JP2002522348A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ±15×10-7Ｋ-1（20-700℃）の間の低熱膨張係数を有するガラスセラミックプレートおよび該プレートの表面上の装飾を備えた、レンジ上面として特に適した装飾ガラスセラミックプレートであって、該装飾が、10から35重量％の顔料を含有するビトリファイドガラスフリットから構成され、前記装飾ガラスセラミックプレートが少なくとも120ＭＰａの破壊係数を有することを特徴とする装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項２】 前記ガラスフリットが、30-40×10-7Ｋ-1（0-300℃）の熱膨張係数、および少なくとも750℃の軟化点を有することを特徴とする請求項１記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項３】 前記フリットを構成するガラスがソーダカリホウケイ酸塩であることを特徴とする請求項１または２記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項４】 前記ガラスフリットの組成が、酸化物の重量％で計算して、70-82％のＳｉＯ2、12-18％のＢ2Ｏ3、1-3％のＡｌ2Ｏ3、多くても５％のＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏおよび多くても1.2％の少なくとも１つの清澄剤から実質的になることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項５】 前記ガラスフリットの組成が、76-81％のＳｉＯ2、14.4-15.5％のＢ2Ｏ3、2-2.7％のＡｌ2Ｏ3、2.3-3.2％のＮａ2Ｏ、1-1.5％のＫ2Ｏ、0-1％のＡｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3から実質的になることを特徴とする請求項４記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項６】 前記ガラスセラミックプレートが0±3×10-7Ｋ-1（20-700℃）の範囲の熱膨張係数を有することを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項７】 ±15×10-7Ｋ-1（20-700℃）の間の低熱膨張係数を有するガラスセラミックプレートを装飾する方法であって、
65から90重量％のガラスフリットおよび10から35重量％の顔料の混合物を製造し、ここで、該ガラスフリットは、30-40×10-7Ｋ-1（0-300℃）の熱膨張係数、および少なくとも750℃の軟化点を有しており、
該ガラスフリットと顔料との混合物をガラスセラミックプレートの表面上またはガラスセラミック前駆体であるガラスプレートの表面上に施し、
該ガラスフリットと顔料との混合物により被覆された前記プレートを焼成し、必要に応じて、前記ガラスプレートをガラスセラミックプレートに転化させ、該ガラスフリットと顔料との混合物中のガラスフリットをガラス質化させ、生成された装飾の前記ガラスセラミックプレートとの付着性を提供し、
該焼成されたプレートを冷却して、少なくとも120ＭＰａの破壊係数を有する装飾ガラスセラミックプレートを得る、
各工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】 前記ガラスフリットと顔料との混合物をガラスセラミックプレートの表面上に施し、次いで、該ガラスフリットと顔料との混合物を920-960℃の範囲にある温度で約15分間に亘り熱処理する各工程を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】 前記ガラスフリットと顔料との混合物を、0±3×10-7Ｋ-1（20-700℃）の範囲の熱膨張係数を有するガラスセラミックプレートの表面上に施す工程を含むことを特徴とする請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】 前記ガラスフリットと顔料との混合物をガラスセラミック前駆体ガラスプレートの表面上に施し、次いで、以下のスケジュール：
一般的にガラスの転移範囲の近くに位置する、核形成範囲まで50-80℃／分の速度での温度上昇、
約15-25分で核形成範囲（670-800℃）の温度上昇、
約15-30分で結晶化温度（900-960℃）までの温度上昇、
10-25分間に亘る結晶化温度の維持、および
周囲温度への急冷
にしたがって、前記前駆体ガラスプレートおよびその上に施された前記ガラスフリットと顔料との混合物を熱処理する各工程を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】 請求項７から１０いずれか１項記載の方法を実施するのに特に有用なエナメルであって、10から35重量％の顔料と、30-40×10-7Ｋ-1（0-300℃）の熱膨張係数、および少なくとも750℃の軟化点を有する65から90重量％のガラスフリットとから構成されることを特徴とするエナメル。
【請求項１２】 前記ガラスフリットの組成が、酸化物の重量％で計算して、70-82％のＳｉＯ2、12-18％のＢ2Ｏ3、1-3％のＡｌ2Ｏ3、多くても５％のＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏおよび多くても1.2％の少なくとも１つの清澄剤から実質的になることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１】 ±15×10-7Ｋ-1（20-700℃）の間の低熱膨張係数を有するガラスセラミックプレートおよび該プレートの表面上の装飾を備えた、レンジ上面として特に適した装飾ガラスセラミックプレートであって、該装飾が、10から35重量％の顔料を含有するビトリファイドガラスフリットから構成され、前記装飾ガラスセラミックプレートが少なくとも120ＭＰａの破壊係数を有することを特徴とする装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項２】 前記ガラスフリットが、30-40×10-7Ｋ-1（0-300℃）の熱膨張係数、および少なくとも750℃の軟化点を有することを特徴とする請求項１記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項３】 前記フリットを構成するガラスがソーダカリホウケイ酸塩であることを特徴とする請求項１または２記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項４】 前記ガラスフリットの組成が、酸化物の重量％で計算して、70-82％のＳｉＯ2、12-18％のＢ2Ｏ3、1-3％のＡｌ2Ｏ3、多くても５％のＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏおよび多くても1.2％の少なくとも１つの清澄剤から実質的になることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項５】 前記ガラスフリットの組成が、76-81％のＳｉＯ2、14.4-15.5％のＢ2Ｏ3、2-2.7％のＡｌ2Ｏ3、2.3-3.2％のＮａ2Ｏ、1-1.5％のＫ2Ｏ、0-1％のＡｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3から実質的になることを特徴とする請求項４記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項６】 前記ガラスセラミックプレートが0±3×10-7Ｋ-1（20-700℃）の範囲の熱膨張係数を有することを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の装飾ガラスセラミックプレート。
【請求項７】 ±15×10-7Ｋ-1（20-700℃）の間の低熱膨張係数を有するガラスセラミックプレートを装飾する方法であって、
65から90重量％のガラスフリットおよび10から35重量％の顔料の混合物を製造し、ここで、該ガラスフリットは、30-40×10-7Ｋ-1（0-300℃）の熱膨張係数、および少なくとも750℃の軟化点を有しており、
該ガラスフリットと顔料との混合物をガラスセラミックプレートの表面上またはガラスセラミック前駆体であるガラスプレートの表面上に施し、
該ガラスフリットと顔料との混合物により被覆された前記プレートを焼成し、必要に応じて、前記ガラスプレートをガラスセラミックプレートに転化させ、該ガラスフリットと顔料との混合物中のガラスフリットをガラス質化させ、生成された装飾の前記ガラスセラミックプレートとの付着性を提供し、
該焼成されたプレートを冷却して、少なくとも120ＭＰａの破壊係数を有する装飾ガラスセラミックプレートを得る、
各工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】 前記ガラスフリットと顔料との混合物をガラスセラミックプレートの表面上に施し、次いで、該ガラスフリットと顔料との混合物を920-960℃の範囲にある温度で約15分間に亘り熱処理する各工程を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】 前記ガラスフリットと顔料との混合物を、0±3×10-7Ｋ-1（20-700℃）の範囲の熱膨張係数を有するガラスセラミックプレートの表面上に施す工程を含むことを特徴とする請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】 前記ガラスフリットと顔料との混合物をガラスセラミック前駆体ガラスプレートの表面上に施し、次いで、以下のスケジュール：
一般的にガラスの転移範囲の近くに位置する、核形成範囲まで50-80℃／分の速度での温度上昇、
約15-25分で核形成範囲（670-800℃）の温度上昇、
約15-30分で結晶化温度（900-960℃）までの温度上昇、
10-25分間に亘る結晶化温度の維持、および
周囲温度への急冷
にしたがって、前記前駆体ガラスプレートおよびその上に施された前記ガラスフリットと顔料との混合物を熱処理する各工程を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】 請求項７から１０いずれか１項記載の方法を実施するのに特に有用なエナメルであって、10から35重量％の顔料と、30-40×10-7Ｋ-1（0-300℃）の熱膨張係数、および少なくとも750℃の軟化点を有する65から90重量％のガラスフリットとから構成されることを特徴とするエナメル。
【請求項１２】 前記ガラスフリットの組成が、酸化物の重量％で計算して、70-82％のＳｉＯ2、12-18％のＢ2Ｏ3、1-3％のＡｌ2Ｏ3、多くても５％のＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏおよび多くても1.2％の少なくとも１つの清澄剤から実質的になることを特徴とする請求項１１記載の方法。
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