JP2002373871A5 - - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
Description
【0041】
本発明においては、研削工程又は/及びダイシング工程において、上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態で加工する。上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態としては、図1に示すように支持体が研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよく、図2に示すように半導体ウエハが研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよい。ただし、半導体ウエハの裏面が研削される際には支持体が研削用テープに接している態様が好ましい。
上記研削用テープ又はダイシングテープとしては特に限定されないが、公知の光硬化性粘着テープを用いることができ、例えば、Adwill(登録商標)D−シリーズや、日東電工社製のエレップホルダー(登録商標)UEシリーズ等のテープが挙げられる。
また、公知の加熱発泡型粘着テープも用いられており、例えば、日東電工社製のリバアルファ(登録商標)が挙げられる。
本発明においては、研削工程又は/及びダイシング工程において、上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態で加工する。上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態としては、図1に示すように支持体が研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよく、図2に示すように半導体ウエハが研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよい。ただし、半導体ウエハの裏面が研削される際には支持体が研削用テープに接している態様が好ましい。
上記研削用テープ又はダイシングテープとしては特に限定されないが、公知の光硬化性粘着テープを用いることができ、例えば、Adwill(登録商標)D−シリーズや、日東電工社製のエレップホルダー(登録商標)UEシリーズ等のテープが挙げられる。
また、公知の加熱発泡型粘着テープも用いられており、例えば、日東電工社製のリバアルファ(登録商標)が挙げられる。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001181921A JP2002373871A (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | Icチップの製造方法 |
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JP2001181921A JP2002373871A (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | Icチップの製造方法 |
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JP2002373871A JP2002373871A (ja) | 2002-12-26 |
JP2002373871A5 true JP2002373871A5 (ja) | 2004-12-24 |
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JP2001181921A Pending JP2002373871A (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | Icチップの製造方法 |
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JP (1) | JP2002373871A (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4312419B2 (ja) * | 2002-05-09 | 2009-08-12 | リンテック株式会社 | 半導体ウエハの加工方法 |
JP4518535B2 (ja) * | 2003-07-01 | 2010-08-04 | 日東電工株式会社 | ダイシング用粘着シート用粘着剤、ダイシング用粘着シート、半導体素子の製造方法、半導体素子 |
JP4182921B2 (ja) | 2004-06-08 | 2008-11-19 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレートの製造方法 |
JP4854059B2 (ja) * | 2004-07-27 | 2012-01-11 | 日東電工株式会社 | レーザー加工用保護シートを用いたレーザー加工品の製造方法 |
JP2006156633A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Lintec Corp | 脆質部材の処理装置 |
JP4337723B2 (ja) * | 2004-12-08 | 2009-09-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出ヘッド並びに液滴吐出装置 |
JP4854060B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2012-01-11 | 日東電工株式会社 | レーザー加工用保護シートを用いたレーザー加工品の製造方法 |
JP4619212B2 (ja) * | 2005-06-28 | 2011-01-26 | 積水化学工業株式会社 | 粘着テープの剥離方法及び粘着テープ剥離装置 |
JP5275553B2 (ja) | 2006-06-27 | 2013-08-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 分割チップの製造方法 |
JP2012156292A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Seiko Epson Corp | 基板の加工方法 |
WO2012176607A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2012-12-27 | 東京応化工業株式会社 | 積層体の製造方法、基板の処理方法および積層体 |
JP5294366B1 (ja) * | 2012-10-18 | 2013-09-18 | 古河電気工業株式会社 | ダイシングテープ |
JP6490459B2 (ja) * | 2015-03-13 | 2019-03-27 | 古河電気工業株式会社 | ウェハ固定テープ、半導体ウェハの処理方法および半導体チップ |
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2001
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