JP2002531300A - 滅菌可能な包装用複合フイルム - Google Patents
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Abstract
Description
透過を遮断する優れた効果を有する包装用複合フイルムであって、実質的な構成
要素として無機物質の気化により製造されるSiOXを含有する遮断層を備える
包装用複合フイルムに関する。前記複合フイルムの製造方法及びその使用法も本
発明の範囲内に入る。
包装された状態で滅菌される。これを達成するために、包装された充填物は13
0℃以下の熱水又は水蒸気中においてオートクレーブで滅菌することにより包装
された容器内で短時間加熱される。
後において水蒸気、酸素及び香気に対する十分な遮断特性にしばしば欠ける。こ
れらの複合フイルムの例はエチルビニルアルコール(EVOH)及びEVOHと
ポリエチレン(PE)との共重合体であり、その遮断特性は極めて湿潤した状態
で劣化して、乳状の外観を示す。良好な遮断特性は一酸化ケイ素を付与されたポ
リエチレンテレフタレートフイルムを被覆することにより達成されるが、高温で
加熱されると、これらのフイルムは黄色に変色するだけでなく、遮断特性も低下
する。
滅菌処理後において水蒸気、酸素及び香気に対する改良された遮断特性を示す上
述の形式の複合フイルムを形成することである。
共有押出し成形された層を少なくとも1側面上に有するポリエチレンテレフタレ
ート(PET)のフイルムを含む複合フイルムであって、前記PETフイルムは
前記PENが被覆された側面の少なくとも1つの上にSiOXから成る厚さ10
〜200nmのセラミック層を有し、ここでxは0.9〜2の数であり、前記セ
ラミック層は真空中で二酸化ケイ素(SiO2)及び金属ケイ素を同時に気化す
ることにより製造されることを特徴とする前記複合フイルムにより達成される。
ン‐2,6‐ナフタレート構成単位及び40重量%までのエチレンテレフタレー
ト、及び/又は脂環式又は芳香族ジオール、及び/又はジ炭酸から成る重合体の
混合物をも意味するために使用される。
構成単位及び35重量%までのエチレンテレフタレート構成単位から成る重合体
を有する。少なくとも70重量%のエチレン‐2,6‐ナフタレート構成単位及
び30重量%までのエチレンテレフタレート構成単位から成る重合体を有するP
EN層が特に好ましい。しかしながら上述のように、前記PEN層は全てがエチ
レン‐2,6‐ナフタレートから構成されてもよい。
コール、一般式のHO‐(CH2)n‐OH(ここでnは3〜6の整数である)の
脂肪族グリコール(特に、プロパン‐1,3‐ジオール、ブタン‐1,4‐ジオ
ール、ペンタン‐1,5‐ジオール、及びヘキサン‐1,6‐ジオール)又は6
個までの炭素原子を有する側鎖脂肪族グリコールである。好ましい脂環式ジオー
ルはシクロヘキサンジオール(特にシクロヘキサン‐1,4‐ジオール)を含む
。その他の好ましい芳香族ジオールは、例えば化学式のHO‐C6H4‐X‐C6
H4‐OH(ここでXは‐CH2‐、‐C(CH3)2‐、‐C(CF3)2‐、‐O
‐、‐S‐、又はSO2を示す)を含む。その他にも化学式のHO‐C6H4‐C6 H4‐OHのビスフェノールが適当である。
レン‐1,4又は1,6‐ジ炭酸)、ビフェニル‐x,x´‐ジ炭酸(特に、ビ
フェニル‐4,4´‐ジ炭酸)、ジフェニルアセチレン‐x,x´‐ジ炭酸(特
に、ジフェニルアセチレン‐4,4´‐ジ炭酸)又はスチルベン‐x,x´‐ジ
炭酸である。脂環式ジ炭酸の中で、シクロヘキサンジ炭酸は重要である。脂肪族
ジ炭酸の中で、(C3〜C19)アルカンジ‐酸はそのアルカン部分が直鎖中にあ
るか、又は分枝している場合に、特に適している。
付けられることが好ましく、この場合、粘着防止剤を含有する別のPET層を前
記PEN層の反対側に取付けることができる。
SiOXのセラミック層の好ましい厚さは40〜150nmである。 第1の好ましい態様では、SiOXセラミック層のxは0.9〜1.2の範囲
の数である。滅菌後において、このように被覆されたフイルムは僅かな黄色を示
すが、従来のフイルムよりも10倍も優れた酸素遮断性を有する。
5〜1.8の範囲の数である。このように被覆されたフイルムは滅菌後の遮断特
性が更に優れており、特に変色を示さない。
たPEN/PETフイルムに加えて、別のフイルム、例えば、PET又は延伸ポ
リアミド(oPA)から成るフイルムを含有してもよい。また前記複合フイルム
は、その封止能力を制御するために、例えばポリプロピレン(PP)又はポリエ
チレン(PE)から成る封止層で被覆されてもよい。別個のフイルムを接合して
複合フイルムにすることは一般にポリウレタンに基づく積層接着剤の手段により
達成される。
気化法により前記PEN/PETフイルム上に堆積できる。このような場合、前
記セラミック層は界面層として複合フイルムのPEN被覆側面上に配置されて、
別のフイルム層又は積層接着剤により被覆される。
数である)から成る厚さ10〜200nmのセラミック層が真空中で二酸化ケイ
素(SiO2)及び金属ケイ素を同時に気化することにより堆積する。セラミッ
ク層を被覆されたフイルムは次いで印刷可能な別のフイルムを積層されて複合フ
イルムが形成される。
気化することが望ましい。 セラミックSiOX層(ここで、xは1.3〜2の数である)を製造するため
に、Al2O3、B2O3、及びMgOのような別の物質を気化する物質としてSi
O2に対して50モル%以下、好ましくは5〜30モル%の量で添加できる。
はMgであり、これらは単体で又はSi合金としてSiに対して50モル%以下
、好ましくは5〜30モル%の量で添加される。
定量的比率は、例えば、気化した物質中の純粋酸化物の合計量に対して化学量論
的に10〜30%の酸素不足を与えるように設定される。
気化速度、基板上の堆積速度、及び真空室雰囲気中の基板の露出時間により制御
される。
いて、SiO2及びSiを同時に気化する代わりに、一酸化ケイ素(SiO)を
気化できる。
蒸気及び酸素に対する遮断特性が更に改良される。 本発明の複合フイルムは香料袋のようなフレキシブルな包装物及び封止容器用
の被覆材料の製造に特に適している。本発明の複合フイルムの特に好ましい用途
は90℃を超える温度の水浴又は水蒸気中で包装された状態で滅菌される基本的
及びぜいたくな食品商品の包装用である。
使用に適している。 酸素及び水蒸気に対する遮断効果に関し、本発明の複合フイルムが今日用いら
れている通常の材料に比較して優れていることが下記の表1及び表2にまとめら
れた測定結果に示される。
されたPET(12μm)‐PEN(1μm) 4.上記No.3の層構造体をSiO1.6化合物のセラミック層で被覆したも
の。
ここでは比較例として使用される。同様に、複合フイルムNo.2は比較例であ
る。複合フイルムのNo.3及びNo.4は本発明の複合フイルムであって、互
いに異なる組成を有し、複合フイルムNo.3の組成はSiO化学式に相当し、
複合フイルムNo.4の組成はSiO1.6化学式に相当する。
Claims (14)
- 【請求項1】 90℃を超える温度の水浴又は水蒸気中で滅菌後に水蒸気又はガスの透過を遮
断する優れた効果を有する包装用複合フイルムであって、実質的な構成要素とし
て無機物質の気化により製造されるSiOXを含有する遮断層を備える包装用複
合フイルムにおいて、 前記複合フイルムはポリエチレン‐2,6‐ナフタレート(PEN)から成る
共有押出し成形された層を少なくとも1側面上に有するポリエチレンテレフタレ
ート(PET)のフイルムを含み、このフイルムは前記PENが被覆された側面
の少なくとも1つの上にSiOXから成る厚さ10〜200nmのセラミック層
を有し、ここでxは0.9〜2の数であり、前記セラミック層は真空中で二酸化
ケイ素(SiO2)及び金属ケイ素を同時に気化するか、又は一酸化ケイ素を気
化することにより製造されることを特徴とする前記複合フイルム。 - 【請求項2】 前記PEN層は0.1〜4μm、好ましくは0.2〜2μm
の厚さを有することを特徴とする請求項1記載の複合フイルム。 - 【請求項3】 SiOXの前記セラミック層は40〜150nmの厚さを有
することを特徴とする請求項1又は2記載の複合フイルム。 - 【請求項4】 SiOXの前記セラミック層のxは0.9〜1.2の数であ
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の複合フイルム。 - 【請求項5】 SiOXの前記セラミック層のxは1.3〜2、好ましくは
1.5〜1.8の数であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の複
合フイルム。 - 【請求項6】 別々のフイルムを積層して複合フイルムを形成する請求項1
〜5のいずれかに記載の包装用複合フイルムの製造方法であって、ポリエチレン
‐2,6‐ナフタレート(PEN)を少なくとも1側面上に被覆されたポリエチ
レンテレフタレート(PET)のフイルムの上に、また前記PENが被覆された
側面の少なくとも1つの上に、SiOX(ここで、xは0.9〜2の数である)
のセラミック層を薄フイルム真空プロセスの手段を用いて二酸化ケイ素(SiO 2 )及び金属ケイ素を同時に気化することにより堆積し、次いで前記セラミック
層が被覆された前記フイルムに別のフイルムを積層して前記複合フイルムを形成
することを特徴とする前記包装用複合フイルムの製造方法。 - 【請求項7】 SiO2及びSiは混合物として同時に気化することを特徴
とする請求項6記載の方法。 - 【請求項8】 気化する物質に対して更に添加物、特にAl2O3、B2O3、
及びMgOをSiO2に対して50モル%以下、好ましくは5〜30モル%の量
で添加することを特徴とする請求項5記載の複合フイルムを製造するための請求
項6又は7記載の方法。 - 【請求項9】 気化する物質に対して更に添加物、特にAl、B、及び/又
はMgを単体で又はSi合金としてSiに対して50モル%以下、好ましくは5
〜30モル%の量で添加することを特徴とする請求項5記載の複合フイルムを製
造するための請求項6又は7記載の方法。 - 【請求項10】 Siに対するSiO2の定量的比率は気化した物質中の純
粋酸化物に対して化学量論的に10〜30%の酸素不足を与えるように設定され
ることを特徴とする請求項5記載の複合フイルムを製造するための請求項6〜9
のいずれかに記載の方法。 - 【請求項11】 Si、Al、B及びMgに対するSiO2、Al2O3、B2 O3、及びMgOの定量的比率は気化した物質中の純粋酸化物の合計量に対して
化学量論的に10〜30%の酸素不足を与えるように設定されることを特徴とす
る請求項8及び9記載の方法。 - 【請求項12】 PENで被覆されたPETフイルムは前記SiOX被覆の
前にプラズマ前処理されることを特徴とする請求項6〜12のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項13】 香料袋及びフレキシブルな容器カバーの形状で、基本的及
びぜいたくな食品商品を滅菌できる容器としての請求項1〜5のいずれかに記載
の複合フイルムの使用。 - 【請求項14】 工業的及び医学的分野における遮断材料としての請求項1
〜5のいずれかに記載の複合フイルムの使用。
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