JP2002508754A - ｐ３８キナーゼ阻害剤としての置換基を有するピラゾール類 - Google Patents

ｐ３８キナーゼ阻害剤としての置換基を有するピラゾール類

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JP2002508754A JP55065098A JP55065098A JP2002508754A JP 2002508754 A JP2002508754 A JP 2002508754A JP 55065098 A JP55065098 A JP 55065098A JP 55065098 A JP55065098 A JP 55065098A JP 2002508754 A JP2002508754 A JP 2002508754A
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ゴン，リフォン
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ラジ セルネス，シャウン
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エイ スティーレイ，マイケル
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ユイ，イー
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ジー ディ サール アンド カンパニ
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Abstract

(57)【要約】 ｐ３８キナーゼ媒介疾患の治療に利用されるピラゾール誘導体の部類を説明する。特に重要な化合物は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4を明細書の中で説明した式（Ｉ）により定義される。

Description

【発明の詳細な説明】 ｐ３８キナーゼ阻害剤としての置換基を有するピラゾール類関連出願とのクロス・リファレンス 本出願は１９９７年５月２２日に出願した米国仮出願番号６０/０４７，５７ ０号に基づく優先権を主張する。発明の分野 本発明はピラゾール化合物類の新規なグループと、ｐ３８キナーゼ媒介疾患を 治療するための組成物及び方法に関する。発明の背景 マイトジェン活性タンパク質キナーゼ（ＭＡＰ）はデュアルホスホリル化によ り基質を活性化させるプロリン指向セリン/スレオニンキナーゼの系統である。 キナーゼは、栄養作用及び浸透ストレス、ＵＶ光、成長因子、エンドトキシン及 び炎症サイトカインを含む多くのシグナルにより活性化される。ｐ３８ＭＡＰキ ナーゼグループは、ｐ３８α、ｐ３８β及びｐ３８γを含む多種のアイソフォー ムのＭＡＰ系統であり、転写因子（例えばＡＴＦ２、ＣＨＯＰ及びＭＥＦ２Ｃ） たけてなく他のキナーゼ（例えはＭＡＰＫＡＰ-２及ひＭＡＰＫＡＰ-３）をホス ホリル化及び活性化させる原因である。ｐ３８アイソホームはバクテリアリポ多 糖、物理的及び化学的ストレスにより、並びに腫瘍壊死因子（ＴＮＦ-α）及び インターロイキン-１（ＩＬ-１）を含むプロ-炎症サイトカインにより、活性化 される。ｐ３８ホスホリル化の生成物は、ＴＮＦとＩＬ-１及びシクロオキシゲ ナーゼ-２を含む炎症サイトカインの生産を媒介する。 ＴＮＦ-αは活性化された単球及びマクロファージにより主に産出されたサイ トカインである。過剰若しくは非調整ＴＮＦ生産は、 多くの病気の媒介に関係している。最近の研究により、ＴＮＦは慢性関節リウマ チの病原において、原因の役割を担っていることが示された。更なる研究により 、ＴＮＦを阻害することは、炎症、炎症腸の病気、多重硬化症及び喘息の治療へ の幅広い応用があることが示された。 ＴＮＦは、ＨＩＶ、ンフルエンザウイルス及び１型単純ヘルペスウイルス（Ｈ ＳＶ-１）、２型単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ-２）サイトメガロウイルス（Ｃ ＭＶ）、水痘-帯状疱疹ウイルス（ＶＺＶ）、エプスタイン-バーウイルス、６型 ヒトヘルペスウイルス（ＨＨＶ-６）、７型ヒトヘルペスウイルス（ＨＨＶ-７） 、８型ヒトヘルペスウイルス（ＨＨＶ-８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎、他のウ イルスのようなウイルス感染にも関係している。 ＩＬ-８は別のプロ炎症サイトカインであり、単核細胞、繊維芽細胞、内皮細 胞及びケラチノサイトにより産出され、炎症を含む状態と関連している。 ＩＬ-１は活性化された単核細胞及びマクロファージにより産出され、炎症応 答に関係している。ＩＬ-１は、慢性リウマチ、発熱及び骨吸収の減少を含む多 くの病態生理学応答において、役割を果たす。 ＴＮＦ、ＩＬ-１及びＩＬ-８は幅広い種類の細胞及び組織に影響を与え、幅広 い種類の病気状態及び条件の重要な炎症媒介物である。ｐ３８キナーゼの阻害に よる上記のサイトカインの阻害は、多くの上記病気の状態を制御し、減少させ、 そして軽減させる点において有益である。 従来から数多くのピラゾール類が周知である。Beiler及びBinonへの米国特許 第４、０００、２８１号には、ミクソウイルス、アデノウイルス及び多様なヘル ペスグループのウイルスのようなＲＮＡ及びＤＮＡウイルスに対して、坑ウイル ス活性を有する４、５-アリール/ヘテロアリール置換ピラゾール類が開示されて いる。１９ ９２年１１月１２日に発行された国際特許出願ＷＯ９２/１９６１５には、新規 な殺菌剤としてピラゾール類が開示されている。CueremyとRenaultへの米国特許 第３、９８４、４３１号には、坑炎症活性を有するものとして、ピラゾール-５- 酢酸の誘導体が記載されている。具体的には、［１-イソブチル-３、４-ジフェ ニル-1H-ピラゾール-５-イル］酢酸が記載されている。Hinsgenらへの米国特許 第３、２４５、０９３号には、ピラゾールの合成方法が開示されている。１９８ ３年２月３日に発行された国際特許出願ＷＯ８３/００３３０号には、ジフェニ ル-３、４-メチル-５-ピラゾール誘導体の新しい合成方法が開示されている。１ ９９５年３月２日に発行された国際特許出願ＷＯ９５/０６０３６号には、ピラ ゾール誘導体の合成方法が開示されている。T．Gotoらへの米国特許第５、５８ ９、４３９号には、テトラゾール誘導体と除草剤としてのそれらの使用が開示さ れている。欧州特許第５１５、０４１号には、新規な農業用殺菌剤として、ピリ ミジル置換ピラゾールが開示されている。日本国特許第４、１４５、０８１号に は、除草剤としてピラゾールカルボン酸誘導体が開示されている。日本国特許５ 、３４５、７７２号には、アセチルコリンエステラーゼを阻害するものとして新 規なピラゾール誘導体が開示されている。 ピラゾール類は、炎症の治療において利用されることが記載されている。日本 国特許５、０１７、４７０号には、坑炎症、坑リウマチ、坑バクテリア及び坑ウ イルス薬として、ピラゾール誘導体の合成が開示されている。１９８３年１２月 ３日に発行された欧州特許第１１５６４０号には、トロンボキサン合成の阻害剤 として４-イミダゾリル-ピラゾール誘導体が開示されている。３-（４-イソプロ ピル-１-メチルシクロヘキ-１-イル）-４-（イミダゾール-１-イル）-１Ｈ-ピラ ゾールが具体的に説明されている。１９９７年１月１６日に発行された国際特許 出願ＷＯ９７/０１５５１号には、アデノシンアンタゴニストとしてのピラゾー ル化合物が 説明されている。４-（３-オキソ-２、３-ジヒドロピリダジン-６-イル）-３-フ ェニルピラゾールが具体的に説明されている。Matsuoらへの米国特許第５、１３ ４、１４２号には、坑炎症活性を有するものとして、１、５-ジアリールピラゾ ールが記載されている。 Adamsらへの米国特許第５、５５９、１３７号には、サイトカイン病気の治療 に利用されるサイトカインの阻害剤として、（１、３、４-置換）の新規なピラ ゾールが開示されている。具体的には、３-（４-フルオロフェニル）-１-（４- メチルスルフィニルフェニル）-４-（４-ピリジル）-５Ｈ-ピラゾールが説明さ れている。１９９６年２月８日に発行された国際特許出願ＷＯ９６/０３３８５ 号には、坑炎症活性を有するものとして、３、４-置換ピラゾール類が開示され ている。具体的には、４-［１-エチル-４-（４-ピリジル）-５-トリフルオロメ チル-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］ベンゼンスルホンアミドが説明されている。 本発明のピラゾリル化合物は、ｐ３８キナーゼ阻害剤としての有用性が発見さ れた。発明の説明 ｐ３８媒介疾患を治療するのに有用な置換基を有するピラゾリル化合物の部類 は、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シク ロアルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキ レン、シクロアルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル 、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニ ル、ヒドロキシアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリー ルヘテロシクリル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、ア ルケノキシアルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシ クリロキシアルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチ オアルキレン、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ 、アミノアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、ア リールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスル フィニル、アルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルス ルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニ ル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレ ン、アルキルスルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキ シカルボニルアルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカ ルボニルアリーレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカル ボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニル アルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、 ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、ア リールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、 アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘ テロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル 、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキ シアリールアミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリー ルアミノカルボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリー ルカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカル ボニルアリーレン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカル ボニルアリーレン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、 ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シク ロアルキルチオアルキレン、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレ ン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリー ルスルホニルアミノアルキレン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミ ノスルホニルアリーレンから選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアリーレン、アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、ア リールアミノカルボニルアルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリ ールカルボニルアリーレン、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリ ーレン、アリールチオアルキルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基 は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシ アノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルア ミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキル スルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しく は Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）Ｏ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ（ Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり 、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水 素及びヘテロシクリルから独立に選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロ シクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミ ノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒ ドラジニル、アルキルヒドラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44 Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44 はアルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり 、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉの化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 式Ｉの化合物は、これに限定されないが、哺乳類による過剰な若 しくは非調整のＴＮＦ又はｐ３８キナーゼ産出により悪化する、若しくは引き起 こされるヒト又は他の動物の疾患若しくは病気の状態を治療するのに有用である 。したがって、本発明は、有効なサイトカイン干渉量を投与することより成り、 式Ｉの化合物又はその製薬的に許容な塩のサイトカインサイトカイン媒介疾病を 治療する方法を提供する。 式Ｉの化合物は、これに限定されないが、被験者の炎症の治療、、及び熱治療 用の解熱薬として有用である。本発明の化合物は、これには限定されないが、関 節炎、脊椎関節炎、痛風関節炎、骨関節炎、全身性エリテマトーデスや若年性関 節炎、骨関節炎、痛風関節炎、及び他の関節炎状態の治療に有用である。かかる 化合物は、大人呼吸窮迫症候群、肺類肉腫、喘息、けい肺、及び慢性肺炎症疾患 を含む肺疾患及び炎症の治療に有用である。さらに化合物は、敗血症、敗血症シ ョック、グラム陰性敗血症、マラリア、脳膜炎、感染又は悪性へに悪液質、後天 性免疫不全症候群（ＡＩＤＳ）、ＡＲＣ（ＡＩＤＳ関連合併症）、肺炎及びヘル ペスウイルスへの悪液質を含むウイルス及びバクテリア感染に有用である。さら に化合物は、骨関節炎、エンドトキシンショック、トキシックショック症候群、 再灌流損傷のような骨吸収、移植片対宿主反応及び異型移植の拒絶を含み自己免 疫疾患、アテローム硬化症、血栓、うっ血性心不全や心臓再灌流損傷、腎性再灌 流損傷を含む心臓血管疾患、肝臓病や腎炎、感染による筋肉痛の治療に有用であ る。さらに化合物は、インフルエンザ、多重硬化、癌、糖尿病、全身性エリテマ トーデス（ＳＬＥ）、乾癬、湿疹、火傷、皮膚炎、ケロイド形成、はんこん組織 形成及び血管形成疾患のような皮膚関連の状態の治療に有用である。さらに、本 発明の化合物は、炎症腸疾患、クーロン病、胃炎、過敏性腸症候群及び潰瘍性大 腸炎のような胃腸疾患を治療するのに有用である。さらに化合物は、網膜炎、網 膜障害、ブドウ膜炎、眼球光恐怖症及び眼組織への急性損傷のような眼疾患の治 療にも有用で ある。さらに、本発明の化合物は、新生物、癌細胞の転移を含む血管形成、角膜 移植の拒絶反応のような眼状態、眼球新血管新生、損傷又は感染に続くレチナー ル新血管新生、糖尿病患者の網膜症、水晶体後線維増殖や新血管形成緑内症、胃 潰瘍のような潰瘍性疾患、インヴァンタイル(invantile)ヘマギノマス(hemagino mas)を含むヘマギノマスのような非悪性である異常状態、鼻咽頭の血管繊維症や 骨の虚血壊死や心筋症、子宮内膜症のような女性生殖系の疾患の治療に有用であ る。本発明の化合物は、さらに、シクロオキシゲナーゼ-２の産出を防止するの に有用である。 ヒト治療に有用であることに加えて、さらに上記化合物は、哺乳類、げっ歯類 などを含むペット動物、外来動物や農場動物の獣医学的治療にも有用である。さ らに好ましい動物には、馬、犬や猫などがある。 さらに本発明の化合物は、ステロイド、シクロオキシゲナーゼ-２阻害剤、Ｄ ＭＡＲＤ、免疫抑制剤、ＮＳＡＩＤ、５-リポキシゲナーゼ阻害剤、ＬＴＢ4アン タゴニストやＬＴＡ4ヒドロラーゼ阻害剤とともに、従来の他の坑炎症剤に変わ り、部分的な若しくは全面的な共治療にも利用可能である。 本願で使用するように、用語“ＴＮＦ媒介疾患”とは、ＴＮＦが役割を果たす 、ＴＮＦ自身の制御による、又はこれに限定されるわけではないがＩＬ-１、Ｉ Ｌ-６若しくはＩＬ-８のようなＴＮＦが原因となる関連する他のモノカインによ る、のいずれかによるいずれかの、及び全ての疾患及び疾病状態のことをいう。 例えば、ＩＬ-１が大きな役割をする疾病状態では、その産出及び作用は、ＴＮ Ｆに応じて悪化させる、又は分泌され、したがって、ＴＮＦにより媒介された疾 患とみなされる。 本願で使用するように、用語“ｐ３８媒介疾患”とは、ｐ３８が役割を果たす 、ｐ３８自身の制御による、又はこれに限定されるわけではないがＩＬ-１、Ｉ Ｌ-６若しくはＩＬ-８のような関連す るｐ３８が原因となる他の要因による、のいずれかによるいずれかの、及び全て の疾患及び疾病状態のことをいう。例えば、ＩＬ-１が大きな役割をする疾病状 態では、その産出及び作用は、ｐ３８に応じて悪化させる、又は分泌され、した がって、ＴＮＦにより媒介された疾患とみなされる。 ｐ３８はＴＮＦ-α（悪液質として周知である）と閉鎖した構造的相同性があ り、さらに夫々は同様な生物学的応答を示し、同じ細胞受容体に結合するので、 ＴＮＦ-α及びＴＮＦ-βの双方の合成は、本発明の化合物により阻害され、とっ て本願では特に断りがなければ“ＴＮＦ”としてまとめていうことにする。 化合物の好ましい部類は、式Ｉの上記化合物から成り、ここでＲ1はヒドリド 、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級 ヘテロシクリル、低級シクロアルキルアルケニル、低級ハロアルキル、低級ヒド ロキシアルキル、低級アラルキル、低級アルコキシアルキル、低級メルカプトア ルキル、低級アルキルチオアルキレン、アミノ、低級アルキル、低級アリールア ミノ、低級アルキルアミノアルキレン及び低級ヘテロシクリルアルキレン、若し くは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０、１、又は２であり、 Ｒ25はヒドリド、低級アルキル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリル アルキル、低級アルコキシアルキレン、低級フェノキシアルキレン、低級アミノ アルキル、低級アルキルアミノアルキル 、低級フェノキシアミノアルキル、低級アルキルカルボニルアルキレン、低級フ ェノキシカルボニルアルキレン及び低級ヘテロシクリルカルボニルアミノアルキ レンから選ばれ、 Ｒ26は、水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級シクロ アルキルアルキレン、低級フェニルアルキル、低級アルコキシカルボニルアルキ レン及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ27は、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルキニル、フェニルと、 ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級 フェニルアルキル、低級シクロアルキルアルキニル、低級シクロアルケニルアル キレン、低級シクロアルキルアリーレン、低級アルキルフェニレン、低級アルキ ルフェニルアルキル、低級フェニルアルキルフェニレン、低級アルキルヘテロシ クリル、低級アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテロシクリル フェニレン、低級フェニルアルキルヘテロシクリル、低級アルコキシアルキレン 、低級アルコキシフェニレン、低級アルコキシフェニルアルキル、低級アルコキ シヘテロシクリル、低級アルコキシアルコキシフェニレン、低級フェノキシフェ ニレン、低級フェニルアルコキシフェニレン、低級アルコキシヘテロシクリルア ルキレン、低級フェノキシアルコキシフェニレン、低級アルコキシカルボニルア ルキレン、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル、低級アルコキシカルボニ ルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、低級アミノアルキル、低級アルキルア ミノアルキレン、低級フェニルアミノカルボニルアルキレン、低級アルコキシフ ェニルアミノカルボニルアルキレン、低級アミノカルボニルアルキレン、アリー ルアミノカルボニルアルキレン、低級アルキルアミノカルボニルアルキレン、低 級フェニルカルボニルアルキレン、低級アルコキシカルボニルフェニレン、低級 フェノキシカルボニルフェニレン、低級アルキルフェノキシカルボニルフェニレ ン、低級フェニルカルボニ ルフェニレン、低級アルキルフェニルカルボニルフェニレン、低級アルコキシカ ルボニルヘテロシクリルフェニレン、低級アルコキシカルボニルアルコキシフェ ニレン、低級ヘテロシクリルカルボニルアルキルフェニレン、低級アルキルチオ アルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、低級アルキルチオフェニレン、低 級フェニルアルキルチオフェニレン、低級ヘテロシクリルチオフェニレン、低級 フェニルチオアルキルフェニレン、低級フェニルスルホニルアミノアルキレン、 低級アルキルスルホニルフェニレン、低級アルキルアミノスルホニルフェニレン から選ばれ、ここで前記低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニルと、ビフ ェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェ ニルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテロシクリルフ ェニレン、低級アルコキシフェニレン、低級フェニキシフェニレン、低級フェニ ルアミノカルボニルアルキレン、低級フェノキシカルボニルフェニレン、低級フ ェニルカルボニルフェニレン、低級アルキルチオフェニレン、低級ヘテロシクリ ルチオフェニレン、低級フェニルチオアルキルフェニレン及び低級アルキルスル ホニルフェニレン基は、低級アルキル、ハロ、低級ハロアルキル、低級アルコキ シ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基 で選択的に置換され、 Ｒ27は、-ＣＨＲ46Ｒ４７であり、ここでＲ46は低級アルコキシカルボニルで あり、Ｒ47は低級フェニルアルキル、低級フェニルアルコキシアルキレン、低級 ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級アル コキシカルボニルアルキレン、低級アルキルチオアルキレン及び低級フェニルア ルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで前記フェニルアルキル及びヘテロシク リル基は低級アルキル及びニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともに４〜８員環のヘテロ環を形成し 、ここで前記ヘテロ環は、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチ ルとから選ばれたアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、低級 アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級フェノキシアルキレン、低級アルコキ シフェニレン、低級アルキルフェニキシアルキレン、低級アルキルカルボニル、 低級アルコキシカルボニル、低級フェニルアルコキシカルボニル、低級アルキル アミノ及び低級アルコキシカルボニルアミノから独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基から選択的に置換され、ここでフェニルと、ビフェニルと及びナフチルと から選ばれた前記アリール、低級ヘテロシクリルアルキレン及び低級フェニキシ アルキレン基は、ハロゲン、低級アルキル及び低級アルコキシから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナ フチルとから選ばれたアリール、低級ハロアルキル、低級ヒドロキシアルキル、 ５又は６員環ヘテロシクリル、低級アルキルヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低級 ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級フェニルアル キルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノアルキルアミノ、低級アルキルア ミノアルキルアミノ、低級シクロアルキル、低級アルケニル、低級アルコキシカ ルボニルアルキル、低級シクロアルケニル、低級カルボニルアルキルアミノ、低 級アルコキシカルボニル、低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカル ボニルヘテロシクリル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、 アルコキシカルボニルアルキル、低級アルコキシアルキルアミノ、低級アルコキ シカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルスルホニル、低級ヘテ ロシクリロキシ及び低級ヘテロシクリルチオから選ばれ、ここでアリール、ヘテ ロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、シクロアルキル及びシクロアルケニル基 は、ハロ、ケ ト、低級アルキル、低級アルキニル、フェニル、５又は６員環ヘテロシクリル、 低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキル、低級エポキシアルキル、 カルボキシ、低級アルコキシ、低級アリーロキシ、低級フェニルアルコキシ、低 級ハロアルキル、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低 級アルキルアミノ、低級アミノ（ヒドロキシアルキル）、低級ヘテロシクリルア ルキルアミノ、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アル キルスルホニル、低級フェニルアルキルスルホニル及びフェニルスルホニルから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０、１、又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30及びＲ３１は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノ カルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキル から独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア ルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシ クリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40から選ばれ、 ここでＲ35はアルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アリー ル、ヘテロシクリル、アラルキル、アリールシクロアルキル、シクロアルケニル アルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルアリーレン、アルキルヘテロ シクリル、アリールアリーレン、アリールヘテロシクリル、アルコキシ、アルケ ノキシ、アルコキシアルキレン、アルコキシアラルキル、アルコキシアリーレン 、アリーロキシアルキレン、アラルコキシアルキレン、シクロアルキロキシアル キレン、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルキルカルボニ ロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、アルコキシカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アラルコキシカルボニルヘテロ シクリル、アルキルカルボニルヘテロシクリル、アリールカルボニロキシアルキ ルアリーレン及びアルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで前記アリール、ヘ テロシクリル、アラルキル、アルキルアリーレン、アリールヘテロシクリル、ア リーロキシアルキレン、シクロアルコキシアルキレン、アルコキシカルボニルア ルキレン及びアルキルカルボニルヘテロシクリル基は、アルキル、ハロ、ハロア ルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独 立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ35はＣＨＲ48Ｒ49であり、ここでＲ48はアリールスルホニルアミノ又はアル Ｙキルアリールスルホニルアミノであり、Ｒ49はアラルキル、アミノ、アルキル アミノ及びアラルキルアミノから選ばれ、 Ｒ35は-ＮＲ50Ｒ51であり、ここでＲ50はアルキルであり、Ｒ51はアリールで あり、 ここでＲ36はアルキル、ハロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、シクロア ルキルアルキレン、アルキルアリーレン、アルケニルアリーレン、アリールアリ ーレン、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリルヘテロシクリル、カルボキ シアリーレン、アルコキシアリーレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アル キルカルボニルアミノアリーレン、アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル、 アリールカルボニルアミノアルキルヘテロシクリル、アルキルアミノアリーレン 、アルキルアミノ、アルキルアミノアリーレン、アルキルスルホニルアリーレン 、アルキルスルホニルアラルキル及びアリールスルホニルヘテロシクリルから選 ばれ、前記アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、アラルキル 、アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル及びアルキルスルホニルアリーレン 基はアルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ 、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 ここでＲ37は水素及びアルキルから選ばれ、 ここでＲ38は水素、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロシクリル、アラ ルキル、アルキルアリーレン、アリールシクロアルキル、アリールアリーレン、 シクロアルキルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアルキレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールカルボニル、アルコキシカルボ ニル、アルコキシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、ア ルキルカルボニルカルボニルアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アルキル アミノアラルキル、アルキルカルボニルアミノアリキレン、アルキルチオアリー レン、アルキルスルホニルアラルキル及びアミノスルホニルアラルキルから選ば れ、ヘテロシクリルアルキレン基はアルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル 、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノ から独立に選択された一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され Ｒ38は-ＣＲ52Ｒ53であり、ここでＲ52はアルコキシカルボニルであり、Ｒ53 はアルキルチオアルキレンであり、また Ｒ37及びＲ38は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、 Ｒ39及びＲ40は請求項１のＲ26及びＲ27と同じ定義であり、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、若しくは Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０から３の整数で、 Ｒ56は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ57は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ56及びＲ57は低級アルキレンブリッジを形成し、 Ｒ58は水素、アルキル、アラルキル、アリールヘテロシクリル、ヘテロシクリ ルアルキル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニ ル、アリールスルホニル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ59、-ＳＯ2Ｒ60及び-Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ61か ら選ばれ、 ここでＲ59はアルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシ クリル、アルキルアリーレン、アラルキル、アルキルヘテロシクリル、アルコキ シ、アルケノキシ、アラルコキシ、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレ ン、アルコキシアラルキルから選ばれ、ここで前記アリール、ヘテロサイクリル 及びアラルキ ル基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコ キシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選はれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 ここでＲ60はアルキル、アリール、ヘテロサイクリル、アルキルアリーレン、 アルキルヘテロサイクリル、アラルキル、ヘテロサイクリルヘテロサイクリル、 アルコキシアリーレン、アルキルアミノ、アルキルアミノアリーレン、アルキル スルホニルアリーレン及びアリールスルホニルヘテロサイクリルから選ばれ、こ こで前記アリール、ヘテロサイクリル及びアラルキル基は、アルキル、ハロ、ヒ ドロキシ、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ 及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ61はアルキル、アリール、アルキルアリーレン及びアルコキシアリー レンから選ばれ、ここで前記アリール基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロ アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル及びから選ばれ、 ここでＲ43は水素、低級アルキル、低級アミノアルキル、低級アルコキシアル キル、低級アルケノキシアルキル及び低級アリーロキシアルキルから選ばれ、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、アミノ スルホニル、ハロ、低級アルキル、低級アラルキル、低級フェニルアルケニル、 低級フェニルヘテロシクリル、カルボニル、低級アルキルスルフィニル、シアノ 、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、低級アルキルカルボニルアミ ノ、低級ハロアルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級シクロアル キルアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルケニルアミノ、低級アルキニルアミ ノ、低級アミノアルキル、アリールアミノ、低級アラリキルアミノ、ニトロ、ハ ロスルホニル、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、低 級アルコキシフェニルアルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低 級ヒドロキシアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロシクリル アルキルアミノ、低級フェニルアルキルヘテロシクリルアミノ、低級アルキルア ミノカルボニル、低級アルコキシフェニルアルキルアミノ、ヒドラジニル、低級 アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から独立に選ばれた一つ又はそれ以上 の基で選択的に置換され、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノであ り、Ｒ63は低級アルキル又は低級フェニルアルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、低級シクロアルキル、低級シクリアルケニル、フェニルと、 ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール及び５又は６員環でヘテロ環 から選ばれ、ここでＲ4の低級シクロアルキル、低級シクロアルケニル、アリー ル及び５〜１０員環にヘテロシクリル基は、低級アルキルチオ、低級アルキルス ルホニル、低級アルキルスルフィニル、ハロ、低級アルキル、低級アルキニル、 低級アルコキシ、低級アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ヘテロシクリル、 低級ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、低級アルキルアミノ及びヒドロキ シから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された化合物、若し くは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特に重要な化合物の部類は式Ｉの上記化合物から成り、ここで、Ｒ1はヒドリ ド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、フル オルメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロ メチル、トリクロロメチル、トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタ フルオルプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフル オロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、エテニ ル、プロペニル、エチニル、プロパルギル、１-プロピニル、２-プロピニル、ピ ペリジニル、ピペラジニル、モロホリニル、ベンジル、フェニルエチル、モルホ リニルメチル、モルホリニルエチル、ピロリジニルメチル、ピペラジニルメチル 、ピペリジニルメチル、ピリジニルメチル、チエニルメチル、メトキシメチル、 エトキシメチル、アミノ。メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、メ チルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチルアミノエチル、ジメチルアミ ノエチル、エチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロプロピル、シク ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、ヒドロキシメチル、ヒド ロキシエチル、メルカプトメチル及びメチルチオメチルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、クロロ、フルオロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、イ ソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、フェニル、ビフェニル、フルオロメチル 、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、ト リクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロ クロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピ ル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル 、ピリジニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、チアゾリル、オ キさゾリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベンズ イミダゾリル、フリル、ピラジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニ ル、Ｎ-メチ ルピペラジニル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ- メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルア ミノ、Ｎ-ｎ-プロピルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニル アミノ、Ｎ-フェニルアミノ、ピペラジニルアミノ、Ｎ-ベンジルアミノ、Ｎ-プ ロパルギルアミノ、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセ ニル、シクロヘキサジエニル、アミノメチル、アミノエチル、アミノエチルアミ ノ、アミノプロピルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノエチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメ チルアミノプロピルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、モルホリニルプロピル アミノ、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、メトキシカルボニル 、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１、１-ジメチルエトキシカル ボニル、１、１-ジメチルエトキシカルボニルアミノエチルアミノ、１、１-ジメ チルエトキシカルボニルアミノプロピルアミノ、ピペラジニルカルボニル及び１ 、１-ジメチルエトキシカルボニルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここで 、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びシクロアルケニル基は、フル オロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イ ソブチル、ベンジル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロ キシ、トリフルオロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジメチルアミ ノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び１、１-ジメチルエチルカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、Ｒ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル及びプリニルから選ばれ、ここでＲ3はメチル チオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フ ルオロ、クロロ、ブロモ、アミノスルホニル、メチル、エチル、イソプロピル、 ｔ-ブチル、イソブチル、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、 アミノカルボニル、メチルカルボニルアミノ、トリフルオロメチル、ジフルオロ メチル、フルオロメチル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、 ヒドロキシ、フルオロフェニルメチル、フルオロフェニルエチル、クロロフェニ ルメチル、クロロフェニルエチル、フルオロフェニルエテニル、クロロフェニル エテニル、フルオロフェニルピラゾリル、クロロフェニルピラゾリル、カルボキ シ、メトキシ、エトキシ、プロピロキシ、ｎ-ブトキシ、メチルアミノ、エチル アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、プロパル ギルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアミノ、フ ェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、シクロ プロピルアミノ、ニトロ、クロロスルホニル、アミノ、メチルカルボニル、メト キシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルア ミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒド ロキシエチルアミノ、イミダゾリルエチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、 （１-エチル-２-ヒドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニル メチルアミノ、フェニルメチルピペリジニルアミノ、フェニルメチルアミノ、フ ルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルアミノカ ルボニル、エチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、メトキシフェニルメチ ルアミノ、ヒドラジニル、１-メチル-ヒドラジニル又は-ＮＲ62Ｒ63から独立に 選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここで、Ｒ62はメチルカル ボニル又はアミノであり、Ｒ63はメチル、エチル若しくはフェニルメチルであり 、 Ｒ4はヒドリド、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロピレニル、シクロブテニル、シク ロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、フェニル、ビフェニ ル、モルホリニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピラジニル、チエニル、イソ チアゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、キ ノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、ピラジ ニル、ジヒドロピラニル、ジヒドロピリジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロ ピラニル、テトラヒドロフリル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベン ゾジオキソリルから選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、 アリール及びヘテロシクリル基は、メチルチオ、メチルスルフィニル、メチルス ルホニル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブ チル、イソブチル、エチニル、メトキシ、エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ 、トリフルオロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、アミノ、シアノ、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選択された一つ又はそれ以上 の基で選択的に置換された化合物、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である。 特に重要な化合物の副分類は、式Ｉの上記化合物から成り、ここで、Ｒ1はヒ ドリド、メチル、エチル、プロパルギル、ヒドロキシエチル、ジメチルアミノエ チル、ジエチルアミノエチル又はモルホリニルエチルであり、 Ｒ2はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル 、メトキシカルボニルエチル、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、ピ ペリジニル、ピペラジニル、ピリジニル、Ｎ-メチルピペラジニル及びピペラジ ニルアミノから選ばれ、ここでフェニル、ピペリジニル及びピリジニル基は、フ ルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル及びトリフルオロメチルから独立に選 ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘ テロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、 メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ 、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択的に置換される化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特定の重要な化合物の部類は式Ｉの上記化合物から成り、ここで、 Ｒ1はヒドリド又はメチルであり、 Ｒ2はヒドリド、メチル又はエチルから選ばれ、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジルフェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジル アミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルロロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特に重要な化合物のさらに別の部類は、式Ｉの上記化合物からなり、ここで、 Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソ ブチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチ ル、ジクロロメチル、トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオ ロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエ チル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、エテニル、プ ロペニル、エチニル、プロパルギル、１-プロピニル、２-プロピニル、ピペリジ ニル、ピペラジニル、モルホリニル、ベンジル、フェニルエチル、モルホリニル メチル、モルホリニルエチル、ピロリジニルメチル、ピペラジニルメチル、ピペ リジニルメチル、ピリジニルメチル、チエニルメチル、メトキシメチル、エトキ シメチル、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、メチルア ミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチルアミノエチル、ジメチルアミノエチ ル、エチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロプロピル、シクロペン チル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシ エチル、メルカプトメチル及びメチルチオメチルから選ばれ、 Ｒ2は式IIIを有し、 ここで ｊは０、１又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30及びＲ31は水素及び低級アルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、低級アルキル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアル キル、低級アルコキシアルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、 低級アルキルアミノアルキル、低級フェニルアミノアルキル、低級アルキルカル ボニルアルキレン、低級フェニルカルボニルアルキレン及び低級ヘテロシクリル カルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、低級アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、 -Ｃ（Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｎ40から選ばれ、 ここでＲ35は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級ハロアルキル、低級ア ルケニル、フェニル、ビフェニル及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテ ロシクリル、低級フェニルアルキル、低級フェニルシクリルアルキル、低級シク ロアルケニルアルキレン、低級ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルフェニ レン、低級アルキルヘテロシクリル、フェニルフェニレン、低級フェニルヘテロ シクリル、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級アルコキシアルキレン、低 級アルコキシフェニルアルキル、低級アルコキシフェニレン、低級フェノキシア ルキレン、低級フェニルアルコキシアルキレン、低級シクロアルキロキシアルキ レン、低級アルコキシカルボニル、低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルキ ルカルボニロキシアルキレン、低級アルキルカルボニロキシフェニレン、低級ア ルコキシカルボニルアルキレン、低級アルコキシカルボニルフェニレン、低級フ ェニルアルコキシカルボニルヘテロシクリル、低級アルキルカルボニルヘテロシ クリル、低級フェニルカルボニロキシアルキルフェニレン及び低級アルキルチオ アルキレンから選ばれ、こ こで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級 ヘテロシクリル、低級フェニルアルキル、低級アルキルフェニレン、低級フェニ ルヘテロシクリル、低級アルコキシフェニレン、低級フェノキシアルキレン、低 級シクロアルコキシアルキレン、低級アルコキシカルボニルアルキレン及び低級 アルキルカルボニルヘテロシクリル基は、低級アルキル、ハロ、低級ハロアルキ ル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、又は Ｒ35はＣＨＲ48Ｒ49であり、ここでＲ48はフェニルスルホニルアミノ又は低級 アルキルフェニルスルホニルアミノであり、Ｒ49は低級フェニルアルキル、低級 アルキルアミノ及び低級フェニルアルキルアミノから選ばれ、又は Ｒ35は-ＮＲ50Ｒ51であり、ここでＲ50は低級アルキルであり、Ｒ51はフェニ ルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリールであり、 ここでＲ36は低級アルキル、低級ハロアルキル、フェニルと、ビフェニルと及 びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキル アルキレン、低級アルキルフェニレン、低級アルケニルフェニレン、フェニルフ ェニレン、低級フェニルアルキル、低級フェニルアルケニル、低級ヘテロシクリ ルヘテロシクリル、カルボキシフェニレン、低級アルコキシフェニレン、低級ア ルコキシカルボニルフェニレン、低級アルキルカルボニルアミノフェニレン、低 級アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル、低級フェニルカルボニルアミノア ルキルヘテロシクリル、低級アルキルアミノフェニレン、低級アルキルアミノ、 低級アルキルアミノフェニレン、低級アルキルスルホニルフェニレン、低級アル キルスルホニルフェニルアルキル及び低級フェニルスルホニルヘテロシクリルか ら選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキルアルキレン、低 級フェニルアルキル、低級アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル及び低級ア ルキルスルホニルフェニレン基は、低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロ アルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルキル、ケト、アミノ、ニトロ及びシア ノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素及び低級アルキルから選ばれ、 ここでＲ38は水素、低級アルキル、低級アルケニル、フェニルと、ビフェニル と及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェニルアル キル、低級アルキルフェニレン、低級フェニルシクロアルキル、フェニルフェニ レン、低級シクロアルキルアルキレン、低級ヘテロシクロアルキレン、低級アル キルヘテロシクリルアルキレン、低級フェニルアルキルヘテロシクリル、低級ア ルコキシアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級フェニキシフェニレン、 フェニレンカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル アルキレン、低級アルコキシカルボニルフェニレン、低級アルキルカルボニルカ ルボニルアルキレン、低級アルキルアミノアルキレン、低級アルキルアミノフェ ニルアルキル、低級アルキルカルボニルアミノアルキレン、低級アルキルチオフ ェニレン、低級アルキルスルホニルフェニルアルキル及び低級アミノスルホニル フェニルアルキルから選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチ ルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェニルアルキル及び低級 ヘテロシクリルアルキレン基は、低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロア ルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシア ノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、若しくは、 Ｒ38は-ＣＲ52Ｒ53であり、ここでＲ52は低級アルコキシカルボニルであり、 Ｒ53は低級アルキルチオアルキレンであり、 Ｒ37及びＲ38は窒素原子とともに４〜８員環のヘテロ環を形成し、 Ｒ39及びＲ40は請求項２のＲ26及びＲ２７と同じ定義であり、 Ｒ2はから成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０から２の整数であり、 Ｒ56は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ57は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ58は水素、低級アルキル、低級フェニルアルキル、フェニルと、ビフェニル と及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルスルホニル、低級フェニ ルアルキルスルホニル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ59、-ＳＯ2Ｒ60及び-Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ61から 選ばれ、 ここでＲ59は低級アルキル、低級ハロアルキル、低級シクロアルキル、フェニ ルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、 低級アルキルフェニレン、低級フェニルアルキル、低級アルキルヘテロシクリル 、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級フェニルアルコキシ、低級アルコキ シアルキレン 、低級アルコキシフェニレン、低級アルコキシフェニルアルキルから選ばれ、こ こで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘ テロシクリル及び低級フェニルアルキル基は、低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ 、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルキル、ケト、アミノ、ニト ロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ60は低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ば れたアリール、低級ヘテロシクリル、低級アルキルフェニレン、低級アルキルヘ テロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルヘテロシクリル、低 級アルコキシフェニレン、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノフェニレン 、低級アルキルスルホニルフェニレン及び低級フェニルスルホニルヘテロシクリ ルから選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれた アリール、低級ヘテロシクリル及び低級フェニルアルキル基は、低級アルキル、 ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、 ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択的に置換され、 ここでＲ61は低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ば れたアリール、低級アルキルフェニレン及び低級アルコキシフェニレンから選ば れ、ここで前記アリール基は低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルコ キシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル及びプリニルから選ばれ、ここでＲ3はメチル チオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ア ミノスルホニル、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、シ アノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカルボニル、メチルカ ルボニルア ミノ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、トリクロロメ チル、ジクロロメチル、クロロメチル、ヒドロキシ、フルオロフェニルメチル、 フルオロフェニルエチル、クロロフェニルメチル、クロロフェニルエチル、フル オロフェニルエテニル、クロロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル 、クロロフェニルピラゾリル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、 ｎ-ブトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ 、２-メチルブチルアミノ、プロパルギルアミノ、アミノメチル、アミノエチル 、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアミノ、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、シクロプロピルアミノ、ニトロ、クロロスルホニ ル、アミノ、メチルカルボニル、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニ ルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノエチルアミ ノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミダゾリルエチル アミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エチルアミ ノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピペリジニ ルアミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフ ェニルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、エチルアミノアＫルボニル、メ チルカルボニル、メトキシフェニルメチルアミノ、ヒドラジニル、１-メチル-ヒ ドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、Ｒ62はメチルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63はメチル、エチ ル又はフェニルメチルであり、 Ｒ4はヒドリド、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロピレニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキ セニル、シクロヘキサジエニル、フェニル、ビフェニル、モルホリニル、ピロリ ジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピリジニル、チエニル、イソチアゾリル 、イソオキサ ゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリニル 、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、ピラジニル、ジヒドロピラニル 、ジヒドロピリジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロ フリル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリルから選ば れ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニルアリール及びヘテロシクリ ル基は、メチルチオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フルオロ、クロ ロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、エチニ ル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、フ ルオロメチル、ジフルオロメチル、アミノ、シアノ、ニトロ、ジメチルアミノ及 びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された化 合物、若しくは、 その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特に重要な化合物のさらに別の部類は、式Ｉの上記化合物から成り、ここで、 Ｒ1はメチル、エチル、プロパルギル、ヒドロキシエチル、ジメチルアミノエ チル、ジエチルアミノエチル又はモルホリニルエチルであり、 Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０、１又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30は水素であり、 Ｒ31は水素及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ32は水素及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ33は低級アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ（ Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40から選ばれ、 ここでＲ35は低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニル、低級ヘテロシク リル、低級アルキルフェニルレン、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級ア ルコキシアルキレン、低級フェニキシアルキレン及び低級フェニルアルコキシア ルキレンから選ばれ、前記フェニル及び低級フェニキシアルキレン基は、低級ア ルキル、ハロ及び低級ハロアルキルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 ここでＲ36は低級アルキル、フェニル、低級ヘテロシクリル、低級アルキルフ ェニレン、フェニルフェニレン、低級フェニルアルキル、低級アルキルヘテロシ クリル、低級ヘテロシクリルヘテロシクリル、低級アルコキシフェニレン及び低 級アルキルアミノから選ばれ、ここで前記フェニル及び低級ヘテロシクリル基は 低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハ ロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素であり、 ここでＲ38は低級アルキル、フェニル及び低級アルキルフェニレンから選ばれ 、 ここでＲ39及びＲ40は請求項２のＲ26及びＲ27と同じ定義であり、 Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０又は１の整数であり、 Ｒ56は水素であり、 Ｒ57は水素であり、 Ｒ58-Ｃ（Ｏ）Ｒ59及び-ＳＯ2Ｒ60から選ばれ、 ここでＲ59は低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニル、低級アルキルフェ ニレン及び低級アルコキシアルキレンから選ばれ、前記フェニル基は、低級アル キル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコ キシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 ここでＲ60は低級アルキルから選ばれ、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3は、フ ルオロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベ ンジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリ ル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロア ルケニル、アリール及びヘテロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、 ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、ト リフルオロメチル、ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた 一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特定の重要な化合物のさらに別の部類は、式Ｉの上記化合物から成り、ここで 、 Ｒ1はヒドリド又はメチルであり、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 されたフェニルから選ばれた化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 本発明の一実施例において、式Ｉの化合物は、一つ又はそれ以上の以下の条件 を満たす。 Ｒ1はヒドリド又は低級アルキルであり、好ましくは、Ｒ1ヒドリド又はメチル であり、更に好ましくは、Ｒ1はヒドリドであり； Ｒ2はヒドリド又は低級アルキルであり、好ましくは、Ｒ2ヒド リド又はメチルであり、更に好ましくは、Ｒ2はヒドリドであり； Ｒ3は置換若しくは無置換のピリジニルであり、好ましくはピリジニルは４-ピ リジニルであり； Ｒ4は置換若しくは無置換のフェニルであり、好ましくはＲ4はハロで置換され たフェニルである。 加えて、Ｒ3は置換ピリミジニルであり、好ましくは少なくとも一つのＲ3置換 基は、ピリミジル環の二つの窒素原子の間にある炭素原子に付いている。 式Ｉで特に重要な特定化合物の系統は、以下の化合物、その互変異性体及びそ の製薬的に許容な塩からなる：その化合物とは、 ４-［５-（３-フルオロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-メチル-３-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［５-Ｍ、エチル-３-（４-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-メチル-３-［４-（メチルチオ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（２、５-ジメチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（１、３-ベンゾジオキソール-５-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（４-フェノキシフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-［（１、１’-ビフェニル）-４-イル］-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（３-フェノキシフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［３-メチル-５-［３-（フェニルメトキシ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-［２-（フェニルメトキシ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ２-［３-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］フェノール ； ３-［３-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］フェノール ； １-ヒドロキシ-４-［３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-３-アミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-（トリフルオロメチル）-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５- イル］ピリジン； ４-（５-シクロヘキシル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル）ピリジン； ４-［５-（３-フルオロ-５-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-プロピル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）メチル］ピリジン； ４-［３、５-ビス（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［４-メチル-２-（２-トリフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（２-クロロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-メチル-３-（２、４-ジメチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-１、３-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（３-フルオロ-２-メチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（３、５-ジメチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（３、５-ジメトキシフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-メチル-３-（３-ニトロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-［５-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］ベンゼンアミン； ４-［３-（２、３-ジヒドロベンゾフラン-５-イル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（２-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-メチル-５-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-（３-エチル-４-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-（３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-エチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３、４-ジフルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-（エトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［３-メチル-５-［４-（トリフルオロメチルフェニル］*１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（３-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（２、４-ジクロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３-クロロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ３-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-５-プロパン酸エチル； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［３-メチル-５-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン-２-アミン； ５-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン-２-アミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-アミン； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-アミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ２-メトキシ-５-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ２-メトキシ-５-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- メトキシピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（４-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-オール］ピリ ジン-２-オール； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン-２-オール； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-オール； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-メタンアミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド(carboxamide)； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-フルオロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（４-フルオロ-３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロ-３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（２、３-ジヒドロベンゾフラン-６-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-［５-（ベンゾフラン-６-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［５-（３-フルオロ-５-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-クロロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（１-シクロヘキセン-１-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-（１、３-シクロヘキサジエン-１-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［５-（５、６-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン-４-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-（５-シクロヘキシル-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（４-メトキシ-３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-メトキシ-４-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-メトキシ-５-メチルフェニル）-３-メチル- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（３-フリル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ２-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ２-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-カルボン 酸メチル； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-カルボキ サミド； １-［４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-イ ル］エタノン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-２-イル）ピリ ジン-２-アミン； ３-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ３-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-カルボン 酸メチル； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-カルボキ サミド； １-［４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-イ ル］エタノン； ３-ブロモ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-２-イル）ピリ ジン-３-アミン； ２-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン； ２-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール）-４-イル）ピリミ ジン； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン-２-アミン ； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリ ミジン-２-アミン； ４-（５、６-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン-４-イル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピ ラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（３-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-フリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（２-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール； ４-（２-フリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-イソチアゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-イソオキサゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（５-イソチアゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（５-イソオキサゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（５-チアゾリル）-１Ｈ-ピラ ゾール； ３-メチル-４-（５-オキサゾリル）-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ２-メチル-４-［３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-（１-メチル-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ２-メチル-４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メチルピリジ ン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］-２-メチルピ リジン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-フェニル-４-（４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン二水和物； ５-（３-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン； Ｎ-メチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； Ｎ-エチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； Ｎ、Ｎ-ジエチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジエチル-４-（４-ピリジル）-１Ｈ-ピラゾ ール-３-アミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］モルホリン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-プロピル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-（フェニルメチル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ -ピラゾール-３-アミン水和物（２：１）； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-（２-メトキシエチル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-３-アミン一水和物； １、１-ジメチルエチル ４-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル ）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカルボキシレート； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］ピペラジン・三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-メチルピペラジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１-ピペラジンカルボン酸１、１-ジメチルエチル； １-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］ピペラジン三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］ピペラジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-［２-（フェニルメチル）アミノ-４-ピリジ ニル］-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１、３-プロパンジアミン三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-（フェニルメチル）ピペラジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-（１-ピペラジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリミジン二塩酸塩； １、１-ジメチルエチル［３-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］プロピル］カルバメート； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１、３-プロパンジアミン三塩酸塩一水和物； １、１-ジメチルエチル［２-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］エチル］カルバメート； １、１ジメチルエチル ４-［５-（４-クロロフェニル）-１- （２-ヒドロキシエチル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］- １-ピペラジンカルボキシレート； １、１-ジメチルエチル ４-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリミジ ニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカルボキシレート； １、１-ジメチルエチル［３-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（２-フルオロ- ４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］プロピル］カルバメート ； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-エチルピペラジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１、２−エタンジアミン； ４-［３-（２、６-ジフルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（３-エチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-５-エチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-エチル-５-（３-エチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-５-（１-メチルエチル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-シクロプロピル-５-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-（４-トリフルオロメチル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン； ４-［５-シクロプロピル-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ５-シクロプロピル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（４- ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ３-（４-フルオロフェニル）-５-（２-メトキシ-４-ピリジニル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（４−ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］-２（１Ｈ）-ピリジノン； １-アセチル-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）- ４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］-２（１Ｈ）-ピリジノン； エチル ２-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（ ４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］シクロプロパンカルボキシレート ； ２-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］シクロプロパンカルボン酸； ３-（４-フルオロフェニル）-５-（４-イミダゾリル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-（４-クロロ-３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-カル ボン酸； ５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-メタ ノール； １-［［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-イル］カルボニル］ピペラジン； １、１-ジメチルエチル ４-［［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジ ニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］カルボニル］-１-ピペラジンカルボキシレー ト； ４-（１、５-ジメチル-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-（１、３-ジメチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１、５-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-１、３-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-エチル-１-メチル-３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-エチル-１-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-エチル-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-２-エチル-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（２-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタ ノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリミジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エ タノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ２-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］-１-ブタノール； ４-［５-ブロモ-３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボニトリル； ４-［２-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-１-イル］エチル］モルホリン； ３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-α-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-５-メタノール； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）−１Ｈ-ピラゾール-３ -イル］-４-モルホリンエタンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２（１Ｈ）-ピリ ジノンヒドラゾン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニルメ チル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニルエ チル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-エチル-２-ピ リジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ−ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボキサミド； メチル ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピ リジンカルボキシレート； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-メチル-２- ピリジンカルボキサミド； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボン酸； ４-［３-（２-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソ-５-イル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソ-５-イル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ チルピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ チルピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ２-メチル-４-［１-メチル-３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ２-メチル-４-［１-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-（３−フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［１-メチル-３-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３（３、４-（ジフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［３-（４-（クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フルオロピ リジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３（３、４-（ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； （Ｅ）-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-（２ -フェニルエテニル）ピリジン； （Ｓ）-４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（２- メチルブチル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-メトキ シフェニル）メチル］-２-ピリジンアミン； Ｎ-［４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジニ ル］-２-ピリジンメタンアミン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ニル］-２-ピリジンメタンアミン； ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［３-（４-ヨードフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-ヨードフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［１-メチル-３-［４-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； Ｎ-［１-（４-フルオロフェニル）エチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンアミン； Ｎ-［（３-フルオロフェニル）メチル］-４-［３-（４-フル オロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- （１-メチルヒドラジノ）ピリジン； ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フル オロピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-３-メチルピリ ジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-３- メチルピリジン； ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］-２-フルオロピリジン； ３-（４-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-１-エタンナミン； ２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］-４-［３-４-フルオロフェニル）-１ -メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［１-（フェ ニルメチル）-４-ピペリジニル］-２-ピリジンアミン； Ｎ’-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１、２-エタンジアミン； ２、４-ビス［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ニル］-４-モルホリンエタンアミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-１-エタノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［２-（１Ｈ -イミダゾール-１-イル）エチル］-２-ピリジンアミン； ４-［２-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-１-イル］エチル］モルホリン； （Ｅ）-３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エ テニル］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-Ｎ、Ｎ-ジメ チル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］- ４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［１-［２-（ジメチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-２-ピリジンアミン； ４-［１-［２-（ジメチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-２-ピリジンア ミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］- ４-ピリジニル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-４-［３（又は５）-（４-フルオロフェ ニル）-１-［２-（４-モルホリニル）エチル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- ピリジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-ピペラジニ ル-２-ピリジンアミン； Ｎ、Ｎ-ジエチル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； ４-［１-［２-（ジエチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-２-ピリジンア ミン； ２-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］エタノール； ３-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］-１-プロパノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［４-フルオロフェニル］メチル］アミノ ］-４-ピリジニル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ５-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［４-フルオロフェニル］メチル］アミノ ］-４-ピリジニル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； Ｎ、Ｎ-ジエチル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-１-エタンアミン； Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１- ［２-（４-モルホリニル）エチル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンア ミン； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］-４-モルホリンプロパンアミン； Ｎ’-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１、３-プロパンジアミン； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-２-プロピニル-４-（４- ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-アミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［［（４-フルオロフェニル）メチル］ア ミノ］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ５-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［［（４-フルオロフェニル）メチル］ア ミノ］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-［（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］キノリン； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］グリシンメチルエステル； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］グリシン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４、４’-（１Ｈ-ピラゾール-３、４-ジイル）ビス［ピリジン］； ４-［３-（３、４-ジクロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-ピペリジンアミン； ２-クロロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２（１Ｈ）-ピ リミジノンヒドラゾン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチ ル-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-メチル-２- ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニル メチル）-２-ピリミジンアミン； Ｎ-シクロプロピル-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-メト キシフェニル）メチル］-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリミジン アミン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリミ ジニル］-Ｎ-（フェニルメチル）アセタミド； エチル［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピ リミジニル］カルバメート； ４-［３-（３-メチルフエニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン；及 び ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジンであ る。 式Ｉでは、式ＩＸで表わされる非常に重要な化合物の別の副部類があり、 ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、 低級ヘテロシクリル、低級アラルキル、低級アミノアルキル及び低級アルキルア ミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低裕アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロ シクリルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級カルボキシシクロ アルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級アルコキシアルキルアミノ、低 級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルカルボニル 、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級アルコキシカルボニルヘテ ロシリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及びヘテロアリール基はハロ、 低級アルキル、ケト、アラルキル、カル ボキシ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキルアミノ、低級ヘテロ シクリルアリキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニ ルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、 Ｒ4はヒドリド、低級シクロアルキル、低級シクロアルケニル、低級シクロア ルキルジエニル、５又は６員環のヘテロ環及びフェニルと、ビフェニルと及びナ フチルから選ばれたアリールから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アルキル、低 級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、低級アル キルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシク リルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、ヒドラジル及び低級アルキルヒドラジル又は-ＮＲ6 2 Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ6 3 は低級アルキル又は低級フェニルアルキルである式ＩＸの化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 好ましい化合物の部類は式ＩＸの上記化合物であり、 Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギルから選 ばれ Ｒ2はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル 、ヒドロキシエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、 Ｎ-メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチル アミノ、Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル 、アミノエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジル アミノ、ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホ リニルエチルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニ ル、ピリジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１- ジメチル）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプ ロピルアミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピ ペラジニルカルボニル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選 ばれ、ここでフェニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリ ニル及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、 トリフルオロメチル、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカル ボニル及び（１、１-ジメチル）エトキシカルボニルから独立にえらばれた一つ 又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、フェニル 、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジヒドロピラニル、 ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここ でＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミ ノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニル エチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び １-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、Ｒ62はメチルカルボニル 又はアミノであり、Ｒ63はメチル又はベンジルである、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である。 式Ｉでは、式Ｘで表わされる非常に重要な別の副部類があり、 ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1は低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル 、低級アミノアルキル及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれたアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれた５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキル、低級ヘテ ロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシクリル、低級カルボキシシク ロアルキル、低級買うＲボニルアルキルアミノ、低級アルコキシアルキルアミノ 、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルカルボ ニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級アルコキシカルボニル ヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及びヘテロシクリル基は 、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキシ、低級アルキルアミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、 Ｒ4は５又は６員環のヘテロ環及びフェニルと、ビフェニルと、ナフチルとか ら選ばれたアリールから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アルキル、低級アルコ キシ、アルーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、低級アルキルチオ 、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選択された一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシク リルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又は -ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノであ り、Ｒ63は低級アルキルまたは低級フェニルアルキルである式Ｘ、の化合物若し くは、 その製薬的に許容な塩又は互変異性体の化合物である。 化合物の好ましい部類は、式Ｘの上記化合物であり、 Ｒ1はメチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギルから選ばれ、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ピペラジニルアミノ、ジメチルアミノエチルアミノ、ジメチルアミノプロピルア ミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニル 、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリジニル、Ｎ-メチルピペラ ジニル、カルボメチル アミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニル、（１ 、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルアミノ、（１、１-ジメチル） エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニルカルボニル及び１、１-ジ メチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここでフェニル、ピペリジ ニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニル基は、フルオ ロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチル、ベンジル、 メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、１-ジメチル） エトキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エ チル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、プロ パルギルアミノ、イミダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチ ル-２-ヒドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、フェニルメチル ピペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキ シ、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルア ミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェ ニルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル 及び１-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62はメチル カルボニル又はアミノであり、Ｒ63はメチル又はベンジルである化合物、若しく は その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である。 式Ｉでは式ＸＩで表わされる非常に重要な化合物の別の副部類があり、 ここで、 Ｒ1はメチル、エチル、ヒドロキシえちる及びプロパルギルから選ばれ、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエ チルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリ ジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチル ）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルア ミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラ ジニルカルボニル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ 、ここでフェニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル 及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリ フルオロメチル、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ ル及び（１、１-ジメチル）エトキシカルボニルから独立して選ばれる一つ又は それ以上の基て選択的に置換され Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エ チル、メトキシ、エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミ ノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニル エチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び １-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62はメチルカル ボニル又はアミノであり、Ｒ63はメ チル又はベンジルである化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 化合物の好ましい部類は、式ＩＸの上記化合物から成り、 ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、 低級アルキニル、低級アミノアルキル及び低級アルキルアミノから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシクリル 、低級カルボキシシクリルアルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級アル コキシアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級 ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級 アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及 びヘテロアリール基は、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキシル 、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシク リルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニルか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、Ｒ54はフェニルであり、Ｒ55はヒド ロキシであり、 Ｒ4はハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキ シ、低級ハロアルキル、低級アルキルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒド ロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選的に置換されたフェニルで あり、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、、カ ルボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級 アルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロ シクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシ クリルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級 アルコキシアラルキルアミノ、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又 は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノで あり、Ｒ63は低級アルキル又は低級フェニルアルキルである式ＩＸの化合物、若 しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特定の重要な化合物の部類は式ＩＸの上記化合物から成り、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、ヒドロイしエチル及びプロパルギルから選 ばれ、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ -フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノエチルアミノ、アミノ プロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、ジメチルアミノプロピ ルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジ ニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリジニル、カルボキシメ チルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニル、 （１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルアミノ、（１、１-ジメチ ル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニルカルボニル、１、１- ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここでフェニル、ピペリ ジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ、 ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチル、ベンジル、メトキシ、メ トキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、１-ジメチル）エトキシカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 されたフェニルであり、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾール、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エ トキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、フェニルメチルアミ ノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルア ミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び１-メチルヒドラジニル 、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62はメチルカルボニル又はアミノであ り、Ｒ63はメチル又はベンジルである化合部、若しくは 製薬的に許容な塩、又は互変異性体である。 特定の重要な化合物の別の部類は、式ＩＸの上記化合物からなり、ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル及び低級アルキニル から選ばれ、 Ｒ2はヒドリド及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ4はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルは一つ又 はそれ以上のハロ基で選択的に置換され、 Ｒ5はヒドリド、ハロ及びアルキルヒドラジニルから選ばれる式ＩＸの化合物 、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特定の重要な化合物のさらに別の部類は、式ＩＸの上記化合物からなり、ここ で、 Ｚは炭素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、メチル、ヒドロキシエチル、プロパルギルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリドであり、 Ｒ4はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルはクロロ 、フルオロ及びブロモから独立して選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置 換され、 Ｒ5はヒドリド、フルオロ及び１-メチルヒドラジルから選ばれる化合物、若し くは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特定の重要な化合物の好ましい部類は、式ＩＸの上記化合物から成り、ここで 、 Ｚは炭素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド及びメチルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリドであり、 Ｒ4はクロロ、フルオロ及びブロモから独立して選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換されたフェニルから選ばれ、 Ｒ5はヒドリド及びフルオロから選ばれる化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 用語“ヒドリド”とは、単一の水素原子（Ｈ）を表わす。例えば、このヒドリ ド基は酸素に付くとヒドロキシ基になり、二つのヒドリド基が炭素原子に付くと メチレン（-ＣＨ2-）になる。単独で若しくは“ハロアルキル”、“アルキルス ルホニル”、“アルコキシアルキル”や“ヒドロキシアルキル”“シクロアルキ ル”や“メルカプルトアルキル”のような用語とともに用いられるときには、用 語“アルキル”とは、１個から約２０個の炭素原子を、好ましくは１個から約１ ２個の炭素原子を有する直鎖又は分岐した基をいう。より好ましいアルキル基は 、１個から約１０個の炭素原子を有する“低級アルキル”基である。さらに好ま しいものは、１個から約６個の炭素原子を有する低級“アルキル基”である。か かるアルキル基の例には、メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブ チル、イソブチル、sec-ブチル、ｔ-ブチル、ペンチル、イソ-アミル、ヘキシル などである、用語“アルケニル”とは、２個から約２０個の炭素原子、好ましく は２個から約１２個の炭素原子 の少なくとも１個の炭素-炭素二重結合を有する直鎖又は分岐した基である。よ り好ましいアルケニル基は、２個から約６個の炭素原子を有する“低級アルケニ ル”基である。アルケニル基の例には、エテニル、アリル、プロペニル、ブテニ ル及び４-メチルブテニルがある。用語“アルケニル”及び“低級アルケニル” とは、“シス”及び“トランス”配向、つまり代わりの“Ｅ”及び“Ｚ”配向を 有する基を含む。用語“アルキニル”とは、２個から約２０個の炭素原子、好ま しくは２個〜約１２個も炭素原子を有するものの少なくとも一つの炭素-炭素三 重結合を有する直鎖又は分岐した基のことをいう。より好ましくアルキニル基は 、２個〜約６個の炭素原子を有する“低級アルキニル”基である。かかるアルキ ニル基の例には、プロパルギル、１-プロピニル、２-プロピニル、１-ブチン、 ２-ブテニル及び１-ペンチニルがある。用語“シクロアルキル”とは、３個〜約 １２個の炭素原子を有する飽和炭素環式基のことをいう。用語“シクロアルキル ”とは、３個〜約１２個の炭素原子を有する飽和炭素環式基のことをいう。より 好ましいシクロアルキル基は、３個〜約８個の炭素原子を有する“低級シクロア ルキル”基である。かかる基の例には、シクロプロピル、シクロブチル及びシク ロヘキシルがある。用語“シクロアルキルアルキレン”とは、シクロアルキル基 で置換されたアルキル基のことをいう。より好ましいシクロアルキルアルキレン 基は、上記で説明した低級シクロアルキル基で置換した低級アルキル基である“ 低級シクロアルキルアルキレン”である。かかる基の例には、シクロプロピニル メチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル及びシクロヘキシルメチル がある。用語“シクロアルケニル”とは、３個から１２個の炭素原子を有する部 分的に不飽和炭素環式基のことをいう。部分的に不飽和炭素環式基であるシクロ アルケニル基は、“シクロアルキルジエニル”と呼ばれる二つの二重結合（共役 している場合と共役し ていない場合）を含む。より好ましいシクロアルケニル基は、４個〜約８個の炭 素原子を有する“低級シクロアルケニル”である。かかる基の例には、シクロブ テニル、シクロペンテニル及びシクロヘキセニルがある。用語“ハロ”とは、フ ッ素、塩素、臭素及びヨウ素のようなハロゲンを意味する。用語“ハロアルキル ”とは、前記に説明したハロで置換された一つ又はそれ以上のアルキル炭素原子 を有する基のことをいう。具体的には、モノハロアルキル、ジハロアルキル及び ポリハロアルキル基がある。一例として、モノハロアルキル基には、基内にヨー ド、ブロモ、クロロ若しくはフルオロ原子のいずれかを有する。ジハロ及びポリ ハロアルキル基は、二つ又はそれ以上のハロ原子、若しくは異なるハロ基の組合 わせを有する。“低級ハロアルキル”とは、１個〜６個の炭素原子を有する基の ことをいう。ハロアルキル基の例には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ト リフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、トリク ロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロ ロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、 ジクロロエチル及びジクロロプロピルがある。用語“ヒドロキシアルキル”とは 、一つ又はそれ以上のヒドロキシル基で置換された、１個から約１０個のの炭素 原子を有する直鎖又は分岐したアルキル基のことをいう。より好ましいヒドロキ シアルキル基は、１個から６個の炭素原子と一つ又はそれ以上のヒドロキシル基 を有する“低級ヒドロキシアルキル”である。かかる基の例には、ヒドロキシメ チル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル及びヒドロキ シヘキシルがある。用語“アルコキシ”及び“アルキロキシ”とは、酸素を含む 直鎖又は分岐した基のことであり、夫々は１個から約１０個の炭素原子のアルキ ル部分を有する。より好ましいアルコキシ基は、１個〜６個の炭素原子を有する “低級アルコキシ”である 。かかる基の例には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ及びｔ-ブト キシがある。用語“アルコキシアルキル”とは、アルキル基に付いた一つ又はそ れ以上のアルコキシ基、つまりモノアルコキシアルキル及びジアルコキシアルキ ル基であるものを有するアルキル基のことをいう。さらに、“アルコキシ”基は 、フルオロ、クロロ、又はブロモのような一つ又はそれ以上のハロ原子で置換さ れ、ハロアルコキシ基になる。用語“アリール”は、単独又は組合わせて用いら れ、一つ、二つ又は三つの環を含む炭素環式芳香族系を意味し、かかる環はペン ダントに付いている又は縮合している。用語“アリール”とは、フェニル、ナフ チル、テトラヒドロナフチル、インダン及びビフェニルのような芳香族基のこと をいう。さらに、アリール部は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルチオアルキレ ン、アリールチオアルキレン、アルキルスルフィニル、アルキルスルフィニルア ルキレン、アリールスルフィニルアルキレン、アルキルスルホニル、アルキルス ルホニルアルキレン、アリールスルホニルアルキレン、アルコキシ、アリーロキ シ、アラルコキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールア ミノカルボニル、アルコキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、ハロアルキ ル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アルキルアミ ノアルキレン、アリールアミノアルキレン、アミノアルキルアミノ、ヒドロキシ 、アルコキシアルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、 アミノカルボニルアルキレン、アシル、カルボキシ及びアラルコキシカルボニル から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の置換基で、置換可能な位置で置換される 。用語“ヘテロシクリル”とは、飽和、部分的に不飽和及び不飽和ヘテロ原子含 有環型基のことであり、これを“ヘテロシクリル”、“ヘテロシクリルアルケニ ル”及び“ヘテロアリール ”といい、ヘテロ原子は窒素、硫黄及び酸素から選ばれる。飽和ヘテロシクリル の例には、１個から４個の窒素原子を含む飽和３〜６員環ヘテロモノ環式基（例 えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど）、１ 個から２個の酸素原子と１個から３個の窒素原子を含む飽和３〜６員環ヘテロモ ノ環式基（例えば、モルホリニルなど）、１個〜２個の硫黄原子と１個〜３個の 窒素原子を含む飽和３〜６員環ヘテロモノ環式基（例えば、チアゾリジニルなど ）かある。部分的に不飽和ヘテロシクリル基の例には、ジヒドロチオフェン、ジ ヒドロピラン、ジヒドロフラン及びジヒドロチアゾールがある。ヘテロシクリル 基には、テトラゾリウムやピリジニウムのような５価の窒素を含むものもある。 用語“ヘテロアリール”とは、不飽和ヘテロシクリル基のことをいう。ヘテロア リール基の例には、１個〜４個の窒素原子とを含む不飽和３〜６員環ヘテロモノ 環式基があり、具体的にはピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、 ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（例えば、４ Ｈ-１、２、４-トリアゾリル、１Ｈ-１、２、３-トリアゾリル、２Ｈ-１、２、 ３-トリアゾリルなど）、テトラゾリル（例えば、１Ｈ-テトラゾリル、２Ｈ-テ トラゾリルなど）などがあり、１個〜５個の窒素原子を含む不飽和縮合ヘテロシ クリル基には、インドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベンズイミダゾ リル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾ ロピリダジニル（例えば、テトラゾロ［１、５-ｂ］ピリダジニルなど）など、 酸素原子を含む不飽和３〜６員環ヘテロもの環式基には、例えばピラニル、フリ ルなど、硫黄原子を含む不飽和３〜６員環ヘテロモノ環式基には、例えばチエニ ルなど、１個〜２個の酸素と１個〜３個の窒素原子とを含む不飽和３〜６員環ヘ テロモノ環式基には、例えばオキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリ ル（例えば１、２、 ４-オキサジアゾリル、１、３、４-オキサジアゾリル、１、２、５-オキサジア ゾリルなど）など、１個から２個の酸素原子と１個から３個の窒素原子を含む不 飽和縮合ヘテロシクリル基（例えばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリ ルなど）や、１個から２個の硫黄原子と１個〜３個の窒素原子を含む不飽和３〜 ６員環ヘテロモノ環式基には、例えばチアゾリル、チアジアゾリル（例えば１、 ２、４-チアジアゾリル、１、３、４-チアジアゾリル、１、２、５-チアジアゾ リルなど）など、１個〜２個の硫黄原子と１個〜３個の窒素原子を含む不飽和縮 合ヘテロシクリル基（例えばベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル）などが ある。さらに用語“ヘテロ環”とは、アリール若しくはシクロアルキル基と縮合 したヘテロシクリル基である基のことをいう。かかる縮合二環式基の例には、ベ ンゾフラン、ベンゾチオフェンなどがある。前記“ヘテロシクリル”には、アル キル、ヒドロキシ、ハロ、アルコキシ、オキソ、アミノ、アルキルチオ及びアル キルアミノのような１個〜３個の置換基を有する。用語“ヘテロシクリルアルキ レン”とは、ヘテロシクリル置換アルキル基のことをいう。より好ましいヘテロ シクリルアルキレン基は、１個〜６個の炭素原子とヘテロシクリル基を有する“ 低級ヘテロシクリルアルキレン”である。用語“アルキルチオ”とは、二価硫黄 原子に付いた１個〜約１０個の炭素原子の直鎖又は分岐したアルキル基を含む基 のことをいう。より好ましいアルキルチオ基は、１個から６個の炭素原子のアル キル基を有する“低級アルキルチオ”である。かかる低級アルキルチオ基の例に は、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ及びヘキシルチオがあ る。用語“アルキルチオアルキレン”とは、二価の硫黄原子を介して、１個〜約 １０個の炭素原子のアルキル基に付いたアルキルチオ基を含む基のことをいう。 より好ましいアルキルチオアルキレン基は、１個〜６個の炭素原子のアルキル基 を有する“低級アルキ ルチオアルキレン”基のことをいう。かかる低級アルキルチオアルキレン基の例 には、メチルチオメチルがある。用語“アルキルスルフィニル”とは、二価の- Ｓ（＝Ｏ）-基に付いた１個〜約１０個の炭素原子の直鎖又は分岐したアルキル 基を含む基のことをいう。より好ましいアルキルスルフィニル基は、１個〜６個 の炭素原子のアルキル基を有する“低級アルキルスルフィニル”基である。かか る低級アルキルスルフィニル基の例には、メチルスルフィニル、エチルスルフィ ニル、ブチルスルフィニル及びヘキシルスルフィニルがある。用語“スルホニル ”は、単独で、又は“アルキルスルホニル”のような他の用語とつながって用い られ、“ハロスルホニル”とは、二価の-ＳＯ2-基を表わす。“アルキルスルホ ニル”とは、スルホニル基に付いたアルキル基のことであり、アルキルは上記で 説明されている。より好ましいアルキルスルホニル基は、１個から６個の炭素原 子を有する“低級アルキルスルホニル”基である。かかる低級アルキルスルホニ ル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル及びプロピルスルホニルが ある。さらに“アルキルスルホニル”基は、フルオロ、クロロ又はブロモのよう な一つ又はそれ以上のハロ原子で置換され、ハロアルキルスルホニル基になる。 用語“ハロスルホニル”とは、スルホニル基に付いたハロ基のことである。かか るハロスルホニル基の例には、クロロスルホニル及びブロモスルホニルがある。 用語“スルファミル”、“アミノスルホニル”及び“スルホンアミジル”は、Ｎ Ｈ2Ｏ2Ｓ-を表わす。用語“アシル”とは、有機酸からヒドロキシルを取除いた 後の残基である基を表わす。かかるアシル基の例には、アルカノイル及びアロイ ル基がある。かかるアルカノイル基の例には、ホルミル、アセチル、プロピオニ ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノ イルや、コハク酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエ ン酸、アスコルビン酸 、グルクロン酸、マレイン酸、フマル酸、ピルビン酸、マンデル酸、パントラン 酸、β-ヒドロキシ酪酸、ガラクタル酸及びガラクツロン酸から生成した基があ る。用語“カルボニル”とは、単独又は“アルコキシカルボニル”のように他の 用語とともに利用され、-（Ｃ＝Ｏ）-を表わす。用語“カルボキシ”又は“カル ボキシル”とは、単独又は“カルボキシアルキル”のような他の用語とともに利 用され、-ＣＯ2Ｈを表わす。用語“カルボキシアルキル”とは、カルボキシ基で 置換されたアルキル基のことをいう。より好ましいものは、上記に説明した低級 アルキル基を含む“低級カルボキシアルキル”であり、アルキル基はハロでさら に置換されてもかまわない。かかる低級カルボキシアルキル基の例には、カルボ キシメチル、カルボキシエチル及びカルボキシプロピルがある。用語“アルコキ シカルボニル”は、上記に説明したアルコキシ基を含み、酸素原子を介してカル ボニル基に付く基を意味する。より好ましいものには、１個〜６個の炭素原子を 有するアルキル部分のある“低級アルコキシカルボニル”である。かかる低級ア ルコキシカルボニル（エステル）基の例には、置換及び無置換メトキシカルボニ ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル及びヘキ シロキシカルボニルがある。用語“アルコキシカルボニルアルキル”とは、前記 説明したアルコキシカルボニル基で置換されたアルキル基のことをいう。より好 ましいものには、１個〜６個の炭素原子を有するアルキル部分のある“低級アル コキシカルボニルアルキル”である。かかる低級アルコキシカルボニルアルキル 基の例には、置換又は無置換メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ チル、メトキシカルボニルエチル及びエトキシカルボニルエチルがある。用語“ アルキルカルボニル”とは、本願で説明したアルキル、ヒドロキシアルキル基が カルボニル基に付いた基のことをいう。かかる基の例には、置換又は無置換メチ ルカルボニル、エチル カルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ヒ ドロキシメチルカルボニル、ヒドロキシエチルカルボニルがある。用語“アラル キル”とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェニルエチ ル及びジフェニルエチルのようなアリール置換アルキル基のことをいう。前記ア ラルキルのアリールは、ハロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアル コキシ、アミノ及びニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の置換基でさら に置換されていてもよい。用語ベンジル及びフェニルメチルは同じものであり、 相互に交換できる。用語“ヘテロシクリルアルキレン”とは、ピロリジニルメチ ルのような飽和及び部分的に不飽和ヘテロシクリル置換アルキル基（夫々ヘテロ シクロアルキルアルキレン及びヘテロシクロアルケニルアルキレンと呼ばれる） や、ピリジルメチル、キノリルメチル、チエニルメチル、フリルエチル及びキノ リルエチルのようなヘテロアリール置換アルキル基（ヘテロアリールアルキレン と呼ばれる）のことをいう。前記ヘテロアラルキルにおけるヘテロアリールは、 ハロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ及びハロアルコキシで、さらに置 換されてもかまわない。用語“アリーロキシ”とは、酸素原子を介して他の基に 付いたアリール基のことをいう。用語“アラルコキシ”とは、酸素原子を介して 他の基に付いたアラルキル基のことをいう。用語“アミノアルキル”とは、アミ ノ基で置換されたアルキル基のことをいう。より好ましいものは、“低級アミノ アルキル”基である。かかる基の例には、アミノメチル、アミノエチルなどがあ る。用語“アルキルアミノ”とは、一つ又は二つのアルキル基で置換されたアミ ノ基のことである。好ましいものには、１個から６個の炭素原子を有するアルキ ル部分を有する“低級アルキルアミノ”基がある。適当な低級アルキルアミノに は、Ｎ-メチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエ チルアミノなどのよう な、モノ置換Ｎ-アルキルアミノや二置換Ｎ、Ｎ-アルキルアミノがある。用語“ アリールアミノ”とは、Ｎ-フェニルアミノのような、一つ又は二つのアリール 基で置換されたアミノ基を表す。“アリールアミノ”基は、基のアリール環部分 がさらに置換されてもかまわない。用語“アミノカルボニル”は、式-Ｃ（＝Ｏ ）ＮＨ2のアミド基を表わす。用語“アルキルアミノカルボニル”とは、アミノ 基の窒素原子で一つ又は二つのアルキル基で置換されたアミノカルボニル基を表 わす。好ましいものには、“Ｎ-アルキルアミノカルボニル”や“Ｎ、Ｎ-ジアル キルアミノカルボニル”基がある。より好ましいものには、上記説明した低級ア ルキル部分のある“低級Ｎ-アルキルアミノカルボニル”や“低級Ｎ、Ｎ-ジアル キルアミノカルボニル”基がある。用語“アルキルカルボニルアミノ”とは、一 つのアルキルカルボニル基で置換されたアミノ基のことをいう。より好ましいア ルキルカルボニルアミノ基は、上記説明した低級アルキルカルボニル基がアミノ 基に付いた“低級アルキルカルボニルアミノ”である。用語“アルキルアミノア ルキレン”とは、アミノアルキル基に付いた一つ又はそれ以上のアルキル基を有 する基のことをいう。 本願で説明する“炭化水素（ヒドロカーボン）”部は、主に炭素と水素元素か ら成る有機化合物又は基のことである。上記部分は、アルキル、アルケニル、ア ルキニル及びアリール部を含む。さらに上記部分は、アルキル、アルケニル、ア ルキニル、並びにアルカリール、アルケアリール及びアルキンアリールのような 他の脂肪族又は環状炭化水素基で置換したアリール部を含む。好ましくは、上記 部分は１〜２０の炭素原子を含む。 本願で説明するヘテロ置換炭化水素部は、炭素以外の少なくとも一つの原子で 置換した炭化水素部であり、窒素、酸素、硫黄、又はハロゲン原子のようなヘテ ロ原子で置換された炭素鎖の部分の含む 。上記置換基には、メトキシ、エトキシ、ブトキシのような低級アルコキシ、ク ロロ又はフルオロのようなハロゲン、エーテル、アセタール、ケタール、エステ ル、フリルやチエニルのようなヘテロシクリル、アルカノキシ、ヒドロキシ、保 護されたヒドロキシ、アシル、アシロキシ、ニトロ、シアノ、アミノ及びアミド を含む。 本願では特に説明しないが、ピラゾール環の置換基を説明するためのさらなる 用語は、上記の定義での説明と同様な方法で定義される。上記したように、より 好ましい置換基は、“低級”基を含むものである。今までに説明したことに反し ない限り、本明細書で使用する用語“低級”は、１個〜６個の炭素原子を有する 一つ又はそれ以上のアルキル基を含むピラゾール環の置換基のアルキル基のこと を意味する。一つ又はそれ以上のアルケニル基を含むピラゾール環の置換基の各 アルケニル基は、２個〜約６個炭素原子を有し、一つ又はそれ以上のアルキニル 基を含むピラゾール環の置換基の各アルキニル基は、２個〜約６個炭素原子を有 し、一つ又はそれ以上のシクロアルキル及び/又はシクロアルケニルキ基を含む ピラゾール環の置換基の各シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、夫々３〜 ８員環のシクロアルキル又はシクロアルケニル基であり、一つ又はそれ以上のア リール基を含むピラゾール環の置換基の各アリール基は、モノ環式のアリール基 であり、一つ又はそれ以上のヘテロシクリル基を含むピラゾール環の置換基の各 ヘテロシクリル基は、４〜８員環のヘテロシクリルである。 本発明は、式Ｉ及びＩＸの化合物の互変異性体の形を含む。以下に説明するよ うに、式Ｉ及びＩ’のピラゾールは、水素のプロトトロピックな互変異性のため 、磁気的及び構造的に等価である。 さらに、本発明は、一つ又はそれ以上の不斉炭素を有する式Ｉ、ＩＸ、Ｘ及び ＸＩの化合物を含む。不斉炭素原子を有する本発明のピラゾール類にはジアステ レオマー、ラセミ体、又は光学活性体があることは、当業者には周知である。全 ての上記体は、本発明の範囲内にあると考えられる。具体的には、本発明はエナ ンチオマー、ジアステレオマー、ラセミ混合体及びその他の混合体を含む。 本発明は、ＴＮＦ媒介疾患、ｐ３８キナーゼ媒介疾患、炎症及び/又は関節炎 の治療用の、式Ｉの化合物若しくはその製薬的に許容な塩又は互変異性体の治療 に有効な量と少なくとも一つの製薬的に許容なキャリア、アジュバント又は希釈 剤からなる製薬組成物を含む。 さらに本発明は、ｐ３８キナーゼのＡＴＰ結合部位に特別に結合する置換基を 有するピラゾール類を含む。特定の理論に依拠することなく、出願人らは、上記 置換基を有するピラゾール類は以下に示すようにｐ３８キナーゼと相互作用する と仮設をたてた。ピラゾール環の３の位置での置換基はｐ３８キナーゼのＡＴＰ 結合部位へ近づくので、ｐ３８キナーゼの疎水性空洞は結合部位の３の位置での 置換基の周りに形成される。この疎水性空洞は、酵素の特定のペプチド配列に３ の位置の置換基が結合するものと信じられる。特に、Ｌｙｓ52、Ｇｌｕ69、Ｌｅ ｕ73、Ｉｌｅ82、Ｌｅｕ84、Ｌｅｕ101の側鎖及びＡＴＰ結合部位でのｐ３８キ ナーゼのＴｈｒ103側鎖のメチル基に結合するものと信じている（ここで、ナン バーリングスキームはＥＰＫ-２の従来から利用されているナンバーリングスキ ームに対応する）。３の位置の置換基は、アリールまたはヘテロア リールであり、かかるアリール又はヘテロアリールはさらに置換基を有してもよ い。かかる環の置換基は、水酸化又はサイクルのさらなる代謝を阻止する点にお いて有益であると仮説される。 ピラゾール環の４の位置での置換基は、ＡＴＰのアデニン環を部分的に模倣し たものである。最もそれはさらに合成されたものであるが。好ましくは、適当な 水素結合受容機能で終結した平面的な置換基である。この受容体はＭｅｔ106残 基のＮ-Ｈ骨格と水素結合し、一方この置換基の一端はバルクの溶媒と接してい る。 ピラゾール環の５の位置の置換基はかなり耐性があり、かなり潜在能力と感度 を提供する。かかる置換基はバルクの溶媒の方向に向かって伸長しており、しか も末端に配置された適当な極性のある機能性はＡＳＰ109の側鎖と相互作用し、 潜在能力と感度を増加させる。 同様に、ピラゾール環の１又は２の位置での窒素原子上の置換基はかなり耐性 があり、かなり潜在能力と感度を提供する。環の窒素原子の一つに付いた水素置 換基はＡＳＰ165に結合した水素であるという仮説をたてる。好ましくは、２の 位置での窒素原子は、ピラゾールの３の位置での炭素原子と二重結合し、一方ピ ラゾールの１の位置での窒素原子は、水素又は他の置換基での置換に利用可能で ある。 ピラゾールの５の位置での置換基と１又は２の位置での置換基は、物理的性質 、特に置換基を有するピラゾールの水への溶解性やドラッグデリバリ性能を改善 させるために選択される。しかしながら、好ましくは、上記の置換基の夫々は、 約２５０原子質量単位以下の分子量を有する。さらに好ましくは、上記の置換基 は約３６０原子質量単位以下の分子量を有する。 特定の重要な置換基を有するピラゾールの部類は、以下の式を有する上記化合 物からなり、 ここで、 Ｒ1は、約３６０原子質量単位以下の分子量を有するヒドロカルビル(hydrocar byl)、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ2は、ｐ３８キナーゼのＡＴＰ結合部位でｐ３８キナーゼと結合するヒドロ カルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ3は水素結合機能を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロアカルビル又 はヘテロシクリル基であり、 Ｒ4は約３６０原子質量単位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置 換ヒドロアカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ4は２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環であり、Ｒ1がヒドリドであると きに、Ｒ3は２-ピリジニルではなく、さらにＲ4がヒドリドであり、メチルスル ホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換のシク ロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である。 特定の重要な置換基を有するピラゾールの部類は、式ＸＩの上記化合物であり 、 ここで Ｒ1は約３６０原子質量単位以下の分子量を有するヒドロカルビ ル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ2は、ｐ３８キナーゼのＡＴＰ結合部位でＬｙｓ52、Ｇｌｕ69、Ｌｅｕ73、 Ｉｌｅ82、Ｌｅｕ84、Ｌｅｕ101及びＴｈｒ103の側鎖と結合するヒドロカルビル 、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、前記基はＡＴＰ結合 部位でｐ３８キナーゼによる前記結合中に形成される疎水性空洞内に実質的に配 置され、 Ｒ3はｐ３８キナーゼのＭｅｔ106のＮ-Ｈ骨格と水素結合する受容性機能を有 するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロアカルビル又はヘテロシクリル基であり 、 Ｒ4は約３６０原子質量単位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置 換ヒドロアカルビル又はヘテロシクリル基である。 さらに、本発明は被験者におけるＴＮＦ媒介疾患、ｐ３８キナーゼ媒介疾患、 炎症及び/又は関節炎を治療する治療方法を含み、その方法は、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル 、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシアルキル、アル キノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシアルキル、アル コキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン、アルケニル チオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアルキル、アルキ ルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシク リルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスル フィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスル ホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、 ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルア ルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、 アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテ ロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリー ルカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカル ボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアル キレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシア リーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキ シアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカル ボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルキルアミノカル ボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリ ーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキルアリーロキシカルボニル アリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルアリールカルボニルアリ ーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシカルボニ ルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリーレン、アル キルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチオアリーレン 、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオア ルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキルスルホニル アリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、ここで前記アル キル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリ ルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシアリーレン、ア リーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アリーロキシカ ルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチオアリーレン 、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレン及びアルキ ルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケ ト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルア ミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキル スルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しく は Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、- ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ（Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36 、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシク リルから独立に選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉの化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体の治療に有効な量で、かかる疾患若しく は状態を有する又はかかり易い被験者を治療することを含む。一般的な合成手順 本発明の化合物は、スキームＩ乃至ＸＶＩＩＩの以下の手順によって合成され うる。以下の手順において、明示されない限りＲ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ4及びＡ ｒ1は式Ｉ，ＩＸ，Ｘ及びＸＩの化合物について既に定義したものと同じである 。 スキームＩ スキームＩは、ピラゾール５の合成を２つのルートによって示す。還流中、酢 酸が存在しても存在しなくとも、トルエン又はベンジンといった溶媒中のピペリ ジンといった塩基の存在下で、ピリジルメチルケトン１をアルデヒド２と縮合す ると、α，β−不飽和ケトン３が得られる。ルート１では、ケトン３はまず、水 酸化ナトリウムといった塩基の存在下で、室温での過酸化水素水による処理等に よって、エポキシド４に変換される。還流に及ぶ温度中で、エタノール又は他の 適当な溶媒中で、エポキシド４をヒドラジンによって処理すると、ピラゾール５ が生成される。ルート２では、ケトン３は、還流中、酢酸といった酸の存在下で 、トシルヒドラジドと直接縮合され、ピラゾール５が得られる。或いは、中間ト シルヒドラゾン６が分離されてもよく、これをピラゾール５に変換するには、２ ５℃乃至１５０℃の温度中で、エチレングリコールといった適当な溶媒中で、水 酸化カリウムといった塩基による処理が行われる。スキームＩＩ スキームＩＩは、本発明のピラゾール１２の合成を示す。ナトリウムビス（ト リメチルシリル）アミドといった塩基の存在下で、テトラヒドロフランといった 適当な溶媒中で、ピリジン誘導体７をエステル８で処理すると、ケトン９が得ら れる。酢酸、塩化メチレン、メタノール、又はその組合せといった適当な溶媒中 で、ケトン９又はケトン９のヒドロハライド塩を臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミ ド又はＮ−クロロスクシンイミドといったハロゲン化剤で処理すると、α−ハロ ゲン化ケトン１０（但しＸはハロ）が形成される。適当なヒドロハライド塩は、 例えば塩酸塩及び臭化水素酸塩である。ハロケトン１０をチオセミカルバジド１ １と反応させると（但しＲ6及びＲ7はヒドリド、低級アルキル、フェニル、ヘテ ロシクリル等であり、又は、Ｒ6及びＲ7は任意に追加的なヘテロ原子を含むヘテ ロ環を形成する）、ピラゾール１２が得られる。この反応のための適当な溶媒は 、例えばエタノール及びジメチルホルムアミドである。反応は、塩基又は酸が存 在しても存在しなくても、室温から１００℃の範囲の温度で行われうる。 市販されていないチオセミカルバジドは、まず塩基の存在下で適当なアミンを 二硫化炭素と反応させ、次にヨウ化メチルといったアルキル化剤で処理を行うこ とによって、当業者によって都合良く合成されうる。生ずるアルキルジチオカル バメートをヒドラジンで処理すると、所望のチオセミカルバジドが得られる。こ の合成方法は、E.Lieber and R.C.Orlowski，J.Org ．Chem.，Vol．22，p．88(19 57)の中に詳述されている。他のアプローチは、Y.Nomoto et al.，Chem ．Pharm ，Bull.， Vol．39，p.86（1991）に記載されるように、適切に置換されたチオシ アネートヒドラジンを添加することである。Lieber及びNomotoの出版物は、ここ に参照として組み入れられる。スキームＩＩＩ スキームＩＩＩは、ピラゾール１９の合成を、３つのルートによってより一般 的な形式で示す。ルート１では、ケトン１３をヒドラジン１４と縮合させること により置換されたヒドラジド１６が得られ、これは次に低温でアシルハライド又 は酸無水物１７と反応され、アシルヒドラゾンが得られる。２００℃までの温度 に加熱すると、アシルヒドラゾン１８はピラゾール１９に変換される。ルート２ では、アシルヒドラゾン１８は、室温で、ケトン１３を、ヒドラジンをカルボン 酸エステルと反応させることによって形成されたアシルヒドラジド１５と反応さ せることにより直接形成される。上述のようにアシルヒドラゾン１８を加熱する と、ピラゾール１９が得られる。ルート３では、室温から約２００℃の範囲の適 当な温度で、ケトン１３をアシルヒドラジド１５で処理し、ピラゾール１９が直 接得られる。或いは、この縮合は、酢酸といった酸性溶媒中、又は酢酸を含む溶 媒中で行われうる。スキームＩＶ 合成スキームＩＶは、ピラゾール１９の合成について示す。スキームＶ スキームＶは、ヒドラゾンジアニオンをカルボキシレートで環化することによ る本発明の３置換４−ピリジル−５−アリールピラゾール３３の２段階合成を示 す。工程１では、エタノールといった溶媒の存在下で、置換されたピリジルメチ ルケトン３１（例えばスキームＩＸで後述されるように合成される）をヒドラジ ンと反応させることにより、ケトヒドラゾン３２が得られる。適当なヒドラジン は、例えばフェニルヒドラジン及びｐ−メトキシフェニルヒドラジンであるが、 これらに限られるものではない。工程２では、ヒドラゾン３２は、テトラヒドロ フランといった適当な溶媒中で、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドと いった塩基の２つの等価体で処理され、ジアニオンが発生される。この反応は、 約０℃又はそれ以下の温度で行われうる。同じ工程において、ジアニオンは次に 、メチルイソニコチネート、メチルシクロプロパンカルボキシレートといったエ ステルと縮合され、所望のピラゾール３３が得られる。目標のピラゾールを或る 時点で生成するために、この工程から生成物を無機酸といった脱水剤によって処 理する必要がありうる。スキームＶＩ スキームＶＩは、環の５の位置で無置換のピラゾールを合成するための他の方 法を示す。この方法によれば、ヘテロアリールメチルケトン３４は、まずヘテロ アリールメタンをヘキサメチルジシルアジ化リチウム又はリチウムジイソプロピ ルアミドといった強い塩基で処理することによって合成される。適当なヘテロア リールメタンは、例えば、４−メチルピリジン、４−メチルピリミジン、２，４ −ジメチルピリジン、２−クロロ−４−メチルピリミジン、２−クロロ−４−メ チルピリジン、及び２−フルオロ−４−メチルピリジンである。生じたヘテロア リールメチルリチウム種は、次に置換安息香酸エステルと反応され、ケトン３４ が得られる。適当な安息香酸エステルは、例えば、ｐ−フルオロ安息香酸メチル 及びエチルエステル、並びに、ｐ−クロロ安息香酸エチル及びメチルエステルで ある。ケトン３４は、ジメチルホルムアミドジメチルアセタール又はｔ−ブトキ シビス（ジメチルアミノ）メタンといったアミノメチレン化剤と反応させること によって、アミノメチレン誘導体３５へ変換される。ケトン３５は、ヒドラジン で処理されることによりピラゾール３６へ変換される。 この合成ルートの変更により、環の位置１において置換された窒素を含むピラ ゾール３８が位置選択的に合成される。ケトン３４はまず、適当な置換されたヒ ドラジンとの反応によってヒドラゾン３７へ変換される。適当なヒドラジンは、 例えば、Ｎ−メチルヒドラジン及びＮ−（２−ヒドロキシエチル）ヒドラジンで ある。ヒドラゾン３７をアミノメチレン化剤と反応させることによって、ピラゾ ール３８が生成される。適当なアミノメチレン化剤は、例えば、ジメチルホルム アミドジメチルアセタール及びｔ−ブトキシビス（ジメチルアミノ）メタンを含 む。 ピラゾール３６及び３８のＲ3置換基が置換可能ハロゲンといった離脱基を持 っている場合、アミンによる続く処理はアミノ置換ヘテロ芳香族誘導体を生成す る。かかるアミンは、例えば、ベンジル アミン、シクロプロピルアミン、及びアンモニアである。離脱基はまた、メルカ プチド及びアルコキシドといった求核剤によって置換されうる。置換可能なＲ3 群は、例えば、２−クロロピリジニル及び２−ブロモピリジニル群を含むが、こ れらに限られるものではない。スキームＶＩＩ スキームＶＩＩは、Ｒ2＝ＣＨ3の場合の（スキームＩに従って合成された）ピ ラゾール５からの誘導体の合成を示す。ピラゾール５を酸化させることによりカ ルボン酸３９が得られ、これは次にヒドロキシメチル化合物４０へ還元されるか 、又はアミンＮＲ10Ｒ11（但し、Ｒ10及びＲ11は、例えば水素、アルキル、及び アリールから独立に選択されるか、又は、それらか付けられる窒素原子と共に酸 素、窒素、又は硫黄から選択される１つ以上の追加的なヘテロ原子を含みうる４ −８員環を形成する。）と結合されることによりアミド４１が形成され、次にこ れは分解されてアミン誘導体４２が発生される。スキームＶＩＩＩ スキームＶＩＩＩは、ピラゾール４３からのピラゾール４４及び４５の合成を 示す。ピラゾール４３の環窒素原子のアルキル化は、従来の技術を用いて達成さ れうる。ピラゾール４３を適当な塩基（例えば水酸化ナトリウム）によって処理 し、続いてハロゲン化アルキル（例えばＣＨ3Ｉ）によって処理することにより 、異性体４４及び４５の混合物が生成される。スキームＩＸ スキームＩＸは、本発明の３−アリール−４−ピリジル−ピラゾールの合成を 示す。安息香酸エステル４６は、ヘキサメチルジシルアジ化アルカリ金属（望ま しくはヘキサメチルジシルアジ化ナトリウム又はヘキサメチルジシルアジ化リチ ウム）といった強い塩基の存在下で、テトラヒドロフランといった適当な溶媒中 で、ピリジン４７と反応され、デスオキシベンゾイン４８が得られる。デスオキ シベンゾイン４８は次に、過剰のジメチルホルムアミドジメチルアセタールで処 理されて、ケトン４９へ変換される。ケトン４９は次に、エタノールといった適 当な溶媒の中でヒドラジン水和物と反応され、ピラゾール５０が生成される。ス キームＩＸでは、Ｒ12は、上記においてＲ4について定義された任意の置換基か ら独立に選択される１つ以上の基を表わす。好ましくは、Ｒ12は、水素、アルキ ル、ハロ、トリフルオロメチル、メトキシ又はシアノ、又はメチレンジオキシを 表わす。 本発明の３−アリール−４−ピリミジニル−ピラゾールは、ピリジン４７を対 応するピリミジンによって置き換えることによってスキームＩＸと同様に合成さ れうる。同様に、スキームＸ乃至ＸＶＩＩは、これらのスキームで示される３− アリール−４−ピリミジニル−ピラゾールに対応する３−アリール−４−ピリミ ジニル−ピリミジンを合成するために使用されうる。スキームＸ スキームＸは、ピラゾール環の位置１における窒素原子に更に置換される３− アリール−４−ピリジル−ピラゾールを合成するのに使用されうるスキームＩＸ の１つの変形例を示す。（スキームＩＸに従って合成された）デスオキシベンゾ イン４８が代わりにまずヒドラジンによって処理され、ヒドラゾン５１が次にジ メチルホルムアミドジメチルアセタールで処理されれば、生ずる生成物はピラゾ ール５２である。 スキームＸＩ乃至ＸＶＩＩＩは、他の置換基を有する他の３−アリール−４− ピリジル−ピラゾールを合成するためにスキームＩＸに対してなされうる更なる 変形を示す。スキームＸＩ スキームＸＩＩ スキームＩＩＩにおいて、Ｘはクロロ、フルオロ、又はブロモであり；Ｒ13は 例えば水素、アルキル、フェニル、アラルキル、ヘテロアリールアルキル、アミ ノ、又はアルキルアミノであり；Ｒ20は例えば水素又はアルキルである。スキームＸＩＩＩ スキームＸＩＶ スキームＸＶ スキームＸＶでは、ｎは１，２，３，４又は５であり；Ｒ14及びＲ15は、例え ば、水素、アルキル、又はアリールから独立に選択されるか、又は、それらが付 けられる窒素原子と共に酸素、窒素、又は硫黄から選択される１つ以上の追加的 なヘテロ原子を含みうる４−７員環を形成する。スキームＸＶＩ スキームＸＶＩでは、Ｒ16は、例えば、水素、アルキル、及びフェニルから選 択される。スキームＸＶＩＩ スキームＸＶＩＩでは、Ｒ16は、例えば、アルキル、フェニルアルキル、及び ヘテロシクリルアルキルから選択される。スキームＸＶＩＩＩ ピリジン環の２の位置がカルボキシル基又はカルボキシル誘導体によって置換 される化合物は、スキームＸＶＩＩＩに示される手順に従って合成されうる。出 発ピリジルピラゾール６７は、ｍ−クロロペルオキシ安息香酸といった酸化剤と の反応によりそのピリジンＮ−オキシドへの第１の変換によって２−シアノ誘導 体６８へ変換される。ピリジンＮ−オキシドをトリメチルシリルシアニドによっ て処理し、続いてジメチルカルバモイルクロリドによって処理することにより、 ２−シアノ化合物６８が生成される。化合物６８は、適当な塩基の存在下で、過 酸化水素と反応されることにより、そのカルボキシアミド(carboxamide)６９へ 変換される。適当な塩基は、例えば、炭酸カリウム及び重炭酸カリウムである。 カルボキシアミド６９は、メタノール中でジメチルホルムアミドジメチルアセタ ールと反応させることによって、そのメチルエステル７０へ変換される。エステ ル７０は、けん化によってそのカルボン酸７１へ変換される。典型的なけん化条 件は、エタノール、又は、エタノール及び水、又は、メタノール及び水等といっ た適当な溶媒中での、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムといった塩基との反 応を含む。エステル７０もまた、適当な温度において、メチルアミンといった所 望のアミンで処理することによって、置換アミド７２へ変換可能である。温度は 、室温から１８０℃の範囲でありうる。スキームＸＶＩＩＩでは、Ｒ18及びＲ19 は、例えば、水素、アルキル、又はアリールから独立に選択されるか、又は、そ れらが付けられる窒素原子と共に酸素、窒素、又は硫黄から選択される１つ以上 の追加的なヘテロ原子を含みうる４−８員環を形成する。 以下の例は、式Ｉ，ＸＩ，Ｘ，及びＸＩの化合物の合成の方法の詳細な説明を 含む。これらの詳細な説明は、本発明の一部を成す上述の一般的な合成手順の範 囲にあり、それを例示するものである。これらの詳細な説明は、例示のためだけ に示されるものであり、本発明の範囲を制限するものではない。特に示されない 限り、全ての 部分は重さによるものであり、また温度は摂氏で示されている。全ての化合物は 、それらの帰属された構造でＮＭＲ分光成分を示した。幾つかの場合、帰属され た構造は、核オーバーハウザー効果（ＮＯＥ）実験によって確認された。 以下の略記が使用される。 ＨＣｌ 塩酸 ＭｇＳＯ4 硫酸マグネシウム Ｎａ2ＳＯ4 硫酸ナトリウム ＮａＩＯ4 過ヨウ素酸ナトリウム ＮａＨＳＯ3 重亜硫酸ナトリウム ＮａＯＨ 水酸化ナトリウム ＫＯＨ 水酸化カリウム Ｐ2Ｏ5 五酸化二リン Ｍｅ メチル Ｅｔ エチル ＭｅＯＨ メタノール ＥｔＯＨ エタノール ＨＯＡｃ（又はＡｃＯＨ） 酢酸 ＥｔＯＡｃ 酢酸エチル Ｈ2Ｏ 水 Ｈ2Ｏ2 過酸化水素 ＣＨ2Ｃｌ2 塩化メチレン Ｋ2ＣＯ3 炭酸カリウム ＫＭｎＯ4 過マンガン酸カリウム ＮａＨＭＤＳ ヘキサメチルジシルアジ化ナトリウム ＤＭＦ ジメチルホルムアミド ＥＤＣ １−（３−ジメチルアミノプロピル）３−エチルカルボジイミド塩酸 塩 ＨＯＢＴ １−ヒドロキシベンゾトリアゾール ｍＣＰＢＡ ３−クロロ過安息香酸 Ｔｓ トシル ＴＭＳＣＮ トリメチルシリルシアニド Ｍｅ2ＮＣＯＣｌ Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロリド ＳＥＭ−Ｃｌ ２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド ｈ 時 ｈｒ 時 ｍｉｎ 分 ＴＨＦ テトラヒドロフラン ＴＬＣ 薄層クロマトグラフィー ＤＳＣ 示差走査熱量測定 ｂ．ｐ． 沸点 ｍ．ｐ． 融点 ｅｑ 当量 ＲＴ 室温 ４−［５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−３−メチル−１Ｈ−ピ ラゾール−４−イル］ピリジン工程１： ４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−３−ピリジル−３− ブテン−２−オンの合成 トルエン（５０ｍｌ）中に４−ピリジルアセトン（１．０ｇ、７．４ミリモル ）と３−フルオロ−ｐ−アニスアルデヒド（１．２５ｇ、８．１ミリモル）とピ ペリジン（０．１３ｇ、１．５ミリモル）とを溶かした溶液を、加熱し還流させ た。１８時間後、反応溶液を室温まで冷却し、減圧下で溶媒を除去した。粗生成 物（３．０ｇ）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、６５：３５エチルア セテート／ヘキサン）によって精製し、淡黄色固体の４−（３−フルオロ−４− メトキシフェニル）−３−ピリジル−３−ブテン−２−オン（１．６０ｇ、８０ ％）を得た。工程２： ４−（５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−３−メチル− １Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンの合成 酢酸（２５ｍｌ）中に３−ピリジル−４−（３−フルオロ−４−メトキシフェ ニル）−３−ブテン−２−オン（工程１）（０．９９ｇ、３．６５ミリモル）を 溶かした溶液に、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジド（０．６８ｇ、３．６５モ ル）を添加した。反応溶液を６時間加熱し還流させた。蒸留により反応溶液から 酢酸を除去した。生じた残留物を、ＣＨ2Ｃｌ2（１５０ｍｌ）で希釈し、Ｈ2 Ｏ（２×１００ｍｌ）で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ2ＳＯ4）、ろ過し、濃縮させた 。粗生成物（１．５ｇ）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、エチルアセ テート）によって精製し、淡黄色固体の４−［５−（３−フルオロ−４−メトキ シフェニル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（２１３ｍ ｇ、２０．７％）を得た。Ｃ16Ｈ14Ｎ3ＯＦ．０．１Ｈ2Ｏの元素分析・計算値： Ｃ、６７．４１；Ｈ、５．０２；Ｎ、１４．７４。結果：Ｃ、６７．３７；Ｈ、 ４．８８；Ｎ、１４．３５。 ４−（３−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピリジン工程１： ４−ピリジルアセトンの合成 ４−ピリジルアセトンを、Ippolitoらによる米国特許第４，６８１，９４４号 に従って合成した。工程２： ４−フェニル−３−（４−ピリジル）−３−ブテン−２−オンの合成 例Ａ−１の手順の工程１を用いて、４−ピリジルアセトン（工程１）（１ｇ、 ７．４ミリモル）を還流中のピペリジン（５０ｍｇ）を含むベンゼン（１５ｍＬ ）中でベンズアルデヒド（７９０ｍｇ、７．４ミリモル）と縮合させた。所望の ４−フェニル−３−（４−ピリジル）−３−ブテン−２−オン（１．３ｇ、７８ ％）は結晶性 固体として得られた。ｍ．ｐ．１０１−１０３℃。Ｃ15Ｈ13ＮＯ（２２３．２８ ）の元素分析・計算値：Ｃ、８０．６９；Ｈ、５．８７；Ｎ、６．２７。結果： Ｃ、８０．５９；Ｈ、５．７９：Ｎ、６．１８。工程３： ４−フェニル−３−（４−ピリジル）−３，４−エポキシ−２−ブタ ノンの合成 例Ａ−１の手順の工程２を用いて、メタノール（２０ｍｌ）中に４−フェニル −３−（４−ピリジル）−３−ブテン−２−オン（工程２）（１．２５ｇ、５． ６ミリモル）を溶かした溶液を、水酸化ナトリウム（２３０ｍｇ、５．７ミリモ ル）の存在下で、３０％過酸化水素水（１ｍｌ）で処理した。粗生成物をクロマ トグラフィー（シリカゲル、１：１エチルアセテート／ヘキサン）によって精製 し、４−フェニル−３−（４−ピリジル）−３，４−エポキシ−２−ブタノン（ ２７０ｍｇ、２０％）を得た。工程４： ４−（３−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピ リジンの合成 例Ａ−１の手順の工程３を用いて、エタノール（１５ｍｌ）中に４−フェニル −３−（４−ピリジル）−３，４−エポキシ−２−ブタノン（工程３）（２５０ ｍｇ、１ミリモル）を溶かした溶液を、無水ヒドラジン（５０ｍｇ、１．５ミリ モル）で処理し、４時間加熱し還流させた。粗生成物をクロマトグラフィー（シ リカゲル、１：１アセトン／ヘキサン）によって精製した。生成物をエチルアセ テート及びヘキサンから再結晶化し、４−（３−メチル−５−フェニル−１Ｈ− ピラゾール−４−イル）ピリジン（８１ｍｇ、３５％）を結晶性固体として得た 。ｍ．ｐ．２１２−２１４℃。Ｃ15Ｈ13Ｎ3（２３５．２９）の元素分析・計算 値：Ｃ、７６．５７；Ｈ、５．５７；Ｎ、１７．８６。結果：Ｃ、７６． ４９；Ｈ、５．４２；Ｎ、１７．３９。 ４−［５−メチル−３−（２−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］ピリジン工程１： ４−（２−メチルフェニル）−３−（４−ピリジル）−３−ブテン− ２−オンの合成 トルエン（５０ｍｌ）中に、４−ピリジルアセトン（例Ａ−５、工程１）（０ ．７５ｇ、５．５６ミリモル）と、ｏ−トルアルデヒド（０．７３ｇ、５．５６ ミリモル）と、ピペリジン（１００ｍｇ）とを溶かした溶液を、加熱し還流させ た。反応中に発生した水は、ディーン−スタークトラップによって除去された。 還流中で５時間加熱した後、反応混合液を室温で１５時間攪拌した。混合液を濃 縮して、オレンジ色の油性残留物を得た。粗生成物をクロマトグラフィーによっ て精製し、４−（２−メチルフェニル）−３−（４−ピリジル）−３−ブテン− ２−オンを得た。Ｃ16Ｈ15ＮＯ（２３７．３０）の元素分析・計算値：Ｃ、８０ ．９８；Ｈ、６．３７；Ｎ、５．９０。結果：Ｃ、８０．７８；Ｈ、６．６１； Ｎ、５．８５。工程２： ４−（２−メチルフェニル）−３−（４−ピリジル）−３，４−エポ キシ−２−ブタノンの合成 メチルアルコール（１８ｍｌ）中に４−（２−メチルフェニル） −３−（４−ピリジル）−３−ブテン−２−オン（工程１）（１．０ｇ、４．２ ミリモル）を溶かした溶液に、水（４ｍｌ）中にＨ2Ｏ2（３０重量％）（０．９ ５ｇ、８．４ミリモル）及び水酸化ナトリウム（０．１８ｇ、４．６ミリモル） を添加した。反応溶液を、室温で７０時間攪拌した。メチルアルコールを除去し た後、水（２５ｍｌ）及びエチルアセテート（１００ｍｌ）を添加し、二相混合 液を３０分間攪拌した。層を分離し、水溶性層をエチルアセテート（１００ｍｌ ）で洗浄した。まとめた有機層をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、ろ過し、濃縮して、油 を得た。クロマトグラフィーによって油状残留物から４−（２−メチルフェニル ）−３−（４−ピリジル）−３，４−エポキシ−２−ブタノンを分離した。工程３： ４−［５−メチル−３−（２−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール −４−イル］ピリジンの合成 エチルアルコール（５０ｍｌ）中に４−（２−メチルフェニル）−３−（４− ピリジル）−３，４−エポキシ−２−ブタノン（工程２）（０．１１ｇ、０．４ ３４ミリモル）及びヒドラジン水和物（０．０４３ｇ、０．８６８ミリモル）を 溶かした溶液を、還流中で２０時間加熱した。溶媒を除去し、生じた残留物をク ロマトグラフィーによって精製し、４−［５−メチル−３−（２−メチルフェニ ル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンを得た。Ｃ16Ｈ15Ｎ3（２４９． ３２）の元素分析・計算値：Ｃ、７７．０８；Ｈ、６．０６；Ｎ、１６．８５。 結果：Ｃ、７６．６６；Ｈ、５．９１；Ｎ、１６．８４。 ４−［５−メチル−３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イ ル］ピリジン 例Ａ−３と同様の方法で、但しｏ−トルアルデヒドの代わりにｐ−フルオロベ ンズアルデヒドを用いて、上記化合物を合成した。Ｃ15Ｈ12Ｎ3Ｆ＋０．１Ｈ2Ｏ （２４９．３２）の元素分析・計算値：Ｃ、７０．６３；Ｈ、４．８２；Ｎ、１ ６．４７。結果：Ｃ、７０．６３；Ｈ、４．７８；Ｎ、１６．４０。 ４−［５−メチル−３−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］ピリジン 例Ａ−３と同様の方法で（１つのわずかな変更を伴って、即ち、工程２におい て、中間エポキシドの合成を１から１０℃で１時間で行い、反応溶液を２当量重 亜硫酸ナトリウムを含む水とエチルアセテートとに分配することによってクエン チした。）、但しｏ−トルアルデヒドの代わりに、ｐ−トルアルデヒドを用いて 、上記化合物 を分離した。Ｃ16Ｈ15Ｎ3（２４９．３２）の元素分析・計算値：Ｃ、７７．０ ８；Ｈ、６．０６；Ｎ、１６．８５。結果：Ｃ、７６．９７；Ｈ、６．０９；Ｎ 、１６．９０。 ４−［５−メチル−３−［４−（メチルチオ）フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４ −イル］ピリジン 例Ａ−５と同様の方法で、但しｐ−トルアルデヒドの代わりに４−（メチルチ オ）ベンズアルデヒドを用いて、上記化合物を合成した。Ｃ16Ｈ15Ｎ3Ｓ（２８ １．３８）の元素分析・計算値：Ｃ、６８．３０；Ｈ、５．３７；Ｎ、１４．９ ３。結果：Ｃ、６８．３４；Ｈ、５．０９；Ｎ、１４．７８。 ４−［３−（４−クロロフェニル）−５−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］ピリジン 例Ａ−５と同様の方法で、但しｐ−トルアルデヒドの代わりに、 ｐ−クロロベンズアルデヒドを用いて、上記化合物を得た。Ｃ15Ｈ12Ｎ3Ｃｌ（ ２６９．７７）の元素分析・計算値：Ｃ、６６．７９；Ｈ、４．４８；Ｎ、１５ ．５８。結果：Ｃ、６６．４３；Ｈ、４．４４；Ｎ、１５．７８。４−［３−メチル−５−（３−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］ピリジン 例Ａ−５と同様の方法で、但しｐ−トルアルデヒドの代わりに、ｍ−トルアル デヒドを用いて、上記化合物を得た。Ｃ16Ｈ15Ｎ3＋０．２Ｈ2Ｏの元素分析・計 算値：Ｃ、７５．９８；Ｈ、６．１４；Ｎ、１６．６１。結果：Ｃ、７６．０６ ；Ｈ、６．０５；Ｎ、１６．３８。 ４−［５−（２，５−ジメチルフェニル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４ −イル］ピリジン 例Ａ−５と同様の方法で、但しｐ−トルアルデヒドの代わりに２，５−ジメチ ルベンズアルデヒドを用いて、上記化合物を得た。Ｃ17Ｈ17Ｎ3＋０．１Ｈ2Ｏの 元素分析・計算値：Ｃ、７７．０１；Ｈ、６．５４；Ｎ、１５．８５。結果：Ｃ 、７６．９６；Ｈ、６．８１；Ｎ、１５．５１。 ４−［５−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−３−メチル−１Ｈ−ピ ラゾール−４−イル］ピリジン トルエン（３０ｍＬ）中に、４−ピリジルアセトン（１．５ｇ、１２ミリモル ）とピペロナール（１．６ｇ、１０．６ミリモル）と酢酸（１１０ｍｇ、１．８ ミリモル）とピペリジン（１１０ｍｇ、１．３ミリモル）とを溶かし、ディーン −スタークトラップを設けられたフラスコの中で還流中で２時間加熱した。溶液 を室温まで冷却し、固体を沈殿させるためにエチルアセテートを添加し、沈殿物 （１．２５ｇ）を、ろ板（filter plate）に収集した。この固体の試料（５００ ｍｇ）を、酢酸（５ｍＬ）中で、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジド（３４８ｍ ｇ、１．８１ミリモル）と共に８０℃で１時間加熱した。反応溶液を１時間加熱 し還流させた。反応溶液を室温へ冷却し、溶媒を蒸発させた。残留物をエチルア セテート中に溶かし、５％炭酸カリウム水及び水で洗浄した。有機層を、乾燥さ せ（ＭｇＳＯ4）、ろ過し、溶媒を除去し、黄色固体を得た。この固体を、メチ レンクロリドと共に粉末化し、ろ板に収集された４− ［５−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾ ール−４−イル］ピリジン（２２０ｍｇ、収量４２％）を得た。Ｃ16Ｈ13Ｎ3Ｏ2 の元素分析・計算値：Ｃ、６８．８１；Ｈ、４．６９；Ｎ、１５．０４。結果： Ｃ、６８．０２；Ｈ、４．５４；Ｎ、１４．７６。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）：２８０（基 本ピーク）。 ４−［３−メチル−５−（４−フェノキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４− イル］ピリジン トルエン（３０ｍＬ）中に、４−ピリジルアセトン（１．５ｇ、１２ミリモル ）とフェノキシベンズアルデヒド（９２．１ｇ、１０．６ミリモル）と酢酸（１ １０ｍｇ、１．８ミリモル）とピペリジン（１１０ｍｇ、１．３ミリモル）とを 溶かし、ディーン−スタークトラップを設けられたフラスコの中で還流中で２時 間加熱した。溶液を室温まで冷却し、固体を沈殿させるためにエチルアセテート を添加し、沈殿物を、ろ板上に収集した。この固体の試料（２２３ｍｇ）を、水 酸化カリウム（７７ｍｇ）を含むエチレングリコール中で、ｐ−トルエンスルホ ニルヒドラジド（３４８ｍｇ、１．８１ミリモル）と共に１１０℃で０．５時間 加熱した。後処理は、例Ａ−１０と同様である。４−［３−メチル−５−（４− フェノキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（１００ｍｇ、 収量６６％）を得た。Ｃ21Ｈ17Ｎ3Ｏ＋０．１Ｈ2Ｏの元素分析・ 計算値：Ｃ、７６．６２；Ｈ、５．２７；Ｎ、１２．７６。 結果：Ｃ、７６． ３７；Ｈ、５．１９；Ｎ、１２．６４。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）：３２８（基本ピーク） 。 ４−［５−［（１，１’−ビフェニル）−４−イル］−３−メチル−１Ｈ−ピラ ゾール−４−イル］ピリジン 例Ａ−１０と同様の手順で、但しピペロナールの代わりに４−ホルミルビフェ ニルを用いて、白色固体の４−［５−［（１，１’−ビフェニル）−４−イル］ −３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンを得た。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ） ：３１２（基本ピーク）。 ４−［３−メチル−５−［３−（フェノキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４ −イル］ピリジン 例Ａ−１０と同様の手順で、但しピペロナールの代わりに３−フェノキシベン ズアルデヒドを用いて、白色固体の４−［３−メチ ル−５−［３−（フェノキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジ ンを得た。 ４−［３−メチル−５−［３−（フェニルメトキシ）フェニル］−１Ｈ−ピラゾ ール−４−イル］ピリジン 例Ａ−１０と同様の手順で、但しピペロナールの代わりに、３−ベンジルオキ シベンズアルデヒドを用いて、白色固体の４−［３−メチル−５−［３−（フェ ニルメトキシ）フェニル］−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンを得た。Ｍ Ｓ（Ｍ＋Ｈ）：３４２（基本ピーク）。 ４−［３−メチル−５−［２−（フェニルメトキシ）フェニル］−１Ｈ−ピラゾ ール−４−イル］ピリジン 例Ａ−１０と同様の手順で、但しピペロナールの代わりに、２−ベンジルオキ シベンズアルデヒドを用いて、白色固体の４−［３− メチル−５−［２−（フェニルメトキシ）フェニル］−１Ｈ−ピラ ゾール−４ −イル］ピリジンを得た。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）：３４２（基本ピーク）。２−［３−メチル−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］フ ェノール 例Ａ−１０と同様の手順で、但しピペロナールの代わりに、２−ヒドロキシベ ンズアルデヒドを用いて、２−［３−メチル−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ− ピラゾール−４−イル］フェノールを得た。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）：２５２（基本ピー ク）。 ３−［３−メチル−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］フ ェノール 例Ａ−１０と同様の手順で、但しピペロナールの代わりに３−ヒドロキシベン ズアルデヒドを用いて、３−［３−メチル−４−（４ −ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］フェノールを得た。ＭＳ（Ｍ＋ Ｈ）：２５２（基本ピーク）。 １−ヒドロキシ−４−［３−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ ル］ピリジニウム ＣＨ2Ｃｌ2（１０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（２０ｍＬ）の混合液中に４−（３−メ チル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（例Ａ−２）（２ ．０６ｇ、８．７６ミリモル）を溶かした溶液に、３−クロロペルオキシ安息香 酸（５７−８６％）（２．６５ｇ、８．７６ミリモル）を添加した。反応溶液を 、室温で２時間攪拌し、Ｋ2ＣＯ3溶液（２５％、１５ｍＬ）でクエンチし、濃縮 した。生じた残留物を、ＥｔＯＡｃ（２．０Ｌ）とＨ2Ｏ（５００ｍＬ）とに分 配した。有機層を、分離し、Ｈ2Ｏ（５００ｍＬ）で洗浄し、ＭｇＳＯ4によって 乾燥させ、ろ過し、濃縮し、１−ヒドロキシ−４−［３−メチル−５−フェニル −１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジニウム（１．１２ｇ、５４．５％）を得 た。ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）：２５２（基本ピーク）。 ５−（４−フルオロフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−（４−ピリジニル）− １Ｈ−ピラゾール−３−アミン工程１： １−フルオロ−４−（４’−ピリジルアセチル）ベンゼンの合成 ０℃のナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドの溶液（２００ｍＬ、ＴＨ Ｆ中に１．０Ｍ）に、３０分間に亘って、乾燥ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の４−ピ コリン（１８．６ｇ、０．２０モル）の溶液を添加した。反応混合液を、０−１ ０℃で、更に３０分間に亘って攪拌し、次にこれを内部温度が１５℃を越えない ような速度で乾燥ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の４−フルオロ安息香酸エチル（１６． ８ｇ、０．１０モル）へ添加する。添加後、生じた黄色の懸濁液を室温で３時間 攪拌した。水（６００ｍＬ）を添加し、エチルアセテート（３×２００ｍＬ）で 水溶相を抽出した。まとめた有機層を、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで 乾燥させ、ろ過した。ろ液を、真空下で濃縮し、油状の１−フルオロ−４−（４ ’−ピリジルアセチル）ベンゼン（１９．９ｇ、９２％）を得て、これを静置し て固化させた。ｍ．ｐ．：９０−９１℃。Ｃ13Ｈ10ＦＮＯの元素分析・計算値： Ｃ、７２．５５；Ｈ、４．６８；Ｎ、６．５１。結果：Ｃ、７２．０７；Ｈ、４ ．６６；Ｎ、６．６２。工程２： １−フルオロ−４−（４’−ピリジルブロモアセチル）ベンゼンの合 成 酢酸（２００ｍＬ）中に１−フルオロ−４−（４’−ピリジルアセチル）ベン ゼン（工程１）（１０．０ｇ、０．０４６モル）を溶かした溶液に、酢酸（２０ ｍＬ）中にブロミン（８．２ｇ、０．０５２モル）を溶かした溶液を１滴ずつ添 加する。反応混合液を、室温で一晩攪拌する。溶媒を除去した後、残留物をエチ ルアセテートと共に粉末化させる。黄色固体が形成され、これをろ過し、空気乾 燥して、１−フルオロ−４−（４’−ピリジルブロモアセチル）ベンゼン（１４ ．５ｇ）を得た。混合液は、更に精製されることなく次の工程で使用された。工程３： ５−（４−フルオロフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−（４−ピリ ジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−アミンの合成 エタノール（１０ｍＬ）中に、１−フルオロ−４−（４’−ピリジルブロモア セチル）ベンゼン（工程２）（３．８ｇ、０．０１モル）と４，４−ジメチルア ミノ−３−チオセミカルバジド（１．２ｇ、０．０１モル）とを溶かした溶液を 、３０分間加熱し還流させた。濃緑の溶液を冷却し、水（１００ｍＬ）の中へ注 いだ。水溶相を、メチレンクロリド（１００ｍＬ）で抽出した。まとめた有機層 を、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、濃縮した。生じ た残留物をクロマトグラフィー（シリカゲル、エチルアセテート）で精製し、０ ．３ｇの薄い黄色固体の５−（４−フルオロフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４ −（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−アミンを得た。ｍ．ｐ．：２４ ５−２４７℃。Ｃ16Ｈ15ＦＮ4の元素分析・計算値：Ｃ、６８．０７；Ｈ、５． ３６；Ｎ、１９．８４。結果：Ｃ、６８．００；Ｈ、５．３７；Ｎ、１９．６１ 。５−（４−フルオロフェニル）−Ｎ−フェニル−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ −ピラゾール−３−アミン ５−（４−フルオロフェニル）−Ｎ−フェニル−４−（４−ピリジニル）−１ Ｈ−ピラゾール−３−アミンを、例Ａ−１９に関して上述されたのと同様の手順 によって合成した。ｍ．ｐ．：２１８−２１９℃。Ｃ20Ｈ15ＦＮ4＋０．１Ｈ2Ｏ の元素分析・計算値：Ｃ、７２．３３；Ｈ、４．６１；Ｎ、１６．８７。結果： Ｃ、７２．１６；Ｈ、４．５６；Ｎ、１６．７７。 ４−［５−（４−フルオロフェニル）−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４− イル］ピリジン工程１： １−フルオロ−４−（４’−ピリジルアセチル）ベンゼン Ｎ−ベン ゾイルヒドラゾンの合成 ＴＨＦ（２０ｍＬ）中に安息香酸ヒドラジド（１．３６ｇ、０．０１モル）を 溶かした溶液に、１−フルオロ−４−（４’−ピリジ ルアセチル）ベンゼン（２．１５ｇ、０．０１１モル）を一気に添加し、続いて 濃塩酸を１滴添加した。反応混合液を、室温で一晩攪拌した。白色の沈殿物が形 成され、これをろ過し、エステルで洗浄し、空気乾燥させて、シス及びトランス （比率、１：９）異性体の混合液の１−フルオロ−４−（４’−ピリジルアセチ ル）ベンゼン Ｎ−ベンゾイルヒドラゾン（２．９０ｇ、７９％）を得た。工程２： ４−［５−（４−フルオロフェニル）−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾ ール−４−イル］ピリジンの合成 １−フルオロ−４−（４’−ピリジルアセチル）ベンゼン Ｎ−ベンゾイルヒ ドラゾン（工程１）（０．５０ｇ、１．５ミリモル）を、窒素下で１５分間１８ ０℃で加熱し、続いて冷却した。生じた固体を、クロマトグラフィー（シリカゲ ル、１：１エチルアセテート／ヘキサン）によって精製し、淡黄色固体の４−［ ５−（４−フルオロフェニル）−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ ピリジン（０．２５ｇ、５３％）を得た。ｍ．ｐ．：２６５−２６７℃。Ｃ20Ｈ14 ＦＮ3＋０．２５Ｈ2Ｏの元素分析・計算値：Ｃ、７５．１０；Ｈ、４．５７； Ｎ、１３．１４。結果：Ｃ、７４．９８；Ｈ、４．４９；Ｎ、１２．８７。 ４−［５−（３−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラ ゾール−４−イル］ピリジン工程１： ３−（４’−ピリジルアセチル）トルエンの合成 ３−（４’−ピリジルアセチル）トルエンを、例Ａ−１９の工程１について記 載されるのと同様の方法で、収量７０％で合成した。工程２： トリフルオロアセチルヒドラジドの合成 エタノール（２５ｍＬ）中にエチルトリフルオロアセテート（１４．２ｇ、０ ．１０モル）及びヒドラジン水和物（５．５４ｇ、０．１１モル）を溶かした溶 液を、６時間加熱し還流させた。溶媒を除去し、生じた残留物を真空下で乾燥さ せ、透明な油状のトリフルオロアセチルヒドラジド（１２．３ｇ、９６％）を得 て、これを静置して固化させた。工程３： ４−［５−（３−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）− １Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン ３−（４’−ピリジルアセチル）トルエン（２．１１ｇ、０．０１モル）及び トリフルオロアセチルヒドラジド（工程２）（１．０ｇ、０．０１モル）の混合 液を、窒素下で１５分間２００℃で加熱した。粗残留物を、クロマトグラフィー （シリカゲル、３５：６５エチルアセテート／ヘキサン）によって精製し、白色 固体の４−［５−（３−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ −ピラゾール−４−イル］ピリジン（０．５６ｇ）を得た。ｍ．ｐ．：２３７− ２３９℃。Ｃ16Ｈ12Ｆ3Ｎ3の元素分析・計算値：Ｃ、６３．３６；Ｈ、３．９９ ；Ｎ、１３．８５。結果：Ｃ、６３．６；Ｈ、４．００；Ｎ、１３．７０。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾ ール−４−イル］ピリジン ＴＨＦ（２５ｍＬ）中に、１−フルオロ−４−（４’−ピリジルアセチル）ベ ンゼン（１．０ｇ、４．６ミリモル）及びイソニコチンヒドラジド（０．６３ｇ 、４．６ミリモル）を溶かした溶液を溶解するまで加熱し、次に溶媒を除去した 。生じた固体を、まず１４０℃に加熱し、これにより相変化を生じさせ、続いて １８０℃までの更なる加熱により溶融させ、そのとき溶融しなかったものは取り 除いた。反応液をすぐに冷却し、１０％塩酸（５０ｍＬ）で希釈し、クロロホル ムで洗浄した。水溶層を重炭酸塩で中和し、黄褐色の固体か沈殿した。固体を、 沸騰中のＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中で活性 濃縮させ、光沢のある黄褐色の固体の４−［３−（４−フルオロフェニル）−４ −（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンを得た。ｍ．ｐ ．：３０４℃（ＤＳＣ）。質量（ＭＨ+）１３７（１００％）。Ｃ19Ｈ13Ｎ4Ｆ． １／４Ｈ2Ｏの元素分析・計算値：Ｃ、７１．１３；Ｈ、４．２４；Ｎ、１７． ４６。結果：Ｃ、７０．８８；Ｈ、３．８７；Ｎ、１７．３８。 ４−（５−シクロヘキシル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリ ジン工程１： ４−シクロヘキシル−３−ピリジル−３−ブテン−２−オンの合成 例Ａ−１の工程１と同様の方法で、但し３−フルオロ−ｐ−アニスアルデヒド の代わりにシクロヘキサンカルボキシアルデヒドを用いて、４−シクロヘキシル −３−ピリジル−３−ブテン−２−オンを合成した。工程２： ４−（５−シクロヘキシル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４− イル］ピリジンの合成 例Ａ−１の工程２と同様の方法で、但し４−（３−フルオロ−４−メトキシフ ェニル）−３−ピリジル−３−ブテン−２−オンの代わりに４−シクロヘキシル −３−ピリジル−３−ブテン−２−オン（工程１）を用いて、４−（５−シクロ ヘキシル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンを合成した。 Ｃ15Ｈ19Ｎ3の元素分析・計算値：Ｃ、７３．５６；Ｈ、７．９８；Ｎ、１７． １６。結果：Ｃ、７３．７２；Ｈ、７．９１；Ｎ、１９．９８。 ４−［５−（３−フルオロ−５−メトキシフェニル）−３−メチル−１Ｈ−ピラ ゾール−４−イル］ピリジン 例Ａ−１の工程１及び２と同様の方法で、但し３−フルオロ−ｐ−アニスアル デヒドの代わりに３−フルオロ−ｍ−アニスアルデヒドを用いて、４−［５−（ ３−フルオロ−５−メトキシフェニル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４− イル］ピリジンを合成した。Ｃ16Ｈ14Ｎ3ＯＦの元素分析・計算値：Ｃ、６７． ８３；Ｈ、４．９８；Ｎ、１４．８３。結果：Ｃ、６７．６８；Ｈ、４．９２； Ｎ、１４．９２。 表１中の以下の例（第２６−５５番）は、上述の手順によって合成された。 以下のピラゾール類は上記方法に合成可能である。 例 Ａ‐５６ ５‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐５７ ５‐［３‐メチル‐５‐（３‐メチルフェニル）‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐５８ ５‐［３‐メチル‐５‐（２‐メチルフェニル）‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐５９ ５‐［５‐（クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾール ‐４‐イル］ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６０ ５‐［５‐（４‐フルオロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６１ ５‐［５‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６２ ５‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６３ ４‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６４ ４‐［５‐（３‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６５ ４‐［５‐（２‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６６ ４‐［５‐（４‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６７ ４‐［５‐（４‐フルオロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６８ ４‐［５‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐６９ ５‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐ １Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］‐２‐メトキシピリジン； 例 Ａ‐７０ ２‐メトキシ‐５‐［３‐メチル‐５‐（３‐メチルフェニル） ‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐７１ ２‐メトキシ‐５‐［５‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐メチ ル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐７２ ４‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］‐２‐メトキシピリジン； 例 Ａ‐７３ ２‐メトキシ‐４‐［３‐メチル‐５‐（３‐メチルフェニル） ‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐７４ ２‐メトキシ‐４‐［３‐メチル‐５‐（２‐メチルフェニル） ‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐７５ ４‐［５‐（４‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］‐２‐メトキシピリジン； 例 Ａ‐７６ ４‐［５‐（４‐フルオロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］‐２‐メトキシピリジン； 例 Ａ‐７７ ２‐メトキシ‐４‐［３‐メチル‐５‐（４‐メチルフェニル） ‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐７８ ５‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐７９ ４‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐８０ ４‐［５‐（３‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐８１ ４‐［５‐（２‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐８２ ４‐［５‐（４‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐８３ ４‐［５‐（４‐フルオロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐８４ ４‐［５‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐オール； 例 Ａ‐８５ ５‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐８６ ４‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐８７ ４‐［５‐（３‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐８８ ４‐［５‐（２‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐８９ ４‐［５‐（４‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐９０ ４‐［５‐（４‐フルオロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐９１ ４‐［５‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐メタンアミン； 例 Ａ‐９２ ５‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９３ ４‐［５‐（３‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９４ ４‐［５‐（３‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９５ ４‐［５‐（２‐メチルフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９６ ４‐［５‐（４‐クロロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９７ ４‐［５‐（４‐フルオロフェニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９８ ４‐［５‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐メチル ‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐９９ ４‐［５‐（３‐フルオロ‐４‐メトキシフェニル）‐３‐メチ ル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１００ ４‐［５‐（４‐フルオロ‐３‐メトキシフェニル）‐３‐メ チル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０１ ４‐［５‐（４‐クロロ‐３‐メトキシフェニル）‐３‐メチ ル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０２ ４‐［５‐（２、３‐ジヒドロベンゾフラン‐６‐イル）‐３ ‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０３ ４‐［５‐（ベンゾフラン‐６‐イル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０４ ４‐［５‐（３‐フルオロ‐５‐メトキシフェニル）‐３‐メ チル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０５ ４‐［５‐（３‐クロロ‐５‐メトキシフェニル）‐３‐メチ ル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０６ ４‐［５‐（１‐シクロヘキセン‐１‐イル）‐３‐メチル‐ １Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０７ ４‐［５‐（１、３‐シクロヘキサジエン‐１‐イル）‐３‐ メチル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０８ ４‐［５‐（５、６‐ジヒドロ‐２Ｈ‐ピラン‐４‐イル）‐ ３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１０９ ４‐（５‐シクロヘキシル‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾール‐ ４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１１０ ４‐［５‐（４‐メトキシ‐３‐メチルフェニル）‐３‐メチ ル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１１１ ４‐［５‐（３‐メトキシ‐４‐メチルフェニル）‐３‐メチ ル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１１２ ４‐［５‐（３‐メトキシ‐５‐メチルフェニル ）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１１３ ４‐［５‐（３‐フラニル）‐３‐メチル‐１Ｈ‐ピラゾール ‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１１４ ２‐メチル‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１１５ ２‐メトキシ‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル）ピリジン； 例 Ａ‐１１６ メチル ４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール ‐４‐イル）ピリジン‐２‐カルボキシレート； 例 Ａ‐１１７ ４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イ ル）ピリジン‐２‐カルボキサミド； 例 Ａ‐１１８ １‐［４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐ ４‐イル）ピリジン‐２‐イル］エタノン； 例 Ａ‐１１９ Ｎ、Ｎ‐ジメチル‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ ピラゾール‐２‐イル）ピリジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐１２０ ３‐メチル‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１２１ ３‐メトキシ‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル）ピリジン； 例 Ａ‐１２２ メチル ４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール ‐４‐イル）ピリジン‐３‐カルボキシレート； 例 Ａ‐１２３ ４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イ ル）ピリジン‐３‐カルボキサミド； 例 Ａ‐１２４ １‐［４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐ ４‐イル）ピリジン‐３‐イル］エタノン； 例 Ａ‐１２５ ３‐ブロモ‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル）ピリジン； 例 Ａ‐１２６ Ｎ、Ｎ‐ジメチル‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ ピラゾール‐２‐イル）ピリジン‐３‐アミン； 例 Ａ‐１２７ ２‐メチル‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾ ール‐４‐イル）ピリミジン； 例 Ａ‐１２８ ４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イ ル）ピリミジン； 例 Ａ‐１２９ ２‐メトキシ‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル）ピリミジン； 例 Ａ‐１３０ ４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イ ル）ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐１３１ Ｎ、Ｎ‐ジメチル‐４‐（３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ ピラゾール‐４‐イル）ピリミジン‐２‐アミン； 例 Ａ‐１３２ ４‐（５、６‐ジヒドロ‐２Ｈ‐ピラン‐４‐イル）‐３‐メ チル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１３３ ３‐メチル‐５‐フェニル‐４‐（３‐チエニル）‐１Ｈ‐ピ ラゾール； 例 Ａ‐１３４ ４‐（３‐フラニル）‐３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピ ラゾール； 例 Ａ‐１３５ ３‐メチル‐５‐フェニル‐４‐（２‐チエニル）‐１Ｈ‐ピ ラゾール； 例 Ａ‐１３６ ４‐（２‐フラニル）‐３‐メチル‐５‐フェニル‐１Ｈ‐ピ ラゾール； 例 Ａ‐１３７ ４‐（３‐イソチアゾリル）‐３‐メチル‐５‐フェニル‐１ Ｈ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１３８ ４‐（３‐イソオキサゾリル）‐３‐メチル‐５‐フェニル‐ １Ｈ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１３９ ４‐（５‐イソチアゾリル）‐３‐メチル‐５‐フェニル‐１ Ｈ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１４０ ４‐（５‐イソオキサゾリル）‐３‐メチル‐５‐フェニル‐ １Ｈ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１４１ ３‐メチル‐５‐フェニル‐４‐（５‐チアゾリ ル）‐１Ｈ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１４２ ３‐メチル‐４‐（５‐オキサゾリル）‐５‐フェニル‐１Ｈ ‐ピラゾール； 例 Ａ‐１４３ ２‐メチル‐４‐［３‐（３‐メチルフェニル）‐１Ｈ‐ピラ ゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１４４ ４‐（１‐メチル‐３‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イ ル）ピリジン； 例 Ａ‐１４５ ４‐（３‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イル）ピリジン ； 例 Ａ‐１４６ ２‐メチル‐４‐（３‐フェニル‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐イ ル）ピリジン； 例 Ａ‐１４７ ４‐［３‐（３‐クロロフェニル）‐１‐メチル‐ピラゾール ‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１４８ ４‐［３‐（４‐クロロフェニル）‐１‐メチル‐ピラゾール ‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１４９ ４‐［３‐（３‐クロロフェニル）‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐ イル］ピリジン； 例 Ａ‐１５０ ４‐［３‐（３‐クロロフェニル）‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐ イル］ピリジン； 例 Ａ‐１５１ ４‐［３‐（３‐クロロフェニル）‐１Ｈ‐ピラゾール‐４‐ イル］‐２‐メチルピリジン； 例 Ａ‐１５２ ４‐［３‐（３‐フルオロフェニル）‐１‐メチル‐１Ｈ‐ピ ラゾール‐４‐イル］ピリジン； 例 Ａ‐１５３ ４‐［３‐（３‐フルオロフェニル）‐１Ｈ‐ピラゾール‐４ ‐イル］ピリジン；及び 例 Ａ‐１５４ ４‐［３‐（３‐クロロフェニル）‐１‐メチル‐ピラゾール ‐４‐イル］‐２‐メチルピリジン； 例Ａ−１５５乃至Ａ−１７２の化合物を、対応する出発試薬の選択によって、 これまでに開示された多くの例について説明され図示された合成方法（特にスキ ームＩＩ）に従って合成した。 対応する出発試薬に選択によって、スキームＩＩで説明される合成方法に従っ て合成された追加的な化合物は、表２中に開示される化合物を更に含む。 例Ａ−１８４乃至Ａ−１８９の化合物を、対応する出発試薬の選択によって、 これまでに開示された例について説明され図示された合成方法（特にスキームＩ 及びＩＶ）に従って合成した。 例Ａ−１９０の化合物を、上記（特にスキームIII）の合成方法によって、既 出の例から、対応する出発試薬を使って合成した。 ４−[３−（４−フルオロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピ ラゾール−４−イル]ピリジン この化合物は、３−（４’−ピリジルアセチル）トルエンを１−フルオロ−４ −（４’−ピリジルアセチル）ベンゼン（例Ａ-１９で示したように合成した） に替えて、例Ａ−２２と同様の手順で合成したものである。 C15H9F4N3の元素分析・計算値：Ｃ、５８．６４；Ｈ、２．９５；Ｎ、１３． ６８。結果：Ｃ、５８．５７；Ｈ、３．０７；Ｎ、１３．３１。ｍ．ｐ．（ＤＳ Ｃ）：２８１．９４℃。 例Ａ−１９１からＡ−１９８の化合物を、上記（特にスキームＶ）の合成方法 によって、既出の例から、対応する出発試薬を使って合成した。 ４−[５−（シクロプロピル−３−（４−（フルオロフェニル）−１−メチル− １Ｈ−ピラゾール−４−イル]ピリジン工程１： １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン メチルヒドラゾンの合成 １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン−メチルヒド ラゾン ４−フルオロベンゾイル−４’−ピリジニルメタン（８．６０ｇ、０．０４モ ル）とメチルヒドラジン（２．１４ｇ、０．０４４モル）とを５０ｍＬのエタノ ールに溶かした溶液に、濃硫酸２滴を加え、その反応液を室温で一晩攪拌した。 溶媒を除去した後、その残留物を酢酸と水の間に分けた。その有機層を、飽和炭 酸ナトリウム溶液で洗浄し、その後ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥 させた。そのろ液を濃縮し、得られた粗生成物をジエチルエーテルとヘキサンか ら再結晶させた。その結果、７．５ｇの黄色固形生成物（収量７７％）、１−（ ４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノンメチルヒドラゾンが 得られた。工程２： ４−［５−（シクロプロピル−３−（４−フルオロフェニル）−１− メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンの合成 ０℃のヘキサメチルジシルアジ化ナトリウムの溶液（５．５ｍＬ、ＴＨＦ中１ ．０Ｍ）に、乾燥ＴＨＦ１０ｍＬに溶かした工程１で合成した化合物（０．６７ ｇ、０．００２８モル）の溶液を１滴ずつ加えた。得られた濃褐色溶液を室温で ３０分間攪拌した後、乾燥ＴＨＦ５ｍＬに溶かしたメチルシクロブロパンカルボ キシレート（０．３４ｇ、０．００３４モル）の溶液を加えた。その反応液を室 温に温まるまで放置し、３時間攪拌した。その後、水を加え、水溶相を酢酸エチ ルで抽出した。その有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、 ろ過した。得られたろ液を濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸／ヘ キサン／アセトン、１０：９：１）により精製した。こうして、０．４５ｇの薄 黄色固体生成物、４−［５−（シクロブロピル−３−（４−フルオロフェニル） −１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンが得られた。ｍ．ｐ．： １２９−１３０℃。 C18H16FN3の元素分析・計算値：Ｃ、７３．３０；Ｈ、５．５０；Ｎ、１４．３ ２。結果：Ｃ、７３．６３；Ｈ、５．５７；Ｎ、１４．０８。 ５−シクロプロピル−３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル） −１Ｈ−ピラゾール−１−エタノール工程１： １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン （２−ヒドロキシエチル）ヒドラゾンの合成 １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン（２−ヒドロ キシエチル）ヒドラゾン ８０℃のヒドロキシエチルヒドラジン（３．４ｇ、０．０４モル）を含むフラ スコに、４−フルオロベンゾイル−４’−ピリジニルメタン（８．６ｇ、０．０ ４モル）をまとめて加えた。得られた黄色の油液をその温度のままで一晩攪拌し た。その冷ました反応液を熱した酢酸エチルに溶解させた後、ヘキサンを用いて 粉末状にした。その結果、８．９ｇの黄色結晶体生成物（収量８１％）、１−（ ４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン（２−ヒドロキシエ チル）ヒドラゾンが得られた。ｍ．ｐ．１２２−１２３℃。工程２： １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン ［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エチル］ヒド ラゾンの合成 １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン［２−［［（ １、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エチル］ヒドラゾン 工程１で合成した１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エ タノン（２−ヒドロキシエチル）ヒドラゾン（２．７３ｇ、０．０１モル）と（ １、１−ジメチルエチル）ジメチルシリルクロリド（１．５ｇ、０．０１モル） とを２５ｍＬのＤＭＦに溶かした溶液に、イミダゾールをまとめて加えた。その 反応液を室温で一晩攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出を行った。得られ た有機層を水で洗浄し、続いてブラインで洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥 させ、ろ過した。そのろ液を濃縮させた結果、３．８ｇの黄色油状の粗生成物、 １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジニル）エタノン［２−［［（ １、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エチル］ヒドラゾンが得ら れた。この粗生成物は、更に精製を行うことなく、次の工程で使用される。 工程３： ５−シクロプロピル−１−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジ メチルシリル］オキシ］エチル］−３、４−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾールの合 成 ５−シクロプロピル−１−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジメチルシリ ル］オキシ］エチル］−３、４−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール ０℃のヘキサメチルジシルアジ化ナトリウム（４．２ｍＬ、ＴＨＦ中１．０Ｍ ）の溶液に、乾燥ＴＨＦ１０ｍＬに溶かした工程２で合成した化合物の溶液（０ ．７８ｇ、０．００２モル）を滴下した。得られた濃褐色の溶液をそのままの温 度で３０分間攪拌した後、乾燥ＴＨＦ５ｍＬに溶かしたメチルシクロプロパンカ ルボキシレート（０．２７ｇ、０．００２６モル）の溶液を加えた。その反応液 を室温に温まるまで放置し、３時間攪拌した。その後、水を加え、酢酸エチルで 水溶相を抽出した。こうして得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシ ウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィ ー（酢酸エチル／ヘキサン、３：７）により精製した。その結果、０．３０ｇの 薄黄色油生成物（収量３５％）、５−シクロプロピル−１−［２−［［（１、１ −ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エチル］−３、４−ジフェニル− １Ｈ−ピラゾールが得られた。C25H32FN3OSiの元素分析・計算値：Ｃ、６８．６１；Ｈ、７．３７；Ｎ、９．６ ０。結果：Ｃ、６８．３９；Ｈ、７．８１；Ｎ、９．２３。工程４： ５−シクロプロピル−３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピ リジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノールの合成 ５ｍＬのＴＨＦに溶かした工程３で合成した化合物（０．２７ｇ、０．０００ ６２モル）の溶液に、室温のフッ化テトラブチルアンモニウム（１．０ＭのＴＨ Ｆ溶液１．９ｍＬ）を加え、１時間放置した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し た。こうして得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ 、ろ過した。そのろ液を濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸エチル ／ヘキサン、９：１）により精製した。その結果、０．１６ｇの黄白色固体生成 物、５−シクロプロピル−３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニ ル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノールが得られた。ｍ．ｐ．：１５５−１５ ７℃。 C19H18FN3Oの元素分析・計算値：Ｃ、７０．５７；Ｈ、５．６１；Ｎ、１２．９ ９。結果：Ｃ、７０．４６；Ｈ、５．８７；Ｎ、１２．８４。３−（４−フルオロフェニル）−５−（２−メトキシ−４−ピリジ ニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノール ０℃のヘキサメチルジシルアジ化ナトリウムの溶液（７．４ｍＬ、ＴＨＦ中１ ．０Ｍ）に、乾燥ＴＨＦ１５ｍＬに溶かした例Ａ−１９２の工程２で合成した化 合物（１．２５ｇ、０．００３４モル）の溶液を滴下し、得られた濃褐色の溶液 をそのままの温度で３０分間攪拌した。その後、乾燥ＴＨＦ５ｍＬに溶かしたメ チル４−（２−メトキシ）ピリジンカルボキシレート（０．０５９ｇ、０．００ ３５モル）の溶液を加えた。その反応液を室温まで温まるように放置し、３時間 攪拌した。その後、水を加え、酢酸エチルで水溶相を抽出した。こうして得られ た有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ 液を濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン、１：１ ）により精製した。その結果、０．２８ｇの黄色固体生成物、３−（４−フルオ ロフェニル）−５−（２−メトキシ−４−ピリジニル）−４−（４−ピリジニル ）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノールが得られた。ｍ．ｐ．：１６８−１６９ ℃。 C22H19FN4O2の元素分析・計算値：Ｃ、６７．８６；Ｈ、４．９１；Ｎ、１４． ３５。結果：Ｃ、６７．４６；Ｈ、５．０８；Ｎ、１４．０３。 ４−［１−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エ チル］−３−（４−フルオロフェニル−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾ ール−５−イル］−２−メトキシピリジン 上記の反応からは、クロマトグラフィーによって、黄色油状の第２の化合物、 ４−［１−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エ チル］−３−（４−フルオロフェニル−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾ ール−５−イル］−２−メトキシピリジンも得られる。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロキシエチ ル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２（１Ｈ）− ピリジノン 酢酸５ｍＬに溶かした３−（４−フルオロフェニル）−５−（２−メトキシ− ４−ピリジニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノー ル（０．２８ｇ、０．０００６モル）を溶かした溶液に、３ｍＬの４８％臭化水 素酸を加え、その反応液を還流中で３時間加熱した。冷却された混合物を、その 後水で処理し、水酸化アンモニウムでアルカリ性にして、酢酸エチルで抽出した 。こうして得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、 ろ過した。そのろ液を濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィー（MeOH/CH2Cl2/ NH4OH ５：９４：１）により精製した。その結果、０．０７ｇの黄色固体生成物 （収量３２％）、４−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロキシ エチル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２（１Ｈ ）−ピリジノンが得られた。ｍ．ｐ．：２５０−２５１℃。 C22H17FN4O2・0.2H2Oの元素分析・計算値：Ｃ、６６．０６；Ｈ、４．６５；Ｎ 、１４．６７。結果：Ｃ、６６．３１；Ｈ、４．４９；Ｎ、１４．２７。 １−アセチル−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロキシエ チル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２（１Ｈ） −ピリジノン 例Ａ−１９４の反応の副生物として、黄色固体生成物（収量３８％）の、１− アセチル−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロキシエチル ）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］−２（１Ｈ）−ピ リジノンが得られた。ｍ．ｐ．：２２０−２２１℃。 C23H19FN4O3・0.3H2Oの元素分析・計算値：Ｃ、６５．４６；Ｈ、４．６３；Ｎ 、１３．２８。結果：Ｃ、６５．０９；Ｈ、４．６４；Ｎ、１２．９９。 エチル ２−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロ キシエチル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］シクロ プロパンカルボキシレート ０℃のヘキサメチルジシルアジ化ナトリウムの溶液（１７．０ｍＬ、ＴＨＦ中 １．０Ｍ）に、乾燥ＴＨＦ２０ｍＬに溶かした例Ａ−１９２の工程１で合成した 化合物（１．３７ｇ、０．００５モル）の溶液を滴下し、得られた濃褐色の溶液 をそのままの温度で３０分間攪拌した。その後、乾燥ＴＨＦ１０ｍＬに溶かした ジエチル１、２−シクロプロパンジカルボキシレート（１．１２ｇ、０．００６ モル）の溶液を加えた。その反応液を室温まで温まるように放置し、２時間攪拌 した。その後、水を加え、酢酸エチルで水溶相を抽出した。こうして得られた有 機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を 濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン、８：２）に より精製した。その結果、０．１８ｇの薄黄色油状生成物（収量３５％）、エチ ル２−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロキシエチル）−４− （４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］シクロプロパンカルボキシ レートが得られた。 C22H22FN3O3・0.25H2Oの元素分析・計算値：Ｃ、６７．０７；Ｈ、５．６７；Ｎ 、１０．５１。結果：Ｃ、６５．８９；Ｈ、５．８０；Ｎ、９．９５。 ２−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−（ ４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］シクロプロパンカルボン酸 例Ａ−１９６に従って合成した２−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（ ２−ヒドロキシエチル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イ ル］シクロプロパンカルボキシレート（０．２１ｇ、０．０００４５モル）を１ ０ｍＬのメタノールに溶かした溶液に、２ｍＬの水に水酸化ナトリウム（０．０ ９ｇ、０．００２２モル）を溶かした溶液を加え、その反応液を還流中で６時間 攪拌した。溶媒を除去した後、その残留物を１０ｍＬのＨＣｌに溶解し、３０分 間攪拌した。その後、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えることにより、ｐＨ を５−６に調節し、酢酸エチルで抽出を行った。こうして得られた有機層をブラ インで洗浄し、マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、粗生成 物をエタノールとエーテルからの再結晶により精製した。その結果、０．１ｇの 白色固体生成物（収量６０％）、２−［３−（４−フルオロフェニル）−１−（ ２−ヒドロキシエチル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−イ ル］シクロプロパンカルボン酸が得られた。ｍ．ｐ．：２５３−２５５℃。 C20H18FN3O3の元素分析・計算値：Ｃ、６５．３９；Ｈ、４．９４；Ｎ、１１． ４４。結 果：Ｃ、６４．９２；Ｈ、４．７７；Ｎ、１１．２０。 ３−（４−フルオロフェニル）−５−（４−イミダゾリル）−４−（４−ピリジ ニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノール工程１： メチル １−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル］−１ Ｈ−ピロール−３−カルボキシレートの合成 メチル １−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチル］−１Ｈ−ピロー ル−３−カルボキシレート ５０ｍＬのＤＭＦに溶かした水酸化ナトリウム（１．０ｇ、０．０２５モル） の懸濁液に、メチル４−イミダゾールカルボキシレート（２．９５ｇ、０．０２ ３モル）を室温でまとめて加え、その混合物を室温で０．５時間攪拌した。その 後、ＳＥＭ−Ｃｌ（４．１７ｇ、０．０２５モル）を５分間にわたって滴下した 。その反応液を４時間攪拌し、水を加えてクエンチした後、酢酸エチルで水溶相 を抽出した。こうして得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、粗生成物をシリカゲルの クロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン、８：２）により精製した。その結 果、４．０ｇの透明油状の位置異性体が主に得られた。工程２： ４−［１−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］ オキシ］エチル］−３−（４−フルオロフェニル−５−［１−［［（２−トリメ チルシリル）エトキシ］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］−１Ｈ−ピ ラゾール−４−イル］ピリジン ４−［１−［２−［［（１、１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］エ チル］−３−（４−フルオロフェニル−５−［１−［［（２−トリメチルシリル ）エトキシ］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−４−イル］−１Ｈ−ピラゾール− ４−イル］ピリジン アルゴン雰囲気下で０℃のヘキサメチルジシルアジ化ナトリウムの溶液（４． ５ｍＬ、ＴＨＦ中１．０Ｍ）に、乾燥ＴＨＦ１０ｍＬに溶かした例Ａ−１９２の 工程２で合成した化合物（０．８ｇ、０．００２モル）の溶液を滴下し、得られ た濃褐色の溶液をそのままの温度で３０分間攪拌した。その後、乾燥ＴＨＦ５ｍ Ｌに溶かした本例の工程１で合成した化合物（０．５４ｇ、０．００２１モル） の溶液を加えた。その反応液を室温まで温まるように放置し、１時間 攪拌した。その後、水を加え、酢酸エチルで水溶相を抽出した。こうして得られ た有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ 液を濃縮し、シリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン、８：２ ）により精製した。その結果、０．９８ｇの静置されると固化する薄黄色油状生 成物（収量９１％）が得られた。ｍ．ｐ．：７９−８０℃。 C31H44FN5O2Si2の元素分析・計算値：Ｃ、６２．７０；Ｈ、７．４７；Ｎ、１１ ．７９。結果：Ｃ、６２．９８；Ｈ、７．７４；Ｎ、１１．８８。工程３： ３−（４−フルオロフェニル）−５−（４−イミダゾリル）−４−（ ４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノールの合成 本例の工程２で合成した化合物（０．５４ｇ、０．００１モル）を１０ｍＬの ＴＨＦに溶かした溶液に、フッ化テトラブチルアンモニウム溶液（ＴＨＦ中１． ０Ｍ）を加え、その反応液を還流中で３時間加熱した。溶媒を除去した後、その 残留物を酢酸エチルと水の間に分けた。こうして得られた有機層をブラインで洗 浄し、マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、粗生成物をシリ カゲル（塩化メチレン／メタノール、９５：５）によって精製した。その結果、 ０．２２ｇの白色固体生成物（収量６３％）、３−（４−フルオロフェニル）− ５−（４−イミダゾリル）−４−（４ −ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノールが得られた。 ｍ．ｐ．：２２７−２２８℃。 C19H16FN5Oの元素分析・計算値：Ｃ、６５．３２；Ｈ、４．６２；Ｎ、２０．０ ５。結果：Ｃ、６４．９８；Ｈ、４．５５：Ｎ、１９．７９。 例Ａ−１９９の化合物を、上記（特にスキームVI）の合成方法によって、対応 する出発試薬を使って合成した。 ４−［３−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］ピリジン C15H12N3Cl（２６９．７４）の元素分析・計算値：Ｃ、６６．７９；Ｈ、４． ４８；Ｎ、１５．５８。結果：Ｃ、６６．５７；Ｈ、４．１５；Ｎ、１５．５４ 。ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１９７．１７℃。 例Ａ−２００からＡ−２０２の化合物を、上記（特にスキームVII）の合成方 法によって、対応する出発試薬を使って合成した。 ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール− ３−カルボン酸 水（７．５ｍｌ）とｔ−ブタノール（１０ｍｌ）中に、例Ａ−４に述べた方法 で合成した４−［３−（４−フルオロフェニル）−５−メチル−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリジン（５．３８ｇ、２４．０９０９ミリモル）と過マンガン 酸カリウム（７．６９１６ｇ、４８．１８１８ミリモル）とを溶かした混合物を 、還流中で６時間（または、過マンガン酸カリウムか消滅するまで）加熱した。 その後、この混合物を室温で一晩攪拌し、水（１５０ｍｌ）で希釈した。ろ過に よって二酸化マンガンを混合物から除去した後、そのろ液を酢酸エチルで抽出し 、未反応の出発物質を除去した。得られた水溶層を１ＮのＨＣｌで酸性化し、ｐ Ｈをおよそ６にまで上げた。白色の沈殿物をろ過により取り出し、水で洗浄し、 真空炉で乾燥させた。その結果、５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピ リジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボン酸（一水和物塩として分離される ）（２．９７７７ｇ、４３．７％）が得られた。C15H10N3FO2．H2O（２８３＋１ ８）の元素分析・計算値：Ｃ、５９．８０；Ｈ、４．０１；Ｎ、１３．９５。結 果．Ｃ、５９．４８；Ｈ、３．２６；Ｎ、１３．６５。質量分析（ＭＨ+）：２ ８４（基本ピーク）。 ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール− ３−メタノール 乾燥ＴＨＦ（１５ｍｌ）に溶かした、例Ａ−２００に従って合成された一水和 物である５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラ ゾール−３−カルボン酸（０．５２６ｇ、２．０ミリモル）の懸濁液に、ＴＨＦ （４．０ｍｌ、４．０ミリモル）に溶かした１Ｎの水素化アルミニウムリチウム の溶液を、窒素雰囲気下の還流中で、１５分間滴下した。その結果、沈殿物が生 じ、この混合物を１時間沸騰させる。水（０．５ｍ）に溶かした４Ｎの水酸化カ リウムの溶液を慎重に加え、余分な水素化アルミニウムリチウムを分解させた。 その結果、加水分解により白色塩が沈殿した。添加作業の完了の後、この混合物 を還流中で１５分間加熱し、その熱した溶液をブフナー漏斗を通した吸引により ろ過した。残留物を、ＴＨＦ（１５ｍｌ）で１時間還流することにより、沈殿物 から抽出し、再び吸引ろ過を行った。混合されたろ液を減圧下で濃縮し、残留物 を酢酸エチルに加え、水及びブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥させ、粗生成 物（０．４５ｇ）を得た。メタノールからのこの混合物の再結晶の結果、５−（ ４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−メ タノール（０．２８０８ｇ、５６．５％）が得られた。ＤＳＣ：２６０．２６℃ 。C15H12N3FO（２６９）の元素分析・計算値：Ｃ、６６．９１；Ｈ、４．４９； Ｎ、１５．６０。結果：Ｃ、６６．０７；Ｈ、４．６３；Ｎ、１５．２０。質量 分析（ＭＨ+ ）：２７０（基本ピーク）。 １−［［５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラ ゾール−３−イル］カルボニル］ピペラジン工程１： １、１−ジメチルエチル ４−［［５−（４−フルオロフェニル）− ４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］カルボニル］−１−ピ ペラジンカルボキシレートの合成 ＤＭＦ（２０ｍｌ）に溶かした、例Ａ−２００に従って合成された一水和物で ある５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾー ル−３−カルボン酸（０．９９０５ｇ、３．５ミリモル）と、１−ヒドロキシベ ンゾトリアゾール（０．４８２４ｇ、３．５７ミリモル）との溶液に、１−（３ −ジメチルアミノプロピル）３−エチルカルボジイミド塩酸塩（０．６９８４ｇ 、３．５７ミリモル、Ａｌｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）を、窒素雰囲 気下０℃で加えた。その溶液を、窒素雰囲気下０℃で１時間攪拌した後、１−ブ トキシカルボニルピペラジン（０．６５８５ｇ、３．５ミリモル）を加え、更に Ｎ−メチルモルホリン（０． ４０ｍｌ、３．６ミリモル）を加えた。その反応液を、０℃から室温になるよう 一晩攪拌した。１９時間後、減圧下で溶媒を除去し、その残留物を酢酸エチルで 希釈し、飽和ＮａＨＣＯ3溶液、水、ブラインで洗浄した。ＭｇＳＯ4で乾燥し、 ろ過した後、減圧下で溶媒を除去し、粗生成物（１．７５９５ｇ）を得た。その 後、クロマトグラフィーによって、１、１−ジメチルエチル４−［［５−（４− フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］ カルボニル］−１−ピペラジンカルボキシレート（１．２３７２ｇ、７８．４％ ）が得られた。C24H26N5O3F．（４５１）の元素分析・計算値：Ｃ、６３．８５ ；Ｈ、５．８０；Ｎ、１５．５１。結果：Ｃ、６３．７５；Ｈ、５．７１；Ｎ、 １５．１６。質量分析（ＭＨ+）：４５２（基本ピーク）。工程２： １−［［５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）− １Ｈ−ピラゾール−３−イル］カルボニル］ピペラジンのビス（トリフルオロ酢 酸塩）・一水和物の合成 塩化メチレン（１．０ｍｌ）及びＴＦＡ（０．３ｍｌ）に溶かした、工程１で 合成した化合物（０．１８０４ｇ、０．４ミリモル）の溶液を、窒素雰囲気下で 室温で２時間攪拌した。減圧下で溶媒をを除去した後、ＴＦＡは塩化メチレン及 びメタノールでチェースされた。得られた無色の油状残留物を真空炉で一晩乾燥 させた。その結果、白色固体生成物として、１−［［５−（４−フルオロフェニ ル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］カルボニル］ピ ペラジン（一水和物塩であるビス（トリフルオロ酢酸塩）として分離された）（ ０．２４００ｇ、１００％）。C19H18N5OF.2CF3COOH.H2O（３５１＋２２８＋１ ８）の元素分析・計算値：Ｃ、４６．２４；Ｈ、３．７１；Ｎ、１１．７２。結 果：Ｃ、４５．８７；Ｈ、３．４３；Ｎ、１１．４５。質 量分析（ＭＨ+）：３５２（基本ピーク）。 例Ａ−２０３からＡ−２０６の化合物を、上記（特にスキームVIII）の合成方 法によって、対応する出発試薬を使って合成した。 ４−（１、５−ジメチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピリジ ン ４−（１、３−ジメチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピリジ ン 鉱油（６９ｍｌ）に加えた水素化ナトリウム（４１ｍｇ、０．００１７２モル ）（ヘキサンであらかじめ洗浄済み）の６０％分散液を、５０ｍｌのジオキサン に溶かした４−（３−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピ リジン（２００ｍｇ、０．０００８６モル）（例Ａ−２で説明した方法で合成） の攪拌溶液に、ジオキサン５ｍｌと共に加えた。３時間後、１０ｍｌのジオキサ ンに溶かしたＣＨ3Ｉ（１２２ｍｇ、０．０００８６モル）の溶液を加え、その 混合物を室温で２０時間攪拌した。混合物が固体化した 後、得られた生成物を水（１５ｍｌ）と酢酸エチル（５０ｍｌ）との間に分けた 。得られた有機層をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、ろ過して、固体化するまで濃縮した。 こうして得られた生成物を、ラジアルクロマトグラフィーによって精製し分散し た。ＮＭＲ（ＮＯＥ実験）の結果、カラムから溶出した最初の成分（少量成分） は、４−（１、３−ジメチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピ ラジンであり、カラムから溶出した２番目の成分は、４−（１、５−ジメチル− ３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピラジンであった。 メジャー異性体（４−（１、５−ジメチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール− ４−イル）ピラジン）：ｍ．ｐ．：９４−９９℃。C16H15N3・0.1MH2O（２８３ ＋１８）の元素分析・計算値：Ｃ、７７．０８；Ｈ、６．０６；Ｎ、１６．８５ 。結果：Ｃ、７６．５９；Ｈ、５．７０；Ｎ、１６．６２。 ４−［３−（４−クロロフェニル）−１、５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−４ −イル］ピリジン ４−［５−（４−クロロフェニル）−１、３−ジメチル−１Ｈ−ピ ラゾール−４−イル］ピリジン（例Ａ-３２の化合物） ４−（３−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピリジンを ４−（３−（４−クロロフェニル）−５−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ）ピリジン（例Ａ−７に従って合成）と入れ替えることにより、４−［３−（４ −クロロフェニル）−１、５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジ ン及び４−［５−（４−クロロフェニル）−１、３−ジメチル−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリジンを例Ａ−２０３に述べた方法で合成した。 メジャー異性体（４−［３−（４−クロロフェニル）−１、５−ジメチル−１ Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン）：C16H14N3Cl（２８３．７６）の元素分 析・計算値：Ｃ、６７．７２；Ｈ、４．９７；Ｎ、１４．８１。結果：Ｃ、６７ ．４５；Ｈ、４．７１；Ｎ、１４．６３。ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１９０．６７℃ 。 マイナー異性体（４−［５−（４−クロロフェニル）−１、３−ジメチル−１ Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン）：ｍ．ｐ．：８２−８８℃。C16H14N3Cl の元素分析・計算値：Ｃ、６７．７２；Ｈ、４．９７；Ｎ、１４．８１。結果： Ｃ、６７．５６；Ｈ、４．９６；Ｎ、１４．７３。 ４−［５−エチル−１−メチル−３−（３−メチルフェニル）−１ Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン ４−［３−エチル−１−メチル−５−（３−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリジン ４−（３−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）ピリジンを ４−（３−（４−メチルフェニル）−５−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ）ピリジン（例Ａ−４５の方法で合成）と入れ替えることにより、４−［５−エ チル−１−メチル−３−（３−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］ピリジン及び４−［３−エチル−１−メチル−５−（３−メチルフェニル）− １Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンを、例Ａ−２０３に述べた方法で合成し た。 メジャー異性体（４−［５−エチル−１−メチル−３−（３−メチルフェニル ）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン）：C18H19NO3・0.45MH2Oの元素分 析・計算値：Ｃ、７５．７３；Ｈ、７．０３；Ｎ、１４．７７。結果：Ｃ、７６ ．０３；Ｈ、６．８７；Ｎ、１４．４８。 マイナー異性体（４−［３−エチル−１−メチル−５−（３−メチルフェニル ）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン）：C18H19NO3・0.30MH2Oの元素分 析・計算値：Ｃ、７６．４６；Ｈ、６．９９；Ｎ、１４．８６。結果：Ｃ、７６ ．５８：Ｈ、６．９８；Ｎ、１４．６３。 ４−［３−（４−クロロフェニル）−１−エチル−５−メチル−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリジン：C17H16N3Cl（２９７．７９）の元素分析・計算値：Ｃ 、６８．５７；Ｈ、５．４２；Ｎ、１４．１１。結果：Ｃ、６８．３３；Ｈ、５ ．２７；Ｎ、１４．０８。ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１６４．３６℃。４−［３−（４−クロロフェニル）−２−エチル−５−メチル−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリジン：C17H16N3Cl（２９７．７９）の元素分析・計算値：Ｃ 、６８．５７；Ｈ、５．４２；Ｎ、１４．１１。結果：Ｃ、６８．２５；Ｈ、５ ．３６；Ｎ、１３．７４。ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１５３．４６℃。 例Ａ−２０８及びＡ−２０９の化合物を、上記（特にスキームIX）の合成方法 によって合成した。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン工程１： ４−フルオロベンゾイル−４’−ピリジルメタンの合成 ２０℃に保たれた４−ピコリン（３２．６ｇ、０．３５モル）とエチル ４− フルオロベンゾイル（５０．４５ｇ、０．３モル）との混合物に、リチウムビス （トリメチルシリルアミド）（６００ｍ１、（１Ｍ））を、周辺温度を維持する ために一定ではあるが急速で加えた。はじめに見られた黄色の溶液が懸濁液へと 変化した後、それを２時間攪拌した。トルエン（２５０ｍｌ）を加え、得られた 混合物を０℃まで冷却した。その反応液を０℃で濃縮されたＨＣｌでクエンチし 、ｐＨを約７まで引き下げた。得られた有機層を分離し、水溶相をトルエン（１ ００ｍｌ）で再抽出した。更に有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。 その結果、ヘキサン（２００ｍｌ）で粉末化すると高純度のデスオキシベンゾイ ンを生成する黄色固体である、４−フルオロベンゾイル−４’−ピリジルメタン が得られた（収量９０％、５８ｇ）。1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致した。工程２： テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に加えた工程１で合成したデスオキシベンゾ イン（３０ｇ、０．１４モル）の懸濁液に、ジメチルホルムアミドジメチルアセ タール（５０ｍｌ）を加え、周囲温度で ２日間攪拌した。その後、溶液を乾燥するまで濃縮し、得られた固体ペーストを ヘキサン（１５０ｍｌ）で粉末化した。その結果、純度の十分高い（ＮＭＲ基準 による）、更に生成か行われることなく次の工程で使用される黄色固体生成物が えられた。収量：３３．９ｇ（９０％）。1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致し た。工程３： 工程２で合成されたビニルアミン（３３．９ｇ、０．１２５５モル）を１２５ ｍｌのエタノールに溶解し、０℃に冷却した。その後、ヒドラジン水和物（１６ ，０ｇの水和物の中に８．０ｇの無水物を含む、０．２５モル）をいっきに加え た。得られた混合物をよく攪拌し、周囲温度に温まるまで放置し、合計３時間の 反応時間とした。混合物を濃縮し、２００ｍＬのクロロホルムに加えた。水（１ ００ｍＬ）での洗浄の後、有機層を１５０ｍＬの１０％ＨＣｌで抽出した。その 後、水分層を０．５ｇの活性炭を使って、７０℃で１０分間処理しシーライトで ろ過した。よく攪拌しなから、ｐＨ７−８になるように中和した後、冷却した（ ２０％水酸化ナトリウム使用）。得られた微細な生成り白色の沈殿物をろ過し、 乾燥させた結果、４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４ −イル］ピリジンがいられた。収量．２７．３ｇ（９１％）。質量分析：ｍ／ｚ ＝２４０。1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致した。 C14H10FN3の元素分析・計算値：Ｃ、７０．２８；Ｈ、４．２１；Ｎ、１７． ５６。結果：Ｃ、７０．１１；Ｈ、４．３３；Ｎ、１７．６１。 ４−［３−（２−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン この化合物は、対応する出発試薬を使って、例Ａ−２０８で述べた方法によっ て合成したものである。 C14H10ClN3の元素分析・計算値：Ｃ、６５．７６；Ｈ、３．９４；Ｎ、１６． ４３。結果：Ｃ、６５．２２；Ｈ、３．９１；Ｎ、１６．５０。ｍ．ｐ．（ＤＳ Ｃ）：２０８．４６℃。 例Ａ−２１０及びＡ−２１１の化合物を、上記（特にスキームＸ）の合成方法 によって合成した。 ３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール− １−エタノール 例Ａ−２０８に工程１で合成したデスオキシベンゾイル、４−フルオロベンゾ イル（１２．７ｇ、０．０５９モル）を、０．５ｍＬの酢酸を含むエタノールの ０ル３０ｍＬに溶かした９０％ヒドロキ シエチルヒドラジン（５．３ｇ、０．０６２モル）と、５００ｍＬのエルレンマ イヤーフラスコ中で、混合した。軽く沸騰（１時間）させた後、少量の試料を高 い真空度で吸い出した後、1Ｈ ＮＭＲ試験を施して、ヒドラゾンの形成を確認 した。周囲温度に冷却すると、反応物は黄色の塊に固体化した。続いて、ＤＭＦ ジメチルアセタール（３６ｍＬ、０．２７モル）を加え、その混合物を１０分間 ８０℃に加熱した。この時点で全ての固体は溶解し、透明の黄色粘性溶液が得ら れた。その反応液をそのまま２５℃に冷めるまで放置し、攪拌しながら水（２０ ｍＬ）を滴下したところ、濁った黄色の油状懸濁液が得られた。この溶液を今度 は約５０−６０℃に温めると、透明な黄色溶液に変化した。その後、攪拌しなが ら周囲温度に徐々に冷ました結果、結晶の多量に形成された（入手可能であれば 、種を使用すれば結晶過程を促進できる）。吸引ろ過の後、１０％のエタノール −水（５０ｍＬ）で洗浄し、乾燥させた。その結果、薄黄色結晶固体として、３ −（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１ −エタノールが得られた。ろ液を再加熱し、以前と同様の透明な状態にし、冷却 することによって、更なる生成物が得られる。一晩静置して、母液から３度目４ 度目の回収を行えば、残りの３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジ ニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−エタノールを得ることができる。合計収量：｛ １２．３＋３．３＋０．４＋０．４｝＝１６．４ｇ（９７．６％）。質量分析： ｍ／ｚ＝２８４。 1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致した。C16H14FN3O+H2Oの元素分析・計算値 ：Ｃ、６３．７８；Ｈ、５．３５；Ｎ、１３．９５。結果：Ｃ、６３．５５；Ｈ 、５．０７；Ｎ、１３．６９。 ３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリミジニル）−１Ｈ−ピラゾール −１−エタノール この化合物は、デスオキシベンゾインの合成に使用された４−ピコリンを４− メチルピリミジンに替えたことを除いては、例Ａ−２１０と同様の方法で合成し た。 例Ａ−２１２の化合物は、スキームＸＩの合成方法に従って合成した。４−［３−（４−フルオロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ ル］ピリジン 例Ａ−２０８の工程２で合成されたビニルアミン（５．０ｇ、０．０１８５モ ル）をエタノール（７５ｍＬ）に加え、０℃に冷却した。温度を０から１０℃の 間に維持しつつ、エタノール（７５ｍＬ）に溶かしたメチルヒドラジン（１．７ ｇ、０．０３７モル）を一気に加えた。周囲温度で３時間放置した後、溶媒を除 去し、残留物を塩 化メチレン（１５０ｍＬ）と水（１００ｍＬ）に加えた。有機層を分離し、乾燥 させ、濃縮した結果、薄褐色固体として粗位置異性体混合物（本例の化合物に対 し、ＮＭＲで８０：２０）が得られた。この粗位置異性体混合物を１０％ＨＣｌ （１００ｍＬ）に加え、塩化メチレン（１００ｍＬ）で洗浄し、水分層を活性炭 （０．５ｇ）で処理した。シーライトを通したろ過の後、溶液を水酸化ナトリウ ム（２０％）で中和し、よく攪拌し、冷却して、ｐＨを８にした。得られた淡黄 色の沈殿物をろ過し、水で洗浄した後、乾燥させた。固体（５ｇ）を熱したヘプ タン／トルエン（７０ｍＬ）に溶解し、最初は周囲温度まで、それから１５℃ま で、ゆっくりと冷却させた。フラスコの側部を摺掻することにより結晶化が始ま る。２時間静置した後、形成された固体をろ過し、冷えた５０％トルエン／ヘプ タン（２５ｍＬ）で洗浄し、続いてヘキサンで洗浄して乾燥させた。その結果、 高純度の本例の化合物が得られた。1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致した（Ｎ ＯＥ実験を利用する放射線化学を含む）。 収量：２．１ｇ（４５％）。質量分析：ｍ／ｚ＝２５４（基本ピーク）。C15H12 FN3+0.2H2Oの元素分析・計算値：Ｃ、７０．１５；Ｈ、４．８６；Ｎ、１６． ４。結果：Ｃ、７０．１８；Ｈ、４．６；Ｎ、１６．４７。 例Ａ−２１３の化合物は、スキームＸIIの合成方法に従って合成した。 ２−［［４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ −２−ピリジニル］アミノ］−１−ブタノール ２−フルオロ−ピリジニルピラゾール（０．２ｇ）（デスオキシベンゾイルを 合成するために用いた４−ピコリンを２−フルオロ−４−メチルピリジンに替え た以外は例Ａ−２１０と同様の方法で合成した）と（Ｒ、Ｓ）−２−アミノ−１ −ブタノール（４倍モル当量以上）とをよく混合させたものを、密閉されたガラ ス容器中で１．５時間２１０−２２０℃で加熱した。１００℃に冷却した後、ガ ラス容器を慎重に開き、５ｍＬのトルエンと５ｍＬの水とを加え、１時間よく攪 拌した。こうして得られた固体、２−［［４−［３−（４−フルオロフェニル） −１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジニル］アミノ］−１−ブタノール を吸引ろ過し、５ｍＬの水で洗浄し、トルエンで更に洗浄した後、乾燥させた。 収量：１９０ｍｇ（７１％）。質量分析：ｍ／ｚ＝２３２。1Ｈ ＮＭＲは、上 記の構造と一致した。 例Ａ−２１４の化合物は、スキームＸIIIの合成方法に従って合成した。 ４−［５−ブロモ−３−（４−フルオロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ ール−４−イル］ピリジン 酢酸（３０ｍＬ）及びＤＭＦ（１３ｍＬ）とに溶かした４−［３−（４−フル オロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（２．７ ｇ、１０．６７ミリモル）（例Ａ−２１２によって合成）の溶液を、臭素（１９ ．５ｇ、１２２．０ミリモル）に加え、８０℃で一晩加熱した。反応が完了した ことをＴＬＣが示したら、混合物をＫ2ＣＯ3（２５ｇ）で徐々にクエンチした。 ｐＨが約５になると、沈殿が生じ、この沈殿物を水（５０ｍＬ×５）で洗浄した 。その結果、４−［５−ブロモ−３−（４−フルオロフェニル）−１−メチル− １Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（１．２４ｇ、３５％）が得られた。 ｍ．ｐ．：１７４．３８℃。質量分析：ｍ／ｚ＝３３２、３３４。1Ｈ ＮＭＲ は、上記の構造と一致した。C15H11N3FBr・0.2H2Oの元素分折・計算値：Ｃ、５ ３．６６；Ｈ、３．４２；Ｎ、１２．５１。結果：Ｃ、５３．５８；Ｈ、３．１ ２；Ｎ、１２．４３。 例Ａ−２１５の化合物は、スキームＸIVの合成方法に従って合成した。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピ リジンカルボニトリル工程１： メタノール（１００ｍＬ）に溶かした４−［３−（４−フルオロフェニル）− １Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（４．３ｇ、１７．７９ミリモル）（例 Ａ−２０８の方法で合成）の溶液に、３−クロロ過安息香酸（５．４４ｇ、純度 ５７％、１７．９７ミリモル）を加え、２５℃で一晩攪拌した。こうして混合物 を濃縮し、残留物にＫ2ＣＯ3（１０％、１００ｍＬ）を加えた。これにより沈殿 が生じ、その沈殿物をろ過し、水（３０ｍＬ×３）で洗浄した。その結果、対応 するＮ−オキシド（３．７６４ｇ、８１．６６％）が得られた。工程２： ＤＭＦ（５ｍＬ）に加えた工程１で合成したＮ−オキシド（０．４０ｇ、１． ５６７ミリモル）の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド（０．３ｍＬ、２．２ ５ミリモル）を加え、２５℃で１５分間攪拌した。その後、ジメチルカルバミル クロリド（０．８ｍＬ、８．６９ミリモル）を加え、２５℃で２時間攪拌した。 ＴＬＣが出発物質が消滅したことを示したら、混合物を酢酸エチルと水（１００ ｍＬ：２０ｍＬ）に分けた。得られた有機層を、Ｋ2ＣＯ3（１０％、２０ｍＬ） 、水（５０ｍＬ）、ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、Ｍ ｇＳＯ4で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。その結果、４−［３−（４−フルオロ フェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジンカルボニトリル（収 量０．２３ｇ、５６％）が得られた。 ｍ．ｐ．：２０９．２２℃。質量分析（化学的イオン化）：ｍ／ｚ＝２６５。1 Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致した。C15H9N4F・0.2H2Oの元素分析・計算値 ：Ｃ、６７．２６；Ｈ、３．５４；Ｎ、２０．９２。結果：Ｃ、６７．４４；Ｈ 、３．４０；Ｎ、２０．６９。 例Ａ−２１６の化合物は、スキームＸＶの合成方法に従って合成した。 ４−［２−［３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ− ピラゾール−１−イル］エチル］モルホリン工程１： ３−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール −１−エタノール（例Ａ−２１０の方法で合成）（１０．０ｇ、０．０３５３モ ル）を、ピリジン（１００ｍＬ）に懸濁して、０℃に冷却した。温度を０℃に維 持しなから、メタンスルホニルクロリド（４．４ｇ、０．００３８８モル）を徐 々に加えた。１０℃で一晩攪拌した後、冷水（１００ｍＬ）と塩化メチレン（１ ５０ｍＬ）を加え、２層に分離した。１００ｍＬの塩化メチレンで 水分層を再抽出し、有機層を乾燥して、ペースト状になるまで濃縮した。高い真 空度で乾燥した後、薄褐色の塊が得られ、エーテル（７５ｍＬ）で粉末化し、ろ 過して乾燥させた。その結果、収量７９％（１０．１ｇ）で、淡黄色固体が得ら れた。1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致した。この化合物はこのまま工程２で 用いられた。工程２： 工程１で合成したメシレート（５．０ｇ、０．０１３８モル）を、メタノール （５０ｍＬ）中の８倍モル当量以上のモルホリン（９．６ｇ、０．１１モル）に 溶解し、還流中で３、４時間加熱した。ＮＭＲ試料が完成の完成確認後、混合物 を濃縮し、塩化メチル（１５０ｍＬ）に加え、水（１００ｍＬ）、続いて７５ｍ Ｌの５％ＨＣｌで洗浄した。水分層をｐＨ８まで中和し、塩化メチレン（１００ ｍＬ）で抽出した。乾燥と濃縮の後、薄黄色の糊状の固体が得られ、それを２５ ｍＬのエーテルで粉末化して、別の固体が得られた。トルエン／ヘキサンからの 再結晶化によって、固体として、４−［２−［３−（４−フルオロフェニル）− ４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］エチル］モルホリンが 得られた。収量：４．５ｇ（８６％）。質量分析：ｍ／ｚ＝３５３。1ＨＮＭＲ は、上記の構造と一致した。C20H21FN4Oの元素分析・計算値：Ｃ、６８．１６； Ｈ、６．０１；Ｎ、１５．９０。結果：Ｃ、６８．２０；Ｈ、６．２１；Ｎ、１ ５．８０。 例Ａ−２１７の化合物は、スキームＸVIの合成方法に従って合成した。 ３−（４−フルオロフェニル）−１−メチル−α−フェニル−４−（４−ピリジ ニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−メタノール 固体のマグネシウム（６０ｍｇ、５ミリモル）に窒素雰囲気下において、テト ラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶かした４−［５−ブロモ−３−（４−フルオロフ ェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（４５０ｍｇ、 １．３５ミリモル）（例Ａ−２１４の方法で合成）の溶液を加え、４０℃で２時 間加熱した。その後、ベンズアルデヒドを更に加え、その混合物を４５℃で２時 間加熱した。ＨＣｌ（１０ｍＬ、１Ｎ）でクエンチした後、酢酸エチルで洗浄し 、酸性水溶液層を塩基化し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水、ブラ インで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥させ、ろ過し、濃縮した。その結果得られた残 留物をシリカゲルカラムで精製し、上記の化合物（収量５９ｍｇ、１２％）を得 た。質量分析：ｍ／ｚ＝３６０（Ｍ＋１）。1Ｈ ＮＭＲは、上記の構造と一致 した。C22H18N2OF・0.6EtOACの元素分析・計算値：Ｃ、７１．１；Ｈ、５．６； Ｎ、１０．２。結果：Ｃ、７０．９；Ｈ、５．４７；Ｎ、１０．２。 例Ａ−２１８の化合物は、上述の合成方法（特にスキームＸVII）に従って合 成したものである。 Ｎ−［５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾ ール−３−イル］−４−モルホリンエタンアミン 例Ａ−２０８の工程１で合成された出発物質デスオキシベンゾイン、４−フル オロベンゾイル−４’−ピリジルメタン（１．０ｇ、０．００４６モル）を、１ ０ｍＬのＤＭＦに溶解し、−１０℃まで冷却した（氷水含有イソプロパノール） 。その後、温度を−１０℃に維持しながら、Ｎ−クロロスクシンイミド（０．６ ２ｇ、０．００４６モル）をいっきに加えた。５分放置した後、チオセミカルバ ジドを０℃でいっきに加え、周囲温度に温まるよう１時間にわたって放置した。 一晩攪拌した後、高い真空度で溶媒を除去し、水とトルエン（各２５ｍＬ）を加 え、よく攪拌した。得られたトルエン層を分離し、水分層（始点ｐＨ５．５）を 重炭酸塩で処理し、ｐＨを８に引き上げた。ここで形成された微粒沈殿物をろ過 し、水、トルエン、エーテルで洗浄した。最後にエーテル（２５ｍＬ）で粉末化 した結果、生成り白色の固体、Ｎ−［５−（４−フルオロフェニル）−４−（４ −ピリジニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］−４−モルホリンエタンアミン が得られた。これを更に再ろ過して乾燥させた。収量：０．９５ｇ（５６％）。 質量分析：ｍ／ｚ＝３６８（基本ピーク）。C20H22FN5O．の元素分析・計算値： Ｃ、６５．３８；Ｈ、６．０４；Ｎ、６．０４。結果：Ｃ、６４．９０；Ｈ、５ ．９２；Ｎ、１８．６７。 ４−［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２（１Ｈ ）−ピリジノンヒドラゾン工程１： （Ｅ）−２−（２−ブロモ−４−ピリジニル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルエ タンアミンの合成 ４−メチル−２−ブロモピリジン（１．０ｇ、５．８ミリモル）とｔ−ブトキ シビス（ジメチルアミノ）メタン（５ｍｌ）を１５０℃で１６時間加熱した。４ −メチル−２−ブロモピリジンは、先行技術として開示しているＢ．Ａｄｇｅｒ 他共著、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９８８）、Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１ 、２７９１−２７９６頁の記載に従って合成した。その内容物は蒸発し、残留物 を酢酸エチルで溶解し、水で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾 燥し、真空下で溶媒を除去した。その結果、工程２での使用に適した油状の１． ０ｇの（Ｅ）−２−（２−ブロモ−４−ピリジニル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルエタン アミンが得られた。工程２： （Ｚ）−２−（２−ブロモ−４−ピリジニル）−１−（３−クロロフ ェニル）−３−（ジメチルアミノ）−２−プロペン−１−オン 工程１で得た生成物（１．０ｇ、４．４ミリモル）を塩化メチレン（１５ｍｌ ）で溶解し、トリエチルアミン（９００ｍｇ、８．８ミリモル）を０℃で加え、 更に３−クロロベンゾイルクロリド（３５０ｍｇ、４．５ミリモル）を加えた。 この混合物を窒素雰囲気下で１６時間攪拌した後、溶媒を真空下で蒸発させ、残 留物をエーテル（２５ｍｌ）に溶解させ、硫酸マグネシウム（５００ｍｇ）とシ リカゲル（５００ｍｇ）で攪拌し、ろ過した。エーテルが蒸発した後、その残留 物に、溶出液としてアセトンと塩化メチレンの混合物を用いたシリカゲルのクロ マトグラフィーを行った。その結果、ガラス状態の生成物、（Ｚ）−２−（２− ブロモ−４−ピリジニル）−１−（３−クロロフェニル）−３−（ジメチルアミ ノ）−２−プロペン−１−オンが得られ、さらに精製を行わずに工程３で用いた 。工程３： ２−ブロモ−４−［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール −４−イル］ピリジン 工程２で得た生成物（６５０ｍｇ、１．８ミリモル）とヒドラジン一水和物（ １００ｍｇ）をエタノール（１０ｍｌ）に溶かした溶液を、２４時間還流させ、 溶媒を蒸発させた後、その残留物に、 溶出液として酢酸エチルとトルエンの混合物を用いたシリカゲルのクロマトグラ フィーを行った。その結果、油状の生成物として、２−ブロモ−４−［３−（３ −クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジン（１９０ｍｇ、３ １％）が得られた。C14H9BrClN3の元素分析・計算値：Ｃ、５０．２５；Ｈ、２ ．７１；Ｎ、１２．５６。結果：Ｃ、５０．１０；Ｈ、２．６０；Ｎ、１２．４ ０。 酢酸エチルとメタノールの混合物で更に溶出を行った結果、結晶状固体、４− ［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２（１Ｈ）− ピリジノンヒドラゾン（１９０ｍｇ、３６％）が得られた。ｍ．ｐ．１６３−１ ６４℃。質量分析（Ｍ＋Ｈ）＝２８６。C14H12N5Clの元素分析・計算値：Ｃ、５ ８．８５；Ｈ、４．２３；Ｎ、２４．５１。結果：Ｃ、５８．５３；Ｈ、４．２ ８；Ｎ、２４．８７。４−［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−（フ ェニルメチル）−２−ピリジンアミン ベンジルアミン（５ｍｌ）に溶かした例Ａ−２１９の工程３で合成したブロモ ピリジン化合物（１５０ｍｇ、０．５ミリモル）の溶液を、１７５℃で６時間加 熱した。冷却後、余分なベンゾルアミン を高真空度蒸留で除去し、その残留物に酢酸エチルを加えた。有機相を水で洗浄 した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を真空下で除去した。その残留物に、 酢酸エチルとトルエンの混合物を使ったシリカゲルのクロマトグラフィーを行っ た結果、固体状の、４−［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４ −イル］−Ｎ−（フェニルメチル）−２−ピリジンアミン（１１０ｍｇ、６１％ ）が得られた。ｍ．ｐ．：１７９−１８０℃。 C21H17ClN4の元素分析・計算値：Ｃ、６９．９０；Ｈ、４．７５；Ｎ、１５． ５３。結果：Ｃ、６９．６９；Ｈ、４．８１；Ｎ、１５．１１。 ４−［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル」−Ｎ−（フ ェニルエチル）−２−ピリジンアミン フェネチルアミン（５ｍｌ）に溶かした例Ａ−２１９の工程３で合成したブロ モピリジン化合物（２５０ｍｇ、０．７５ミリモル）の溶液を、窒素雰囲気下で 、１７５℃で６時間加熱した。余分なベンゾルアミンを高真空度蒸留で除去し、 その残留物を酢酸エチルに溶解し、水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を除去した後、その残留物に、酢酸エチルとトルエンの混合物を使ったシリ カゲルのクロマトグラフィーを行った。その結果、固体状の、４−［３−（３− クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−（フェニルエチル）− ２−ピリジンアミン（２３０ｍｇ、８１ ％）が得られた。ｍ．ｐ．：１８５−１８６℃。 C22H19ClN4の元素分析・計算値：Ｃ、７０．４９；Ｈ、５．１１；Ｎ、１４． ９５。結果：Ｃ、７０．２９；Ｈ、５．１５；Ｎ、１４．６６。 ４−［３−（３−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−エチ ル−２−ピリジンアミン エチルアミン（３．５ｍｌ）とエタノール（５ｍｌ）に溶かした例Ａ−２１９ の工程３で合成したブロモピリジン化合物（３００ｍｇ、０．９ミリモル）の溶 液を、密閉管中で、１５０℃で９時間加熱した。溶媒を真空下で除去した後、そ の残留物に、３０の酢酸エチルと７０のトルエンを使ってシリカゲルのクロマト グラフィーを行った。その結果、固体状の、４−［３−（３−クロロフェニル） −１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−エチル−２−ピリジンアミン（１２５ｍ ｇ、４６％）が得られた。ｍ．ｐ．：１８６−１８７℃。 C16H15ClN4の元素分析・計算値：Ｃ、６４。３２；Ｈ、７．０６；Ｎ、１８． ７５。結果：Ｃ、６４．４２；Ｈ、７．０１；Ｎ、１８．４５。 例Ａ−２２３からＡ−２２６の化合物を、上記（特にスキームＸVIII）の合成 方法によって、対応する出発試薬を使って合成した。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピ リジンカルボキサミド工程１： 塩化メチレンに加えた４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリジン（例Ａ−２０８の方法で合成）（８．８ｇ、０．０３７ モル）の懸濁液に、ｍ−クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）を室温でいっきに加え た。１６時間攪拌した後、溶媒を除去し、その残留物を重炭酸ナトリウム溶液で 処理した。得られた沈殿物をろ過し、空気乾燥させた結果、８．２ｇの白色固体 生成物（８７％）が得られた。ｍ．ｐ．：２０７−２０９℃。工程２： ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］−２−ピリジンカルボニトリルの合成 ２０ｍＬのＤＭＦに溶かした工程１で得た生成物（５．１ｇ、０．０２モル） の溶液に、トリメチルシリルシアニド（２．５ｇ、０．０２５モル）を加え、更 に、５ｍＬのＤＭＦに溶かしたＮ、Ｎ−ジメチルカルバモイルクロリド（２．７ ｇ、０．０２５モル）の溶液を室温で加えた。一晩攪拌した後、その反応液を２ ００ｍＬの１０ ％炭酸カリウム水溶液で塩基化し、水溶相を酢酸エチルで抽出した。得られた有 機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を 濃縮し、粗生成物をヘキサンで粉末化し、ろ過した。その結果、４．３ｇの白黄 色の固体、４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］−２−ピリジンカルボニトリル（９０％）が得られた。ｍ．ｐ．：２３８−２ ３９℃。工程３： ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］−２−ピリジンカルボキサミドの合成 １０ｍＬのＤＭＳＯに溶かした工程２で得た４−［３−（４−フルオロフェニ ル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジンカルボニトリル（０．４５ ｇ、０．００１７モル）の溶液に、過酸化水素（０．２４ｇの３０％水溶液、１ ．７ミリモル）と炭酸カリウム（０．０４ｇ、０．４ミリモル）を０℃で加えた 。この混合物を、室温に放置した状態で１時間攪拌した。水を加え、ろ過によっ て沈殿物を取り出し、空気乾燥させた。その結果、０．３２ｇの白色固体として 、４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２− ピリジンカルボキサミド（収量６７％）が得られた。ｍ．ｐ．：２３０−２３１ ℃。C15H11FN4Oの元素分析・計算値：Ｃ、６３．８３；Ｈ、３．９３；Ｎ、１９ ．８５。結果：Ｃ、６３．４２；Ｈ、３．６６；Ｎ、１９．５８。 メチル ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ −２−ピリジンカルボキシレート 例Ａ−２２３の方法で合成された４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ −ピラゾール−４−イル］−２−ピリジンカルボキサミド（２．９ｇ、０．０１ モル）を、５０ｍＬのメタノールに加えてできた懸濁液に、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ ルムアミドジメチルアセタール（３．６７ｇ、０．０３モル）を滴下した。その 反応液を室温で一晩攪拌し、還流中で４時間加熱した。冷却後、ろ過により沈殿 物を取り出し、空気乾燥させた。その結果、２．０ｇの白色固体、メチル ４− ［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジ ンカルボキシレート（収量６９％）が得られた。ｍ．ｐ．：２３９−２４１℃。 C16H12FN3O2の元素分析・計算値：Ｃ、６４．６４；Ｈ、４．０７；Ｎ、１４． １３。結果：Ｃ、６４．３６；Ｈ、４．１０；Ｎ、１４．２７。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−メ チル−２−ピラジンカルボキサミド 例Ａ−２２４の方法で合成されたメチル４−［３−（４−フルオロフェニル） −１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジンカルボキシレート（０．４５ｇ 、１．５ミリモル）を、２０ｍＬのメチルアミン（４０％水溶液）に加えてでき た混合物を、密閉管内で、１２０℃で１６時間加熱した。冷却後、水を加え、水 溶相を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネ シウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮した結果、０．４ｇの白色固体、 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−メ チル−２−ピラジンカルボキサミドが得られた。ｍ．ｐ．：８８−８９℃。C16H13 FN4O+0.4H2Oの元素分析・計算値：Ｃ、６３．３２；Ｈ、４．５８；Ｎ、１８ ．４６。結果：Ｃ、６３．１０；Ｈ、４．６２；Ｎ、１８．３５。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピ リジンカルボン酸 例Ａ−２２４の方法で合成されたメチル４−［３−（４−フルオロフェニル） −１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジンカルボキシレート（０．９０ｇ 、０．００３モル）を、１０ｍＬのエタノールに溶かした溶液に、５ｍＬの水に 溶かした水酸化ナトリウム（０．２４ｇ、０．００６モル）の溶液を加え、その 反応液を還流中で１０時間加熱した。溶媒の除去の後、残留物を水に溶解し、ク エン酸溶液でｐＨ５に酸性化した。その後、水溶相を酢酸エチルで抽出し、有機 相を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。得られた粗生成物をエーテルで処 理することにより精製した。その結果、０．６２ｇの白色固体、４−［３−（４ −フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリジンカルボン 酸（収量７３％）が得られた。ｍ．ｐ．：２４５℃（ｄｅｃ）。C15H10FN3O+0.2 H2Oの元素分析・計算値：Ｃ、６２．８０；Ｈ、３．６５；Ｎ、１４．６５。結 果：Ｃ、６２．７７；Ｈ、３．４２；Ｎ、１４．５８。 上記の反応スキームのうち、ひとつ以上のスキーム（特にスキームIXからVIII ）に従って合成された、本発明のその他の化合物を表３に示す。各化合物につい ての質量分析と元素分析の結果と共に、詳細な合成スキームも、表３に示す。 例Ａ−２９９からＡ−３１２のピリミジン置換化合物を、上記（特にスキーム Ｉ−ＸVIII）の合成方法によって、対応する出発試薬を使って合成した。 ２−クロロ−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イ ル］ピリミジン 工程１： １００ｍＬのＴＨＦに、２、６−ジクロロ−４−メチルピリミジン（５．０ｇ 、０．０３１モル）、トリエチルアミン（６．２３ｇ、０．０６２モル）と５％ のＰｄ／Ｃの触媒量とを加えてできた混合物を、パール（Parr）装置を使って、 ４０ｐｓｉ下で室温で水素化した。０．５時間後、触媒をろ過し、ろ液を濃縮し た。得られた粗生成物を、シリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキ サン、３：７）によって精製した結果、２．３６ｇの黄白色の結晶状の生成物（ 収量５０％）が得られた。ｍ．ｐ．：４７−４９℃。工程２： ２−（２−クロロ−４−ピリミジニル）−１−（４−フルオロフェニ ル）エタノンの合成 ２−（２−クロロ−４−ピリミジニル）−１−（４−フルオロフェニル）エタノ ン ＴＨＦ中に溶かしたＢｕＬｉ（０．０４５モル）とジイソプロピルアミン（０ ．０４８モル）から精製したリチウムジイソプロピルアミドの−７８℃の溶液に 、ＴＨＦに溶かした工程１で合成した化合物（５．５ｇ、０．０３７モル）の溶 液を３０分にわたって徐々に加えた。１時間後、ＴＨＦに溶かした４−フルオロ 安息香酸エチル（７．６２ｇ、０．０４５モル）の溶液を加え、その反応液を一 晩攪拌し、室温に温まるまで放置した。水を加え、水溶相を酢酸エチルで抽出し た後、得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過 した。そのろ液を濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフィー （酢酸エチル／ヘキサン、３：７）によって精製した結果、４．７８ｇの黄色固 体の生成物（収量５１％）が得られた。ｍ．ｐ．：１１２−１１３℃。工程３： （Ｅ）−２−（２−クロロ−４−ピリミジニル）−３−（ジメチルア ミノ）−１−（４−フルオロフェニル）−２−プロペン−１−オンの合成 （Ｅ）−２−（２−クロロ−４−ピリミジニル）−３−（ジメチルアミノ）−１ −（４−フルオロフェニル）−２−プロペン−１−オン 工程２で合成した化合物（４．７ｇ、０．０１７モル）を１００ｍＬのジメチ ルホルムアミドジメチルアセタールに加えてできた混合物を、室温で一晩攪拌し 、余分なジメチルホルムアミドジメチルアセタールを真空下で除去した。その結 果、４．５ｇの濃褐色の油状の粗生成物が得られ、精製を行わずに次の工程で使 用した。工程４： ２−クロロ−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾー ル−４−イル］ピリミジンの合成 ヒドラジン水和物（０．８２ｇ、０．０１４モル）に溶かした工程３で合成し た化合物（４．４ｇ）の溶液を、室温で６時間攪拌し、黄色の沈殿物をろ過によ り取り出し、空気乾燥させた。その結果、１．８５ｇの黄色固体生成物、２−ク ロロ−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピ リミジンが得られた。ｍ．ｐ．：２０４−２０５℃。C13H8ClFN4の元素分析・計 算値：Ｃ、５６．８４；Ｈ、２．９４；Ｎ、２０．４０；Ｃ１、１２．９１。結 果：Ｃ、５６．４３；Ｈ、２．７６；Ｎ、２０．０２；Ｃｌ、１２．９７。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２（１ Ｈ）−ピリミジノンヒドラゾン エタノールに溶かしたヒドラジン水和物（５ｍＬ）と例Ａ−２９９の工程３で 合成した化合物（１．５ｇ）の溶液を、還流中で一晩加熱した。その反応液を冷 却した後、溶媒を除去し、その残留物を酢酸エチルと水の間に分けた。有機相を ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し 、得られた粗生成物を、酢酸エチルとヘキサンからの再結晶化によって精製した 。その結果、０．５ｇの黄白色の固体生成物、４−［３−（４−フルオロフェニ ル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２（１Ｈ）−ピリミジノンヒドラゾン（ 収量３８％）が得られた。ｍ．ｐ．：１４９−１５０℃。C13H11FN6の元素分析 ・計算値：Ｃ、５７．７７；Ｈ、４．１０；Ｎ、３１．１０。結果：Ｃ、５７． ７０；Ｈ、４．３１；Ｎ、３０．７３。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ、Ｎ −ジメチル−２−ピリミジンアミン工程１： ４０ｍＬのＤＭＦに溶かした例Ａ−２９９の工程２で合成した化合物（３．０ ５ｇ、０．０２モル）とｔ−ブチルビス（ジメチルアミノ）メタン（１０．４５ ｇ、０．０６モル）の溶液を、１１０℃で一晩攪拌した。真空下で溶媒を除去し た後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグ ネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、得られた粗生成物を、酢酸 エチルとヘキサンからの再結晶化によって精製した。その結果、１．２３ｇの黄 色固体生成物（収量３２％）が得られた。ｍ．ｐ．：７６−７７℃。C10H16N4の 元素分析・計算値：Ｃ、６２．４７；Ｈ、８．３９；Ｎ、２９．１４。結果：Ｃ 、６２．１９；Ｈ、８．５８；Ｎ、２９。０２。工程２： ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］−Ｎ、Ｎ−ジメチル−２−ピリミジンアミンの合成 １０ｍＬのトルエンに溶かした本例の工程１で合成した化合物（１．２ｇ、０ ．００６４モル）とトリエチルアミン（０．６５ｇ、０．００６４モル）の溶液 に、４−フルオロベンゾイルクロリドを滴下し、その混合物を還流中で１０時間 加熱し、溶媒を除去した。その残留物を酢酸エチルを水の間で分けて、得られた 有機層をブラ インで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、得 られた粗生成物を５０ｍＬのエタノールに溶解した。その溶液をヒドラジン水和 物（０．３６ｇ、０．００６モル）で処理し、混合物を還流中で２時間加熱した 。エタノールを除去した後、残留物を水と酢酸エチルの間で分けた。有機相をブ ラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、 得られた粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン、 １：１）によって精製した結果、０．６ｇの黄色固体生成物４−［３−（４−フ ルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ、Ｎ−ジメチル−２−ピ リミジンアミン（収量３３％）が得られた。ｍ．ｐ．：１５５−１５６℃。C15H14 FN5の元素分析・計算値：Ｃ、６３．５９；Ｈ、４．９８；Ｎ、２４．７２。 結果：Ｃ、６３．３２；Ｈ、４．９２；Ｎ、２４．３１。４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−メ チル−２−ピリミジンアミン 例Ａ−２９９の方法で合成した２−クロロ−４−［３−（４−フルオロフェニ ル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジン（０．３ｇ、０．００１１モル ）を１０ｍＬのメチルアミン（４０％水溶液）に加えてできた懸濁液を、密閉管 内において、１００℃で一 晩加熱した。その混合物を室温まで冷却した後、沈殿物をろ過し、空気乾燥させ た。その結果、０．２ｇの白色固体生成物、４−［３−（４−フルオロフェニル ）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−メチル−２−ピリミジンアミン（収量 ６８％）が得られた。ｍ．ｐ．：２１７−２１８℃。C14H12FN5の元素分析・計 算値：Ｃ、６２．４５；Ｈ、４．４９；Ｎ、２６．０１。結果：Ｃ、６２．５８ ；Ｈ、４．３６；Ｎ、２５．９０。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−（ フェニルメチル）−２−ピリミジンアミン 本例の化合物は、例Ａ−２９９の方法で合成した２−クロロ−４−［３−（４ −フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジンをベンジルア ミン中で一晩還流させて合成したものである。その結果、白色固体生成物、４− ［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−（フェ ニルメチル）−２−ピリミジンアミン（収量９５％）が得られた。ｍ．ｐ．：２ １６−２１７℃。C20H16FN5の元素分析・計算値：Ｃ、６９．５５；Ｈ、４．６ ７；Ｎ、２０．２８。結果：Ｃ、６９．７３；Ｈ、４．６９；Ｎ、１９．９０。 Ｎ−シクロプロピル−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール −４−イル］−２−ピリミジンアミン 本例の化合物は、例Ａ−２９９の方法で合成した２−クロロ−４−［３−（４ −フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジンを、メタノー ル中に溶解させた過剰なシクロプロピルアミンと共に、５０℃で１２時間攪拌す ることにより合成したものである。その結果、白色固体生成物、Ｎ−シクロプロ ピル−４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］− ２−ピリミジンアミン（収量２６％）が得られた。ｍ．ｐ．：２０３−２０４℃ 。C16H14FN5の元素分析・計算値：Ｃ、６５．０７；Ｈ、４．７８；Ｎ、２３． ７１。結果：Ｃ、６４．４２；Ｈ、４．８２；Ｎ、２３．５８。４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−Ｎ−［ （４−メトキシフェニル）メチル］−２−ピリミジンアミン 本例の化合物は、例Ａ−２９９の方法で合成した２−クロロ−４−［３−（４ −フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジンを４−メトキ シベンジルアミン中で一晩還流させて合成したものである。その結果、生成り白 色固体生成物、４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４− イル］−Ｎ−［（４−メトキシフェニル）メチル］−２−ピリミジンアミン（収 量８０％）が得られた。ｍ．ｐ．：１８３−１８５℃。C21H18FN5Oの元素分析・ 計算値：Ｃ、６７．１９；Ｈ、４．８３；Ｎ、１８．６６。結果：Ｃ、６７．０ １；Ｈ、５．１１；Ｎ、１８．９３。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピ リミジンアミン 例Ａ−３０５の方法で合成した４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ− ピラゾール−４−イル］−Ｎ−［（４−メトキシフェニル）メチル］−２−ピリ ミジンアミン（０．３５ｇ、０．０００９３モル）を１５ｍＬ中のトリフルオロ 酢酸に溶かした溶液を還流 中で１６時間加熱した。溶媒を除去した後、残留物を酢酸エチルと１Ｎ水酸化ア ンモニウムの間に分けた。得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウ ムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を濃縮し、シリカゲル（酢酸エチル）のクロ マトグラフィーによって精製した。その結果、黄白色固体生成物、４−［３−（ ４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリミジンアミ ン（収量５９％）が得られた。ｍ．ｐ．：２７３−２７４℃。C13H10FN5・0.25H2 Oの元素分析・計算値：Ｃ、６０．１１；Ｈ、４．０７；Ｎ、２６．９６。結果 ：Ｃ、６０．１５；Ｈ、３．８２；Ｎ、２６．３８。 Ｎ−［４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］− ２−ピリミジニル］−Ｎ−（フェニルメチル）アセトアミド 例Ａ−３０３の方法で合成した４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ− ピラゾール−４−イル］−Ｎ−（フェニルメチル）−２−ピリミジンアミン（０ ．１５ｇ、０．０００４３モル）と、ＤＭＡＰ（０．０２７ｇ、０．０００２２ モル）と、無水酢酸（０．０６６ｇ、０．０００６６モル）とを、１０ｍＬのＴ ＨＦ中に混ぜた混合物に、トリエチルアミン（０．０５３ｇ、０．０００５２モ ル）を加え、その溶液を室温で一晩攪拌した。溶媒を除去した後、その残留物を 酢酸エチルと水の間に分け、得られた有機層を飽和ＮａＨＣＯ3で洗浄した。そ の後、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。そのろ液を 濃縮し、得られた粗生成物をエーテルで粉末化した結果、０．１ｇの白色固体生 成物、Ｎ−［４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イ ル］−２−ピリミジニル］−Ｎ−（フェニルメチル）アセトアミド（収量６０％ ）が得られた。ｍ．ｐ．：１７６−１７８℃。C22H18FN5の元素分析・計算値： Ｃ、６８．２１；Ｈ、４．６８；Ｎ、１８．０８。結果：Ｃ、６７．６７；Ｈ、 ４．８５；Ｎ、１７．７９。 エチル ［４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル ］−２−ピリミジニル］カルバメート 例Ａ−３０６の方法で合成した４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ− ピラゾール−４−イル］−２−ピリミジンアミン（０．２６ｇ、０．００１モル ）を５ｍＬのピリジンに加えた懸濁液に、エチルクロロホルメートを滴下した。 その透明な溶液を室温で６時間攪拌した後、水を加え、水溶相を酢酸エチルで抽 出した。得られた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ 過 した。そのろ液を濃縮し、得られた粗生成物をエーテルで粉末化した。その結果 、０．１５ｇの白色固体生成物、エチル ［４−［３−（４−フルオロフェニル ）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］−２−ピリミジニル］カルバメート（収量４ ６％）が得られた。ｍ．ｐ．：１６３−１６５℃。C16H14FN5O2の元素分析・計 算値：Ｃ、５８．７１；Ｈ、４．３１；Ｎ、２１．０４。結果：Ｃ、５９．２２ ；Ｈ、４．５１；Ｎ、２１．６６。４−［３−（３−メチルフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジン 本例の化合物は、４−フルオロベンゾイル−４−ピリジニルメタンの代わりに １−メチル−３−（４’−ピリミジニルアセチル）ベンゼン（例Ａ−１９の工程 １の方法で、４−メチルーピリミジンとメチル３−メチルベンゾアートから合成 ）を用いたことを除いては、例Ａ−２０８と同じ方法で合成したものである。 C14H12N4（２３６．２７）の元素分析・計算値：Ｃ、７１．１７；Ｈ、５．１ ２；Ｎ、２３．７１。結果：Ｃ、７０．６７；Ｈ、５．２６；Ｎ、２３．５３。 ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１５１．６７℃。 ４−［３−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジン 本例の化合物は、スキームVI及びIXに述べた合成方法で、ピリジン出発物質の 代わりに対応するピリミジン出発物質を用いて合成したものである。 C13H9N4Cl・0.25MH2Oの元素分析・計算値：Ｃ、５９．７８；Ｈ、３．６７； Ｎ、２１．４５。結果：Ｃ、５９．８９； Ｈ、３．３２；Ｎ、２１．５６。ｍ ．ｐ．（ＤＳＣ）：２１８．１７℃。４−［３−（３−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジ ン 本例の化合物は、スキームVI及びIXに述べた合成方法で、ピリジン出発物質の 代わりに対応するピリミジン出発物質を用いて合成し たものである。 C13H9N4F（２４０．２４）の元素分析・計算値：Ｃ、６４．９９；Ｈ、３．７ ８；Ｎ、２３．２２。結果：Ｃ、６４．７８；Ｈ、３．７５；Ｎ、２３．３１。 ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１６８．５８℃。 ４−［３−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリミジ ン 本例の化合物は、スキームVI及びIXに述べた合成方法で、ピリジン出発物質の 代わりに対応するピリミジン出発物質を用いて合成したものである。 C13H9N4F（２４０．２４）の元素分析・計算値：Ｃ、６４．９９；Ｈ、３．７ ８；Ｎ、２３．３２。結果：Ｃ、６４．９４；Ｈ、３．５６；Ｎ、２３．４４。 ｍ．ｐ．（ＤＳＣ）：１９１．４７℃。 本明細書に記載の反応スキームのひとつまたはそれ以上を使って合成されうる 本発明のその他の化合物を以下に示す。ただし、本発明の化合物はこれらに限定 されるものではない。 生物学的評価 ｐ３８キナーゼ検定ヒトｐ３８ａのクローニング： ヒトｐ３８ａ ｃＤＮＡのコード領域は、ヒト単核細胞系統ＴＨＰ．１から分 離されたＲＮＡからのＰＣＲ（ポリメラーゼ・チェイン・リアクション）−増幅 によって得られた。第１ストランドｃＤＮＡは以下の通り全ＲＮＡから合成され た。すなわち、２μｇのＲＮＡが、１０分間に亘って７０℃に加熱し、続いて２ 分間氷冷することにより、１０μＬ反応液中で１００ｎｇのランダム六量体プラ イマーにアニーリングされた。ｃＤＮＡは、次に、１μＬのＲＮＡ(Promega,Mad ison WI)と、２μＬの５０ｍＭ ｄＮＴＰと、４μＬの５Ｘ緩衝液と、２μＬの １００ｍＭ ＤＴＴと、１μＬ（２００Ｕ）のSuperscriptII TMMＡＭＶ逆転写 酵素とを添加することにより合成された。ランダムプライマー、ｄＮＴＰ、及び 、SuperScript TM試薬は、Life-Technologies,Gaithersburg,MAから購入された 。反応は、１時間に亘って４２℃で保温された。ｐ３８ ｃＤＮＡの増幅は、５ μＬの逆転写酵素反応を、８０μＬ ｄＨ2Ｏ、２μｌ ５０ｍＭ ｄＮＴＰ、 １μＬ順方向及び逆方向の各プライマー（５０ｐｍｏｌ／μＬ）、１０μＬの１ ０Ｘ緩衝液、及び、１μＬ Ｅｘｐａｎｄ ＴＭポリメラーゼ(Borhringer Mann heim)を含む１００μＬのＰＣＲ反応にアリコートすることにより行われた。Ｐ ＣＲプライマーは、増幅された断片の５’末端及び３’末端にＢａｍ ＨＩ部位 を組み込み、Ｇｅｎｏｓｙから購入された。順方向プライマー及び逆方向プライ マーの配列（シーケンス）は、それぞれ、５’−ＧＡＴＣＧＡＧＧＡＴＴＣＡＴ ＧＴＣＴＣＡＧＧＡＧＡＧＧＣＣＣＡ−３’及び５’−ＧＡＴＣＧＡＧＧＡＴＴ ＣＴＣＡＧＧＡＣＴＣＣＡＴＣＴＣＴＴＣ−３’である。ＰＣＲ増幅は、９４℃ で１分間、６０℃で１分間、６８℃で２分間のサイクルを３０回 繰り返すことによって、ＤＮＡサーマルサイクラー(Perkin Elmer)内で行われる 。増幅後、余分なプライマーと組み込まれなかったｄＮＴＰは、増幅された断片 からWizardTMPCR prep(Promega)を用いて除去され、Ｂａｍ ＨＩ(New England Biolabs)を用いて消化された。Ｂａｍ ＨＩ消化断片は、T．Maniatis，Molecul ar Cloning：A Laboratory Manual，2nd ed．（1989）に記載されているように 、Ｔ−４ ＤＮＡリガーゼ(New England Biolabs)を用いて、Ｂａｍ ＨＩ消化 ｐＧＥＸ ２ＴプラスミドＤＮＡ(PharmacisaBiotech)に連結された。連結反応 は、Life-Technologiesから入手された化学的コンピテント大腸菌ＤＨ１０Ｂ細 胞に、製造元の指示に従って形質転換された。プラスミドＤＮＡは、生成された バクテリアコロニーから、Promega WizardTMミニプレップキットを用いて分離さ れた。適切なＢａｍ ＨＩ断片を有するプラスミドは、ＰｒｉｓｍTM(Appllied Biosystems Inc.)を用いてＤＮＡサーマル・サイクラー(Perkin Elmer)内で塩基 配列か決定された。両方のヒトｐ３８ａイソ型(Lee 他、Nature 372，739)に対 しコードされたｃＤＮＡクローンが識別された。ＧＳＴコード領域のｐＧＥＸ ２Ｔ ３’のクローニング部位に挿入されたｐ３８ａ−２（ＣＳＢＰ−２）用の ｃＤＮＡを含む一方のクローンは、ｐＭＯＮ３５８０２と命名された。このクロ ーンに対し得られたシーケンスは、Ｌｅｅ等によって報告されたｃＤＮＡクロー ンと厳密に一致した。この発現プラスミドによって、ＧＳＴ−ｐ３８ａ融合蛋白 質が生成される。ヒトｐ３８ａの発現： ＧＳＴ／ｐ３８ａ融合蛋白質は、大腸菌、染色DH10B(Life Technologies，Gib co-BRL)内でプラスミドｐＭＯＮ３５８０２から発現した。一晩放置された培地 は、１００ｍｇ／ｍＬアンピシリンを含むルリラ・ブロス(LB)内で成長させられ た。翌日、５００ｍＬの新鮮なＬＢが１０ｍＬの一晩置かれた培地を用いて植え 付けられ、培 地が６００ｎｍで０．８の吸収度に達するまで、一定に振とうされる３７℃の２ ｌ容のフラスコ内で成長させられた。融合蛋白質の発現は、イソプロビル ｂ− Ｄ−チオガラクトシダーゼ（ＩＰＴＧ）を０．０５ｍＭの最終的な濃度まで加え ることによって誘発された。培地は室温で３時間ふられ、細胞は遠心分離によっ て収集された。細胞ペレットは、蛋白質の精製まで凍結保存された。ｐ３８キナーゼーαの精製： 特記しない限り、すべての化学薬品はSigma Chemical Co.製である。５個の１ Ｌ容シェイクフラスコ発酵槽から収集された２０グラムの大腸菌細胞ペレットは 、２００ｍｌまでのＰＢＳ（１４０ｍＭ ＮａＣｌ、２．７ｍＭ ＫＣｌ、１０ ｍＭ Ｎａ2ＨＰＯ4、１．８ｍＭ ＫＨ2ＰＯ4、ｐＨ７．３）の体積中で再浮遊 させられる。細胞浮遊は、２Ｍ ＤＴＴを用いて５ｍＭ ＤＴＴに調節され、５ 個の５０ｍＬ容のファルコン円錐管に均等に分けられた。細胞は、氷上で３×１ 分の間（パルス状）１ｃｍのプローブを用いて音波処理された（超音波振動器モ デルＷ３７５）。溶解された細胞物質は遠心分離（１２，０００ｇ、１５分間） によって除去され、浄化された上澄みかグルタチオン−セファロース樹脂(Pharm acia)に塗布される。グルタチオン−セファロースのアフィニティ・クロマトグラフィ １２ｍＬの５０％グルタチオン−セファロース−ＰＢＳ懸濁液が２００ｍＬの 浄化された上澄みに加えられ、３０分間室温でバッチ的にインキュベートされた 。樹脂は遠心分離（６００ｇ、５分間）により収集され、２×１５０ｍｌ ＰＢ Ｓ／１％ トリトンＸ−１００と、引き続き、４×４０ｍｌ ＰＢＳで洗浄され た。ＧＳＴ−ｐ３８融合蛋白質からｐ３８キナーゼを切断するため、グルタチオ ン−セファロース樹脂は、２５０ユニットのトロンビン プロテア ーゼ(Pharmacia，比活性＞７５００活性単位数／ｍｇ）を含有する６ｍｌ ＰＢ Ｓ内で再浮遊され、４時間室温で徐々に混合された。グルタチオン−セファロー ス樹脂は遠心分離（６００ｇ、５分間）によって除去され、２×６ｍＬのＰＢＳ で洗浄された。ｐ３８キナーゼ蛋白質を含有するＰＢＳ洗浄断片及び消化上澄み は、プールされ、０．３ｍＭ ＰＭＳＦまで調節される。モノＱ陰イオン交換クロマトグラフィ トロンビン−切断ｐ３８キナーゼは、ＦＰＬＣ−陰イオン交換クロマトグラフ ィによって更に精製される。トロンビン−切断サンプルは、緩衝液Ａ（２５ｍＭ ＨＥＰＥＳ、ｐＨ７．５、２５ｍＭβ−グリセロリン酸基、２ｍＭ ＤＴＴ、 ５％グリセロール）によって２倍に希釈され、緩衝液Ａで平衡にされたモノＱ ＨＲ１０／１０(Pharmacia)陰イオン交換コラムに注入される。コラムは、１６ ０ｍＬ ０，１Ｍ−０．６Ｍ ＮａＣｌ／緩衝液Ａ 勾配（２ｍ１／分 流速） で希釈される。２００ｍＭ ＮａＣｌでピーク希釈されたｐ３８キナーゼは収集 され、Filtron 10濃縮器(Filtron Corp.)によって３−４ｍｌに濃縮される。セファクリル Ｓ１００ゲル濾過クロマトグラフィ 濃縮モノＱ−ｐ３８キナーゼ精製サンプルは、ゲル濾過クロマトグラフィ(緩 衝液Ｂ（５０ｍＭＨＥＰＥＳ、ｐＨ７．５、５０ｍＭ ＮａＣｌ、２ｍＭ ＤＴ Ｔ、５％グリセロール）で平衡にされたPharmacia HiPrep 26/60セファクリルＳ １００コラム)によって精製された。蛋白質は、０．５ｍＬ／分の流速で緩衝液 Ｂを用いてコラムから溶離され、蛋白質は２８０ｎｍでの吸収度によって検出さ れた。（ＳＤＳ−ポリアクリルアミドゲル電気泳動によって検出された）ｐ３８ キナーゼを含有する断片は、プールされ、−８０℃で凍結される。５Ｌ容の大腸 菌シェイクフラスコ発酵槽からの典 型的な精製蛋白質生成量は、３５ｍｇのｐ３８キナーゼであった。 インビトロ検定 ヒトｐ３８キナーゼαを阻害する化合物の機能は、２通りのインビトロ検定法 を用いて評価された。第１の方法では、活性化されたヒトｐ３８キナーゼαは、 γ32Ｐ−ＡＴＰ（32Ｐ−ＡＴＰ）の存在下で、ビチオン化基質、ＰＨＡＳ−Ｉ（ リン酸化された熱及び酸に安定な蛋白質−インシュリン誘導）をリン酸化する。 ＰＨＡＳ−Ｉは、検定前にビオチン化され、検定中にリン酸化される基質を捕捉 する手段を与える。ｐ３８キナーゼはＭＫＫ６によって活性化される。化合物は 、１％ＤＭＳＯを用いて１００μＭ乃至０．００１μＭの範囲で１０倍毎の希釈 度で試験された。阻害剤の濃度は３回試験された。 すべての反応は、９６種類のウェル（well）ポリプロピレンプレートで行われ た。各反応ウェルは、２５ｍＭ ＨＥＰＥＳ ｐＨ７．５と、１０ｍＭ 酢酸マ グネシウムと、５０μＭ 無標識ＡＴＰとを含有する。ｐ３８の活性化は検定中 に十分なシグナルを得るために要求された。ビオチン化されたＰＨＡＳ−Ｉは、 ５０μＬ反応体積当たり１−２μｇずつ使用され、最終的な濃度は１．５μＭで あった。活性化されたヒトｐ３８キナーゼαは、５０μＬ反応体積当たり１μｇ だけ使用され、最終的な濃度は０．３μＭを示した。γ32Ｐ−ＡＴＰは、ＰＨＡ Ｓ−Ｉのリン酸化の後に使用された。32Ｐ−ＡＴＰは、３０００Ｃｉ／ｍｍｏｌ の比活性を有し、５０μＬ体積当たり１．２μＣｉだけ使用された。反応は１時 間若しくは一晩、３０℃で進められた。 保温に続いて、２０μＬの反応混合物が、リン酸緩衝生理食塩水で予め湿潤さ れた高キャパシティ・ストレプトアビジン被覆フィルタプレート（ＳＡＭ−スト レプトアビジン−マトリックス、Ｐｒｏｍｅｇａ）に転移された。転移反応混合 物は、１乃至２分間、プロ メガプレートのストレプトアビジン膜と接触させられた。32Ｐが組み込まれたビ オチン化ＰＨＡＳ−Ｉの捕捉に続いて、各ウェルは、組み込まれていない32Ｐ− ＡＴＰを除去するため２Ｍ ＮａＣｌで３回ずつ洗浄され、１％リン（Ｖ）含有 の２Ｍ ＮａＣｌで３回洗浄され、蒸留水で３回洗浄され、最後に、９５％エタ ノールで１回だけ洗浄された。フィルタプレートは空気乾燥され、２０μＬのシ ンチラントが加えられた。プレートはシールされ、カウントされた。その結果は 、表４に記載されている。 33Ｐ−ＡＴＰの存在下で、ＥＧＦＲＰ（表皮成長因子受容体ペプチド、２１ｍ ｅｒ）のｐ３８キナーゼα誘導リン酸化に基づく第２の検定フォーマットも利用 された。化合物は、１％ＤＭＳＯ内で１００μＭから０．００１μＭまでの範囲 の１０倍ずつの希釈度で試験された。各阻害剤の濃度は３回試験された。化合物 は、２５ｍＭ Ｈｅｐｅｓ ｐＨ７．５と、１０ｍＭ 酢酸マグネシウムと、４ ％のグリセロールと、０．４％ ウシ血清アルブミン、０．４ｍＭＤＴＴ、５０ μＭ 無標識ＡＴＰ、２５μｇ ＥＧＦＲＰ（２００μＭ）、及び、０．０５μ Ｃｉ γ33Ｐ−ＡＴＰの存在下で５０μｌの反応体積中で評価された。反応は、 ０．０９μｇの活性化精製ヒトＧＳＴ−ｐ３８キナーゼαの添加によって始めら れた。活性化は、５０μＭのＡＴＰが存在するとき、１時間３０℃でＧＳＴ−Ｍ ＭＫ６（５：１のｐ３８：ＭＫＫ６）を用いて行われた。６０分間室温で保温し た後、反応は、１５０μＬのＡＧｌ×８樹脂を９００ｍＭの蟻酸塩ナトリウム緩 衝液、ｐＨ３．０に追加（１体積樹脂に対し２体積緩衝液）することによって停 止された。混合物は、ピペッティングと３回混合され、樹脂は沈殿させられた。 浄化された溶液の全部で５０μＬの上部の体積は、反応ウェルからマイクロライ ト−２プレートに転移される。１５０μＬのマイクロシンチ４０がマイクロライ トプレートの各ウェルに加えられ、プレートは、シールされ、混合され、カウン トされる。 ＴＮＦ細胞検定ヒト末梢血単核細胞の分離方法： ヒト全血は、抗凝固物質としてＥＤＴＡを含む減圧管に収集された。血液サン プル（７ｍＬ）は、１５ｍＬ丸底型遠心管の中の５ｍＬ ＰＭＮ細胞分離媒質(R obbins Scientific)の上に慎重に重ねられた。サンプルは、室温のスイングロー ター内で３０乃至３５分間、４５０乃至５００ｇで遠心分離された。遠心分離後 、細胞の上部帯は除去され、ＰＢＳ ｗ／ｏカリウム又はマグネシウムで３回洗 浄された。細胞は、２００万セル／ｍＬの濃度でマクロファージ無血清媒質(Gib co BRL)中で再懸濁された。 ヒトＰＢＭのＬＰＳシミュレーション： ＰＢＭセル（０．１ｍＬ、２００万セル／ｍＬ）は、０． １ｍＬ化合物（１ ０−０．４１μＭ、最終濃度）と共に、平底型の９６個のウェルタイタープレー ト内で１時間温置された。化合物は、最初にＤＭＳＯで溶解され、０．１％ＤＭ ＳＯの最終濃度の間にＴＣＭで希釈された。ＬＰＳ（Calbiochem、２０ｎｇ／ｍ ｌ、最終濃度）は０．０１００ｍＬの体積で加えられた。培養は一晩中３７℃で 保温された。上澄みは除去され、ＴＮＦ−ａ及びＩＬｌ−ｂに対しＥＬＩＳＡを 用いて試験された。生存可能性はＭＴＳを用いて分析された。０．１ｍＬの上澄 みが収集された後、０．０２０ｍＬ ＭＴＳが残りの０．１ｍＬ細胞に加えられ た。細胞は２乃至４時間、３７℃で保温され、Ｏ．Ｄ．が４９０乃至６５０ｎＭ で測定された。Ｕ９３７ヒトＨｙｓｔｉｏｃｙｔｉｃリンパ種細胞系統の維持及び分化 Ｕ９３７細胞（ＡＴＣＣ）は、１０％胎児ウシ血清と、１００ＩＵ／ｍＬペニ シリンと、１００μｇ／ｍＬストレプトマイシンと、２ｍＭグルタミン(Gibco) とを含有するＲＰＭＩ１６４０内で増殖された。１００ｍＬ媒質内の５００万個 の細胞は、２０ｎｇ／ｍＬホルボール（phorbol）１２−ミリステート １３− アセテート(Sigma)を用いて、２４時間の温置によって末端単核分化を生じた。 細胞は遠心分離（２００ｇ、５分）により洗浄され、１００ｍＬの新鮮媒質で再 懸濁された。２４乃至４８時間後、セルは収集され、遠心分離され、２００万セ ル／ｍＬの培地媒質内で再懸濁させられた。Ｕ９３７細胞によるＴＮＦ生産のＬＰＳシミュレーション： Ｕ９３７細胞（０．１ｍＬ、２００万セル／ｍＬ）は、０．１ｍ Ｌ化合物（０．００４乃至５０μＭ、最終濃度）と共に、９６個のウェルマイク ロ滴定プレート内に１時間温置された。化合物はＤＭＳＯ内で１０ｍＭ保存溶液 として調製され、培地媒質で希釈され、細胞検定中に０．１％の最終的なＤＭＳ Ｏ濃度を生産した。ＬＰＳ（大腸菌、１００ｎｇ／ｍＬ最終濃度）は０．０２ｍ Ｌの体積で加えられた。４時間３７℃で温置した後、培地媒質に放出されたＴＮ Ｆ−αの量はＥＬＩＳＡによって定量化された。阻害効力はＩＣ５０（μＭ）と して表現される。これらのＴＮＦ細胞検定の結果は表５に示されている。ラット検定 ＴＮＦの産出を阻害する新規化合物の薬効は、ＬＰＳによって抗原投与された ラットに基づくモデルを用いて評価された。雄性ハーレン・ルイス・ラット[Spr ague Dawley Co.]がこのモデルで使用される。各ラットの体重は約３００ｇであ り、試験前には一晩中餌を与えなかった。化合物投与は、典型的に、ＬＰＳ抗原 投与の１乃至２４時間前に経口投与で行われた（勿論、場合によっては、腹腔内 投与、皮下投与、及び、静脈内投与が使用される）。ラットは、尾の静脈を介し て静脈内投与で３０μｇ／ｋｇ ＬＰＳ［サルモネラｔｙｐｈｏｓａ、Sigma Co ．］が投与された。血液は、ＬＰＳ抗原投与の１時間後に心臓穿刺によって収集 された。血清サンプルは、酵素結合免疫吸着検定法（ＥＬＩＳＡ）[Biosource] によるＴＮＦ−αの定量的な分析まで−２０℃で保存された。検定の更なる詳細 は、参考のため本明細書に引用されたPerretti，M.，他によるBr ．J．Pharmacol ． (1993)，110，868-874に記載されている。 マウス検定ＬＰＳ−誘導ＴＮＦα生産のマウスモデル： ＴＮＦ−αは、０．２ｍｌ生理食塩水中の１００ｎｇリポ多糖体(S.Typhosaか ら入手)尾部静脈注射によって生後１０〜１２週間のＢＡＬＢ／ｃ雌性マウスに 導入された。１時間後、マウスは逆行性眼窩洞から出血し、凝固血液からの血清 中のＴＮＦ濃度がＥＬＩＳＡによって定量された。典型的には、血清ＴＮＦのピ ークレベルは、ＬＰＳ注射の１時間後に、２〜６ｎｇ／ｍＬの範囲で変化した。 試験された化合物は、ＬＰＳ注射の１〜６時間前に、０．５％メチルセルロー スと、０．０２５％ Ｔｗｅｅｎ２０の０．２ｍＬ水溶液中の懸濁として、絶食 させられたマウスに対し経口投与された。１時間のプロトコルによって、Ｃｍａ ｘプラズマレベルで化合 物薬効の評価を行うことができ、６時間のプロトコルによって、作用中の化合物 の評価が行われた。薬効は、賦形剤だけが投与されＬＰＳが注射されたマウスに 対する血清ＴＮＦレベルの阻害百分率として各時点で判定された。 上記の検定を用いて得られた更なる結果は、次の表６に列挙される。ｐ３８検 定及びＵ９３７細胞検定の結果は、ＩＣ50（μｍ）として表現される。マウス− ＬＰＳ検定の結果は阻害百分率として表現される。 1ｐ３８α ＰＨＡＳ−Ｉ検定法に基づくインビトロ検定結果2 ｐ３８α ＥＧＦＲＰ検定法に基づくインビトロ検定結果マウスのコラーゲン誘導関節炎の誘発及び評価： 関節炎は、参考のため引用したJ.M．StuartによるCollagen Autoimmune Arthr itis，Annual Rev．Immunol．2:199(1984)に記載された処置に従ってマウスに誘 発される。特に、関節炎は、完全フロイントアジュバント（Sigma）中の５０μ ｇのチックタイプIIコラーゲン（ＣＩＩ）（Dr．Marie Griffiths，Univ．of Ut ah，Salt Lake City，UTによって提供）を生後０日目のＤＢＡ／１ 雄性マウス の尾部に注射することによって生後８〜１２週目のＤＢＡ／１ 雄性マウスに誘 発された。注射容積は１００μＬであった。動物は、生後２１日目に、不完全フ ロイントアジュバント中の５０μｇのＣＩＩ（容積１００μｌ）が追加抗原投与 された。動物は、毎週数回ずつ関節炎の兆候が評価された。足に赤み又は腫れの ある動物は関節炎としてカウントされた。関節炎に罹った足の点数化は、Wooley 他によるGenetic Control of Type II Collagen Induced Arthritis in Mice:Fa ctors Influencing Disease Suspectibility and Evidence for Multiple MHC A ssociated Gene Control.，Trans ．Proc.，15:180（1983）に記載された手順に 従って行われた。発病度の点数付けは、足毎に１から３までの点数を使用して行 われた（マウス一体当たりの最大スコアは１２点である）。指又は足の赤み若し くは腫れの症状がある動物は、１点として点数付けされた。足全体の大きい腫れ 又は変形は、２点として点数付けされた。関節の強直は３点として点数付けされ た。動物は８週間に亘って評価された。グループ毎に８〜１０匹の動物が使用さ れた。化合物の調製及び投与 コラーゲン誘導関節炎を有するマウスに関して試験された化合物は、０．５％ メチルセルロース(Sigma，St.Louis，MO)と、０．０２５％ Ｔｗｅｅｎ２０( Sigma)に懸濁として調製された。化合物懸濁は、０．１ｍｌ ｂ．ｉ．ｄの体積 の経口投与によって投与 された。投与は、コラーゲン注射の２０日後に開始され、５６日目の最終の評価 になるまで毎日継続された。関節炎の足の点数付けは上記の通り行われた。検定 結果は表７に掲載される。 また、本発明には、１個以上の非中毒性の製薬的に許容可能な担体及び／又は 希釈剤及び／又はアジュバント（全体的に担体物質と呼ばれる）、並びに、必要 に応じて他の活性成分と組み合わされた本発明の活性化合物を含む製薬的組成物 のクラスが含まれる。本発明の活性化合物は、適当な経路によって、好ましくは 、かかる経路に適合した製薬的組成物の形で、意図された処置に有効な投与量で 投与することができる。活性化合物及び組成物は、例えば、経口投与、血管内投 与（ＩＶ）、腹腔内投与、皮下投与、筋肉内投与（ＩＭ）又は局所投与される。 経口投与の場合に、製薬組成物は、例えば、タブレット、固い又は柔らかいカプ セル、ロゼンジ、投薬可能な粉末、懸濁若しくは液体の形である。製薬的組成物 は好ましくは、特定の量の活性成分を含有する投薬ユニットの形で作成される。 このような投薬ユニットの例はタブレット又はカプセルである。活性成分は、例 えば、生理食塩水、デキストロース、又は、水が適当な担体として使用される組 成物として注射（血管、筋肉、局所、或いは、ジェット）によって投与してもよ い。組成物のｐＨは、必要に応じて、適当な酸、塩基又は緩衝液を用いて調節さ れる。マニトール及びＰＥＧ４００を含む適当なバルキング、分散、湿潤又は懸 濁用試薬が組成物に含まれる。適当な非経口的組成物は、注射びんに凍結乾燥粉 末を含む無菌固形物質として処方された化合物を含有 する。水溶液は注射の前に化合物を溶解するため加えられ得る。病状を処置する ため投与される本発明による組成物及び／又は化合物の治療的作用化合物の量及 び投薬レジュメは、被検者の年齢、体重、性別、及び、医学的状況と、炎症又は 疾患に関連した炎症の発病度と、投薬の経路及び頻度と、利用される特定の化合 物などの多数の要因に依存するので、多様に変化する。製薬的組成物は、約０． １〜１０００ｍｇの範囲、好ましくは、７．０〜３５０ｍｇの範囲の活性成分を 含有する。１日の適当な投薬量は、体重１ｋｇ当たり焼く０．０１〜１００ｍｇ であり、好ましくは、約０．１ｍｇ／体重１ｋｇから約５０ｍｇ／体重１ｋｇの 範囲であり、より望ましくは、約０．５〜３０ｍｇ／体重１ｋｇである。１日の 投薬は、１日に１乃至４回に分けて投与してもよい。皮膚の症状の場合、１日に ２乃至４回ずつ、本発明の化合物を疾患領域に局所的に投与することが望ましい 。眼、又は、口及び皮膚のようなそれ以外の外部組織の病状の場合、製剤は、た とえば、総量として、重量百分率０．０７５〜３０％、好ましくは、重量百分率 ０．２〜２０％、より好ましくは、重量百分率０．４〜１５％の活性成分を含有 し、好ましくは、局所投与ゲル、噴霧、軟膏若しくはクリームとして、又は、坐 薬として施与される。軟膏として処方される場合、活性成分は、パラフィン、若 しくは、水混和性軟膏ベースと共に利用される。或いは、活性成分は、水中油型 軟膏ベースと共にクリームに配合される。望まれるならば、クリームベースの水 相は、たとえば、少なくとも重量百分率３０％の、プロピレングリコール、ブタ ン−１，３−ジオール、マニトール、ソルビトール、グリセロール、ポリエチレ ングリコール、及び、それらの混合物のような多価アルコールを含む。局所投与 製剤は、望ましくは、活性成分の皮膚或いはその他の損傷領域への吸収若しくは 浸透を高める化合物を含む。このような皮膚浸透促進剤の例には、ジメチルスル ホキシドと、関連した類似体が含まれる。本発明の化合物は、皮膚貫通デバイス によって投与 されてもよい。好ましくは、局所投与は、レザーバー及び多孔性膜タイプ、又は 、固体マトリックス変種の何れかのパッチを用いても行われる。何れの場合でも 、活性薬は、レザーバー又はマイクロカプセルから膜を通して活性薬透過性絆創 膏に連続的に出され、この絆創膏が被移植者の皮膚又は粘膜と接触する。活性薬 が皮膚を通じて吸収された場合、活性薬の制御され、予め決められた流れが被移 植者に投与される。マイクロカプセルの場合に、被包された薬は膜として機能す る。皮膚貫通パッチは、アクリルエマルジョンのような接着系と、ポリエステル パッチと共に化合物を適当な溶媒系に含む。本発明のエマルジョンの油相は従来 の方法で公知の成分から作られる。この油相は乳化剤だけにより構成されても構 わないが、少なくとも１種類の乳化剤と、脂肪若しくは油、又は、脂肪と油の両 方との混合物を含む。好ましくは、親水性乳化剤が、安定剤として作用する脂肪 親和性乳化剤と共に含まれる。また、油と脂肪の両方を含む方が好ましい。安定 剤を含む乳化剤又は安定剤を含まない乳化剤は、共に、所謂乳化ろうを構成し、 ろうは、油及び脂肪と共に所謂乳化軟膏ベースを構成し、クリーム製剤の油性分 散相を形成する。本発明の製薬で使用するため適する乳化剤及び乳化安定剤は、 特に、Ｔｗｅｅｎ６０と、Ｓｐａｎ８０と、セトステアリルアルコールと、ミリ スチルアルコールと、モノステアリン酸グリセリンと、ラウリル硫酸ナトリウム とを含む。製薬的エマルジョン製薬に使用されるであろう殆どの油における活性 化合物の溶解性は非常に低いので、製薬のための適当な油又は脂肪の選択は、望 ましい化粧品特性を実現するかどうかに基づいて行われる。かくして、クリーム は、好ましくは、非グリース性、非染色性、かつ、洗浄可能な生産物であって、 チューブ又はその他の容器から漏れないように適当な粘稠度を備えている。アジ ピン酸ジイソエステル、ステアリン酸イソセチルエステル、ココナッツ脂肪酸の プロピレングリコールジエステル、ミリスチン酸イソプロピルエステル、オレイ ン酸デシルエ ステル、パルミチン酸イソプロピルエステル、ステアリン酸ブチルエステル、パ ルミチン酸２−エチルヘキシルエステル、若しくは、分岐鎖エステルの混合物の ような直鎖又は分岐鎖の一塩基又は二塩基アルキルエステルを使用してもよい。 これらは、単独で使用してもよいが、必要とされる特性に依存して組み合わせて 使用してもよい。或いは、白いソフトなパラフィン及び／又は液体パラフィン、 又は、他の鉱物油のような高い融点の脂質を使用してもよい。眼に対する局所投 与に適した製薬は、活性成分が適当な担体溶解又は懸濁した点眼剤、特に、活性 成分の水溶液である。抗炎症活性成分は、好ましくは、０．５〜２０％、有利に は０．５〜１０％、特に、約１．５％重量百分率の濃度で製薬内に存在する。治 療目的のため、この組成物の活性化合物は、通常、指示された投与の経路に適し た１個以上のアジュバントと合成される。経口投与される場合、化合物は、乳糖 、ショ糖、でんぷん粉末、アルカン酸のセルロースエステル、タルク、ステアリ ン酸、ステアリン酸マグネシウム、酸化マグネシウム、リン酸及び硫酸のナトリ ウム塩及びカリウム塩、ゼラチン、アカシアゴム、アルギン酸ナトリウム、ポリ ビニルピロリドン、及び／又は、ポリビニルアルコールと混合され、投与の便宜 上、錠剤化、或いは、カプセル化される。このようなカプセル又は錠剤は、活性 化合物のヒドロキシプロピルメチルセルロース中の分散に得られるような制御放 出形製剤を含む。非経口的投与用の製剤は、水溶性若しくは非水溶性の等張無菌 注射溶液又は懸濁液の形でもよい。これらの溶液若しくは懸濁液は、経口投与用 の製薬に使用された上記の１種類以上の担体若しくは希釈剤を有する無菌粉末又 は顆粒から調製される。化合物は、水、ポリエチレングリコール、プロピルング リコール、エタノール、コーン油、綿実油、ピーナッツ油、ごま油、ベンジルア ルコール、塩化ナトリウム、及び／又は、種々の緩衝液で溶解する。他の投与の アジュバント及びモードでもよく、製薬技術分野で広く知られている。 本明細書に列挙されているすべての特許明細書は参考のため組み込まれる。 上記通り、特定の実施例に関して本発明の説明がなされているが、これらの実 施例の詳細は本発明を制限するように解釈されるべきではない。 例Ｂ−ｉ、Ｂ−ｉｉ及びＢ−ｉｉｉの化合物を合成するため利用されたパラレ ルアレイ合成方法の説明 スキームＢ−１は、例Ｂ−０００１からＢ−１５７４までの化合物を合成する ため利用され、類似したものが例Ｂ−１５７５からＢ−２２６９までの化合物を 合成するため使用され得るパラレルアレイ反応ブロックを説明するスキームであ る。パラレル反応は、マルチチャンバ反応ブロックで行われた。典型的な反応ブ ロックは、４８個のパラレル反応を実行することができ、固有の化合物が各反応 容器Ｂ１で随意的に合成される。各反応容器Ｂ１は、ポリプロプレイン又はパイ レックスガラスから作られ、容器のベースに向かってフリットＢ２を収容する。 各反応容器は、ルアーロックアタッチメント（leur-lock attachment）又はねじ 付接続部を介して反応ブロックバルブ組立板Ｂ３に接続される。各容器バルブＢ ４は、ルアーロック位置を制御することにより、或いは、バルブ組立体板に並べ られたレバーＢ５を開閉することにより開閉される。選択的に、バルブを開位置 のままにしておくこと、或いは、挿入ガス入口バルブＢ６空の挿入ガス流を制御 してバルブ組立体板の下側で背圧を制御することにより、溶液は、排出され、或 いは、容器フリットの上に保たれる。これらの反応ブロックで行われるパラレル 反応は、包被された温度制御振とう(shaking)ステーション内で温置することに より進行させられる。反応室の温度制御は、熱伝達液体を、反応ブロック外装Ｂ ７と接触した包被アルミニウム板の間に通すことによって行われる。混合は、直 立した反応ブロックの縦軌道振とう(orbital shaking)、或いは、側方に傾けら れた反応ブロックの横方向振とうによって振とうステーションで行われる。 機能性樹脂が、反応の途中、或いは、反応の終了時点で反応容器Ｂ１に選択的 に加えられる。これらの機能性樹脂は、各反応容器生成物の急速精製を可能にさ せる。真空バルブＢ８を開くことによる 反応ブロック措置の真空濾過は、精製された生成物を捕捉された非生成物種の樹 脂から分離させる。バルブＢ８は、４個の収集ガラス瓶ラックＢ１１を収容する 反応ブロック室１０の底に設けられる。望ましい生成物は、個別の収集ガラス瓶 Ｂ９に濾液として得られる。これらの収集ガラス瓶からの溶媒の除去により所望 の生成物が得られる。 スキームＢ−２には、フリット付容器Ｂ１から収集ガラス瓶Ｂ９に濾過する前 に各反応容器生成物Ｂ２２を精製する機能性樹脂の種々の利用法が示されている 。機能性樹脂は、１）樹脂結合試薬副生物を生じる樹脂結合試薬Ｂ１２として機 能し、２）過剰な溶液相試薬Ｂ１６又はＢ１７の捕捉(sequestration)剤Ｂ１４ 又はＢ１５として機能する。溶液相反応物Ｂ１６及びＢ１７は、固有反応性機能 −ｒｆ1及び−ｒｆ2を含み、樹脂Ｂ１４及びＢ１５にある相補的反応性機能−Ｃ ｒｆ1及び−Ｃｒｆ2によって化学的選択性捕捉を実現する。また、機能性樹脂は 、３）溶液相副生物Ｂ１９の捕捉剤Ｂ１８として機能する。副生物Ｂ１９は分子 認識機能−ｍｒ2を有し、樹脂Ｂ１８にある相補的機能によって化学的選択性捕 捉を実現する。機能性樹脂は、４）反応クエンチ樹脂Ｂ２０として機能し、クエ ンチ樹脂Ｂ２１を生する。樹脂Ｂ２０は、生成物Ｂ２２の所望の同位標識可能形 式を形成するため、生成物Ｂ２２の反応クエンチ（たとえば、プロトン転送）を 媒介する機能−Ｑを含む。反応クエンチの実行時、受信Ｂ２０は樹脂Ｂ２１に変 換され、−ｑは樹脂Ｂ２１上の廃機能を表わす。機能性樹脂は、５）化学的標識 試薬Ｂ２４と対応した試薬副生物Ｂ２５の捕捉剤Ｂ２３として機能する。可溶性 試薬Ｂ２４は二官能化学基−ｔａｇを含み、二官能化学基−ｔａｇはこの反応条 件に対し不活性であるが、樹脂Ｂ２３にある相補的機能−ＣｔａｇによってＢ２ ４の反応後、捕捉を行うため使用される。さらに、反応の途中で形成された可溶 性試薬副生物Ｂ２５は、樹脂Ｂ２３による金属イオン封鎖と同じ捕捉が行われ得 る同じ化学的機能−ｔａｇを含む。また、一部の反応物Ｂ１６、特に、立体障害 試薬及び／又は電子欠損求核基は、捕捉可能な機能を僅かに有する（本例の場合 、ｒｆ1は僅かに捕捉可能な機能である）。これらの僅かに捕捉可能な反応物Ｂ １６は、捕捉可能試薬Ｂ２６との反応によって、より強固に捕捉可能な種にその 場で変換され得る。Ｂ２６は非常に反応性のある相補的機能Ｃｒｆ1を有し、そ の場でＢ ２７を形成するためＢ１６と反応する。Ｂ２６に含まれる二官能分子認識機能ｍ ｒは、その場で誘導物Ｂ２７に存在する。Ｂ２６及びＢ２７は、共に、樹脂Ｂ２ ８にある相補的分子認識機能によって捕捉される。同様に、一部の反応は僅かに 捕捉可能な副生物Ｂ１９を含み、一方、本例の分子認識機能ｍｒ2は、樹脂Ｂ１ ８にある相補的機能によってＢ１９の直接的な捕捉を媒介し得ない。二官能の捕 捉可能試薬Ｂ２９を同様に用いることにより、Ｂ１９がより容易に捕捉可能な種 Ｂ３０に変換される。Ｂ３０に与えられた分子認識機能ｍｒは、Ｂ３１にある相 補的機能Ｃｍｒによって容易に捕捉される。一部の反応では、多数の捕捉樹脂が 反応物精製を行うため同時に利用される。不和合性（相互反応性）官能基を含む 樹脂であっても、これらの樹脂は、相補的機能性溶液相反応物、試薬、又は、樹 脂交差中和よりも速い溶液相からの副生物を純化するので、同時に利用すること ができる。同様に、相互反応性機能又は中和反応クエンチ機能を有する樹脂は、 溶液相反応物、生成物、又は、樹脂交差中和よりも速い副生物をクエンチするこ とができる。 スキームＢ３には、例Ｂ０００１からＢｘｘｘｘまでの化合物を合成するため 利用されたモジュール形自動（ロボット）実験室環境が説明されている。自動実 験室で利用された化学薬品は、重量測定され、ステーション＃１（自動化学合成 ステーション）で溶媒中に溶解若しくは懸濁される。モル濃度がわかっている溶 液又は懸濁液は、別の自動作業ステーションで使用するため合成される。ステー ション＃１は、選択的に各化学溶液にバーコード標識を付け、これにより、この ステーション又は他の自動ステーションでバーコードを操作することによって化 学溶液の正体が読み取られる。 反応は、モジュールステーション＃２及び＃２ＤＵＰで始められる。ステーシ ョン＃２ＤＵＰは、ステーション＃２の複製として定義され、自動実験室内の容 量を増加させるため使用される。また、反応物、試薬、溶媒及び樹脂スラリーを 収容するラックは、ステーション＃２又は＃２ＤＵＰに取り付けられる。化学的 情報マッピングファイルの制御下で、反応は、反応物溶液、試薬溶液、溶媒、及 び／又は、樹脂スラリーを取り付けられた各反応ブロック容器に移すことにより 始められる。体積がわかっている溶液、懸濁液、又は、溶媒の移転は、注射器を 用いて行われ、注射器は、隔壁ピアシング（piercing）／アルゴン除去用の１個 のカニューレと、口径の広い樹脂スラリー分散用カニューレと、或いは、６個の 反応容器の列に同時に体積を送ることができる６個のカニューレとを制御する。 反応ブロック及び／又は化学溶液ラックは、化学溶液移転動作中に選択的に室温 以下に冷却される。この化学溶液及び溶媒がステーション＃２又は”２ＤＵＰに よって移された後、反応ブロックの保温は、反応ブロックが自動ステーションに 取り付けられたいる間に行われる。好ましくは、反応ブロックは、すべての体積 転送が終了し、反応ブロックが外界温度になった後、取り除かれる。反応ブロッ クは、オフラインで縦方向又は横方向振とうインキュベーション装置ステーショ ン＃５の何れかに移される。 自動重量測定／記録ステーション＃３は、（収集ガラス瓶の自重を得るため） 空の収集ガラス瓶の重量測定の機能を実行し、（収集ガラス瓶の総重量を得るた め）濾過、精製された生成物を含む収集ガラス瓶の重量測定の機能を実行する。 生成物含有収集ガラス瓶がステーシヨン＃３で重量測定された後（総重量が判定 された後）、収集ガラス瓶生成物は、作業ステーション＃３で選択的に、有機溶 媒に再溶解される。溶媒の移送は、取り付けられた１個の隔壁ピアシング／アル ゴン除去用カニューレを制御する注射器によって行われる。各生成物収容用収集 ガラス瓶は、化学情報システムによって指示、記録されるようなモル濃度がわか っている溶液に応じて準備される。これらの生成物溶液は、次に、反応工程のた めステーション＃２又はステーション＃２ＤＵＰに取り付けられ、或いは、分析 的処理のためステーション＃７又は＃７ＤＵＰに取り付けられる。 生成物収容用ガラス瓶の急速溶媒蒸発は、収集ラックをSavant自動溶媒蒸発ス テーション＃４、＃４ＤＵＰ、＃４ＴＲＩＰに取り付けることにより行われる。 ＃４ＤＵＰ及び＃４ＴＲＩＰステーションは、自動実験室内で溶媒除去のための 容量を増加させるため２番目及び３番目のステーション＃４として定義されてい る。市販されている溶媒除去ステーションは、Savant Companyのモデル#RVT4104 蒸気トラップ（vapor trap）と、モデル#VN100ベイパーネットクリオポンプ（va pornet cryopump）とを具備したモデル#SC210Aスピードバックユニット（Speedv ac unit）である。 ステーション＃７及び＃７ＤＵＰは分析的処理機能を実行する。ステーション ＃７ＤＵＰは、自動実験室内の容量を増加させるため、ステーション＃７の複製 として定義される。生成物収容用収集ラックは、何れかのステーションに取り付 けられる。各生成物収容用収集ガラス瓶は、化学情報マッピングファイルによっ て指示、記録されるようなモル濃度がわかっている溶液に応じて準備される。選 択的に、この溶解機能は、上記の通り、ステーション＃３で収集ガ ラス瓶ラックを先に処理することによって行われる。化学情報マッピングファイ ルの制御下で、ステーション＃７又は＃７ＤＵＰは、各生成物ガラス瓶のアリコ ートを、分析析的判定を行うため利用される個別の識別可能なマイクロ滴定プレ ートウェルに移す。これらの生成物溶液は、次に、反応工程のためステーション ＃２又はステーション＃２ＤＵＰに取り付けられ、或いは、分析的処理のためス テーション＃７又は＃７ＤＵＰに取り付けられる。 このようなマイクロ滴定プレートの一つは、次に、自動ＨＰＬＣ／質量分析計 ステーション＃８又は＃８ＤＵＰで利用するため、ステーション＃７又はステー ション＃７ＤＵＰに準備される。ステーション＃８ＤＵＰは、自動実験室内の容 量を増加させるため、ステーション＃８の複製として定義される。ステーション ＃８及び＃８ＤＵＰは、ヒューレッドパッカードから入手可能な(HP1100 MSD(G1 946A)質量分析計に接続されたモデルHP1100 HPLC)市販されているベンチトップ ＬＣ／質量分析ユニットである。このユニットには、モデル#G1322Aソルベント デガッサー（solvent degasser）と、モデル#G1312Aバイナリーポンプ（binary pump）と、モデル#G1316Aカラムヒータ（column heater）と、モデル#G131ダイ オードアレイ検出器とが設けられる。このＨＰユニットは、市販されている自動 サンプラ・ラック(Gilson Company#215オートサンプラー)と接続する。ステーシ ョン＃８又は＃８ＤＵＰは、高性能液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）と、対を なす分子量判定のための大気圧化学電離（ＡＰＣＩ）又はエレクトロスプレー質 量分析を実行することにより、生成物純度を判定し同定するため利用される。 別のマイクロ滴定プレートは、ステーション＃７又は＃７ＤＵＰで調製され、 次に、市販されているフロー・プローブ・バリアント（Varian）ＮＭＲ分光計ス テーション＃１０(市販されているGilson 215オートサンプラーと接続されたヴ ァリアントインストルメン ト フロープローブ NMR，300MHz)で利用される。陽子、13Ｃ、19ＦのＮＭＲス ペクトルがこのステーション＃１０で判定される。 別のマイクロ滴定プレートは、生物学的検定用のプレートを含む生成物を調製 する目的でステーション＃７又は＃７ＤＵＰに取り付けられる。生成物収容用収 集ガラス瓶のアリコートは、化学情報マッピングファイルの制御下で生物学的検 定マイクロ滴定プレートに移される。転送された各生成物の正体及び量は化学情 報システムに記録され、これらの生成物の生物学的検定を行う生物学者により利 用される。 フーリエ変換赤外線（ＦＴ−ＩＲ）分光計ステーション＃１１は、有機官能基 が化学的に付着された樹脂を分析するため利用される。これらの樹脂は、上記の 通り、反応物ブロック容器内に収容された粗製生成物混合物の後処理及び純化の ための試薬、化学的選択性捕捉、又は、反応物クエンチ媒質として利用される化 学機能を含む。自動実験室は、ニコレーインストルメント（Nicolet Instrument s）から購入された市販されているＦＴ−ＩＲ分光計(樹脂装着及び位置決め用の InspectIR顕微鏡と接続されたモデル#MagnaIR 560)を使用する。 スキームＢ−３ モジュールステーションを相互接続する線は、化学ラック、反応物ブロック、 及び／又は、収集ガラス瓶ラックがモジュールステーション間で転送されること を意味する。 ChemLib ITシステムは、クライアントのデスクトップで動作するソフトウェア と、遠隔サーバーで動くソフトウェアとの複合体である。 ChemLib ITシステムは、上記の自動実験室におけるデータ処理フローを支援し 、記録するクライアント／サーバー・ソフトウェアアプリケーションである。こ のITシステムは、化学者と自動合成実験室とを一体化し、この処理によって生成 されたデータを管理する。 サーバーで動作するソフトウェアは、自動化学合成ユニットのすべての電子デ ータを保管する。このサーバー、たとえば、シリコン グラフィックスIRIXステーションv6.2は、データベースソフトウェア オラクル ７ v7.3.3.5.0を動かし、データを保管する。クライアントのデスクトップから サーバーへの接続は、オラクルTCP/IPアダプターv2.2.2.1.0及びSQL*Net v2.2.2 .1.0Aによって行われる。SQL*Netは、クライアントのデスクトップで動作するア プリケーションがオラクルのデータベースにアクセスさせ得るオラクルのネット ワークインタフェースである。クライアントのデスクトップは、Microsoft Wind ows 95である。ChemLib ITシステムのクライアントソフトウェアは、0mnis７ v3 .5と、Microsoft Visual C++v5.0とにより構成される。このクライアント側の複 合体は、ChemLibと呼ばれる。ChemLibは、サーバーとの間で、オラクルPL/SQLv2 .3.3.4.0を用いてこのデータの通信を行う。ChemLib内でのPL/SQL呼び出しは、O racle SQL*Netドライバへのネットワークソケットコネクションを作成し、TCP/ IPアダプターはサーバー上のデータへのアクセスを許可する。 ライブラリは、ウェルの合成数として定義され、各ウェルは単一の化合物を定 める。ChemLibは、電子スプレッドシートと呼ばれるモジュールにライブラリを 定義する。電子スプレッドシートは、各ウェルに存在する化合物を合成するため 要求される成分を含むｎ個のウェルの複合体である。 化学者は、電子スプレッドシートを化合物合成に必要な成分で埋めることから 始める。これらの成分の正体及び利用可能性は、ChemLibのブロック構築カタロ グモジュールに定義される。ブロック構築カタログは、自動実験室で利用可能な すべての試薬、溶媒、周辺機器の一覧を掲載したカタログである。各化合物に対 する成分を選択したとき、利用されるべき各成分の量を明らかにする。各成分の 量は、モル濃度及び体積量（μｌ）、又は、固体状態形（ｍｇ）によて識別でき る。したがって、電子スプレッドシート内のウェルは、成分と、各成分の量とに よって識別された化合物を定義する。 電子スプレッドシート内の各化合物に対するこれらの成分の集合又は合成は、 ChemLibのＷＳシーケンスモジュールに定義される。ＷＳシーケンス定義モジュ ールは、自動作業ステーションで行われるべき合成工程と、手動、若しくは、自 動作業ステーションに繋がっていない状態で実行されるべき行動とを識別する。 このモジュールを用いることによって、電子スプレッドシートに由来する成分と 、自動実験室内でこの成分を用いて実行されるべき活動とを区別する。ＷＳシー ケンス定義モジュールにおいて、化学者は自動実験室で行われるべき活動のリス トから活動を選択し、行われるべき順番にその活動を組み立てる。ChemLibシス テムは、識別された活動の組を選択し、電子スプレッドシート内の成分データを 用いて、これらの命令を組み立て、自動作業ステーションが使用する用語に再フ ォーマットする。自動化の用語は共通サーバーのシーケンスファイルに格納され 、自動作業ステーションからアクセスすることができる。 自動作業ステーションは、上記の反応ブロック装置内で合成を行う。電子スプ レッドシート内の各ウェルは追跡され、自動作業ステーション上の反応ブロック 装置内の固有の場所に割り当てられる。反応ブロック内の自動作業ステーション で合成された化合物又は生成物は、収集ガラス瓶に捕捉される。 収集ガラス瓶は、最初に自重測定され、次に、反応ブロックから生成物を集め た後に、自動作業ステーションで総量測定される。これらの重量（自重及び総量 ）は、自重／総量セッションモジュールを用いてChemLibシステムに記録される 。自重／総量セッションモジュールは、生成物又は化合物生産量と、最終的な質 量とを計算する。 分析的な分析及びスクリーニングは、ChemLibの分析的ＷＳセットアップモジ ュールによって定義される。分析的ＷＳセットアップモジュールは、化合物の生 産量と所望のモル濃度とに基づいて、電 子スプレッドシート内の各ウェル毎に希釈率を識別する。これは、自動作業ステ ーションで、分析及び／又は生物学的検定のため送られるべきＭＴＰ（マイクロ 滴定プレート）上の特定の場所に移されるべき量をμＬ単位で同定する。各ウェ ル語との質量分析及びＨＰＬＣの結果は、ChemLibシステムに記録され、保存さ れる。 希釈／記録ＷＳモジュールは、さらに、登録処理の一部として長期記憶及び保 管のため、電子スプレッドシートからの化合物のウェルを特定のＭＸブロック場 所に割り当てることにより、各化合物を同定する。 ChemLibと自動作業ステーションとの間のすべての通信は、ＡＳＣＩＩファイ ルで行われる。これらのファイルは、自動作業ステーションによるアクセスが可 能なChemLibシステムによってサーバーに置かれる。自動作業ステーションによ り生成されたリポートはサーバーに置かれ、ChemLibシステムは、生成されたデ ータを記録するためこれらのファイルを読むことかできる。各自動ワークステー ションは、Bohdan Automation，Inc．Mundelein，Illinoisのロボットハードウ ェアと、Workgroup v3.11用のMicrosoft Windows及びイーサネットソフトウェア を実行する現行のＰＣとを含む。自動作業ステーションＰＣは、作業ステーショ ンがファイルアクセスだけのためサーバーにアクセスできるように１方向通信用 のネットワークに入れられる。 一般的なスキームＢ４ Ｒ4置換基に含まれた第一級アミンをもつスカホールドＣ−ｉは、空間的に配 置が決められたパラレルアレイ反応ブロック容器内で、過剰な求電子試薬ＲJ− Ｑと反応し、ここで、Ｑは、塩素、臭素、又は、非制限的にＮ−ヒドロキシスク シンイミドを含む酸活性基である。ＲJ−Ｑは、酸塩化物、アルキルクロロホル メート、スルホン酸塩化物、カルボン酸の活性エステル、活性カルバメート、及 び、イソシアネートを含む。ＲJ−ＱをもつスカホールドＣ−ｉの反応は、極性 非プロトン性溶媒及び／又はハロゲン化溶媒の混合物内に室温で第三級アミン塩 基が存在するときに行われる。スキームＢ−４に示されるように、一般的な化学 式Ｂ−ｉの生成物は、反応しない第一級アミンスカホールドＣ−ｉを樹脂結合ア ダクトＢ３５として共有的に捕捉するカルボニル機能性樹脂Ｂ３２の添加、並び に、残留求電子試薬ＲJ−Ｑを樹脂結合アダクトＢ３４として各反応混合物から 金属イオン封鎖する第一級アミン機能性樹脂Ｂ３３の添加によって、精製された 形で分離される。樹脂Ｂ３３は、また、溶液相塩基−ＨＱからのプロトン移動に よって、ＨＱ副生物を反応混合物から金属イオン封鎖する。室温での温置、濾過 、樹脂ケークの水洗、及び、濾液の濃縮は、樹脂結合アダクトＢ３２、Ｂ３３、 Ｂ３４、Ｂ３５及びＢ３６から取り除かれた精製生成物Ｂ−ｉを生じる。 スキームＢ−５は、特に、パラレルアレイ合成形式で所望の生成物Ｂ−ｉを産 出するため第一級アミン含有スカホールドＣ１の誘導を示す。パラレルアレイ合 成反応ブロックにおいて、個別の反応生成物が空間的に配置か決められた形式で 多数の反応ブロック容器の各容器毎に合成される。ジメチルホルムアミド（ＤＭ Ｆ）中の所望の第一級アミン含有スカホールドＣ１（制限量）が反応容器に加え られ、次いで、ＤＭＦ中の４．０倍の化学量論的に過剰なＮ−メチルモルホリン が加えられた。各反応容器には、次に、ＲJ−Ｑが酸塩化物又はアルキルクロロ ホルメートのときには、２．０倍の化学量論的に過剰な求電子試薬が加えられ、 ＲJ−Ｑがスルホン酸塩化物のときには、１．５倍の化学量論的に過剰な求電子 試薬が加えられ、ＲJ−Ｑがイソシアネートのときには、１．２５倍の化学量論 的に過剰な求電子試薬が加えられる。スカホールドＣ１が、化学量論的に過剰な 求電子試薬及びＮ−メチルモルホリンを利用しない反応物よりも急速及び／又は 完全に生成物Ｂ−０００１〜Ｂ−００４８に変換されるように、過剰な求電子試 薬及びＮ−メチルモルホリンが使用された。反応混合物は２〜３時間外界温度で 保温された。各反応容器は、非常に過剰（１５−２０倍の化学量論的な過剰）の アミン機能性樹脂Ｂ３３が充填され、次に、アルデヒド機能性樹脂Ｂ３２が充填 された。樹脂充填反応ブロックは、樹脂含有容器混合物の最適な攪拌を行うため 、室温の軌道振とう機（orbital shaker）上で１４〜２０時間垂直方向に振とう された。過剰な求電子試薬ＲJ−Ｑ及び反応しないスカホールドアミンＣ１は、 反応媒質からそれぞれ不溶性アダクトＢ３４及びＢ３７として除去される。また 、反応の過程で形成されたＮ−メチルモルホリン塩酸塩は、アミン機能性樹脂Ｂ ３３へのプロトン移動によって遊離塩基に中和される。不溶性樹脂アダクトＢ３ ２、Ｂ３３、Ｂ３４、Ｂ３６及びＢ３７の簡単な濾過と、樹脂ケークのジクロロ エタンによる洗浄と、濾液の蒸発とは、精製された形式で望ましい生成物Ｂ−ｉ を生ずる。 スキームＢ−６には、Ｒ4置換基の定義内に第二級アミン官能基を含有するス カホールドＣ−ｉｉのパラレルアレイ反応を含む一般的な合成方法が示されてい る。各反応容器は第二級アミン含有スカホールドＣ−ｉｉで充填され、次に、化 学量論的に過剰な選択的に固有の求電子試薬ＲL−Ｑが各容器に挿入される。こ こで、Ｑは、炭素、臭素、又は、非制限的にＮ−ヒドロキシスクシンイミドを含 む酸活性基である。ＲL−Ｑは、酸塩化物と、アルキルクロロホルメートと、ス ルホン酸塩化物と、カルボン酸の活性エステルと、活性カルバメートと、イソシ アネートとを含む。スカホールドＣ−ｉｉのＲL−Ｑとの反応は、極性非プロト ン性溶媒及び／又はハロゲン化溶媒の混合物内に室温又は上昇温度で第三級アミ ン塩基が存在する条件で行われる。各容器に粗生成物の混合物を生じさせるため 溶液相反応が進行された後、生成物Ｂ−ｉｉは、樹脂結合アダクトＢ３９として 残留第二級アミンスカホールドＣ−ｉｉを共有的に捕捉するイソシアネート機能 性樹脂Ｂ３８の追加、並びに、樹脂結合アダクトＢ４０として残留求電子試薬ＲL −Ｑを各反応容器から共有的に捕捉する第一級アミン機能性樹脂Ｂ３３の追加 によって精製された形で分離される。樹脂Ｂ３３は、また、溶液相塩基−ＨＱか らのプロトン移動によて形成されたＢ３６として各容器内のＨＱ副生物を捕捉す る。これらの樹脂による保温の次に、並列的、若しくは、順次的に、濾液の濾過 、水洗、濃縮が行われ、樹脂アダクトＢ３３、Ｂ３６、Ｂ３８、Ｂ３９及びＢ４ ０から濾過によって除かれた精製された生成物Ｂ−ｉｉが得られる。 スキームＢ−７には、第二級アミン含有スカホールドＣ−２の所望の生成物Ｂ −ｉｉへの変換が示されている。パラレルアレイ合成反応ブロックにおいて、個 別の反応生成物が４８個の多数の反応ブロック容器で合成される。スカホールド Ｃ−２（制限量）のジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中の溶液は、反応容器に加 えられ、続いて、ＤＭＦ中の４．０倍の化学量論的に過剰なＮ−メチルモルホリ ンの溶液が加えられた。次に、各反応容器には、求電子試薬ＲJ−Ｑがジクロロ エタン（ＤＣＥ）溶液として加えられる。すなわち、ＲJ−Ｑが酸塩化物又はア ルキルクロロホルメートのときには、２．０倍の化学量論的に過剰な量が加えら れ、ＲJ−Ｑがスルホン酸塩化物のときには、１．５倍の化学量論的に過剰な量 が加えられ、ＲJ−Ｑがイソシアネートのときには、１．２５倍の化学量論的に 過剰な量が加えられる。反応混合物は２〜６時間外界温度で保温された。各反応 容器は、非常に過剰（化学量論的に１５−２０倍過剰）のアミン機能性樹脂Ｂ３ ３及びイソシアネート機能性樹脂Ｂ３２が充填された。樹脂充填反応ブロックは 、樹脂含有容器混合物の最適な攪拌を行うため、室温で軌道振とう機によって１ ４〜２０時間垂直方向に振とうされた。過剰な求電子試薬ＲJ−Ｑ及び反応しな いスカホールドアミンＣ２は、反応媒質からそれぞれ不溶性アダクトＢ４０及び Ｂ３９として除去される。樹脂Ｂ３３は、溶液相塩基−ＨＱからのプロトン移動 により形成されたＢ３６として、各容器内でＨＱ副生物を金属イオン封鎖する。 これらの樹脂による保温の次に、ＤＭＦ及び／又はＤＣＥの溶媒混合物による濾 過、水洗が行われ、樹脂アダクトＢ３３、Ｂ３６、Ｂ３８、Ｂ３９及びＢ４０か ら濾過によって除かれた収集ガラス瓶に精製された生成物溶液が得られる。濾液 の濃縮により精製生成物Ｂ−ｉｉが得られる。 スキームＢ−８には、Ｒ4置換基の定義内に第二級アミン官能基を含有するス カホールドＣ−ｉｉのパラレルアレイ反応を含む一般的な合成方法が示されてい る。各反応容器は第二級アミン含有スカホールドＣ−ｉｉで充填され、次に、化 学量論的に過剰な選択的に固有の求電子試薬ＲL−Ｑが各容器に挿入される。ス カホールドＣ−ｉｉのＲL−Ｑとの反応は、ポーラー非プロトン性溶媒及び／又 はハロゲン化溶媒の混合物内に室温又は上昇温度で第三級アミン塩基が存在する 条件で行われる。 スカホールドＣ−ｉｉが、化学量論的に過剰な求電子試薬及びＮ−メチルモル ホリンを利用しない反応物よりも急速及び／又は完全に生成物Ｂ−ｉｉを生成す るように、過剰な求電子試薬及びＮ−メチルモルホリンが使用された。反応混合 物は２〜８時間外界温度で保温された。各反応容器は捕捉可能試薬フェニルスル フォニルイソシアネートＢ４１で充填される。この試薬Ｂ４１は残留第二級アミ ンスカホールドＣ−ｉｉと反応し、Ｃ−ｉｉを原位置にある誘導化合物Ｂ４２に 変換する。次に、上記容器は、非常に過剰（１５−２０倍の化学量論的な過剰） のアミン機能性樹脂Ｂ３３による保温によって、樹脂結合アダクトＢ４０、Ｂ３ ６、Ｂ４４及びＢ４３として、溶液相種ＲJ−Ｑ、ＨＱ、Ｂ４１及びＢ４２を捕 捉する。樹脂充填反応ブロックは、樹脂含有容器混合物の最適な攪拌を行うため 、外界温度の軌道振とう機上で１４〜２０時間垂直方向に振とうされた。不溶性 樹脂アダクトＢ３３、Ｂ３６、Ｂ４０、Ｂ４３及びＢ４４の濾過と、引き続く、 ＤＭＦ及び／又はＤＣＥによる容器樹脂ベッドの水洗によって、精製生成物Ｂ− ｉｉを含む濾液が得られる。濾液の濃縮によって精製生成物Ｂ−ｉｉが産出され る。樹脂ケークのジクロロエタンによる洗浄と、濾液の蒸発とは、精製された形 式で望ましい生成物Ｂ−ｉを生ずる。 スキームＢ−９には、スカホールドＣ−２を使用するスキームＢ−８の方法が 示されている。スカホールドＣ−２（制限量）のジメチルホルムアミド（ＤＭＦ ）中の溶液は、反応容器に加えられ、続いて、ＤＭＦ中の４．０倍の化学量論的 に過剰なＮ−メチルモルホリンの溶液が加えられた。次に、各反応容器には、求 電子試薬ＲJ−Ｑがジクロロエタン（ＤＣＥ）溶液として加えられる。すなわち 、ＲJ−Ｑが酸塩化物又はアルキルクロロホルメートのときには、２．０倍の化 学量論的に過剰な量が加えられ、ＲJ−Ｑがスルホン酸塩化物のときには、１． ５倍の化学量論的に過剰な量が加えられ、ＲJ−Ｑがイソシアネートのときには 、１．２５倍の化学量論的に過剰な量が加えられる。反応混合物は２〜６時間外 界温度で保温された。粗製混合物を得るため溶液相反応が進められた後、各反応 容器は、捕捉可能試薬フェニルスルフォニルイソシアネートＢ４１で充填される 。この試薬Ｂ４１は残留第二級アミンスカホールドＣ−ｉｉと反応し、Ｃ−ｉｉ を原位置にある誘導化合物Ｂ４５に変換する。次に、上記容器混合物の非常に過 剰（１５−２０倍の化学量論的な過剰）のアミン機能性樹脂Ｂ３３による保温に よって、樹脂結合アダクトＢ４０、Ｂ３６、Ｂ４４及びＢ４６として、溶液相種 ＲJ−Ｑ、ＨＱ、Ｂ４１及びＢ４５を捕捉する。樹脂充填反応ブロックは、樹脂 含有容器混合物の最適な攪拌を行うため、外界温度の軌道型振とう機上で２０時 間垂直方向に振とうされた。不溶性樹脂アダクトＢ３３、Ｂ３６、Ｂ４０、Ｂ４ ４及びＢ４６の濾過と、引き続く、ＤＣＥによる容器樹脂ベッドの水洗によって 、精製生成物Ｂ−ｉｉを含む濾液が得られる。濾液の濃縮によって精製生成物Ｂ −ｉｉが産出される。 スキームＢ−１０には、カルボン酸含有スカホールドＣ−ｉｉｉの誘導体のた めのパラレルアレイ反応ブロック合成の別の一般的な方法が示されている。遊離 カルボン酸官能基をもつスカホールドＣ−ｉｉｉは、空間的に決まった場所のパ ラレルアレイ反応ブロック容器内で、極性非プロトン溶媒及び／又はハロゲン化 溶媒の混合物中にポリマー結合カルボジイミド試薬Ｂ４８及び第三級アミン塩基 が存在する条件で、過剰な量の選択的に異なる第一級又は第二級アミンＢ４７と 反応する。各粗製容器生成物混合物を樹脂Ｂ４８及びＢ４９から濾過した後、各 反応混合物は、捕捉可能試薬Ｂ５０（テトラ−無水フルオロフタル酸）による処 置によって精製される。試薬Ｂ５０は、カルボン酸分子認識機能を有する誘導中 間体Ｂ５１を原位置に生ずる残留過剰アミンＢ４７と反応する。次に、各反応混 合物は１５〜２０倍の化学量論的に過剰な第一級アミン機能性樹脂Ｂ３３で保温 され、樹脂結合アダクトＢ５２、Ｂ５３及びＢ５４として、Ｂ５１、Ｂ５０及び 残留酸含有スカホールドＣ−ｉｉｉを捕捉する。溶液相生成物Ｂ−ｉｉｉを上記 の樹脂結合アダクトから濾過し、極性非プロトン溶媒及び／又はハロゲン化溶媒 により樹脂ベッドを洗浄することによって、精製生成物Ｂ−ｉｉｉを含む濾液が 得られる。濾液の濃縮によって精製物Ｂ−ｉｉｉが得られる。 スキームＢ−１１には、酸含有スカホールドＣ−４９をパラレル合成フォーマ ットで所望の生成物Ｂ−ｉｉｉに変換する方法が示されている。制限量のスカホ ールドＣ−４９は、ジメチルホルムアミドの溶液として、ポリマー結合カルボジ イミド試薬Ｂ４８（５倍の化学量論的過剰）を含有する各反応容器に加えられる 。ジクロロメタン中のピリジン（４倍の化学量論的過剰）溶液は、このスラリー に加えられ、次いで、過剰な量（１．５倍の化学量論的過剰）のユニークなアミ ンＢ４７のジメチルホルムアミド溶液が各容器に加えられる。次に、パラレル反 応ブロックは、１６〜１８時間外界温度でオービタルシェイカーによって垂直方 向に攪拌され、溶液相生成物混合物を樹脂結合試薬Ｂ４８及び樹脂結合試薬副生 物Ｂ４９から分離するため濾過される。所望のアミド生成物Ｂ−ｉｉｉと、過剰 なアミンＢ４７と、反応しない酸含有スカホールドＣ−４９の混合物を含む得ら れた溶液（濾液）は、テトラー無水フルオロフタル酸で処置される。Ｂ５０は、 各濾液容器内の過剰アミンＢ４７をそれぞれの捕捉可能なハーフ酸形式Ｂ５１に 変換する。２時間の保温後、過剰なアミン機能性樹脂Ｂ３３及びジクロロメタン 溶媒が各反応容器に加えられる。アミン含有樹脂Ｂ３３は、Ｂ５１と、残留Ｂ５ ０と、残留Ｃ−４９をそれぞれの半結合アダクトＢ５２、Ｂ５３及びＢ５５に変 換する。樹脂充填反応ブロックは、樹脂含有容器混合物の最適な攪拌を行うため 、外界温度でオービタルシェイカーによって１６時間垂直方向に振とうされた。 不溶性樹脂アダクトＢ３３、Ｂ５２、Ｂ５３及びＢ５５の濾過と、ジメチルホル ムアミドによる容器樹脂ベッドの洗浄とによって、精製生成物Ｂ−ｉｉｉが得ら れる。濾液の濃縮により精製生成物Ｂ−ｉｉｉが得られる。 スキームＢ−１からスキームＢ−１１には、一般的な化学式Ｂ−ｉ、Ｂ−ｉｉ 及びＢ−ｉｉｉの化合物を合成するパラレルアレイ化学ライブラリテクノロジー の使用法が示されているが、従来の合成有機化学の分野の当業者は、（一つの化 合物が通常のガラス製品で同時に合成され、クロマトグラフィー及び／又は晶出 のような通常の手段で精製される）従来の方法を用いてＢ−ｉ，Ｂ−ｉｉ及びＢ −ｉｉｉを合成することができる。 ピリジルピラゾール スカホールドＣ−ｉ、Ｃ−ｉｉ及びＣ−ｉｉｉの一般的 な合成方法はスキームＣ−１に示されている。 工程Ａ：ピコリンは、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、ｔ −ブチル メチル エーテル、ｔ−ＢｕＯＨ、又は、ジオキサンのような有機溶 媒中で、１０分〜３時間、−７８℃から５０℃で、ｎ−ブチルリチウム（ｎ−Ｂ ｕＬｉ）、ジ−イソ−プロピルアミド リチウム（ＬＤＡ）、ヘクサメチルジシ ラザイドリチウム（ＬｉＨＭＤＳ）、ｔ−ブトオキシドカリウム（ｔ−ＢｕＯＫ ）、又は、水素化ナトリウム（ＮａＨ）の中から非限定的に選択された塩基で処 置される。メタル化ピコリン溶液は、エステルＢ５６の溶液に加えられる。反応 によって、３０分〜４８時間に亘って攪拌し、その時間中に、温度は−２０℃か ら１２０℃の範囲で変化する。混合物は水に注がれ、有機溶媒で抽出される。溶 媒の乾燥及び除去後、ピリジルモノケトンＢ５７は粗製固体として分離され、晶 出及び／又はクロマトグラフィーによって精製され得る。 工程Ｂ：エーテル、ＴＨＦ、ｔＢｕＯＨ又はジオキサン中のピリジルモノケト ンＢ５７の溶液は、−７８℃から５０℃で１０分から３時間までの時間範囲内で ヘキサン、ＴＨＦ、ジエチル エーテル、ｔ−ブチル メチル エーテル、又は 、ｔ−ＢｕＯＨに含まれるｎ−Ｂｕｌｉ、ＬＤＡ、ＬｉＨＭＤＳ、ｔＢｕＯＫ又 はＮａＨ の中から非限定的に選択された塩基に加えられる。適当に置換された活性化エス テル、又は、Ｒ4−ＣＯ2Ｈから誘導された酸ハロゲン化物は、ＴＨＦ、エーテル 、又は、ジオキサンの溶液として、Ｂ５７のモノケトン陰イオンに加えられ、そ の間、温度は−５０℃から５０℃に保たれる。得られた混合物は、５分から３時 間までの時間中、特定の温度で攪拌される。生成されたピリイジル ジケトン中 間体Ｂ５８は、工程Ｃで精製することなく利用される。 工程Ｃ：ピリイジル ジケトンＢ５８を含有する溶液は水でクエンチされ、ｐ Ｈは、ＨＯＡｃ、Ｈ2ＳＯ4、ＨＣｌ又はＨＮＯ3の中から選択された無機又は有 機酸を利用して４〜８に調整される。この工程中の温度は、−２０℃から室温の 間で保たれる。ヒドラジン又は含水ヒドラジンは、混合物に加えられ、一方、温 度は３０分から３時間の間、−２０℃と４０℃の間に保たれる。混合物は水に注 がれ、有機溶媒で抽出される。ピリジル ピラゾールＣｉ又はＣ−ｉｉは、粗製 固体として獲得され、この粗製固体はクロマトグラフィー又は晶出によって精製 される。 工程Ｄ：ある種の場合に、ピリジル ピラゾールＣ−ｉ又はＣ−ｉｉは、Ｑ− Ｃ（ＲA）−（ＣＨ２）nＣＯ2アルキルによってアルキル化され、ここで、Ｑは ハロゲンである。Ｃ−ｉ又はＣ−ｉｉは、−２０℃〜１５０℃の温度、３０分〜 １２時間の反応時間で、ＴＨＦ、メチレン塩化物、ジオキサン、又は、ＤＭＦの ような有機溶媒中のＮａＨ、ＮａＯＥｔ，ＫＯｔＢｕ、又は、ＮＥｔ3の中から 選択された塩基で処置される。得られたアルカリ化ピリイジルピラゾールエステ ルは、水性／アルコール溶媒混合物中、又は、ＴＨＦ／水溶媒混合物中で、Ｎａ ＯＨ又はＬｉＯＨを用いた処置によって酸に加水分解される。或いは、アルキル 残留物がｔ−ブチルである場合、エステル機能は有機又は無機酸による処置によ って除去される。酸性化と、引き続く有機溶媒による抽出とによってＣ−ｉｉｉ が得られ、クロマトグラフィー又は晶出により精製される。一部 の場合に、位置異性体アルキル化生成物Ｃ−ｉｖが形成される。所望のＣ−ｉｉ ｉは、クロマトグラフィー精製又は分別晶出によってＣ−ｉｖから分離される。 ピリジルピラゾール スカホールドＣ−１の合成方法はスキームＣ−２に示さ れている。 工程Ａ：ピコリンは、３０分から１時間の範囲の時間中、室温で、ＴＨＦ中の ＬｉＨＭＤＳ溶液に加えられる。得られた溶液は、更に、３０分から１時間、室 温で攪拌される。この溶液は、生のエチル ｐ−フルオロ安息香酸エステルＢ６ ０に１〜２時間室温で加えられる。混合物は、１６〜２４時間室温で攪拌される 。等量の水及び酢酸エチルが反応物に加えられ、混合物が抽出漏斗で分配される 。有機層は乾燥され、濾過され、蒸発させられ、油性固体が得られる。ヘクサン が加えられ、固体は濾過され、冷温ヘキサンで洗浄され、工程Ｂで使用するピリ ジルモノケトンＢ６１が残る。 工程Ｂ： ピリジルモノケトンＢ６１は、ＴＨＦ中の溶液として、室温に保たれ、ＴＨＦ ／ｔ−ＢｕＯＨの共溶媒中にｔ−ＢｕＯＫを含むフラスコに加えられる。黄色の 沈殿が形成され、室温での攪拌が１〜３時間続けられる。この時間経過後、Ｎ− Ｃｂｚ−保護グリシン Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドＢ６２が室温でＴＨＦ中 溶液として１〜３時間に亘って滴状に加えられる。この溶液は粗製ジケトンＢ６ ３を含み、工程Ｃでそのまま使用される。 工程Ｃ：工程Ｃの溶液は水で処置され、ｐＨは酢酸を用いて６と７の間に調整 される。ヒドラジン水和物が３０分〜１時間室温でこの混合物に滴状に加えられ る。水及び酢酸エチルはフラスコに加えられ、混合物は分離用漏斗に分配される 。有機層が乾燥、濾過、蒸発させられ、粗製油が得られ、この粗製油はシリカゲ ルクロマトグラフィーによって精製され、精製物Ｃ−１Ｃｂｚを生ずる。 工程Ｄ：化合物Ｃ−１Ｃｂｚに含有されるＣｂｚ保護基は、加圧下の水素ガス と、メタノール溶媒中のＰｄ−Ｃとを用いて切断される。最終的なアミンＣ−１ は濾過及び濃縮によって得られる。 多数のピリジルピラゾールスカホールド タイプＣ−ｖがスキームＣ−３に示 されるように合成される。 工程Ａ：ピコリンは、ＴＨＦ、エーテル、ｔ−ＢｕＯＨ、又は、ジオキサンの ような有機溶媒中で、１０分〜３時間、−７８℃から５０℃で、ｎ−ＢｕＬｉ、 ＬＤＡ、ＬｉＨＭＤＳ、ｔ−ＢｕＯＫ、又は、ＮａＨの中から非限定的に選択さ れた塩基で処置される。メタル化ピコリン溶液は、カルボン酸 ＣｂｚＮＲH− （ＣＨ2）nＣＲF（ＲG）−ＣＯ2Ｈ又はＢｏｃＮＲH−（ＣＨ2）nＣＲF（ＲG）− ＣＯ2Ｈの適切に活性化されたエステル類似体、好ましくは、非制限的にＮ−ヒ ロドキシスクシンイミドＢ６４の溶液に加えられる。反応によって、３０分〜４ ８時間に亘って攪拌し、その時間中に、温度は−２０℃から１２０℃の範囲で変 化する。混合物は水に注がれ、有機溶媒で抽出される。溶媒の乾燥及び除去後、 ピリジルモノケトンＢ６５は、粗製固体として分離され、晶出及び／又はクロマ トグラフィーによって精製され得る。 工程Ｂ：エーテル、ＴＨＦ、ｔＢｕＯＨ又はジオキサン中のピリジルモノケト ンＢ６５の溶液は、−７８℃から５０℃で１０分から３時間までの時間範囲内で 、ヘキサン、ＴＨＦ、エーテル、ジオキサン、又は、ｔ−ＢｕＯＨに含まれるｎ −Ｂｕｌｉ、ＬＤＡ、ＬｉＨＭＤＳ、ｔＢｕＯＫ又はＮａＨの中から非限定的に 選択された塩基に加えられる。陰イオンが黄色い固体として沈殿する場合がある 。Ｎ−ヒロドキシスクシンイミドＢ６６のような適当に置換された活性化エステ ルは、ＴＨＦ、エーテル、又は、ジオキサンの溶液として、モノケトン陰イオン に加えられ、その間、温度は−５０℃から５０℃に保たれる。得られた混合物は 、５分から３時間までの時間中、特定の温度で攪拌される。生成されたピリイジ ル ジケトン中間体Ｂ６７は工程Ｃで精製することなく利用される。 工程Ｃ：ピリイジル ジケトンＢ６７を含有する溶液は水でクエンチされ、ｐ Ｈは、ＨＯＡｃ、Ｈ2ＳＯ4、ＨＣｌ又はＨＮＯ3の 中から選択された無機又は有機酸を利用して４〜８に調整される。この工程中の 温度は、−２０℃から室温の間で保たれる。ヒドラジン又は含水ヒドラジンは、 混合物に加えられ、一方、温度は３０分から３時間の間、−２０℃と４０℃の間 に保たれる。混合物は水に注がれ、有機溶媒で抽出される。ピリジル ピラゾー ルＣ−ｖＢｏｃ又はＣ−ｖＣｂｚは、粗製固体として獲得され、この粗製固体は クロマトグラフィー又は晶出によって精製される。 工程Ｄ：Ｃ−ｖＢｏｃ又はＣ−ｖＣｂｚからのカルバメート保護基は、遊離第 一級アミン（ＲHは水素である）又は遊離第二級アミン（ＲHは水素ではない）の 何れかを含むスカホールドＣ−ｖを生じる。Ｂｏｃ保護カルバメート基は、数時 間に亘って室温で１：１のトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）／メチレン塩化物を利用 して切断された。Ｃｂｚカルバメート保護基は、加圧下の水素ガスと、アルコー ル溶媒中のＰｂ−Ｃとを用いて切断される。最終的なアミンＣ−ｖは、選択的に 晶出され、或いは、クロマトグラフィーで精製される。 スカホールドＣ−ｖｉの合成はスキームＣ−４に示されたように行われる。 工程Ａ：Ｂｏｃ保護ピリイジルピラゾールＢ６８は、１〜２４時間、乾燥剤が 存在する条件において室温で塩化メチレン中のベンズアルデヒドで処置される。 溶媒は蒸発させられ、得られたイミンＢ６９は、精製されることなく、工程Ｂで 使用される。 工程Ｂ： ピリジルピラゾールＢ６９は、ＴＨＦに溶解され、−７８℃〜−２０℃の範囲 内の温度で窒素が存在する条件で攪拌される。ＬＤＡ、ｎ−ＢｕＬｉ又はＬｉＨ ＭＤＳのような塩基が滴状に混合物に加えられ、混合物は更に１０分〜３時間攪 拌される。２−５当量のアルキル化剤ＲF−Ｑが混合物に加えられ、攪拌が数時 間続けられる。混合物は酸でクエンチされ、室温まで暖められ、Ｂｏｃ機能とイ ミン機能の切断が完了するまで数時間攪拌される。ｐＨは１２に調整され、混合 物は有機溶媒を用いて抽出され、乾燥され、蒸発させられる。粗製ピリイジルピ ラゾールは、晶出され及び／又はクロマトグラフィーにかけられ、Ｃ−ｖｉが得 られる。 マレイミド含有スカホールドＣ−ｖｉｉの合成は、スキームＣ−５に示される ように行われる。 マレイミドピラゾールスカホールドＣ−ｖｉｉはスキームＣ−５に示されるよ うに合成される。３の位置が無水マレイン酸Ｂ７０に置換された第一級アミンＨ2 Ｎ−Ｒの臭素、塩素、又は、トリフレート基との縮合反応は化合物Ｂ７１を生 ずる。形成されたマレイミ ド誘導体Ｂ７１は、Ｐｄ（０）触媒及び塩基の存在する条件で、アセトフェノン 誘導体Ｂ７２と反応し、化合物Ｂ７３を生成する。Ｂ７３のメチレン位置は、無 水酸Ｂ７４又は活性酸エステルＢ７５でアシル化され、ジケトン誘導体Ｂ７６を 形成する。ジ−ケトンＢ７６は、ヒドラジンと縮合反応し、所望のマレイミドピ ラゾールスカホールドＣ−ｖｉｉを生ずる。 スキームＣ−６には、マレイミドピラゾールスカホールドＣ−６３の合成方法 が示されている。ここで、Ｒ4は水素である。合成は、無水臭化マレイン酸と、 酢酸中の２，４−ジメトキシベンジルアミン及び無水酢酸との縮合反応から始ま り、中間体Ｂ７８が得られる。マレイミドＢ７８は、Ｐｄ2（ｄｂａ）3及びｔ− ブトキシド の触媒量の存在する条件で、４’−フルオロアセトフェノンによて処置され、フ ルオロアセトフェノン置換マレイミドＢ７９を生成する。Ｂ７９は、ｔｅｒｔ− ブトキシビス（ジメチルアミノ）メタンで処置され、ａ−ケトンアミンＢ８０を 生ずる。ａ−ケトンアミンＢ８０はヒドラジンで縮合され、マレイミドピラゾー ルスケルトンＢ８１を生成する。２，４−ジメトキシベンジル基保護基は、セリ ウムアンモニウムニトレート（ＣＡＮ）を用いて選択的に除去され、化合物Ｃ− ６３を生成する。 スキームＣ−７には、マレイミド含有スカホールドＣ−６４及びＣ−６５の合 成方法が示されている。これらのスカホールドＣ−４９及びＣ−５０は、スキー ムＣ−５に示された一般的な方法に従って合成され、例示的に、Ｎ−ヒドロキシ スクシンイミドＢ８２及びＢ８３を利用して、マレイミド含有ピラゾールＢ８６ 及びＢ８７が生成される。ＣＡＮによる２，４−ジメトキシルベンジル基の選択 的な除去と、引き続く、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）によるＢｏｃ−保護基の除 去とによって、スカホールドＣ−６４及びＣ−６５が生成される。 パラレル反応混合物の合成及び精製に利用された種々の機能性樹脂及び捕捉可 能試薬について以下により詳細に説明する。以下の説明には、製品の販売元又は 参考文献が示されている。 スカホールドＣ−１からアミド、カルバメート、尿素、及び、スルホンアミド のＢ−０００１乃至Ｂ−００４８の系列をパラレル合成する実験的手続について 例：Ｂ−０００１乃至Ｂ−００４８ パラレル反応装置の各反応容器（多孔性フリットが取り付けられ、底が閉じら れたポリプロピレン注射器）には、２００μＬのジメチルホルムアミドが加えら れた。ジメチルホルムアミド中のスカホールドアミンＣ−１のストック溶液（０ ．１Ｍ、５００μＬ）が各反応容器に加えられ、次いで、ジメチルホルムアミド 中のＮ−メチルモルホリンのストック溶液（１．０Ｍ、２００μＬ）が加えられ た。各求電子試薬のストック溶液は適切な反応容器、すなわち、ａ）ジクロロエ タン中の０．２Ｍ塩酸溶液５００μＬ、又は、ｂ）ジクロロエタン中の０．２Ｍ クロロホルム酸塩溶液５００μＬ、又は、ｃ）ジクロロエタン中の０．２Ｍイソ シアネート溶液３１３μＬ、又は、ｄ）ジクロロエタン中の０．２Ｍスルホン酸 塩化物に加えられた。パラレル反応装置は、窒素が緩やかに流れる条件で、２〜 ３時間外界温度（２３〜３０℃）で軌道上を２００ＲＰＭで振とうされた(Labli ne Benchtop orbital shaker)。この時点で、各反応容器は、約２５０ｍｇのポ リアミン樹脂Ｂ３３（樹脂１ｇ当たり４．０ｍｅｑ Ｎ）と、約１００ｍｇのポ リアルデヒド樹脂Ｂ３２（樹脂１ｇ当たり２．９ｍｍｏｌ）とによって処置され た。各反応容器は、１ｍＬのジメチルホルムアミドと、１ｍＬのジクロロエタン とによって希釈され、軌道上振とうが外界温度で１４〜２０時間に亘って２００ ＲＭＰで続けられた。各反応容器は、次に、開けられ、所望の溶液相生成物が濾 過によって不溶性クエンチ副生物から分離され、個々の円錐ガラス瓶に収集され た。各容器は、ジクロロエタン（１ｍＬ）で２回洗浄され、洗浄液が収集された 。得られた溶液は、サバント（Ｓａｖａｎｔ）装置（揮発溶媒蒸気を圧縮す るため高真空、測定可能温度設定、及び、溶媒トラッブを備えた超遠心分離器） で乾燥するまで蒸発させられた。合成されたアミド、カルバメート、尿素、及び 、スルホンアミド生成物は、重量測定され、識別された。この方法を利用して得 られた生成物に対する生成量及び分析データを以下に列挙する。 例Ｂ０００１−Ｂ００４８の合成について上述されたのと同様の手順によって 、以下の例Ｂ−００４９乃至Ｂ−１５７３を合成した。 以下の表に、例Ｂ−０００１乃至Ｂ−１５７３から選択された要素についての プロトンＮＭＲデータを示す。 例Ｂ０００１−Ｂ００４８の合成について上述されたのと同様の手順によって 、以下の例Ｂ−１５７４乃至Ｂ−２２６９を合成した。 例Ｂ−１５７４からＢ−１５９７はスカホールド（Scaffold）Ｃ−２７から台 成する 例Ｂ−１５９８からＢ−１６２１はスカホールド（Scaffold）Ｃ−２８から合成 する 例Ｂ−１６２２からＢ−１６４５はスカホールド（Scaffold）Ｃ−３８から合 成する 例Ｂ−１６４６からＢ−１６６９はスカホールド（Scaffold）Ｃ−３９から合 成する 例Ｂ−１６７０からＢ−１６９３はスカホールド（Scaffold）Ｃ−６５から合 成する 例Ｂ−１６９４からＢ−１７１７はスカホールド（Scaffold）Ｃ−６６から合 成する 例Ｂ−１７１８からＢ−１７４１はスカホールド（Scaffold）Ｃ−６９から合 成する 例Ｂ−１７４２からＢ−１７６５はスカホールド（Scaffold）Ｃ−７０から合 成する 例Ｂ−１７６６からＢ−１７８９はスカホールド（Scaffold）Ｃ−７１から合 成する 例Ｂ−１７９０からＢ−１８１３はスカホールド（Scaffold）Ｃ−７２から合 成する 例Ｂ−１８１４からＢ−１８３７はスカホールド（Scaffold）Ｃ−７３から合 成する 例Ｂ−１８３８からＢ−１８６１はスカホールド（Scaffold）Ｃ−３３から合 成する 例Ｂ−１８６２からＢ−１８８５はスカホールド（Scaffold）Ｃ−４５から合 成する 例Ｂ−１８８６からＢ−１９０９はスカホールド（Scaffold）Ｃ−４２から合 成する 例Ｂ−１９１０からＢ−１９３３はスカホールド（Scaffold）Ｃ−４４から合 成する 例Ｂ−１９３４からＢ−１９５７はスカホールド（Scaffold）Ｃ−４１から合 成する 例Ｂ−１９５８からＢ−１９８１はスカホールド（Scaffold）Ｃ−４３から合 成する 例Ｂ−１９８２からＢ−２００５はスカホールド（Scaffold）Ｃ−３０から合 成する 例Ｂ−２００６からＢ−２０２９はスカホールド（Scaffold）Ｃ−６０から合 成する 例B-2030からB-2053はスカホールドC-36から合成する 例B-20541からB-2077はスカホールドC-34から合成する 例B-2078からB-2101はスカホールドC-57から合成する 例B-2102からB-2125はスカホールドC-52から合成する 例B-2126からB-2149はスカホールドC-56から合成する 例B-2150からB-2173はスカホールドC-32から合成する 例B2174からB-2197はスカホールドC-64から合成する 例B-2198からB-2221はスカホールドC-22から合成する 例B-2222からB-2245はスカホールドC-29から合成する 例B-2246からB-2269はスカホールドC-35から合成する 例Ｂ−２２７０乃至Ｂ−２３１７ ４８のフリット容器を含むパラレルアレイ反応ブロックにおいて、各反応容器 に、２５０ｍｇのポリマー結合カルボジイミドＢ４８（１．０ミリモル／ｇ樹脂 ）とジメチルホルムアミド中に含酸スカホールドＣ−４９を溶かした溶液（０． １Ｍ、５００μＬ）とを入れた。各スラリーに、ジクロロメタン中にピリジンを 溶かした溶液（０．２Ｍ、１０００μＬ）を添加し、続いてジメチルホルムアミ ド中にユニークなアミンＢ４７を溶かした溶液（０．２Ｍ、３２７μＬ）を添加 する。反応混合液を、ラブラインベンチトップオービタルシェイカーを用いて周 囲温度において１６−２０時間に亘って２５０ＲＰＭで攪拌した。反応混合液を 円錐状バイアルの中へろ過し、ポリマーを１．５ｍＬのジメチルホルムアミド及 び２．０ｍＬのジクロロメタンで洗浄した。ろ液の溶媒をサバント装置中で除去 し、各円錐状バイアルにジメチルホルムアミド（３５０μＬ）を添加し残留物を 溶解させた。ジメチルホルムアミド中にテトラフルオロ無水フタル酸を溶かした 溶液（１．０Ｍ、１５０μＬ）を再構成された円錐状バイアルに添加し、混合液 を周囲温度において２時間インキュベートした。次に、ポリアミンポリマーＢ３ ３（４．０ｍｅｑ Ｎ／ｇ樹脂、２５０ｍｇ）を各円錐状バイアル中の反応混合 液へ添加する。反応混合液を、オービタルシェイカーを用いて周囲温度において １６時間に亘って２５０ＲＰＭで攪拌した後、混合液を多孔質フリットを備えた ポリプロピレンシリンジチューブを通してろ過した。ポリマーをジメチルホルム アミド（各１．０ｍＬ）で２回洗浄し、ろ液及び洗浄液を円錐状バイアル中に収 集した。所望のアミド生成物Ｂ−２２７０乃至Ｂ−２３１７を油又は固体として 生成するよう、ろ液から溶媒を除去し量った。このようにして合成された生成物 の分析データ及び収量を以下に示す。 例Ｂ２２７０−Ｂ２３１７の合成について上述されたのと同様の手順によって 、以下の例Ｂ−２３１８乃至Ｂ−２４６１を合成した。 １−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジル）−１−エタノン。 ４−ピコリン（４０ｇ、０．４３モル）を、室温で３０分間に亘ってＬｉＨＭ ＤＳ溶液（０．４５モル、４５０ｍＬのＴＨＦ中１．０Ｍ溶液）に添加した（わ ずかな発熱が観察された）。生じた溶液を１時間攪拌した。この溶液を、１時間 に亘って４−フルオロ安息香酸エチル（７５．８ｇ、０．４５モル、ニート）を 添加した。混合液を一晩攪拌した（１６時間）。水（２００ｍＬ）を添加し、混 合液をＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。有機層をブライン（１×２０ ０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させた。有機層をろ過し、溶媒を除去し、 油状の固体を得た。この油にヘキサンを添加し、生じた固体をろ過し、（冷たい ）ヘキサンで洗浄した。黄色固体が分離された（５０ｇ、５４％）：1Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ3）δ ８．５８（ｄ、Ｊ＝５．７Ｈｚ、２Ｈ）、８．０２（ｄｄ 、Ｊ＝５．５、８．０、２Ｈ）、７．１２−７．２１（ｍ、４Ｈ）、４．２３（ ｓ、２Ｈ）；19Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ−１０４．３８（ｍ）；ＬＣ／ＭＳ 、ｔr＝２．１４分間（１ｍＬ／分で１５分間に亘ってアセトニトリル／水の系 を５から９５％へ変化させた。５ ０℃で２５４ｎｍで検出。）、Ｍ＋Ｈ＝２１ ６；高分解能ＭＳ Ｃ23Ｈ20Ｎ4Ｏ2Ｆ（Ｍ＋Ｈ）の計算値：２１６．０８２５。 結果：２１６．０８３０（Δｍｍｕ＝０．５）。 Ｎ−ベンジルロキシカルボニル−５−アミノメチル−４−（４−ピリジル）− ３−（４−フルオロフェニル）ピラゾール。 攪拌機と、Ｎ2の入口と、滴下漏斗とを設けた３Ｌ丸底フラスコに、５５７ｍ Ｌ（０．５６モル）のＴＨＦ中１Ｍｔ−ＢｕＯＫと５３ｍＬ（０．５６モル）の ｔ−ＢｕＯＨとを入れた。ケトン、１（６０ｇ、０．２８モル）を、６００ｍＬ のＴＨＦ中に溶解し、室温中で攪拌された混合液に添加した。黄色の沈殿物が形 成され、混合液を１時間攪拌した。Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−グリシニル Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド（１２８．６ｇ、０．４２モル）を、６００ｍＬ のＴＨＦ中に溶解し、１時間に亘って室温で１滴ずつ添加した。混合液を、更に ５分間攪拌し、１５０ｍＬの水を添加した。７０ｍＬのＡｃＯＨで、ｐＨを６． ７に調整した。ヒドラジン一水和物（１００ｍＬの水の中に４１ｍＬ）を、滴下 漏斗によって添加した。混合液を１時間攪拌し、５００ｍＬの水と５００ｍＬの エチルアセテートで希釈した。二相混合液を分液漏斗へ移し、層を分離した。水 溶層を、ＥｔＯＡｃ（３×３００ｍＬ）で抽出した。有機層を、乾燥させ（Ｎａ2 ＳＯ4）、ろ過し、溶媒を除去し、１５７ｇの粗生成物の赤みを帯びた油を得た 。 この油をＣＨ2Ｃｌ2中で懸濁させ、これをろ過し、全ての不溶性物質（ＤＣＵ 、モノケトンのヒドラゾン）を除去した。溶液を、２つの部分に分け、各部分を クロマトグラフにかけた（バイオテージ（Ｂｉｏｔａｇｅ）７５Ｌ、３％のＥｔ ＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2の次に６％のＥｔＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2で溶出した）。適当な分画 を、各部分から濃縮し（モノケトン及びヒドラゾンから幾らかの不純物）、黄色 固体を得た。固体をエチルアセテート中で懸濁させ、１０分間加熱し沸騰させた 。溶液を、一晩室温まで冷却させた。沈殿物をろ過し、３０ｇの白色固体（２の 収量２７％）を得た：1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ7）δ １３．３６（ｓ、１Ｈ） 、８．５７（ｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．１６−７．５２（ｍ、１１Ｈ） 、５． １１（ｓ、２Ｈ）、４．４８（ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ、２Ｈ）；19Ｆ ＮＭＲ（Ｄ ＭＦ−ｄ7）δ−１１４．９（ｍ）、−１１６．８（ｍ）（分割フッ素シグナル はピラゾール互変異性体による）；ＬＣ／ＭＳ、ｔr＝５．５２分間（１ｍＬ／ 分で１５分間に亘ってアセトニトリル／水の系を５から９５％へ変化させた。５ ０℃で２５４ｎｍで検出。）、Ｍ＋Ｈ＝４０３；高分解能ＭＳ Ｃ23Ｈ20Ｎ4 Ｏ2Ｆ（Ｍ＋Ｈ）の計算値：４０３．１５７０。結果：４０３．１５８１（Δｍ ｍｕ＝１．１）。 ５−アミノメチル−４−（４−ピリジル）−３−（４−フルオロフェニル）ピ ラゾール。 １Ｌのパールボトルに、７ｇ（１７．４ミリモル）の２と、１８０ｍＬのＭｅ ＯＨと、９０ｍＬのＴＨＦとが添加され、透明溶液を得た。ボトルを、窒素で充 満させ、１．５ｇの１０％Ｐｄ／Ｃ（ウェットデグッサ（Ｄｅｇｕｓｓａ）タイ プＥ１０１）を添加した。パールボトルを、４０ｐｓｉ（Ｈ2）まで加圧し、攪 拌した。水素圧は、５時間後、５ｐｓｉであった。ボトルを４２ｐｓｉまで再び 加圧し、一晩攪拌した。ボトルをＮ2で充満させ、シーライトを通してろ過した 。シーライト(Celite)を、ＭｅＯＨ（３×５０ｍＬ）で洗浄し、ろ液を濃縮し、 ４．５ｇのオフホワイトの固体（９４％）を得た。1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ ８．５２（ｄ、Ｊ＝４．６３Ｈｚ、２Ｈ）、７．３６（ｄｄ、Ｊ＝５．６ ４、８．１、２ Ｈ）、７．１６−７．３０（ｍ、４Ｈ）、３．７９（ｓ、２ Ｈ）；19Ｆ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ−１１４．５６（ｍ）；ＬＣ／ＭＳ、 ｔr＝１．２１分間（１ｍＬ／分で１５分間に亘ってアセトニトリル／水の系を ５から９５％へ変化させた。５０℃で２５４ｎｍで検出。）、Ｍ＋Ｈ＝２６９ｍ ／ｚ；高分解能質量スペクトルＣ15Ｈ14Ｎ4Ｆ（Ｍ＋Ｈ）の計算値：２６９．１ ２０２。結果：２６９．１２２９（Δｍｍｕ＝２．７）。 以下のピリジルピラゾール（Ｃ−２乃至Ｃ−２１、表Ｃ−１）を、例Ｃ−１に ついて上述された実験手順に従って合成する。 以下のピリジルピラゾール（Ｃ−２２乃至Ｃ−４０、表Ｃ−２）を、一般的な スキームＣ−１及びＣ−２、並びに、例Ｃ−１について上述された実験手順に従 って合成する。 工程Ａ 例４から得たピラゾール（２．６０ｇ、１０．３ミリモル）を、５２ｍＬのジ クロロエタン及び５２ｍＬの２．５ＭのＮａＯＨ中に懸濁させた。テトラブチル アンモニウムヒドロキシド（０．５ｍＬの１Ｍ水溶液）を、攪拌された混合液に 添加した。この混合液に、ｔ−ブチルブロモアセテート（２．１０ｇ、１０．８ ミリモル）を添加した。反応混合液を、室温で４時間攪拌した。混合液を、２０ ０ｍＬのＣＨ2Ｃｌ2及び２００ｍＬのＨ2Ｏへ注いだ。相を分離し、有機相を水 （１×１００ｍＬ）及びブライン（１×１００ｍＬ）で洗浄した。有機層を、Ｎ ａ2ＳＯ4で乾燥させ、ろ過した。溶媒を除去し、オフホワイトの固体を得た。固 体をヘキサンと共に 粉末化し、生じた固体をろ過によって分離した。固体をヘキサンで洗浄し、３． ４ｇの白色固体（９０％）を得た。 工程Ｂ 工程Ａから得たアルキル化ピラゾール（３．７ｇ、１０．１ミリモル）を、５ ７ｍＬのジオキサン中の４ＮのＨＣＬで処理する。溶液を、室温で４時間攪拌し た。溶媒を減圧下で除去し、残留物をＴＨＦ中に溶解した。溶液を、プロピレン オキシド（１０．３ミリモル）で処理し、室温で１時間攪拌した。溶媒を除去し 、油を得た。残留溶媒を幾つかのＥｔＯＨ部分でチェースした。生じた固体を、 Ｅｔ2Ｏと共に粉末化し、例Ｃ−４９のタイトル化合物をろ過によって分離し、 ３．０ｇのオフホワイトの固体（９ ５％）を得た。質量分析スペクトル：Ｍ＋ Ｈ 計算値：３１２；結果３１２。1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）８．８１（ ｄ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、２Ｈ）、７．７３（ｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．４ ０（ｍ、４Ｈ）、７．２３（ｔ、Ｊ＝８．５Ｈｚ、１Ｈ）、５．１６（ｓ、２Ｈ ）、２．４０（ｓ、３Ｈ）。 例Ｃ−４９について上述された手順に従って、例Ｃ−５０もまた４−［３−（ ４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］ピリジンから出発して 合成された。質量分析スペクトル：Ｍ＋Ｈ 計算値：２９８；結果２９８。1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ ６）：８．７５（ｄ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、２Ｈ）、８．６８（ｓ、１Ｈ）、７．７ ８（ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ、２Ｈ）、７．５２（ｄｄ、Ｊ＝５．４、８．５Ｈｚ、 ２Ｈ）、７．３１（ｔ、Ｊ＝８．９Ｈｚ、２Ｈ）、５．１６（ｓ、２Ｈ）。 例Ｃ−２のＮ−Ｂｏｃ−ピペリジニル類似体から出発して、例Ｃ−５１もまた スキームＣ−１に記載される方法によって合成される。 工程Ａ：ピコリンを、ＴＨＦ、エーテル、ｔ−ＢｕＯＨ又はジオキサンといっ た有機溶媒中の、ｎ−ＢｕＬｉ、ＬＤＡ、ＬｉＭＨＤＳ、ｔ−ＢｕＯＫ又はＮａ Ｈから選択されるが、これらに限られない塩基で、−７８℃乃至５０℃で、１０ 分間から３時間処理する。ピコリン溶液を次に、Ｎ−Ｃｂｚ−（Ｌ）−フェニル アラニニルＮ−ヒドロキシスクシンイミドの溶液へ添加する。反応液を、３０分 から４０時間攪拌し、その時間中、温度は−２０℃乃至１２０℃の 範囲でありうる。次に混合液を水に注ぎ、有機溶媒で抽出する。乾燥させて溶媒 を除去した後、ピリジルモノケトンを粗固体として分離し、これを結晶化及び／ 又はクロマトグラフィーによって精製する。 工程Ｂ：エーテル、ＴＨＦ、ｔ−ＢｕＯＨ、又はジオキサン中にピリジルモノケ トンを溶かした溶液を、ＴＨＦ、エーテル、ｔ−ＢｕＯＨ又はジオキサンに含ま れる、ｎ−ＢｕＬｉ、ＬＤＡ、ＬｉＭＨＤＳ、ｔ−ＢｕＯＫ又はＮａＨから選択 されるかこれらに限られない塩基で、−７８℃乃至５０℃で、１０分間から３時 間に亘って添加した。ホルミル無水酢酸をＴＨＦ、エーテル、又はジオキサン中 の溶液として、モノケトンアニオンへ添加し、このとき温度は、−５０℃乃至５ ０℃に維持される。生じた混合液を特定の温度で、５分から数時間に亘って攪拌 する。生じたピリジルジケトン中間体を、精製しないで工程Ｃにおいて使用する 。 工程Ｃ：ピリジルジケトンを含む溶液を水でクエンチし、ＨＯＡｃ、Ｈ2ＳＯ4 、ＨＣｌ、ＨＮＯ3から選択される無機又は有機酸を用いてｐＨを４乃至８に調 整した。この工程中、温度は−２０℃ から室温の間に維持される。次に、ヒドラジン又はヒドラジン水和物を混合液に 添加し、このとき温度を、３０分から数時間に亘って−２０℃乃至４０℃に維持 する。混合液を水に注ぎ、有機溶媒で抽出する。Ｎ−Ｃｂｚ−保護ピリジルピラ ゾールを粗固体として得、これをクロマトグラフィー又は結晶化によって精製す る。 工程：Ｄ ＣＢＺ保護基を、圧力下の水素ガス及びアルコール溶媒中のＰｄ−Ｃを用いて 開裂させ、ろ過し、濃縮して、スカホールドＣ−５２を生成する。 表Ｃ−３中の以下の化合物Ｃ−５３乃至Ｃ−５９を、Ｃ−５２の合成について 上述された一般的な手順に従って合成する。 工程Ａ：Ｂｏｃ保護ピリジルピラゾールを、室温で、乾燥剤の存在下で、１− ２４時間に亘って、塩化メチレン中のベンズアルデヒドで処理する。溶媒を除去 し、生じたイミンを更なる精製なしに工程Ｂにおいて使用する。 工程Ｂ： ピリジルピラゾールイミンをＴＨＦ中に溶解して、窒素下で、−７８乃至−２ ０℃の温度で攪拌する。塩基として、ＬＤＡ、ｎ−ＢｕＬｉ、又はＬｉＨＭＤＳ といったものを１滴ずつ混合液に添加し、この混合液を更に３０分間から３時間 に亘って攪拌する。ヨウ化メチルの２つの等価体を混合液に添加し、数時間に亘 って攪拌し続ける。次に混合液を酸でクエンチし、室温まで温まらせ、Ｂｏｃ及 びイミン関数の開裂が完了するまで数時間攪拌される。ｐｈを１２に調整し、次 に混合液を有機溶媒で抽出し、溶媒を乾燥させ除去する。次に、粗ピリジルピラ ゾールを結晶化させ及び／又はクロマトグラフにかけ、精製されたＣ−６０を得 る。 工程Ｂ 例Ｃ−６１を、例Ｃ−６０と同様の方法で、但しヨウ化メチルの代わりに１， ４−ジブロモブタンを用いて、合成した。 例Ｃ−６２を、例Ｃ−６０と同様の方法で、但しヨウ化メチルの代わりに１， ３−ジブロモブタンを用いて、合成した。 化合物Ｃ−６３の合成は、ブロモ無水マレイン酸Ｂ７７の、酢酸及び無水酢酸 中の２，４−ジメトキシベンジルアミンによる濃縮反応で出発する。次に、マレ イミドＢ７８を、触媒量のＰｄ2（ｄｂａ）3及びナトリウムｔ−ブトキシドの存 在下で、４’−フルオロアセトフェノンで処理し、フルオロアセトフェノン置換 マレイミドＢ７９を形成する。次に、Ｂ７９をｔ−ブトキシビス（ジメチルアミ ノ）メタンで処理し、ａ−ケトエナミンＢ８０を生成する。ａ−ケトエナミンＢ ８０をヒドラジンで濃縮し、Ｎ−保護マレイミドピラゾールＢ８１を形成する。 ２，４−ジメトキシオキシベンジル基をセリックアンモニウムニトレート（ＣＡ Ｎ）で開裂させ、タイトル化合物Ｃ−６３を得る。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、例Ｃ−６４を合成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、例Ｃ−６５を合成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ７８の代わりにＮ −２，４−ジメトキシベンジル−４−ブロモピリドンを用いて、例Ｃ−６６を合 成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ７８の代わりにＮ −２，４−ジメトキシベンジル−４−ブロモピリドンを用い、Ｂ８２の代わりに Ｎ−Ｂｏｃ−グリシルＮ−ヒドロキシスクシンイミドを用いて、例Ｃ−６７を合 成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ７８の代わりにＮ −２，４−ジメトキシベンジル−４−ブロモピリドンを用いて、例Ｃ−６８を合 成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ８３の代わりにＮ −Ｂｏｃ−ニペコチルＮ−ヒドロキシスクシンイミドを用いて、例Ｃ−６９を合 成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ８３の代わりにＮ −Ｂｏｃ−ニペコチルＮ−ヒドロキシスクシンイミドを用いて、例Ｃ−７０を合 成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ７８の代わりにＮ −メチル−３−ブロモマレイミドを用いて、例Ｃ−７１を合成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ７８の代わりにＮ −メチル−３−ブロモマレイミドを用い、Ｂ８３の代わりにＮ−Ｂｏｃ−ニペコ チルＮ−ヒドロキシスクシンイミドを用いて、例Ｃ−７２を合成する。 スキームＣ−６及びＣ−７に記載の方法を用いて、但し、Ｂ７８の代わりにＮ −メチル−３−ブロモマレイミドを用い、Ｂ８３の代わりにＮ−Ｂｏｃ−ニペコ チルＮ−ヒドロキシスクシンイミドを用いて、例Ｃ−７３を合成する。 例Ｂ-０００１乃至例Ｂ-１５７３と例Ｂ-２２７０乃至Ｂ-２４６２の化合物の 生物学的データを、以下の表に示す。 インビトロＰ３８-αキナーゼの阻害データを、“Ｐ３８αキナーゼＩＣ50、 μＭ又は濃度（μＭ）での阻害％”の欄に示す。 ＬＰＳで刺激されたヒトＵ９３７細胞におけるＴＮＦ産出を阻害する化合物の 能力を測定するための、インビトロ全細胞検定を、“Ｕ９３７細胞ＩＣ50、μＭ 又は濃度（μＭ）での阻害％”の欄に示す。 マウスでのＬＰＳ刺激ＴＮＦ放出を阻害する化合物の能力のインビボ評価を、 “マウスＬＰＳモデル、プレドーズ時間でのある投与量でのＴＮＦ阻害％”の欄 に示し、ここで、投与量は経口栄養により投与されたキログラム当たりのミリグ ラムであり、プレドーズ時間は、化合物が投与された際のＬＰＳ抗原投与前の時 間数を表わす。 ラットでのＬＰＳ刺激ＴＮＦ放出を阻害する化合物の能力のインビボ評価を、 “ラットＬＰＳモデル、プレドーズ時間でのある投与量でのＴＮＦ阻害％”の欄 に示し、ここで、投与量は経口栄養により投与されたキログラム当たりのミリグ ラムであり、プレドーズ時間は、化合物が投与された際のＬＰＳ抗原投与前の時 間数を表わす。
【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１１年４月２６日（１９９９．４．２６） 【補正内容】 請求の範囲 １． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、、アルケニル、シクロアルケニ ル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、ヘ テロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヒ ドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキシアルキニル、アラルキル 、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシクリル、カルボキシ、カルボ キシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシアルキル、アルキノキシアル キル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシアルキル、アルコキシアルコ キシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン、アルケニルチオアルキレ ン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアルキル、アルキルアミノ、ア ルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、 アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、ア リールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アル ケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリ ルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルアルキレン、ア シル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、アリーロキシ カルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン、アルコキシ カルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテロシクリロキ シカルボニルアリーレン、アルキルカル ボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニル アルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、 ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、ア リールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、 アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘ テロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシク リル、アルキルヘテロシクリルｓルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン 、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレン、 アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシアルコキシアリ ーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アルコキシヘテロ シクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコキシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘ テロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキレ ン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールアミノカルボニ ルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキ レン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、 アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキ ルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキ ルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリー レン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン 、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオア リーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキ レン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンか ら選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、 アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルア ルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアル キルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロ アルキル、ア ルコキシ、ケトアミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上 の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ 、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアルキル、カルボキシシクロア ルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシアルキルアミノ、アルコキシ カルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アル コキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボ ニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ 、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル 、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケ ト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシ アルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキ ル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテ ロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリ ールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上 の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル 及びアルキルカルボニロキシアルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アリールスルフィニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、ア ミノ、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキル アミノ、シクロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ア ミノカルボニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボ ニル、アリーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカ ルボニルアミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ 、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミ ノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミノカルボニル、ア ルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、ハロアルキル、ア ルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒドラジニル、アリールヒドラジニ ル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はアルキル 又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニ ル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、アルキル、ア ルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、アリールチ オ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルスルフィニル アルキレン、アリールスルフィニルアルキレン、アルキルスルホニルアルキレン 、アリールスルホニルアルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、 アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ 、ニトロ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリ ールアミノアルキレン、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含む フェニル環で、Ｒ1はヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリ ドであるとき、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換のシクロアルキル及び シクロアルケニルか ら選ばれる式Ｉの化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体。 ２． Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルケニル、 低級アルキニル、低級シクロアルキルアルケン、低級ハロアルキル、低級ヒドロ キシアルキル、低級アラルキル、低級アルコキシアルキル、低級メルカプトアル キル、低級アルキルチオアルキレン、アミノ、低級アルキル、低級アリールアミ ノ、低級アルキルアミノアルキレン及び低級ヘテロシクリルアルキレン、若しく は Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０、１、又は２であり、 Ｒ25はヒドリド、低級アルキル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリル アルキル、低級アルコキシアルキレン、低級フェノキシアルキレン、低級アミノ アルキル、低級アルキルアミノアルキル、低級フェノキシアミノアルキル、低級 アルキルカルボニルアルキレン、低級フェノキシカルボニルアルキレン及び低級 ヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は、水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級シクロ アルキルアルキレン、低級フェニルアルキル、低級アルコキシカルボニルアルキ レン及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ27は、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルキニル、 フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシ クリル、低級フェニルアルキル、低級シクロアルキルアルキニル、低級シクロア ルケニルアルキレン、低級シクロアルキルアリーレン、低級アルキルフェニレン 、低級アルキルフェニルアルキル、低級フェニルアルキルフェニレン、低級アル キルヘテロシクリル、低級アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘ テロシクリルフェニレン、低級フェニルアルキルヘテロシクリル、低級アルコキ シアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級アルコキシフェニルアルキル、 低級アルコキシヘテロシクリル、低級アルコキシアルコキシフェニレン、低級フ ェノキシフェニレン、低級フェニルアルコキシフェニレン、低級アルコキシヘテ ロシクリルアルキレン、低級フェノキシアルコキシフェニレン、低級アルコキシ カルボニルアルキレン、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル、低級アルコ キシカルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、低級アミノアルキル、低 級アルキルアミノアルキレン、低級フェニルアミノカルボニルアルキレン、低級 アルコキシフェニルアミノカルボニルアルキレン、低級アミノカルボニルアルキ レン、アリールアミノカルボニルアルキレン、低級アルキルアミノカルボニルア ルキレン、低級フェニルカルボニルアルキレン、低級アルコキシカルボニルフェ ニレン、低級フェノキシカルボニルフェニレン、低級アルキルフェノキシカルボ ニルフェニレン、低級フェニルカルボニルフェニレン、低級アルキルフェニルカ ルボニルフェニレン、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルフェニレン、低 級アルコキシカルボニルアルコキシフェニレン、低級ヘテロシクリルカルボニル アルキルフェニレン、低級アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキ レン、低級アルキルチオフェニレン、低級フェニルアルキルチオフェニレン、低 級ヘテロシクリルチオフェニレン、低級フェニルチオアルキルフェニレン、低級 フェニルスルホニルアミノアルキレン、低級アルキルスルホニルフェニレン、低 級アルキルア ミノスルホニルフェニレンから選ばれ、ここで前記低級アルキル、低級シクロア ルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級 ヘテロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキレン、低級 アルキルヘテロシクリルフェニレン、低級アルコキシフェニレン、低級フェニキ シフェニレン、低級フェニルアミノカルボニルアルキレン、低級フェノキシカル ボニルフェニレン、低級フェニルカルボニルフェニレン、低級アルキルチオフェ ニレン、低級ヘテロシクリルチオフェニレン、低級フェニルチオアルキルフェニ レン及び低級アルキルスルホニルフェニレン基は、低級アルキル、ハロ、低級ハ ロアルキル、低級アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ば れた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は、-ＣＨＲ46Ｒ４７であり、ここでＲ46は低級アルコキシカルボニルで あり、Ｒ47は低級フェニルアルキル、低級フェニルアルコキシアルキレン、低級 ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級アル コキシカルボニルアルキレン、低級アルキルチオアルキレン及び低級フェニルア ルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで前記フェニルアルキル及びヘテロシク リル基は低級アルキル及びニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともに４〜８員環のヘテロ環を形成し、ここで前記 ヘテロ環は、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ば れたアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテ ロシクリルアルキレン、低級フェノキシアルキレン、低級アルコキシフェニレン 、低級アルキルフェニキシアルキレン、低級アルキルカルボニル、低級アルコキ シカルボニル、低級フェニルアルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ及び低 級アルコキシカルボニルアミノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基から選 択的に置換され、ここでフェニルと、ビ フェニルと及びナフチルとから選ばれた前記アリール、低級ヘテロシクリルアル キレン及び低級フェニキシアルキレン基は、ハロゲン、低級アルキル及び低級ア ルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナ フチルとから選ばれたアリール、低級ハロアルキル、低級ヒドロキシアルキル、 ５又は６員環ヘテロシクリル、低級アルキルヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低級 ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級フェニルアル キルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノアルキルアミノ、低級アルキルア ミノアルキルアミノ、低級シクロアルキル、低級アルケニル、低級アルコキシカ ルボニルアルキル、低級シクロアルケニル、低級カルボニルアルキルアミノ、低 級アルコキシカルボニル、低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカル ボニルヘテロシクリル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、 アルコキシカルボニルアルキル、低級アルコキシアルキルアミノ、低級アルコキ シカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルスルホニル、低級ヘテ ロシクリロキシ及び低級ヘテロシクリルチオから選ばれ、ここでアリール、ヘテ ロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、シクロアルキル及びシクロアルケニル基 は、ハロ、ケト、低級アルキル、低級アルキニル、フェニル、５又は６員環ヘテ ロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキル、低級エポキ シアルキル、カルボキシ、低級アルコキシ、低級アリーロキシ、低級フェニルア ルコキシ、低級ハロアルキル、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキ ルアミノ、低級アルキルアミノ、低級アミノ（ヒドロキシアルキル）、低級ヘテ ロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニ ル、低級フェニルアルキルスルホニル及びフェニルスルホニルから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０、１、又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30及びＲ３１は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノ カルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキル から独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア ルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び−ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40から選ばれ、 ここでＲ35はアルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アリー ル、ヘテロシクリル、アラルキル、アリールシクロアルキル、シクロアルケニル アルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルアリーレン、アルキルヘテロ シクリル、アリールアリー レン、アリールヘテロシクリル、アルコキシ、アルケノキシ、アルコキシアルキ レン、アルコキシアラルキル、アルコキシアリーレン、アリーロキシアルキレン 、アラルコキシアルキレン、シクロアルキロキシアルキレン、アルコキシカルボ ニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルキルカルボニロキシアルキレン、アルキ ルカルボニロキシアリーレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルコキシカ ルボニルアリーレン、アラルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルキルカルボ ニルヘテロシクリル、アリールカルボニロキシアルキルアリーレン及びアルキル チオアルキレンから選ばれ、ここで前記アリール、ヘテロシクリル、アラルキル 、アルキルアリーレン、アリールヘテロシクリル、アリーロキシアルキレン、シ クロアルコキシアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルカル ボニルヘテロシクリル基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ハロ アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され、 Ｒ35はＣＨＲ48Ｒ49であり、ここでＲ48はアリールスルホニルアミノ又はアル Ｙキルアリールスルホニルアミノであり、Ｒ49はアラルキル、アミノ、アルキル アミノ及びアラルキルアミノから選ばれ、 Ｒ35は-ＮＲ50Ｒ51であり、ここでＲ50はアルキルであり、Ｒ51はアリールで あり、 ここでＲ36はアルキル、ハロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、シクロア ルキルアルキレン、アルキルアリーレン、アルケニルアリーレン、アリールアリ ーレン、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリルヘテロシクリル、カルボキ シアリーレン、アルコキシアリーレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アル キルカルボニルアミノアリーレン、アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル、 アリールカルボニルアミノアルキルヘテロシクリル、アルキルアミノアリーレン 、アルキルアミノ、アルキルアミノアリーレン、アル キルスルホニルアリーレン、アルキルスルホニルアラルキル及びアリールスルホ ニルヘテロシクリルから選ばれ、前記アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキ ルアルキレン、アラルキル、アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル及びアル キルスルホニルアリーレン基はアルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル、ア ルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素及びアルキルから選ばれ、 ここでＲ38は水素、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロシクリル、アラ ルキル、アルキルアリーレン、アリールシクロアルキル、アリールアリーレン、 シクロアルキルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアルキレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールカルボニル、アルコキシカルボ ニル、アルコキシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、ア ルキルカルボニルカルボニルアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アルキル アミノアラルキル、アルキルカルボニルアミノアリキレン、アルキルチオアリー レン、アルキルスルホニルアラルキル及びアミノスルホニルアラルキルから選ば れ、ヘテロシクリルアルキレン基はアルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル 、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選 択された一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され Ｒ38は-ＣＲ52Ｒ53であり、ここでＲ52はアルコキシカルボニルであり、Ｒ53 はアルキルチオアルキレンであり、また Ｒ37及びＲ38は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、 Ｒ39及びＲ40は請求項１のＲ26及びＲ27と同じ定義であり、 Ｒ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここでＲ41はフェニルであり、Ｒ41はヒドロキシで あり、若しくは Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０から３の整数で、 Ｒ56は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ57は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ56及びＲ57は低級アルキレンブリッジを形成し、 Ｒ58は水素、アルキル、アラルキル、アリールヘテロシクリル、ヘテロシクリ ルアルキル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニ ル、アリールスルホニル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ59、-ＳＯ2Ｒ60及び-Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ61か ら選ばれ、 ここでＲ59はアルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシ クリル、アルキルアリーレン、アラルキル、アルキルヘテロシクリル、アルコキ シ、アルケノキシ、アラルコキシ、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレ ン、アルコキシアラルキルから選ばれ、ここで前記アリール、ヘテロサイクリル 及びアラルキル基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル、アルコキシ 、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ60はアルキル、アリール、ヘテロサイクリル、アルキルアリーレン、 アルキルヘテロサイクリル、アラルキル、ヘテロサイクリルヘテロサイクリル、 アルコキシアリーレン、アルキルアミノ、アルキルアミノアリーレン、アルキル スルホニルアリーレン及びアリールスルホニルヘテロサイクリルから選ばれ、こ こで前記アリ ール、ヘテロサイクリル及びアラルキル基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハ ロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ61はアルキル、アリール、アルキルアリーレン及びアルコキシアリー レンから選ばれ、ここで前記アリール基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロ アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル及び から選ばれ、 ここでＲ43は水素、低級アルキル、低級アミノアルキル、低級アルコキシアル キル、低級アルケノキシアルキル及び低級アリーロキシアルキルから選ばれ、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 低級アルキルチオ、ハロ、低級アルキル、低級アラルキル、低級フェニルアルケ ニル、低級フェニルヘテロシクリル、カルボニル、シアノ、低級アルコキシカル ボニル、アミノカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、低級ハロアルキル 、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級シクロアルキルアミノ、低級アル キルアミノ、低級アルケニルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級アミノアルキ ル、アリールアミノ、低級アラリキルアミノ、ニトロ、ハロスルホニル、低級ア ルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルコキシフェニル アルキルアミノ、低キュア ルキルアミノアルキルアミノ、低級ヒドロキシアルキルアミノ、低級ヘテロシク リルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級フェニルアルキルヘテロ シクリルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルコキシフェニルアル キルアミノ、ヒドラジニル、低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44は低級ア ルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45は低級アルキル又は低級フェニルアル キルであり、 Ｒ4はヒドリド、低級シクロアルキル、低級シクリアルケニル、フェニルと、 ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール及び５又は６員環でヘテロ環 から選ばれ、ここでＲ4の低級シクロアルキル、低級シクロアルケニル、アリー ル及び５〜１０員環にヘテロシクリル基は、低級アルキルチオ、ハロ、低級アル キル、低級アルキニル、低級アルコキシ、低級アリーロキシ、低級アラルコキシ 、低級ヘテロシクリル、低級ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、低級アル キルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換された、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１の化合物。 ３． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ-ブチル、 イソプチル、フルオルメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ メチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、トリクロロエチル、ペンタフルオ ロエチル、ヘプタフルオルプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオ ロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロ プロピル、エテニル、プロペニル、エチニル、プロパルギル、１-プロピニル、 ２-プロピニル、ベンジル、フェニルエチル、モルホリニルメチル、モルホリニ ルエチル、ピロリジニルメチル、ピペラジニルメチル、ピペリジニルメチル、ピ リジニルメチル、チエニ ルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アミノ。メチルアミノ、ジメチル アミノ、フェニルアミノ、メチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチル アミノエチル、ジメチルアミノエチル、エチルアミノエチル、ジエチルアミノエ チル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチ ル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メルカプトメチル及びメチルチオメ チルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、クロロ、フルオロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、イ ソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、フェニル、ビフェニル、フルオロメチル 、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、ト リクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロ クロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピ ル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル 、ピリジニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、チアゾリル、オ キさゾリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベンズ イミダゾリル、フリル、ピラジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニ ル、Ｎ-メチルピペラジニル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニル エチル、Ｎ-メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ、Ｎ -ジエチルアミノ、Ｎ-ｎ-プロピルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-メチル- Ｎ-フェニルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、ピペラジニルアミノ、Ｎ-ベンジルア ミノ、Ｎ-プロパルギルアミノ、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ ル、シクロヘキシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、 シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、アミノメチル、アミノエチル、アミ ノエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノエチルアミノ 、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、モルホ リニルプロピル アミノ、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、メトキシカルボニル 、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１、１-ジメチルエトキシカル ボニル、１、１-ジメチルエトキシカルボニルアミノエチルアミノ、１、１-ジメ チルエトキシカルボニルアミノプロピルアミノ、ピペラジニルカルボニル及び１ 、１-ジメチルエトキシカルボニルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここで 、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル及びシクロアルケニル基は、フル オロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イ ソブチル、ベンジル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロ キシ、トリフルオロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジメチルアミ ノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び１、１-ジメチルエチルカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、Ｒ41はフェニルであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル及びプリニルから選ばれ、ここでＲ3はメチル チオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル 、イソブチル、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカル ボニル、メチルカルボニルアミノ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フ ルオロメチル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、ヒドロキシ 、フルオロフェニルメチル、フルオロフェニルエチル、クロロフェニルメチル、 クロロフェニルエチル、フルオロフェニルエテニル、クロロフェニルエテニル、 フルオロフェニルピラゾリル、クロロフェニルピラゾリル、カルボキシ、メトキ シ、エトキシ、プロピロキシ、ｎ-ブトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジ メチルアミノ、ジエチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、プロパルギルアミノ 、アミノメチル、アミノエチル、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアミ ノ、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、 シクロプロピルアミノ、ニトロ、クロロスルホニル、アミノ、メチルカルボニル 、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメ チルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ 、ヒドロキシエチルアミノ、イミダゾリルエチルアミノ、モルホリニルエチルア ミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリ ジニルメチルアミノ、フェニルメチルピペリジニルアミノ、フェニルメチルアミ ノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルア ミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、メトキシフェニ ルメチルアミノ、ヒドラジニル、１-メチル-ヒドラジニル又は-ＮＲ44Ｒ45から 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここで、Ｒ44はメチ ルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はメチル、エチル若しくはフェニルメチル であり、 Ｒ4はヒドリド、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロピレニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキ セニル、シクロヘキサジエニル、フェニル、ビフェニル、モルホリニル、ピペラ ジニル、ピペリジニル、ピラジニル、チエニル、イソチアゾリル、イソオキサゾ リル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリニル、 イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、ピラジニル、ジヒドロピラニル、 ジヒドロピリジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ リル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリルから選ばれ 、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘテロシクリ ル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピ ル、ｔ-ブチル、イソブチル、エチニル、メトキシ、エトキシ、フェニキシ、ベ ンジロキシ、トリフルオロメチル、フルオロメチル、 ジフルオロメチル、アミノ、シアノ、ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシか ら独立に選択された一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項２記載の化合物。 ４． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロパルギル、ヒドロキシエチル、ジ メチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル又はモルホリニルエチルであり、 Ｒ2はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル 、メトキシカルボニルエチル、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、ピ ペリジニル、ピペラジニル、ピリジニル、Ｎ-メチルピペラジニル及びピペラジ ニルアミノから選ばれ、ここでフェニル、ピペリジニル及びピリジニル基は、フ ルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル及びトリフルオロメチルから独立に選 ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘ テロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、 メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ 、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換される、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項３記載の化合物。 ５． Ｒ1はヒドリド又はメチルであり、 Ｒ2はヒドリド、メチル又はエチルから選ばれ、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジルフェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジル アミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルロロメチル、ニトロ、ジメチル 網のおよびヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 された、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項４記載の化合物。 ６． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ-ブチル、 イソブチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ メチル、ジクロロメチル、トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフ ルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオ ロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、エテニル 、プロペニル、エチニル、プロパルギル、１-プロピニル、２-プロピニル、ベン ジル、フェニルエチル、モルホリニルメチル、モルホリニルエチル、ピロリジニ ルメチル、ピペラジニルメチル、ピペリジニルメチル、ピリジニルメチル、チエ ニルメチル、メトキシ メチル、エトキシメチル、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルア ミノ、メチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチルアミノエチル、ジメ チルアミノエチル、エチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロプロピ ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、ヒドロキシメチ ル、ヒドロキシエチル、メルカプトメチル及びメチルチオメチルから選ばれ、 Ｒ2は式IIIを有し、 ここで ｊは０、１又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30及びＲ31は水素及び低級アルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、低級アルキル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアル キル、低級アルコキシアルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、 低級アルキルアミノアルキル、低級フェニルアミノアルキル、低級アルキルカル ボニルアルキレン、低級フェニルカルボニルアルキレン及び低級ヘテロシクリル カルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、低級アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、 -Ｃ（Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び−ＳＯ2ＮＲ39Ｎ40から選ばれ、 ここでＲ35は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級ハロアルキル、低級ア ルケニル、フェニル、ビフェニル及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテ ロシクリル、低級フェニルアルキル、低 級フェニルシクリルアルキル、低級シクロアルケニルアルキレン、低級ヘテロシ クリルアルキレン、低級アルキルフェニレン、低級アルキルヘテロシクリル、フ ェニルフェニレン、低級フェニルヘテロシクリル、低級アルコキシ、低級アルケ ノキシ、低級アルコキシアルキレン、低級アルコキシフェニルアルキル、低級ア ルコキシフェニレン、低級フェノキシアルキレン、低級フェニルアルコキシアル キレン、低級シクロアルキロキシアルキレン、低級アルコキシカルボニル、低級 ヘテロシクリルカルボニル、低級アルキルカルボニロキシアルキレン、低級アル キルカルボニロキシフェニレン、低級アルコキシカルボニルアルキレン、低級ア ルコキシカルボニルフェニレン、低級フェニルアルコキシカルボニルヘテロシク リル、低級アルキルカルボニルヘテロシクリル、低級フェニルカルボニロキシア ルキルフェニレン及び低級アルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで前記フェ ニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリ ル、低級フェニルアルキル、低級アルキルフェニレン、低級フェニルヘテロシク リル、低級アルコキシフェニレン、低級フェノキシアルキレン、低級シクロアル コキシアルキレン、低級アルコキシカルボニルアルキレン及び低級アルキルカル ボニルヘテロシクリル基は、低級アルキル、ハロ、低級ハロアルキル、低級アル コキシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ば れた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、又は Ｒ35はＣＨＲ48Ｒ49であり、ここでＲ48はフェニルスルホニルアミノ又は低級 アルキルフェニルスルホニルアミノであり、Ｒ49は低級フェニルアルキル、低級 アルキルアミノ及び低級フェニルアルキルアミノから選ばれ、又は Ｒ35は-ＮＲ50Ｒ51であり、ここでＲ50は低級アルキルであり、Ｒ51はフェニ ルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリールであり、 ここでＲ36は低級アルキル、低級ハロアルキル、フェニルと、ビフェニルと及 びナフチルとから選はれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキル アルキレン、低級アルキルフェニレン、低級アルケニルフェニレン、フェニルフ ェニレン、低級フェニルアルキル、低級フェニルアルケニル、低級ヘテロシクリ ルヘテロシクリル、カルボキシフェニレン、低級アルコキシフェニレン、低級ア ルコキシカルボニルフェニレン、低級アルキルカルボニルアミノフェニレン、低 級アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル、低級フェニルカルボニルアミノア ルキルヘテロシクリル、低級アルキルアミノフェニレン、低級アルキルアミノ、 低級アルキルアミノフェニレン、低級アルキルスルホニルフェニレン、低級アル キルスルホニルフェニルアルキル及び低級フェニルスルホニルヘテロシクリルか ら選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたア リール、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキルアルキレン、低級フェニルア ルキル、低級アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル及び低級アルキルスルホ ニルフェニレン基は、低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低 級アルコキシ、低級ハロアルキル、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に 選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素及び低級アルキルから選ばれ、 ここでＲ38は水素、低級アルキル、低級アルケニル、フェニルと、ビフェニル と及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェニルアル キル、低級アルキルフェニレン、低級フェニルシクロアルキル、フェニルフェニ レン、低級シクロアルキルアルキレン、低級ヘテロシクロアルキレン、低級アル キルヘテロシクリルアルキレン、低級フェニルアルキルヘテロシクリル、低級ア ルコキシアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級フェニキシフェニレン、 フェニレンカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル アルキレン、低級アルコキシカルボニル フェニレン、低級アルキルカルボニルカルボニルアルキレン、低級アルキルアミ ノアルキレン、低級アルキルアミノフェニルアルキル、低級アルキルカルボニル アミノアルキレン、低級アルキルチオフェニレン、低級アルキルスルホニルフェ ニルアルキル及び低級アミノスルホニルフェニルアルキルから選ばれ、ここで前 記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシ クリル、低級フェイルアルキル及び低級ヘテロシクリルアルキレン基は、低級ア ルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアル コキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上 の基で選択的に置換され、若しくは、 Ｒ38は-ＣＲ52Ｒ53であり、ここでＲ52は低級アルコキシカルボニルであり、 Ｒ53は低級アルキルチオアルキレンであり、 Ｒ37及びＲ38は窒素原子とともに４〜８員環のヘテロ環を形成し、 Ｒ39及びＲ40は請求項２のＲ26及びＲ２７と同じ定義であり、 Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０から２の整数であり、 Ｒ56は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ57は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ58は水素、低級アルキル、低級フェニルアルキル、フェニルと、ビフェニル と及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルスルホニル、低級フェニ ルアルキルスルホニル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ59、-ＳＯ2Ｒ60及び-Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ61から 選ばれ、 ここでＲ59は低級アルキル、低級ハロアルキル、低級シクロアルキル、フェニ ルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、 低級アルキルフェニレン、低級フェニルアルキル、低級アルキルヘテロシクリル 、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級フェニルアルコキシ、低級アルコキ シアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級アルコキシフェニルアルキルか ら選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリ ール、低級ヘテロシクリル及び低級フェニルアルキル基は、低級アルキル、ハロ 、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルキル、ケト、 アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換され、 ここでＲ60は低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ば れたアリール、低級ヘテロシクリル、低級アルキルフェニレン、低級アルキルヘ テロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルヘテロシクリル、低 級アルコキシフェニレン、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノフェニレン 、低級アルキルスルホニルフェニレン及び低級フェニルスルホニルヘテロシクリ ルから選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれた アリール、低級ヘテロシクリル及び低級フェニルアルキル基は、低級アルキル、 ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、 ケト、アミノ、ニトロ及び シアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ61は低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ば れたアリール、低級アルキルフェニレン及び低級アルコキシフェニレンから選ば れ、ここで前記アリール基は低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルコ キシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル及びプリニルから選ばれ、ここでＲ3はメチル チオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル 、イソブチル、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカル ボニル、メチルカルボニルアミノ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フ ルオロメチル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、ヒドロキシ 、フルオロフェニルメチル、フルオロフェニルエチル、クロロフェニルメチル、 クロロフェニルエチル、フルオロフェニルエテニル、クロロフェニルエテニル、 フルオロフェニルピラゾリル、クロロフェニルピラゾリル、カルボキシ、メトキ シ、エトキシ、プロポキシ、ｎ-ブトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメ チルアミノ、ジエチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、プロパルギルアミノ、 アミノメチル、アミノエチル、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアミノ、フェニルアミノ 、ジフェニルアミノ、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、シクロプロピルアミ ノ、ニトロ、クロロスルホニル、アミノ、メチルカルボニル、メトキシカルボニ ルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、Ｎ、Ｎ -ジメチルアミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチル アミノ、イミダゾリルエチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル- ２-ヒドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ 、フェニルメチルピペリジニルア ミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニ ルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、エチルアミノアＫルボニル、メチル カルボニル、メトキシフェニルメチルアミノ、ヒドラジニル、１-メチル-ヒドラ ジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換され、Ｒ44はメチルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はメチル、エチル又 はフェニルメチルであり、 Ｒ4はヒドリド、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロピレニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキ セニル、シクロヘキサジエニル、フェニル、ビフェニル、モルホリニル、ピロリ ジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピリジニル、チエニル、イソチアゾリル 、イソオキサゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、キノリル、イ ソキノリニル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、ピラジニル、ジヒ ドロピラニル、ジヒドロピリジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、 テトラヒドロフリル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソ リルから選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニルアリール及び ヘテロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル 、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、エチニル、メトキシ、エトキシ、フ ェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメ チル、アミノ、シアノ、ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ば れた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された、若しくは、 その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項２記載の化合物。 ７． Ｒ1はメチル、エチル、プロパルギル、ヒドロキシエチル、ジメチルアミ ノエチル、ジエチルアミノエチル又はモルホリニルエ チルであり、 Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０、１又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30は水素であり、 Ｒ31は水素及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ32は水素及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ33は低級アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ（ Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40から選ばれ、 ここでＲ35は低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニル、低級ヘテロシク リル、低級アルキルフェニルレン、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級ア ルコキシアルキレン、低級フェニキシアルキレン及び低級フェニルアルコキシア ルキレンから選ばれ、前記フェニル及び低級フェニキシアルキレン基は、低級ア ルキル、ハロ及び低級ハロアルキルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 ここでＲ36は低級アルキル、フェニル、低級ヘテロシクリル、低級アルキルフ ェニレン、フェニルフェニレン、低級フェニルアルキル、低級アルキルヘテロシ クリル、低級ヘテロシクリルヘテロシクリル、低級アルコキシフェニレン及び低 級アルキルアミノから選ばれ、ここで前記フェニル及び低級ヘテロシクリル基は 低級アルキル 、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ 、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 ここでＲ37は水素であり、 ここでＲ38は低級アルキル、フェニル及び低級アルキルフェニレンから選ばれ 、 ここでＲ39及びＲ40は請求項２のＲ26及びＲ27と同じ定義であり、 Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０又は１の整数であり、 Ｒ56は水素であり、 Ｒ57は水素であり、 Ｒ58-Ｃ（Ｏ）Ｒ59及び-ＳＯ2Ｒ60から選ばれ、 ここでＲ59は低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニル、低級アルキルフェ ニレン及び低級アルコキシアルキレンから選ばれ、前記フェニル基は、低級アル キル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコ キシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 ここでＲ60は低級アルキルから選ばれ、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3は、フ ルオロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベ ンジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘ テロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、 メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ 、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択的に置換された、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項６記載の化合物。 ８． Ｒ1はヒドリド又はメチルであり、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 されたフェニルから選ばれた、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項７記載の化合物。 ９． Ｒ1がヒドリドである請求項１記載の化合物。 １０． Ｒ1がヒドリドである請求項２記載の化合物。 １１． Ｒ1はヒドリドである請求項３記載の化合物。 １２． Ｒ1はヒドリドである請求項６記載の化合物。 １３． Ｒ1はメチル又はエチルである請求項３記載の化合物。 １４． Ｒ1はメチル又はエチルである請求項６記載の化合物。 １５． Ｒ2はヒドリドである請求項２記載の化合物。 １６． Ｒ2はヒドリドである請求項３記載の化合物。 １７． Ｒ4は選択的に置換基を有するフェニルである請求項２記載の化合物。 １８． Ｒ4は選択的に置換基を有するフェニルである請求項３記載の化合物。 １９． Ｒ4は選択的に置換基を有するフェニルである請求項６記載の化合物。 ２０． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選 ばれる請求項２記載の化合物。 ２１． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項３ 記載の化合物。 ２２． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれ、Ｒ4は選 択的に置換基を有するフェニルである請求項２記載の化合物。 ２３． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれ、Ｒ4は選 択的に置換基を有するフェニルである請求項３記載の化合物。 ２４． ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級 アルキニル、低級アラルキル、低級アミノアルキル及び低キュアルキルアミノア ルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低裕アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロ シクリルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級カルボキシシクロ アルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級アルコキシアルキルアミノ、低 級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルカルボニル 、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級アルコキシカルボニルヘテ ロシリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及びヘテロアリール基はハロ、 低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキシ、低級アルキルアミノアルキルア ミノ、低級アルキルアミノ、低級ヘテロシクリルアリキルアミノ、低級アルキル カルボニル及び低級アルコキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上 の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここでＲ41はフェニルであり、Ｒ42はヒドロキシで あり、 Ｒ4はヒドリド、低級シクロアルキル、低級シクロアルケニル、低級シクロア ルキルジエニル、５又は６員環のヘテロ環及びフェニルと、ビフェニルと及びナ フチルから選ばれたアリールから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アルキル、低 級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、低級アル キルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基て選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシク リルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルコキシアラルキルアミノ 、ヒドラジル及び低級アルキルヒドラジル又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ、ここで Ｒ44は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45は低級アルキル又は低級 フェニルアルキルである式ＩＸ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体を有する請求項１記載の化合物。 ２５． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギル から選ばれ Ｒ2はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル 、ヒドロキシエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、 Ｎ-メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチル アミノ、Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル 、アミノエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジル アミノ、ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホ リニルエチルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニ ル、ピリジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１- ジメチル）エチルカ ルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルアミノ、（１ 、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニルカルボニ ル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここでフェニ ル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニル 基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチル 、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、１ -ジメチル）エトキシカルボニルから独立にえらばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 Ｒ4はシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、フェニル 、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジヒドロピラニル、 ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここ でＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミ ノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニ ルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及 び１-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ、Ｒ44はメチルカルボニ ル又はアミノであり、Ｒ45はメチル又はベンジルである、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項２４の化合物。 ２６． Ｒ1はヒドリドである請求項２４の化合物。 ２７． Ｒ1はヒドリドである請求項２５の化合物。 ２８． Ｒ1は低級アルキルである請求項２４の化合物。 ２９． Ｒ1は低級アルキルである請求項２５記載の化合物。 ３０． Ｒ2はヒドリドである請求項２４の化合物。 ３１． Ｒ2はヒドリドである請求項２５の化合物。 ３２． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項２ ４記載の化合物。 ３３． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項２ ５の化合物。 ３４． Ｚは炭素原子を表わす請求項２５の化合物。 ３５． ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1は低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、低級アミノ アルキル及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれたアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれた５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキル、低級ヘテ ロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシクリル、低級カルボキシシク ロアルキル、低級買うＲボニルアルキルアミノ、低級アルコキシアルキルアミノ 、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルカルボ ニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級アルコキシカルボニル ヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及びヘテロシクリル基は 、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキシ、低級アルキルアミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここでＲ41はフェニルであり、Ｒ42はヒドロキシで あり、 Ｒ4は５又は６員環のヘテロ環及びフェニルと、ビフェニルと、ナフチルとか ら選ばれたアリールから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アルキル、低級アルコ キシ、アルーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、低級アルキルチオ 、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選択された一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシク リルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルコキシアラルキルアミノ 、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ、 ここでＲ44は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45は低級アルキルま たは低級フェニルアルキルである式Ｘ、若しくは、 その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ３６． Ｒ1はメチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギルから選ばれ 、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカル ボニルエチル、Ｎ-メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、 Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチ ル、アミノエチル、アミノエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギル アミノ、ベンジルアミノ、ピペラジニルアミノ、ジメチルアミノエチルアミノ、 ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエ チルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリ ジニル、Ｎ-メチルピペラジニル、カルボメチルアミノ、メトキシエチルアミノ 、（１、１-ジメチル）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニ ルアミノプロピルアミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチル アミノ、ピペラジニルカルボニル及び１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカル ボニルから選ばれ、ここでフェニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリ ル、モルホリニル及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチ ル、エチル、トリフルオロメチル、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、 エトキシカルボニル及び（１、１-ジメチル）エトキシカルボニルから独立に選 ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エ チル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、 ２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノエチルアミノ、ヒドロ キシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、プロパルギルアミノ、イミダゾ リルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エチル アミノ、ピペリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピペリジニルアミノ、アミ ノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ、メチルカルボニル、エ トキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、フェニルメチルアミ ノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルア ミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び１-メチルヒドラジニル 、又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ、ここでＲ44はメチルカルボニル又はアミノであ り、Ｒ45はメチル又はベンジルである、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項３５の化合物。 ３７． Ｒ1は低級アルキルである請求項３５記載の化合物。 ３８． Ｒ1は低級アルキルである請求項３６記載の化合物。 ３９． Ｒ2はヒドリドである請求項３５の化合物。 ４０． Ｒ2はヒドリドである請求項３６の化合物。 ４１． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルから 選ばれる請求項３５記載の化合物。 ４２． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルから 選ばれる請求項３６記載の化合物。 ４３．Ｚは炭素原子を表わす請求項３５記載の化合物。 ４４． ここで Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1は低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、低級アミノ アルキル及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロ シクリルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシ クリル、低級カルボキシシクロアルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級 アルコキシアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、 低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び 低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル から選ばれ、ここでアリール及びヘテロアリール基は、ハロ、低級アルキル、ケ ト、アラルキル、カルボキシ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキ ニルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び 低級アルコキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換され、 Ｒ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここでＲ41はフェニルであり、Ｒ42はヒドロキシで あり、 Ｒ4は５又は６員環のヘテロアリールと、並びにフェニルと、ビフェニルと及 びナフチルとから選ばれるアリールとから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アル キル、低級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、 低級アルキルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロシクロアルキル、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級アラルキルヘテロシクリルアミ ノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルコキシアラルキルアミノ、ヒドラ ジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ、ここでＲ4 4 は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45は低級アルキル又は低級フ ェニルアルキルであるＸＩ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ４５． Ｒ1はメチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギルから選ばれ 、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエ チルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリ ジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチル ）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルア ミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニ ルカルボニル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、こ こでフェニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル及び ピリジニル基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフル オロメチル、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及 び（１、１-ジメチル）エトキシカルボニルから独立して選ばれる一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エ チル、メトキシ、エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエ チル、フルオロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メト キシカルボニル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メト キシ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ 、ジメチルアミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチル アミノ、イミダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒ ドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェ ニルメチルピペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ 、ヒドロキシ、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニ ルメチルアミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フル オロフェニルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、ヒドラジニル及び１-メ チルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ、ここでＲ44はメチルカルボニ ル又はアミノであり、Ｒ45はメチル又はベンジルであり、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項４４記載の化合物。 ４６． Ｒ1は低級アルキルである請求項４４の化合物。 ４７． Ｒ1は低級アルキルである請求項４５記載の化合物。 ４８． Ｒ2はヒドリドである請求項４４記載の化合物。 ４９． Ｒ2はヒドリドである請求項４５記載の化合物。 ５０． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルから 選ばれる請求項４４記載の化合物。 ５１． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルであ る請求項４５記載の化合物。 ５２． Ｚは炭素原子を表わす請求項４４記載の化合物。 ５３． ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、 低級アルキニル、低級アミノアルキル及び低級アルキルアミノから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシクリル 、低級カルボキシシクリルアルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級アル コキシアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級 ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級 アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及 びヘテロアリール基は、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキシル 、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシク リルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニルか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、Ｒ41はフェニルであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ4はハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキ シ、低級ハロアルキル、低級アルキルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒド ロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選的に置換されたフェニルで あり、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、、カ ルボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級 アルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロ シクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシ クリルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルコキシアラルキルアミ ノ、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から選ばれ 、ここでＲ44は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45は低級アルキル 又は低級フェニルアルキルである式ＩＸ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ５４． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、ヒドロイしエチル及びプロパルギル から選ばれ、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエ チルアミノ、ピウペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピ リジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチ ル）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピル アミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジ ニルカルボニル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、 ここでフェニル、ピペリジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニル基 は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチル、 ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、１- ジメチル）エトキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 されたフェニルであり、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾール、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、 ２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノエチルアミノ、ヒドロ キシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミダゾリルアミノ、モルホリ ニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニル アミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピペリジニルアミノ、アミノ メチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ、メチルカルボニル、エト キシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、フェニルメチルアミノ 、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルアミ ノカルボニル、ヒドラジニル及び１-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ44Ｒ45から 選ばれ、ここでＲ44はメチルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はメチル又はベ ンジルであり、若しくは 製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項５３記載の化合物。 ５５． Ｒ1はヒドリド又は低級アルキルである請求項５３の化合物。 ５６． Ｒ1はヒドリド又は低級アルキルである請求項５４記載の化合物。 ５７． Ｒ1はヒドリドである請求項５３記載の化合物。 ５８． Ｒ1はヒドリドである請求項５４記載の化合物。 ５９． Ｒ2はヒドリドである請求項５３記載の化合物。 ６０． Ｒ2はヒドリドである請求項５４記載の化合物。 ６１． Ｒ4はフルオロ、クロロ又はブロモの一つ又はそれ以上ので置換された フェニルである請求項５３記載の化合物。 ６２． Ｒ4はフルオロ、クロロ又はブロモの一つまたはそれ以上で置換された フェニルである請求項５４記載の化合物。 ６３． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項５ ３記載の化合物。 ６４． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項５ ４記載の化合物。 ６５． Ｚは炭素原子を表わす請求項５３記載の化合物。 ６６．ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル及び低級アルキニル から選ばれ、 Ｒ2はヒドリド及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ4はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルは一つ又 はそれ以上のハロ基で選択的に置換され、 Ｒ5はヒドリド、ハロ及びアルキルヒドラジニルから選ばれる式ＩＸ、若しく は その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ６７． Ｚは炭素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、メチル、ヒドロキシエチル、プロパルギルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリドであり、 Ｒ4はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルはクロロ 、フルオロ及びブロモから独立して選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置 換され、 Ｒ5はヒドリド、フルオロ及び１-メチルヒドラジルから選ばれる、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項６６記載の化合物。 ６８． Ｚは炭素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド及びメチルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリドであり、 Ｒ4はクロロ、フルオロ及びブロモから独立して選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換されたフェニルから選ばれ、 Ｒ5はヒドリド及びフルオロから選ばれる、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項６７記載の化合物。 ６９． ４-［５-（３-フルオロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラ ゾール-４-イル］ピリジン； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル） ピリジン； ４-［５-メチル-３-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［５-Ｍ、エチル-３-（４-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-メチル-３-［４-（メチルチオ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（２、５-ジメチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（１、３-ベンゾジオキソール-５-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（４-フェノキシフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-［（１、１’-ビフェニル）-４-イル］-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（３-フェノキシフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［３-メチル-５-［３-（フェニルメトキシ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-［２-（フェニルメトキシ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ２-［３-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］フェノール ； ３-［３-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］フェノール ； １-ヒドロキシ-４-［３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-３-アミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-（トリフルオロメチル）-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５- イル］ピリジン； ４-（５-シクロヘキシル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-（３-フルオロ-５-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-プロピル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）メチル］ピリジン； ４-［３、５-ビス（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［４-メチル-２-（２-トリフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（２-クロロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-メチル-３-（２、４-ジメチルフェニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-１、３-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（３-フルオロ-２-メチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（３、５-ジメチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（３、５-ジメトキシフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-メチル-３-（３-ニトロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-［５-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］ベンゼンアミン； ４-［３-（２、３-ジヒドロベンゾフラン-５-イル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（２-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾ-４-イル］ピリジン ； ４-［３-メチル-５-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-（３-エチル-４-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-（３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-エチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３、４-ジフルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-（エトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［３-メチル-５-［４-（トリフルオロメチルフェニル］*１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（３-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（２、４-ジクロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３-クロロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ３-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-プロパ ン酸エチル； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［３-メチル-５-（２-メチルフェニル）-１Ｈ−ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン-２-アミン； ５-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリミジン-２-アミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-アミン； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-アミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ２-メトキシ-５-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ２-メトキシ-５-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- メトキシピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（４-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-オール］ピリ ジン-２-オール； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-オール； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-オール； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-メタンアミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-フルオロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（４-フルオロ-３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロ-３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（２、３-ジヒドロベンゾフラン-６-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-［５-（ベンゾフラン-６-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［５-（３-フルオロ-５-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-クロロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（１-シクロヘキセン-１-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-（１、３-シクロヘキサジエン-１-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［５-（５、６-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン-４-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-（５-シクロヘキシル-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（４-メトキシ-３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-メトキシ-４-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-メトキシ-５-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-フリル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ２-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ２-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-カルボン 酸メチル； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-カルボサ ミド； １-［４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-イ ル］エタノン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラ ゾール-２-イル）ピリジン-２-アミン； ３-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ３-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-カルボン 酸メチル； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-カルボサ ミド； １-［４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-イ ル］エタノン； ３-ブロモ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-２-イル）ピリ ジン-３-アミン； ２-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン； ２-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール）-４-イル）ピリミ ジン； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン-２-アミン ； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリ ミジン-２-アミン； ４-（５、６-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン-４-イル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピ ラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（３-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-フリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（２-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール； ４-（２-フリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-イソチアゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-イソオキサゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（５-イソチアゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（５-イソオキサゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（５-チアゾリル）-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-４-（５-オキサゾリル）-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ２-メチル-４-［３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-（１-メチル-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ２-メチル-４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メチルピリジ ン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］-２-メチルピ リジン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン二水和物； ５-（３-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン； Ｎ-メチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； Ｎ-エチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； Ｎ、Ｎ-ジエチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジエチル-４-（４-ピリジル）-１Ｈ-ピラゾ ール-３-アミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］モルホリン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-プロピル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-（フェニルメチル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ -ピラゾール-３-アミン水和物（２：１）； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-（２-メトキシエチル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-３-アミン一水和物； １、１-ジメチルエチル-４-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル） -１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカルボキシレート； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］ピペラジン・三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-メチルピペラジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１-ピペラジンカルボン酸１、１-ジメチルエチル； １-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］ピペラジン三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］ピペラジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-［２-（フェニルメチル）アミノ-４-ピリジ ニル］-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１、３-プロパンジアミン三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-（フェニルメチル）ピペラジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-（１-ピペラジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリミジン二塩酸塩； １、１-ジメチルエチル ［３-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジ ニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］プロピル］カルバメート； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１、３-プロパンジアミン三塩酸塩一水和物； １、１-ジメチルエチル［２-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］エチル］カルバメート； １、１ジメチルエチル ４-［５-（４-クロロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエ チル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカル ボキシレート； １、１-ジメチルエチル ４-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリミジ ニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカルボキシレート； １、１-ジメチルエチル ［３-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（２-フルオ ロ-４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］プロピル］カルバメー ト； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-エチルピペラジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１、２-エタンジアミン； ４-［３-（２、６-ジフルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（３-エチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-５-エチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-エチル-５-（３-エチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-５-（１-メチルエチル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-シクロプロピル-５-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-（４-トリフルオロメチル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン； ４-［５-シクロプロピル-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ５-シクロプロピル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ- ピラゾール-１-エタノール； ３-（４-フルオロフェニル）-５-（２-メトキシ-４-ピリジニル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］-２（１Ｈ）-ピリジノン； １-アセチル-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）- ４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］-２（１Ｈ）-ピリジノン； エチル ２-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（ ４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］シクロプロパンカルボキシレート ； ２-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチ ル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］シクロプロパンカルボ ン酸； ３-（４-フルオロフェニル）-５-（４-イミダゾリル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-（４-クロロ-３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-カル ボン酸； ５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-メタ ノール； １-［［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-イル］カルボニル］ピペラジン； １、１-ジメチルエチル ４-［［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジ ニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］カルボニル］-１-ピペラジンカルボキシレー ト； ４-（１、５-ジメチル-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-（１、３-ジメチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン： ４-［３-（４-クロロフェニル）-１、５-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-１、３-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-エチル-１-メチル-３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-エチル-１-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-エチル-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-２-エチル-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（２-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタ ノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリミジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エ タノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ２-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］-１-ブタノール； ４-［５-ブロモ-３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボニトリル； ４-［２-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-１-イル］エチル］モルホリン； ３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-α-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-５-メタノール； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］-４-モルホリンエタンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２（１Ｈ）-ピリ ジノンヒドラゾン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニルメ チル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］-Ｎ-（フェニルエチル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-エチル-２-ピ リジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボキサミド； メチル ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピ リジンカルボキシレート； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-メチル-２- ピリジンカルボキサミド； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボン酸； ４-［３-（２-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソ-５-イル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソ-５-イル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ チルピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ チルピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ２-メチル-４-［１-メチル-３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ２-メチル-４-［１-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［１-メチル-３-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３（３、４-（ジフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［３-（４-（クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フルオロピ リジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３（３、４-（ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン；４-［３-（４-ブロモフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； （Ｅ）-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-（２ -フェニルエテニル）ピリジン； （Ｓ）-４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（２- メチルブチル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-メトキ シフェニル）メチル］-２-ピリジンアミン； Ｎ-［４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］-２-ピリジニル］-２-ピリジンメタンアミン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ニル］-２-ピリジンメタンアミン； ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［３-（４-ヨードフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-ヨードフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［１-メチル-３-［４-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； Ｎ-［１-（４-フルオロフェニル）エチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンアミン； Ｎ-［（３-フルオロフェニル）メチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１ Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- （１-メチルヒドラジノ）ピリジン； ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フル オロピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-３-メチルピリ ジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-３- メチルピリジン； ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］-２-フルオロピリジン； ３-（４-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-１-エタンナミン； ２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］-４-［３-４-フルオロフェニル）-１ -メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［１-（フェ ニルメチル）-４-ピペリジニル］-２-ピリジンアミン； Ｎ’-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１、２-エタンジアミン； ２、４-ビス［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ニル］-４-モルホリンエタンアミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-１-エタノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［２-（１Ｈ -イミダゾール-１-イル）エチル］-２-ピリジンアミン； ４-［２-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-１-イル］エチル］モルホリン； （Ｅ）-３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エ テニル］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-Ｎ、Ｎ-ジメ チル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］- ４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［１-［２-（ジメチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-２-ピリジンアミン； ４-［１-［２-（ジメチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-２-ピリジンア ミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］- ４-ピリジニル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-４-［３（又は５）-（４-フルオロフェ ニル）-１-［２-（４-モルホリニル）エチル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- ピリジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-ピペラジニ ル-２-ピリジンアミン； Ｎ、Ｎ-ジエチル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； ４-［１-［２-（ジエチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-２-ピリジンア ミン； ２-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］エタノール； ３-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］-１-プロパノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［４-フルオロフェニル］メチル］アミノ ］-４-ピリジニル-１Ｈ-ピラゾール-１- エタノール； ５-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［４-フルオロフェニル］メチル］アミノ ］-４-ピリジニル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； Ｎ、Ｎ-ジエチル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-１-エタンアミン； Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１- ［２-（４-モルホリニル）エチル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンア ミン； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］-４-モルホリンプロパンアミン； Ｎ’-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１、３-プロパンジアミン； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-２-プロピニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［［（４-フルオロフェニル）メチル］ア ミノ］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ５-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［［（４-フルオロフェニル）メチル］ア ミノ］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-［（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］キノリン； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］グリシンメチルエステル； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］グリシン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４、４’-（１Ｈ-ピラゾール-３、４-ジイル）ビス［ピリジン］； ４-［３-（３、４-ジクロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-ピペリジンアミン； ２-クロロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２（１Ｈ）-ピ リミジノンヒドラゾン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチ ル-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-メチル-２- ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニル メチル）-２-ピリミジンアミン； Ｎ-シクロプロピル-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-メト キシフェニル）メチル］-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリミジン アミン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリミ ジニル］-Ｎ-（フェニルメチル）アセタミド； エチル ［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- ピリミジニル］カルバメート； ４-［３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン；及 び ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジンから 成る群の化合物、それらの互変異性体及びそれらの製薬的に許容な塩から選ばれ る請求項１記載の化合物。 ７０． ７１． ４-［５-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ７２． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ７３． ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- １-エタノール又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の 化合物。 ７４． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル−１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］-２-（１-メチルヒドラジノ）ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変 異性体である請求項１記載の化合物。 ７５． １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-イル］ピペラジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ７６． ４-［３-シクロプロピル-５-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１ 記載の化合物。 ７７． ４- ［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ７８． １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-イル］-４-メチルピペラジン、又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体 である請求項１記載の化合物。 ７９． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ８０． ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の 化合物。 ８１． ４-［３-（３、４−ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール -４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記 載の化合物。 ８２． ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン 又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ８３． ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フル オロピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化 合物。 ８４． ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソル-５-イ）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ８５． ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化 合物。 ８６． ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピ リジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ８７． ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-２-プロピニル-４-（４-ピリジニル） -１Ｈ-ピラゾール-３-アミン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請 求項１記載の化合物。 ８８． ｐ３８キナーゼのＡＴＰ結合部位へ特別に結合する置換基を有するピラ ゾール。 ８９． ここで、 Ｒ1は約３６０原子単位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒ ドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ2はｐ３８キナーゼの前記ＡＴＰ結合部位に結合するヒドロカルビル、ヘテ ロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり Ｒ3は水素結合受容性機能を有するヒドロカルボニル、ヘテロ置換 カルボニル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ4は約３６０原子質量位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換 ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環であり、Ｒ1がヒドリドのとき、 Ｒ3は２-ピリジニルではなく、Ｒ4がヒドリドのとき、Ｒ2はアリール、ヘテロシ クリル、無置換シクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれ、Ｒ4はメチル スルホニルフェニルではない式ＸＩＩを有する、若しくはその製薬的に許容な塩 又は互変異性体である請求項８８記載の化合物。 ９０． Ｒ2はｐ３８きなーぜの前記ＡＴＰ結合部位のＬｙＳ52、Ｇｌｕ69、Ｌ ｅｕ73、Ｉｌｅ82、Ｌｅｕ84 、Ｌｅｕ101及びＴｈｒ103側鎖に結合し、ＡＴＰ 結合部位でｐ３８キナーゼによる前記結合中に形成される疎水性空内に実質的に 配置されるヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基で ある請求項８９記載の化合物。 ９１． Ｒ3はｐ３８キナーゼのＭｅｔ106のＮ-Ｈ骨格と水素結合する水素結合 受容機能を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリ ル基であ請求項８９記載の化合物。 ９２． Ｒ1は約２５０原子質量単位以下である分子量を有するヒドロカルビル 、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基である請求項８９記載の化合 物。 ９３． Ｒ4は約２５０原子質量単位以下である分子量を有するヒドロカルビル 、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基である請求項８９記載の化合 物。 ９４． Ｒ1は約３６０原子質量単位行かの分子量を有するヒドロカルビル、ヘ テロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ2はヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であ り、ｐ３８キナーゼの前記ＡＴＰ結合部位のＬｙｓ52、Ｇｌｕ69、Ｌｅｕ73、Ｉ ｌｅ82、Ｌｅｕ94、Ｌｅｕ101及びＴｈｒ103側鎖と結合し、前記基はＡＴＰ結合 部位でｐ３８キナーゼによる前記結合中に形成される疎水性空洞内に実質的に配 置され、 Ｒ3はｐ３８キナーゼのＭｅｔ106のＮ-Ｈ骨格と水素結合する水素結合受容機 能を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基で あり、 Ｒ4は約３６０原子質量単位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置 換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基である請求項８９記載の化合物。 ９５． Ｒ1及びＲ2はヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシ クリル基から独立に選ばれ、約３６０原子質量単位以下の結合分子量を有する請 求項９４の化合物。 ９６． 請求項１の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物の治 療に有効な量を含む製薬組成物。 ９７． 前記化合物は請求項３の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれ る請求項９６記載の製薬組成物。 ９８． 前記化合物は請求項４の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれ る請求項９６記載の製薬組成物。 ９９． 前記化合物は請求項５の化合物、又はその製薬的に許容な 塩から選ばれる請求項９６記載の製薬組成物。 １００． 前記化合物は請求項６の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ば れる請求項９６記載の製薬組成物。 １０１． 請求項２４の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０２． 前記化合物は請求項２５記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０１記載の製薬組成物。 １０３． 請求項２５の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０４． 前記化合物は請求項３６記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０３記載の製薬組成物。 １０５． 請求項４４の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０６． 前記化合物は請求項４５記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０５記載の製薬組成物。 １０７． 請求項５３の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０８． 前記化合物は請求項５４記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０７記載の製薬組成物。 １０９． 請求項６６の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １１０． 請求項６９の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １１１． 前記化合物が４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン若しくはその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１ １０記載の製薬組成物。 １１２． ＴＮＦ媒介疾患の治療方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキ ルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシク リルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスル フィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスル ホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、 ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルア ルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、 アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテ ロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリー ルカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカル ボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアル キレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシア リーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキ シアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキ ル、アルキルアミノアルキル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルア ルキレン、アリールカルボニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノ アルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリー レン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリー レン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチ オアルキレン 、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオア リーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキ レン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンか ら選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、 アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルア ルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアル キルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロ アルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた 一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルア ミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキル スルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しく は Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、かか る疾患を患っている若しくはかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１３． ｐ３８媒介疾患を治療する方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニル アルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリ ーレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキ レン、アリールカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、 アルキルカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボ ニロキシアルキレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカル ボニロキシアリーレン、アリールカル ボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ 、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアル キレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル カルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキレン、アリール アミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールアミノカルボニルアルキレン 、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルキ ルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、アルコキシカ ルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキルアリーロキ シカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルアリールカ ルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリーレン、アルコ キシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリ ーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチ オアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、ア リールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキ ルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、こ こで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシア リーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、ア リーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチ オアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレ ン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、ア ルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキ シカルボニルアルキレン、アルキルチオアルキレン及びアラルキルチオアルキレ ンから選ばれ、ここで、前記アラルキル及びヘテロシクリル基は、アルキルおよ びニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコ キシアルキルアミノ、アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロ シクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシク リルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、 アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カ ルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキル、アルキル アミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニ ル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ばれた一つ又は それ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシ クリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び−ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ3 8 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立 に選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシク リルアミノ、アミノカルボニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル 、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィ ニル、アミノスルホニル、アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキル アミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロ シクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミ ノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒ ドラジニル、アルキルヒドラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44 Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44 はアルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり 、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニ ルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換のシクロアルキル及 びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、かか る疾患を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１４． 炎症を治療する方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニル アルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン 、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレ ン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘ テロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリ ールカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカ ルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニ ルアリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシア ルキレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシ アリーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロ キシアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリー レン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリー レン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチ オアルキレン、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシ クリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニル アミノアルキレン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニル アリーレンから選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテ ロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリル アリーレン、 アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルア ルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアル キルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロ アルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ 、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのアルキルアミノ 、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアリ ーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミノ、シクロア ルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、アルキルチオ、 アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアルキル、カルボ キシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシアルキルアミノ 、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニルア ルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボニルアミノア ルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基 は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテ ロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ （ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ 、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキル アミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカル ボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基て選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、炎症 を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１５． 関節炎を治療する方法であって、 １． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル 、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシアルキル、アル キノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシアルキル、アル コキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン、アルケニル チオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアルキル、アルキ ルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシク リルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスル フィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスル ホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、 ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルア ルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、 アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテ ロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリー ルカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカル ボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアル キレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシア リーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキ シアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリー レン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリー レン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチ オアルキレン、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシ クリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニル アミノアルキレン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニル アリーレンから選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテ ロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリル アリーレン、アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノ カルボニルアルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニ ルアリーレン、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリ ールチオアルキルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル 、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立 に選ばれた一つ又はそれ以上の基て選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシ クリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基 は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテ ロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ （ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ 、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキル アミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカル ボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、- ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ（Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36 、Ｒ37、Ｒ38、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシク リルから独立に選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテ ロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシアラルキ ルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、アルキルアミノアルキルア ミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキル アミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミノカルボニル 、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、ハロアルキル 、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒドラジニル、アリールヒドラ ジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はアル キル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、関節 炎を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１６． ｐ３８キナーゼ媒介疾患を治療する方法であって、 ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル及び低級アルキニル から選ばれ、 Ｒ2はヒドリド及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ3はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルは一つ又 はそれ以上のハロ基で選択的に置換され Ｒ5はヒドリド、ハロ及びアルキルヒドラジニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、かか る疾患を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１７． ＴＮＦ媒介疾患は骨吸収、移植片対宿主反応、アテローム硬化症、関 節炎、骨関節炎、リウマチ関節炎、痛風、乾癬、局所炎症状態、大人呼吸窮迫症 候群、喘息、慢性肺炎症病、心臓再灌流損傷、腎再灌流損傷、血栓、腎炎、クロ ーン病、潰瘍性大腸炎、炎症性腸病及び悪液質からなる疾患の群から選ばれる請 求項１１２の 方法。 １１８． ＴＮＦ媒介疾患が炎症である請求項１１２記載の方法。 １１９． ＴＮＦ媒介疾患が関節炎である請求項１１２記載の方法。 １２０． ＴＮＦ媒介疾患が喘息である請求項１１２記載の方法。 １２１． 化合物は４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン又はその製薬的に許容な炎又は互変異性体である請求項１１２記載 の方法。 １２２． 化合物は１-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-３-イル］-４-メチルピペラジン又はその製薬的に許容な塩又は 互変異性体である請求項１１２記載の方法。 １２３． 疾患はｐ３８αキナーゼ媒介疾患である請求項１１３記載の方法。 １２４． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は、骨吸収、移植片対宿主反応、アテローム 硬化症、関節炎、骨関節炎、リウマチ関節炎、痛風、乾癬、局所炎症状態、大人 呼吸窮迫症候群、喘息、慢性肺炎症病、心臓再灌流損傷、腎再灌流損傷、血栓、 腎炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、炎症性腸病及び悪液質からなる疾患の群から 選ばれる請求項１１３の方法。 １２５． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は炎症である請求項１１３の方法。 １２６． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は関節炎である請求項１１３記載の方法。 １２７． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は喘息である請求項１１３記載の方法。 １２８． 疾患はｐ３８αキナーゼ媒介疾患である請求項１１６記載の方法。 １２９． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は、骨吸収、移植片対宿主反応、アテローム 硬化症、関節炎、骨関節炎、リウマチ関節炎、痛風、乾癬、局所炎症状態、大人 呼吸窮迫症候群、喘息、慢性肺炎症病、心臓再灌流損傷、腎再灌流損傷、血栓、 腎炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、炎症性腸病及び悪液質からなる疾患の群から 選ばれる請求項１１６の方法。 １３０． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は炎症である請求項１１６の方法。 １３１． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は関節炎である請求項１１６記載の方法。 １３２． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は喘息である請求項１１６記載の方法。 １３３． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニル アルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリ ーレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン 、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリ ールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカ ルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリル カルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカル ボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ 、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、 アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキルヘテロシクリル、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アラルキル ヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレン、アルコキシア ラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシアルコキシアリーレン、アリ ーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アルコキシヘテロシクリルアル キレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル カルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキレン、アリール アミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールアミノカルボニルアルキレン 、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルキ ルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、アルコキシカ ルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキルアリーロキ シカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルアリールカ ルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリーレン、アルコ キシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリ ーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチ オアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、ア リールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキ ルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、こ こで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシア リーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、ア リーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチ オアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレ ン及びアルキ ルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケ ト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル 、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシク リルチオ、カルボキシ、カルボキシアルキル、カルボキシシクロアルキル、カル ボキシシクロアルケニル、カルボキシアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、 ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、アルコ キシアルキルアミノ、アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロ シクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシク リルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、 アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カ ルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキル、アルキル アミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニ ル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ばれた一つ又は それ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキル アミノアルキル、アミノカルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキル カルボニロキシアルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスル ホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、 アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニ ルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボニル、シアノ 、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリーロキシカル ボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコ キシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、アルキルアミ ノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシク リルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミ ノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、 ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒドラジニル、ア リールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又はアミノであり 、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換された式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体のピラゾールの合成方法であって、 前記方法はアシルヒドラゾンを生成させ、縮合させて置換基を有するピラゾー ルを生成させる工程から成る方法。 １３４． アシルヒドラゾンはケトンとアシルヒドラジドとの反応により生成さ せる請求項１３３記載の方法。 １３５． 縮合は約２５℃から約２００℃の温度で行われる請求項１３３記載の 方法。 １３６． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカ プトアルキル、アルキルチオアルキレン、アルケニルチオアルキレン、アルキル チオアルケニレン、アミノ、アミノアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミ ノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスル フィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、アリールスルフ ィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホ ニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル 、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルアルキレン、アシル、アシロ キシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、アリーロキシカルボニルア ルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルア リーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテロシクリロキシカルボニル アリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、 ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリー ルカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカル ボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリルカ ルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカルボ ニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ、 若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリー レン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリー レン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルアリーレン、アルコキシカルボニ ルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリーレン、アル キルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチオアリーレン 、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオア ルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキルスルホニル アリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、ここで前記アル キル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリ ルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシアリーレン、ア リーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アリーロキシカ ルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチオアリーレン 、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレン及びアルキ ルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケ ト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに 前記アリール、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハ ロゲン、アルキル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルア ミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキル スルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基 で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカ ルボニル又はアミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換された式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体のピラゾールの合成方法であって、 前記方法は置換基を有するケトンとアシルヒドラジドとを処理してピラゾール を生成させる工程から成る方法。 １３７． 酸性溶媒中で行われる請求項１３６記載の方法。 １３８． 酸性溶媒は酢酸である請求項１３７記載の方法。 １３９． 酸性溶媒は酸を含有する有機溶媒である請求項１３７の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/454 Ａ６１Ｋ 31/454 31/4545 31/4545 31/496 31/496 31/498 31/498 31/506 31/506 31/52 31/52 31/5377 31/5377 Ａ６１Ｐ 1/04 Ａ６１Ｐ 1/04 3/14 3/14 7/02 7/02 9/10 9/10 １０１ １０１ 11/00 11/00 11/06 11/06 17/06 17/06 19/02 19/02 19/06 19/06 29/00 29/00 １０１ １０１ 37/06 37/06 43/00 １１１ 43/00 １１１ Ｃ０７Ｄ 401/14 Ｃ０７Ｄ 401/14 403/04 403/04 405/14 405/14 409/04 409/04 409/14 409/14 413/04 413/04 413/14 413/14 417/04 417/04 451/02 451/02 473/00 473/00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ， ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，Ｌ Ｓ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ， ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，Ｅ Ｅ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ， ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，Ｍ Ｄ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ， ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，Ｕ Ｚ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 コリンズ，ポール ダヴリュ アメリカ合衆国 イリノイ州 60015 デ ィアフィールド ホーソーン・プレイス 1557 (72)発明者 クリッチ，ジョイス ズオウ アメリカ合衆国 イリノイ州 60025 グ レンビュー ジー・トップ・レーン 1501 (72)発明者 デヴラジ，ラジェシュ アメリカ合衆国 ミズーリ州 63017 チ ェスターフィールド ウエストミード・コ ート 41 (72)発明者 フリン，ダニエル エル アメリカ合衆国 ミズーリ州 63005 ク ラークソン・ヴァレイ ケールスデイル・ ドライヴ 16868 (72)発明者 ゴン，リフォン アメリカ合衆国 イリノイ州 60077 ス コーキー デイヴィス・ストリート 5300 (72)発明者 ハンソン，グナー ジェイ アメリカ合衆国 イリノイ州 60076 ス コーキー キーストーン・アヴェニュ 7410 (72)発明者 コスジク，フランシス ジェイ アメリカ合衆国 イリノイ州 60070 プ ロスペクト・ハイツ ワイルドウッド・ド ライヴ・サウス 11 (72)発明者 リアオ，シュユアン アメリカ合衆国 イリノイ州 60137 グ レン・エリン ダイアン・アヴェニュ 500 ２エヌ (72)発明者 パーティス，リチャード エイ アメリカ合衆国 イリノイ州 60201 エ ヴァンストン ノイエス・ストリート 2221 (72)発明者 ラオ，シャシドハー エヌ アメリカ合衆国 イリノイ州 60060 マ ンデレイン ウィンザー・プレイス 43 (72)発明者 セルネス，シャウン ラジ アメリカ合衆国 ミズーリ州 63141 セ ント・ルイス クロス・クリーク・コーヴ 12387 アパートメント・ジェイ (72)発明者 サウス，マイケル エス アメリカ合衆国 ミズーリ州 63146 セ ント・ルイス チーフテン・ドライヴ 11671 (72)発明者 スティーレイ，マイケル エイ アメリカ合衆国 イリノイ州 60048 リ バティヴィル ジュニパー・パークウェイ 502 (72)発明者 ウェイア，リチャード エム アメリカ合衆国 イリノイ州 60044 レ イク・ブラフ ヒコリー・コート 240 (72)発明者 シュイ，シアンドン アメリカ合衆国 イリノイ州 60202 エ ヴァンストン ヒンマン・アヴェニュ 855 アパートメント 715 (72)発明者 カンナ，イシュ ケイ アメリカ合衆国 イリノイ州 60048 リ バティヴィル サウス・ファルコン・ドラ イヴ 1821 (72)発明者 ユイ，イー アメリカ合衆国 イリノイ州 60077 ス コーキー グロス・ポイント・ロード 9065

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニル アルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリ ーレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン 、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリ ールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカ ルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリル カルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカル ボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ 、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、 アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキルヘテロシクリル、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アラルキル ヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレン、アルコキシア ラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシアルコキシアリーレン、アリ ーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アルコキシヘテロシクリルアル キレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル カルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキレン、アリール アミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールアミノカルボニルアルキレン 、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルキ ルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、アルコキシカ ルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキルアリーロキ シカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルアリールカ ルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリーレン、アルコ キシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリ ーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチ オアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、ア リールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキ ルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、こ こで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシア リーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、ア リーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチ オアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレ ン及びアルキ ルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケ ト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル 、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシク リルチオ、カルボキシ、カルボキシアルキル、カルボキシシクロアルキル、カル ボキシシクロアルケニル、カルボキシアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、 ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、アルコ キシアルキルアミノ、アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロ シクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシク リルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、 アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カ ルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキル、アルキル アミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニ ル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ばれた一つ又は それ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキル アミノアルキル、アミノカルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキル カルボニロキシアルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスル ホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、 アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニ ルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボニル、シアノ 、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリーロキシカル ボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコ キシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、アルキルアミ ノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシク リルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミ ノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、 ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒドラジニル、ア リールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又はアミノであり 、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル 環で、Ｒ1はヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり 、Ｒ4がメチルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリ ル、無置換のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉの化合物、 若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体。 ２． Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルケニル、 低級アルキニル、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキルアルケニル、低級ハ ロアルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アラルキル、低級アルコキシアルキ ル、低級メルカプトアルキル、低級アルキルチオアルキレン、アミノ、低級アル キル、低級アリールアミノ、低級アルキルアミノアルキレン及び低級ヘテロシク リルアルキレン、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０、１、又は２であり、 Ｒ25はヒドリド、低級アルキル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリル アルキル、低級アルコキシアルキレン、低級フェノキシアルキレン、低級アミノ アルキル、低級アルキルアミノアルキル、低級フェノキシアミノアルキル、低級 アルキルカルボニルアルキレン、低級フェノキシカルボニルアルキレン及び低級 ヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は、水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級シクロ アルキルアルキレン、低級フェニルアルキル、低級アルコキシカルボニルアルキ レン及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ27は、低級アルキル、低級シクロアルキル、低級アルキニル、フェニルと、 ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級 フェニルアルキル、低級シクロアルキルアルキニル、低級シクロアルケニルアル キレン、低級シクロアルキルアリーレン、低級アルキルフェニレン、低級アルキ ルフェニルアルキル、低級フェニルアルキルフェニレン、低級アルキルヘテロシ クリル、低級アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテロシクリル フェニレン、低級フェニルアルキルヘテロシクリル、低級アルコキシアルキレン 、低級アルコキシフェニレン、低級アルコキシフェニルアルキル、低級アルコキ シヘテロシクリル、低級アルコキシアルコキシフェニレン、低級フェノキシフェ ニレン、低級フェニルアルコキシフェニレン、低級アルコキシヘテロシクリルア ルキレン、低級フェノキシアルコキシフェニレン、低級アルコキシカルボニルア ルキレン、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル、低級アルコキシカルボニ ルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、低級アミノアルキル、低級アルキルア ミノアルキレン、低級フェニルアミノカルボニルアルキレン、低級アルコキシフ ェニルアミノカルボニルアルキレン、低級アミノカルボニルアルキレン、アリー ルアミノカルボニルアルキレン、低級アルキルアミノカルボニルアルキレン、低 級フェニルカルボニルアルキレン、低級アルコキシカルボニルフェニレン、低級 フェノキシカルボニルフェニレン、低級アルキルフェノキシカルボニルフェニレ ン、低級フェニルカルボニルフェニレン、低級アルキルフェニルカルボニルフェ ニレン、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルフェニレン、低級アルコキシ カルボニルアルコキシフェニレン、低級ヘテロシクリルカルボニル アルキルフェニレン、低級アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキ レン、低級アルキルチオフェニレン、低級フェニルアルキルチオフェニレン、低 級ヘテロシクリルチオフェニレン、低級フェニルチオアルキルフェニレン、低級 フェニルスルホニルアミノアルキレン、低級アルキルスルホニルフェニレン、低 級アルキルアミノスルホニルフェニレンから選ばれ、ここで前記低級アルキル、 低級シクロアルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたア リール、低級ヘテロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアル キレン、低級アルキルヘテロシクリルフェニレン、低級アルコキシフェニレン、 低級フェニキシフェニレン、低級フェニルアミノカルボニルアルキレン、低級フ ェノキシカルボニルフェニレン、低級フェニルカルボニルフェニレン、低級アル キルチオフェニレン、低級ヘテロシクリルチオフェニレン、低級フェニルチオア ルキルフェニレン及び低級アルキルスルホニルフェニレン基は、低級アルキル、 ハロ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は、-ＣＨＲ46Ｒ４７であり、ここでＲ46は低級アルコキシカルボニルで あり、Ｒ47は低級フェニルアルキル、低級フェニルアルコキシアルキレン、低級 ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテロシクリルアルキレン、低級アル コキシカルボニルアルキレン、低級アルキルチオアルキレン及び低級フェニルア ルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで前記フェニルアルキル及びヘテロシク リル基は低級アルキル及びニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともに４〜８員環のヘテロ環を形成し、ここで前記 ヘテロ環は、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ば れたアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルヘテ ロシクリルアルキレン、低 級フェノキシアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級アルキルフェニキシ アルキレン、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級フェニ ルアルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ及び低級アルコキシカルボニルア ミノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基から選択的に置換され、ここでフ ェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれた前記アリール、低級ヘテロ シクリルアルキレン及び低級フェニキシアルキレン基は、ハロゲン、低級アルキ ル及び低級アルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナ フチルとから選ばれたアリール、低級ハロアルキル、低級ヒドロキシアルキル、 ５又は６員環ヘテロシクリル、低級アルキルヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低級 ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級フェニルアル キルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノアルキルアミノ、低級アルキルア ミノアルキルアミノ、低級シクロアルキル、低級アルケニル、低級アルコキシカ ルボニルアルキル、低級シクロアルケニル、低級カルボニルアルキルアミノ、低 級アルコキシカルボニル、低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカル ボニルヘテロシクリル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、 アルコキシカルボニルアルキル、低級アルコキシアルキルアミノ、低級アルコキ シカルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルスルホニル、低級ヘテ ロシクリロキシ及び低級ヘテロシクリルチオから選ばれ、ここでアリール、ヘテ ロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、シクロアルキル及びシクロアルケニル基 は、ハロ、ケト、低級アルキル、低級アルキニル、フェニル、５又は６員環ヘテ ロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキル、低級エポキ シアルキル、カルボキシ、低級アルコキシ、低級アリ ーロキシ、低級フェニルアルコキシ、低級ハロアルキル、低級アルキルアミノ、 低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキルアミノ、低級アミノ（ヒドロ キシアルキル）、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル 、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルスルホニル、低級フェニルアルキル スルホニル及びフェニルスルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０、１、又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30及びＲ３１は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノ カルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキル から独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア ルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40から選 ばれ、 ここでＲ35はアルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アリー ル、ヘテロシクリル、アラルキル、アリールシクロアルキル、シクロアルケニル アルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルアリーレン、アルキルヘテロ シクリル、アリールアリーレン、アリールヘテロシクリル、アルコキシ、アルケ ノキシ、アルコキシアルキレン、アルコキシアラルキル、アルコキシアリーレン 、アリーロキシアルキレン、アラルコキシアルキレン、シクロアルキロキシアル キレン、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルキルカルボニ ロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、アルコキシカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アラルコキシカルボニルヘテロ シクリル、アルキルカルボニルヘテロシクリル、アリールカルボニロキシアルキ ルアリーレン及びアルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで前記アリール、ヘ テロシクリル、アラルキル、アルキルアリーレン、アリールヘテロシクリル、ア リーロキシアルキレン、シクロアルコキシアルキレン、アルコキシカルボニルア ルキレン及びアルキルカルボニルヘテロシクリル基は、アルキル、ハロ、ハロア ルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独 立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ35はＣＨＲ48Ｒ49であり、ここでＲ48はアリールスルホニルアミノ又はアル Ｙキルアリールスルホニルアミノであり、Ｒ49はアラルキル、アミノ、アルキル アミノ及びアラルキルアミノから選ばれ、 Ｒ35は-ＮＲ50Ｒ51であり、ここでＲ50はアルキルであり、Ｒ51はアリールで あり、 ここでＲ36はアルキル、ハロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、シクロア ルキルアルキレン、アルキルアリーレン、アルケニルアリーレン、アリールアリ ーレン、アラルキル、アラルケニル、ヘ テロシクリルヘテロシクリル、カルボキシアリーレン、アルコキシアリーレン、 アルコキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアミノアリーレン、アル キルカルボニルアミノヘテロシクリル、アリールカルボニルアミノアルキルヘテ ロシクリル、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノ、アルキルアミノアリ ーレン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルスルホニルアラルキル及びア リールスルホニルヘテロシクリルから選ばれ、前記アリール、ヘテロシクリル、 シクロアルキルアルキレン、アラルキル、アルキルカルボニルアミノヘテロシク リル及びアルキルスルホニルアリーレン基はアルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロ アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素及びアルキルから選ばれ、 ここでＲ38は水素、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロシクリル、アラ ルキル、アルキルアリーレン、アリールシクロアルキル、アリールアリーレン、 シクロアルキルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアルキレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールカルボニル、アルコキシカルボ ニル、アルコキシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、ア ルキルカルボニルカルボニルアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アルキル アミノアラルキル、アルキルカルボニルアミノアリキレン、アルキルチオアリー レン、アルキルスルホニルアラルキル及びアミノスルホニルアラルキルから選ば れ、ヘテロシクリルアルキレン基はアルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル 、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選 択された一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され Ｒ38は-ＣＲ52Ｒ53であり、ここでＲ52はアルコキシカルボニルであり、Ｒ53 はアルキルチオアルキレンであり、また Ｒ37及びＲ38は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、 Ｒ39及びＲ40は請求項１のＲ26及びＲ27と同じ定義であり、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、若しくは Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０から３の整数で、 Ｒ56は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ57は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ56及びＲ57は低級アルキレンブリッジを形成し、 Ｒ58は水素、アルキル、アラルキル、アリールヘテロシクリル、ヘテロシクリ ルアルキル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニ ル、アリールスルホニル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ59、-ＳＯ2Ｒ60及び-Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ61か ら選ばれ、 ここでＲ59はアルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシ クリル、アルキルアリーレン、アラルキル、アルキルヘテロシクリル、アルコキ シ、アルケノキシ、アラルコキシ、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレ ン、アルコキシアラルキルから選ばれ、ここで前記アリール、ヘテロサイクリル 及びアラルキル基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロアルキル、アルコキシ 、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ60はアルキル、アリール、ヘテロサイクリル、アルキルアリーレン、 アルキルヘテロサイクリル、アラルキル、ヘテロサイクリルヘテロサイクリル、 アルコキシアリーレン、アルキルアミノ、アルキルアミノアリーレン、アルキル スルホニルアリーレン及びアリールスルホニルヘテロサイクリルから選ばれ、こ こで前記アリール、ヘテロサイクリル及びアラルキル基は、アルキル、ハロ、ヒ ドロキシ、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ 及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ61はアルキル、アリール、アルキルアリーレン及びアルコキシアリー レンから選ばれ、ここで前記アリール基は、アルキル、ハロ、ヒドロキシ、ハロ アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル及び から選ばれ、 ここでＲ43は水素、低級アルキル、低級アミノアルキル、低級アルコキシアル キル、低級アルケノキシアルキル及び低級アリーロキシアルキルから選ばれ、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、アミノスルホニル、ハロ、低級ア ルキル、低級アラルキル、低級フェニルアルケニル、低級フェニルヘテロシクリ ル、カルボニル、低級アルキルスルフィニル、シアノ、低級アルコキシカルボニ ル、アミノカ ルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、低級ハロアルキル、ヒドロキシ、低 級アルコキシ、アミノ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルキルアミノ、低級 アルケニルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級アミノアルキル、アリールアミ ノ、低級アラリキルアミノ、ニトロ、ハロスルホニル、低級アルキルカルボニル 、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルコキシフェニルアルキルアミノ、 低キュアルキルアミノアルキルアミノ、低級ヒドロキシアルキルアミノ、低級ヘ テロシクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級フェニルアルキ ルヘテロシクリルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルコキシフェ ニルアルキルアミノ、ヒドラジニル、低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ62 Ｒ63から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ62 は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63は低級アルキル又は低級フェ ニルアルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、低級シクロアルキル、低級シクリアルケニル、フェニルと、 ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリール及び５又は６員環でヘテロ環 から選ばれ、ここでＲ4の低級シクロアルキル、低級シクロアルケニル、アリー ル及び５〜１０員環にヘテロシクリル基は、低級アルキルチオ、低級アルキルス ルホニル、低級アルキルスルフィニル、ハロ、低級アルキル、低級アルキニル、 低級アルコキシ、低級アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ヘテロシクリル、 低級ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、低級アルキルアミノ及びヒドロキ シから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１の化合物。 ３． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ-ブチル、 イソブチル、フルオルメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ メチル、ジクロロメチル、トリクロロ メチル、トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオルプロピル、 ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフル オロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、エテニル、プロペニル、エ チニル、プロパルギル、１-プロピニル、２-プロピニル、ピペリジニル、ピペラ ジニル、モロホリニル、ベンジル、フェニルエチル、モルホリニルメチル、モル ホリニルエチル、ピロリジニルメチル、ピペラジニルメチル、ピペリジニルメチ ル、ピリジニルメチル、チエニルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、ア ミノ。メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、メチルアミノメチル、 ジメチルアミノメチル、メチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、エチルア ミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロ ヘキシル、シクロヘキシルメチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メル カプトメチル及びメチルチオメチルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、クロロ、フルオロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、イ ソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、フェニル、ビフェニル、フルオロメチル 、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、ト リクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロ クロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピ ル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル 、ピリジニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、チアゾリル、オ キさゾリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベンズ イミダゾリル、フリル、ピラジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニ ル、Ｎ-メチルピペラジニル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニル エチル、Ｎ-メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ、Ｎ -ジエチルアミノ、Ｎ-ｎ-プロピルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-メチル- Ｎ-フェニルアミノ、Ｎ-フェ ニルアミノ、ピペラジニルアミノ、Ｎ-ベンジルアミノ、Ｎ-プロパルギルアミノ 、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプ ロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘキ サジエニル、アミノメチル、アミノエチル、アミノエチルアミノ、アミノプロピ ルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノエチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノプロピ ルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、カルボキ シメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボ ニル、プロポキシカルボニル、１、１-ジメチルエトキシカルボニル、１、１-ジ メチルエトキシカルボニルアミノエチルアミノ、１、１-ジメチルエトキシカル ボニルアミノプロピルアミノ、ピペラジニルカルボニル及び１、１-ジメチルエ トキシカルボニルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここで、アリール、ヘテ ロアリール、シクロアルキル及びシクロアルケニル基は、フルオロ、クロロ、ブ ロモ、ケト、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、ベンジ ル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオ ロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、ジメチルアミノ、メトキシカル ボニル、エトキシカルボニル及び１、１-ジメチルエチルカルボニルから独立に 選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、Ｒ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル及びプリニルから選ばれ、ここでＲ3はメチル チオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ア ミノスルホニル、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、シ アノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカルボニル、メチルカ ルボニルアミノ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、 トリクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、ヒドロキシ、フルオロフェ ニルメチル、フルオロフェニルエチル、クロロフェニルメチル、クロロフェニル エチル、フルオロフェニルエテニル、クロロフェニルエテニル、フルオロフェニ ルピラゾリル、クロロフェニルピラゾリル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、 プロピロキシ、ｎ-プトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、 ジエチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、プロパルギルアミノ、アミノメチル 、アミノエチル、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアミノ、フェニルアミノ、ジフェニル アミノ、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、シクロプロピルアミノ、ニトロ、 クロロスルホニル、アミノ、メチルカルボニル、メトキシカルボニルアミノ、エ トキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルエチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキ シ）エチルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメ チルピペリジニルアミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミ ノ、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカ ルボニル、メチルカルボニル、メトキシフェニルメチルアミノ、ヒドラジニル、 １-メチル-ヒドラジニル又は-ＮＲ62Ｒ63から独立に選ばれた一つ又はそれ以上 の基で選択的に置換され、ここで、Ｒ62はメチルカルボニル又はアミノであり、 Ｒ63はメチル、エチル若しくはフェニルメチルであり、 Ｒ4はヒドリド、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロピレニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキ セニル、シクロヘキサジエニル、フェニル、ビフェニル、モルホリニル、ピペラ ジニル、ピペリジニル、ピラジニル、チエニル、イソチアゾリル、イソオキサゾ リル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリニル、 イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、ピラジニル、ジヒドロピラニル、 ジヒドロピリジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ リル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリルから選ばれ 、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘテロシクリ ル基は、メチルチオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フルオロ、クロ ロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、エチニ ル、メトキシ、エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、フ ルオロメチル、ジフルオロメチル、アミノ、シアノ、ニトロ、ジメチルアミノ及 びヒドロキシから独立に選択された一つ又はそれ以上の基で選択的に置換された 、若しくはその製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項２記載の化合物 。 ４． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロパルギル、ヒドロキシエチル、ジ メチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル又はモルホリニルエチルであり、 Ｒ2はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル 、メトキシカルボニルエチル、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、ピ ペリジニル、ピペラジニル、ピリジニル、Ｎ-メチルピペラジニル及びピペラジ ニルアミノから選ばれ、ここでフェニル、ピペリジニル及びピリジニル基は、フ ルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル及びトリフルオロメチルから独立に選 ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘ テロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、 メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ 、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択的に置換される、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項３記載の化合物。 ５． Ｒ1はヒドリド又はメチルであり、 Ｒ2はヒドリド、メチル又はエチルから選ばれ、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジルフェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジル アミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルロロメチル、ニトロ、ジメチル 網のおよびヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 された、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項４記載の化合物。 ６． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ-ブチル、 イソブチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、 トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロエチル、ペン タフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロ ロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、 ジクロロプロピル、エテニル、プロペニル、エチニル、プロパルギル、１-プロ ピニル、２-プロピニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、ベンジ ル、フェニルエチル、モルホリニルメチル、モルホリニルエチル、ピロリジニル メチル、ピペラジニルメチル、ピペリジニルメチル、ピリジニルメチル、チエニ ルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、アミノ、メチルアミノ、ジメチル アミノ、フェニルアミノ、メチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、メチル アミノエチル、ジメチルアミノエチル、エチルアミノエチル、ジエチルアミノエ チル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチ ル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メルカプトメチル及びメチルチオメ チルから選ばれ、 Ｒ2は式IIIを有し、 ここで ｊは０、１又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30及びＲ31は水素及び低級アルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、低級アルキル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルアル キル、低級アルコキシアルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、 低級アルキルアミノアルキル、低級フェ ニルアミノアルキル、低級アルキルカルボニルアルキレン、低級フェニルカルボ ニルアルキレン及び低級ヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ 、 Ｒ33は水素、低級アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、 -Ｃ（Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｎ40から選ばれ、 ここでＲ35は低級アルキル、低級シクロアルキル、低級ハロアルキル、低級ア ルケニル、フェニル、ビフェニル及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテ ロシクリル、低級フェニルアルキル、低級フェニルシクリルアルキル、低級シク ロアルケニルアルキレン、低級ヘテロシクリルアルキレン、低級アルキルフェニ レン、低級アルキルヘテロシクリル、フェニルフェニレン、低級フェニルヘテロ シクリル、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級アルコキシアルキレン、低 級アルコキシフェニルアルキル、低級アルコキシフェニレン、低級フェノキシア ルキレン、低級フェニルアルコキシアルキレン、低級シクロアルキロキシアルキ レン、低級アルコキシカルボニル、低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルキ ルカルボニロキシアルキレン、低級アルキルカルボニロキシフェニレン、低級ア ルコキシカルボニルアルキレン、低級アルコキシカルボニルフェニレン、低級フ ェニルアルコキシカルボニルヘテロシクリル、低級アルキルカルボニルヘテロシ クリル、低級フェニルカルボニロキシアルキルフェニレン及び低級アルキルチオ アルキレンから選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェニルアルキル、低級アルキ ルフェニレン、低級フェニルヘテロシクリル、低級アルコキシフェニレン、低級 フェノキシアルキレン、低級シクロアルコキシアルキレン、低級アルコキシカル ボニルアルキレン及び低級アルキルカルボニルヘテロシクリル基は、低級アルキ ル、ハロ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ケト、ア ミノ、ニトロ 及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、又は Ｒ35はＣＨＲ48Ｒ49であり、ここでＲ48はフェニルスルホニルアミノ又は低級 アルキルフェニルスルホニルアミノであり、Ｒ49は低級フェニルアルキル、低級 アルキルアミノ及び低級フェニルアルキルアミノから選ばれ、又は Ｒ35は-ＮＲ50Ｒ51であり、ここでＲ50は低級アルキルであり、Ｒ51はフェニ ルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたアリールであり、 ここでＲ36は低級アルキル、低級ハロアルキル、フェニルと、ビフェニルと及 びナフチルとから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキル アルキレン、低級アルキルフェニレン、低級アルケニルフェニレン、フェニルフ ェニレン、低級フェニルアルキル、低級フェニルアルケニル、低級ヘテロシクリ ルヘテロシクリル、カルボキシフェニレン、低級アルコキシフェニレン、低級ア ルコキシカルボニルフェニレン、低級アルキルカルボニルアミノフェニレン、低 級アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル、低級フェニルカルボニルアミノア ルキルヘテロシクリル、低級アルキルアミノフェニレン、低級アルキルアミノ、 低級アルキルアミノフェニレン、低級アルキルスルホニルフェニレン、低級アル キルスルホニルフェニルアルキル及び低級フェニルスルホニルヘテロシクリルか ら選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとから選ばれたア リール、低級ヘテロシクリル、低級シクロアルキルアルキレン、低級フェニルア ルキル、低級アルキルカルボニルアミノヘテロシクリル及び低級アルキルスルホ ニルフェニレン基は、低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低 級アルコキシ、低級ハロアルキル、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に 選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素及び低級アルキルから選ばれ、 ここでＲ38は水素、低級アルキル、低級アルケニル、フェニルと、ビフェニル と及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェニルアル キル、低級アルキルフェニレン、低級フェニルシクロアルキル、フェニルフェニ レン、低級シクロアルキルアルキレン、低級ヘテロシクロアルキレン、低級アル キルヘテロシクリルアルキレン、低級フェニルアルキルヘテロシクリル、低級ア ルコキシアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級フェニキシフェニレン、 フェニレンカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル アルキレン、低級アルコキシカルボニルフェニレン、低級アルキルカルボニルカ ルボニルアルキレン、低級アルキルアミノアルキレン、低級アルキルアミノフェ ニルアルキル、低級アルキルカルボニルアミノアルキレン、低級アルキルチオフ ェニレン、低級アルキルスルホニルフェニルアルキル及び低級アミノスルホニル フェニルアルキルから選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチ ルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級フェイルアルキル及び低級 ヘテロシクリルアルキレン基は、低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロア ルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシア ノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、若しくは、 Ｒ38は-ＣＲ52Ｒ53であり、ここでＲ52は低級アルコキシカルボニルであり、 Ｒ53は低級アルキルチオアルキレンであり、 Ｒ37及びＲ38は窒素原子とともに４〜８員環のヘテロ環を形成し、 Ｒ39及びＲ40は請求項２のＲ26及びＲ２７と同じ定義であり、 Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０から２の整数であり、 Ｒ56は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ57は水素又は低級アルキルであり、 Ｒ58は水素、低級アルキル、低級フェニルアルキル、フェニルと、ビフェニル と及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルスルホニル、低級フェニ ルアルキルスルホニル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ59、-ＳＯ2Ｒ60及び-Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ61から 選ばれ、 ここでＲ59は低級アルキル、低級ハロアルキル、低級シクロアルキル、フェニ ルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、 低級アルキルフェニレン、低級フェニルアルキル、低級アルキルヘテロシクリル 、低級アルコキシ、低級アルケノキシ、低級フェニルアルコキシ、低級アルコキ シアルキレン、低級アルコキシフェニレン、低級アルコキシフェニルアルキルか ら選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ばれたアリ ール、低級ヘテロシクリル及び低級フェニルアルキル基は、低級アルキル、ハロ 、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルキル、ケト、 アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換され、 ここでＲ60は低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフ チルから選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル、低級アルキルフェニレン、低 級アルキルヘテロシクリル、低級フェニルアルキル、低級ヘテロシクリルヘテロ シクリル、低級アルコキシフェニレン、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミ ノフェニレン、低級アルキルスルホニルフェニレン及び低級フェニルスルホニル ヘテロシクリルから選ばれ、ここで前記フェニルと、ビフェニルと及びナフチル から選ばれたアリール、低級ヘテロシクリル及び低級フェニルアルキル基は、低 級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロ アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ61は低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルから選ば れたアリール、低級アルキルフェニレン及び低級アルコキシフェニレンから選ば れ、ここで前記アリール基は低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルコ キシ、低級ハロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル及びプリニルから選ばれ、ここでＲ3はメチル チオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ア ミノスルホニル、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブチル、シ アノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカルボニル、メチルカ ルボニルアミノ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、ト リクロロメチル、ジクロロメチル、クロロメチル、ヒドロキシ、フルオロフェニ ルメチル、フルオロフェニルエチル、クロロフェニルメチル、クロロフェニルエ チル、フルオロフェニルエテニル、クロロフェニルエテニル、フルオロフェニル ピラゾリル、クロロフェニルピラゾリル、カルボキシ、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、ｎ-ブトキシ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジ エチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、プロパルギルアミノ、アミノメチル、 アミノエチル、Ｎ-メチル-Ｎ-フェニルアミノ、フェニルアミノ、ジフェニルア ミノ、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、シクロプロピルアミノ、ニトロ、ク ロロスルホニル、アミノ、メチルカルボニル、メトキシカルボニルアミノ、エト キシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミ ノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミダ ゾリルエチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ ）エチルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチ ルピペリジニルアミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ 、フルオロフェニルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、エチルアミノアＫ ルボニル、メチルカルボニル、メトキシフェニルメチルアミノ、ヒドラジニル、 １-メチル-ヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基で選択的に置換され、Ｒ62はメチルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63は メチル、エチル又はフェニルメチルであり、 Ｒ4はヒドリド、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ キシル、シクロプロピレニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキ セニル、シクロヘキサジエニル、フェニル、ビフェニル、モルホリニル、ピロリ ジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピリジニル、チエニル、イソチアゾリル 、イソオキサゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、キノリル、イ ソキノリニル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、ピラジニル、ジヒ ドロピラニル、ジヒドロピリジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、 テトラヒドロフリル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソ リルから選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニルアリール及び ヘテロシクリル基は、メチルチオ、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、フ ルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ-ブチル、イソブ チル、エチニル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオ ロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、アミノ、シアノ、ニトロ、ジメ チルアミノ及びヒドロキシから独立に選はれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換された、若しくは、 その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項２記載の化合物。 ７． Ｒ1はメチル、エチル、プロパルギル、ヒドロキシエチル、ジメチルアミ ノエチル、ジエチルアミノエチル又はモルホリニルエチルであり、 Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０、１又は２であり、 ｍは０であり、 Ｒ30は水素であり、 Ｒ31は水素及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ32は水素及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ33は低級アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ（ Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40から選ばれ、 ここでＲ35は低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニル、低 級ヘテロシクリル、低級アルキルフェニルレン、低級アルコキシ、低級アルケノ キシ、低級アルコキシアルキレン、低級フェニキシアルキレン及び低級フェニル アルコキシアルキレンから選ばれ、前記フェニル及び低級フェニキシアルキレン 基は、低級アルキル、ハロ及び低級ハロアルキルから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ36は低級アルキル、フェニル、低級ヘテロシクリル、低級アルキルフ ェニレン、フェニルフェニレン、低級フェニルアルキル、低級アルキルヘテロシ クリル、低級ヘテロシクリルヘテロシクリル、低級アルコキシフェニレン及び低 級アルキルアミノから選ばれ、ここで前記フェニル及び低級ヘテロシクリル基は 低級アルキル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハ ロアルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 ここでＲ37は水素であり、 ここでＲ38は低級アルキル、フェニル及び低級アルキルフェニレンから選ばれ 、 ここでＲ39及びＲ40は請求項２のＲ26及びＲ27と同じ定義であり、 Ｒ2は から成る群から選ばれ、 ここで、 ｋは０又は１の整数であり、 Ｒ56は水素であり、 Ｒ57は水素であり、 Ｒ58-Ｃ（Ｏ）Ｒ59及び-ＳＯ2Ｒ60から選ばれ、 ここでＲ59は低級アルキル、低級シクロアルキル、フェニル、低級アルキルフェ ニレン及び低級アルコキシアルキレンから選ばれ、前記フェニル基は、低級アル キル、ハロ、ヒドロキシ、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコ キシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 ここでＲ60は低級アルキルから選ばれ、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3は、フ ルオロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベ ンジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4のシクロアルキル、シクロアルケニル、アリール及びヘ テロシクリル基は、メチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、 メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ 、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選 択的に置換された、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項６記載の化合物。 ８． Ｒ1はヒドリド又はメチルであり、 Ｒ3はピリジニル、ピリミジニル又はキノリニルから選ばれ、ここでＲ3はフル オロ、ブロモ、メチル、シアノ、メトキシカルボニル、アミノカルボニル、ベン ジル、フェネチル、アセチル、ヒドロキシ、メトキシ、ジメチルアミノ、ベンジ ルアミノ、フェネチルアミノ、アミノメチル、アミノ、ヒドロキシ及びメチルカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 されたフェニルから選ばれた、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項７記載の化合物。 ９． Ｒ1がヒドリドである請求項１記載の化合物。 １０． Ｒ1がヒドリドである請求項２記載の化合物。 １１． Ｒ1はヒドリドである請求項３記載の化合物。 １２． Ｒ1はヒドリドである請求項６記載の化合物。 １３． Ｒ1はメチル又はエチルである請求項３記載の化合物。 １４． Ｒ1はメチル又はエチルである請求項６記載の化合物。 １５． Ｒ2はヒドリドである請求項２記載の化合物。 １６． Ｒ2はヒドリドである請求項３記載の化合物。 １７． Ｒ4は選択的に置換基を有するフェニルである請求項２記載の化合物。 １８． Ｒ4は選択的に置換基を有するフェニルである請求項３記載の化合物。 １９． Ｒ4は選択的に置換基を有するフェニルである請求項６記載の化合物。 ２０． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項２ 記載の化合物。 ２１． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項３ 記載の化合物。 ２２． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれ、Ｒ4は選 択的に置換基を有するフェニルである請求項２記載の化合物。 ２３． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれ、Ｒ4は選 択的に置換基を有するフェニルである請求項３記載の化合物。 ２４．ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、 低級ヘテロシクリル、低級アラルキル、低級アミノアルキル及び低キュアルキル アミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低裕アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロ シクリルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級カルボキシシクロ アルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級アルコキシアルキルアミノ、低 級アルコキシ カルボニルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコ キシカルボニルヘテロシクリル及び低級アルコキシカルボニルヘテロシリルカル ボニルから選ばれ、ここでアリール及びヘテロアリール基はハロ、低級アルキル 、ケト、アラルキル、カルボキシ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ア ルキルアミノ、低級ヘテロシクリルアリキルアミノ、低級アルキルカルボニル及 び低級アルコキシカルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的 に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、 Ｒ4はヒドリド、低級シクロアルキル、低級シクロアルケニル、低級シクロア ルキルジエニル、５又は６員環のヘテロ環及びフェニルと、ビフェニルと及びナ フチルから選ばれたアリールから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アルキル、低 級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、低級アル キルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシク リルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、ヒドラジル及び低級アルキルヒドラジル又は-ＮＲ6 2 Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63 は低級アルキル又は低級フェニルアルキルである式ＩＸの化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体。 ２５． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギル から選ばれ Ｒ2はヒドリド、メチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル 、ヒドロキシエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、 Ｎ-メチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチル アミノ、Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル 、アミノエチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジル アミノ、ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホ リニルエチルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニ ル、ピリジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１- ジメチル）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプ ロピルアミノ、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピ ペラジニルカルボニル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選 ばれ、ここでフェニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリ ニル及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、 トリフルオロメチル、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカル ボニル及び（１、１-ジメチル）エトキシカルボニルから独立にえらばれた一つ 又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、フェニル 、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジヒドロピラニル、 ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここ でＲ4はメチルチオ、フル オロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベ ンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミ ノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニル エチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び １-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、Ｒ62はメチルカルボニル 又はアミノであり、Ｒ63はメチル又はベンジルである、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項２４の化合物。 ２６． Ｒ1はヒドリドである請求項２４の化合物。 ２７． Ｒ1はヒドリドである請求項２５の化合物。 ２８． Ｒ1は低級アルキルである請求項２４の化合物。 ２９． Ｒ1は低級アルキルである請求項２５記載の化合物。 ３０． Ｒ2はヒドリドである請求項２４の化合物。 ３１． Ｒ2はヒドリドである請求項２５の化合物。 ３２． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項２ ４記載の化合物。 ３３． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項２ ５の化合物。 ３４． Ｚは炭素原子を表わす請求項２５の化合物。 ３５． ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1は低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、低級アミノ アルキル及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれたアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、 イミダゾリル、ピリジニル及びモルホリニルから選ばれた５又は６員環のヘテロ 環、低級ハロアルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、 低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラ ルキル、低級アラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミ ノアルキル、低級アミノアルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシ クリルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシク リル、低級カルボキシシクロアルキル、低級買うＲボニルアルキルアミノ、低級 アルコキシアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、 低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び 低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリー ル及びヘテロシクリル基は、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキ シ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシ クリルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニル から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、 Ｒ4は５又は６員環のヘテロ環及びフェニルと、ビフェニルと、ナフチルとか ら選ばれたアリールから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アルキル、低級アルコ キシ、アルーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、低級アルキルチオ 、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選択された一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低 級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カルボキシ、低級シクロアルキ ルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルコキシアラルキルアミノ 、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロ シクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシクリルアミノ、低級アルキル アミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシアラルキルアミノ 、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、 ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63は低級アルキルま たは低級フェニルアルキルである式Ｘ、の化合物若しくは、 その製薬的に許容な塩又は互変異性体の化合物。 ３６． Ｒ1はメチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギルから選ばれ 、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ピペラジニルアミノ、ジメチルアミノエチルアミノ、ジメチルアミノプロピルア ミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニル 、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリジニル、Ｎ-メチルピペラ ジニル、カルボメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチル）エ チルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルアミノ 、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニルカ ルボニル及び１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここ でフェニル、ピペリジニル、ピペ ラジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ 、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチル、ベンジル、メトキシ、 メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、１-ジメチル）エトキシカ ルボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エ チル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、プロ パルギルアミノ、イミダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチ ル-２-ヒドロキシ）エチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、フェニルメチル ピペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキ シ、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルア ミノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニ ルエチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及 び１-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62はメチルカ ルボニル又はアミノであり、Ｒ63はメチル又はベンジルである、若しくは その製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項３５の化合 物。 ３７． Ｒ1は低級アルキルである請求項３５記載の化合物。 ３８． Ｒ1は低級アルキルである請求項３６記載の化合物。 ３９． Ｒ2はヒドリドである請求項３５の化合物。 ４０． Ｒ2はヒドリドである請求項３６の化合物。 ４１． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルから 選ばれる請求項３５記載の化合物。 ４２． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルから 選ばれる請求項３６記載の化合物。 ４３．Ｚは炭素原子を表わす請求項３５記載の化合物。 ４４． ここで Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1は低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル 、低級アミノアルキル及び低級アルキルアミノアルキルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級ヘテロ シクリルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシ クリル、低級カルボキシシクロアルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級 アルコキシアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、 低級ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び 低級アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリー ル及びヘテロアリール基は、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキ シ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシ クリルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニル から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、ここでＲ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシで あり、 Ｒ4は５又は６員環のヘテロアリールと、並びにフェニルと、ビフェニルと及 びナフチルとから選ばれるアリールとから選ばれ、ここでＲ4はハロ、低級アル キル、低級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキシ、低級ハロアルキル、 低級アルキルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒドロキシから独立に選ばれ た一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、カル ボキシ、低級シクロシクロアルキル、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級ア ルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロシ クリルアミノ、低級ヘテロシクリルアミノ、低級アラルキルヘテロシクリルアミ ノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシ アラルキルアミノ、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又は-ＮＲ62 Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63 は低級アルキル又は低級フェニルアルキルである化合物ＸＩの化合物、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体。 ４５． Ｒ1はメチル、エチル、ヒドロキシエチル及びプロパルギルから選ばれ 、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエ チルアミノ、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピリ ジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチル ）エチルカルボニル、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルア ミノ、（ １、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニルカルボ ニル、１、１-ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここでフェ ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニ ル基は、フルオロ、クロロ、ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチ ル、ベンジル、メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、 １-ジメチル）エトキシカルボニルから独立して選ばれる一つ又はそれ以上の基 で選択的に置換され Ｒ4はフェニル、キノリル、ビフェニル、ピリジニル、チエニル、フリル、ジ ヒドロピラニル、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル及びベンゾジオキソリル から選ばれ、ここでＲ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エ チル、メトキシ、エトキシ、フェニキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、 ニトロ、ジメチルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾリル、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミ ノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニル エチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び １-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選 ばれ、ここでＲ62はメチルカルボニル又はアミノであり、Ｒ63はメチル又はベン ジルであり、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項４４記載の化合物。 ４６． Ｒ1は低級アルキルである請求項４４の化合物。 ４７． Ｒ1は低級アルキルである請求項４５記載の化合物。 ４８． Ｒ2はヒドリドである請求項４４記載の化合物。 ４９． Ｒ2はヒドリドである請求項４５記載の化合物。 ５０． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルから 選ばれる請求項４４記載の化合物。 ５１． Ｒ1はメチル又はエチルであり、Ｒ2はヒドリド、メチル及びエチルであ る請求項４５記載の化合物。 ５２． Ｚは炭素原子を表わす請求項４４記載の化合物。 ５３． ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキニル、 低級アルキニル、低級アミノアルキル及び低級アルキルアミノから選ばれ、 Ｒ2はヒドリド、低級アルキル、フェニルと、ビフェニルと及びナフチルとか ら選ばれるアリール、ピペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピリジニル 及びモルホリニルから選ばれる５又は６員環のヘテロ環、低級ハロアルキル、低 級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低級 アルキルアミノアルキル、フェニルアミノ、低級アラルキル、低級アラルキルア ミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アミノアルキル、低級アミノア ルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシクリル、低級ヘテロシクリ ルアルキル、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アルキルヘテロシクリル 、低級カルボキシシクリルアルキル、低級カルボキシアルキルアミノ、低級アル コキシアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、低級 ヘテロシクリルカルボニル、低級アルコキシカルボニルヘテロシクリル及び低級 アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニルから選ばれ、ここでアリール及 びヘテロアリール基は、ハロ、低級アルキル、ケト、アラルキル、カルボキシル 、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級アルキニルアミノ、低級ヘテロシク リルアルキルアミノ、低級アルキルカルボニル及び低級アルコキシカルボニルか ら独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2は-ＣＲ54Ｒ55であり、Ｒ54はフェニルであり、Ｒ55はヒドロキシであり、 Ｒ4はハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、アリーロキシ、低級アラルコキ シ、低級ハロアルキル、低級アルキルチオ、低級アルキルアミノ、ニトロ、ヒド ロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ 以上の基で選的に置換されたフェニルであり、 Ｒ5はハロ、アミノ、シアノ、アミノカルボニル、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシ、低級アミノアルキル、低級アラルキル、低級アラルキロキシ 、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルアミノ、低 級アルキルカルボニル、低級アラルケニル、低級アリールヘテロシクリル、、カ ルボキシ、低級シクロアルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級 アルコキシアラルキルアミノ、低級アルキルアミノアルキルアミノ、低級ヘテロ シクリルアミノ、低級ヘテロシクリルアルキルアミノ、低級アラルキルヘテロシ クリルアミノ、低級アルキルアミノカルボニル、低級アルキルカルボニル、低級 アルコキシアラルキルアミノ、ヒドラジニル及び低級アルキルヒドラジニル、又 は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62は低級アルキルカルボニル又はアミノで あり、Ｒ63は低級アルキル又は低級フェニルアルキルである式ＩＸの化合物、若 しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体。 ５４． Ｒ1はヒドリド、メチル、エチル、ヒドロイしエチル及びプロパルギル から選ばれ、 Ｒ2はメチル、エチル、プロピル、フェニル、トリフルオロメチル、ヒドロキ シエチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、Ｎ-メチル アミノ、Ｎ、Ｎ-ジメチルアミノ、Ｎ-エチルアミノ、Ｎ、Ｎ-ジエチルアミノ、 Ｎ-プロピルアミノ、Ｎ-フェニルアミノ、アミノメチル、アミノエチル、アミノ エチルアミノ、アミノプロピルアミノ、プロパルギルアミノ、ベンジルアミノ、 ジメチルアミノプロピルアミノ、モルホリニルプロピルアミノ、モルホリニルエ チルアミノ、ピウペリジニル、ピペラジニル、イミダゾリル、モルホリニル、ピ リジニル、カルボキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、（１、１-ジメチ ル）エチルカルボニル 、（１、１-ジメチル）エチルカルボニルアミノプロピルアミノ、（１、１-ジメ チル）エチルカルボニルアミノエチルアミノ、ピペラジニルカルボニル、１、１ -ジメチル-エチルピペラジニルカルボニルから選ばれ、ここでフェニル、ピペリ ジニル、イミダゾリル、モルホリニル及びピリジニル基は、フルオロ、クロロ、 ブロモ、ケト、メチル、エチル、トリフルオロメチル、ベンジル、メトキシ、メ トキシカルボニル、エトキシカルボニル及び（１、１-ジメチル）エトキシカル ボニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ4はメチルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、メトキシ、 エトキシ、フェノキシ、ベンジロキシ、トリフルオロメチル、ニトロ、ジメチル アミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 されたフェニルであり、 Ｒ5はフルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、フルオロフェニルエチル、フルオ ロフェニルエテニル、フルオロフェニルピラゾール、シアノ、メトキシカルボニ ル、アミノカルボニル、アセチル、ヒドロキシ、カルボキシ、メトキシ、メチル アミノ、ジメチルアミノ、２-メチルブチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルア ミノエチルアミノ、ヒドロキシプロピルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、イミ ダゾリルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、（１-エチル-２-ヒドロキシ）エ チルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピリジニルメチルアミノ、フェニルメチルピ ペリジニルアミノ、アミノメチル、シクロプロピルアミノ、アミノ、ヒドロキシ 、メチルカルボニル、エトキシカルボニルアミノ、メトキシフェニルメチルアミ ノ、フェニルメチルアミノ、フルオロフェニルメチルアミノ、フルオロフェニル エチルアミノ、メチルアミノカルボニル、メチルカルボニル、ヒドラジニル及び １-メチルヒドラジニル、又は-ＮＲ62Ｒ63から選ばれ、ここでＲ62はメチルカル ボニル又はアミノであり、Ｒ63はメチル又はベンジルであり、若しくは 製薬的に許容な塩、又は互変異性体である請求項５３記載の化合物。 ５５． Ｒ1はヒドリド又は低級アルキルである請求項５３の化合物。 ５６． Ｒ1はヒドリド又は低級アルキルである請求項５４記載の化合物。 ５７． Ｒ1はヒドリドである請求項５３記載の化合物。 ５８． Ｒ1はヒドリドである請求項５４記載の化合物。 ５９． Ｒ2はヒドリドである請求項５３記載の化合物。 ６０． Ｒ2はヒドリドである請求項５４記載の化合物。 ６１． Ｒ4はフルオロ、クロロ又はブロモの一つ又はそれ以上ので置換された フェニルである請求項５３記載の化合物。 ６２． Ｒ4はフルオロ、クロロ又はブロモの一つまたはそれ以上で置換された フェニルである請求項５４記載の化合物。 ６３． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項５ ３記載の化合物。 ６４． Ｒ1及びＲ2はヒドリド、メチル及びエチルから独立に選ばれる請求項５ ４記載の化合物。 ６５． Ｚは炭素原子を表わす請求項５３記載の化合物。 ６６．ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル及び低級アルキニル から選ばれ、 Ｒ2はヒドリド及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ4はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルは一つ又 はそれ以上のハロ基で選択的に置換され、 Ｒ5はヒドリド、ハロ及びアルキルヒドラジニルから選ばれる式ＩＸの化合物 、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体。 ６７． Ｚは炭素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、メチル、ヒドロキシエチル、プロパルギルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリドであり、 Ｒ4はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルはクロロ 、フルオロ及びブロモから独立して選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置 換され、 Ｒ5はヒドリド、フルオロ及び１-メチルヒドラジルから選ばれ る、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項６６記載の化合物。 ６８． Ｚは炭素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド及びメチルから選ばれ、 Ｒ2はヒドリドであり、 Ｒ4はクロロ、フルオロ及びブロモから独立して選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換されたフェニルから選ばれ、 Ｒ5はヒドリド及びフルオロから選ばれる、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項６７記載の化合物。 ６９． ４-［５-（３-フルオロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラ ゾール-４-イル］ピリジン； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-メチル-３-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［５-Ｍ、エチル-３-（４-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-メチル-３-［４-（メチルチオ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（２、５-ジメチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（１、３-ベンゾジオキソール-５-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（４-フェノキシフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-［（１、１’-ビフェニル）-４-イル］-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（３-フェノキシフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［３-メチル-５-［３-（フェニルメトキシ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-［２-（フェニルメトキシ）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ２-［３-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］フェノール ； ３-［３-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］フェノール ； １-ヒドロキシ-４-［３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-３-アミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-（トリフルオロメチル）-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-５-イル］ピリジン； ４-（５-シクロヘキシル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-（３-フルオロ-５-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-プロピル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）メチル］ピリジン； ４-［３、５-ビス（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［４-メチル-２-（２-トリフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（２-クロロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-メチル-３-（２、４-ジメチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-１、３-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（３-フルオロ-２-メチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（３、５-ジメチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［３-（３、５-ジメトキシフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-メチル-３-（３-ニトロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-［５-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］ベンゼンアミン； ４-［３-（２、３-ジヒドロベンゾフラン-５-イル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（２-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-メチル-５-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-（３-エチル-４-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［５-（３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-エチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３、４-ジフルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［５-（エトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［３-メチル-５-［４-（トリフルオロメチルフェニル］*１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-メチル-５-（３-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（２、４-ジクロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３-クロロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ３-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-プロパ ン酸エチル； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［３-メチル-５-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン-２-アミン； ５-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン-２-アミン； ５-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン-２-アミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-アミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-アミン； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-アミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ２-メトキシ-５-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ２-メトキシ-５-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（２-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ トキシピリジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- メトキシピリジン； ２-メトキシ-４-［３-メチル-５-（４-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-オール； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-オール］ピリ ジン-２-オール； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン-２-オール； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-オール； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-オール； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-メタンアミン； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-メタンアミン； ５-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（２-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-クロロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-カルボキサミド； ４-［５-（４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン-２-カルボキサミド； ４-［５-（３-フルオロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（４-フルオロ-３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（４-クロロ-３-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（２、３-ジヒドロベンゾフラン-６-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-［５-（ベンゾフラン-６-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［５-（３-フルオロ-５-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［５-（３-クロロ-４-メトキシフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-(１-シクロヘキセン-１-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（１、３-シクロヘキサジエン-１-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［５-（５、６-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン-４-イル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン； ４-（５-シクロヘキシル-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（４-メトキシ-３-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-メトキシ-４-メチルフェニル）-３-メチル- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［５-（３-メトキシ-５-メチルフェニル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（３-フリル）-３-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ２-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ２-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-カルボン 酸メチル； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-カルボサ ミド； １-［４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-２-イ ル］エタノン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-２-イル）ピリ ジン-２-アミン； ３-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ３-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-カルボン 酸メチル； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-カルボサ ミド； １-［４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン-３-イ ル］エタノン； ３-ブロモ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-２-イル）ピリ ジン-３-アミン； ２-メチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン ； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン； ２-メトキシ-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール）-４-イル）ピリミ ジン； ４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリミジン-２-アミン ； Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリ ミジン-２-アミン； ４-（５、６-ジヒドロ-２Ｈ-ピラン-４-イル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピ ラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（３-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-フリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（２-チエニル）-１Ｈ-ピラゾール； ４-（２-フリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-イソチアゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（３-イソオキサゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（５-イソチアゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-（５-イソオキサゾリル）-３-メチル-５-フェニル-１Ｈ -ピラゾール； ３-メチル-５-フェニル-４-（５-チアゾリル）-１Ｈ-ピラゾール； ３-メチル-４-（５-オキサゾリル）-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ２-メチル-４-［３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-（１-メチル-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ２-メチル-４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メチルピリジ ン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４ -イル］-２-メチルピリジン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-メチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン二水和物； ５-（３-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； Ｎ、Ｎ-ジメチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン； Ｎ-メチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； Ｎ-エチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-アミン； Ｎ、Ｎ-ジエチル-５-（３-メチルフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラ ゾール-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジエチル-４-（４-ピリジル）-１Ｈ-ピラゾ ール-３-アミン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］モルホリン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-プロピル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-アミン； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-（フェニルメチル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ -ピラゾール-３-アミン水和物（２：１）； ５-（４-クロロフェニル）-Ｎ-（２-メトキシエチル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-３-アミン一水和物； １、１-ジメチルエチル-４-［５-（４-クロロフェニル）-４ -（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカルボキシレー ト； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］ピペラジン・三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-メチルピペラジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１-ピペラジンカルボン酸１、１-ジメチルエチル； １-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］ピペラジン三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］ピペラジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-［２-（フェニルメチル）アミノ-４-ピリジ ニル］-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１、３-プロパンジアミン三塩酸塩； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-（フェニルメチル）ピペラジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-（１-ピペラジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリミジン二塩酸塩； １、１-ジメチルエチル［３-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］プロピル］カルバメート； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１、３-プロパンジアミン三塩酸塩一水和物； １、１-ジメチルエチル［２-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ ］エチル］カルバメート； １、１ジメチルエチル ４-［５-（４-クロロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエ チル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカル ボキシレート； １、１-ジメチルエチル ４-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリミジ ニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］-１-ピペラジンカルボキシレート； １、１-ジメチルエチル［３-［［５-（４-クロロフェニル）-４-（２-フルオロ- ４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］アミノ］プロピル］カルバメート ； １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-エチルピペラジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-１、２-エタンジアミン； ４-［３-（２、６-ジフルオロフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（３-エチルフェニル）-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-５-エチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-エチル-５-（３-エチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-５-（１-メチルエチル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-シクロプロピル-５-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-５-（４-トリフルオロメチル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン； ４-［５-シクロプロピル-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ -ピラゾール-４-イル］ピリジン； ５-シクロプロピル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ- ピラゾール-１-エタノール； ３-（４-フルオロフェニル）-５-（２-メトキシ-４-ピリジニル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］-２（１Ｈ）-ピリジノン； １-アセチル-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）- ４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］-２（１Ｈ）-ピリジノン； エチル ２-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（ ４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］シクロプロパンカルボキシレート ； ２-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-ヒドロキシエチル）-４-（４-ピリ ジニル）-１Ｈ-ピラゾール-５-イル］シクロプロパンカルボン酸； ３-（４-フルオロフェニル）-５-（４-イミダゾリル）-４-（４-ピリジニル）- １Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-（４-クロロ-３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-カル ボン酸； ５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-メタ ノール； １-［［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-イル］カルボニル］ピペラジン； １、１-ジメチルエチル ４-［［５-（４-フルオロフェニル） -４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イル］カルボニル］-１-ピペラジ ンカルボキシレート； ４-（１、５-ジメチル-３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-（１、３-ジメチル-５-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１、５-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-（４-クロロフェニル）-１、３-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［５-エチル-１-メチル-３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-エチル-１-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-エチル-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-２-エチル-５-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（２-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタ ノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリミジニル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エ タノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ２-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール -４-イル］-２-ピリジニル］アミノ］-１-ブタノール； ４-［５-ブロモ-３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボニトリル； ４-［２-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-１-イル］エチル］モルホリン； ３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-α-フェニル-４-（４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-５-メタノール； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］-４-モルホリンエタンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２（１Ｈ）-ピリ ジノンヒドラゾン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニルメ チル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニルエ チル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-エチル-２-ピ リジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボキサミド； メチル ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピ リジンカルボキシレート； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-メチル-２- ピリジンカルボキサミド； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンカ ルボン酸； ４-［３-（２-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソ-５-イル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソ-５-イル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ チルピリジン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-メ チルピリジン； ４-［３-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［５-（３-クロロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ２-メチル-４-［１-メチル-３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ２-メチル-４-［１-メチル-５-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン； ４-（３-フェニル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル）ピリジン； ４-［３-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ ピリジン； ４-［１-メチル-３-［３-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； ４-［３（３、４-（ジフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン ； ４-［３-（４-（クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フルオロピ リジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３（３、４-（ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］ピリジン； ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； （Ｅ）-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-（２ -フェニルエテニル）ピリジン； （Ｓ）-４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（２- メチルブチル）-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-メトキ シフェニル）メチル］-２-ピリジンアミン； Ｎ-［４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジニ ル］-２-ピリジンメタンアミン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ニル］-２-ピリジンメタンアミン； ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピ リジン； ４-［３-（４-ヨードフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-ヨードフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； ４-［１-メチル-３-［４-（トリフルオロメチル）フェニル］-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン； Ｎ-［１-（４-フルオロフェニル）エチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）- １Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ンアミン； Ｎ-［（３-フルオロフェニル）メチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１ Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- （１-メチルヒドラジノ）ピリジン； ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン； ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フル オロピリジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-３-メチルピリ ジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-３- メチルピリジン； ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル ］-２-フルオロピリジン； ３-（４-フルオロフェニル）-Ｎ、Ｎ-ジメチル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-１-エタンナミン； ２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］-４-［３-４-フルオロフェニル）-１ -メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； ４-［３-（４-フルオロフエニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［１-（フェ ニルメチル）-４-ピペリジニル］-２-ピリジンアミン； Ｎ’-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１、２-エタンジアミン； ２、４-ビス［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジ ニル］-４-モルホリンエタンアミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-１-エタノール； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［２-（１Ｈ -イミダゾール-１-イル）エチル］-２-ピリジンアミン； ４-［２-［３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-１-イル］エチル］モルホリン； （Ｅ）-３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エ テニル］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニル）-Ｎ、Ｎ-ジメ チル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］- ４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［１-［２-（ジメチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-２-ピリジンアミン； ４-［１-［２-（ジメチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-２-ピリジンア ミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［２-（４-フルオロフェニル）エチル］- ４-ピリジニル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-４-［３（又は５）- （４-フルオロフェニル）-１-［２-（４-モルホリニル）エチル］-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］-２-ピリジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-ピペラジニ ル-２-ピリジンアミン； Ｎ、Ｎ-ジエチル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（２-フルオロ-４-ピリジニ ル）-１Ｈ-ピラゾール-１-エタンアミン； ４-［１-［２-（ジエチルアミノ）エチル］-３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ- ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-２-ピリジンア ミン； ２-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］エタノール； ３-［［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリ ジニル］アミノ］-１-プロパノール； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［４-フルオロフェニル］メチル］アミノ ］-４-ピリジニル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ５-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［４-フルオロフェニル］メチル］アミノ ］-４-ピリジニル-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； Ｎ、Ｎ-ジエチル-３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-１-エタンアミン； Ｎ-［（４-フルオロフェニル）メチル］-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１- ［２-（４-モルホリニル）エチル］-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリジンア ミン； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］-４-モルホリンプロパンアミン； Ｎ’-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- ３-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチル-１、３-プ ロパンジアミン； ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-２-プロピニル-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピ ラゾール-３-アミン； ３-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［［（４-フルオロフェニル）メチル］ア ミノ］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ５-（４-フルオロフェニル）-４-［２-［［（４-フルオロフェニル）メチル］ア ミノ］-４-ピリジニル］-１Ｈ-ピラゾール-１-エタノール； ４-［３-［（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］キノリン； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］グリシンメチルエステル； Ｎ-［５-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３- イル］グリシン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４-［５-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン； ４、４’-（１Ｈ-ピラゾール-３、４-ジイル）ビス［ピリジン］； ４-［３-（３、４-ジクロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン； Ｎ-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール-３-イ ル］-４-ピペリジンアミン； ２-クロロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリ ミジン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２（１Ｈ）-ピ リミジノンヒドラゾン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ、Ｎ-ジメチ ル-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-メチル-２- ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-（フェニル メチル）-２-ピリミジンアミン； Ｎ-シクロプロピル-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-Ｎ-［（４-メト キシフェニル）メチル］-２-ピリミジンアミン； ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリミジン アミン； Ｎ-［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-ピリミ ジニル］-Ｎ-（フェニルメチル）アセタミド； エチル ［４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２- ピリミジニル］カルバメート； ４-［３-（３-メチルフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン； ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン； ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジン；及 び ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミジンから 成る群の化合物、それらの互変異性体及びそれらの製薬的に許容な塩から選ばれ る請求項１記載の化合物。 ７０． から成る群の化合物、それらの互変異性体及びそれらの製薬的に許容な塩から選 ばれる請求項１記載の化合物。 ７１． ４-［５-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ７２． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-（２-プロピニル）-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ７３． ３-（４-フルオロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾール- １-エタノール又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の 化合物。 ７４． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］-２-（１-メチルヒドラジノ）ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変 異性体である請求項１記載の化合物。 ７５． １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-イル］ピペラジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ７６． ４-［３-シクロプロピル-５-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１ 記載の化合物。 ７７． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジ ン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ７８． １-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１Ｈ-ピラゾー ル-３-イル］-４-メチルピペラジン、又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体 である請求項１記載の化合物。 ７９． ４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリミ ジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ８０． ２-フルオロ-４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４- イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の 化合物。 ８１． ４-［３-（３、４-ジフルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール- ４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記 載の化合物。 ８２． ４-［３-（４-ブロモフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］ピリジン 又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ８３． ４-［３-（４-クロロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イル］-２-フル オロピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化 合物。 ８４． ４-［３-（１、３-ベンゾジオキソル-５-イ）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾ ール-４-イル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項 １記載の化合物。 ８５． ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化 合物。 ８６． ４-［３-（３-フルオロフェニル）-１-メチル-ピラゾール-４-イル］ピ リジン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１記載の化合物。 ８７． ５-（４-フルオロフェニル）-Ｎ-２-プロピニル-４-（４-ピリジニル） -１Ｈ-ピラゾール-３-アミン又はその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請 求項１記載の化合物。 ８８． ｐ３８キナーゼのＡＴＰ結合部位へ特別に結合する置換基を有するピラ ゾール。 ８９． ここで、 Ｒ1は約３６０原子単位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒ ドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ2はｐ３８キナーゼの前記ＡＴＰ結合部位に結合するヒドロカルビル、ヘテ ロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり Ｒ3は水素結合受容性機能を有するヒドロカルボニル、ヘテロ置換 カルボニル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ4は約３６０原子質量位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換 ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環であり、Ｒ1がヒドリドのとき、 Ｒ3は２-ピリジニルではなく、Ｒ4がヒドリドのとき、Ｒ2はアリール、ヘテロシ クリル、無置換シクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれ、Ｒ4はメチル スルホニルフェニルではない式ＸＩＩを有する、若しくはその製薬的に許容な塩 又は互変異性体である請求項８８記載の化合物。 ９０． Ｒ2はｐ３８きなーぜの前記ＡＴＰ結合部位のＬｙＳ52、Ｇｌｕ69、Ｌ ｅｕ73、Ｉｌｅ82、Ｌｅｕ94、Ｌｅｕ101及びＴｈｒ103側鎖に結合し、ＡＴＰ結 合部位でｐ３８キナーゼによる前記結合中に形成される疎水性空内に実質的に配 置されるヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であ る請求項８９記載の化合物。 ９１． Ｒ3はｐ３８キナーゼのＭｅｔ106のＮ-Ｈ骨格と水素結合する水素結合 受容機能を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリ ル基であ請求項８９記載の化合物。 ９２． Ｒ1は約２５０原子質量単位以下である分子量を有するヒドロカルビル 、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基である請求項８９記載の化合 物。 ９３． Ｒ4は約２５０原子質量単位以下である分子量を有するヒドロカルビル 、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基である請求項８９記載の化合 物。 ９４． Ｒ1は約３６０原子質量単位行かの分子量を有するヒドロカルビル、ヘ テロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であり、 Ｒ2はヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基であ り、ｐ３８キナーゼの前記ＡＴＰ結合部位のＬｙｓ52、Ｇｌｕ69、Ｌｅｕ73、Ｉ ｌｅ82、Ｌｅｕ84、Ｌｅｕ101及びＴｈｒ103側鎖と結合し、前記基はＡＴＰ結合 部位でｐ３８キナーゼによる前記結合中に形成される疎水性空洞内に実質的に配 置され、 Ｒ3はｐ３８キナーゼのＭｅｔ106のＮ-Ｈ骨格と水素結合する水素結合受容機 能を有するヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基で あり、 Ｒ4は約３６０原子質量単位以下の分子量を有するヒドロカルビル、ヘテロ置 換ヒドロカルビル又はヘテロシクリル基である請求項８９記載の化合物。 ９５． Ｒ1及びＲ2はヒドロカルビル、ヘテロ置換ヒドロカルビル又はヘテロシ クリル基から独立に選ばれ、約３６０原子質量単位以下の結合分子量を有する請 求項９４の化合物。 ９６． 請求項１の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物の治 療に有効な量を含む製薬組成物。 ９７． 前記化合物は請求項３の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれ る請求項９６記載の製薬組成物。 ９８． 前記化合物は請求項４の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれ る請求項９６記載の製薬組成物。 ９９． 前記化合物は請求項５の化合物、又はその製薬的に許容な 塩から選ばれる請求項９６記載の製薬組成物。 １００． 前記化合物は請求項６の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ば れる請求項９６記載の製薬組成物。 １０１． 請求項２４の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０２． 前記化合物は請求項２５記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０１記載の製薬組成物。 １０３． 請求項２５の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０４． 前記化合物は請求項３６記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０３記載の製薬組成物。 １０５． 請求項４４の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０６． 前記化合物は請求項４５記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０５記載の製薬組成物。 １０７． 請求項５３の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １０８． 前記化合物は請求項５４記載のの化合物、又はその製薬的に許容な塩 から選ばれる請求項１０７記載の製薬組成物。 １０９． 請求項６６の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １１０． 請求項６９の化合物、又はその製薬的に許容な塩から選ばれる化合物 の治療に有効な量を含む製薬組成物。 １１１． 前記化合物が４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４ -イル］ピリジン若しくはその製薬的に許容な塩又は互変異性体である請求項１ １０記載の製薬組成物。 １１２． ＴＮＦ媒介疾患の治療方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキ ルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシク リルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスル フィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスル ホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、 ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルア ルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、 アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテ ロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリー ルカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカル ボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアル キレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシア リーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキ シアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキ ル、アルキルアミノアルキル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルア ルキレン、アリールカルボニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノ アルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリー レン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリー レン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチ オアルキレン 、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオア リーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキ レン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンか ら選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、 アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルア ルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアル キルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロ アルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた 一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルア ミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキル スルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しく は Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、かか る疾患を患っている若しくはかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１３． ｐ３８媒介疾患を治療する方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニル アルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリ ーレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキ レン、アリールカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、 アルキルカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボ ニロキシアルキレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカル ボニロキシアリーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリル カルボニロキシアリーレ ンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘ テロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキレ ン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールアミノカルボニ ルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキ レン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、 アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキ ルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキ ルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリー レン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン 、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオア リーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキ レン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンか ら選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、 アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルア ルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアル キルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロ アルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキル チオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル及びヘテロシクリル基は、 アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換 され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ 、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル 、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケ ト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシ アルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキ ル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテ ロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アル キルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ば れた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、かか る疾患を患っている又はかかり易い被験者を治療する ことからなる方法。 １１４． 炎症を治療する方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニル アルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリ ロキシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシ カルボニルアリーレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカ ルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニ ルアルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、 アリールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン 、アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及び ヘテロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアル ケニルアルキレン、シクロアルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル 、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラ ルキルアリーレン、アルキルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキ シアルキレン、アルコキシアリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテ ロシクリル、アルコキシアルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラ ルコキシアリーレン、アルコキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアル コキシアリーレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘ テロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、ア ミノアルキル、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレ ン、アルコキシアリールアミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキ レン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキ レン、アリールカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリ ーロキシカルボニルアリーレン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、 アリールカルボニルアリーレン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アル コキシカルボニルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシ アリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリーレン、アルキルチオアル キレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチオアリーレン、アラルキル チオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリー レン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキルスルホニルアリーレン、 アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、ここで前記アルキル、シクロ アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン 、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシアリーレン、アリーロキシア リーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アリーロキシカルボニルアリ ーレン、アリ ールカルボニルアリーレン、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリ ーレン、アリールチオアルキルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基 は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシ アノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキ レン、アリールアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノ アルキルアミノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシク リロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カ ルボキシアルキル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、 カルボキシアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル 、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アル コキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アル コキシカルボニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選 ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキ ル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、ア ルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、 エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、ア リーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ 、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカ ルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及 びアラルキルスルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換 され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ 、アリーロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルフィニル、アリー ルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘ テロシクリルアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキ ニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシ アルキル、アルコキシカルボニル、アリーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキ シカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシアラルキルアミノ、ア ミノスルフィニル、アミノスルホニル、アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロ キシアルキルアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラ ルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミノカルボニル、アルキルカ ルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、ハロアルキル、アルキルカ ルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒドラジニル、アリールヒドラジニル、若し くは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され 、ここでＲ44はアルキルカルボニル又はアミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラ ルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリー ルアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン、アミノアル キルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に 置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1はヒドリドのと き、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチルスルホニル フェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換のシクロアル キル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、炎症 を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１５． 関節炎を治療する方法であって、 ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレ ン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアルキル、アルキルアミノ、ア ルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、 アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、ア リールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アル ケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリ ルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルアルキレン、ア シル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、アリーロキシ カルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン、アルコキシ カルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテロシクリロキ シカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカルボニルアリー レン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、 アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアルキレン、ヘテ ロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、ア リールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキシアリーレン から選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル 、アルコキシアルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキル アミノアルキル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、ア リールカルボニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンか ら選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリー レン、アルキルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリー レン、アルキルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシ クリルアリーレン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリ ルカルボニルアルキルアリ ーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチ オアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、ア リールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキ ルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、こ こで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシア リーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、ア リーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチ オアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレ ン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、ア ルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキ レン基は、ハロゲン、アルキル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ 以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルア ミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキル スルホニルから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しく は Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニルから選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり 、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換され、Ｒ4が２-ヒドロキシ置換基を含むフェニル環で、Ｒ1は ヒドリドのとき、Ｒ3は２-ピリジニルでなく、Ｒ4がヒドリドであり、Ｒ4がメチ ルスルホニルフェニルでないときに、Ｒ2はアリール、ヘテロシクリル、無置換 のシクロアルキル及びシクロアルケニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、関節 炎を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１６． ｐ３８キナーゼ媒介疾患を治療する方法であって、 ここで、 Ｚは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Ｒ1はヒドリド、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル及び低級アルキニル から選ばれ、 Ｒ2はヒドリド及び低級アルキルから選ばれ、 Ｒ3はフェニル及びベンゾジオキソリルから選ばれ、ここでフェニルは一つ又 はそれ以上のハロ基で選択的に置換され Ｒ5はヒドリド、ハロ及びアルキルヒドラジニルから選ばれる式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体である化合物の治療に有効な量で、かか る疾患を患っている又はかかり易い被験者を治療することからなる方法。 １１７． ＴＮＦ媒介疾患は骨吸収、移植片対宿主反応、アテローム硬化症、関 節炎、骨関節炎、リウマチ関節炎、痛風、乾癬、局所炎症状態、大人呼吸窮迫症 候群、喘息、慢性肺炎症病、心臓再灌流損傷、腎再灌流損傷、血栓、腎炎、クロ ーン病、潰瘍性大腸炎、炎症性腸病及び悪液質からなる疾患の群から選ばれる請 求項１１２の方法。 １１８． ＴＮＦ媒介疾患が炎症である請求項１１２記載の方法。 １１９．ＴＮＦ媒介疾患が関節炎である請求項１１２記載の方法。 １２０． ＴＮＦ媒介疾患が喘息である請求項１１２記載の方法。 １２１． 化合物は４-［３-（４-フルオロフェニル）-１Ｈ-ピラゾール-４-イ ル］ピリジン又はその製薬的に許容な炎又は互 変異性体である請求項１１２記載の方法。 １２２． 化合物は１-［５-（４-クロロフェニル）-４-（４-ピリジニル）-１ Ｈ-ピラゾール-３-イル］-４-メチルピペラジン又はその製薬的に許容な塩又は 互変異性体である請求項11２記載の方法。 １２３． 疾患はｐ３８αキナーゼ媒介疾患である請求項１１３記載の方法。 １２４． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は、骨吸収、移植片対宿主反応、アテローム 硬化症、関節炎、骨関節炎、リウマチ関節炎、痛風、乾癬、局所炎症状態、大人 呼吸窮迫症候群、喘息、慢性肺炎症病、心臓再灌流損傷、腎再灌流損傷、血栓、 腎炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、炎症性腸病及び悪液質からなる疾患の群から 選ばれる請求項１１３の方法。 １２５． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は炎症である請求項１１３の方法。 １２６． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は関節炎である請求項１１３記載の方法。 １２７． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は喘息である請求項１１３記載の方法。 １２８． 疾患はｐ３８αキナーゼ媒介疾患である請求項１１６記載の方法。 １２９． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は、骨吸収、移植片対宿主反応、アテローム 硬化症、関節炎、骨関節炎、リウマチ関節炎、痛風、乾癬、局所炎症状態、大人 呼吸窮迫症候群、喘息、慢性肺炎症病、心臓再灌流損傷、腎再灌流損傷、血栓、 腎炎、クローン病、潰瘍性大腸炎、炎症性腸病及び悪液質からなる疾患の群から 選ばれる請求項１１６の方法。 １３０． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は炎症である請求項１１６の方法。 １３１． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は関節炎である請求項１１６記載の方法。 １３２． ｐ３８キナーゼ媒介疾患は喘息である請求項１１６記載の方法。 １３３． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル 、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシアルキル、アル キノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシアルキル、アル コキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン、アルケニル チオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアルキル、アルキ ルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシク リルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスル フィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスル ホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリールスルホニル、 ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキルスルホニルア ルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキレン、 アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、ヘテ ロシクリロキシカルボニルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリー ルカルボニルアルキレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカル ボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アリーレン、アルキルカルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアル キレン、ヘテロシクリルカルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシア リーレン、アリールカルボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキ シアリーレンから選ばれ、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキ ルヘテロシクリル、アルキルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリ ルアリーレン、アラルキルヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシ アリーレン、アルコキシアラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシア ルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アル コキシヘテロシクリルアルキレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコ キシカルボニルアルキレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシ カルボニルヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルア ミノアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールア ミノカルボニルアルキレン、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカル ボニルアルキレン、アルキルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニル アルキレン、 アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキ ルアリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキ ルアリールカルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリー レン、アルコキシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニル アルキルアリーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン 、アルキルチオアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオア リーレン、アリールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキ レン、アルキルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンか ら選ばれ、ここで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、 アルコキシアリーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルア ルキレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン 、アルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアル キルアリーレン及びアルキルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロ アルキル、アルコキシ、ケト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシ アルキレン、アルコキシアリーレン、アルキルアリーロキシアルキレン、アルキ ルカルボニル、アルコキシカルボニル、アラルコキシカルボニル、アルキルアミ ノ及びアルコキシカルボニルアミノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で 選択的に置換され、さらに前記アリール、ヘテロシクリルアルキレン及びアリー ロキシアルキレン基は、ハロゲン、アルキル及びアルコキシから独立に選ばれた 一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、ア ルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、カルボキシ、カルボキシアル キル、カルボキシシクロアルキル、カルボキシシクロアルケニル、カルボキシア ルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシ カルボニルアルキル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリルカルボニル、アルコキシアルキルアミノ、アルコキシカルボ ニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロシクリルスルホニルから選ばれ、ここで アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルシクロアルキル及びシクロ アルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア リール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、エポキシアル キル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、 アラルコキシ、ハロアルキ ル、アルキルアミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテ ロシクリルアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アル キルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ば れた一つ又はそれ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、アミノカ ルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキルカルボニロキシアルキルか ら独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は -ＣＲ41Ｒ42であり、ここでＲ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アル キルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シ クロアルケニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボ ニル、シアノ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリ ーロキシカルボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルア ミノ、アルコキシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、 アルキルアミノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ 、ヘテロシクリルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、 アルキルアミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミ ノアルキル、ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒド ラジニル、アリールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一 つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又は アミノであり、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の 基で選択的に置換された式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体のピラゾールの合成方法であって、 前記方法はアシルヒドラゾンを生成させ、縮合させて置換基を有するピラゾー ルを生成させる工程から成る方法。 １３４． アシルヒドラゾンはケトンとアシルヒドラジドとの反応により生成さ せる請求項１３３記載の方法。 １３５． 縮合は約２５℃から約２００℃の温度で行われる請求項１３３記載の 方法。 １３６． ここで、 Ｒ1はヒドリド、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル 、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、シクロアルキルアルキレン、シクロ アルケニルアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、ハロアルキル、ハロアルケ ニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキ シアルキニル、アラルキル、アラルケニル、アラルキニル、アリールヘテロシク リル、カルボキシ、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケノキシア ルキル、アルキノキシアルキル、アリーロキシアルキル、ヘテロシクリロキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、メルカプトアルキル、アルキルチオアルキレン 、アルケニルチオアルキレン、アルキルチオアルケニレン、アミノ、アミノアル キル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アリールアミノ 、ヘテロシクリルアミノ、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ア ルキニルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロシクリルスルフィニル、 アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アリール スルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキルアミノアルキレン、アルキル スルホニルアルキレン、アシル、アシロキシカルボニル、アルコキシカルボニル アルキレン、アリーロキシカルボニルアルキレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアルキレン、アルコキシカルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリ ーレン、ヘテロシクリロキシカルボニ ルアリーレン、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン 、ヘテロシクリルカルボニルアルキレン、アルキルカルボニルアリーレン、アリ ールカルボニルアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアリーレン、アルキルカ ルボニロキシアルキレン、アリールカルボニロキシアルキレン、ヘテロシクリル カルボニロキシアルキレン、アルキルカルボニロキシアリーレン、アリールカル ボニロキシアリーレン及びヘテロシクリルカルボニロキシアリーレンから選ばれ 、若しくは Ｒ1は式IIを有し、 ここで、 ｉは０から９の整数であり、 Ｒ25は、水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシ アルキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキ ル、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボ ニルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ26は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキルアルキレン 、アラルキル、アルコキシカルボニルアルキレン及びアルキルアミノアルキルか ら選ばれ、 Ｒ27はアルキル、シクロアルキル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、 アラルキル、シクロアルキルアルキレン、シクロアルケニルアルキレン、シクロ アルキルアリーレン、シクロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクリルアルキレ ン、アルキルアリーレン、 アルキルアラルキル、アラルキルアリーレン、アルキルヘテロシクリル、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アラルキル ヘテロシクリル、アルコキシアルキレン、アルコキシアリーレン、アルコキシア ラルキル、アルコキシヘテロシクリル、アルコキシアルコキシアリーレン、アリ ーロキシアリーレン、アラルコキシアリーレン、アルコキシヘテロシクリルアル キレン、アリーロキシアルコキシアリーレン、アルコキシカルボニルアルキレン 、アルコキシカルボニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリル カルボニルアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキレン、アリール アミノカルボニルアルキレン、アルコキシアリールアミノカルボニルアルキレン 、アミノカルボニルアルキレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、アルキ ルアミノカルボニルアルキレン、アリールカルボニルアルキレン、アルコキシカ ルボニルアリーレン、アリーロキシカルボニルアリーレン、アルキルアリーロキ シカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルアリールカ ルボニルアリーレン、アルコキシカルボニルヘテロシクリルアリーレン、アルコ キシカルボニルアルコキシアリーレン、ヘテロシクリルカルボニルアルキルアリ ーレン、アルキルチオアルキレン、シクロアルキルチオアルキレン、アルキルチ オアリーレン、アラルキルチオアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、ア リールチオアルキルアリーレン、アリールスルホニルアミノアルキレン、アルキ ルスルホニルアリーレン、アルキルアミノスルホニルアリーレンから選ばれ、こ こで前記アルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘテロシクリルアリーレン、アルコキシア リーレン、アリーロキシアリーレン、アリールアミノカルボニルアルキレン、ア リーロキシカルボニルアリーレン、アリールカルボニルアリーレン、アルキルチ オアリーレン、ヘテロシクリルチオアリーレン、アリールチオアルキルアリーレ ン及びアルキ ルスルホニルアリーレン基は、アルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシ、ケ ト、アミノ、ニトロ及びシアノから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択 的に置換され、 Ｒ27は-ＣＨＲ28Ｒ29であり、ここでＲ28はアルコキシカルボニルであり、Ｒ2 9 はアラルキル、アラルコキシアルキレン、ヘテロシクリルアルキレン、アルキ ルヘテロシクリルアルキレン、アルコキシカルボニルアルキレン、アルキルチオ アルキレン及びアラルキルチオアルキレンから選ばれ、ここで、前記アラルキル 及びヘテロシクリル基は、アルキルおよびニトロから独立に選ばれた一つ又はそ れ以上の基で選択的に置換され、 Ｒ26及びＲ27は窒素原子とともにヘテロ環を形成し、ここで前記ヘテロ環は、 アルキル、アリール、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキレン、アルキルヘ テロシクリルアルキレン、アリーロキシアルキレン、アルコキシアリーレン、ア ルキルアリーロキシアルキレン、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、 アラルコキシカルボニル、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノから 独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換され、さらに前記アリール 、ヘテロシクリルアルキレン及びアリーロキシアルキレン基は、ハロゲン、アル キル及びアルコキシから独立に選ばれた一つ又はそれ以上の基で選択的に置換さ れ、 Ｒ2はヒドリド、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、 ヘテロシクリル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アラルキル、アルキルヘ テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、 アルキニルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アラルキルアミノ、アミノアルキル、アミノアリール、アニのア ルキルアミノ、アリールアミノアルキレン、アルキルアミノアルキレン、アリー ルアミノアリーレン、アルキルアミノアリーレン、アルキルアミノアルキルアミ ノ、シクロアルキル、シクロアルケニル 、アルコキシ、ヘテロシクリロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロシク リルチオ、カルボキシ、カルボキシアルキル、カルボキシシクロアルキル、カル ボキシシクロアルケニル、カルボキシアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、 ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボ ニルヘテロシクリル、アルコキシカルボニルヘテロシクリルカルボニル、アルコ キシアルキルアミノ、アルコキシカルボニルアミノアルキルアミノ、及びヘテロ シクリルスルホニルから選ばれ、ここでアリール、ヘテロシクリル、ヘテロシク リルアルキルシクロアルキル及びシクロアルケニル基は、ハロ、ケト、アミノ、 アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、 ヘテロシクリルアルキル、エポキシアルキル、アミノ（ヒドロキシアルキル）カ ルボキシ、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、ハロアルキル、アルキル アミノ、アルキニルアミノ、アルキルアミノアルキルアミノ、ヘテロシクリルア ルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニ ル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルから独立に選ばれた一つ又は それ以上の基で選択に置換され、若しくは Ｒ2は式IIIを有し、 ここで、 ｊは０から８の整数であり、 ｍは０又は１であり、 Ｒ30及びＲ31は水素、アルキル、アリール、ヘテロシクリル、アラルキル、ヘ テロシクリルアルキレン、アミノアルキル、アルキル アミノアルキル、アミノカルボニルアルキル、アルコキシアルキル及びアルキル カルボニロキシアルキルから独立に選ばれ、 Ｒ32は水素、アルキル、アラルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルコキシア リキレン、アリーロキシアルキレン、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル 、アリールアミノアルキル、アルキルカルボニルアルキレン、アリールカルボニ ルアルキレン及びヘテロシクリルカルボニルアミノアルキレンから選ばれ、 Ｒ33は水素、アルキル、-Ｃ（Ｏ）Ｒ35、-Ｃ（Ｏ）ＯＲ35、-ＳＯ2Ｒ36、-Ｃ （Ｏ）ＮＲ37Ｒ38及び-ＳＯ2ＮＲ39Ｒ40であり、ここでＲ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38 、Ｒ39及びＲ40は炭化水素、ヘテロ置換炭化水素及びヘテロシクリルから独立に 選ばれ、 Ｒ34は水素、アルキル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル及びア リールアミノカルボニルから選ばれ、若しくはＲ2は-ＣＲ41Ｒ42であり、ここで Ｒ41はアリールであり、Ｒ42はヒドロキシであり、 Ｒ3はピリジル、ピリミジニル、キノリニル、プリニル から選ばれ、 ここで、Ｒ43は水素、アルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アル ケニルアルキル及びアルーロキシアルキルであり、 ここでＲ3であるピリジニル、ピリミジニル、キノリニル及びプリニル基は、 ハロ、アルキル、アラルキル、アラルケニル、アリールヘテロシクリル、カルボ キシ、カルボキシアルキル、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリー ルチオ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、 アリールスル ホニル、アラルコキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、 アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、シクロアルケニ ルアミノ、アリールアミノ、ヘテロシクリルアミノ、アミノカルボニル、シアノ 、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシカルボニル、アリーロキシカル ボニル、ヘテロシクリロキシカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アルコ キシアラルキルアミノ、アミノスルフィニル、アミノスルホニル、アルキルアミ ノアルキルアミノ、ホドロキシアルキルアミノ、アラルキルアミノ、ヘテロシク リルアルキルアミノ、アラルキルヘテロシクリルアミノ、ニトロ、アルキルアミ ノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、ハロスルホニル、アミノアルキル、 ハロアルキル、アルキルカルボニル、ヒドラジニル、アルキルヒドラジニル、ア リールヒドラジニル、若しくは-ＮＲ44Ｒ45から独立に選ばれた一つ又はそれ以 上の基で選択的に置換され、ここでＲ44はアルキルカルボニル又はアミノであり 、Ｒ45はアルキル又はアラルキルであり、 Ｒ4はヒドリド、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク ロアルケニル、アリール及びヘテロシクリルから選ばれ、ここでＲ4はハロ、ア ルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルキルチオ、 アリールチオ、アルキルチオアルキレン、アリールチオアルキレン、アルキルス ルフィニル、アルキルスルフィニルアルキレン、アリールスルフィニルアルキレ ン、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアルキレン、アリールスルホニル アルキレン、アルコキシ、アリーロキシ、アラルコキシ、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニル、 アリーロキシカルボニル、ハロアルキル、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキルア ミノ、アリールアミノ、アルキルアミノアルキレン、アリールアミノアルキレン 、アミノアルキルアミノ及びヒドロキシから独立に選ばれた一つ又 はそれ以上の基で選択的に置換された式Ｉ、若しくは その製薬的に許容な塩又は互変異性体のピラゾールの合成方法であって、 前記方法は置換基を有するケトンとアシルヒドラジドとを処理してピラゾール を生成させる工程から成る方法。 １３７． 酸性溶媒中で行われる請求項１３６記載の方法。 １３８． 酸性溶媒は酢酸である請求項１３７記載の方法。 １３９． 酸性溶媒は酸を含有する有機溶媒である請求項１３７の方法。
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