JP2003059871A5 - - Google Patents

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【0025】
本発明においては、研削工程又は/及びダイシング工程において、上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態で加工する。上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態としては、支持板が研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよく、半導体ウエハが研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよい。ただし、半導体ウエハの裏面が研削される際には支持板が研削用テープに接している態様が好ましい。
上記研削用テープ又はダイシングテープとしては特に限定されないが、公知の光硬化性粘着テープを用いることができ、例えば、Adwill(登録商標)D−シリーズや、日東電工社製のエレップホルダー(登録商標)UEシリーズ等のテープが挙げられる。
また、公知の加熱発泡型粘着テープも用いられており、例えば、日東電工社製のリバアルファ(登録商標)が挙げられる。
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CA2614963C (en) * 2005-07-19 2014-10-07 Merck & Co., Inc. Spirochromanone derivatives as acetyl coenzyme a carboxylase (acc) inhibitors
US20100148312A1 (en) * 2008-12-16 2010-06-17 Ivi Smart Technologies, Inc. Reinforced smart cards & methods of making same
US9221231B2 (en) 2011-11-22 2015-12-29 Samsung Display Co., Ltd. Acrylate based adhesive composition for optical use, acrylate based adhesive sheet for optical use, and method for separating optical component using the same
JP5865064B2 (ja) * 2011-11-22 2016-02-17 ニッタ株式会社 光学用アクリル系粘着シートおよびこれを用いた光学部材の取り外し方法

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