JPH04367538A - 耐熱性セラミックス成形体及びその製造法 - Google Patents
耐熱性セラミックス成形体及びその製造法Info
- Publication number
- JPH04367538A JPH04367538A JP3031314A JP3131491A JPH04367538A JP H04367538 A JPH04367538 A JP H04367538A JP 3031314 A JP3031314 A JP 3031314A JP 3131491 A JP3131491 A JP 3131491A JP H04367538 A JPH04367538 A JP H04367538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solid solution
- weight
- glass
- heat
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims abstract description 32
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910000174 eucryptite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052642 spodumene Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 32
- CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N aluminum;lithium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Li+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052644 β-spodumene Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 6
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003109 potassium Chemical group 0.000 claims 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 8
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical class CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910017976 MgO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
耐熱性セラミックス成形体およびその製造法に関するも
のである。本発明はまた、耐熱性が良く高温度での使用
に耐える反射鏡基材に関するものである。
れが高輝度のものになるほど発熱も著しく、したがって
、ランプと組み合わせて使用される反射鏡の温度上昇も
激しい。特に、近年はランプの高輝度化と小型化が多く
の分野で進んでおり、反射鏡部分で550℃を超えるこ
ともあるようになった。反射鏡は基材とその表面にコー
ティングされた反射膜からなり、そのいずれもが反射鏡
の耐熱性を支配することは言うまでもないが、基材部分
の耐熱性について考えると、最高使用温度と耐熱衝撃性
の二つが重要である。基材としてよく使われるガラスの
場合、最高使用温度は転移点以下の温度となるため、最
高度の耐熱性を有するパイレックス級ガラスでも550
℃以下でしか使用できず、耐熱衝撃性はムク棒(直径5
mm)による試験でも温度差250℃が限界であるから
、上述のような苛酷な条件では安心して使用することが
できない。また、基材の耐熱限界によってランプや反射
鏡の小型化が制限されてしまうことになる。
があるが、このガラスは成形加工が容易でなく、量産が
困難できわめて高価なものとなる欠点がある。セラミッ
クスは、一般に耐熱性は優れているが、十分な光学特性
を備えた反射鏡を製造するのに必要な高精度曲面を形成
することが難しく、また表面平滑性にも問題があり、反
射鏡基材として実用化された例はない。Li2O、Al
2O3およびSiO2の3成分を基本成分とする低熱膨
張率ガラスを熱処理してβ−スポジュウメン固溶体(L
i2O−Al2O3−4SiO2)またはβ−ユークリ
プタイト固溶体(Li2O−Al2O3−2SiO2)
を生じさせることにより得られるセラミックス(いわゆ
る結晶化ガラス)は、優れた耐熱性を有し、また反射鏡
基材とするのに必要な成形および研磨は結晶化させる前
のガラスの段階で容易に行うことができるので、反射鏡
基材として好ましい材料である。しかしながら、ガラス
の段階でいかに平滑に仕上げておいた表面も結晶化にと
もない粗面化してしまうことが、反射鏡基材として利用
する場合の欠点となる。すなわち、反射鏡基材に真空蒸
着等の手段でコーティングされる多層反射膜は全体でも
2μm程度の薄いものであるから、基材の表面が平滑性
が悪いと反射膜もまた平滑にならず、反射率の高い反射
膜は得られないが、従来の結晶化ガラスの表面は平均粗
さが0.1μ前後、場所によっては0.5μを超える粗
さであるから、高反射率反射鏡の基材として使用するこ
とはできなかった(パイレックスガラス系反射鏡基材の
研磨された反射面の平均粗さは通常0.001〜0.0
03μm程度である。ただし、“平均粗さ”はJIS
B0601の「中心線平均粗さRa」である。)。
のように反射鏡基材として有利な性質を備えているにも
かかわらず表面の平滑度が不十分なために高反射率反射
鏡の基材として使用することができなかった結晶化ガラ
ス製品の表面平滑性を改良することにある。本発明の他
の目的は、反射鏡基材以外の用途にも有用な、本質的に
平滑な光沢表面を有する結晶化ガラス系耐熱性セラミッ
クス成形体およびその製造法を提供することにある。
成功した耐熱性セラミックス成形体およびそれよりなる
反射鏡基材は、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、鉛、
およびバナジウムからなる群から選ばれた金属の1種以
上を酸化物として0.3〜7.0%(重量%;以下同じ
)含有するβ−スポジュウメン固溶体もしくはβ−ユー
クリプタイト固溶体からなり、その表面の平均粗さが本
質的に0.03μm以下であることを特徴とする。ここ
で、“平均粗さが本質的に0.03μm以下である”と
は、β−スポジュウメン固溶体もしくはβ−ユークリプ
タイト固溶体を生成させる結晶化処理後いかなる研磨処
理も施されていない本来の表面が0.03μm以下の平
均粗さを示すことをいう。
0〜65%、Al2O3 18〜30%、Li2O 3
〜8%、TiO2+ZrO23〜5%、P2O5および
(または)B2O3を合計量で8重量%以下、RO(た
だしRはマグネシウム、カルシウム、亜鉛、鉛、および
バナジウムからなる群から選ばれた金属原子を表す)0
.3〜7.0%、R2O(ただしRはカリウム原子また
はナトリウム原子を表す)3.0%以下のガラスを成形
し、得られたガラス成形体を、上記ガラスの変形温度以
下の温度で熱処理して結晶核を生成させた後、昇温して
β−スポジュウメン固溶体またはβ−ユークリプタイト
固溶体を生成させることを特徴とする上記表面平滑な耐
熱性セラミックス成形体の製造法を提供するものである
。ただし、直径5mm、長さ30mmの丸棒状にしたガ
ラスを垂直に支持し、頂部より5gの荷重をかけた状態
で毎分5℃の昇温速度で温度を上昇させたとき試料棒が
曲がり始める温度をガラスの変形温度とする。
ウムからなる群から選ばれた金属の1種以上を酸化物と
して0.3〜7.0%含有するβ−スポジュウメン固溶
体もしくはβ−ユークリプタイト固溶体からなり、表面
の平均粗さが本質的に0.03μm以下である本発明の
セラミックス成形体は、β−スポジュウメン固溶体また
はβ−ユークリプタイト固溶体からなる結晶化ガラス特
有の優れた耐熱性を示すとともに、本質的に優れた表面
平滑性により、困難な研磨仕上げを要することなしに、
反射鏡基材等、耐熱性と高度の表面平滑性を要求される
分野に使用することができる。以下、上記セラミックス
成形体の製造法を工程順に説明しながら本発明につき詳
述する。
%、Al2O3 18〜30%、Li2O 5〜8%、
TiO2+ZrO2 3〜5%、P2O5および(また
は)B2O3を合計量で8%以下、RO(ただしRはマ
グネシウム、カルシウム、亜鉛、鉛、バナジウムからな
る群から選ばれた金属原子を表す)0.3〜7.0%、
R2O(ただしRはカリウム原子またはナトリウム原子
を表す)3.0%以下のガラスを得るのに必要な原料鉱
物を用意し、これをガラス製造の常法に従って粉砕、混
合し、さらに加熱して溶融状態で混合することによりガ
ラス化させる。上記ガラス組成の特徴の第一は、従来の
この種ガラスと比べて溶融温度がやや低いことであり、
このため、約1500℃以下の温度で溶融してガラス化
させることができる。RO成分の配合は、表面平滑性の
よい製品を得るのに特に重要な意味を持ち、高反射率反
射鏡の基材になり得るような表面平滑性のよい結晶化ガ
ラス製品は適量のRO成分を配合しかつ後述するやや低
い温度で結晶化を進めることによって初めて製造可能で
ある。RO成分として特に好ましいのは、PbOおよび
VOである。
成するためには上記範囲に限定される。SiO2は、5
0%未満ではガラスが成形中に失透し易く、65%を超
えると溶融が困難になる。Al2O3は17%未満では
熱膨張係数が大きくなって耐熱衝撃性が悪くなり、30
%を超えると溶融が困難になる。Li2Oは、3%未満
では溶融が困難であり、8%を超えると熱膨張係数が大
きくなりすぎる。TiO2およびZrO2は結晶核形成
剤として配合される成分であって、これらの合計量が3
%未満では結晶化に時間がかかりすぎるが、5%を超え
ると、溶融が困難になるとともにガラス成形中に失透を
起こしやすくなる。その他、P2O5、B2O3、およ
びR2Oは溶融性と作業性の向上に有効な成分であるが
、多すぎると、失透、ガラス成形体の変形等、好ましく
ない結果を生じるので、過剰量の配合は避ける。P2O
5およびB2O3は、単独では5%を超えないことが望
ましい。
同様に、ブロー法、プレス法、ロール法、キャスト法等
、任意の方法で、所定の形状に成形する。その後、成形
精度および表面平滑度を重要視する部分、たとえば反射
鏡基材とする場合における反射膜コーティング面には、
必要に応じて研磨仕上げを施す。次いでガラス成形体を
加熱炉に入れ、結晶化のための二段の熱処理を施す。第
一段の熱処理は、β−ユークリプタイトまたはβ−スポ
ジュウメンの微結晶を均一に生成させるための、結晶核
形成工程である。熱処理を二段に分けて行うことにより
均一な微結晶を生じさせることは従来の結晶化ガラス製
造法においても行われているが、従来の製造法における
第一段熱処理ではもっぱら結晶核生成促進の観点からの
み条件が選ばれて通常750〜800℃に達する高温で
行われている。これに対し、本発明の製造法においては
、ここでの処理温度を上記組成のガラスの変形温度(標
準的な組成のもので約450〜650℃)よりも低い温
度、望ましくは約50〜100℃低い温度にするので、
第一段熱処理温度が650℃を超えることはない。この
温度条件は最終的に得られる結晶化ガラスの表面を平滑
性のよい光沢面にするために重要であって、理由は定か
でないが、上記組成のガラス成形体でも処理温度が高す
ぎると粗い表面のものになってしまう。
核を生成させた後、温度を約650〜850℃、望まし
くは700〜800℃に上昇させ、この温度に約30分
〜数時間保持すると、β−ユークリプタイト固溶体、次
いでβ−スポジュウメン固溶体が生成する。β−スポジ
ュウメン固溶体は、β−ユークリプタイト固溶体よりも
熱膨張係数がやや高いが強度が優れている。従来の結晶
化ガラスの場合、β−スポジュウメン固溶体を生成させ
るには結晶化工程において約900〜1200℃という
高温での熱処理を必要としていたが、本発明による上述
のガラス組成の場合、熱処理温度は高くても800℃で
よいから、熱エネルギーの消費がはるかに少なくて済む
。
メン固溶体の場合、結晶化にともない完全に失透してい
るが、それによる表面の荒れは最小限度に抑えられてい
て、平均粗さは通常0.03μ以下である。表面の平均
粗さが0.02μの結晶化ガラスからなる基材を用いて
製作された反射鏡は、平均粗さが0.002以下の耐熱
性ガラスを基材として同様に製作された反射鏡の反射率
の90%以上の反射率を示し、反射鏡基材として十分使
用可能である。β−スポジュウメン固溶体からなる製品
の軟化変形温度は900℃以上であり、700℃までの
温度で連続使用に耐える。耐熱衝撃性にも優れ、600
℃に加熱してから冷水中に投入する試験によっても破損
しなかった。
.5%、TiO2+ZrO2 4%、P2O5 5%、
B2O3 2.5%、ZnO+MgO 4%、K2O+
Na2O1.5%の組成になるよう原料を調合し、15
00℃で溶融してガラス化し、これをプレス法により直
径80mmの反射鏡の基材形状に成形した。変形温度が
660℃のこのガラス成形体を570℃に1時間保持し
た後、毎分3℃の昇温速度で770℃に昇温し、この温
度で1時間保持してから冷却した。熱処理前透明であっ
た成形体は乳白色になっており、X線回折図から、β−
スポジュウメン固溶体になったことが確認された。熱膨
張係数(室温〜400℃の平均値)は6×10−7/℃
、曲げ強度は900kgf/cm2であった。また、6
00℃に加熱して冷水中に投入しても破損せず、耐熱衝
撃性も優れていることが確認された。表面は美麗な光沢
面で、その平均粗さは0.03μm以下であった。製品
の所定の位置にTa2O−SiO2交互多層膜を蒸着し
て得られた反射鏡の反射率は、上記と同じガラスの反射
鏡基材に熱処理を施さずに同じ反射膜を蒸着して得られ
た反射鏡の反射率を100とすると全可視光領域にわた
り90以上であった。
%、TiO2+ZrO2 4.3%、P2O5 3%、
B2O3 3%、PbO+MgO 3.5%、K2O+
Na2O 1.4%の組成になるよう原料を調合し、1
470℃で溶融してガラス化し、これをプレス法により
直径80mmの反射鏡の基材形状に成形した。変形温度
が650℃のこのガラス成形体を600℃に1時間保持
した後、毎分5℃の昇温速度で750℃に昇温し、この
温度で1時間保持してから冷却した。熱処理前透明であ
った成形体は半透明の乳白色になっており、X線回折図
から、β−スポジュウメン固溶体になったことが確認さ
れた。熱膨張係数は15×10−7/℃、曲げ強度は9
50kgf/cm2であった。また、600℃に加熱し
て冷水中に投入しても破損せず、耐熱衝撃性も優れてい
ることが確認された。表面は美麗な光沢面で、その平均
粗さは0.025μm以下であった。製品の所定の位置
にTa2O−SiO2交互多層膜を蒸着して得られた反
射鏡の反射率は、上記と同じガラスの反射鏡基材に熱処
理を施さずに同じ反射膜を蒸着して得られた反射鏡の反
射率を100とすると全可視光領域にわたり90以上で
あった。
同様の原料、すなわちSiO2 53%、Al2O3
25%、Li2O 6%、TiO2+ZrO2 4.3
%、P2O5 3%、B2O3 3%、K2O+Na2
O 1.4%の原料を1470℃で溶融してガラス化し
、これを実施例2の場合と同様にして直径80mmの反
射鏡の基材形状に成形した。変形温度が650℃のこの
ガラス成形体を600℃に1時間保持した後、毎分5℃
の昇温速度で750℃に昇温し、この温度で1時間保持
してから冷却した。熱処理前透明であった成形体は半透
明の乳白色になっており、β−スポジュウメン固溶体の
生成が確認されたが、製品の表面粗さにむらがあり、粗
いところは0.3μmを超えた。また、全体としても変
形していることが認められた。その結果、これに実施例
2の場合と同様に多層反射膜を蒸着して得られた反射鏡
の反射率は、研磨ガラス面に同じ反射膜を蒸着して得ら
れた反射鏡の反射率を100とすると、全可視光領域に
おいて90に達しなかった。
℃で1時間保持した後、830℃に昇温して1時間熱処
理した。熱処理前透明であった成形体は乳白色になって
おり、X線回折図からβ−スポジュウメン固溶体になっ
たことが確認され、曲げ強度は1400kgf/cm2
と高かったが、熱膨張係数は20×10−7/℃、耐熱
衝撃性は500℃以下であった。表面の平均粗さは0.
05μm以上であり、さらに、肉眼で認められるシワも
あった。この成形体に実施例2の場合と同様にして多層
反射膜を蒸着して得られた反射鏡の反射率は、研磨ガラ
ス面に同じ反射膜を蒸着して得られた反射鏡の反射率を
100とすると全可視光領域において80前後であった
。
び機械的強度にすぐれ、しかも従来の結晶化ガラスと違
ってきわめて平滑な光沢表面を本質的に有する本発明の
セラミックス成形体は、反射鏡基材として優れているだ
けでなく、その特長を生かして、各種光学材料、電気絶
縁体、電子部品材料など、多くの用途に利用することが
できる。また、本発明の製造法によれば、従来の結晶化
ガラスを製造する場合よりもずっと低い温度で結晶化を
起こさせて安価に提供することができ、しかも製品は通
常研磨仕上げを必要としないほど高度の平滑性を有する
表面のものであるから、本発明により、多くの分野で従
来よりも容易に平滑度の高い耐熱性材料を利用すること
が可能になる。
Claims (3)
- 【請求項1】 マグネシウム、カルシウム、亜鉛、鉛
、およびバナジウムからなる群から選ばれた金属の1種
以上を酸化物として0.5〜7.0重量%含有するβ−
スポジュウメン固溶体もしくはβ−ユークリプタイト固
溶体からなり、表面の平均粗さが本質的に0.03μm
以下であることを特徴とする耐熱性セラミックス成形体
。 - 【請求項2】 酸化物組成がSiO2 50〜65重
量%、Al2O3 18〜30重量%、Li2O 3〜
8重量%、TiO2+ZrO2 3〜5重量%、P2O
5および(または)B2O3を合計量で8重量%以下、
RO(ただしRはマグネシウム、カルシウム、亜鉛、鉛
、およびバナジウムからなる群から選ばれた金属原子を
表す)0.3〜7.0重量%、R2O(ただしRはカリ
ウム原子またはナトリウム原子を表す)3.0重量%以
下のガラスを成形し、得られたガラス成形体を、上記ガ
ラスの変形温度以下の温度で熱処理して結晶核を生成さ
せた後、昇温してβ−スポジュウメン固溶体またはβ−
ユークリプタイト固溶体を生成させることを特徴とする
表面平滑な耐熱性セラミックス成形体の製造法。 - 【請求項3】 マグネシウム、カルシウム、亜鉛、鉛
、およびバナジウムからなる群から選ばれた金属の酸化
物の1種以上を0.3〜7.0重量%含有するβ−スポ
ジュウメン固溶体もしくはβ−ユークリプタイト固溶体
からなり表面の平均粗さが本質的に0.03μm以下で
あることを特徴とする反射鏡基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3031314A JPH0737334B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 耐熱性セラミックス成形体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3031314A JPH0737334B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 耐熱性セラミックス成形体及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04367538A true JPH04367538A (ja) | 1992-12-18 |
JPH0737334B2 JPH0737334B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=12327823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3031314A Expired - Lifetime JPH0737334B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 耐熱性セラミックス成形体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737334B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001342036A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Ngk Insulators Ltd | ガラス材料並びに結晶化ガラス製品及び結晶化ガラス材料の製造方法 |
JP2002098817A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射鏡 |
JP2002154837A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス製リフレクター基体の製造方法 |
WO2003016233A1 (de) | 2001-08-16 | 2003-02-27 | Schott Glas | Substratmaterial für röntgenoptische komponenten |
JP2003523606A (ja) * | 2000-02-15 | 2003-08-05 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電気ランプ及び反射器のユニット |
WO2004094327A2 (en) | 2003-04-01 | 2004-11-04 | Corning Incorporated | Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same |
JP2005037906A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-02-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射鏡及びその製造方法 |
DE10017696B4 (de) * | 2000-04-08 | 2006-05-11 | Schott Ag | Transparente Abdeckung der Strahlungsquelle von Leuchten |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3998231B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2007-10-24 | 旭テクノグラス株式会社 | 反射鏡 |
DE10110225C2 (de) | 2001-03-02 | 2003-07-17 | Schott Glas | Glaskeramisches Trägermaterial, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
DE10238608A1 (de) * | 2002-08-16 | 2004-03-04 | Schott Glas | Bauteil aus einer Lithiumaluminosilikat-Glaskeramik |
JP2007197310A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-08-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラスおよびそれを用いた反射鏡基材並びに反射鏡 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4910134A (ja) * | 1972-05-30 | 1974-01-29 |
-
1991
- 1991-02-01 JP JP3031314A patent/JPH0737334B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4910134A (ja) * | 1972-05-30 | 1974-01-29 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003523606A (ja) * | 2000-02-15 | 2003-08-05 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電気ランプ及び反射器のユニット |
JP2001342036A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Ngk Insulators Ltd | ガラス材料並びに結晶化ガラス製品及び結晶化ガラス材料の製造方法 |
DE10017696B4 (de) * | 2000-04-08 | 2006-05-11 | Schott Ag | Transparente Abdeckung der Strahlungsquelle von Leuchten |
JP2002098817A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射鏡 |
JP2002154837A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス製リフレクター基体の製造方法 |
WO2003016233A1 (de) | 2001-08-16 | 2003-02-27 | Schott Glas | Substratmaterial für röntgenoptische komponenten |
US7031428B2 (en) | 2001-08-16 | 2006-04-18 | Carl-Zeiss Smt Ag | Substrate material for X-ray optical components |
DE10139188A1 (de) * | 2001-08-16 | 2003-03-06 | Schott Glas | Glaskeramik für röntgenoptische Komponenten |
WO2004094327A2 (en) | 2003-04-01 | 2004-11-04 | Corning Incorporated | Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same |
US7091141B2 (en) | 2003-04-01 | 2006-08-15 | Corning Incorporated | Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same |
US7199066B2 (en) | 2003-04-01 | 2007-04-03 | Corning Incorporated | Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same |
US7285506B2 (en) | 2003-04-01 | 2007-10-23 | Corning Incorporated | Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same |
JP2005037906A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-02-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射鏡及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0737334B2 (ja) | 1995-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI271389B (en) | Lamp reflector substrate, glass, glass-ceramic materials and process for making the same | |
JP5088901B2 (ja) | βスポジュメン・ガラスセラミック材料およびその製造プロセス | |
US5173453A (en) | Variably translucent glass-ceramic article and method for making | |
EP0205262B1 (en) | Strengthened glass articles and method for making | |
TWI297332B (en) | Glass-ceramic | |
JP5089012B2 (ja) | アルミノ珪酸リチウムガラスセラミックと金属との複合部材 | |
EP1142841B1 (en) | Glass material, glass ceramic product, and process for producing the glass material | |
JPH04348302A (ja) | 反射鏡 | |
JPH04367538A (ja) | 耐熱性セラミックス成形体及びその製造法 | |
JP2007197310A (ja) | 結晶化ガラスおよびそれを用いた反射鏡基材並びに反射鏡 | |
JPS63162545A (ja) | 透光性結晶質ガラス | |
US3519445A (en) | Al2o3-p2o5-b2o3 glass-ceramic articles and methods | |
JP4977372B2 (ja) | 結晶化ガラスおよびその製造方法 | |
JPS60255634A (ja) | リチウムアルミノ・シリケ−トガラス・セラミツク | |
WO2006080557A1 (en) | Glass-ceramics and method for manufacturing the same | |
US3467534A (en) | Barium silicate glass-ceramic body and method of making it | |
JPH01208343A (ja) | 透明結晶化ガラス | |
US4212678A (en) | Rapidly crystallized beta-spodumene glass-ceramic materials | |
JP4886928B2 (ja) | 結晶化ガラス製リフレクター基体の製造方法 | |
US3985533A (en) | Spontaneously-formed beta-spodumene glass-ceramics | |
CN1721886A (zh) | 反射镜 | |
US4192665A (en) | Rapidly crystallized beta-spodumene glass-ceramic materials | |
US3723140A (en) | Glass-ceramics containing pollucite | |
JP3637261B2 (ja) | 反射鏡 | |
JP4033665B2 (ja) | 反射鏡用結晶化ガラスおよび反射鏡用基体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100426 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100426 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110426 Year of fee payment: 16 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110426 Year of fee payment: 16 |