TW568910B - Epothilon derivatives, processes for their production and their use - Google Patents

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Thomas Leibold
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Description

568910 A7 B7五、發明説明（1 )本發明係關於環氧噻唑酮衍生物類，其製法及其在醫藥品及植物防護劑製造上之用途。本發明特別係關於如下 式2至式6之環氧噻唑酮衍生物類及關於其在醫藥品及植 物防護劑之用途。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
««I,代:£|~^ etLK丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ο ο
2B 0) (H
P 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 568910 A7 B7
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 568910 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（3) 在上式中： R1為氫原子或為CrC8-烷基，宜為CrC6-烷基，特別 佳為Ci-C4-烧基’尤其是甲基、乙基、丙基或丁基。 R2為單環芳基，例如5-或6-元之芳基（如苯環）或 乙稀基，其中任一基可在鄰-及/或間-及/或對-位被一、 二、三、四或五，特別是一或二個，鹵素原子及/或⑽4及/ 或NR5R6基及/或烧基及或烯基及/或炔基取代，其中r4、r5 及R6各自獨立且定義與R1相同，但與Ri無關，或 R2為5-或6-元單環雜芳基，其環上可具有一或更 多，特別是一或二個〇及/或N及/或s原子及/或可具有⑽4 及/或NR5R6基及/或烧基及/或稀基及/或炔基為取代基， 其中R4，R5及R6之定義如上所述。在R2之定義中，特別佳者 為(^-(：6-烷基或(：2-(：6-烯基及-炔基，特別是C^C4__烷基 或C2-Cr烯基及-炔基。烷基中，特別佳者為甲基、乙美、 丙基及丁基且雜芳基中為6元之雜芳基。
Ha 1為鹵素原子，例如漠或峨，
X - Y 為式-CH2CH-OP或-CH=CH-之基，且 P為保護基，例如TMS 根據本發明之化合物可由下列方法製得·· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
568910 A7 B7 五、發明説明（4 ) 如DE 195 42 986中所述，各基如上之定義。在該反應 中，可使用特別是如下之條件（i)、（iii)及選擇地使用 [在（i)後](ii): (i) (a)在溶劑如二氯甲烷中之〇3，及 (b)引起還原作用，例如加入Me2S ; (ii) (a)(CH3C0)20，HC02H，NEt3，DMAp ; (b) DBU ;及 (c) MeOH ， NH3 ;及 (iii) Me3SiC卜 NEt3. 式（3)化合物可藉式（2)化合物與式HC[B(〇R)2]yt^ 物’如三（伸乙基二經基氧蝴基）甲烧反應而製得；R可 為如上述定義之燒基或烯基。 在反應中可選擇地使用強鹼，如Ci-Cf烷基-鋰化合 物（如丁基經）或二烧基胺-經化合物（如二甲基胺 鐘化合物）。该反應一般在低溫下進行，例如，溫度低於一 30°C，溫度宜為低於-50°C，特別佳之溫度為至少在一78 C ’其他反應條件可參考D· Schummer，G. H0fle in Tetrahedron 1995, 51，11219。 例如，在-78°C時，式（2)化合物與三（伸乙基二羥基 氧硼基）曱烷及丁基鋰反應形成式（3)化合物。 式（4)化合物可藉著將式（3)化合物與.碘_基或N 一溴 -琥珀醯亞胺選擇地在極性溶劑中，例如乙腈中反應而製 得。其他反應條件可參考如下文獻：N A. Petasis，I A. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2l〇X297公羡） 568910 A7 B7 五、發明説明（5 ) Zavialor， Tetrahedron Lett· 1996,37,567· 為了製造式（5)化合物，可將式（3)化合物與式化 合物在鈐木框架内藉偶合反應而製得，其中p定義如上所 述且z可為鹵素原子或為式—os〇2CF3，一 CH=CHI，一 CH=CHOS〇2CF3基，R2-Z基可特別具有下列結構式： &
『專I IT 其中Α為〇，s，Ν或C原子，且〇Ί，C-之取代基相對應在|津1 如上所述之OR4，NR5R6及烷基，烯基及/或炔基。 一 特別較佳之’’C”取代基為^吒厂烷基或c2-c6-烯基及/ 或-炔基，特別是(：〗-(：4-烷基或c2-c4-稀基及/或—炔基。烷 基中，特別佳者為甲基、乙基、丙基及丁基。 或者，式（5)化合物可將式（4)化合物與^、㈤^藉 Stille偶合反應而製得，其中R2定義同上且R3為q—^一烷 基，宜為(：厂(：4-烷基且特別佳者為甲基，乙基，丙基或丁 CI -Ce·院基 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 基。此外，R2-S11R33化合物可為如下任一結構式： W 「，〇-K取代基 h-，0.,n.，c·取代基Hi 氣“j 察專 568910 A7 ___ _B7_ 五、發明説明（7 ) 製備含三（伸乙基二羥基氧硼基）甲烷（0. 30克，1· 5毫 莫耳）於CH2C12/THF(1:1; 4毫升）之溶液，並在惰性氣體 中冷卻至-78°C。在該溫度下，10分鐘内逐滴加入丁基鋰 (在己烷中之1· 6M溶液；〇· 73毫升，1· 2毫莫耳）。2小時 後，加入含丙酮2(81毫克，0· 15毫莫耳）之CHzCh/THF溶液 (1:1，2毫升）溶液，加熱至室溫並攪拌17小時。在加入 MeOH (2毫升）後，將澄清的反應溶液用製備性高效液相 層析法（Lichroprep RP-18，CH3CN/H2〇 75:25)純化。可 製得57毫克（65%)為E/Z異構混合物（6 : 4)形式之烯基硼 酸3。 所挑選出來的典型數據為：LC-MS(ESI-MS): 585(M++H) ; ^-NMR : (300MHz，CD30D):E-異構物： 1.91(S, 3H), 5.16 (d, 1H, 10 Hz), 5.49 (s, 1H), 2-異構物：1.85((1，311，1.1112)，4.93(3，11〇，5.26 (d, 1H, 9. 6 Hz). 乙稀块衍生物4之合成 (亦參閱 N.APetasis，Ι·Α，Zavialor，Tetrahedron
Lett· 1996, 37, 567) 範例（RkHX-Y^CI^CHOTMS) ·· 在室溫下，N-碘基琥珀醯亞胺（6· 0毫克，27微莫耳） 在惰性氣體及不見光下，加入烯基硼酸3(12毫克，21微莫 耳；E/Z 9:1)於CH3CN(150微升）之溶液中並攪拌3小時。 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21GX297公褒） ^^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 568910 A7 B7 五、發明説明（β ) ' '
濃縮後，以製備性薄層色層分離法（si〇2，CH2(:l2/Me()iI 25:5)純化殘質。藉分離E/z-異構混合物形式可分 離出9毫克（66%)峨基乙烯衍生物4。 所挑選出來的典型數據為：LC-MS(ESNM幻： 667CM++H) ; NMR : (300 MHz, CDC13) ; E—異構物： 1·82 (d，3H，1·1Ηζ)，5.36 (d，lH，11 Ηζ)，6.43 (s，1H)。Z-異構物：i 84 (d，3H，1. 1 Hz)，5· 54 (d，1H，10· 5 Hz)，6. 09 (s，1H)。 稀基蝴酸3之鈐木偶合 (亦參閱A, Suzuki，Acc· Chem· Res· 1982，15，178; A. Torrado, S. Lopez, R. Alvarez, A. R. De Lera Synthesis, 1995,285) 範例（RkH，X_Y=CH2CHOTMS，R2=Ph): 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 將含烯基硼酸3( 12毫克，21微莫耳，E/Z 2:8)及乙醇亞 銘（在EtOH中之2M溶液；12微升，24微莫耳）於THF(150微升) 之;谷液’在至溫撥摔15分鐘’然後在3 0分鐘内逐滴加入含 苯基碘（4· 0微升，6· 0毫克，29微莫耳）及四（三苯基膦基） 鈀（7· 1毫克，6· 2微莫耳）於THF( 150微升）之溶液且再攪拌 30分鐘。用製備性薄層色層分離法（Si〇2;CH2Cl2/Et20 95:5)純化後，可得到無色固體形式之環氧噻唑酮苯類似 物5 (10毫克，79%，E/Z 2:8)。 所挑選出來的典型數據為：LC-MS(ESI-MS) : 617 -10 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X297公釐） — 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 568910 A7 B7 五、發明説明（9 ) (M.+ H) ;1!!-NMR: ( 300 MHZ，CDC13) :E_異構物：1.87 (d，3H，1· 4 Ηζ)，5· 35 (d，1H，10. 7Hz)，6· 54 (s，1H)， Z-異構物：1. 80 (d，3H，1. 5 Hz)，5. 61 (d，1H，10· 2
Hz)，6.41 (s，1H)。 碘基乙烯基衍生物4之Stille偶合： (亦參閱K.C.Nicolaou，Υ· He, F· Roschangar, N. P. King, D. Vourloumis，T. Li Angew. Chem. 1998, 1 10,（1/2)，89) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐）

Claims (1)

  1. 568910 8 8 8 8 A B c D 六、申請專利範圍 "一’今 修正補充 :我I 專利申請案第88107412號 、| ROC Patent Appln. No. 88107412 ™— -W後無劃線之申請專利範圍中文本-附件（一） Amended Claims in Chinese - Enel. (I) (民國92年11月1日送呈） (Submitted on November ^ , 2003) 1. 一種製造式(3)化合物之方法 10 (H〇)fD Λ r'
    (3) 15 其中R1為氫原子或(^-至C8-烷基，X-Y 為式-CH2CH-OP 或-CH=CH-基，及 P為保護基，其特徵在於以式(2)化合物與式HC[B(OR)2]3化合物進 行反應， 20 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 R1
    (2) 25 各基團係如上述所定義且R之定義如R1，但與R1無 關。2.—種製造式(4)化合物之方法， -12 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐） 88140B-接 568910 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 R1
    10 15 ⑷ 其中 R1為氫原子或Q-至C8-烷基， X-Y 為式 _CH2CH-OP 或-CH=CH-基，及 P為保護基， 且Hal為鹵素原子，如溴或碘， 其特徵在於以式(3)化合物與N-碘基-或N-溴基-琥珀 酸亞胺進行反應， (H〇)ae
    (3) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 各基團係如上述所定義。 3.—種製造式(5)化合物之方法
    (5) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐） 568910 六、申請專利範圍 Α8 Β8 C8 D8 其中 R為氫原子或（:广至c8-烷基， X-Y 為式-CH2CH_〇P 或 _CH=CH-基，及 p為保護基，且 R2為單環芳基或乙烯基，其中各基可在鄰_及/或間_及/ 或對位被鹵素原子及/或〇R4及/或NR5R6及/或烷 基、締基及/或炔基所取代，或為5_或6_員單環雜芳 基’其環上可含有一或多個〇及/或N及/或S原子 及/或可以OR4及/或NR5R6及/或烷基、烯基及/或炔 基作為取代基，其中R4，R5，R6基各自獨立而其定 義如上述R1之定義，但與Ri無關， 其特徵在於以式(3)化合物與式r2-Z化合物藉鈴木偶 合進行反應，
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中R2係如上述所定義且Ζ可為鹵素原子或式_ 0S02CF3，-CH=CHI，-CH=CHOS〇2CF3 之基。 4· 一種製造式(5)化合物之方法， -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（21〇Χ297公釐） 568910 六、申請專利範圍 R’
    其中 R1為氫原子或CV至C8-烷基， X-Y 為式-CH2CH-OP 或-CH=CH-基，及 P為保護基，且 10 R2為單環芳基或乙烯基，其中各基可在鄰-及/或間-及/ 或對位被鹵素原子及/或OR4及/或NR5R6及/或烷基、 烯基及/或炔基所取代，或為5-或6-員單環雜芳基， 其環上可含有一或多個Ο及/或N及/或S原子及/或 可以OR4及/或NR5R6及/或烷基、烯基及/或炔基作為 15 取代基，其中R4，R5，R6基各自獨立而其定義如上 述R1之定義，但與R1無關， 其特徵在於以式(4)化合物 R1
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中 R1為氫原子或Cr至C8-烷基， -15 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210x297公釐） 8 8 8 8 A B c D 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 568910 六、申請專利範圍 X-Y 為式-CH2CH-OP 或 _CH=CH-基，及 P為保護基， 且Hal為鹵素原子，如漠或埃， 與r2-SNR33藉Stille偶合進行反應，其中R2係如前 5 述申請專利範圍中任一項所定義且R3為CrC6••燒 基，宜為Cm-烷基，特別佳為甲基、乙基、丙基或丁 基。 5.—種製造式(6)化合物之方法， 10 。丫 0 0 ⑹ 其中 15 R1為氫原子或CV至C8-烷基， X-Y 為式-CH2CH-OP 或-CH=CH-基，及 R2為單環芳基或乙烯基，其中各基可在鄰-及/或間-及/ 或對位被鹵素原子及/或OR4及/或NR5R6及/或燒 基、浠基及/或炔基所取代，或為5-或6-員單環雜芳 2〇 基，其環上可含有一或多個Ο及/或N及/或S原子 及/或可以OR4及/或NR5R6及/或烷基、烯基及/或炔 基作為取代基，其中R4，R5，R6基各自獨立而其定 義如上述R1之定義，但與R1無關， 其特徵在於將式(5)化合物中之保護基去除
    -16 - 568910 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 10 R1
    其中Ι^、Ι12、Χ_Υ及P係如上述所定義 6·—種製造式(6)化合物之方法， (5) Λ
    ⑹ 其中 R1為氫原子或Cr至c8-烷基， 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 X-Y 為式 _CH2CH-OP 或 _ch=CH-基，及 R為單環芳基或乙烯基，其中各基可在鄰-及/或間_及/ 或對位被鹵素原子及/或〇R4&/4 nr5r6及/或燒 基、烯基及/或炔基所取代，或為5_或6-員單環雜芳 基，其環上可含有一或多個0及/或N及/或S原子及 /或可以OR4及/或NR5R6及/或烷基、烯基及/或炔基 作為取代基，其中R4，R5，R6基各自獨立而其定義 如上述R1之定義，但與Ri無關， 其特徵在於其包含如申請專利範圍第1、3及5項中 所揭示之方法步驟，各基團係如前述申請專利範圍之 -17 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210x297公釐） 568910 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 定義。 7.—種製造式(6)化合物之方法， R1
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中 R1為氫原子或Q-至C8-烷基， 10 X-Y 為式-CH2CH-OP 或-CH=CH_基，及 R2為單環芳基或乙烯基，其中各基可在鄰-及/或間-及/ 或對位被鹵素原子及/或OR4及/或NR5R6及/或烷 基、烯基及/或炔基所取代，或為5-或6-員單環雜芳 基，其環上可含有一或多個Ο及/或N及/或S原子 15 及/或可以OR4及/或NR5R6及/或烷基、烯基及/或炔 基作為取代基，其中R4，R5，R6基各自獨立而其定 義如上述R1之定義，但與R1無關， 其特徵在於其包含如申請專利範圍第1、2、4及5項 中所揭示之方法步驟，各基團係如前述申請專利範圍 20 之定義。 -18 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210x297公釐）
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