JP2002510664A - 2−クロロ−1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンと、そのhfとの共沸混合物を精製および使用する方法 - Google Patents
2−クロロ−1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンと、そのhfとの共沸混合物を精製および使用する方法Info
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Abstract
Description
ン(すなわち、CF3CClFCF3、またはCFC−217ba)、それのフッ
化水素との共沸組成物の精製、および分離方法におけるそれらの利用に関する。
、価値のあるフルオロモノマーであり、CF3CClFCF3の水素化脱ハロゲン
化によって調製することができ、CF3CClFCF3自体はCF3CCl2CF3 (CFC−216aa)とHFとの反応(例えば、米国特許第5,057,63
4号、および5,068,472号を参照)によって調製することができる。C
FC−216aaのCFC−217baへの転化に対して好ましい反応速度を得
るために、通常、過剰量のHFを使用する。HFは、生成混合物のハロゲン化炭
化水素成分から、慣用の水溶液洗浄技法を使用して除去することができる。しか
し、相当量の洗浄液の排出が生じ、水性廃棄物処理の問題を引き起こす可能性が
ある。
として必要とされている。
。この方法は、約−30℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持す
るのに十分な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程を有し、それによ
り50モルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され
、90モルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成され
る。
なCF3CClFCF3を回収するために、蒸留塔において蒸留にかけることがで
きる。HFおよびCF3CClFCF3を含む留出物は、蒸留塔の頂部から除去す
ることができ、一方、本質的にHFを含まないCF3CClFCF3は、蒸留塔の
底部から回収することができる。所望であれば、留出物を分離ゾーンに再循環さ
せることができる。
蒸留にかけることができる。HFおよびCF3CClFCF3を含む留出物は、蒸
留塔の頂部から除去することができ、一方、本質的に純粋なHFは、蒸留塔の底
部から回収することができる。所望であれば、留出物を分離ゾーンに再循環させ
ることができる。
果的な量のCF3CClFCF3と組み合わせた、フッ化水素を含む組成物も提供
するが、前記組成物は、CF3CClFCF3を約38.4から47.9モルパー
セント含有する。
,3,3−ヘプタフルオロプロパンを製造するための方法も提供する。この方法
は、先に示したように本質的にHFを含まないCF3CClFCF3を調製する工
程と、得られたCF3CClFCF3を水素と反応させる工程とによって特徴づけ
られる。
の別の方法も提供する。この方法は、CF3CClFCF3とHFとの共沸混合物
を上述のように水素と接触させる工程と、HFの存在下で、CF3CClFCF3 を水素と反応させる工程とによって特徴づけられる。
ペンを生成するための方法も提供する。この方法は、先に示したように本質的に
HFを含まないCF3CClFCF3を調製する工程と、得られたCF3CClF CF3を脱ハロゲン化する工程とによって特徴づけられる。
すると、HFおよびCFC−217ba(HF:CFC−217baのモル比が
約1:1より大きい)を含む供給混合物は、ライン(210)を通過し、冷却器
(100)を通過して分離ゾーン(200)に入る。供給混合物は、例えば、C
FC−216aaのヒドロフッ素化(hydrofluorination)に
よってCFC−217baを合成するための反応器から導入することができ、供
給ライン(210)は、HCl除去カラム(不図示)に続くことができる。分離
ゾーン(200)は、約−30℃から約100℃間の温度、好ましくは約−25
℃から約0℃の間、および混合物を液体として維持するのに十分な圧力に保持す
る。例えば、約50℃では分離器を約117psia(806kPa)より大き
い圧力に維持し、約−20℃では分離器を約10psia(69kPa)より大
きい圧力に維持する。このような温度では、液化された流れは、1つの相が供給
混合物に比べて有機物に富み、もう1つの相が供給混合物に比べてHFに富む、
2つの相を形成する。有機物に富む相は、代表的に50モル%を超える有機物を
含み、HFに富む相は、代表的に90モル%を超えるHFを含む。−25℃から
0℃の好ましい温度範囲内では、有機物に富む相は、代表的に10モルパーセン
ト以下のHFを含み、HFに富む相は、代表的に95モルパーセント以上のHF
を含む。
除去され、多段蒸留塔(300)に供給される。塔(300)は、HFおよびC
FC−217baを含む低沸点の共沸混合物、または共沸混合物様混合物が形成
されるような条件下で操作される。塔(300)の操作圧力は、代表的に約10
psia(69kPa)から約250psia(1723kPa)の間であり、
塔頂部での温度は、代表的に約0℃から約100℃の間であるが、正確な温度は
操作圧力に依存する。HF/CFC−217ba共沸混合物は、オーバーヘッド
部分に蒸留され、塔(300)の頂部からライン(235)を通って除去され、
冷却器(100)に戻され再循環される。本質的に純粋なHFは、蒸留塔の底部
からライン(310)を通って除去することができる。
て除去され、別の多段蒸留塔(400)に供給される。塔(400)は、HFお
よびCFC−217baを含む低沸点の共沸混合物、または共沸混合物様組成物
が形成されるような条件下で操作される。塔(400)の操作圧力は、代表的に
約10psia(69kPa)から約250psia(1723kPa)の間で
あり、塔頂部での温度は通常、約0℃から約100℃の間であるが、正確な温度
は操作圧力に依存する。HF/CFC−217ba共沸混合物は、オーバーヘッ
ド部分に蒸留され、塔(400)の頂部からライン(240)を通って除去され
、冷却器(100)に再循環される。本質的に純粋なCFC−217baは、塔
の底部からライン(320)を通って除去される。
成することができる。この方法の例は、水素化触媒の存在下、約300℃以下の
高温で、CFC−217baを水素と反応させる方法を含む。また、温度約35
0℃から700℃の範囲内の温度において、CFC−217baを触媒なしで水
素と反応させる方法も含む。
、圧力軽減および調節弁、圧縮機、ポンプ、貯蔵タンクといった装置のさらなる
品目を含める必要があることを、当業者であれば理解できるであろう。装置のそ
のような補助品目の提供は、慣用の化学工学における実施に従うものである。
17ba)の共沸蒸留を含む。本発明に従って蒸留される生成物混合物は、種々
の供給源から得ることができる。こうした供給源には、CF3CCl2CF3のC F3CClFCF3へのヒドロフッ素化によって得られた生成物混合物などがある
。
合物または共沸混合物様組成物を形成するのに効果的な量のCF3CClFCF3 と組み合わせたフッ化水素からなる混合物から精製される方法であり、前記共沸
組成物は、CF3CClFCF3を約38.4から47.9モルパーセント含有す
る。
るのに効果的な量のCF3CClFCF3とからなる組成物も提供する。効果的な
量とは、HFと組み合わせた場合に、共沸混合物、または共沸混合物様混合物の
形成をもたらす量を意味する。当技術分野で認識されるように、共沸混合物また
は共沸混合物様組成物は、2つ以上の異なる成分の混合物であり、所与の圧力下
で液体形態である場合には実質的に一定の温度で沸騰する。そして、沸騰温度は
、個々の成分の沸騰温度よりも高くなるか、または低くなる可能性があり、沸騰
している液体組成物と本質的に同一の蒸気組成物を提供するものである。
示す液体混合物である。共沸混合物は、1つの液相のみが存在する場合には均一
である。共沸混合物は、2つ以上の液相が存在する場合には不均一である。それ
にもかかわらず、共沸混合物の極小共沸点の特徴は、バルク液体の組成がそれと
平衡状態にある蒸気の組成と同一であることであり、共沸混合物の蒸留は分離技
法として効果的ではない。この議論の目的は、共沸混合物様組成物は、共沸混合
物のようにふるまう(例えば、一定沸点の特徴、または、煮沸もしくは蒸発で分
画されない傾向を有する)組成物を意味する。したがって、そのような組成物の
沸騰または蒸発の間に形成された蒸気の組成は、元の液体の組成と同じか、また
は実質的に同じである。したがって、沸騰または蒸発の間、液体組成物は仮に変
化したとしても、最小または無視できる程度に変化するだけである。これは、沸
騰または蒸発の間に、液体組成物が相当な程度に変化する非共沸混合物様組成物
とは対照的である。
圧力において液体組成物の沸点が固定されており、沸騰している組成物上の蒸気
の組成は本質的に沸騰している液体組成物の組成である(すなわち、液体組成物
の成分の分画は起こらない)。当技術分野ではまた、共沸混合物または共沸混合
物様液体組成物が異なる圧力で沸騰に供される場合には、共沸組成物の沸点およ
び各成分の重量パーセントのどちらも変化する可能性があるということが認識さ
れている。したがって、共沸混合物または共沸混合物様組成物は、組成物の間に
存在する独特の関係という点、または成分の組成範囲の点、もしくは特定の圧力
において固定された沸点によって特徴づけられる組成物の各成分の正確な重量パ
ーセントという点で定義することができる。当技術分野ではまた、種々の共沸組
成物(特定の圧力における沸点も含む)を計算することができることも認識され
ている(例えば、W.Schotte、Ind.Eng.Chem.Proce
ss Des.Dev.1980、19、pp432〜439を参照)。そのよ
うな計算の精度を確認するため、および/または、同一または他の温度および圧
力における共沸組成物の計算を修正するために、同一の成分を含む共沸組成物の
実験的同定を用いることができる。
る組成物を形成することができる。これらは、本質的に約62.1から約52.
1モルパーセントのHF、および約37.9から47.9モルパーセントのCF 3 CClFCF3からなる組成物を含む(約−50℃から約50℃間の温度、およ
び約13.6kPaから約807kPa間の圧力で沸騰する共沸混合物を形成す
る)。
19.5℃と−2.2℃である。9.7psia(67kPa)および−20℃
におけるHFおよびCFC−217baの比揮発度は、HFが60.4モルパー
セントおよびCFC−217baが39.6モルパーセントに近づくにつれ、ほ
ぼ1.0になることが見出された。56.0psia(386kPa)および2
5℃におけるHFおよびCFC−217baの比揮発度は、HFが55.7モル
パーセントおよびCFC−217baが44.3モルパーセントに近づくにつれ
、ほぼ1.0になることが見出された。こうしたデータは、慣用の蒸留手順の利
用では化合物の比揮発度の値が低いために、実質的に純粋な化合物の分離が得ら
れないことを示している。
x法を使用した。この手順では、既知体積のセルにおける総絶対圧力を、種々の
既知の2成分組成物について一定の温度で測定する。PTx法の使用は、Har
old R.Null著、1970年、Wiley−Interscience
出版、「Phase Equilibrium in Process Des
ign」の124から126ページに詳述されており、その全開示を参照するこ
とにより本明細書に取り込む。2つの液相が存在するような条件下において、蒸
気および液体、または蒸気および2つの各液相の試料を入手し、それぞれの組成
を確認するために分析した。
モデルによって、セル中の平衡状態にある蒸気および液体組成物に換算され、液
相の非理想物を表すことができる。NRTL方程式などの活量係数方程式の利用
は、Reid、PrausnitzとPoling著、McGraw Hill
出版、第4版、「The Properties of Gases and
Liquids」の241から387ページ、およびStanley M.Wa
las著、1985年、Butterworth出版によって出版された、「P
hase Equilibria in Chemical Engineer
ing」の165から244ページに詳述されており、以前に認証された参照の
それぞれの全開示を、参照することにより本明細書に取り込む。
RTL方程式は、HFおよびCFC−217baの混合物が、理想的なスタイル
でふるまうか否かを十分に予測することができ、そのような混合物中の成分の比
揮発度を十分に予測することができると考えられている。したがって、低いCF
C−217ba濃度において、HFがCFC−217baと比べて十分な比揮発
度を有する一方で、その比揮発度は、−20℃においてCFC−217baが3
9.6モルパーセントに近づくにつれほぼ1.0になる。このため、そのような
混合物から慣用の蒸留によって、HFからCFC−217baを分離することが
不可能になる。比揮発度が1.0に近づいたところで、系は共沸混合物によく似
たものを形成していると定義する。比揮発度が1.0であるところで、系は共沸
混合物を形成していると定義する。
ることが見出された。9.7psia(67.0kPa)の圧力、および−20
℃では、共沸混合物の蒸気の組成は、HFが約60.4モルパーセント、および
CFC−217baが約39.6モルパーセントであることが分かった。圧力5
6.0psia(386kPa)、および25℃では、共沸混合物の蒸気の組成
は、HFが約55.7モルパーセント、およびCFC−217baが約44.3
モルパーセントであることが分かった。上記の発見に基づき、約61.6モルパ
ーセントのHFと、約38.4モルパーセントのCFC−217baとからなる
共沸組成物は、−50℃および1.91psia(13.6kPa)で形成する
ことができ、また約52.1モルパーセントのHFと、約47.9モルパーセン
トのCFC−217baとからなる共沸組成物は、50℃および117psia
(807kPa)で形成できることが計算された。したがって、本発明は、本質
的に約61.6から52.1モルパーセントのHFと、約38.4から47.9
モルパーセントのCFC−217baとからなる、共沸混合物または共沸混合物
様組成物を提供し、前記組成物は、13.6kPaにおいて約−50℃から80
7kPaにおいて約50℃の沸点を有する。
用であり、再循環されたHFは、反応体として機能することができ、再循環され
たCFC−217baは、反応熱の温度効果を和らげるように機能することがで
きる。CFC−217baは、HFと反応してパーフルオロプロパン(例えば、
CF3CF2CF3またはFC−218)を生成することができる。HFを含む共 沸混合物を含有する蒸留は、代表的に、HFなしでの蒸留(例えばHFが蒸留前
に除去される蒸留)より、さらに都合の良い条件下で行うことができるというこ
ともまた、当分野の一般技術者の誰にでも明白であろう。HFは、生成混合物の
ハロゲン化炭化水素成分から、慣用の水溶液有機相洗浄技法を使用して除去する
ことができる。しかし、相当量の洗浄液の排出が生じ、水性廃棄物処理の問題を
引き起こす可能性がある。したがって、そのような生成混合物中でHFを利用す
る方法が、依然として必要とされている。
して)を、触媒の存在下または非存在下で、HFC−227ea(例えば、CF 3 CHFCF3)に水素化分解することができる。CFC−217baは、少なく
とも100℃の温度、および約101kPaから約5000kPaの範囲内の圧
力のもとで、レニウム、ルテニウム、ロジウム、およびパラジウム、およびその
混合物からなる群から選択された触媒の存在下で、CFC−217baを水素と
接触させる工程を有する方法によって、HFC−227eaに水素化脱塩素化す
ることができる。米国特許第5,364,992号は、約0psig(101k
Pa)から1000psig(6994kPa)の範囲内の圧力、約350℃か
ら700℃の範囲内の温度において、HFC−227eaを生成するのに十分な
時間にわたって、ニッケル、鉄、またはそれらの合金でできた空の反応器中で、
CFC−217baを、CFC−217baの1モル当たり少なくとも0.1モ
ルの水素と接触させることによって、CFC−217baをHFC−227ea
に水素化分解する方法を開示している。
脱ハロゲン化は、水素、および適切な触媒を使用して行う(例えば、米国特許第
5,057,634号、および5,068,472号を参照)。
baを添加する工程を含む種々の供給源から得られる一方で、本発明の有利な利
用は、上述されたように、CFC−217baの調製からの溶出液混合物を処理
することにある。一般に、反応流出液は、HF:CFC−217baのモル比は
約0.1:1から約100:1である。好ましいHF:CFC−217baのモ
ル比は、気相のフッ素化反応の場合には約1:1から10:1であり、液相の反
応の場合には約1:1から約50:1である。最も好ましいHF:CFC−21
7baのモル比は、この方法から最大の利益を得るためには約2:1から5:1
である。発明に従って処理された最初の混合物が、HClおよび他の低沸点物質
(例えば、C3F8)もまた含有する場合には、HClおよび他の低沸点物質は、
混合物を共沸混合物分離塔に供給する前に、別の蒸留塔で除去することができる
。
独立した蒸留塔で除去することができる。
ットは、フッ化水素、塩化水素、および塩素に耐性のある材料で構成される必要
がある。フッ素化の分野で公知である、代表的な構成材料には、ステンレス鋼、
特にオーステナイト型、Monel(登録商標)ニッケル−銅合金、Haste
lloy(登録商標)ニッケルをベースとした合金、Inconel(登録商標
)ニッケル−クロム合金などの、公知の高ニッケル合金などがある。反応器の組
み立てに適するものはまた、一般にライニングとして使用される、ポリトリフル
オロクロロエチレン、およびポリテトラフルオロエチレンなどの高分子プラスチ
ックである。
大いに利用することができると考える。したがって、以下の好ましい特定の実施
形態は単に例示的なものとして解釈すべきであり、開示の残りの部分を決して制
約するものではない。
度は摂氏温度である。データは、測定および計算された熱力学的性質を使って計
算したものから得た。縦列の一番上の数字は、図1を参照する。
ム酸アンモニウムの熱分解から得られた酸化クロム(47.25g、35mL、
10〜20メッシュ、(2.0〜0.84mm))を、流動化砂浴中で加熱した
外径5/8インチ(1.58cm)のInconel(登録商標)ニッケル合金
反応器に入れた。これを窒素流(50cc/分)中で175℃に加熱し、また、
その温度になった時にHF流(50cc/分)も反応器に通し始めた。15分後
、窒素流を20cc/分まで減少し、HF流を80cc/分まで増加させた。反
応器温度を2時間で徐々に400℃まで上昇させ、さらに30分間にわたって4
00℃に保持した。このピリオドの終了時において、反応器を、窒素流下で触媒
評価のために望ましい操作温度にした。
モル%で示す。
a、および217caを含む。
nel(登録商標)600ニッケル合金のU管反応器に、1%Ru/酸洗浄炭素
(1.9g、6.25Ml)を充填した。反応圧力は、0psig(101.3
kPa)であった。種々の条件における結果(モル%)を、表3に示す。
ある。
Claims (10)
- 【請求項1】 HFおよびCF3CClFCF3を含む混合物の分離方法であ
って、 (a)約−30℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに
十分な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより5
0モルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、9
0モルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工
程と、 (b1)前記分離ゾーンの底部から、有機物に富む相を取り出し、それを蒸留
塔において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CClFCF3を
含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記(b1)の蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3C ClCF3を回収する工程と を有することを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記分離ゾーンを−25℃から0℃の温度で操作し、10モ
ルパーセント以下のHFを含有する有機物に富む相、および95モルパーセント
以上のHFを含有するHFに富む相を形成することを特徴とする請求項1に記載
の方法。 - 【請求項3】 前記(c1)で除去された留出物を、前記分離ゾーンに再循
環させることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 HFおよびCF3CClFCF3を含む混合物の分離方法であ
って、 (a)約−30℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに
十分な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより5
0モルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、9
0モルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工
程と、 (b2)前記分離ゾーンの頂部からHFに富む相を取り出し、それを蒸留塔に
おいて蒸留する工程と、 (c2)前記(b2)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CClFCF3を
含む留出物を除去する工程と、 (d2)前記(b2)の蒸留塔の底部から、本質的に純粋なHFを回収する工
程と を有することを特徴とする方法。 - 【請求項5】 前記(c2)で除去された留出物を、前記分離ゾーンに再循
環させることを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 (b1)前記分離ゾーンの底部から有機物に富む相を取り出
し、それを蒸留塔において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CClFCF3を
含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記(b1)の蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3C ClCF3を回収する工程と をさらに有することを特徴とする請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 HFおよびCF3CClFCF3を含む混合物から、1,1,
1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンを製造する方法であって、 (a)約−30℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに
十分な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより5
0モルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、9
0モルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工
程と、 (b1)前記分離ゾーンの底部から有機物に富む相を取り出し、それを蒸留塔
において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CClFCF3を
含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3CClFCF3 を回収する工程と、 (e)前記(d1)からのCF3CClFCF3を水素と反応させる工程と によって特徴づけられる方法。 - 【請求項8】 1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンを製
造する方法であって、 (i)フッ化水素との共沸混合物または共沸混合物様組成物を形成するのに効
果的な量のCF3CClFCF3を組み合わせた、フッ化水素を含む組成物であっ
て、CF3CClFCF3を約38.4から47.9モルパーセント含有する組成
物と、(ii)水素とを接触させる工程と、 HFの存在下で、CF3CClFCF3を水素と反応させる工程と によって特徴づけられる方法。 - 【請求項9】 HFおよびCF3CClFCF3を含む混合物から、ヘキサフ
ルオロプロペンを製造する方法であって、 (a)約−30℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに
十分な圧力の分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより50モルパ
ーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、90モルパ
ーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工程と、 (b1)前記分離ゾーンの底部から有機物に富む相を取り出し、それを蒸留塔
において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CClFCF3を
含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3CClFCF3 を回収する工程と、 (e)前記(d1)からのCF3CClFCF3を、水素化脱ハロゲン化する工
程と によって特徴づけられる方法。 - 【請求項10】 フッ化水素との共沸混合物または共沸混合物様組成物を形
成するのに効果的な量のCF3CClFCF3と組み合わせた、フッ化水素を含む
組成物であって、CF3CClFCF3を約38.4から47.9モルパーセント
含有することを特徴とする組成物。
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