JP2002514649A - エポチロン誘導体、それらの製造方法、並びにそれらの使用 - Google Patents

エポチロン誘導体、それらの製造方法、並びにそれらの使用

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Abstract

(57)【要約】 本発明はエポチロン誘導体、それらの製造方法、並びに医薬および植物保護剤の製造におけるそれらの使用に関するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、一般的にエポチロン誘導体、それらの製造方法、並びに医薬及び植
物保護剤の製造におけるそれらの使用に関するものである。本発明は特に下記の
一般式２乃至６のエポチロン誘導体、並びにそれらの医薬及び植物保護剤として
の使用に関するものである。
【０００２】
【化６】
【０００３】
【化７】
【０００４】 上式中： Ｒ１＝Ｈ原子又はＣ１−乃至Ｃ８−アルキル基、好ましくはＣ１乃至Ｃ６−アル
キル基、特に好ましくはＣ１乃至Ｃ４−アルキル基、とくにメチル、エチル、プ
ロピル又はブチル基、 Ｒ２＝単環式芳香族基、例えば５−又は６−員の芳香族基（例えばフェニル環）
又はビニル基であり、それぞれオルト−及び／又はメタ−及び／又はパラ−位に
おいて、１，２，３，４又は５個、特に１個又は２個のハロゲン原子及び／又は
ＯＲ４及び／又はＮＲ５Ｒ６基及び／又はアルキル、及び／又はアルケニル、及
び／又はアルキニル基、ここでＲ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ他のものとは独立
にＲ１と同じ意味を持つが、Ｒ１とは独立である、あるいは Ｒ２＝単環式の５−もしくは６−員のヘテロ芳香族基であって１個以上の、特に
１個又は２個の、Ｏ及び／又はＮ及び／又はＳ原子を環内に有していてもよく、
及び／又はＯＲ４及び／又はＮＲ５Ｒ６及び／又はアルキル及び／又はアルケニ
ル、及び／又はアルキニル基を置換基として有していてもよく、ここで残基Ｒ４ ，Ｒ５及びＲ６は上に定義されているとおりである。 Ｒ２の定義において、特に好ましいのはＣ１−Ｃ６−アルキル又はＣ２−Ｃ６−
アルケニル及び−アルキニル基、好ましくはＣ１−Ｃ４−アルキル又はＣ２−Ｃ ４ −アルケニル及び−アルキニル基である。アルキル基としては、特に好ましい
のは、メチル、エチル、プロピル及びブチル基であり、ヘテロ芳香族基としては
６−員のヘテロ芳香族基である。 Ｈａｌ＝ハロゲン原子、例えばＢｒ又はＩ、 Ｘ−Ｙ＝式−ＣＨ２ＣＨ−ＯＰ又は−ＣＨ＝ＣＨ−の基、及び Ｐ＝保護基、例えばＴＭＳ。
【０００５】 本発明の化合物は以下のように製造することができる。 式（２）の化合物は、ドイツ特許出願公開第ＤＥ１９５ ４２ ９８６号公報
に記載されている式（１）の化合物（残基は上に定義されているとおりである）
【化８】 を反応させることにより製造することができる。その反応において、特に下記の
条件（ｉ）、（ｉｉｉ）及び任意に（（ｉ）の後）（ｉｉ）も使用することがで
きる： （ｉ） （ａ）溶媒、例えばＣＨ２Ｃｌ２，中のＯ３、及び （ｂ）例えばＭｅ２Ｓで還元処理； （ｉｉ） （ａ）（ＣＨ３ＣＯ）２Ｏ、ＨＣＯ２Ｈ、ＮＥｔ３、ＤＭＡＰ； （ｂ）ＤＢＵ； 及び （ｃ）ＭｅＯＨ、ＮＨ３；及び （ｉｉｉ）Ｍｅ３ＳｉＣｌ、ＮＥｔ３。
【０００６】 式（３）の化合物は式（２）の化合物を式ＨＣ［Ｂ（ＯＲ）２］３の化合物、
例えばトリス（エチレンジオキシボリル）メタンと反応させる。Ｒは上記のアル
キル基又はアルケニル基であってもよい。
【０００７】 本反応では、任意に強塩基、例えばＣ１−Ｃ４−アルキル−Ｌｉ化合物（例え
ばブチルリチウム）又はジ−Ｃ１−Ｃ４−アルキルアミン−Ｌｉ化合物（例えば
ジメチルアミン−リチウム化合物）が用いられる。反応は一般に、例えば−３０
℃未満の温度、好ましくは−５０℃未満の温度、特に好ましくは少なくとも−７
８℃の温度のような低温で行われる。さらなる反応条件はＤ．Ｓｃｈｕｍｍｅｒ
，Ｇ．Ｈｏｅｆｌｅ、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、１９９５，５１，１１２１９に
記載されている。
【０００８】 例えば、式（２）の化合物をトリス（エチレンジオキシボリル）メタン及びブ
チルリチウムと−７８℃で反応させて式（３）の化合物を形成する。
【０００９】 式（４）の化合物は式（３）の化合物からＮ−ヨード−又はＮ−ブロモ−スク
シンイミドと、任意にアセトニトリルのような極性溶媒中で反応させることによ
り製造することができる。さらなる反応条件は下記の引用文献：Ｎ．Ａ．Ｐｅｔ
ａｓｉｓ，Ｉ．Ａ．Ｚａｖｉａｌｏｒ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．１
９９６，３７，５６７に見出すことができる。
【００１０】 式（５）の化合物の製造のためには、式（３）の化合物を鈴木カップリングの
枠内で式Ｒ２−Ｚの化合物と反応させ、ここでＲ２は上記の意味を有し、Ｚはハ
ロゲン原子又は式−ＯＳＯ２ＣＦ３、−ＣＨ＝ＣＨＩ、もしくは−ＣＨ＝ＣＨＯ
ＳＯ２ＣＦ３の基であってもよい。Ｒ２−Ｚ基は特に下記の構造を持っていても
よい。
【００１１】
【化９】
【００１２】 式中、Ａ１はＯ、Ｓ、Ｎ又はＣ原子を表し、置換基Ｏ−、Ｎ−及びＣ−は上記の
基ＯＲ４、ＮＲ５Ｒ６及びアルキル、アルケニル及び／又はアルキニル基に相当
する。
【００１３】 置換基”Ｃ”として特に好ましいのはＣ１−Ｃ６−アルキル又はＣ２−Ｃ６−
アルケニル及び／又は−アルキニル基、特にＣ１−Ｃ４−アルキル又はＣ２−Ｃ ４ −アルケニル及び／又は−アルキニル基である。アルキル基として特に好まし
いのはメチル、エチル、プロピル及びブチル基がある。
【００１４】 あるいはまた、式（５）の化合物は式（４）の化合物をシュティッレカップリ
ングによりＲ２−ＳｎＲ３ ３，ここでＲ２は上記のとおりであり、Ｒ３はＣ１−
乃至Ｃ６−アルキル基、好ましくはＣ１−乃至Ｃ４−アルキル基、そして特に好
ましくはメチル、エチル、プロピル又はブチル基、と反応させることにより製造
してもよい。これに加えて、Ｒ２−ＳｎＲ３ ３化合物は下記構造の一つを持って
いてもよい。
【００１５】
【化１０】
【００１６】 式中、残基及び置換基は上記のとおりである。
【００１７】 さらに、本発明によると、式（６）の化合物は式（５）の化合物から例えばク
エン酸のような弱酸、又はＴＢＡＦ、ピリジンＸＨＦのような化合物で保護基を
除去することにより製造してもよい。任意にメタノールのようなアルコールを溶
媒として用いてもよく、温度は好ましくは、例えば４０乃至６０℃、好ましくは
約５０℃の値に調整される。
【００１８】 要約すると、式（６）の化合物は上述の工程（エポチロンＡ又はＢ→（２）→
（３）→（４）→（５）→（６）あるいはエポチロンＡ又はＢ→（２）→（３）
→（５）→（６））により製造してもよい。
【００１９】 本発明によれば、化合物（２）、（３）、（４）、（５）又は（６）の少なく
とも１種を含有し、かつ任意に慣用の単体、希釈剤及びアジュバントを含有する
医薬も開示されている。
【００２０】 そのような化合物は特に細胞増殖抑制剤としても、農業及び／又は林業及び／
又は園芸において植物保護のために使用してもよく、これら化合物は任意に１種
以上の慣用の単体、アジュバント及び／又は希釈剤とともに使用される。
【００２１】
【実施例】
ケトン誘導体２の合成 詳細な説明はドイツ特許出願公開公報ＤＥ １９５ ４２ ９８６ Ａ１を参
照されたい。
【００２２】 アルケニルボロン酸誘導体３の合成 （Ｄ．Ｓｃｈｕｍｍｅｒ，Ｇ．Ｈｏｅｆｌｅ， Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ １９
９５，５１，１１２１９をも参照） 代表的実施例（Ｒ１＝Ｈ、Ｘ−Ｙ＝ＣＨ２ＣＨＯＴＭＳ）： トリス（エチレンジオキシボリル）メタン（０．３０ｇ、１．５ｍｍｏｌ）の
ＣＨ２Ｃｌ２／ＴＨＦ溶液（１：１；４ｍｌ）を調製し、不活性ガス下−７８℃
に冷却した。その温度で、ブチルリチウム（１．６Ｍヘキサン溶液；０．７３ｍ
ｌ、１．２ｍｍｏｌ）を１０分間で滴下した。２時間後、ケトン２（８１ｍｇ、
０．１５ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２／ＴＨＦ溶液（１：１、２ｍｌ）を添加し、
室温まで加熱し１７時間撹拌した。ＭｅＯＨ（２ｍｌ）を添加した後、清澄な反
応溶液を分取ＨＰＬＣ（Ｌｉｃｈｒｏｐｒｅｐ ＲＰ−１８、ＣＨ３ＣＮ／Ｈ２ Ｏ ７５：２５）により精製した。５７ｍｇ（６５％）のアルケニルボロン酸３
をＥ／Ｚ−異性体混合物（６：４）の形で得た。
【００２３】 選択された典型的データ：ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ−ＭＳ）：５８５（Ｍ＋＋Ｈ）； １ Ｈ−ＮＭＲ：（３００ＭＨｚ、ＣＤ３ＯＤ）；Ｅ−異性体：１．９１（Ｓ、３
Ｈ）、５．１６（ｄ、１Ｈ、１０Ｈｚ）、５．４９（ｓ、１Ｈ）、Ｚ−異性体；
１．８５（ｄ、３Ｈ、１．１Ｈｚ）、４．９３（ｓ、１Ｈ）、５．２６（ｄ、１
Ｈ、９．６Ｈｚ）。
【００２４】 ヨードビニル誘導体４の合成 （Ｎ．Ａ．Ｐｅｔａｓｉｓ，Ｉ．Ａ．Ｚａｖｉａｌｏｒ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ．１９９６，３７，５６７をも参照） 代表的実施例（Ｒ１＝Ｈ、Ｘ−Ｙ＝ＣＨ２ＣＨＯＴＭＳ）： 室温でＮ−ヨードスクシンイミド（６．０ｍｇ、２７μｍｏｌ）を不活性ガス
下に光を排除してアルケニルボロン酸３（１２ｍｇ、２１μｍｏｌ；Ｅ／Ｚ ９
：１）のＣＨ３ＣＮ（１５０μｌ）溶液に添加し、３時間撹拌した。濃縮後、残
滓を分取薄層クロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ ９５：
５）により精製した。９ｍｇ（６６％）のヨードビニル誘導体４をＥ／Ｚ−異性
体混合物（９：１）の形で単離した。
【００２５】 選択された典型的データ：ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ−ＭＳ）：６６７（Ｍ＋＋Ｈ）； １ Ｈ−ＮＭＲ：（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）；Ｅ−異性体：１．８２（ｄ、３
Ｈ、１．１Ｈｚ）、５．３６（ｄ、１Ｈ、１１Ｈｚ）、６．４３（ｓ、１Ｈ）、
Ｚ−異性体；１．８４（ｄ、３Ｈ、１．１Ｈｚ）、５．５４（ｄ、１Ｈ、１０．
５Ｈｚ）、６．０９（ｓ、１Ｈ）。
【００２６】 アルケニルボロン酸３の鈴木カップリング （Ａ．Ｓｕｚｕｋｉ、Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．１９８２，１５，１７８；Ａ
．Ｔｏｒｒａｄｏ，Ｓ．Ｌｏｐｅｚ，Ｒ．Ａｌｖａｒｅｚ，Ａ．Ｒ．Ｄｅ Ｌｅ
ｒａ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９９５，２８５をも参照） 代表的実施例（Ｒ１＝Ｈ、Ｘ−Ｙ＝ＣＨ２ＣＨＯＴＭＳ、Ｒ２＝Ｐｈ）： アルケニルボロン酸３（１２ｍｇ、２１μｍｏｌ；Ｅ／Ｚ ２：８）とタリウ
ムエタノレート（２Ｍ ＥｔＯＨ溶液；１２μｌ、２４μｍｏｌ）のＴＨＦ（１
５０μｌ）溶液を室温で１５分間撹拌し、次いでヨウ化フェニル（４．０μｌ、
６．０ｍｇ、２９μｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィノ）パラジウ
ム（７．１ｍｇ、６．２μｍｏｌ）のＴＨＦ（１５０μｌ）溶液を３０分間で滴
下し、再び３０分間撹拌した。分取薄層クロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＣＨ２ Ｃｌ２／Ｅｔ２Ｏ ９５：５）により精製した後、フェニル類縁体エポチロン５
（１０ｍｇ、７９％、Ｅ／Ｚ ２：８）を無色固体の形で得た。
【００２７】 選択された典型的データ：ＬＣ−ＭＳ（ＥＳＩ−ＭＳ）：６１７（Ｍ＋＋Ｈ）； １ Ｈ−ＮＭＲ：（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）；Ｅ−異性体：１．８７（ｄ、３
Ｈ、１．４Ｈｚ）、５．３５（ｄ、１Ｈ、１０．７Ｈｚ）、６．５４（ｓ、１Ｈ
）、Ｚ−異性体；１．８０（ｄ、３Ｈ、１．５Ｈｚ）、５．６１（ｄ、１Ｈ、１
０．２Ｈｚ）、６．４１（ｓ、１Ｈ）。
【００２８】 ヨードビニル誘導体４のシュティッレカップリング （Ｋ．Ｃ．Ｎｉｃｏｌａｏｕ，Ｙ．Ｈｅ，Ｆ．Ｒｏｓｃｈａｎｇａｒ，Ｎ．Ｐ．
Ｋｉｎｇ，Ｄ．Ｖｏｕｒｌｏｕｍｉｓ，Ｔ．Ｌｉ Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．１９
９８，１１０，（１／２），８９をも参照）
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年７月１１日（２０００．７．１１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化１】 式中、 Ｒ１は水素原子、又はＣ１−乃至Ｃ８−アルキル基、Ｘ−Ｙは式−ＣＨ２ＣＨ−
ＯＰ又は−ＣＨ＝ＣＨ−の基、及び Ｐは保護基であり、 Ｘ−ＹはＲ１が水素原子又はＣ１−４−アルキル基を意味するときは式−ＣＨ２ ＣＨ−ＯＰの基としては除外され る。
【化２】 式中、残基はそれぞれ請求項１に定義されているとおりである。
【化３】 式中、残基Ｒ１、Ｘ−Ｙ及びＰは請求項１に定義されているとおりであり、かつ
、Ｈａｌはハロゲン原子、例えばＢｒ又はＩである。
【化４】 式中、残基Ｒ１、Ｘ−Ｙ及びＰは請求項１に定義されているとおりであり、かつ
、 Ｒ２は単環式芳香族基でありオルト−及び／又はメタ−及び／又はパラ−位にお
いてハロゲン原子及び／又はＯＲ４及び／又はＮＲ５Ｒ６及び／又はアルキル、
アルケニル、及び／又はアルキニル基で置換されていてもよく、あるいは単環式
の５−もしくは６−員のヘテロ芳香族基であって１個又は数個のＯ及び／又はＮ
及び／又はＳ原子を環内に備えていてもよく、及び／又はＯＲ４及び／又はＮＲ ５ Ｒ６及び／又はアルキル、アルケニル、及び／又はアルキニル基を置換基とし
て備えていてもよく、ここで残基Ｒ４，Ｒ５及びＲ６はそれぞれ他のものとは独
立に請求項１のＲ１について定義されているとおりであるが、Ｒ１とは独立であ り、ここに （ｉ）ＸＹはＲ１が水素原子又はＣ１−４−アルキル基を意味し、かつＲ２が環 内にＮ原子およびＳ原子を有しかつＣ１アルキル置換基を有する単環式ヘテロ芳 香族基であるときは、式−ＣＨ＝ＣＨ−の基としては除外され、かつ （ｉｉ）Ｘ−ＹはＲ１が水素原子又はＣ１−４−アルキル基を意味し、かつＲ２ が環内にＮ原子およびＳ原子を有しかつＣ１アルキル置換基を有する単環式ヘテ ロ芳香族基であるときは、式−ＣＨ２−ＣＨ−ＯＰの基としては除外され る。
【化５】 式中、残基は請求項４において定義されているとおりであり、Ｘ−Ｙが式−ＣＨ ２ＣＨ−ＯＰの基を意味するときは、保護基Ｐが除去されており、ここに （ｉ）ＸＹは、Ｒ１が水素原子又はＣ１−４−アルキル基を意味し、かつＲ２が 環内にＮ原子およびＳ原子を有しかつＣ１アルキル置換基を有する単環式ヘテロ 芳香族基であるときは、式−ＣＨ＝ＣＨ−の基としては除外され、かつ （ｉｉ）Ｘ−Ｙは、Ｒ１が水素原子又はＣ１−４−アルキル基を意味し、かつＲ ２が環内にＮ原子およびＳ原子を有しかつＣ１アルキル置換基を有する単環式ヘ テロ芳香族基であるときは、式−ＣＨ２−ＣＨ−ＯＰの基としては除外され る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/69 Ａ６１Ｋ 31/69 Ａ６１Ｐ 35/00 Ａ６１Ｐ 35/00 Ｃ０７Ｄ 493/04 １１１ Ｃ０７Ｄ 493/04 １１１ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ａ，ＺＷ (71)出願人 Ｍａｓｃｈｅｒｏｄｅｒ Ｗｅｇ １，Ｄ −38124 Ｂｒａｕｎｓｃｈｗｅｉｇ， （Ｇｅｒｍａｎｙ) (72)発明者 ゲルハルト ホーフル ドイツ連邦共和国 Ｄ−38124 ブラウン シュバイク マッシェローダー ヴェーク １ (72)発明者 トーマス ライボルト ドイツ連邦共和国 Ｄ−38124 ブラウン シュバイク マッシェローダー ヴェーク １ Ｆターム(参考） 4C071 AA01 BB01 CC12 EE02 FF18 GG01 GG03 HH05 HH08 HH09 KK11 LL01 LL02 4C086 AA01 AA03 AA04 CA01 DA43 MA01 MA04 NA14 ZB21 4H011 AA01 BA01 BB08 BB16 4H048 AA01 AA02 AA03 AB01 AB20 AC80 AC90 VA20 VA22 VA75 VB10

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（２）のエポチロン誘導体 【化１】 式中、 Ｒ１はＨ原子、又はＣ１−乃至Ｃ８−アルキル基、 Ｘ−Ｙは式−ＣＨ２ＣＨ−ＯＰ又は−ＣＨ＝ＣＨ−の基、及び Ｐは保護基である。
  2. 【請求項２】 式（３）のエポチロン誘導体 【化２】 式中、残基はそれぞれ請求項１に定義されているとおりである。
  3. 【請求項３】 式（４）のエポチロン誘導体 【化３】 式中、残基Ｒ１、Ｘ−Ｙ及びＰは請求項１に定義されているとおりであり、かつ
    、Ｈａｌはハロゲン原子、例えばＢｒ又はＩである。
  4. 【請求項４】 式（５）のエポチロン誘導体 【化４】 式中、残基Ｒ１、Ｘ−Ｙ及びＰは請求項１に定義されているとおりであり、かつ
    、 Ｒ２は単環式芳香族基又はビニル基であり、それぞれオルト−及び／又はメタ−
    及び／又はパラ−位においてハロゲン原子及び／又はＯＲ４及び／又はＮＲ５Ｒ ６ 及び／又はアルキル、アルケニル、及び／又はアルキニル基で置換されていて
    もよく、あるいは単環式の５−もしくは６−員のヘテロ芳香族基であって１個以
    上のＯ及び／又はＮ及び／又はＳ原子を環内に有していてもよく、及び／又はＯ
    Ｒ４及び／又はＮＲ５Ｒ６及び／又はアルキル、アルケニル、及び／又はアルキ
    ニル基を置換基として有していてもよく、ここで残基Ｒ４，Ｒ５及びＲ６はそれ
    ぞれ他のものとは独立に請求項１のＲ１について定義されているとおりであるが
    、Ｒ１とは独立である。
  5. 【請求項５】 式（６）のエポチロン誘導体 【化５】 式中、残基は請求項４において定義されているとおりである。
  6. 【請求項６】 Ｒ１，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６がＨ原子又はＣ１−乃至Ｃ６−ア
    ルキル基、好ましくはＣ１−乃至Ｃ６−アルキル基であることを特徴とする先行
    する請求項のいずれか一項に記載のエポチロン誘導体。
  7. 【請求項７】 単環式芳香族基及び／又はヘテロ芳香族基の置換基がＣ１− ６ −アルキル又はＣ２−６−アルケニル又はＣ２−６−アルキニル基、好ましく
    はＣ１−４−アルキル又はＣ２−４−アルケニル又はＣ２−４−アルキニル基で
    あり、かつハロゲン原子がフッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子であることを特徴
    とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載のエポチロン誘導体。
  8. 【請求項８】 芳香族基又はヘテロ芳香族基が１，２又は３個の置換基を有
    し、ヘテロ芳香族基が１，２又はそれ以上、そして特に１，２，３又は４個のヘ
    テロ原子を有することを特徴とする請求項４乃至７のいずれか一項に記載のエポ
    チロン誘導体。
  9. 【請求項９】 式（２）の化合物を式ＨＣ［Ｂ（ＯＲ）２］３の化合物と反
    応させ、ここで前記残基は先行する請求項のいずれか一項に定義されているとお
    りであり、ＲはＲ１について定義されているとおりであるが、Ｒ１とは独立であ
    ることを特徴とする式（３）の化合物の製造方法。
  10. 【請求項１０】 式（３）の化合物をＮ−ヨード又はＮ−ブロモ−スクシン
    イミドと反応させ、かつ残基が先行する請求項のいずれか一項に定義されている
    とおりであることを特徴とする式（４）の化合物の製造方法。
  11. 【請求項１１】 式（３）の化合物を式Ｒ２−Ｚの化合物とスズキ（鈴木）
    カップリングにより反応させ、ここでＲ２は先行する請求項の一項に定義されて
    いるとおりであり、Ｚはハロゲン原子又は式−ＯＳＯ２ＣＦ３、−ＣＨ＝ＣＨＩ
    、−ＣＨ＝ＣＨＯＳＯ２ＣＦ３の基であってもよいことを特徴とする式（５）の
    化合物の製造方法。
  12. 【請求項１２】 式（４）の化合物をシュティッレ（Ｓｔｉｌｌｅ）カップ
    リングによりＲ２−ＳＮＲ３ ３と反応させ、ここでＲ２は先行する請求項のいず
    れか一項に定義されているとおりであり、Ｒ３はＣ１−乃至Ｃ６−アルキル基、
    好ましくはＣ１−４−アルキル基、特に好ましくはメチル、エチル、プロピル又
    はブチル基であることを特徴とする式（５）の化合物の製造方法。
  13. 【請求項１３】 保護基を式（５）の化合物から除去することを特徴とする
    式（６）の化合物の製造方法。
  14. 【請求項１４】 請求項９，１０，１１又は１２及び１３に記載の工程を備
    え、残基が先行する請求項に定義されているとおりであることを特徴とする式（
    ６）の化合物の製造方法。
  15. 【請求項１５】 請求項１乃至８に記載の化合物の少なくとも１種と、任意
    に慣用の単体、希釈剤及び／又はアジュバントとを含有する医薬。
  16. 【請求項１６】 細胞増殖抑制剤であることを特徴とする請求項１５に従う
    医薬。
  17. 【請求項１７】 請求項１乃至８に記載の化合物の少なくとも１種と、任意
    に慣用の単体、希釈剤及び／又はアジュバントとを含有する農業及び／又は林業
    及び／又は園芸における植物保護剤。
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