JP2002502915A - 低密度高表面積銅粉末およびそれを製造する電析プロセス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、１立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グラムの範囲の見かけ密度、および１グラムあたり、少なくとも約０．５平方メートルの表面積を有する低密度高表面積銅粉末に関する。本発明はまた、プロセスパラメータの重要な組み合わせを用いて、前述の銅粉末を電解液から電析することにより、この銅粉末を製造する電析プロセスに関する。これらの重要なパラメータには、以下が挙げられる：１リットルあたり、約２〜約７グラムの範囲のこの電解液用の銅イオン濃度；約８〜約２０ｐｐｍの範囲のこの電解液用の遊離塩化物イオン濃度；１リットルあたり、約１．０グラム以下のこの電解液用の不純物レベル；および有機添加剤を含まない電解液。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 （技術分野） 本発明は、低密度高表面積銅粉末に関し、それを製造する電析プロセスに関す
る。

【０００２】 （発明の背景） 銅粉末は、焼結製品を製造するために、粉末冶金用途で使用できる。この銅粉
末は、典型的には、しばしば、スズのような合金化粉末と組み合わせて、鉄粉ま
たはグラファイト粉末とブレンドされる。それは、次いで、コンパクト化され焼
結されて、所望製品が製造される。この技術は、何年にもわたって、広く使用さ
れているものの、さらに高い強度の製品が引き続いて必要とされている。このよ
うなより高い強度の製品を得ることに付随した問題は、これらの製品を製造する
のに使用される焼結プロセスが、本来、比較的に高い空隙濃度を持った製品を生
じるという事実に関する。本発明は、現在入手できるものよりも低い見かけ密度
を有する銅粉末を提供することにより、この問題に対する解決法を与える。本発
明の銅粉末は、１立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グラムの
範囲の見かけ密度を有する。一方、現在入手できる低密度銅粉末は、一般に、１
立方センチメートルあたり、約０．６５グラムを超える見かけ密度、典型的には
、１立方センチメートルあたり、約０．８グラムを超える見かけ密度を有する。
本発明により提供された低密度銅粉末により、コンパクト化および焼結中におい
て、この銅粉末と、それらがブレンドされる粉末（例えば、鉄粉、グラファイト
粉末など）との間で、さらに密な接触が可能となる。このさらに密な接触により
、空隙濃度が低い高強度製品が見込まれる。

【０００３】 米国特許第５，４５８，７４６号；第５，５２０，７９２号；および第５，６
７０，０３３号は、銅含有物質から銅金属粉末を製造するプロセスを開示してお
り、このプロセスは、以下を包含する：（Ａ）上記銅含有物質を、有効量の少な
くとも１種のリーチング水溶液と接触させて、上記リーチング水溶液に銅イオン
を溶解させ、そして銅豊富リーチング水溶液を形成する工程；（Ｂ）上記銅豊富
リーチング水溶液を、有効量の少なくとも１種の水不溶性抽出剤と接触させて、
上記銅豊富リーチング水溶液から上記抽出剤へと銅イオンを移動させ、銅豊富抽
出剤および銅欠乏リーチング水溶液を形成する工程であって、上記抽出剤は、以
下を含有する：（ｉ）炭化水素結合により特徴づけられる少なくとも１種のオキ
シムであって、上記炭化水素結合は、上記炭化水素結合上の異なる炭素原子に結
合された少なくとも１個の−ＯＨ基および少なくとも１個の＝ＮＯＨ基を有する
；（ｉｉ）少なくとも１種のベータジケトン（ｂｅｔａｄｉｋｅｔｏｎｅ）；ま
たは（ｉｉｉ）少なくとも１種のイオン交換樹脂；（Ｃ）上記銅欠乏リーチング
水溶液から上記銅豊富抽出剤を分離する工程；（Ｄ）上記銅豊富抽出剤を、有効
量の少なくとも１種のストリッピング水溶液と接触させて、上記抽出剤から上記
ストリッピング溶液へと銅イオンを移動させ、銅豊富ストリッピング溶液および
銅欠乏抽出剤を形成する工程；（Ｅ）上記銅欠乏抽出剤から上記銅豊富ストリッ
ピング溶液を分離して、電解液を形成する工程；（Ｆ）上記電解液を、少なくと
も１個のアノードおよび少なくとも１個のカソードを備えた電解槽に進めて、上
記アノードおよび上記カソードに渡って有効量の電圧を適用し、上記カソード上
に銅金属粉末を析出させる工程；および（Ｇ）上記カソードから銅金属粉末を取
り除く工程。

【０００４】 米国特許第５，５１６，４０８号は、銅含有物質から銅線を直接製造する方法
を開示しており、この方法は、以下を包含する：（Ａ）上記銅含有物質を、有効
量の少なくとも１種のリーチング水溶液と接触させて、上記リーチング水溶液に
銅イオンを溶解させ、そして銅豊富リーチング水溶液を形成する工程；（Ｂ）上
記銅豊富リーチング水溶液を、有効量の少なくとも１種の水不溶性抽出剤と接触
させて、上記銅豊富リーチング水溶液から上記抽出剤へと銅イオンを移動させ、
銅豊富抽出剤および銅欠乏リーチング水溶液を形成する工程；（Ｃ）上記銅欠乏
リーチング水溶液から上記銅豊富抽出剤を分離する工程；（Ｄ）上記銅豊富抽出
剤を、有効量の少なくとも１種のストリッピング水溶液と接触させて、上記抽出
剤から上記ストリッピング溶液へと銅イオンを移動させ、銅豊富ストリッピング
溶液および銅欠乏抽出剤を形成する工程；（Ｅ）上記銅欠乏抽出剤から上記銅豊
富ストリッピング溶液を分離させる工程；（Ｆ）上記銅豊富ストリッピング溶液
をアノードとカソードとの間に流して、上記アノードおよび上記カソードに渡っ
て有効量の電圧を適用し、上記カソード上に銅を析出させる工程；（Ｇ）上記カ
ソードから上記銅を取り除く工程；および（Ｈ）（Ｇ）から除去した上記銅を、
上記銅の融点より低い温度で、銅線に変える工程。１実施態様では、工程（Ｆ）
中でカソードに析出した銅は、銅粉末の形状であり、そしてこのプロセスは、（
Ｈ−１）この銅粉末を押し出して、銅ロッドまたは銅線を成形する工程、および
（Ｈ−２）この銅ロッドまたは銅線を引き出して所望の断面を形成する工程、を
包含する。

【０００５】 Ｉ．Ｄ．Ｅｎｃｈｅｖらによる文献、「Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ Ｃｏｐ
ｐｅｒ Ｐｏｗｄｅｒ ｂｙ ｔｈｅ Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏｌ
ｙｔｉｃ Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｕｓｉｎｇ ａ Ｒｅｖｅｒｓｉｎｇ Ｃｕ
ｒｒｅｎｔ」（Ｐｏｒｏｓｈｋｏｖａｙａ Ｍｅｔａｌｌｕｒｇｉｙａ，Ｎｏ．
９（１４１），１９７４年９月、ｐｐ．９５〜９８）は、イオン交換および逆電
解抽出（ｒｅｖｅｒｓｉｎｇ ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃ ｅｘｔｒａｃｔｉｏ
ｎ）により鉱物含有率の低い鉱石（ｌｅａｎ ｏｒｅ）の溶液から調製した電解
質からの銅製造の研究結果を開示している。鉱石廃棄物をリーチングすることに
引き続いて、灯油に溶解したＡＢＦで抽出することにより調製した電解液が使用
された。この文献は、銅粉末の電解抽出のための以下の最適条件を報告している
：１２００Ａ／ｍ²の逆（ｒｅｖｅｒｓｉｎｇ）流量密度；それぞれ、５分間お よび１分間の正常および逆極性期間の持続時間；それぞれ、１リットルあたり、
１００〜１６０グラムの電解質酸性度および４０〜５０℃の温度；１リットルあ
たり、１０グラムの銅イオン濃度；グラファイトアノードおよびチタンカソード
；および純度が９９．９５％の銅で１００ミクロンの粉体粒径。この参考文献は
また、試験した電解液が、１リットルあたり、０．０１グラム（１０ｐｐｍ）の
塩素含量および１リットルあたり、０．９０〜１．２０グラムの鉄含量を有して
いたことを明らかにしている。

【０００６】 （発明の要旨） 本発明は、１立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グラムの範
囲の見かけ密度、および１グラムあたり、少なくとも約０．５平方メートルの表
面積を有する低密度高表面積銅粉末に関する。本発明はまた、プロセスパラメー
タの重要な組み合わせを用いて、銅粉末を電解液から電析することにより、前述
の銅粉末を製造する電析プロセスに関する。これらの重要なパラメータには、以
下が挙げられる：１リットルあたり、約２〜約７グラムの範囲のこの電解液用の
銅イオン濃度；約８〜約２０ｐｐｍの範囲のこの電解液用の遊離塩化物イオンの
濃度；１リットルあたり、約１．０グラム以下のこの電解液用の不純物レベル；
および有機添加剤を含まない電解液。

【０００７】 （好ましい実施態様の説明） 本発明に従って提供される低密度高表面積銅粉末は、広範囲の用途（とりわけ
、粉末冶金用途）に特に適当な特性の独特の組み合わせを有する。これらの特性
は、このような粉末を製造するのに使用されるプロセス（これは、上で言及し以
下でさらに詳細に述べるプロセスパラメータの重要な組み合わせを用いて、電解
液から、この粉末を電析することを包含する）の結果として、達成される。

【０００８】 （銅粉末） 本発明により提供される銅粉末は、低密度高表面積粉末である。この銅粉末は
、樹状成長および分枝により特徴づけられる。１実施態様では、この粉末は、二
次および三次樹状分枝により、特徴づけられる。１実施態様では、本発明の銅粉
末は、共通の背骨部分（ｓｐｉｎｅ）の回りに、規則的で対称的な樹状分枝成長
を有する；図３〜５および特に、図５を参照せよ。

【０００９】 この銅粉末は、１立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グラム
、１実施態様では、１立方センチメートルあたり、約０．３０〜約０．６０グラ
ム、１実施態様では、１立方センチメートルあたり、約０．３０〜約０．５０グ
ラムの範囲の見かけ密度を有する。見かけ密度は、ＡＳＴＭ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔ
ｈｏｄ Ｂ７０３を用いて、測定される。

【００１０】 この銅粉末は、１グラムあたり、少なくとも約０．５平方メートル、１実施態
様では、１グラムあたり、約０．５〜約５平方メートル、１実施態様では、１グ
ラムあたり、約０．５〜約２平方メートル、１実施態様では、１グラムあたり、
約０．５〜約１．５平方メートル、１実施態様では、１グラムあたり、約０．５
〜約１平方メートルの表面積を有する。表面積は、ＢＥＴ（Ｂｅｎｎｅｔｔ、Ｅ
ｄｗａｒｄ、Ｔｅｌｌｅｒ）手順を用いて、測定される。

【００１１】 １実施態様では、この銅粉末の平均粒径は、約５〜約５０ミクロンの範囲、１
実施態様では、約１０〜約３５ミクロンの範囲、１実施態様では、約１５〜約３
０ミクロンの範囲である。１実施態様では、この粉末の少なくとも約９０重量％
は、約７５ミクロンより小さい粒径を有する；この粉末の少なくとも約５０重量
％は、約２５ミクロンより小さい粒径を有する；そしてこの粉末の少なくとも約
１０重量％は、約１０ミクロンより小さい粒径を有する。粒径は、ＡＳＴＭ Ｔ
ｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ Ｂ８２２を用いて、測定される。

【００１２】 １実施態様では、この銅粉末は、１立方センチメートルあたり、約４〜約８グ
ラムの範囲、１実施態様では、１立方センチメートルあたり、約５．４〜約６．
３グラムの範囲の未焼結密度を有する。

【００１３】 １実施態様では、この銅粉末は、約３，５００〜約７，０００ｐｓｉの範囲、
１実施態様では、約４，５００〜約６，５００ｐｓｉの範囲の未焼結強度を有す
る。未焼結強度は、ＡＳＴＭ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ Ｂ３１２を用いて、測
定される。

【００１４】 この銅粉末は、メッキしたとき、ＡＳＴＭ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ Ｂ４１
７で規定されるような非自由流動性（ｎｏｎ−ｆｒｅｅ ｆｌｏｗｉｎｇ）であ
る。しかしながら、メッキに引き続いてこの粉末を処理（例えば、集塊にするこ
と）することにより、この粉末を流動性にすることができることが分かる。

【００１５】 この銅粉末は、少なくとも約９９重量％、１実施態様では、少なくとも約９９
．２重量％、１実施態様では、少なくとも約９９．８重量％、１実施態様では、
少なくとも約９９．９重量％、１実施態様では、少なくとも約９９．９９重量％
の銅含量を有する。

【００１６】 本発明の銅粉末の前述の特性は、この粉末を洗浄および乾燥後にメッキした（
ａｓ ｐｌａｔｅｄ）形状にしたとき、決定される。「メッキした」との用語は
、この粉末が受け得る任意の引き続いた焼結、ミリング、篩い分けまたはブレン
ド操作の前に、カソードから取り出した後の銅粉末を意味する。メッキした銅粉
末には、このカソードからの取り出しに引き続いて洗浄され乾燥された銅粉末が
挙げられる。メッキした銅粉末には、また、集塊された銅粉末が挙げられ、この
集塊は、破壊される。

【００１７】 本発明の銅粉末は、幅広い種々の用途を有する。それらは、鉄ブレンド、青銅
ブレンドなどの特性を高めるための粉末冶金用途で有用である。「鉄ブレンド」
との用語は、本明細書中では、殆ど鉄を含有する元素粉末のブレンドを意味する
ように使用される。この鉄ブレンドはまた、他の粉末元素（例えば、Ｃ、Ｎｉ、
Ｍｏ、Ａｇなど）、ならびに少量の１種またはそれ以上の潤滑剤（これは、典型
的には、乾燥粉末形態である）を含有し得る。「青銅ブレンド」との用語は、本
明細書中では、元素ＣｕおよびＳｎ粉末のブレンドを意味するように使用される
。この青銅粉末は、他の粉末元素（例えば、Ｃ）、ならびに少量の１種またはそ
れ以上の潤滑剤（これは、典型的には、乾燥粉末形態である）を含有し得る。本
発明の銅粉末は、焼結前にて、前述の粉末ブレンドの未焼結強度を高めるための
添加剤として有用であるだけでなく、機械的特性（例えば、焼結製品の強度）を
改良するための添加剤として、有用である。この粉末ブレンドは、典型的には、
部品を成形するプレスに配置される；この部品は、次いで、焼結され、その後、
所望の最終製品を製造するために、公知の二次操作を受け得る。この最終製品は
、時には、鉄（または鋼）または青銅粉末冶金（Ｐ／Ｍ）部品と呼ばれる。この
鉄ブレンドは、典型的には、約１重量％〜約３重量％の濃度で、本発明の銅粉末
を使用する。この青銅ブレンドは、典型的には、約８５重量％〜約９５重量％の
濃度で、本発明の銅粉末を使用する。

【００１８】 本発明の銅粉末は、グラファイトおよび必要に応じて有機結合剤と配合されて
、エンジン、発電機および家庭用電気製品のブラシを製造できる。この銅粉末の
低密度高表面積の特性は、そのグラファイト粒子間にて、高い結合力を与える。
これらの製品は、典型的には、約２０重量％〜約８０重量％、１実施態様では、
約３０重量％〜約７０重量％のレベルで、本発明の銅粉末を使用する。

【００１９】 この銅粉末は、摩擦材料（例えば、ブレーキ、クラッチなど）を製造する際に
有用であり、この場合、この粉末の低密度高表面積の特性により、より低い濃度
の銅粉末およびより高い濃度の摩擦材料（例えば、シリカ、酸化アルミニウムな
ど）を使用することが可能になる。これらの摩擦材料は、典型的には、約３０重
量％〜約９０重量％、１実施態様では、約４０重量％〜約６０重量％のレベルで
、本発明の銅粉末を使用する。

【００２０】 本発明の銅粉末は、潤滑剤および食品添加剤として有用である。それらは、導
電性の高い用途（熱的および電気的の両方）を有する製品を製造する際に、有用
である。それらは、運動エネルギー浸入度計（ｐｅｎｅｔｒａｔｏｒ）を製造す
る際に、また、塗料および高分子用の殺菌性添加剤として、有用である。本発明
の銅粉末は、金属射出成形操作および熱管理（ｔｈｅｒｍａｌ ｍａｎａｇｅｍ
ｅｎｔ）装置の製造に有用である。それらは、導電性ペースト用途に有用であり
、そして、導電性高分子組成物用の添加剤として有用である。それらは、冶金用
途での合金化添加剤として有用である。それらは、押出成形製品を製造する際に
有用であり、または押出成形製品を製造するための粉末供給材料への添加剤とし
て有用である。それらは、酸化第二銅および酸化第一銅への転化に、特に有用で
ある。

【００２１】 （電析プロセス） １実施態様では、本発明の銅粉末は、この銅供給材料として、銅を電析するの
に使用する任意の従来の銅供給材料（銅ショット、スクラップ銅金属、スクラッ
プ銅ワイヤ、再生銅、酸化第二銅、酸化第一銅などを含めて）を使用する電析プ
ロセスを用いて、形成される。この実施態様では、この銅粉末は、複数のカソー
ドおよびアノードを備えた電鋳槽で電析される。典型的には、これらのカソード
は、垂直に取り付けられ、平坦な面を有し、そして正方形または長方形形状であ
る。これらのアノードは、これらのカソードに隣接しており、典型的には、カソ
ードと同じ形状を有する平板形状である。これらのカソードとアノードとの間の
間隙は、典型的には、約１〜約４インチ、１実施態様では、約１．５〜約３イン
チ、１実施態様では、約１．７５インチである。このアノードは、寸法的に安定
なアノードであり、これは、例えば、鉛、鉛合金から製造されているか、または
白金族金属（すなわち、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ）またはその酸化物を被覆した
チタンから製造されている。このカソードは、チタンから構成されており、典型
的には、各側面において、電析した銅粉末を受容するための滑らかな面を有する
。その電解液は、この銅供給材料を硫酸に溶解することにより、形成される。

【００２２】 この電解液は、これらのアノードとカソードとの間の間隙を流れ、これらのア
ノードおよびカソードに渡って有効量の電圧を適用してカソード上に銅を析出さ
せるために、電流が使用される。この電流は、直流、または直流バイアスを備え
た交流であり得る。この電鋳槽を通る電解液の流速は、一般に、浸漬カソード表
面積１平方フィートあたり、１分間に約０．０１〜約０．３ガロン（ｇｐｍ／ｃ
ｓａ）の範囲、１実施態様では、約０．１〜約０．２ｇｐｍ／ｃｓａの範囲であ
る。この電解液は、一般に、１リットルあたり、約１００〜約２００グラムの範
囲、１実施態様では、１リットルあたり、約１２０〜約１９０グラムの範囲、１
実施態様では、１リットルあたり、約１６５〜約１８５グラムの範囲の遊離硫酸
濃度を有する。１実施態様では、この電鋳槽中の電解液の温度は、重要であり、
約１５℃〜約３５℃の範囲、１実施態様では、約２０℃〜約３０℃の範囲である
。その銅イオン濃度は、重要であり、１リットルあたり、約２〜約７グラムの範
囲、１実施態様では、１リットルあたり、３〜約６グラムの範囲、１実施態様で
は、１リットルあたり、約４〜約６グラムの範囲、１実施態様では、１リットル
あたり、約５グラムである。この電解液中の遊離塩化物イオン濃度もまた、重要
であり、１００万分の約８〜約２０部（ｐｐｍ）の範囲、１実施態様では、約８
ｐｐｍ〜約１５ｐｐｍの範囲、１実施態様では、約８ｐｐｍ〜約１２ｐｐｍの範
囲、１実施態様では、約１０ｐｐｍである。この流量密度は、１平方フィートあ
たり、約８０〜約１２０ａｍｐｓ（ＡＳＦ）の範囲、１実施態様では、約９０〜
約１１０ＡＳＦの範囲、１実施態様では、約１００ＡＳＦである。

【００２３】 この電解液中の不純物レベルは、重要であり、そして１リットルあたり、約１
．０グラム以下のレベル、１実施態様では、１リットルあたり、約０．８グラム
以下のレベル、１実施態様では、１リットルあたり、約０．６グラム以下のレベ
ル、１実施態様では、１リットルあたり、約０．４グラム以下のレベル、１実施
態様では、１リットルあたり、約０．２グラム以下のレベル、１実施態様では、
１リットルあたり、約０．１グラム以下のレベルで維持される。「不純物」との
用語は、本発明のプロセスの電析工程中にて、この電解液に意図的には添加され
ない任意の物質を意味する。回避すべき不純物、または上で示したように制限す
べき不純物には、鉄、ニッケル、ビスマス、スズ、鉛、アンチモン、ヒ素、亜鉛
、銀、ナトリウム、硝酸塩などが挙げられる。１実施態様では、鉄の濃度は、１
リットルあたり、約０．２グラム以下、１実施態様では、１リットルあたり、約
０．１グラム以下のレベルに維持されることが重要である。

【００２４】 この電解液は、有機添加剤なしで維持されることが重要である。「有機添加剤
」との用語は、この銅粉末の性質または特性を変える目的のために、この電解液
に意図的に添加される任意の有機物質を意味する。回避すべき有機添加剤の例に
は、以下が挙げられる：コラーゲン（例えば、動物性膠）から誘導されたゼラチ
ン；有機イオウ含有物質（例えば、チオ尿素およびイソチオシアナート（例えば
、チオ尿素、チオシナミン（アリルチオ尿素）、チオセミカルバジドなど））；
有機スルホン酸塩（例えば、リグノスルホン酸アンモニウム）；ならびにチアゾ
ール（例えば、ベンゾトリアゾールおよび置換ベンゾトリアゾール（アルキル置
換ベンゾトリアゾール（例えば、トリルトリアゾール、エチルベンゾトリアゾー
ル、ヘキシルベンゾトリアゾール、オクチルベンゾトリアゾールなど）、アリー
ル置換ベンゾトリアゾール（例えば、フェニルベンゾトリアゾールなど）および
アルカリールまたはアリールアルキル（ａｒｙｌａｌｋ−）置換ベンゾトリアゾ
ール、ならびにその置換基が、例えば、ヒドロキシ、メルカプト、アルコキシ、
ハロ（例えば、クロロ）、ニトロ、カルボキシまたはカルボアルコキシであり得
る置換ベンゾトリアゾールを含めて））。少量または痕跡量の前述の有機物質は
、この電解液中にて、不純物として現れ得るが、このような有機物質の量は、約
０．５ｐｐｍ未満、１実施態様では、約０．０５ｐｐｍ未満で維持される。

【００２５】 電析は、そのカソード上での銅粉末の所望の蓄積が達成されるまで、行われる
。１実施態様では、電析は、約１〜約５時間、１実施態様では、約１〜約３時間
、１実施態様では、約１．５〜約２．５時間にわたって、行われる。電析は、次
いで、中断され、そしてこの粉末が、このカソードから取り除かれる。この粉末
は、ブラッシング、掻き取りまたは振動あるいは当該分野で公知の他の機械的お
よび／または電気的技術を用いることにより、このカソードから取り除くことが
できる。この粉末は、このカソード上の電流を逆にすることにより、取り除くこ
とができる。この粉末は、このカソードをこの電鋳槽から持ち上げる場合には、
水または電解液をカソードに噴霧することにより、あるいはそれらをこの槽から
取り出すことなく、このカソード上へと電解液を噴霧することにより、取り除く
ことができる。この粉末は、この電解液中に乱流を引き起こすことにより、また
はこのカソードからこの粉末を機械的に掻き取ることにより、カソードから分離
できる。この粉末は、超音波エネルギーを用いてこのカソードを振動させること
により、あるいはこのカソードを手でまたは機械的に叩くことにより、分離でき
る。

【００２６】 １実施態様では、このカソードから分離される銅粉末は、この粉末から電解液
を除去するために、充分に洗浄される。この粉末を洗浄するには、種々の方法が
使用できる。１つの方法は、この粉末を洗浄する工程に次いで、それを遠心分離
を用いて脱水する工程を包含する。このプロセス中にて、酸化を防止または低減
するために、酸化防止剤が添加できる。添加され得る酸化防止剤は水酸化アンモ
ニウムを含み得る。これらの酸化防止剤は、その洗浄水を約７〜約１４のｐＨ、
１実施態様では、約９のｐＨにするのに充分な濃度で、この洗浄水に添加される
。１実施態様では、酸化防止剤は、洗浄水１リットルあたり、約０．２〜約０．
９グラムの濃度、１実施態様では、１リットルあたり、約０．４〜約０．６グラ
ムの濃度で、添加される。

【００２７】 １実施態様では、酸化を低減し有効期間を長くする目的のために、この銅粉末
の表面には、有効量の安定剤が付着される。この安定剤は、好ましくは、この洗
浄水に添加され、そして洗浄中にて、この銅粉末の表面に適用される。使用でき
る安定剤の例には、トリアゾール（例えば、ベンゾトリアゾールおよび置換ベン
ゾトリアゾール）が挙げられる。置換トリアゾールには、アルキル置換ベンゾト
リアゾール（例えば、トリルトリアゾール、エチルベンゾトリアゾール、ヘキシ
ルベンゾトリアゾール、オクチルベンゾトリアゾールなど）、アリール置換ベン
ゾトリアゾール（例えば、フェニルベンゾトリアゾールなど）およびアルカリー
ルまたはアリールアルキル置換ベンゾトリアゾール、ならびにその置換基が、例
えば、ヒドロキシ、メルカプト、アルコキシ、ハロ（例えば、クロロ）、ニトロ
、カルボキシまたはカルボアルコキシであり得る置換ベンゾトリアゾールが挙げ
られる。このアルキルベンゾトリアゾールには、そのアルキル基が１個〜約２０
個の炭素原子、１実施態様では、１個〜約８個の炭素原子を含有するものが挙げ
られる。ベンゾトリアゾールは、特に有用である。この洗浄水中でのこれらのト
リアゾールの濃度は、１実施態様では、約１０，０００ｐｐｍまで、１実施態様
では、０．５〜約１０００ｐｐｍ、１実施態様では、０．５〜約５００ｐｐｍ、
１実施態様では、約０．５〜約７０ｐｐｍである。

【００２８】 １実施態様では、この銅粉末のぬれを高めるため、および／またはこの洗浄水
中での安定剤の分散を高めるために、この洗浄水には、界面活性剤が添加される
。１実施態様では、この界面活性剤は、非イオン性界面活性剤である。使用でき
る界面活性剤には、界面活性剤用途に一般に入手可能なエチレンオキシドおよび
プロピレンオキシドのブロック共重合体が挙げられる。これらは、時には、アル
コキシル化アルコールと呼ばれる。使用できる市販の界面活性剤の例には、Ｐｏ
ｌｙ−Ｔｅｒｇｅｎｔの登録商標でＯｌｉｎから入手できるものが挙げられる。
特定の例には、Ｐｏｌｙ−Ｔｅｒｇｅｎｔ Ｓ−５０５ＬＦ（エチレンオキシド
およびプロピレンオキシドのブロック共重合体として同定されている非イオン性
低発泡性界面活性剤）が挙げられる。この洗浄水中のこの界面活性剤の濃度は、
一般に、約５００ｐｐｍまでの範囲、１実施態様では、約５〜約５００ｐｐｍの
範囲、１実施態様では、約１００〜約５００ｐｐｍの範囲、１実施態様では、約
１５０〜約２５０ｐｐｍの範囲である。

【００２９】 １実施態様では、この銅粉末は、第一工程にて、酸化防止剤含有洗浄水を用い
て洗浄され、次いで、安定剤含有洗浄水（これはまた、界面活性剤も必要に応じ
て含有できる）を用いて、再度、洗浄される。

【００３０】 脱水した銅粉末は、次いで、従来の銅粉末乾燥技術を用いて、乾燥される。使
用できる乾燥技術には、真空乾燥、フラッシュ乾燥、流動床乾燥、回転窯／マル
チ炉床乾燥、または凍結乾燥が挙げられる。この銅粉末は、約２５〜約１２５℃
の温度、１実施態様では、約２５〜約８５℃の温度、１実施態様では、約４５〜
約５５℃の温度で、乾燥できる。この銅粉末は、約０．１〜約７６０ｍｍＨｇの
範囲、１実施態様では、１〜約２５０ｍｍＨｇの範囲、１実施態様では、約３〜
約１０ｍｍＨｇの範囲の絶対圧力で、空気中、不活性雰囲気、または真空中にて
、乾燥できる。乾燥中に形成する集塊物は、公知の集塊物崩壊技術を用いて、崩
壊できる。例えば、ふるい、ケージミル、カスケーディングふるいなどが使用で
きる。この粉末は、標準的な分離技術（例えば、ふるいわけ）を用いて、所望サ
イズの画分に分離され、次いで、集めて、包装できる。

【００３１】 この粉末の見かけ密度は、もし、望ましいなら、それを高密度粉末とブレンド
することにより、あるいはこの粉末をミリング（例えば、ハンマーミル）、また
は圧延することにより、高めることができる。これらの技術および類似の技術は
、当該分野で公知である。

【００３２】 今ここで、図１を参照すると、本発明の銅粉末を電析するプロセスが開示され
ている。このプロセスで使用する装置は、溶解容器１００、フィルター１０２お
よび１０４、電鋳槽１０６、保持容器１０８、遠心機１１０、乾燥機１１２、集
塊物崩壊機１１４、ふるい１１６、ならびに保管ホッパー１１８、１２０および
１２２を備える。電鋳槽１０６は、容器１２４、垂直に取り付けたアノード１２
６、および垂直に取り付けたカソード１２８を備える。電解液１３０は、空気の
存在下にて、銅供給材料を硫酸に溶解することにより、溶解容器１００で形成さ
れる。この銅金属は、任意の従来の形状（これには、上で指摘したように、銅シ
ョット、スクラップ銅金属、スクラップ銅ワイヤ、再生銅、酸化第二銅、酸化第
一銅などが含まれる）で、方向指示矢印１３２により指示されるように、容器１
００に入る。方向指示矢印１３４で示されるように、容器１００に入る硫酸は典
型的に、約９３％〜約９８％の範囲の硫酸濃度を有する。あるいは、この銅供給
材料は、別個の容器にて、この硫酸に溶解して溶液を形成でき、この溶液は、次
いで、容器１００に進めることができる。塩化物イオンは、方向指示矢印１３６
で示されるように、添加できる。１実施態様では、塩化物イオンは、塩酸の形態
で、添加される。希釈水は、方向指示矢印１３８により示されるように、添加で
きる。ライン１４０および１４２を通って電鋳槽１０６から再循環される電解液
もまた、容器１００に入る。この電解液は、フィルター１０４で濾過され得るか
、またはライン１４４を通って、フィルター１０４を迂回し得る。容器１００中
の電解液１３０の温度は、典型的には、約１５℃〜約３５℃、１実施態様では、
約２０℃〜約３０℃の範囲である。電解液１３０は、容器１００から、ライン１
４６および１４８を通って、容器１２４へと進められる。電解液１３０は、容器
１２４に入る前に、フィルター１０２で濾過され得るか、また、あるいは、ライ
ン１５０を用いて、フィルター１０２を迂回し得る。不純物は、フィルター１０
２および／または１０４を用いて除去できる。容器１０８で使用される電解液１
３０は、上で示した組成を有する。

【００３３】 電解液１３０は、アノード１２６とカソード１２８との間で流れる。この電解
液が電鋳槽１０６を通る流速は、約０．０１〜約０．３ｇｐｍ／ｃｓａの範囲、
１実施態様では、約０．１〜約０．２ｇｐｍ／ｃｓａの範囲の速度である。これ
らのカソードの各側面にて、銅粉末１５２の電析を起こすために、アノード１２
６とカソード１２８との間に、電圧が適用される。１実施態様では、使用される
電流は、直流であり、１実施態様では、直流バイアスを備えた交流である。その
流量密度は、約８０〜約１２０ＡＳＦの範囲、１実施態様では、約１００ＡＳＦ
である。カソード１２８上での銅粉末１５２の電析は、これらのカソード上に所
望量の銅粉末が析出されるまで、継続される。電析は、典型的には、約１〜約５
時間、１実施態様では、約１〜約３時間、１実施態様では、約１．５〜約２．５
時間にわたって、継続される。電析は、次いで、中断される。使用済み電解液１
３０は、容器１２４から排水され、そしてライン１５４および１５６を通って、
容器１００へと進められる。銅粉末１５２は、このカソード上へ電解液を噴霧す
ることにより、カソード１２８から分離されて、容器１２４の円錐形下部１６０
にて、スラリー１５８が形成される。スラリー１５８は、容器１２４から、ライ
ン１５４および１６２を通って、容器１０８へと進められる。スラリー１５８は
、次いで、容器１０８から、ライン１６４を通って、遠心機１１０へと進められ
る。遠心機１１０では、この銅粉末から、液状流出液が分離され、そしてライン
１６９を通って、遠心機１１０を出ていき、そしてライン１７０を通って、容器
１０８へと再循環されるか、またはライン１７２を通って、取り除かれる（この
場合、それは、捨てられるか、またはさらに別の処理を受けるかのいずれかであ
る）。１実施態様では、方向指示矢印１６６により示されるように、この遠心機
中の粉末には、酸化防止剤が添加される。１実施態様では、方向指示矢印１６８
により示されるように、この遠心機中の粉末には、安定剤が添加される。１実施
態様では、この酸化防止剤および安定剤は、この酸化防止剤をこの安定剤より先
にして、連続した順序で、この遠心機中の粉末に添加される。この酸化防止剤お
よび／または安定剤を遠心機１１０中の粉末に添加するとき、この流出液のｐＨ
が、約７〜約１４の範囲、１実施態様では、約７〜約１１の範囲、１実施態様で
は、約９になるまで、この遠心機は、その内容物に、約２〜約７５０ｇ’ｓ、１
実施態様では、約１０〜約２００ｇ’ｓ、１実施態様では、約１０〜約７５ｇ’
ｓ、１実施態様では、約１０〜約２０ｇ’ｓの遠心力を加えるのに充分な速度で
、回転される。この遠心機の回転速度は、次いで、この銅粉末を脱水するために
、速くされる。この脱水工程中にて、この遠心機の回転速度は、その内容物に、
約２００〜約７５０ｇ’ｓの範囲、１実施態様では、約５００〜約７５０ｇ’ｓ
の範囲、１実施態様では、約６５０〜約７００ｇ’ｓの範囲の遠心力を加えるの
に充分なレベルまで、速くされる。脱水後に遠心機１１０に残っている銅粉末は
、連続ベルト１７１に進められ、これは、乾燥機１１２を通って、この粉末を運
搬する。方向指示矢印１７３により示されるように、乾燥機１１２では、この銅
粉末から、水分が取り除かれる。乾燥した銅粉末は、乾燥機１１２を出て、集塊
崩壊機１１４に入り、ここで、乾燥中に形成する集塊は、崩壊される。この粉末
は、集塊崩壊機１１４から、ふるい１１６へと進められ、ここで、この銅粉末は
、所望のふるい画分へと分離され、次いで、保管ホッパー１１８、１２０および
１２２へと進められる。図１では、２個のふるいおよび３個の保管ホッパーが図
示されているが、当業者は、任意の所望数の分離ふるいおよび保管ホッパーが使
用できることを理解する。１実施態様では、この方法により製造される銅粉末の
サイズが比較的に均一であるという事実のために、分離ふるいは、使用されない
。

【００３４】 前述のプロセスは、連続ベース（ｂａｓｉｓ）またはバッチベースで行うこと
ができる。１実施態様では、この電鋳槽の操作は、連続ベースで行われ、そして
この遠心機の操作は、バッチベースで行われる。

【００３５】 以下の実施例は、本発明を説明する目的のために、提供されている。他に指示
がなければ、以下の実施例ならびに本明細書および特許請求の範囲全体を通じて
、全ての部およびパーセントは、重量基準であり、全ての温度は、摂氏であり、
そして全ての圧力は、大気圧である。

【００３６】 （実施例１） 電解液から銅粉末を電析するために、電鋳槽を使用する。この電解液は、１リ
ットルあたり、５グラムの銅イオン濃度、１リットルあたり、１５０グラムの硫
酸濃度、および１０ｐｐｍの遊離塩化物イオン濃度を有する水溶液である。その
カソードは、３２インチ幅および３６インチ長の浸漬表面領域を有し、メッキは
、両側で起こる。そのアノードは、３６インチ幅および３８インチ長の浸漬表面
領域を有する。この槽では、４個のカソードおよび５個のアノードを使用する。
これらのアノードとカソードとの間の間隔は、１．７５インチである。この槽の
内部寸法は、４８インチ長、５４インチ幅、および円錐の始まりまで５０インチ
深さである。この槽の下部は円錐形状であり、この円錐の下部にて、銅粉末の回
収を可能にする。このセルに電流（ＤＣ）を送り込んで、これらのカソードの浸
漬表面領域にて、１００ＡＳＦの流量密度を与える。この電解液の温度は、３２
℃である。このカソードの構成材料は、チタンである。これらのアノードは、寸
法的に安定なアノードであり、これらは、酸化イリジウムで被覆したチタンから
構成されている。この電解液は、０．１７ｇｐｍ／ｃｓａの速度で、この槽を通
って流れる。そのメッキ時間は、３時間である。これらのカソード上で形成され
た銅粉末は、２２ミクロンのメッキ時平均粒径、１グラムあたり、０．７平方メ
ートルの表面積、および１立方センチメートルあたり、０．４４グラムの見掛け
密度を有する。

【００３７】 （実施例２） 電鋳槽にて、１リットルあたり、５グラムの銅イオン濃度、１リットルあたり
、１５０グラムの硫酸濃度、および１０ｐｐｍの遊離塩化物イオン濃度を有する
電解液から、銅粉末を電析する。その槽内のアノードとカソードとの間の間隔は
、１．７５インチである。その流量密度は、１００ＡＳＦである。この電解液の
温度は、２２℃である。このカソードの構成材料は、チタンである。これらのア
ノードは、寸法的に安定なアノードであり、これらは、酸化イリジウムで被覆し
たチタンから構成されている。この電解液は、０．１７ｇｐｍ／ｃｓａの速度で
、この槽を通って流れる。そのメッキ時間は、２時間である。これらのカソード
上で形成された銅粉末を、この粉末およびカソードの上へ電解液を噴霧すること
により、これらのカソードから分離して、その結果、この粉末を含有するスラリ
ーが形成される。このスラリーを、遠心機へと進める。このスラリーに、ｐＨ１
０を有する水酸化アンモニウム溶液を添加する。水酸化アンモニウム溶液と銅粉
末との比は、粉末１ポンドあたり、溶液５ガロンである。この遠心機を、この遠
心機の内容物に１６ｇ’ｓの遠心力をかけるのに充分な速度で、回転する。これ
は、この遠心機からの流出液がｐＨ９に達した後、２分間まで、継続する。次い
で、２０ｐｐｍの濃度のベンゾトリアゾール水溶液および２００ｐｐｍの濃度の
Ｐｏｌｙ−Ｔｅｒｇｅｎｔ Ｓ−５０５ＬＦからなる安定剤を添加する。安定剤
と粉末との比は、銅粉末１ポンドあたり、２ガロンの安定剤である。この遠心機
を、その内容物に１６ｇ’ｓの遠心力をかけるのに充分な速度で、回転する。こ
れは、この遠心機からの流出液がｐＨ９に達した後、２分間継続する。次いで、
この遠心機の回転速度を、この遠心機の内容物に６７４ｇ’ｓの遠心力をかける
のに充分なレベルまで速くすると、その結果、この銅粉末が脱水される。この銅
粉末をこの遠心機から取り出して、皿に置き、そして５０℃の温度および３ｍｍ
Ｈｇの絶対圧で、真空オーブン中にて、一晩乾燥する。乾燥した粉末をふるいに
かけて、集塊物を崩壊し、次いで、包装する。この粉末は、以下の特性を有する
： Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積：０．６０ｍ²／ｇ 見掛け密度：０．４９ｇ／ｃｃ 平均粒径：２７．７７ミクロン ９０％は、次のサイズより小さい：６８．５２ミクロン ５０％は、次のサイズより小さい：１５．９１ミクロン １０％は、次のサイズより小さい：５．６７ミクロン １２ｔｓｉでの未焼結密度：６．０ｇ／ｃｃ １２ｔｓｉでの未焼結強度：４３００ｐｓｉ。

【００３８】 （実施例３） 電鋳槽にて、１リットルあたり、５グラムの銅イオン濃度、１リットルあたり
、１５０グラムの硫酸濃度、および１０ｐｐｍの遊離塩化物イオン濃度を有する
電解液から、銅粉末を電析する。そのカソードは、チタンから作製され、そして
３３インチ幅、４８インチ長、および０．２５インチ厚の浸漬表面領域を有し、
メッキは、両側で起こる。そのアノードは、寸法的に安定なアノードであり、酸
化イリジウムで被覆されたチタンから構成される。そのアノードは、３７インチ
幅、５０インチ長、０．２５インチ厚の浸漬表面領域を有する。この電鋳槽は、
４個のカソードおよび５個のアノードを含む。これらのアノードとカソードとの
間の間隔は、１．７５インチである。この槽の寸法は、５６インチ長、４３イン
チ幅、および円錐形状下部の基部まで、８９．７５インチ深さである。このセル
に電流（ＤＣ）を送り込んで、これらのカソードの浸漬表面領域にて、１００Ａ
ＳＦの流量密度を与える。この電解液の温度は、２２．８℃である。この槽を通
る電解液の流速は、０．１１ｇｐｍ／ｃｓａである。そのメッキ時間は、２時間
である。これらのカソード上で形成された銅粉末を、この粉末およびカソードの
上へ電解液を噴霧することにより、これらのカソードから分離して、その結果、
この粉末を含有するスラリーが形成される。このスラリーを、遠心機へと進める
。このスラリーに、ｐＨ１０を有する水酸化アンモニウム溶液を添加する。水酸
化アンモニウム溶液と銅粉末との比は、粉末１ポンドあたり、溶液５ガロンであ
る。この遠心機からの流出液がｐＨ９に達した後、２分間まで、この遠心機を、
この遠心機の内容物に３３ｇ’ｓの遠心力をかけるのに充分な速度で、回転する
。次いで、２０ｐｐｍの濃度のベンゾトリアゾール水溶液および２００ｐｐｍの
濃度のＰｏｌｙ−Ｔｅｒｇｅｎｔ Ｓ−５０５ＬＦからなる安定剤を添加する。
安定剤溶液と粉末との比は、銅粉末１ポンドあたり、２ガロンの安定剤溶液であ
る。この遠心機からの流出液がｐＨ９に達した後、２分間まで、この遠心機を、
その内容物に３３ｇ’ｓの遠心力をかけるのに充分な速度で、回転する。次いで
、この遠心機の回転速度を、この遠心機の内容物に５００ｇ’ｓの遠心力をかけ
るのに充分なレベルまで速くすると、その結果、この銅粉末が脱水される。この
銅粉末を皿に置き、そして５０℃の温度および約３ｍｍＨｇの絶対圧で、真空オ
ーブン中にて、一晩乾燥する。乾燥した粉末をふるいにかけて、集塊物を崩壊し
、次いで、包装する。この粉末は、以下の特性を有する： Ｂ．Ｅ．Ｔ．表面積：０．９１５ｍ²／ｇ 見掛け密度：０．４４ｇ／ｃｃ 平均粒径：２１．２６ミクロン ９０％は、次のサイズより小さい：３６．０７ミクロン ５０％は、次のサイズより小さい：１８．８２ミクロン １０％は、次のサイズより小さい：８．９０ミクロン １２ｔｓｉでの未焼結密度：５．６８ｇ／ｃｃ １２ｔｓｉでの未焼結強度：６２８２ｐｓｉ。 ５００倍、１５００倍および３０００倍の倍率因子で、この粉末の試料の顕微鏡
写真を撮影する。これらの顕微鏡写真は、それぞれ、図３〜５として添付する。
これらの顕微鏡写真は、共通の背骨部分の回りにある対称的な樹状分枝成長によ
り特徴付けられる高度に樹枝状の結晶構造を有する銅粉末を明らかにしている。

【００３９】 （溶媒抽出／電析プロセス） １実施態様では、この銅粉末は、電析と組み合わせた溶媒抽出を用いるプロセ
スで、形成される。この実施態様では、この銅供給材料は、そこから銅が抽出さ
れ得る任意の銅含有物質である。これらの供給原料には、銅鉱石、製錬所煙道ダ
スト、銅セメント、銅濃縮物、銅製錬所生成物、硫酸銅または銅含有廃棄物が挙
げられる。「銅含有廃棄物」との用語は、銅を含有する任意の固体または液体の
廃棄物質（例えば、廃物、スラッジ、流出液流れなど）を意味する。これらの廃
棄物質には、危険な廃棄物が含まれる。使用できる廃棄物の具体的な例には、使
用済み塩化第二銅腐食液を処理することから得られる酸化銅がある。

【００４０】 この銅鉱石は、露天採鉱鉱山から取り出した鉱石であり得る。この鉱石は、野
積みリーチング堆積物（ｈｅａｐ−ｌｅａｃｈｉｎｇ ｄｕｍｐ）に運搬される
が、これは、典型的には、周囲の流域にリーチングする流体の損失を防止するた
めに、ライナー（例えば、厚い高密度ポリエチレンライナー）が敷かれた領域に
て、形成されている。典型的な野積みリーチング堆積物は、例えば、約１２５，
０００平方フィートの表面積を有し、そしておよそ１１０，０００トンの鉱石を
含む。リーチングが進行して、古い堆積物の上に新しい堆積物が形成されるにつ
れて、それらは、益々高くなり、最終的に、例えば、約２５０フィート以上の高
さに達する。新しく完成した堆積物の表面には、パイプおよび左右に揺れるスプ
リンクラーのネットワークが横たわり、例えば、１００平方フィートの表面積あ
たり、１分間に、約０．８ガロンの速度で、希硫酸溶液が絶えず散布される。こ
のリーチング溶液は、この堆積物の下に浸透して、この鉱石中の銅を溶解し、銅
豊富リーチング水溶液として、この堆積物基部から流れて、収集池に流出し、そ
して本発明のプロセスを用いる引き続いた処理のために、給送池へとポンプ上げ
される。

【００４１】 一部の採鉱操作を使って、銅鉱石から銅金属を抽出するために、インサイチュ
のリーチングが使用される。このプロセスにより得られる銅豊富リーチング溶液
は、この銅含有物質として、本発明のプロセスで使用できる。インサイチュのリ
ーチングは、露天採鉱領域の下および地下鉱脈の枯渇部分の上に酸溶解性酸化物
鉱石の沈積があるとき、または堆積物が露天採鉱法では経済的に開発できない程
に深く埋まっているとき、有用である。この帯域には、例えば、約１０００フィ
ートの深さで、注入井が穿孔される。これらの井は、ポリ塩化ビニルパイプで内
側が覆われ、その下部には、細い穴が開けられて、この鉱石に溶液が入れるよう
にされる。希硫酸のリーチング溶液は、それが穿孔される帯域の浸透性に依存し
た速度で、各々の井に注入される。この溶液は、この鉱石帯域を通って下に浸透
し、この銅鉱質を溶解し、そして準備された収集領域に排出される。この収集領
域は、例えば、地下鉱山の運搬沿層坑道であり得る。製造される銅含有リーチン
グ水溶液は、耐食性ポンピングシステムによって地表にポンプ上げされ、この場
合、それは、本発明のプロセス用の銅含有物質としての使用に利用できる。ある
いは、この銅含有リーチング水溶液は、この溶液を地表に運ぶ井を通って、集め
ることができる。

【００４２】 リーチング堆積物およびインサイチュのリーチングの両方を利用する採鉱操作
では、各々から得た銅含有リーチング溶液（これは、時には、リーチング貴液と
呼ばれる）が合わせられ、そして本発明のプロセスでの銅含有物質として、使用
できる。

【００４３】 この実施態様では、この銅粉末は、以下の工程により、製造される：（Ａ）銅
含有物質を、有効量の少なくとも１種のリーチング水溶液と接触させて、このリ
ーチング溶液に銅イオンを溶解させ、そして銅豊富リーチング水溶液を形成する
工程；（Ｂ）この銅豊富リーチング水溶液を、有効量の少なくとも１種の水不溶
性抽出剤と接触させて、この銅豊富リーチング水溶液からこの抽出剤へと銅イオ
ンを移動させ、銅豊富抽出剤および銅欠乏リーチング水溶液を形成する工程；（
Ｃ）この銅欠乏リーチング水溶液からこの銅豊富抽出剤を分離する工程；（Ｄ）
この銅豊富抽出剤を、有効量の少なくとも１種のストリッピング水溶液と接触さ
せて、この抽出剤からこのストリッピング溶液へと銅イオンを移動させ、銅豊富
ストリッピング溶液および銅欠乏抽出剤を形成する工程；（Ｅ）この銅欠乏抽出
剤からこの銅豊富ストリッピング溶液を分離する工程；（Ｆ）この銅豊富ストリ
ッピング溶液を、アノードとカソードとの間で流し、そしてこのアノードおよび
カソードにわたって有効量の電圧を加え、このカソード上に銅金属粉末を析出さ
せる工程；そして（Ｇ）このカソードからこの銅粉末を取り除く工程。

【００４４】 本発明のプロセスの工程（Ａ）で使用されるリーチング水溶液は、１実施態様
では、硫酸溶液、ハロゲン化物酸（ｈａｌｉｄｅ ａｃｉｄ）溶液（ＨＣｌ、Ｈ
Ｆ、ＨＢｒなど）またはアンモニア溶液である。この硫酸溶液またはハロゲン化
物酸溶液は、一般に、１リットルあたり、約５〜約５０グラムの範囲、１実施態
様では、１リットルあたり、約５〜約４０グラムの範囲、１実施態様では、１リ
ットルあたり、約１０〜約３０グラムの範囲の硫酸またはハロゲン化物酸濃度を
有する。

【００４５】 このアンモニア溶液は、一般に、１リットルあたり、約２０〜約１４０グラム
、１実施態様では、１リットルあたり、約３０〜約９０グラムのアンモニア濃度
を有する。この溶液のｐＨは、一般に、約７〜約１１の範囲、１実施態様では、
約８〜約９の範囲である。

【００４６】 工程（Ａ）の間に形成された銅豊富リーチング水溶液（すなわち、リーチング
貴液）は、一般に、１リットルあたり、約０．４〜約５グラムの範囲、１実施態
様では、１リットルあたり、約０．４〜約３グラムの範囲、１実施態様では、１
リットルあたり、約０．４〜約１グラムの範囲の銅イオン濃度を有する。工程（
Ａ）で使用されるリーチング溶液が硫酸溶液であるとき、この銅豊富リーチング
水溶液中の遊離硫酸の濃度は、一般に、１リットルあたり、約５〜約３０グラム
、１実施態様では、１リットルあたり、約１０〜約２０グラムである。工程（Ａ
）で使用されるリーチング溶液がアンモニア溶液であるとき、この銅豊富リーチ
ング水溶液中の遊離アンモニアの濃度は、一般に、１リットルあたり、約１０〜
約１３０グラム、１実施態様では、１リットルあたり、約３０〜約９０グラムで
ある。

【００４７】 工程（Ｂ）で使用される水不溶性抽出剤は、水性媒体から銅イオンを抽出でき
る任意の水不溶性抽出剤であり得る。１実施態様では、この抽出剤は、水非混和
性有機溶媒に溶解される。（「水非混和性」および「水不溶性」との用語は、２
５℃で、１リットルあたり、約１グラムのレベルより高く、水中で溶解しない組
成物を意味する。）この溶媒は、この抽出剤用の任意の水非混和性溶媒であり得
、灯油、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、燃料油、ディーゼル油な
どが有用であり、灯油は、好ましい。有用な灯油の例には、ＳＸ−７およびＳＸ
−１２（これらは、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍから入手できる）が
ある。

【００４８】 １実施態様では、この抽出剤は、炭化水素鎖の異なる炭素原子に結合した少な
くとも２個の官能基を含有する有機化合物であり、この官能基の一方は、−ＯＨ
であり、そして該官能基の他方は、＝ＮＯＨである。これらの化合物は、オキシ
ムと呼ぶことができる。１実施態様では、この抽出剤は、次式により表わされる
オキシムである：

【００４９】

【化４】 ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は、独立して、水素またはヒ ドロカルビル基である。この構造を有する化合物は、ＬＩＸの商品名称で、Ｈｅ
ｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手できる。例えば、Ｒ¹およびＲ⁴は、
それぞれ、ブチルであり得；Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁶は、それぞれ、水素であり得； そしてＲ⁵およびＲ⁷は、それぞれ、エチルであり得る。この構造を有する化合物
は、ＬＩＸ ６３の商品名称で、Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入
手できる。

【００５０】 １実施態様では、この抽出剤は、次式により表わされるオキシムである：

【００５１】

【化５】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、独立して、水素またはヒドロカルビル基である。有用
な実施態様には、以下であるものが挙げられる：ここで、Ｒ¹は、約６個〜約２ ０個の炭素原子、１実施態様では、約９個〜約１２個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり；そしてＲ²は、水素、１個〜約４個の炭素原子、１実施態様では、 約１個または２個の炭素原子を有するアルキル基であるか、あるいはＲ²は、フ ェニルである。このフェニル基は、置換または非置換であり得、後者が好ましい
。以下の化合物は、上で示した式に基づいているが、以下で示した商品名称で、
Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手でき、そして本発明のプロセス
で有用である： 商品名称 Ｒ¹ Ｒ² ＬＩＸ ６５ ノニル フェニル ＬＩＸ ８４ ノニル メチル ＬＩＸ ８６０ ドデシル 水素 Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手できる他の有用な市販材料には
、以下が挙げられる：ＬＩＸ ６４Ｎ（これは、ＬＩＸ ６５およびＬＩＸ ６
３の混合物として同定されている）；およびＬＩＸ ８６４およびＬＩＸ ９８
４（これらは、ＬＩＸ ８６０およびＬＩＸ ８４の混合物として同定されてい
る）。

【００５２】 １実施態様では、この抽出剤は、ベータジケトンである。これらの化合物は、
次式により表され得る：

【００５３】

【化６】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、独立して、アルキル基またはアリール基である。これ
らのアルキル基は、一般に、１個〜約１０個の炭素原子を含有する。これらのア
リール基は、一般に、フェニルである。上記式に対応するＨｅｎｋｅｌ Ｃｏｒ
ｐｏｒａｔｉｏｎから市販の抽出剤の一例には、ＬＩＸ ５４がある。これらの
ベータジケトンは、工程（Ａ）で使用されるリーチング溶液がアンモニア溶液で
あるとき、有用である。

【００５４】 この有機溶液中の抽出剤の濃度は、一般に、約２重量％〜約４０重量％の範囲
である。１実施態様では、この有機溶液は、約５重量％〜約１０重量％、または
約６重量％〜約８重量％、または約７重量％のＬＩＸ ９８４を含有し、その残
りは、ＳＸ−７である。

【００５５】 １実施態様では、この抽出剤は、イオン交換樹脂である。これらの樹脂は、典
型的には、以下の２個の主要部分を有する小顆粒またはビーズ様材料である：構
造部分として働く樹脂製マトリックス、および官能部分として働くイオン活性基
。この官能基は、一般に、銅イオンと反応性の官能基から選択される。このよう
な官能基の例には、−ＳＯ₃ ^-、−ＣＯＯ^-、

【００５６】

【化７】 が挙げられる。有用な樹脂マトリックスには、スチレンおよびジビニルベンゼン
の共重合体が挙げられる。使用できる市販の樹脂の例には、ＩＲＣ−７１８（こ
れは、スチレンおよびジビニルベンゼンの第三級アミン置換共重合体として同定
されたＲｏｈｍ ＆ Ｈａａｓの製品である）、ＩＲ−２００（これは、スチレ
ンおよびジビニルベンゼンのスルホン化共重合体として同定されたＲｏｈｍ ＆
Ｈａａｓの製品である）、ＩＲ−１２０（これは、スチレンおよびジビニルベ
ンゼンのスルホン化共重合体として同定されたＲｏｈｍ ＆ Ｈａａｓの製品で
ある）、ＸＦＳ ４１９６（これは、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−ピコリル
アミンが結合したマクロ多孔性ポリスチレン／ジビニルベンゼン共重合体として
同定されたＤｏｗの製品である）、およびＸＦＳ ４３０８４（これは、Ｎ−（
２−ヒドロキシプロピル）−ピコリルアミンが結合したマクロ多孔性ポリスチレ
ン／ジビニルベンゼン共重合体として同定されたＤｏｗの製品である）が挙げら
れる。これらの樹脂は、典型的には、本発明のプロセスにて、固定床または移動
床として使用される。本発明のプロセスの工程（Ｂ）中にて、この樹脂は、工程
（Ａ）から得た銅豊富リーチング水溶液と接触され、この接触は、銅イオンをこ
のリーチング溶液からこの樹脂に移動させるのに充分である。この銅豊富樹脂は
、次いで、工程（Ｄ）中にてストリップされて、工程（Ｂ）中で使用できるスト
リップされた銅または銅欠乏樹脂が提供される。

【００５７】 工程（Ｃ）中で分離される銅豊富抽出剤は、抽出剤１リットルあたり、約１〜
約６グラムの範囲、１実施態様では、抽出剤１リットルあたり、約２〜約４グラ
ムの範囲の銅濃度を有する。工程（Ｃ）中で分離された銅欠乏リーチング水溶液
は、典型的には、１リットルあたり、約０．０１〜約０．８グラムの範囲、１実
施態様では、１リットルあたり、約０．０４〜約０．２グラムの範囲の銅イオン
濃度を有する。工程（Ａ）で使用されるリーチング溶液が硫酸溶液であるとき、
工程（Ｃ）中で分離される銅欠乏リーチング水溶液中の遊離硫酸濃度は、一般に
、１リットルあたり、約５〜約５０グラム、１実施態様では、１リットルあたり
、約５〜約４０グラム、１実施態様では、１リットルあたり、約１０〜約３０グ
ラムである。工程（Ａ）で使用されるリーチング溶液がアンモニア溶液であると
き、工程（Ｃ）中で分離される銅欠乏リーチング水溶液中の遊離アンモニアの濃
度は、一般に、１リットルあたり、約１０〜約１３０グラム、１実施態様では、
１リットルあたり、約３０〜約９０グラムである。

【００５８】 １実施態様では、この接触工程および分離工程（Ｂ）および（Ｃ）は、２段階
で行われる。この実施態様では、工程（Ｂ−１）および（Ｂ−２）は、接触工程
であり、そして工程（Ｃ−１）および（Ｃ−２）は、分離工程である。それゆえ
、この実施態様では、本発明のプロセスは、以下の工程順序を含む：（Ａ）、（
Ｂ−１）、（Ｃ−１）、（Ｂ−２）、（Ｃ−２）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）およ
び（Ｇ）であり、これらの工程のいくつかに由来のプロセス流は、このプロセス
の他の工程に再循環される。工程（Ｂ−１）は、工程（Ａ）中で形成された銅豊
富リーチング水溶液を、工程（Ｃ−２）に由来の有効量の少なくとも１種の銅含
有水不溶性抽出剤と接触して、該銅豊富リーチング水溶液に由来の銅イオンを該
銅含有抽出剤へと移動して、銅豊富抽出剤および銅欠乏第一リーチング水溶液を
形成する工程を包含する。工程（Ｃ−１）は、工程（Ｂ−１）中で形成された銅
欠乏第一リーチング水溶液から、工程（Ｂ−１）中で形成された銅豊富抽出剤を
分離する工程を包含する。工程（Ｃ−１）中で分離された銅豊富抽出剤は、一般
に、抽出剤１リットルあたり、約１〜約６グラムの範囲、１実施態様では、抽出
剤１リットルあたり、約２〜約４グラムの範囲の銅濃度を有する。工程（Ｃ−１
）中で分離された銅欠乏第一リーチング水溶液は、一般に、１リットルあたり、
約０．４〜約４グラムの範囲、１実施態様では、１リットルあたり、約０．５〜
約２．４グラムの範囲の銅イオン濃度を有する。工程（Ａ）で使用されるリーチ
ング溶液が硫酸溶液であるとき、工程（Ｃ−１）中で分離された銅欠乏第一リー
チング水溶液中の遊離硫酸の濃度は、一般に、１リットルあたり、約５〜約５０
グラムであり、１実施態様では、１リットルあたり、約５〜約３０グラムであり
、１実施態様では、１リットルあたり、約１０〜約３０グラムである。（Ａ）で
使用されるリーチング溶液がアンモニア溶液であるとき、工程（Ｃ−１）中で分
離された銅欠乏第一リーチング水溶液中の遊離アンモニアの濃度は、一般に、１
リットルあたり、約１０〜約１３０グラム、１実施態様では、１リットルあたり
、約３０〜約９０グラムである。

【００５９】 工程（Ｂ−２）は、工程（Ｃ−１）中で分離された銅欠乏第一リーチング水溶
液を、工程（Ｅ）に由来の有効量の少なくとも１種の銅欠乏抽出剤と接触して、
銅イオンを該銅欠乏第一リーチング水溶液から該銅欠乏抽出剤へと移動して、銅
含有抽出剤および銅欠乏第二リーチング水溶液を形成する工程を包含する。工程
（Ｃ−２）は、工程（Ｂ−２）中で形成された銅欠乏第二リーチング水溶液から
、工程（Ｂ−２）中で形成された銅含有抽出剤を分離する工程を包含する。工程
（Ｃ−２）中で分離された銅含有抽出剤は、一般に、抽出剤１リットルあたり、
約０．４〜約４グラムの範囲、１実施態様では、抽出剤１リットルあたり、約１
〜約２．４グラムの範囲の銅濃度を有する。工程（Ｃ−２）中で分離された銅欠
乏第二リーチング水溶液は、一般に、１リットルあたり、約０．０１〜約０．８
グラムの範囲、１実施態様では、１リットルあたり、約０．０４〜約０．２グラ
ムの範囲の銅イオン濃度を有する。工程（Ａ）で使用されるリーチング溶液が硫
酸溶液であるとき、工程（Ｃ−２）中で分離された銅欠乏第二リーチング水溶液
中の遊離硫酸の濃度は、一般に、１リットルあたり、約５〜約５０グラムであり
、１実施態様では、１リットルあたり、約５〜約４０グラムであり、１実施態様
では、１リットルあたり、約１０〜約３０グラムである。工程（Ａ）で使用され
るリーチング溶液がアンモニア溶液であるとき、工程（Ｃ−２）中で分離された
銅欠乏第二リーチング水溶液中の遊離アンモニアの濃度は、一般に、１リットル
あたり、約１０〜約１３０グラム、１実施態様では、１リットルあたり、約３０
〜約９０グラムである。

【００６０】 本発明のプロセスの工程（Ｄ）で使用されるストリッピング溶液は、硫酸溶液
であり、これは、一般に、１リットルあたり、約８０〜約３００グラムの範囲の
遊離硫酸濃度を有する。１実施態様では、（Ｄ）で使用されるストリッピング溶
液の遊離硫酸濃度は、１リットルあたり、約１００〜約２００グラム、１実施態
様では、１リットルあたり、約１５０〜約２００グラムである。

【００６１】 電析工程（Ｆ）は、工程（Ｅ）に由来の銅豊富ストリッピング溶液を、電鋳槽
へと進め、そしてこの槽内のカソード上に銅金属粉末を電析する工程を包含する
。この電鋳槽で処理される銅豊富ストリッピング溶液は、銅豊富ストリッピング
溶液または電解液のいずれかと呼ぶことができる。１実施態様では、この電解液
は、この槽に入る前に、精製工程または濾過工程を受ける。この槽は、「電析プ
ロセス」の副題にて上で述べた電鋳槽と同じ様式で操作され、その結果、このよ
うな槽のカソード上にて、所望の銅粉末が形成される。この銅粉末は、これらの
カソードから分離でき、次いで、上で述べた方法を使用して、洗浄され乾燥され
る。

【００６２】 このプロセスは、今ここで、図２を参照して記述するが、この図は、本発明の
銅粉末を製造するための溶媒抽出電析プロセスを図示している流れ図である。こ
のプロセスでは、銅は、銅リーチング堆積物２００から抽出され、そして本発明
のプロセスの工程に従って処理されて、銅粉末１５２を生成する。このプロセス
は、沈降機２０２、２０４および２０６、収集池２０８、混合機２１０、２１２
および２１４、容器１０１、電鋳槽１０６、フィルター１０２、１０４および２
１６、保持容器１０８、遠心機１１０、乾燥機１１２、集塊物崩壊機１１４、ふ
るい１１６、ならびに保管ホッパー１１８、１２０および１２２を包含する。こ
の実施態様では、本発明のプロセスの工程（Ａ）は、リーチング堆積物２００で
行われる。工程（Ｂ）および（Ｃ）は、混合機２１０および２１２、ならびに沈
降機２０２および２０４を使用して、２段階で行われる。工程（Ｄ）および（Ｅ
）は、混合機２１４および沈降機２０６を使用して、行われる。工程（Ｆ）およ
び（Ｇ）は、電鋳槽１０６を使用して、行われる。

【００６３】 ライン２２０に由来のリーチング水溶液は、リーチング堆積物２００の表面に
噴霧される。このリーチング溶液は、一般に、１リットルあたり、約５〜約５０
グラムの範囲、１実施態様では、約５〜約４０グラムの範囲、１実施態様では、
約１０〜約３０グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する硫酸溶液である。このリー
チング溶液は、この堆積物を通って下に浸透して、この鉱石から銅を抽出する。
このリーチング溶液は、銅豊富リーチング水溶液（これは、時には、リーチング
貴液と呼ばれる）として、堆積物空間２２２を通り、ライン２２４を通って、収
集池２０８へと流れる。このリーチング溶液は、収集池２０８から、ライン２２
６を通って、混合機２１２へとポンプ上げされる。混合機２１２へとポンプ上げ
された銅豊富リーチング溶液は、一般に、１リットルあたり、約０．４〜約５グ
ラムの範囲、１実施態様では、約０．４〜約３グラムの範囲の銅イオン濃度；お
よび１リットルあたり、一般に、約５〜約３０グラムの範囲、１実施態様では、
約１０〜約２０グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。混合機２１２では、この
銅豊富リーチング溶液は、沈降機２０４の堰２３０からライン２２８を通って混
合機２１２へとポンプ上げされた銅含有有機溶液と混合される。混合機２１２に
添加される銅含有有機溶液中の銅濃度は、一般に、この有機溶液中の抽出剤１リ
ットルあたり、約０．４〜約４グラムの銅、１実施態様では、この有機溶液中の
抽出剤１リットルあたり、約１〜約２．４グラムの銅である。混合機２１２中で
の混合中にて、有機相および水相が形成して、混ざる。銅イオンは、この水相か
らこの有機相へと移動する。この混合物は、混合機２１２から、ライン２３２を
通って、沈降機２０２へとポンプ上げされる。沈降機２０２では、この水相およ
び有機相は分離し、この有機相は、その頂層を形成し、そしてこの水相は、その
底層を形成する。この有機相は、堰２３４で集まり、そしてライン２３６を通っ
て、混合機２１４へとポンプ上げされる。この有機相は、銅豊富有機溶液（これ
は、装填有機物と呼ぶことができる）である。この銅豊富有機溶液は、一般に、
この有機溶液中の抽出剤１リットルあたり、約１〜約６グラムの銅の範囲、１実
施態様では、この有機溶液中の抽出剤１リットルあたり、約２〜約４グラムの銅
の範囲の銅濃度を有する。

【００６４】 この銅豊富有機溶液は、混合機２１４中にて、銅欠乏ストリッピング溶液と混
合される。この銅欠乏ストリッピング溶液（これは、希薄（ｌｅａｎ）電解液と
呼ぶことができる）は、電鋳槽１０６にて生成され、そして槽１０６から、ライ
ン２３７および２３８を通って、混合機２１４へとポンプ上げされる。この銅欠
乏ストリッピング溶液は、一般に、１リットルあたり、約８０〜約３００グラム
の範囲、１実施態様では、約１５０〜約２００グラムの範囲の遊離硫酸濃度；お
よび１リットルあたり、一般に、約２〜約５グラムの範囲、１実施態様では、約
２〜約４グラムの範囲の銅イオン濃度を有する。新鮮なストリッピング溶液の補
充は、ライン２４０を通って、ライン２３８へと添加できる。この銅豊富有機溶
液および銅欠乏ストリッピング溶液は、混合機２１４中で混合され、その結果、
水相と混ざった有機相が形成される。銅イオンは、この有機相からこの水相へと
移動する。この混合物は、混合機２１４から、ライン２４２を通って、沈降機２
０６へとポンプ上げされる。沈降機２０６では、この有機相は、この水相と分離
し、この有機相は、堰２４４で集まる。この有機相は、銅欠乏有機溶液（これは
、時には、不用有機物と呼ばれる）である。この銅欠乏有機溶液は、一般に、こ
の有機溶液中の抽出剤１リットルあたり、約０．５〜約２グラムの範囲、１実施
態様では、この有機溶液中の抽出剤１リットルあたり、約０．９〜約１．５グラ
ムの範囲の銅濃度を有する。この銅欠乏有機溶液は、沈降機２０６から、ライン
２４６を通って、混合機２１０へとポンプ上げされる。新鮮な有機溶液の補充は
、ライン２４８を通って、ライン２４６へと添加できる。

【００６５】 銅含有リーチング水溶液は、沈降機２０２から、ライン２５０を通って、混合
機２１０へとポンプ上げされる。この銅含有リーチング水溶液は、一般に、１リ
ットルあたり、約０．４〜約４グラムの範囲、１実施態様では、約０．５〜約２
．４グラムの範囲の銅イオン濃度；および１リットルあたり、一般に、約５〜約
５０グラムの範囲、１実施態様では、約５〜約３０グラムの範囲、１実施態様で
は、約１０〜約２０グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。混合機２１０では、
有機相および水相が形成して、混ざり、そして銅イオンは、この水相からこの有
機相へと移動する。この混合物は、ライン２５２を通って、沈降機２０４へとポ
ンプ上げされる。沈降機２０４では、この有機相は、この水相から分離し、この
有機相は、堰２３０で集まる。この有機相は、銅含有有機溶液であるが、沈降機
２０４から、ライン２２８を通って、ライン２１２へとポンプ上げされる。この
銅含有有機溶液は、一般に、この有機溶液中の抽出剤１リットルあたり、約０．
５〜約４グラムの範囲、１実施態様では、この有機溶液中の抽出剤１リットルあ
たり、約１〜約２．４グラムの範囲の銅濃度を有する。沈降機２０４中の水相は
、銅欠乏リーチング水溶液であり、これは、ライン２２０を通って、リーチング
堆積物２００へとポンプ上げされる。新鮮なリーチング溶液の補充は、ライン２
５４から、ライン２２０へと添加できる。

【００６６】 沈降機２０６で分離される水相は、銅豊富ストリッピング溶液である。この銅
豊富ストリッピング溶液は、一般に、１リットルあたり、約５〜約１５グラムの
範囲、１実施態様では、１リットルあたり、約７〜約１０グラムの範囲の銅イオ
ン濃度；および１リットルあたり、一般に、約５０〜約２００グラムの範囲、１
実施態様では、約１５０〜約２００グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。それ
は、沈降機２０６から、ライン２６０を通って、フィルター２１６へとポンプ上
げされ、そしてフィルター２１６から、ライン２６２を通り、次いで、以下のい
ずれかで、ポンプ上げされる：ライン２６４を通り、電鋳槽１０６へ；またはラ
イン１４０を通り、フィルター１０４へ入り、フィルター１０４から、ライン１
４２を通って、容器１０１へ。フィルター２１６は、ライン２１７を通って、迂
回できる。同様に、フィルター１０４は、ライン１４４を通って、迂回できる。
電鋳槽１０６または容器１０１に入る銅豊富ストリッピング溶液は、電解液１３
０と呼ばれる。もし、電解液１３０の組成を調整する（例えば、銅イオン濃度の
上昇または低下など）必要があるなら、この電解液は、電鋳槽１０６に進める前
に、容器１０１に進められる。もし、この電解液の組成を調整する必要がないな
ら、この電解液は、直接、電鋳槽１０６に進められる。電鋳槽１０６では、電解
液１３０は、アノード１２６とカソード１２８との間を流れる。アノード１２６
とカソード１２８との間で電圧を加えるとき、カソード１２８の各側面にて、銅
粉末１５２の電析が起こる。

【００６７】 電鋳槽１０６では、電解液１３０は、銅欠乏電解液に変換され、そして槽１０
６から、ライン２３７を通って引き出される。ライン２３７にある銅欠乏電解液
は、一般に、１リットルあたり、約２〜約５グラムの範囲、１実施態様では、１
リットルあたり、約２〜約４グラムの範囲の銅イオン濃度；および１リットルあ
たり、一般に、約８０〜約３００グラムの範囲、１実施態様では、および１リッ
トルあたり、約１５０〜約２００グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。この銅
欠乏電解液は、以下のいずれかにかけられる：（１）ライン２３７および１４０
を通って、フィルター１０４（これは、必要に応じて、ライン１４４を通って、
迂回できる）へと入り、フィルター１０４（またはライン１４４）から、ライン
１４２へと入り、ライン１４２を通って、容器１０１へと入り、容器１０１から
、ライン１４６を通って、フィルター１０２へと入り、フィルター１０２（これ
は、必要に応じて、ライン１５０を通って、迂回できる）を通って、ライン１４
８へと入り、ライン１４８を通って、槽１０６へと戻って、ポンプ上げされる；
または（２）ライン２３７を通って、ライン２３８へと入り、ライン２３８を通
って、銅欠乏ストリッピング溶液として、混合機２１４へとポンプ上げされる。
必要に応じて、容器１０１中の電解液には、方向指示矢印１３１により指示され
るような追加銅供給材料、方向指示矢印１３２により指示されるような硫酸、方
向指示矢印１３３により指示されるような塩化物イオン、または方向指示矢印１
３４により指示されるような希釈水が添加できる。容器１０１に入る追加銅供給
材料は、任意の通常の形状（銅ショット、スクラップ銅金属、スクラップ銅ワイ
ヤ、再生銅、酸化第二銅、酸化第一銅などを含めて）であり得る。１実施態様で
は、容器１０１に入る銅供給材料は、まず、容器１０１に添加する前に、別個の
容器中の硫酸に溶解される。また、フィルター１０２および１０４のいずれかま
たは両方を使用して、電解液１３０から、不純物が除去され得る。電鋳槽１０６
から再生される電解液１３０もまた、ライン１４２を通って、容器１０１に入る
。槽１０６からの使用済み電解液は、ライン１５４および１５６を通って、容器
１０１に進み得る。容器１０１中の電解液１３０の温度は、典型的には、約１５
℃〜約４０℃の範囲、１実施態様では、約２０℃〜約３０℃の範囲である。電解
液１３０は、ライン１４６および１４８を通って、容器１０１から容器１２４へ
と進められる。電解液１３０は、容器１２４に入る前に、フィルター１０２で濾
過され得るか、あるいは、ライン１５０を通って、フィルター１０２を迂回し得
る。

【００６８】 電鋳槽１０６で処理される電解液１３０は、一般に、１リットルあたり、約１
００〜約２００グラムの範囲、１実施態様では、１リットルあたり、約１２０〜
約１９０グラムの範囲、１実施態様では、１リットルあたり、約１４０〜約１８
５グラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する。その銅イオン濃度は、重要であり、１
リットルあたり、約２〜約７グラムの範囲、１実施態様では、１リットルあたり
、約３〜約６グラムの範囲、１実施態様では、１リットルあたり、約５グラムで
ある。この電解液中の遊離塩化物イオン濃度は、重要であり、約８ｐｐｍ〜約２
０ｐｐｍの範囲、１実施態様では、約８ｐｐｍ〜約１５ｐｐｍの範囲、１実施態
様では、約８ｐｐｍ〜約１２ｐｐｍの範囲、１実施態様では、約１０ｐｐｍであ
る。その不純物レベルは、重要であり、１リットルあたり、約１．０グラム以下
のレベル、１実施態様では、１リットルあたり、約０．６グラム以下のレベル、
１実施態様では、１リットルあたり、約０．１グラム以下のレベルである。電鋳
槽１０６中の電解液の温度は、約１５℃〜約３５℃の範囲、１実施態様では、約
２０℃〜約３０℃の範囲である。

【００６９】 電鋳槽１０６を通る電解液の流速は、約０．０１〜約０．３ｇｐｍ／ｃｓａの
範囲、１実施態様では、約０．１〜約０．２ｇｐｍ／ｃｓａの範囲である。電解
液１３０は、アノード１２６とカソード１２８との間を流れる。カソード１２８
へ銅粉末１５２の電析を起こすために、アノード１２６とカソード１２８との間
には、電圧が加えられる。１実施態様では、使用される電流は、直流であり、１
実施態様では、直流バイアスを備えた交流である。その流量密度は、約８０〜約
１２０ＡＳＦの範囲、１実施態様では、約９０〜約１１０ＡＳＦの範囲、１実施
態様では、約１００ＡＳＦである。カソード１２８上での銅粉末１５２の電析は
、約１〜約５時間、１実施態様では、約１〜約３時間、１実施態様では、約１．
５〜約２．５時間継続される。電析は、次いで、中断される。使用済み電解液１
３０は、容器１２４から排水され、そしてライン１５４および１５６を通って、
容器１０１へと進められる。銅粉末１５２は、カソード１２８上へ電解液を噴霧
することにより、このカソードから分離されて、容器１２４の円錐形下部１６０
にて、スラリー１５８が形成される。スラリー１５８は、容器１２４から、ライ
ン１５４および１６２を通って、容器１０８へと進められる。スラリー１５８は
、次いで、容器１０８から、ライン１６４を通って、遠心機１１０へと進められ
る。遠心機１１０では、この銅粉末から、液状流出液が分離され、そしてライン
１６９を通って、遠心機１１０を出ていき、そしてライン１７０を通って、容器
１０８へと再循環されるか、またはライン１７２を通って、取り除かれる（この
場合、それは、捨てられるか、またはさらに別の処理を受ける）かいずれかであ
る。１実施態様では、方向指示矢印１６６により示されるように、この遠心機中
の銅粉末には、酸化防止剤が添加される。１実施態様では、方向指示矢印１６８
により示されるように、この遠心機中の粉末には、安定剤が添加される。１実施
態様では、この酸化防止剤および安定剤は、この酸化防止剤をこの安定剤より先
にして、連続した順序で、この遠心機中の粉末に添加される。あるいは、この酸
化防止剤および／または安定剤は、容器１０８中のスラリー１５８に添加できる
。この酸化防止剤および／または安定剤を遠心機１１０中の粉末に添加するとき
、この遠心機は、その内容物に、約２〜約７５０ｇ’ｓ、１実施態様では、約１
０〜約２００ｇ’ｓ、１実施態様では、約１０〜約７５ｇ’ｓ、１実施態様では
、約１０〜約２０ｇ’ｓの遠心力を加えるのに充分な速度で、回転される。この
流出液のｐＨが、約７〜約１４の範囲、１実施態様では、約７〜約１１の範囲、
１実施態様では、約９になるまで、この遠心機は、回転される。この遠心機の回
転速度は、次いで、この銅粉末を脱水するために、速くされる。この工程中にて
、この遠心機の回転速度は、その内容物に、約２００〜約７５０ｇ’ｓの範囲、
１実施態様では、約５００〜約７００ｇ’ｓの範囲、１実施態様では、約６５０
〜約７００ｇ’ｓの範囲の遠心力を加えるのに充分なレベルまで、速くされる。
脱水後に遠心機１１０に残っている銅粉末は、連続ベルト１７１に進められ、こ
れは、乾燥機１１２を通って、この粉末を運搬する。方向指示矢印１７３により
示されるように、乾燥機１１２では、この銅粉末から、水分が取り除かれる。乾
燥した銅粉末は、乾燥機１１２を出て、集塊崩壊機１１４に入り、ここで、乾燥
中に形成する集塊は、崩壊される。この粉末は、集塊崩壊機１１４から、ふるい
１１６へと進められ、ここで、この銅粉末は、所望のふるい画分へと分離され、
次いで、保管ホッパー１１８、１２０および１２２へと進められる。

【００７０】 前述の工程は、連続ベースまたはバッチベースで行うことができる。１実施態
様では、この電鋳槽の操作は、連続ベースで行われ、そしてこの遠心機の操作は
、バッチベースで行われる。

【００７１】 （実施例４） 図２で図示されている工程を使用して、銅粉末１５２を製造する。ライン２２
０からリーチング堆積物２００上に噴霧されるリーチング水溶液は、１リットル
あたり、２０グラムの硫酸濃度を有する硫酸溶液である。ライン２２６を通って
混合機２１２へとポンプ上げされる銅豊富リーチング水溶液は、１リットルあた
り、１．８グラムの銅イオン濃度、および１リットルあたり、１２グラムの遊離
硫酸濃度を有する。この有機溶液は、ＬＩＸ ９８４の７重量％ＳＸ−７溶液で
ある。沈降機２０４から混合機２１２へと添加される銅含有有機溶液中の銅濃度
は、１リットルあたり、１．９５グラムの銅濃度である。沈降機２０２から混合
機２１４へとポンプ上げされる銅豊富有機溶液は、１リットルのＬＩＸ ９８４
あたり、３グラムの銅濃度を有する。ライン２３８から混合機２１４に添加され
る銅欠乏ストリッピング溶液は、１リットルあたり、１７５グラムの遊離硫酸濃
度、および１リットルあたり、４グラムの銅イオン濃度を有する。沈降機２０６
から混合機２１０へとポンプ上げされる銅欠乏有機溶液は、１リットルのＬＩＸ
９８４あたり、１．２５グラムの銅濃度を有する。沈降機２０２から混合機２
１０へとポンプ上げされた銅含有リーチング水溶液は、１リットルあたり、０．
８グラムの銅イオン濃度、および１リットルあたり、１２グラムの遊離硫酸濃度
を有する。沈降機２０４からライン２２０を通ってポンプ上げされた銅欠乏水溶
液は、１リットルあたり、０．１５グラムの銅濃度、および１リットルあたり、
１２グラムの遊離硫酸濃度を有する。沈降機２０６から取り出された銅豊富スト
リッピング溶液は、１リットルあたり、７グラムの銅イオン濃度、および１リッ
トルあたり、１７５グラムの遊離硫酸濃度を有する。この銅豊富ストリッピング
溶液を、容器１０１へと進め、ここで、このような溶液の組成を、１リットルあ
たり、５グラムの銅イオン濃度、１リットルあたり、１７５グラムの遊離硫酸濃
度、および１０ｐｐｍの遊離塩化物イオン濃度を提供するように、調節する。こ
の銅豊富ストリッピング溶液（これは、電解液１３０と呼ぶことができる）を、
電鋳槽１０６へと進める。槽１０６中の電解液の温度は、２４〜２７℃で維持す
る。その流量密度は、１００ＡＳＦである。このカソードの構成材料は、チタン
である。これらのアノードは、寸法的に安定なアノードであり、これらは、酸化
イリジウムで被覆したチタンから構成されている。この電解液は、０．１７ｇｐ
ｍ／ｃｓａの速度で、この槽１０６を通って流れる。そのメッキ時間は、３時間
である。これらのカソード上で形成された銅粉末を、この粉末およびカソードの
上へ電解液を噴霧することにより、これらのカソードから分離して、その結果、
この粉末を含有するスラリーが形成される。このスラリーを、容器１０８へと進
め、そこから、遠心機１１０へと進める。この遠心機中の粉末に、ｐＨ１０を有
する水酸化アンモニウム溶液を添加する。水酸化アンモニウム溶液と銅粉末との
比は、粉末１ポンドあたり、溶液５ガロンである。この遠心機を、この遠心機か
らの流出液がｐＨ９に達して後、２分間まで、この遠心機の内容物に１６ｇ’ｓ
の遠心力をかけるのに充分な速度で、回転する。次いで、２０ｐｐｍの濃度のベ
ンゾトリアゾール水溶液および２００ｐｐｍの濃度のＰｏｌｙ−Ｔｅｒｇｅｎｔ
Ｓ−５０５ＬＦからなる安定剤を添加する。安定剤と粉末との比は、銅粉末１
ポンドあたり、２ガロンの安定剤である。この遠心機を、この遠心機からの流出
液がｐＨ９に達して後、２分間まで、その内容物に１６ｇ’ｓの遠心力をかける
のに充分な速度で、回転する。次いで、この遠心機の回転速度を、この遠心機の
内容物に６７４ｇ’ｓの遠心力をかけるのに充分なレベルまで速くすると、その
結果、この銅粉末が脱水される。脱水後に遠心機１１０に残っている銅粉末は、
連続ベルト１７１に進められ、これは、乾燥機１１２を通って、この粉末を運搬
する。方向指示矢印１７３により示されるように、乾燥機１１２では、この銅粉
末から、水分が取り除かれる。乾燥した銅粉末は、乾燥機１１２を出て、集塊崩
壊機１１４に入り、ここで、乾燥中に形成した集塊は、崩壊される。この粉末は
、集塊崩壊機１１４から、ふるい１１６へと進められ、ここで、この銅粉末は、
所望のふるい画分へと分離され、次いで、保管ホッパー１１８、１２０および１
２２へと進められる。

【００７２】 本発明は、その好ましい実施態様に関して説明しているものの、それらの種々
の変更は、この明細書を読めば、当業者に明かなことが理解されるべきである。
従って、ここで開示の発明は、添付の特許請求の範囲に入るようなこれらの変更
を含むべく意図されていることが理解されるべきである。

【００７３】 添付の図面では、類似の参照は、類似の部分または特徴を示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、本発明の銅粉末を製造するのに使用される本発明の電析プロセスの１
実施態様を図示しているフローシートである。

【図２】 図２は、本発明の銅粉末を製造するのに使用される本発明の電析プロセスの別
の実施態様を図示しているフローシートである。

【図３】 図３は、実施例３に従って製造した銅粉末の試料の顕微鏡写真であり、これは
、５００倍の倍率で撮影した。

【図４】 図４は、実施例３に従って製造した銅粉末の試料の顕微鏡写真であり、これは
、１５００倍の倍率で撮影した。

【図５】 図５は、実施例３に従って製造した銅粉末の試料の顕微鏡写真であり、これは
、３０００倍の倍率で撮影した。

【手続補正書】

【提出日】平成１２年１０月１０日（２０００．１０．１０）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

【化１】 ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は、独立して、水素またはヒ ドロカルビル基である、 プロセス。

【化２】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、独立して、水素またはヒドロカルビル基である、 プロセス。

【化３】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、独立して、アルキル基またはアミル基である、 プロセス。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ， ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，Ｌ Ｔ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ， ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，Ｕ Ａ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ヘインズ， ロナルド ケイ． アメリカ合衆国 オハイオ 44060， メ ントー， エヌ． ウェザーバイ ドライ ブ 6699 (72)発明者 ソプチャック， ニコラス ディー． アメリカ合衆国 ニューヨーク 12198， ワイナントスキル， ノース カーティ ス ロード ４ (72)発明者 ゴート， ウェンディ アメリカ合衆国 アリゾナ 85737， タ クソン， ノース ジョイ ドライブ 11830 Ｆターム(参考） 4K058 AA01 BA21 BA37 BB04 CA04 CA10 CA17 CA22 DD01 ED04 FA03 FC02 FC04 FC07 FC13 FC14 FC17 5G307 AA08

Claims (32)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 １立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グラ
   ムの範囲の見かけ密度、および１グラムあたり、少なくとも約０．５平方メート
   ルの表面積を有する、電析銅粉末。
2. 【請求項２】 前記粉末が、約５〜約５０ミクロンの平均粒径を有する、請
   求項１に記載の銅粉末。
3. 【請求項３】 前記粉末が、１立方センチメートルあたり、約４〜約８グラ
   ムの未焼結密度を有する、請求項１に記載の銅粉末。
4. 【請求項４】 前記粉末が、約３，５００〜約７，０００ｐｓｉの未焼結強
   度を有する、請求項１に記載の銅粉末。
5. 【請求項５】 前記銅粉末が、少なくとも約９９重量％の銅含量を有する、
   請求項１に記載の銅粉末。
6. 【請求項６】 前記粉末が、非自由流動性である、請求項１に記載の銅粉末
   。
7. 【請求項７】 前記粉末の少なくとも約９０重量％が、約７５ミクロンより
   小さい粒径を有し、そして該粉末の少なくとも約５０重量％が、約２５ミクロン
   より小さい粒径を有し、そして該粉末の少なくとも約１０重量％が、約１０ミク
   ロンより小さい粒径を有する、請求項１に記載の銅粉末。
8. 【請求項８】 前記粉末が、樹状成長および分枝により特徴づけられる、請
   求項１に記載の銅粉末。
9. 【請求項９】 有効量の安定剤が酸化を減少させ、有効期間を延ばすために
   、前記銅粉末の表面に付着される、請求項１に記載の銅粉末。
10. 【請求項１０】 前記安定剤が、トリアゾールである、請求項９に記載の銅
    粉末。
11. 【請求項１１】 鉄粉および請求項１に記載の銅粉末の混合物を含有する、
    鉄製品。
12. 【請求項１２】 スズ粉末および請求項１に記載の銅粉末の混合物を含有す
    る、青銅製品。
13. 【請求項１３】 グラファイト粒子および請求項１に記載の銅粉末の混合物
    を含有する、グラファイト含有製品。
14. 【請求項１４】 摩擦微粒子材料および請求項１に記載の銅粉末の混合物を
    含有する、摩擦製品。
15. 【請求項１５】 １立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グ
    ラムの範囲の見かけ密度、および１グラムあたり、少なくとも約０．５平方メー
    トルの表面積を有する銅粉末を製造するプロセスであって、該プロセスは、銅イ
    オン、硫酸イオンおよび遊離塩化物イオンを含有する電解液から、該銅粉末を電
    析することを包含し、該銅イオンの濃度は、１リットルあたり、約２〜約７グラ
    ムの範囲であり、該遊離塩化物イオンの濃度は、約８〜約２０ｐｐｍの範囲であ
    り、該電解液は、１リットルあたり、約１．０グラム以下の不純物レベルを有し
    、そして有機添加剤を含有しない、 プロセス。
16. 【請求項１６】 前記電解液の温度が、約１５℃〜約３５℃の範囲である、
    請求項１５に記載のプロセス。
17. 【請求項１７】 前記電解液が、１リットルあたり、約１００〜約２００グ
    ラムの範囲の遊離硫酸濃度を有する、請求項１５に記載のプロセス。
18. 【請求項１８】 前記電析が、前記電解液に浸されたアノードおよびカソー
    ドを備えた電鋳槽で行われ、該電鋳槽を通る該電解液の流速が、該カソードの浸
    漬表面積１平方フィートあたり、１分間に約０．０１〜約０．３ガロンの範囲で
    ある、請求項１５に記載のプロセス。
19. 【請求項１９】 前記電析が、アノードおよびカソードを備えた電鋳槽で行
    われ、該アノードが、寸法的に安定なアノードであり、該カソードが、チタンか
    ら作製されている、請求項１５に記載のプロセス。
20. 【請求項２０】 前記電析が、アノードおよびカソードを備えた電鋳槽で行
    われ、該アノードおよび該カソードに渡って有効量の電圧を適用して該カソード
    上に該銅粉末を析出させるために、電流が使用され、該流量密度が、約８０〜約
    １２０ＡＳＦの範囲である、請求項１５に記載のプロセス。
21. 【請求項２１】 前記電析が、アノードおよびカソードを備えた電鋳槽で行
    われ、該アノードと該カソードとの間の間隔が、約１〜約４インチである、請求
    項１５に記載のプロセス。
22. 【請求項２２】 前記電解液中の鉄の濃度が、１リットルあたり、約０．２
    グラム以下である、請求項１５に記載のプロセス。
23. 【請求項２３】 １立方センチメートルあたり、約０．２０〜約０．６０グ
    ラムの範囲の見かけ密度、および１グラムあたり、少なくとも約０．５平方メー
    トルの表面積を有する銅粉末を製造するプロセスであって、該プロセスは、以下
    を包含する、プロセス： （Ａ）銅含有物質を、有効量の少なくとも１種のリーチング水溶液と接触させ
    て、該リーチング水溶液に銅イオンを溶解させ、そして銅豊富リーチング水溶液
    を形成する、工程； （Ｂ）該銅豊富リーチング水溶液を、有効量の少なくとも１種の水不溶性抽出
    剤と接触させて、該銅豊富リーチング水溶液から該抽出剤へと銅イオンを移動さ
    せ、銅豊富抽出剤および銅欠乏リーチング水溶液を形成する、工程； （Ｃ）該銅欠乏リーチング水溶液から該銅豊富抽出剤を分離する、工程； （Ｄ）該銅豊富抽出剤を、有効量の少なくとも１種のストリッピング水溶液と
    接触させて、該抽出剤から該ストリッピング溶液へと銅イオンを移動させ、銅豊
    富ストリッピング溶液および銅欠乏抽出剤を形成する、工程； （Ｅ）該銅欠乏抽出剤から該銅豊富ストリッピング溶液を分離する工程であっ
    て、該銅豊富ストリッピング溶液が電解液である、工程； （Ｆ）該電解液を、アノードとカソードとの間で流し、そして該アノードおよ
    び該カソードに渡って有効量の電圧を適用し、該カソード上に該銅粉末を析出さ
    せる工程であって、該電解液は、銅イオン、硫酸イオンおよび遊離塩化物イオン
    を含有し、該銅イオンの濃度は、１リットルあたり、約２〜約７グラムの範囲で
    あり、該遊離塩化物イオンの濃度は、約８〜約２０ｐｐｍの範囲であり、該電解
    液は、１リットルあたり、約１．０グラム以下の不純物レベルを有し、そして有
    機添加剤を含有しない、工程；および （Ｇ）該カソードから該銅粉末を取り除く、工程。
24. 【請求項２４】 前記銅含有物質が、銅鉱石、銅濃縮物、銅製錬所生成物、
    製錬所煙道ダスト、銅セメント、硫酸銅または銅含有廃棄物である、請求項２３
    に記載のプロセス。
25. 【請求項２５】 工程（Ａ）で形成された前記銅豊富水溶液を前記銅含有物
    質から分離する工程を包含する、請求項２３に記載のプロセス。
26. 【請求項２６】 前記リーチング水溶液が、硫酸、ハロゲン化物酸またはア
    ンモニアを含有する、請求項２３に記載のプロセス。
27. 【請求項２７】 工程（Ｂ）での前記抽出剤が、灯油、ベンゼン、ナフタレ
    ン、燃料油およびディーゼル燃料からなる群から選択される有機溶媒に溶解され
    る、請求項２３に記載のプロセス。
28. 【請求項２８】 工程（Ｂ）での前記抽出剤が、以下の式により表わされる
    少なくとも１種の化合物を含有する、請求項２３に記載のプロセス： 【化１】 ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は、独立して、水素またはヒ ドロカルビル基である、 プロセス。
29. 【請求項２９】 工程（Ｂ）での前記抽出剤が、以下の式により表わされる
    少なくとも１種の化合物を含有する、請求項２３に記載のプロセス： 【化２】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、独立して、水素またはヒドロカルビル基である、 プロセス。
30. 【請求項３０】 工程（Ｂ）での前記抽出剤が、以下の式により表わされる
    少なくとも１種の化合物を含有する、請求項２３に記載のプロセス： 【化３】 ここで、Ｒ¹およびＲ²は、独立して、アルキル基またはアミル基である、 プロセス。
31. 【請求項３１】 工程（Ｂ）での前記抽出剤が、少なくとも１種のイオン交
    換樹脂を含有する、請求項２３に記載のプロセス。
32. 【請求項３２】 前記ストリッピング溶液が、硫酸を含有する、請求項２３
    に記載のプロセス。