシピリ
ジン、3−メトキシピリジン、4−メトキシピリジン、3−メトキシピリダジン
、4−メトキシピリダジン、2−メトキシピリミジン、4−メトキシピリミジン
、5−メトキシピリミジン、2−メトキシピラジン、3−メトキシ−1,2,4
−トリアジン、5−メトキシ−1,2,4−トリアジン、6−メトキシ−1,2
,4−トリアジン、2−メトキシ−1,3,5−トリアジン等である。
である式4、R7 −O(−R8 −O)n −R9 の化合物の例は、nが1〜30の
範囲内であるアルキル、アルケニル、ジエニル及びアリール置換化合物である。
具体例は、ジメトキシメタン、1,1−ジメトキシエタン、1,1,1−トリメ
トキシエタン、1,1,1−トリエトキシエタン、1,1,2−トリメトキシエ
タン、1,1−ジメトキシプロパン、1,2−ジメトキシプロパン、2,2−ジ
メトキシプロパン、1,3−ジメトキシプロパン、1,1,3−トリメトキシプ
ロパン、1,4−ジメトキシブタン、1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジ
メトキシベンゼン、1,4−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジビニル
エーテル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレングリコールジシク
ロペンチルエーテル、エチレングリコールtert−ブチルメチルエーテル、エ
チレングリコールtert−ブチルエチルエーテル、ジ(エチレングリコール)
ジメチルエーテル、ジ(エチレングリコール)ジエチルエーテル、ジ(エチレン
グリコール)ジブチルエーテル、ジ(エチレングリコール)tert−ブチルメ
チルエーテル、トリ(エチレングリコール)ジメチルエーテル、トリ(エチレン
グリコール)ジエチルエーテル、テトラ(エチレングリコール)ジメチルエーテ
ル、テトラ(エチレングリコール)ジエチルエーテル、2−(2−エチルヘキシ
ル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−1,3−ジメトキシプ
ロパン、2−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−sec−ブチル−1,
3−ジメトキシプロパン、2−tert−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン
、2−シクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−フェニル−1,3−
ジメトキシプロパン、2−クミル−1,3−ジメトキシプロパン、2−(2−フ
ェニルエチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(2−シクロヘキシルエチ
ル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(p−クロロフェニル)−1,3−ジ
メトキシプロパン、2−(p−フルオロフェニル)−1,3−ジメトキシプロパ
ン、2−(ジフェニルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシク
ロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジエチル−1,3−ジメト
キシプロパン、2,2−ジプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジ
イソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジブチル−1,3−ジメ
トキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メ
チル−2−エチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−プロピル−
1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−ブチル−1,3−ジメトキシプ
ロパン、2−メチル−2−ベンジル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル
−2−メチルシクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル
−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(2−シクロ
ヘキシルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン等である。また、元素周期表の
第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族からのヘテロ原子を含有
する式4の化合物の例は、エチレングリコールビス(トリメチルシリルメチル)
エーテル、ジ(エチレングリコール)メチルトリメチルシリルエーテル、トリス
(2−メトキシエチル)ボラート、エチレングリコールクロロメチルブロモメチ
ルエーテル等である。
エーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソ
アミルエーテル、ジベンジルエーテル、ブチルメチルエーテル、ブチルエチルエ
ーテル、クロロメチルメチルエーテル、トリメチルシリルメチルメチルエーテル
、ビス(トリメチルシリルメチル)エーテル、ビス(2,2,2−トリフルオロ
エチル)エーテル、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,2−エポキシ
ブタン、シクロペンテンオキシド、エピクロロヒドリン、フラン、2,3−ジヒ
ドロフラン、2,5−ジヒドロフラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラ
ヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、2−メチルフラン、2,
5−ジメチルフラン、テトラヒドロピラン、1,2−エポキシブト−3−エン、
スチレンオキシド、2−エチルフラン、オキサゾール、1,3,4−オキサジア
ゾール、3,4−シクロロ−1,2−エポキシブタン、3,4−ジブロモ−1,
2−エポキシブタン、ジメトキシメタン、1,1−ジメトキシエタン、1,1,
1−トリメトキシメタン、1,1,1−トリメトキシエタン、1,1,2−トリ
メトキシエタン、1,1−ジメトキシプロパン、1,2−ジメトキシプロパン、
2,2−ジメトキシプロパン、1,3−ジメトキシプロパン、1,1,3−トリ
メトキシプロパン、1,4−ジメトキシブタン、1,2−ジメトキシベンゼン、
1,3−ジメトキシベンゼン、1,4−ジメトキシベンゼン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジ(エチレングリコール)ジメチルエーテル、ジ(エチレ
ングリコール)ジエチルエーテル、ジ(エチレングリコール)ジブチルエーテル
、ジ(エチレングリコール)tert−ブチルメチルエーテル、トリ(エチレン
グリコール)ジメチルエーテル、トリ(エチレングリコール)ジエチルエーテル
、テトラ(エチレングリコール)ジメチルエーテル、2,2−ジエチル−1,3
−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−エチル−1,3−ジメトキシプロパン
、2−メトキシフラン、3−メトキシフラン、1,3−ジオキソラン、2−メチ
ル−1,3−ジオキソラン、2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン、2−エ
チル−2−メチル−1,3−ジオキソラン、2,2−テトラメチレン−1,3−
ジオキソラン、2,2−ペンタメチレン−1,3−ジオキソラン、1,3−ジオ
キサン、1,4−ジオキサン、4−メチル−1,3−ジオキサン、1,3,5−
トリオキサン及び3,4−エポキシテトラヒドロフランである。
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジオクチルエーテル、トリメチレンオキシド及びテ
トラヒドロピランである。
えば、懸濁液中で、溶液中で、超臨界媒体中で又は気相媒体中での重合を利用す
ることができる。これらの重合方法の全ては、当該技術分野で公知である。
は、流動床反応器を使用する気相重合方法である。この形式の反応器及びこの反
応器を運転するための手段は、公知であり、米国特許第3,709,853号、
同第4,003,712号、同第4,011,382号、同第4,012,57
3号、同第4,302,566号、同第4,543,399号、同第4,882
,400号、同第5,352,749号、同第5,541,270号、カナダ特
許第991,798号及びベルギー特許第839,380号に完全に記載されて
いる。これらの特許には、重合媒体を機械的に攪拌するか又は気体状モノマー及
び希釈剤の連続流によって流動化させる気相重合方法が開示されている。これら
の特許の全内容を参照して明細書に含める。
することができる。本発明の方法で使用するための流動床反応器は、典型的に、
反応ゾーン及び所謂速度低下ゾーンからなる。反応ゾーンは、気体状モノマー及
び反応ゾーンを通して重合熱を除去するための希釈剤の連続流によって流動化さ
れている、成長しているポリマー粒子、形成されたポリマー粒子及び少量の触媒
粒子の床を含む。任意に、再循環させる気体の幾らかを冷却し、圧縮して、反応
ゾーンに再供給するとき循環気体流の熱除去容量を増加させる液体を形成するこ
とができる。気体流の適当な速度は、簡単な実験によって容易に求めることがで
きる。循環気体流への気体状モノマーの供給は、粒子状ポリマー生成物及びそれ
に付随するモノマーが反応器から取り出される速度に等しい速度であり、反応器
を通過する気体の組成は、反応ゾーン内の本質的に定常状態の気体状組成を維持
するように調節される。反応ゾーンから出る気体は、速度低下ゾーンを通過し、
そこで同伴された粒子が除去される。より微細な同伴された粒子及びダストは、
サイクロン及び/又は微細フィルター内で除去することができる。この気体は、
そこで重合熱が除去される熱交換器を通過し、圧縮機内で圧縮され、次いで反応
ゾーンに戻される。
0℃の範囲内である。一般的に、反応器温度は、反応器内のポリマー生成物の焼
結温度を考慮して実施可能である最高温度で運転される。
種又はそれ以上の他のオレフィンとのコポリマー、ターポリマー等の製造に適し
ている。好ましくは、オレフィンはα−オレフィンである。このオレフィンは、
例えば、3〜16個の炭素原子を含有していてよい。本発明の方法によりここで
製造するために特に好ましいものは、線状ポリエチレンである。このような線状
ポリエチレンは、好ましくは、エチレンの線状ホモポリマー及びエチレンと少な
くとも1種のα−オレフィンとの線状コポリマー(但し、エチレン含有量は、含
有される全モノマーの少なくとも約70重量%である)である。本発明で使用す
ることができる代表的α−オレフィンは、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテ
ン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、4−メチルペント−1−エン
、1−デセン、1−ドデセン、1−ヘキサデセン等である。また、1,3−ヘキ
サジエン、1,4−ヘキサジエン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン
、4−ビニルシクロヘキサ−1−エン、1,5−シクロオクタジエン、5−ビニ
リデン−2−ノルボルネン及び5−ビニル−2−ノルボルネン並びに重合媒体中
でその場(in situ)で生成されるオレフィンのようなポリエンも本発明
で使用することができる。重合媒体中でその場でオレフィンが生成されるとき、
長い鎖の枝分かれを含有する線状ポリエチレンの生成が起こり得る。
明の方法に於いて、触媒は、当該技術分野で公知の任意の方式で導入することが
できる。例えば、触媒は、溶液、スラリー又は乾燥した自由流動粉末の形で、重
合媒体の中に直接導入することができる。また、触媒は、失活した触媒の形で又
は触媒を共触媒の存在下で1種又はそれ以上のオレフィンと接触させることによ
って得られたプレポリマーの形で使用することもできる。本発明に於いて、使用
するチーグラー−ナッタ型触媒には、少なくとも1種又はそれ以上の内部電子供
与体が含有されている。
又はそれ以上の内部電子供与体が含有される。当該技術分野で公知のどのような
内部電子供与体も使用することができる。内部電子供与体は、チーグラー−ナッ
タ型触媒の遷移金属化合物に対する内部電子供与体のモル比1:1〜約1000
:1で含有させる。
グラー−ナッタ触媒は、遷移金属化合物及び有機金属共触媒化合物から構成され
ている。この遷移金属化合物の金属は、“Chemical and Engi
neering News”、第63(5)巻、第27頁、1985年で公表さ
れたような元素周期表の第4族、第5族、第6族、第7族、第8族、第9族及び
第10族の金属である。このフォーマットに於いて、族は1〜18の番号が付け
られている。このような遷移金属の例は、チタン、ジルコニウム、バナジウム、
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル等及びこれらの混合物である。好ま
しい態様に於いて、遷移金属は、チタン、ジルコニウム、バナジウム及びクロム
からなる群から選択され、なお更に好ましい態様に於いて、遷移金属はチタンで
ある。チーグラー−ナッタ触媒には、任意に、マグネシウム及び塩素が含有され
ていてよい。このようなマグネシウム及び塩素含有触媒は、当該技術分野で公知
の任意の方式で製造することができる。
る。内部電子供与体の例は、1〜50個の炭素原子及び1〜30個の、元素周期
表の第14族、第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原
子又はこれらの混合物を含有する炭化水素である。適当な内部電子供与体化合物
の例は、例えば、エーテル、チオエーテル、アミン、エステル、チオエステル、
アミド、無水物、酸ハライド、アルデヒド、ケトン、アルコール、ニトリル、ホ
スフィン、シラン、カルボン酸等である。
ルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル
、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオクチルエーテル、ジイソアミ
ルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジル
エーテル、ジビニルエーテル、ジアリルエーテル、ジシクロプロピルエーテル、
ジシクロペンチルエーテル、ジシクロヘキシルエーテル、ビス(2,2,2−ト
リフルオロエチル)エーテル、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、
アリルシクロヘキシルエーテル、アリルフェニルエーテル、アリルベンジルエー
テル、アリル2−トリルエーテル、アリル3−トリルエーテル、アリル4−トリ
ルエーテル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ベンジルイソ
アミルエーテル、ベンジルクロロメチルエーテル、ベンジルシクロヘキシルエー
テル、ベンジルフェニルエーテル、ベンジル1−ナフチルエーテル、ベンジル2
−ナフチルエーテル、ブチルメチルエーテル、ブチルエチルエーテル、sec−
ブチルメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ブチルシクロペンチ
ルエーテル、ブチル2−クロロエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル
、シクロヘキシルエチルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、tert−
アミルメチルエーテル、sec−ブチルエチルエーテル、tert−ブチルエチ
ルエーテル、tert−アミルエチルエーテル、シクロドデシルメチルエーテル
、ビス(2−シクロペンテン−1−イル)エーテル、1−メトキシ−1,3−シ
クロヘキサジエン、1−メトキシ−1,4−シクロヘキサジエン、クロロメチル
メチルエーテル、クロロメチルエチルエーテル、ビス(2−トリル)エーテル、
トリメチルシリルメチルメチルエーテル、トリメチレンオキシド、3,3−ジメ
チルオキセタン、フラン、2,3−ジヒドロフラン、2,5−ジヒドロフラン、
テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラ
ヒドロフラン、4,5−ジヒドロ−2−メチルフラン、2−メチルフラン、2,
5−ジメチルフラン、3−ブロモフラン、2,3−ベンゾフラン、2−メチルベ
ンゾフラン、ジベンゾフラン、イソベンゾフラン、キサンテン、1,2−ピラン
、1,4−ピラン、テトラヒドロピラン、3−メチルテトラヒドロピラン、4−
クロロテトラヒドロピラン、クロマン、イソクロマン、オキソカン、1,1−ジ
メトキシエタン、1,1,1−トリメトキシエタン、1,1,2−トリメトキシ
エタン、1,1−ジメトキシプロパン、1,2−ジメトキシプロパン、2,2−
ジメトキシプロパン、1,3−ジメトキシプロパン、1,1,3−トリメトキシ
プロパン、1,4−ジメトキシブタン、1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−
ジメトキシベンゼン、1,4−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジビニ
ルエーテル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレングリコールte
rt−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールtert−ブチルエチルエー
テル、ジ(エチレングリコール)ジメチルエーテル、ジ(エチレングリコール)
ジエチルエーテル、ジ(エチレングリコール)ジブチルエーテル、ジ(エチレン
グリコール)tert−ブチルメチルエーテル、トリ(エチレングリコール)ジ
メチルエーテル、トリ(エチレングリコール)ジエチルエーテル、テトラ(エチ
レングリコール)ジメチルエーテル、テトラ(エチレングリコール)ジエチルエ
ーテル、2,5−ジメトキシフラン、2−メトキシフラン、3−メトキシフラン
、2−メトキシテトラヒドロピラン、3−メトキシテトラヒドロピラン、1,3
−ジオキソラン、2−メチル−1,3−ジオキソラン、2,2−ジメチル−1,
3−ジオキソラン、2−エチル−2−メチル−1,3−ジオキソラン、2,2−
テトラメチレン−1,3−ジオキソラン、2,2−ペンタメチレン−1,3−ジ
オコソラン、2−ビニル−1,3−ジオキソラン、2−クロロメチル−1,3−
ジオキソラン、2−メトキシ−1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサスピロ
[4.4]ノン−6−エン、1,4,9,12−テトラオキサジスピロ(4.2
.4.2)テトラデカン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、4−メチ
ル−1,3−ジオキサン、1,3,5−トリオキサン、2,4,8,10−テト
ラオキサスピロ(5.5)ウンデカン、12−クラウン−4、15−クラウン−
5、シス−4,7−ジヒドロ−1,3−ジオキセピン、2−(2−エチルヘキシ
ル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−1,3−ジメトキシプ
ロパン、2−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−sec−ブチル−1,
3−ジメトキシプロパン、2−tert−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン
、2−シクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−フェニル−1,3−
ジメトキシプロパン、2−クミル−1,3−ジメトキシプロパン、2−(2−フ
ェニルエチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(2−シクロヘキシルエチ
ル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−(p−クロロフェニル)−1,3−ジ
メトキシプロパン、2−(p−フルオロフェニル)−1,3−ジメトキシプロパ
ン、2−(ジフェニルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシク
ロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジエチル−1,3−ジメト
キシプロパン、2,2−ジプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジ
イソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジブチル−1,3−ジメ
トキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メ
チル−2−エチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−プロピル−
1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル−2−ブチル−1,3−ジメトキシプ
ロパン、2−メチル−2−ベンジル−1,3−ジメトキシプロパン、2−メチル
−2−メチルシクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル
−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(2−シクロ
ヘキシルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン等である。
ジエチルフルフィド、ジプロピルスルフィド、ジイソプロピルスルフィド、ジブ
チルスルフィド、ジペンチルスルフィド、ジヘキシルスルフィド、ジオクチルス
ルフィド、ジイソアミルスルフィド、ジ−tert−ブチルスルフィド、ジフェ
ニルスルフィド、ジベンジルスルフィド、ジビニルスルフィド、ジアリルスルフ
ィド、ジプロパルギルスルフィド、ジシクロプロピルスルフィド、ジシクロペン
チルスルフィド、ジシクロヘキシルスルフィド、アリルメチルスルフィド、アリ
ルエチルスルフィド、アリルシクロヘキシルスルフィド、アリルフェニルスルフ
ィド、アリルベンジルスルフィド、アリル2−トリルスルフィド、アリル3−ト
リルスルフィド、ベンジルメチルスルフィド、ベンジルエチルスルフィド、ベン
ジルイソアミルスルフィド、ベンジルクロロメチルスルフィド、ベンジルシクロ
ヘキシルスルフィド、ベンジルフェニルスルフィド、ベンジル1−ナフチルスル
フィド、ベンジル2−ナフチルスルフィド、ブチルメチルスルフィド、ブチルエ
チルスルフィド、sec−ブチルメチルスルフィド、tert−ブチルメチルス
ルフィド、ブチルシクロペンチルスルフィド、ブチル2−クロロエチルスルフィ
ド、シクロペンチルメチルスルフィド、シクロヘキシルエチルスルフィド、シク
ロヘキシルビニルスルフィド、tert−アミルメチルスルフィド、sec−ブ
チルエチルスルフィド、tert−ブチルエチルスルフィド、tert−アミル
エチルスルフィド、シクロドデシルメチルスルフィド、ビス(2−シクロペンテ
ン−1−イル)スルフィド、1−メチルチオ−1,3−シクロヘキサジエン、1
−メチルチオ−1,4−シクロヘキサジエン、クロロメチルメチルスルフィド、
クロロメチルエチルスルフィド、ビス(2−トリル)スルフィド、トリメチルシ
リルメチルメチルスルフィド、トリメチレンスルフィド、チオフェン、2,3−
ジヒドロチオフェン、2,5−ジヒドロチオフェン、テトラヒドロチオフェン、
2−メチルテトラヒドロチオフェン、2,5−ジメチルテトラヒドロチオフェン
、4,5−ジヒドロ−2−メチルチオフェン、2−メチルチオフェン、2,5−
ジメチルチオフェン、3−ブロモチオフェン、2,3−ベンゾチオフェン、2−
メチルベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、1,1
−ビス(メチルチオ)エタン、1,1,1−トリス(メチルチオ)エタン、1,
1,2−トリス(メチルチオ)エタン、1,1−ビス(メチルチオ)プロパン、
1,2−ビス(メチルチオ)プロパン、2,2−ビス(メチルチオ)プロパン、
1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、1.1.3−トリス(メチルチオ)プロ
パン、1,4−ビス(メチルチオ)ブタン、1,2−ビス(メチルチオ)ベンゼ
ン、1,3−ビス(メチルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(メチルチオ)ベンゼ
ン、エチレングリコールジメチルスルフィド、エチレングリコールジエチルスル
フィド、エチレングリコールジビニルスルフィド、エチレングリコールジフェニ
ルスルフィド、エチレングリコールtert−ブチルメチルスルフィド、エチレ
ングリコールtert−ブチルエチルスルフィド、2,5−ビス(メチルチオ)
チオフェン、2−メチルチオチオフェン、3−メチルチオチオフェン、2−メチ
ルチオテトラヒドロピラン、3−メチルチオテトラヒドロピラン、1,3−ジチ
オラン、2−メチル−1,3−ジチオラン、2,2−ジメチル−1,3−ジチオ
ラン、2−エチル−2−メチル−1,3−ジチオラン、2,2−テトラメチレン
−1,3−ジチオラン、2,2−ペンタメチレン−1,3−ジチオラン、2−ビ
ニル−1,3−ジチオラン、2−クロロメチル−1,3−ジチオラン、2−メチ
ルチオ−1,3−ジチオラン、1,3−ジチアン、1,4−ジチアン、4−メチ
ル−1,3−ジチアン、1,3,5−トリチアン、2−(2−エチルヘキシル)
−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−イソプロピル−1,3−ビス(メ
チルチオ)プロパン、2−ブチル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−
sec−ブチル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−tert−ブチル
−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−シクロヘキシル−1,3−ビス(
メチルチオ)プロパン、2−フェニル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、
2−クミル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−(2−フェニルエチル
)−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−(2−シクロヘキシルエチル)
−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−(p−クロロフェニル)−1,3
−ビス(メチルチオ)プロパン、2−(p−フルオロフェニル)−1,3−ビス
(メチルチオ)プロパン、2−(ジフェニルメチル)−1,3−ビス(メチルチ
オ)プロパン、2,2−ジシクロヘキシル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパ
ン、2,2−ジエチル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2,2−ジプロ
ピル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2,2−ジイソプロピル−1,3
−ビス(メチルチオ)プロパン、2,2−ジブチル−1,3−ビス(メチルチオ
)プロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2
−メチル−2−エチル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−メチル−2
−プロピル−1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−メチル−2−ブチル−
1,3−ビス(メチルチオ)プロパン、2−メチル−2−ベンジル−1,3−ビ
ス(メチルチオ)プロパン、2−メチル−2−メチルシクロヘキシル−1,3−
ビス(メチルチオ)プロパン、2−イソプロピル−2−イソペンチル−1,3−
ビス(メチルチオ)プロパン、2,2−ビス(2−シクロヘキシルメチル)−1
,3−ビス(メチルチオ)プロパン等である。
、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ア
ミルアミン、イソアミルアミン、オクチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニ
リン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルア
ミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジアミルアミン、ジイソアミルア
ミン、ジオクチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン
、トリイソブチルアミン、トリアミルアミン、トリイソアミルアミン、トリオク
チルアミン、トリシクロヘキシルアミン、N−メチルアニリン、N−エチルアニ
リン、N−プロピルアニリン、N−イソプロピルアニリン、N−ブチルアニリン
、N−イソブチルアニリン、N−アミルアニリン、N−イソアミルアニリン、N
−オクチルアニリン、N−シクロヘキシルアニリン、N,N−ジメチルアニリン
、N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジプロピルアニリン、N,N−ジイソプ
ロピルアニリン、N,N−ジブチルアニリン、N,N−ジイソブチルアニリン、
N,N−ジアミルアニリン、N,N−ジイソアミルアニリン、N,N−ジオクチ
ルアニリン、N,N−ジシクロヘキシルアニリン、アゼチジン、1−メチルアゼ
チジン、1−エチルアゼチジン、1−プロピルアゼチジン、1−イソプロピルア
ゼチジン、1−ブチルアゼチジン、1−イソブチルアゼチジン、1−アミルアゼ
チジン、1−イソアミルアゼチジン、ピロリジン、1−メチルピロリジン、1−
エチルピロリジン、1−プロピルピロリジン、1−イソプロピルピロリジン、1
−ブチルピロリジン、1−イソブチルピロリジン、1−アミルピロリジン、1−
イソアミルピロリジン、1−オクチルピロリジン、1−シクロヘキシルピロリジ
ン、1−フェニルピロリジン、ピペリジン、1−メチルピペリジン、1−エチル
ピペリジン、1−プロピルピペリジン、1−イソプロピルピペリジン、1−ブチ
ルピペリジン、1−イソブチルピペリジン、1−アミルピペリジン、1−イソア
ミルピペリジン、1−オクチルピペリジン、1−シクロヘキシルピペリジン、1
−フェニルピペリジン、ピペラジン、1−メチルピペラジン、1−エチルピペラ
ジン、1−プロピルピペラジン、1−イソプロピルピペラジン、1−ブチルピペ
ラジン、1−イソブチルピペラジン、1−アミルピペラジン、1−イソアミルピ
ペラジン、1−オクチルピペラジン、1−シクロヘキシルピペラジン、1−フェ
ニルピペラジン、1,4−ジメチルピペラジン、1,4−ジエチルピペラジン、
1,4−ジプロピルピペラジン、1,4−ジイソプロピルピペラジン、1,4−
ジブチルピペラジン、1,4−ジイソブチルピペラジン、1,4−ジアミルピペ
ラジン、1,4−ジイソアミルピペラジン、1,4−ジオクチルピペラジン、1
,4−ジシクロヘキシルピペラジン、1,4−ジフェニルピペラジン等である。
酢酸エチル、酢酸ビニル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸
イソブチル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸エチル、吉草酸
エチル、クロロ酢酸メチル、ジクロロ酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロト
ン酸エチル、ピバル酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロ
ピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソブチル、安息香酸イソプロピル、安息香酸
オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、2
−メチル安息香酸メチル、2−メチル安息香酸エチル、2−メチル安息香酸プロ
ピル、2−メチル安息香酸イソプロピル、2−メチル安息香酸ブチル、2−メチ
ル安息香酸イソブチル、2−メチル安息香酸オクチル、2−メチル安息香酸シク
ロヘキシル、2−メチル安息香酸フェニル、2−メチル安息香酸ベンジル、3−
メチル安息香酸メチル、3−メチル安息香酸エチル、3−メチル安息香酸プロピ
ル、3−メチル安息香酸イソプロピル、3−メチル安息香酸ブチル、3−メチル
安息香酸イソブチル、3−メチル安息香酸オクチル、3−メチル安息香酸シクロ
ヘキシル、3−メチル安息香酸フェニル、3−メチル安息香酸ベンジル、4−メ
チル安息香酸メチル、4−メチル安息香酸エチル、4−メチル安息香酸プロピル
、4−メチル安息香酸イソプロピル、4−メチル安息香酸ブチル、4−メチル安
息香酸イソブチル、4−メチル安息香酸オクチル、4−メチル安息香酸シクロヘ
キシル、4−メチル安息香酸フェニル、4−メチル安息香酸ベンジル、o−クロ
ロ安息香酸メチル、o−クロロ安息香酸エチル、o−クロロ安息香酸プロピル、
o−クロロ安息香酸イソプロピル、o−クロロ安息香酸ブチル、o−クロロ安息
香酸イソブチル、o−クロロ安息香酸アミル、o−クロロ安息香酸イソアミル、
o−クロロ安息香酸オクチル、o−クロロ安息香酸シクロヘキシル、o−クロロ
安息香酸フェニル、o−クロロ安息香酸ベンジル、m−クロロ安息香酸メチル、
m−クロロ安息香酸エチル、m−クロロ安息香酸プロピル、m−クロロ安息香酸
イソプロピル、m−クロロ安息香酸ブチル、m−クロロ安息香酸イソブチル、m
−クロロ安息香酸アミル、m−クロロ安息香酸イソアミル、m−クロロ安息香酸
オクチル、m−クロロ安息香酸シクロヘキシル、m−クロロ安息香酸フェニル、
m−クロロ安息香酸ベンジル、p−クロロ安息香酸メチル、p−クロロ安息香酸
エチル、p−クロロ安息香酸プロピル、p−クロロ安息香酸イソプロピル、p−
クロロ安息香酸ブチル、p−クロロ安息香酸イソブチル、p−クロロ安息香酸ア
ミル、p−クロロ安息香酸イソアミル、p−クロロ安息香酸オクチル、p−クロ
ロ安息香酸シクロヘキシル、p−クロロ安息香酸フェニル、p−クロロ安息香酸
ベンジル、マレイン酸ジメチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル
酸ジプロピル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸メチルエチ
ル、フタル酸メチルプロピル、フタル酸メチルブチル、フタル酸メチルイソブチ
ル、フタル酸エチルプロピル、フタル酸エチルブチル、フタル酸エチルイソブチ
ル、フタル酸プロピルブチル、フタル酸プロピルイソブチル、テレフタル酸ジメ
チル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジプロピル、テレフタル酸ジブチル
、テレフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸メチルエチル、テレフタル酸メチル
プロピル、テレフタル酸メチルブチル、テレフタル酸メチルイソブチル、テレフ
タル酸エチルプロピル、テレフタル酸エチルブチル、テレフタル酸エチルイソブ
チル、テレフタル酸プロピルブチル、テレフタル酸プロピルイソブチル、イソフ
タル酸ジメチル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジプロピル、イソフタル
酸ジブチル、イソフタル酸ジイソブチル、イソフタル酸メチルエチル、イソフタ
ル酸メチルプロピル、イソフタル酸メチルブチル、イソフタル酸メチルイソブチ
ル、イソフタル酸エチルプロピル、イソフタル酸エチルブチル、イソフタル酸エ
チルイソブチル、イソフタル酸プロピルブチル、イソフタル酸プロピルイソブチ
ル等である。
酢酸エチル、チオ酢酸プロピル、チオ酢酸イソプロピル、チオ酢酸ブチル、チオ
酢酸イソブチル、チオ酢酸アミル、チオ酢酸イソアミル、チオ酢酸オクチル、チ
オ酢酸シクロヘキシル、チオ酢酸フェニル、チオ酢酸2−クロロエチル、チオ酢
酸3−クロロプロピル、チオ安息香酸メチル、チオ安息香酸エチル、チオ安息香
酸プロピル、チオ安息香酸イソプロピル、チオ安息香酸ブチル、チオ安息香酸イ
ソブチル、チオ安息香酸アミル、チオ安息香酸イソアミル、チオ安息香酸オクチ
ル、チオ安息香酸シクロヘキシル、チオ安息香酸フェニル、チオ安息香酸2−ク
ロロエチル、チオ安息香酸3−クロロプロピル等である。
、プロピオンアミド、イソブチルアミド、トリメチルアセトアミド、ヘキサノア
ミド、オクタデカンアミド、シクロヘキサンカルボキサミド、1−アダマンタン
カルボキサミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、2−フルオロアセトアミ
ド、2−クロロアセトアミド、2−ブロモアセトアミド、2,2−ジクロロアセ
トアミド、2,2,2−トリフルオロアセトアミド、2,2,2−トリクロロア
セトアミド、2−クロロプロピオンアミド、ベンズアミド、N−メチルホルムア
ミド、N−エチルホルムアミド、N−プロピルホルムアミド、N−ブチルホルム
アミド、N−イソブチルホルムアミド、N−アミルホルムアミド、N−シクロヘ
キシルホルムアミド、ホルムアニリド、N−メチルアセトアミド、N−エチルア
セトアミド、N−プロピルアセトアミド、N−ブチルアセトアミド、N−イソブ
チルアセトアミド、N−アミルアセトアミド、N−シクロヘキシルアセトアミド
、アセトアニリド、N−メチルプロピオンアミド、N−エチルプロピオンアミド
、N−プロピルプロピオンアミド、N−ブチルプロピオンアミド、N−イソブチ
ルプロピオンアミド、N−アミルプロピオンアミド、N−シクロヘキシルプロピ
オンアミド、N−フェニルプロピオンアミド、N−メチルイソブチルアミド、N
−メチルトリメチルアセトアミド、N−メチルヘキサノアミド、N−メチルオク
タデカンアミド、N−メチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N
−メチル−2−フルオロアセトアミド、N−メチル−2−クロロアセトアミド、
N−メチル−2−ブロモアセトアミド、N−メチル−2,2−ジクロロアセトア
ミド、N−メチル−2,2,2−トリフルオロアセトアミド、N−メチル−2,
2,2−トリクロロアセトアミド、N−メチル−2−クロロプロピオンアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジイ
ソプロピルホルムアミド、N,N−ジブチルホルムアミド、N−メチルホルムア
ニリド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,
N−ジイソプロピルアセトアミド、N,N−ジブチルアセトアミド、N−メチル
アセトアニリド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジエチルプロピ
オンアミド、N,N−ジイソプロピルプロピオンアミド、N,N−ジブチルプロ
ピオンアミド、N,N−ジメチルイソブチルアミド、N,N−ジメチルトリメチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルヘキサノアミド、N,N−ジメチルオクタデ
カンアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルア
ミド、N,N−ジメチル−2−フルオロアセトアミド、N,N−ジメチル−2−
クロロアセトアミド、N,N−ジメチル−2−ブロモアセトアミド、N,N−ジ
メチル−2,2−ジクロロアセトアミド、N,N−ジメチル−2,2,2−トリ
フルオロアセトアミド、N,N−ジエチル−2,2,2−トリフルオロアセトア
ミド、N,N−ジイソプロピル−2,2,2−トリフルオロアセトアミド、N,
N−ジブチル−2,2,2−トリフルオロアセトアミド、N,N−ジメチル−2
,2,2−トリクロロアセトアミド、N,N−ジエチル−2,2,2−トリクロ
ロアセトアミド、N,N−ジイソプロピル−2,2,2−トリクロロアセトアミ
ド、N,N−ジブチル−2,2,2−トリクロロアセトアミド、N,N−ジメチ
ル−2−クロロプロピオンアミド、1−アセチルアゼチジン、1−アセチルピロ
リジン、1−アセチルピペリジン、1−アセチルピペラジン、1−アセチルピペ
ラジン、1,4−ジアセチルピペラジン等である。
物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物、吉草酸無水物、トリメチル酢酸無水物、ヘキ
サン酸無水物、ヘプタン酸無水物、デカン酸無水物、ラウリン酸無水物、ミリス
チン酸無水物、パルミチン酸無水物、ステアリン酸無水物、ドコサン酸無水物、
クロトン酸無水物、メタクリル酸無水物、オレイン酸無水物、リノール酸無水物
、クロロ酢酸無水物、ヨード酢酸無水物、ジクロロ酢酸無水物、トリフルオロ酢
酸無水物、クロロジフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物、ペンタフルオ
ロプロピオン酸無水物、ヘプタフルオロ酪酸無水物、無水コハク酸、メチルコハ
ク酸無水物、2,2−ジメチルコハク酸無水物、イタコン酸無水物、無水マレイ
ン酸、グルタル酸無水物、ジグリコール酸無水物、安息香酸無水物、フェニルコ
ハク酸無水物、フェニルマレイン酸無水物、ホモフタル酸無水物、イサト酸無水
物、無水フタル酸、テトラフルオロフタル酸無水物、テトラブロモフタル酸無水
物等である。
チル、塩化クロロアセチル、塩化ジクロロアセチル、塩化トリクロロアセチル、
塩化トリフルオロアセチル、塩化トリブロモアセチル、塩化プロピオニル、臭化
プロピオニル、塩化ブチリル、塩化イソブチリル、塩化トリメチルアセチル、塩
化3−シクロペンチルプロピオニル、塩化2−クロロプロピオニル、塩化3−ク
ロロプロピオニル、塩化tert−ブチルアセチル、塩化イソバレリル、塩化ヘ
キサノイル、塩化ヘプタノイル、塩化デカノイル、塩化ラウロイル、塩化ミリス
トイル、塩化パルミトイル、塩化ステアロイル、塩化オレオイル、塩化シクロペ
ンタンカルボニル、塩化オキサリル、二塩化マロニル、塩化スクシニル、二塩化
グルタリル、塩化アジポイル、塩化ピメロイル、塩化スベロイル、塩化アゼラオ
イル、塩化セバコイル、二塩化ドデカンジオイル、塩化メトキシアセチル、塩化
アセトキシアセチル等である。
トアルデヒド、プロピオンアルデヒド、イソブチルアルデヒド、トリメチルアセ
トアルデヒド、ブチルアルデヒド、2−メチルブチルアルデヒド、バレルアルデ
ヒド、イソバレルアルデヒド、ヘキサナール、2−エチルヘキサナール、ヘプタ
アルデヒド、デシルアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、メタクロ
レイン、2−エチルアクロレイン、クロロアセトアルデヒド、ヨードアセトアル
デヒド、ジクロロアセトアルデヒド、トリフルオロアセトアルデヒド、クロロジ
フルオロアセトアルデヒド、トリクロロアセトアルデヒド、ペンタフルオロプロ
ピオンアルデヒド、ヘプタフルオロブチルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、o−トルアルデヒド、m−トリアルデヒド、p−トルア
ルデヒド、トランス−シンナムアルデヒド、トランス−2−ニトロシンナムアル
デヒド、2−ブロモベンズアルデヒド、2−クロロベンズアルデヒド、3−クロ
ロベンズアルデヒド、4−クロロベンズアルデヒド等である。
−メチル−2−ブタノン、ピナコロン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、3−
メチル−2−ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノン、2−メチル−3−ペン
タノン、4,4−ジメチル−2−ペンタノン、2,4−ジメチル−3−ペンタノ
ン、2,2,4,4−テトラメチル−3−ペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘ
キサノン、5−メチル−2−ヘキサノン、2−メチル−3−ヘキサノン、2−ヘ
プタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−メチル−3−ヘプタノン、5
−メチル−3−ヘプタノン、2,6−ジメチル−4−ヘプタノン、2−オクタノ
ン、3−オクタノン、4−オクタノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、メシ
チルオキシド、ヘキサフルオロアセトン、ペルフルオロ−2−ブタノン、1,1
,1−トリクロロアセトン等である。
、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ヘキサノー
ル、ヘプタノール、オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコール、2
−エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、クミルアルコール、オレイ
ルアルコール、ジフェニルメタノール、トリフェニルメタノール、フェノール、
クレゾール、エチルフェノール、プロピルフェノール、クミルフェノール、ナフ
トール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等である。
ニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル、イソバレロ
ニトリル、トリメチルアセトニトリル、ヘキサンニトリル、ヘプタンニトリル、
ヘプチルシアニド、オクチルシアニド、ウンデカンニトリル、マロノニトリル、
スクシノニトリル、グルタロニトリル、アジポニトリル、セバコニトリル、アリ
ルシアニド、アクリロニトリル、クロトンニトリル、メタクリロニトリル、フマ
ロニトリル、テトラシアノエチレン、シクロペンタンカルボニトリル、シクロヘ
キサンカルボニトリル、ジクロロアセトニトリル、フルオロアセトニトリル、ト
リクロロアセトニトリル、ベンゾニトリル、ベンジルシアニド、2−メチルベン
ジルシアニド、2−クロロベンゾニトリル、3−クロロベンゾニトリル、4−ク
ロロベンゾニトリル、o−トリニトリル、m−トリニトリル、p−トルニトリル
等である。
トリエチルホスフィン、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、ヘ
キサメチルリントリアミド(hexamethylphosphorus tr
iamide)、ヘキサメチルホスホルアミド、トリピペリジノホスフィンオキ
シド、トリフェニルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、トリ−m−トリ
ルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、エ
チルジフェニルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、アリルジフェ
ニルホスフィン、シクロヘキシルジフェニルホスフィン、ベンジルジフェニルホ
スフィン、ジ−tert−ブチルジメチルホスホルアミダイト(di−tert
−butyl dimethylphosphoramidite)、ジ−te
rt−ブチルジエチルホスホルアミダイト、ジ−tert−ブチルジイソプロピ
ルホスホルアミダイト、ジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト等である。
オルトケイ酸テトラエチル、オルトケイ酸テトラプロピル、オルトケイ酸テトラ
ブチル、トリクロロメトキシシラン、トリクロロエトキシシラン、トリクロロプ
ロポキシシラン、トリクロロイソプロポキシシラン、トリクロロブトキシシラン
、トリクロロイソブトキシシラン、ジクロロジメトキシシラン、ジクロロジエト
キシシラン、ジクロロジプロポキシシラン、ジクロロジイソプロポキシシラン、
ジクロロジブトキシシラン、ジクロロジイソブトキシシラン、クロロトリメトキ
シシラン、クロロトリエトキシシラン、クロロトリプロポキシシラン、クロロト
リイソプロポキシシラン、クロロトリブトキシシラン、クロロトリイソブトキシ
シラン、ジメチルメトキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジプロピルメトキ
シシラン、ジイソプロピルメトキシシラン、ジブチルメトキシシラン、ジイソブ
チルメトキシシラン、ジペンチルメトキシシラン、ジシクロペンチルメトキシシ
ラン、ジヘキシルメトキシシラン、ジシクロヘキシルメトキシシラン、ジフェニ
ルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジエチルエトキシシラン、ジプロ
ピルエトキシシラン、ジイソプロピルエトキシシラン、ジブチルエトキシシラン
、ジイソブチルエトキシシラン、ジペンチルエトキシシラン、ジシクロペンチル
エトキシシラン、ジヘキシルエトキシシラン、ジシクロヘキシルエトキシシラン
、ジフェニルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシ
シラン、トリプロピルメトキシシラン、トリイソプロピルメトキシシラン、トリ
ブチルメトキシシラン、トリイソブチルメトキシシラン、トリペンチルメトキシ
シラン、トリシクロペンチルメトキシシラン、トリヘキシルメトキシシラン、ト
リシクロヘキシルメトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリメチルエ
トキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリ
イソプロピルエトキシシラン、トリブチルエトキシシラン、トリイソブチルエト
キシシラン、トリペンチルエトキシシラン、トリシクロペンチルエトキシシラン
、トリヘキシルエトキシシラン、トリシクロヘキシルエトキシシラン、トリフェ
ニルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、
ジプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジブチルジメ
トキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ジペンチルジメトキシシラン、
ジシクロペンチルジメトキシシラン、ジヘキシルジメトキシシラン、ジシクロヘ
キシルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジエチルジエトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピ
ルジエトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジエトキシシラ
ン、ジペンチルジエトキシシラン、ジシクロペンチルジエトキシシラン、ジヘキ
シルジエトキシシラン、ジシクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、シクロペンチルメチルジメトキシシラン、シクロペンチルエチルジ
メトキシシラン、シクロペンチルプロピルジメトキシシラン、シクロペンチルメ
チルジエトキシシラン、シクロペンチルエチルジエトキシシラン、シクロペンチ
ルプロピルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロ
ヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシルプロピルジメトキシシラン、
シクロヘキシルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルエチルジエトキシシラ
ン、シクロヘキシルプロピルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エ
チルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシ
ラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチ
ルトリメトキシシラン、tert−ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、ノルボルナントリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシ
シラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブ
チルトリエトキシシラン、tert−ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、ノルボルナントリエトキシシラン、2,3−ジメチル−2−(
トリメトキシシリル)ブラン、2,3−ジメチル−2−(トリエトキシシリル)
ブタン、2,3−ジメチル−2−(トリプロポキシシリル)ブタン、2,3−ジ
メチル−2−(トリイソプロポキシシリル)ブタン、2,3−ジメチル−2−(
トリメトキシシリル)ペンタン、2,3−ジメチル−2−(トリエトキシシリル
)ペンタン、2,3−ジメチル−2−(トリプロポキシシリル)ペンタン、2,
3−ジメチル−2−(トリイソプロポキシシリル)ペンタン、2−メチル−3−
エチル−2−(トリメトキシシリル)ペンタン、2−メチル−3−エチル−2−
(トリエトキシシリル)ペンタン、2−メチル−3−エチル−2−(トリプロポ
キシシリル)ペンタン、2−メチル−3−エチル−2−(トリイソプロポキシシ
リル)ペンタン、2,3,4−トリメチル−2−(トリメトキシシリル)ペンタ
ン、2,3,4−トリメチル−2−(トリエトキシシリル)ペンタン、2,3,
4−トリメチル−2−(トリプロポキシシリル)ペンタン、2,3,4−トリメ
チル−2−(トリイソプロポキシシリル)ペンタン、2,3−ジメチル−2−(
トリメトキシシリル)ヘキサン、2,3−ジメチル−2−(トリエトキシシリル
)ヘキサン、2,3−ジメチル−2−(トリプロポキシシリル)ヘキサン、2,
3−ジメチル−2−(トリイソプロポキシシリル)ヘキサン、2,4−ジメチル
−3−エチル−2−(トリメトキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−
エチル−2−(トリエトキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−エチル
−2−(トリプロポキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−エチル−2
−(トリイソプロポキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−イソプロピ
ル−2−(トリメトキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−イソプロピ
ル−2−(トリエトキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−イソプロピ
ル−2−(トリプロポキシシリル)ペンタン、2,4−ジメチル−3−イソプロ
ピル−2−(トリイソプロポキシシリル)ペンタン、ヘキサメチルジシロキサン
、1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン等である。
酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸
、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、エイコサン酸、ヘ
ンエイコサン酸、ヘプタコサン酸、イソ酪酸、2−エチル酪酸、トリメチル酪酸
、2−メチル酪酸、2,2−ジメチル酪酸、シュウ酸、マロン酸、メチルマロン
酸、エチルマロン酸、ブチルマロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、2−メチ
ルコハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、2−エチル−2−メチルコハク酸、2
,3−ジメチルコハク酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、3−メチルグル
タル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、2,3−ジメチルグルタル酸、3,3−
ジメチルグルタル酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、チ
グリン酸、6−ヘプテン酸、シトロネリン酸(citronellic aci
d)、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フルオロ酢酸、ジフルオロ
酢酸、トリフルオロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、安息香酸、o−トルイル酸、
m−トルイル酸、p−トルイル酸、2−フルオロ安息香酸、3−フルオロ安息香
酸、4−フルオロ安息香酸、2−エトキシ安息香酸、3−エトキシ安息香酸、4
−エトキシ安息香酸、2−メトキシ安息香酸、3−メトキシ安息香酸、4−メト
キシ安息香酸、2−エチル安息香酸、3−エチル安息香酸、4−エチル安息香酸
、4−ビニル安息香酸、2−プロピル安息香酸、2−イソプロピル安息香酸、2
−ブチル安息香酸、2−イソブチル安息香酸、2−tert−ブチル安息香酸等
である。
として使用することもできる。
である。
使用される有機金属共触媒化合物は、前記元素周期表の第1族、第2族、第11
族、第12族、第13族及び第14族の金属を含む任意の有機金属化合物であっ
てよい。このような金属の例は、リチウム、マグネシウム、銅、亜鉛、ホウ素、
ケイ素等である。しかしながら、プレポリマーを使用するとき、TMAを重合媒
体中で共触媒としてなお使用する。
電子供与体及びTMA共触媒成分に加えて、他の一般的な成分が含有されていて
よい。例えば、当該技術分野で公知の任意のマグネシウム化合物、任意のハロゲ
ン化炭化水素(群)等を添加することができる。
ることができる。この触媒は、溶液、スラリー又は乾燥した自由流動粉末の形で
あってよい。使用するチーグラー−ナッタ触媒の量は、所望量のポリエチレンの
製造を可能にするのに十分なものである。
成するために十分な任意の量で重合媒体に添加される。チーグラー−ナッタ触媒
の遷移金属成分に対するTMAのモル比1:1〜約100:1で、TMAを含有
させることが好ましい。更に好ましい態様に於いて、TMAの遷移金属成分に対
するモル比は、約1:1〜約50:1の範囲内である。
。例えば、外部電子供与体は、予備生成した触媒に、予備重合工程の間にプレポ
リマーに、予備生成されたプレポリマーに及び/又は重合媒体に添加することが
できる。外部電子供与体は、任意に、TMA共触媒と予備混合することができる
。外部電子供与体は、所望のポリエチレンの製造を達成するために十分な任意の
量で添加される。チーグラー−ナッタ触媒の遷移金属成分に対する外部電子供与
体のモル比約0.01:1〜約100:1で、外部電子供与体を含有させること
が好ましい。更に好ましい態様に於いて、外部電子供与体の遷移金属成分に対す
るモル比は、約0.1:1〜約50:1の範囲内である。
ている他の一般的な添加剤を添加することができる。特に、前に記載したもの、
好ましくは、クロロホルムを含む、任意のハロゲン化炭化水素を添加することが
できる。チーグラー−ナッタ触媒の遷移金属成分に対するハロゲン化炭化水素の
モル比は、好ましくは、約0.001:1〜約1:1の範囲内である。
えば、水素を使用することによって制御することができる。分子量制御は、重合
媒体中での水素のエチレンに対するモル比が増加したとき、ポリマーのメルトイ
ンデックス(I2 )に於ける増加によって証明することができる。
に加工することができる。例えば、フィルムは、公知の流延フィルム、吹込成形
フィルム及び押出被覆技術により製造することができる。
の製造物品に加工することができる。
う。勿論、本発明が十分に開示されたとき当業者に自明になるような、多数の本
発明の他の形が存在し、従って、これらの実施例は例示の目的のみのために示さ
れ、如何なる方法に於いても本発明の範囲を限定するものとして解釈されるべき
ではないことを理解されたい。
円筒からなり、速度低下チャンバーが上に設けられている、気相重合用流動床反
応器内で実施する。この反応器には、その下部に流動化格子が設けられ、そして
速度低下チャンバーの頂部を流動化格子より下の点で反応器の下部に接続する、
気体を再循環させるための外部ラインが設けられている。この再循環ラインには
、気体を循環させるための圧縮機及び熱交換器のような熱移動手段が備えられて
いる。詳しくは、流動床を通過する気体状反応混合物の主な構成成分を表す、エ
チレン;1−ブテン、1−ペンテン及び1−ヘキセンのようなオレフィン;水素
並びに窒素を供給するためのラインは、再循環ラインの中に供給される。流動化
格子の上で、反応器には、約0.5mm〜約1.4mmの重量平均直径を有する
粒子から作られたポリエチレン粉末からなる流動床が含まれている。エチレン、
オレフィンコモノマー、水素、窒素及び少量の他の成分を含有する気体状反応混
合物は、約290psig〜約300psigの範囲内の圧力下で、約1.8フ
ィート/秒〜約2.0フィート/秒の範囲内の上昇する流動化速度(本明細書で
は、流動化速度と言う)で流動床を通過する。
ッタ触媒を、間欠的に反応器の中に導入する。この触媒には、マグネシウム、塩
素、チタン及び内部電子供与体が含まれている。反応器の中への触媒の導入速度
は、所望の製造速度を得るようにそれぞれの所定の組の条件について調節される
。重合の間に、n−ヘキサン中のトリメチルアルミニウム(TMA)の溶液を、
連続的に、熱移動手段の下流に位置する点で、気体状反応混合物を再循環するた
めのラインの中に導入する。TMAの供給速度は、TMAのチタンに対するモル
比(TMA/Ti)として表し、これはTMA供給速度(1時間当たりのTMA
のモル数で)の、触媒供給速度(1時間当たりのチタンのモル数で)に対する比
として定義される。同時に、約0.5重量%の濃度でのn−ヘキサン中のクロロ
ホルム(CHCl3 )の溶液を、連続的に、気体状反応混合物を再循環するため
のラインの中に導入する。CHCl3 の供給速度は、CHCl3 のチタンに対す
るモル比(CHCl3 /Ti)として表し、これはCHCl3 供給速度(1時間
当たりのCHCl3 のモル数で)の、触媒供給速度(1時間当たりのチタンのモ
ル数で)に対する比として定義される。
ED/Ti)として表し、これはeED供給速度(1時間当たりのeEDのモル
数で)の、触媒供給速度(1時間当たりのTiのモル数で)に対する比として定
義される。
加された触媒のポンド数の比である。触媒の活性は、ポリエチレンのグラム数/
チタンのミリモル数/時/エチレン圧力のバールとして表す。
ネシウム、チタン、塩素及び内部電子供与体としてのTHF(テトラヒドロフラ
ン)を含有するチーグラー−ナッタ型触媒を添加する。TMAは、チーグラー−
ナッタ触媒を活性化するために十分な量で添加する。THFは、外部電子供与体
として重合工程に添加する。線状ポリエチレンが得られる。
内部電子供与体としてフタル酸ジブチルが含有されている以外は、例1の方法に
従う。線状ポリエチレンが得られる。
触媒に内部電子供与体としてオルトケイ酸テトラエチルが含有されている以外は
、例1の方法に従う。線状ポリエチレンが得られる。
ッタ触媒に内部電子供与体としてエタノールが含有されている以外は、例1の方
法に従う。線状ポリエチレンが得られる。
ドが含有されている以外は、例1の方法に従う。線状ポリエチレンが得られる。
−ナッタ触媒に内部電子供与体としてヘキサメチルリントリアミドが含有されて
いる以外は、例1の方法に従う。線状ポリエチレンが得られる。
−ナッタ触媒に内部電子供与体としてN,N−ジイソプロピルアニリンが含有さ
れている以外は、例1の方法に従う。線状ポリエチレンが得られる。
内部電子供与体としてトリフルオロアセトアルデヒドが含有されている以外は、
例1の方法に従う。線状ポリエチレンが得られる。
触媒に内部電子供与体としてピナコロンが含有されている以外は、例1の方法に
従う。線状ポリエチレンが得られる。
与体としてアセトニトリルが含有されている以外は、例1の方法に従う。線状ポ
リエチレンが得られる。
任意の方法によって、フィルムを容易に製造することができる。
ことを意図しないことを、明瞭に理解されたい。本発明には、特許請求の範囲内
に入る全ての修正が含まれる。
Claims (27)
- 【請求項1】 エチレン並びに/又はエチレン及び少なくとも1種若しくは
それ以上の他のオレフィンを、少なくとも1種又はそれ以上の内部電子供与体(
但し、この内部電子供与体は、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属化合物に対
する内部電子供与体のモル比1:1〜約1000:1で存在する)、トリメチル
アルミニウム並びに式1: R1 −CH2 −O−CH2 −R2 、 式2: 【化1】 式3: R5 −O−R6 及び式4: R7 −O(−R8 −O)n−R9 (式中、nは1〜30の範囲内であり、 R1 及びR2 は独立に、水素、1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素
周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選択された
元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含む飽和及び不飽和脂肪族基並びに1〜
30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15
族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物
を含む置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、 R3 及びR4 は結合して、環式又は多環式構造の一部を形成し、そして、1〜
30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第14族、第15
族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物
を含有する飽和及び不飽和脂肪族基並びに1〜30個の炭素原子及び0〜30個
の、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選
択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する置換及び非置換芳香族
基からなる群から独立に選択された炭化水素であり、 R5 は1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第1
4族、第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこ
れらの混合物を含有する置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれ、 R6 、R7 、R8 及びR9 は、独立に、1〜30個の炭素原子及び0〜30個
の、元素周期表の第13族、第14族、第15族、第16族及び第17族から選
択された元素のヘテロ原子又はこれらの混合物を含有する飽和及び不飽和脂肪族
基並びに1〜30個の炭素原子及び0〜30個の、元素周期表の第13族、第1
4族、第15族、第16族及び第17族から選択された元素のヘテロ原子又はこ
れらの混合物を含有する置換及び非置換芳香族基からなる群から選ばれる) からなる群から選択された、少なくとも1個の炭素−酸素−炭素結合(C−O−
C)を含有する、少なくとも1種又はそれ以上の外部電子供与体化合物を含むチ
ーグラー−ナッタ型触媒と、重合条件下に接触させることを含んでなる、エチレ
ン並びに/又はエチレン及び少なくとも1種若しくはそれ以上の他のオレフィン
の重合方法。 - 【請求項2】 少なくとも1種又はそれ以上の内部電子供与体がエーテル、
チオエーテル、アミン、エステル、チオエステル、アミド、無水物、酸ハライド
、アルデヒド、ケトン、アルコール、ニトリル、ホスフィン、シラン及びカルボ
ン酸からなる群から選択される請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 少なくとも1種又はそれ以上の内部電子供与体がエーテル、
エステル、アルコール及びシランからなる群から選ばれる請求項2に記載の方法
。 - 【請求項4】 少なくとも1種又はそれ以上の外部電子供与体化合物がテト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、ジオクチルエーテル、トリメチレンオキシド及びテト
ラヒドロピランからなる群から選ばれる請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 ハロゲン化炭化水素の存在を更に含んでなる請求項1に記載
の方法。 - 【請求項6】 ハロゲン化炭化水素がクロロホルムである請求項5に記載の
方法。 - 【請求項7】 チーグラー−ナッタ型触媒が、遷移金属化合物(但し、金属
は、本明細書で定義した、元素周期表の第4族、第5族、第6族、第7族、第8
族、第9族及び第10族の金属から選ばれる)を含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 遷移金属化合物の金属がチタン、ジルコニウム、バナジウム
及びクロムからなる群から選ばれる請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 遷移金属化合物の金属がチタンである請求項8に記載の方法
。 - 【請求項10】 チーグラー−ナッタ型触媒中にマグネシウム及び塩素の存
在を更に含んでなる請求項1に記載の方法。 - 【請求項11】 チーグラー−ナッタ型触媒中に含まれるマグネシウム及び
塩素の存在を更に含んでなる請求項7に記載の方法。 - 【請求項12】 ハロゲン化炭化水素を、チーグラー−ナッタ型触媒の遷移
金属成分に対するハロゲン化炭化水素のモル比約0.001:1〜約1:1の範
囲で添加する請求項5に記載の方法。 - 【請求項13】 トリメチルアルミニウムを、チーグラー−ナッタ型触媒の
遷移金属成分に対するトリメチルアルミニウムのモル比約1:1〜約100:1
の範囲で添加する請求項1に記載の方法。 - 【請求項14】 チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対するトリメ
チルアルミニウムのモル比が約1:1〜約50:1の範囲内である請求項13に
記載の方法。 - 【請求項15】 外部電子供与体化合物をチーグラー−ナッタ型触媒の遷移
金属成分に対する外部電子供与体化合物のモル比約0.01:1〜約100:1
の範囲で添加する請求項1に記載の方法。 - 【請求項16】 チーグラー−ナッタ型触媒の遷移金属成分に対する外部電
子供与体化合物のモル比が、約0.1:1〜約50:1の範囲内で添加する請求
項15に記載の方法。 - 【請求項17】 重合条件が気相である請求項1に記載の方法。
- 【請求項18】 重合条件が溶液相である請求項1に記載の方法。
- 【請求項19】 重合条件がスラリー相である請求項1に記載の方法。
- 【請求項20】 少なくとも1種又はそれ以上の他のオレフィンが、炭素数
3〜16のオレフィンである請求項1に記載の方法。 - 【請求項21】 少なくとも1種又はそれ以上の他のオレフィンが1−オク
テン、1−ヘキセン、4−メチルペント−1−エン、1−ペンテン、1−ブテン
及びプロピレンからなる群から選ばれる請求項20に記載の方法。 - 【請求項22】 エチレン及び少なくとも1種又はそれ以上の他のオレフィ
ンの重合から得られるコポリマーが、コポリマーの少なくとも約70重量%の量
のエチレンを含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項23】 チーグラー−ナッタ型触媒がチタン、マグネシウム及び塩
素を含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項24】 ハロゲン化炭化水素の存在を更に含む請求項23に記載の
方法。 - 【請求項25】 重合条件が気相である請求項23に記載の方法。
- 【請求項26】 請求項1に記載の方法に従って製造されたポリエチレンか
ら加工されたフィルム。 - 【請求項27】 請求項1に記載の方法に従って製造されたポリエチレンか
ら加工された物品。
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