JP2002363727A - 浸炭処理方法及びその装置 - Google Patents
浸炭処理方法及びその装置Info
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- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 浸炭リードタイムの短縮とトータルエネルギ
ーの削減を図った経済的な浸炭処理方法を提供する。 【解決手段】 炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポ
テンシャルに維持して浸炭を行う、好ましくは、炉内を
減圧し、該炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスを直接供
給して炉内雰囲気を前記炭素固溶限直下の高炭素ポテン
シャルに維持して浸炭を行う浸炭処理方法。
ーの削減を図った経済的な浸炭処理方法を提供する。 【解決手段】 炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポ
テンシャルに維持して浸炭を行う、好ましくは、炉内を
減圧し、該炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスを直接供
給して炉内雰囲気を前記炭素固溶限直下の高炭素ポテン
シャルに維持して浸炭を行う浸炭処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、鋼材料の浸炭処理
方法及びその装置に関する。
方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、鋼材料の浸炭処理方法には、変成
炉で得たエンドサーミックガスをキャリアガスとし、こ
れに炭化水素系ガスをエンリッチガスとして添加し、炭
素ポテンシャルを調整しながら処理するガス浸炭法、前
記変成炉を使用せず、浸炭炉に直接炭化水素系ガスと酸
化性ガスを供給する（直接）ガス浸炭法、その他、真空
浸炭法、プラズマ浸炭法等が提供されている。
炉で得たエンドサーミックガスをキャリアガスとし、こ
れに炭化水素系ガスをエンリッチガスとして添加し、炭
素ポテンシャルを調整しながら処理するガス浸炭法、前
記変成炉を使用せず、浸炭炉に直接炭化水素系ガスと酸
化性ガスを供給する（直接）ガス浸炭法、その他、真空
浸炭法、プラズマ浸炭法等が提供されている。
【０００３】前記ガス浸炭法は、ＣＯ２ ガスの大量発
生、爆発の危険性、鋼材料表面の粒界酸化等の問題を抱
え、また、エンドサーミックガスを用いたガス浸炭法で
は、変成炉を必要とし、設備コストがかかると言う問題
が残されていた。
生、爆発の危険性、鋼材料表面の粒界酸化等の問題を抱
え、また、エンドサーミックガスを用いたガス浸炭法で
は、変成炉を必要とし、設備コストがかかると言う問題
が残されていた。
【０００４】また、真空浸炭法は、前記キャリアガスを
使用することなく、減圧下に直接メタンガスやプロパン
ガスを添加し、該添加したメタンガスやプロパンガスの
直接分解により生じた炭素が鋼材料に侵入するものと考
えられているが、該鋼材料表面の炭素濃度が固溶限まで
増加し、煤が多く発生し、また、炉内メンテナンスに時
間及び費用がかかり、特殊用途以外には使用できず、汎
用性に欠け、さらに、前記ガス浸炭法に比べて炉内雰囲
気の炭素ポテンシャル制御が困難であると言う問題が残
されている。また、プラズマ浸炭法は、生産性に問題が
残されていた。
使用することなく、減圧下に直接メタンガスやプロパン
ガスを添加し、該添加したメタンガスやプロパンガスの
直接分解により生じた炭素が鋼材料に侵入するものと考
えられているが、該鋼材料表面の炭素濃度が固溶限まで
増加し、煤が多く発生し、また、炉内メンテナンスに時
間及び費用がかかり、特殊用途以外には使用できず、汎
用性に欠け、さらに、前記ガス浸炭法に比べて炉内雰囲
気の炭素ポテンシャル制御が困難であると言う問題が残
されている。また、プラズマ浸炭法は、生産性に問題が
残されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記浸炭リ
ードタイムの短縮とトータルエネルギーの削減を図った
経済的な浸炭処理方法及びその装置を提供することを目
的とする。
ードタイムの短縮とトータルエネルギーの削減を図った
経済的な浸炭処理方法及びその装置を提供することを目
的とする。
【０００６】
【問題を解決しようとする手段】前記目的を達成するた
め、請求項１に示す浸炭処理方法は、炉内雰囲気を炭素
固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持して浸炭処理を
行うことを特徴とする。この請求項１に示す方法の発明
によれば、浸炭リードタイムの短縮及びトータルエネル
ギーを削減することができる。
め、請求項１に示す浸炭処理方法は、炉内雰囲気を炭素
固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持して浸炭処理を
行うことを特徴とする。この請求項１に示す方法の発明
によれば、浸炭リードタイムの短縮及びトータルエネル
ギーを削減することができる。
【０００７】請求項２に示す浸炭処理方法は、炉内雰囲
気を炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持及び炉
内を減圧して浸炭を行うことを特徴とする。
気を炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持及び炉
内を減圧して浸炭を行うことを特徴とする。
【０００８】この請求項２に示す方法の発明によれば、
浸炭リードタイムの短縮及びトータルエネルギーの削減
とともに、炉内の減圧により高炭素ポテンシャル雰囲気
を安定して得ることができ、さらにメンテナンスを要す
る煤の発生を防止できる。
浸炭リードタイムの短縮及びトータルエネルギーの削減
とともに、炉内の減圧により高炭素ポテンシャル雰囲気
を安定して得ることができ、さらにメンテナンスを要す
る煤の発生を防止できる。
【０００９】請求項３に示す方法の発明の実施の一形態
は、請求項１又は２の炭処理方法において、炉内圧力が
０．１〜１０１ｋＰａであることを特徴とする。すなわ
ち、０．１ｋＰａ未満に減圧した場合には浸炭能力が失
われ、１０１ｋＰａより大きい場合は大気圧に近く従来
のガス浸炭法と同様の問題を抱えることになるためであ
る。
は、請求項１又は２の炭処理方法において、炉内圧力が
０．１〜１０１ｋＰａであることを特徴とする。すなわ
ち、０．１ｋＰａ未満に減圧した場合には浸炭能力が失
われ、１０１ｋＰａより大きい場合は大気圧に近く従来
のガス浸炭法と同様の問題を抱えることになるためであ
る。
【００１０】請求項４に示す方法の発明の実施の一形態
は、炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャル雰囲気の維持
を、炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの炉内へ
の直接供給により行うことを特徴とする請求項１又は２
に記載の浸炭処理方法である。
は、炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャル雰囲気の維持
を、炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの炉内へ
の直接供給により行うことを特徴とする請求項１又は２
に記載の浸炭処理方法である。
【００１１】この請求項４に示す実施の一形態によれ
ば、前記従来真空浸炭法と異なり、炭化水素系ガスの他
に酸化性ガスを供給するため、炉内雰囲気の制御が可能
であり、炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポテンシ
ャルに維持することが容易である。また、従来のガス浸
炭法のように排ガスを燃焼処理することなく、減圧のた
め、真空ポンプにより大気中に排出することになるた
め、ＣＯ２ ガスの発生もなく、爆発の危険もない。さ
らに、さらに変成炉も不要であり、必要ガス量も少なく
てすみ、経済的である。
ば、前記従来真空浸炭法と異なり、炭化水素系ガスの他
に酸化性ガスを供給するため、炉内雰囲気の制御が可能
であり、炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポテンシ
ャルに維持することが容易である。また、従来のガス浸
炭法のように排ガスを燃焼処理することなく、減圧のた
め、真空ポンプにより大気中に排出することになるた
め、ＣＯ２ ガスの発生もなく、爆発の危険もない。さ
らに、さらに変成炉も不要であり、必要ガス量も少なく
てすみ、経済的である。
【００１２】なお、前記方法の発明では、炭化水素系ガ
スとして、Ｃ３ Ｈ８ 、Ｃ３ Ｈ６、Ｃ４ Ｈ１０、Ｃ２
Ｈ２ 、Ｃ２ Ｈ４ 、Ｃ２ Ｈ６ 、ＣＨ４ ガス等の一
種又は２種以上が使用され（請求項５）、酸化性ガスと
して、空気、Ｏ２ 、あるいはＣＯ２ ガス等の酸化性ガ
ス（請求項６）が使用される。
スとして、Ｃ３ Ｈ８ 、Ｃ３ Ｈ６、Ｃ４ Ｈ１０、Ｃ２
Ｈ２ 、Ｃ２ Ｈ４ 、Ｃ２ Ｈ６ 、ＣＨ４ ガス等の一
種又は２種以上が使用され（請求項５）、酸化性ガスと
して、空気、Ｏ２ 、あるいはＣＯ２ ガス等の酸化性ガ
ス（請求項６）が使用される。
【００１３】また、前記方法の発明では、炉内雰囲気の
炭素ポテンシャルの制御が、炭化水素系ガス及び／ある
いは酸化性ガスの供給量の制御によって行われ、該炭化
水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの供給量の制御
が、炉内雰囲気の各種成分の測定により行われる（請求
項７及び８）。
炭素ポテンシャルの制御が、炭化水素系ガス及び／ある
いは酸化性ガスの供給量の制御によって行われ、該炭化
水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの供給量の制御
が、炉内雰囲気の各種成分の測定により行われる（請求
項７及び８）。
【００１４】請求項９に示す浸炭処理装置は、炭化水素
系ガス供給部、酸化性ガス供給部及び炉内減圧用の真空
ポンプを有することを特徴とする。この請求項９に示す
装置の発明によれば、前記方法の発明を効率よく実施で
きる。なお、従来のガス浸炭炉には真空ポンプは用いら
れることがなく、また、真空浸炭炉には、酸化性ガス供
給部が不要かつ存在しない。
系ガス供給部、酸化性ガス供給部及び炉内減圧用の真空
ポンプを有することを特徴とする。この請求項９に示す
装置の発明によれば、前記方法の発明を効率よく実施で
きる。なお、従来のガス浸炭炉には真空ポンプは用いら
れることがなく、また、真空浸炭炉には、酸化性ガス供
給部が不要かつ存在しない。
【００１５】請求項１０に示す装置の発明の実施の一形
態は、請求項９に示す浸炭処理装置が、炉内雰囲気分析
装置及び圧力計を有することを特徴とする。この請求項
１０によれば、炉内雰囲気制御及び炉内減圧制御を正確
に行うことができ、前記方法の発明を有効に実施でき
る。
態は、請求項９に示す浸炭処理装置が、炉内雰囲気分析
装置及び圧力計を有することを特徴とする。この請求項
１０によれば、炉内雰囲気制御及び炉内減圧制御を正確
に行うことができ、前記方法の発明を有効に実施でき
る。
【００１６】請求項１１に示す装置の発明の実施の一形
態は、請求項１０に示す浸炭処理装置に、さらに炉内雰
囲気分析装置の分析値に基づいて炭素ポテンシャルを演
算する演算装置、該演算装置の演算値に基づいて炭化水
素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの供給量を調節する
調節計及び熱電対を加えたことを特徴とする。この請求
項１１によれば、炉内に供給する炭化水素系ガス及び／
あるいは酸化性ガスの自動供給が可能であり、また、炉
内温度制御が可能である。
態は、請求項１０に示す浸炭処理装置に、さらに炉内雰
囲気分析装置の分析値に基づいて炭素ポテンシャルを演
算する演算装置、該演算装置の演算値に基づいて炭化水
素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの供給量を調節する
調節計及び熱電対を加えたことを特徴とする。この請求
項１１によれば、炉内に供給する炭化水素系ガス及び／
あるいは酸化性ガスの自動供給が可能であり、また、炉
内温度制御が可能である。
【００１７】なを、前記装置の発明では、炉内雰囲気分
析装置として各種のガス濃度計（請求項１２）が用いら
れる。
析装置として各種のガス濃度計（請求項１２）が用いら
れる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の一形態を
図面に基づいて説明する。図１は、本発明の方法を実施
するに適した浸炭炉の説明図である。図中、１は炉殻、
２は低放散熱量かつ低蓄熱量のセラミックファイバ等か
らなる断熱材、３は雰囲気攪拌用ファン、４は加熱ヒー
ター、５は炉内温度制御のための熱電対、６は炉内減圧
制御用の圧力計、７は炉内雰囲気サンプリング装置、８
は炉内雰囲気分析装置、例えば、ＣＯガス分圧あるいは
ＣＯガス濃度計、９も炉内雰囲気分析装置、例えば、Ｃ
Ｏ２ガス分圧あるいはＣＯ２ ガス濃度計、３０も炉内
雰囲気分析装置、例えば、Ｏ２ ガス分圧あるいはＯ２
ガス濃度計、１０は炭化水素系ガス供給部１０ａに設け
られ、炭化水素系ガスの炉内供給量を制御するマスフロ
ーコントローラー、１１は酸化性ガス供給部１１ａに設
けられ、酸化性ガスの炉内供給量を制御するマスフロー
コントローラー、１２は炉内減圧用の真空ポンプ、１３
は炭素ポテンシャル演算装置、１４は、前記演算装置１
３からの演算値に基づいて前記マスフローコントローラ
ー１０，１１に、それぞれ調節信号を送る調節計であ
る。
図面に基づいて説明する。図１は、本発明の方法を実施
するに適した浸炭炉の説明図である。図中、１は炉殻、
２は低放散熱量かつ低蓄熱量のセラミックファイバ等か
らなる断熱材、３は雰囲気攪拌用ファン、４は加熱ヒー
ター、５は炉内温度制御のための熱電対、６は炉内減圧
制御用の圧力計、７は炉内雰囲気サンプリング装置、８
は炉内雰囲気分析装置、例えば、ＣＯガス分圧あるいは
ＣＯガス濃度計、９も炉内雰囲気分析装置、例えば、Ｃ
Ｏ２ガス分圧あるいはＣＯ２ ガス濃度計、３０も炉内
雰囲気分析装置、例えば、Ｏ２ ガス分圧あるいはＯ２
ガス濃度計、１０は炭化水素系ガス供給部１０ａに設け
られ、炭化水素系ガスの炉内供給量を制御するマスフロ
ーコントローラー、１１は酸化性ガス供給部１１ａに設
けられ、酸化性ガスの炉内供給量を制御するマスフロー
コントローラー、１２は炉内減圧用の真空ポンプ、１３
は炭素ポテンシャル演算装置、１４は、前記演算装置１
３からの演算値に基づいて前記マスフローコントローラ
ー１０，１１に、それぞれ調節信号を送る調節計であ
る。
【００１９】前記構成の浸炭炉において、炉内の減圧調
整（請求項２）は、前記圧力計６及び真空ポンプ１２に
よる炉内雰囲気の排気制御により行なわれる。また、炉
内雰囲気の炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルの制御
（請求項４）は、炉内雰囲気分析装置の一例の、例え
ば、前記ＣＯガス分圧あるいはＣＯガス濃度計８、ＣＯ
２ガス分圧あるいはＣＯ２ ガス濃度計９及びＯ２ ガス
分圧あるいはＯ２ ガス濃度計３０の分析値を、前記炭
素ポテンシャル演算装置１３に導入し、得られた演算値
に基づいて、調節信号を発する前記調節計１４によっ
て、前記炭化水素系ガスの供給量を制御する前記マスフ
ローコントローラー１０及び酸化性ガスの供給量を制御
する前記マスフローコントローラー１１が制御され、前
記炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの炉内供給
量が調整されて行なわれる。
整（請求項２）は、前記圧力計６及び真空ポンプ１２に
よる炉内雰囲気の排気制御により行なわれる。また、炉
内雰囲気の炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルの制御
（請求項４）は、炉内雰囲気分析装置の一例の、例え
ば、前記ＣＯガス分圧あるいはＣＯガス濃度計８、ＣＯ
２ガス分圧あるいはＣＯ２ ガス濃度計９及びＯ２ ガス
分圧あるいはＯ２ ガス濃度計３０の分析値を、前記炭
素ポテンシャル演算装置１３に導入し、得られた演算値
に基づいて、調節信号を発する前記調節計１４によっ
て、前記炭化水素系ガスの供給量を制御する前記マスフ
ローコントローラー１０及び酸化性ガスの供給量を制御
する前記マスフローコントローラー１１が制御され、前
記炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの炉内供給
量が調整されて行なわれる。
【００２０】もっとも、前記炉内雰囲気を炭素固溶限直
下の高炭素ポテンシャルに維持するために炉内に直接供
給する炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの供給
量を制御するための炉内雰囲気分析は、その他、Ｈ２
ガス分圧あるいはＨ２ ガス濃度計、Ｈ２ Ｏ分圧あるい
は露点の測定、ＣＨ４ ガス分圧あるいはＣＨ４ ガス濃
度計等により行ってもよい（請求項７，８，１２）。
下の高炭素ポテンシャルに維持するために炉内に直接供
給する炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガスの供給
量を制御するための炉内雰囲気分析は、その他、Ｈ２
ガス分圧あるいはＨ２ ガス濃度計、Ｈ２ Ｏ分圧あるい
は露点の測定、ＣＨ４ ガス分圧あるいはＣＨ４ ガス濃
度計等により行ってもよい（請求項７，８，１２）。
【００２１】図２は、本発明を方法を実施するに適した
浸炭焼入れ装置の平面配置図である。図中、１５は装入
扉、１６は搬送室、１７は浸炭室、１８はガス冷却室、
１９は油焼入れ室、２０は取出し扉、２１ａ，２１ｂ及
び２１ｃはそれぞれ仕切り扉である。
浸炭焼入れ装置の平面配置図である。図中、１５は装入
扉、１６は搬送室、１７は浸炭室、１８はガス冷却室、
１９は油焼入れ室、２０は取出し扉、２１ａ，２１ｂ及
び２１ｃはそれぞれ仕切り扉である。
【００２２】前記浸炭焼入れ装置において、初期状態
は、前記装入扉１５、取出し扉２０及び前記仕切り扉２
１ａ，２１ｂ及び２１ｃは、それぞれ閉じられている。
また、浸炭室１７は、焼入れ温度に加熱保持され、圧力
は０．１ｋＰａ以下に制御されている。同様に、焼入れ
室１９も０．１ｋＰａ以下の圧力に制御され、該焼入れ
室１９内の焼入れ油は鋼材料の焼入れ時の温度に加熱さ
れている。また、前記搬送室１６は大気圧となってい
る。
は、前記装入扉１５、取出し扉２０及び前記仕切り扉２
１ａ，２１ｂ及び２１ｃは、それぞれ閉じられている。
また、浸炭室１７は、焼入れ温度に加熱保持され、圧力
は０．１ｋＰａ以下に制御されている。同様に、焼入れ
室１９も０．１ｋＰａ以下の圧力に制御され、該焼入れ
室１９内の焼入れ油は鋼材料の焼入れ時の温度に加熱さ
れている。また、前記搬送室１６は大気圧となってい
る。
【００２３】まず、前記装入扉１５が開かれ、鋼材料が
前記搬送室１６内に装入され、前記装入扉１５を閉じ
て、前記搬送室１６内が０．１ｋＰａ以下に減圧され
る。その後、前記搬送室１６と前記浸炭室１７間の仕切
り扉２１ａが開かれ、鋼材料が前記浸炭炉１７に搬送さ
れて前記仕切り扉２１ａが閉じられる。なお、前記鋼材
料の搬送装置は、図示しないが、前記搬送室１６と前記
油焼入れ室１９はモーター駆動のチェーン、前記浸炭室
１７はローラーハースとされた。
前記搬送室１６内に装入され、前記装入扉１５を閉じ
て、前記搬送室１６内が０．１ｋＰａ以下に減圧され
る。その後、前記搬送室１６と前記浸炭室１７間の仕切
り扉２１ａが開かれ、鋼材料が前記浸炭炉１７に搬送さ
れて前記仕切り扉２１ａが閉じられる。なお、前記鋼材
料の搬送装置は、図示しないが、前記搬送室１６と前記
油焼入れ室１９はモーター駆動のチェーン、前記浸炭室
１７はローラーハースとされた。
【００２４】前記仕切り扉２１ａを閉じた後、前記浸炭
室１７がＮ２ ガスにより、所定圧力、例えば、１００
ｋＰａに復圧され、同時に浸炭温度に昇温され、該浸炭
温度に昇温後３０分保持した後、前記Ｎ２ ガスを排出
し、前記浸炭室１７内が０．１ｋＰａ以下に減圧され
る。
室１７がＮ２ ガスにより、所定圧力、例えば、１００
ｋＰａに復圧され、同時に浸炭温度に昇温され、該浸炭
温度に昇温後３０分保持した後、前記Ｎ２ ガスを排出
し、前記浸炭室１７内が０．１ｋＰａ以下に減圧され
る。
【００２５】その後、前記浸炭室１７に炭化水素系ガス
と酸化性ガスをパージラインを用いて所定量供給して浸
炭圧力まで復圧させる。浸炭圧力に到達後は、制御ライ
ンを用いてＣＯ２ 分圧あるいはＣＯ２ 濃度の測定デー
タをもとに演算した結果により炭化水素系ガス及び／あ
るいは酸化性ガスの供給量が制御される。なお、この際
の炭素ポテンシャルは、浸炭温度で決まる炭素固溶限を
参考にして煤が発生しない範囲で設定される。
と酸化性ガスをパージラインを用いて所定量供給して浸
炭圧力まで復圧させる。浸炭圧力に到達後は、制御ライ
ンを用いてＣＯ２ 分圧あるいはＣＯ２ 濃度の測定デー
タをもとに演算した結果により炭化水素系ガス及び／あ
るいは酸化性ガスの供給量が制御される。なお、この際
の炭素ポテンシャルは、浸炭温度で決まる炭素固溶限を
参考にして煤が発生しない範囲で設定される。
【００２６】所定時間の浸炭処理後、前記浸炭室１７へ
の炭化水素系ガスと酸化性ガスの供給を止め、さらに浸
炭室１７内の排気を行ない、鋼材料を減圧中に保持して
表面炭素濃度を調整する。そして、焼入れ温度に前記浸
炭室１７の温度が下げられ、前記仕切り扉２１ａが開か
れ、さらに前記搬送室１６と焼入れ室１９間の仕切り扉
２１ｃが開かれて、減圧下、鋼材料が前記搬送室１６を
経由して前記焼入れ室に１９に搬送され、油焼き入れが
行なわれ、焼入れ終了後、前記取出し扉２０から鋼材料
が取り出される。なお、表面炭素濃度の調整と焼入れ温
度への温度制御は同時に行うことも可能である。
の炭化水素系ガスと酸化性ガスの供給を止め、さらに浸
炭室１７内の排気を行ない、鋼材料を減圧中に保持して
表面炭素濃度を調整する。そして、焼入れ温度に前記浸
炭室１７の温度が下げられ、前記仕切り扉２１ａが開か
れ、さらに前記搬送室１６と焼入れ室１９間の仕切り扉
２１ｃが開かれて、減圧下、鋼材料が前記搬送室１６を
経由して前記焼入れ室に１９に搬送され、油焼き入れが
行なわれ、焼入れ終了後、前記取出し扉２０から鋼材料
が取り出される。なお、表面炭素濃度の調整と焼入れ温
度への温度制御は同時に行うことも可能である。
【００２７】また、結晶粒の調整が必要となる高温浸炭
（１０５０℃）の場合には、浸炭処理後の表面炭素濃度
調整後に、前記搬送室１６及び前記仕切り扉２１ｂを経
由して前記ガス冷却室１８に鋼材料を搬送し、Ｎ２ ガ
スで所定圧力（例えば１００ｋＰａ）に復圧後、冷却
し、その後、Ｎ２ ガスを排出、圧力を１ｋＰａ以下に
減圧して、減圧下、前記搬送室１６を経由して、再び前
記浸炭室１７に戻して再加熱温度に昇温加熱する。
（１０５０℃）の場合には、浸炭処理後の表面炭素濃度
調整後に、前記搬送室１６及び前記仕切り扉２１ｂを経
由して前記ガス冷却室１８に鋼材料を搬送し、Ｎ２ ガ
スで所定圧力（例えば１００ｋＰａ）に復圧後、冷却
し、その後、Ｎ２ ガスを排出、圧力を１ｋＰａ以下に
減圧して、減圧下、前記搬送室１６を経由して、再び前
記浸炭室１７に戻して再加熱温度に昇温加熱する。
【００２８】さらに前記浸炭室１７において再加熱温度
に昇温及び３０分間保持し、Ｎ２ガスを排出、圧力を１
ｋＰａ以下に減圧して、減圧下、前記搬送室１６を経由
して前記焼入れ室１９に鋼材料を搬送し、油焼入れが行
なわれ、焼入れ終了後、前記取出し扉２０から鋼材料が
取り出される。
に昇温及び３０分間保持し、Ｎ２ガスを排出、圧力を１
ｋＰａ以下に減圧して、減圧下、前記搬送室１６を経由
して前記焼入れ室１９に鋼材料を搬送し、油焼入れが行
なわれ、焼入れ終了後、前記取出し扉２０から鋼材料が
取り出される。
【００２９】
【実施例１】鋼材料として、ＳＣＭ４２０、Φ２０ｍ
ｍ、長さ４０ｍｍの試片を、温度：９５０℃、圧力：
０．１ｋＰａ以下に制御した前記浸炭室１７内の９地点
（炉内コーナー部上下及び炉中央部）に配置し、その
後、Ｎ２ ガスにて室内を１００ｋＰａに復圧、９５０
℃に昇温加熱した。
ｍ、長さ４０ｍｍの試片を、温度：９５０℃、圧力：
０．１ｋＰａ以下に制御した前記浸炭室１７内の９地点
（炉内コーナー部上下及び炉中央部）に配置し、その
後、Ｎ２ ガスにて室内を１００ｋＰａに復圧、９５０
℃に昇温加熱した。
【００３０】つぎに、前記室内圧力１００ｋＰａ及び前
記室内温度９５０℃に３０分保持した後、浸炭室１７内
の圧力を排気により０．１ｋＰａ以下とし、さらにＣ３
Ｈ ８ ガスとＣＯ２ ガスをそれぞれ３．５Ｌ／ｍｉｎ
供給して室内圧力を１．７ｋＰａとした。
記室内温度９５０℃に３０分保持した後、浸炭室１７内
の圧力を排気により０．１ｋＰａ以下とし、さらにＣ３
Ｈ ８ ガスとＣＯ２ ガスをそれぞれ３．５Ｌ／ｍｉｎ
供給して室内圧力を１．７ｋＰａとした。
【００３１】つぎに、前記室内圧力１．７ｋＰａを保持
しつつ、前記Ｃ３ Ｈ８ ガス及び／あるいはＣＯ２ ガ
スの供給量を変化させて炭素ポテンシャルを１．２５％
に制御して９５０℃に５７分間保持した。
しつつ、前記Ｃ３ Ｈ８ ガス及び／あるいはＣＯ２ ガ
スの供給量を変化させて炭素ポテンシャルを１．２５％
に制御して９５０℃に５７分間保持した。
【００３２】その後、Ｃ３ Ｈ８ ガスとＣＯ２ ガスの
供給を止め、排気により室内圧力を０．１ｋＰａ以下と
し、３７分間保持し、続く３０分間で温度を８７０℃ま
で下げて前記鋼材料を前記搬送室１６を経由して前記焼
入れ室１９に搬送して油焼入れを行なった。
供給を止め、排気により室内圧力を０．１ｋＰａ以下と
し、３７分間保持し、続く３０分間で温度を８７０℃ま
で下げて前記鋼材料を前記搬送室１６を経由して前記焼
入れ室１９に搬送して油焼入れを行なった。
【００３３】前記浸炭焼入れ処理を完了した前記室内９
地点に配置された鋼材料表面部の平均炭素濃度分布を図
３に示す。その結果は、有効浸炭深さ（０．３６％Ｃ）
が０．７ｍｍであり、適正な値であった。また、前記鋼
材料の組織写真を図４に示す。
地点に配置された鋼材料表面部の平均炭素濃度分布を図
３に示す。その結果は、有効浸炭深さ（０．３６％Ｃ）
が０．７ｍｍであり、適正な値であった。また、前記鋼
材料の組織写真を図４に示す。
【００３４】該図４に示した写真を観察すると、前記鋼
材料の表面には、何ら異常層の発生は認められなかっ
た。
材料の表面には、何ら異常層の発生は認められなかっ
た。
【００３５】前記本発明実施例１と、従来のエンドサー
ミックガスを用いたガス浸炭との浸炭リードタイムを比
較したところ、前記本発明実施例１が９４分であるのに
対し、従来のエンドサーミックガスを用いたガス浸炭の
場合は１１８分となり、約２０％の時間短縮となった。
ミックガスを用いたガス浸炭との浸炭リードタイムを比
較したところ、前記本発明実施例１が９４分であるのに
対し、従来のエンドサーミックガスを用いたガス浸炭の
場合は１１８分となり、約２０％の時間短縮となった。
【００３６】前記本発明実施例１によれば、従来のエン
ドサーミックガスを用いたガス浸炭に比べ、短時間で必
要とする深さの浸炭処理層を得ることができ、トータル
エネルギーも削減でき、経済的である。さらに煤の発生
もなく、しかも鋼材料の炉内配置位置の制約も受けず、
ばらつきの小さい浸炭処理層を得ることが確認された。
ドサーミックガスを用いたガス浸炭に比べ、短時間で必
要とする深さの浸炭処理層を得ることができ、トータル
エネルギーも削減でき、経済的である。さらに煤の発生
もなく、しかも鋼材料の炉内配置位置の制約も受けず、
ばらつきの小さい浸炭処理層を得ることが確認された。
【００３７】
【実施例２】高温浸炭の実施例である。すなわち、鋼材
料の材質、形状及び重量を前記実施例１と同じにして、
温度：１０５０℃、圧力：０．１ｋＰａ以下に制御した
前記浸炭室１７内の９地点に配置し、その後、Ｎ２ ガ
スにて室内を１００ｋＰａに復圧、１０５０℃に昇温加
熱した。
料の材質、形状及び重量を前記実施例１と同じにして、
温度：１０５０℃、圧力：０．１ｋＰａ以下に制御した
前記浸炭室１７内の９地点に配置し、その後、Ｎ２ ガ
スにて室内を１００ｋＰａに復圧、１０５０℃に昇温加
熱した。
【００３８】つぎに、前記室内圧力１００ｋＰａ及び室
内温度１０５０℃に３０分保持した後、浸炭室１７の室
内圧力を排気により０．１ｋＰａ以下とし、さらにＣ３
Ｈ ８ ガスとＣＯ２ ガスをそれぞれ１４Ｌ／ｍｉｎ供
給して室内圧力を１．７ｋＰａとした。
内温度１０５０℃に３０分保持した後、浸炭室１７の室
内圧力を排気により０．１ｋＰａ以下とし、さらにＣ３
Ｈ ８ ガスとＣＯ２ ガスをそれぞれ１４Ｌ／ｍｉｎ供
給して室内圧力を１．７ｋＰａとした。
【００３９】つぎに、前記室内圧力を１．７ｋＰａに保
持しつつ、ＣＯ２ ガスの供給量を定量の１０Ｌ／ｍｉ
ｎとし、Ｃ３ Ｈ８ ガスの供給量を変えて炭素ポテンシ
ャルを１．４％に制御して１０５０℃に１６分間保持し
た。
持しつつ、ＣＯ２ ガスの供給量を定量の１０Ｌ／ｍｉ
ｎとし、Ｃ３ Ｈ８ ガスの供給量を変えて炭素ポテンシ
ャルを１．４％に制御して１０５０℃に１６分間保持し
た。
【００４０】その後、Ｃ３ Ｈ８ ガスとＣＯ２ ガスの
供給を止め、排気により室内圧力を０．１ｋＰａ以下と
し、１６分間保持し、鋼材料の結晶粒の粗大化を調整す
るため、該鋼材料の冷却、再加熱を行なった。
供給を止め、排気により室内圧力を０．１ｋＰａ以下と
し、１６分間保持し、鋼材料の結晶粒の粗大化を調整す
るため、該鋼材料の冷却、再加熱を行なった。
【００４１】前記鋼材料の冷却、再加熱は、前記浸炭室
１７から搬送室１６を経由して前記ガス冷却室１８に前
記鋼材料を搬送し、Ｎ２ ガスで前記ガス冷却室１８内
を１００ｋＰａに復圧して１５分間冷却し、その後、Ｎ
２ ガスを排気して前記ガス冷却室内圧力を０．１ｋＰ
ａ以下として前記搬送室１６を経由して再び前記浸炭室
１７に搬送し、Ｎ２ ガス、１００ｋＰａのもとで昇温
加熱し、３０分保持した後、排気により浸炭室１７の室
内圧力を０．１ｋＰａ以下とし、前記搬送室１６を経由
して前記焼入れ室１９に搬送して油焼入れを行なった。
１７から搬送室１６を経由して前記ガス冷却室１８に前
記鋼材料を搬送し、Ｎ２ ガスで前記ガス冷却室１８内
を１００ｋＰａに復圧して１５分間冷却し、その後、Ｎ
２ ガスを排気して前記ガス冷却室内圧力を０．１ｋＰ
ａ以下として前記搬送室１６を経由して再び前記浸炭室
１７に搬送し、Ｎ２ ガス、１００ｋＰａのもとで昇温
加熱し、３０分保持した後、排気により浸炭室１７の室
内圧力を０．１ｋＰａ以下とし、前記搬送室１６を経由
して前記焼入れ室１９に搬送して油焼入れを行なった。
【００４２】前記浸炭焼入れ処理を完了した前記室内９
地点に配置された鋼材料表面の平均炭素濃度分布を図５
に示す．その結果は、有効浸炭深さ（０．３６％Ｃ）が
０．７３ｍｍであり適正な値であった。また、前記鋼材
料の組織写真を図６に示す。該図６に示した写真を観察
すると、前記鋼材料の表面には、何ら異常層の発生は認
められなかった。なお、結晶粒写真の一例を図７に示
す。結晶粒度は＃９で適正な値であった。
地点に配置された鋼材料表面の平均炭素濃度分布を図５
に示す．その結果は、有効浸炭深さ（０．３６％Ｃ）が
０．７３ｍｍであり適正な値であった。また、前記鋼材
料の組織写真を図６に示す。該図６に示した写真を観察
すると、前記鋼材料の表面には、何ら異常層の発生は認
められなかった。なお、結晶粒写真の一例を図７に示
す。結晶粒度は＃９で適正な値であった。
【００４３】前記本発明実施例２の浸炭リードタイム
は、処理温度を高温の１０５０℃としたこと及び炭素ポ
テンシャルを１．４％にしたことにより、大幅に短縮さ
れ、従来のエンドサーミックガスを用いたガス浸炭と比
較すると、約７３％の時間短縮となった。
は、処理温度を高温の１０５０℃としたこと及び炭素ポ
テンシャルを１．４％にしたことにより、大幅に短縮さ
れ、従来のエンドサーミックガスを用いたガス浸炭と比
較すると、約７３％の時間短縮となった。
【００４４】前記本発明実施例２によれば、従来のエン
ドサーミックガスを用いたガス浸炭に比べ、きわめて短
時間に必要とする深さの浸炭処理層を得ることができ、
トータルエネルギーも削減でき、さらに煤の発生もな
く、しかも鋼材料の炉内配置位置の制約をも受けず、ば
らつきの小さい浸炭処理層を得ることが確認された。
ドサーミックガスを用いたガス浸炭に比べ、きわめて短
時間に必要とする深さの浸炭処理層を得ることができ、
トータルエネルギーも削減でき、さらに煤の発生もな
く、しかも鋼材料の炉内配置位置の制約をも受けず、ば
らつきの小さい浸炭処理層を得ることが確認された。
【００４５】
【実施例３】前記実施例１の浸炭圧力を変更した実施例
である。すなわち、鋼材料の材質、形状及び重量を前記
実施例１と同じにして、室内温度：９５０℃、室内圧
力：０．１ｋＰａ以下に制御した前記浸炭室１７内の９
地点に配置し、その後、Ｎ２ガスにて１００ｋＰａに復
圧、９５０℃に昇温加熱した。
である。すなわち、鋼材料の材質、形状及び重量を前記
実施例１と同じにして、室内温度：９５０℃、室内圧
力：０．１ｋＰａ以下に制御した前記浸炭室１７内の９
地点に配置し、その後、Ｎ２ガスにて１００ｋＰａに復
圧、９５０℃に昇温加熱した。
【００４６】つぎに、前記室内圧力１００ｋＰａ及び前
記室内温度９５０℃に３０分保持した後、浸炭室１７の
室内圧力を排気により０．１ｋＰａ以下とし、さらにＣ
３Ｈ８ガスとＣＯ２ ガスをそれぞれ１５Ｌ／ｍｉｎ供
給して室内圧力を１００ｋＰａとした。
記室内温度９５０℃に３０分保持した後、浸炭室１７の
室内圧力を排気により０．１ｋＰａ以下とし、さらにＣ
３Ｈ８ガスとＣＯ２ ガスをそれぞれ１５Ｌ／ｍｉｎ供
給して室内圧力を１００ｋＰａとした。
【００４７】つぎに、前記室内圧力１００ｋＰａを保持
しつつ、前記Ｃ３ Ｈ８ ガス及び／あるいはＣＯ２ ガ
スの供給量を変化させ、炭素ポテンシャルを１．２５％
に制御して９５０℃に５７分間保持した。
しつつ、前記Ｃ３ Ｈ８ ガス及び／あるいはＣＯ２ ガ
スの供給量を変化させ、炭素ポテンシャルを１．２５％
に制御して９５０℃に５７分間保持した。
【００４８】その後、Ｃ３ Ｈ８ ガスとＣＯ２ ガスの
供給を止め、排気により室内圧力を０．１ｋＰａ以下と
し、３７分間保持し、続く３０分間で温度を８７０℃ま
で下げて前記鋼材料を前記搬送室１６を介して前記焼入
れ室１９に搬送して油焼入れを行なった。
供給を止め、排気により室内圧力を０．１ｋＰａ以下と
し、３７分間保持し、続く３０分間で温度を８７０℃ま
で下げて前記鋼材料を前記搬送室１６を介して前記焼入
れ室１９に搬送して油焼入れを行なった。
【００４９】前記浸炭焼入れ処理を完了した鋼材料表面
の有効浸炭深さ（０．３６％Ｃ）が０．７２％であり、
適正な値であり、また、煤の発生もなかった。
の有効浸炭深さ（０．３６％Ｃ）が０．７２％であり、
適正な値であり、また、煤の発生もなかった。
【００５０】
【発明の効果】本発明によれば、従来のエンドサーミッ
クガスを用いたガス浸炭に比べて、浸炭リードタイムを
短縮でき、トータルエネルギーも削減でき、経済的であ
り、また、減圧下における炉内雰囲気の炭素ポテンシャ
ル制御が可能であり、したがって、炭化水素系ガスの直
接分解による炭素の鋼材料への侵入を制限することがで
き、煤の発生もなく、適正な値の浸炭処理層を得ること
ができる。
クガスを用いたガス浸炭に比べて、浸炭リードタイムを
短縮でき、トータルエネルギーも削減でき、経済的であ
り、また、減圧下における炉内雰囲気の炭素ポテンシャ
ル制御が可能であり、したがって、炭化水素系ガスの直
接分解による炭素の鋼材料への侵入を制限することがで
き、煤の発生もなく、適正な値の浸炭処理層を得ること
ができる。
【図１】本発明の方法を実施するに適した浸炭炉の説明
図である。
図である。
【図２】本発明の方法を実施するに適した浸炭焼入れ装
置の平面配置図である。
置の平面配置図である。
【図３】実施例１の処理済鋼材料の平均炭素濃度分布図
である。
である。
【図４】実施例１の処理済鋼材料の組織写真である。
【図５】実施例２の処理済鋼材料の平均炭素濃度分布図
である。
である。
【図６】実施例２の処理済鋼材料の組織写真である。
【図７】実施例２の処理済鋼材料の結晶粒写真である。
５ 熱電対 ６ 圧力計 ８ 炉内雰囲気分析計 １０ （炭化水素系ガスの供給量制御用）マスフロー
コントローラー １０ａ 炭化水素系ガス供給部 １１ （酸化性ガスの供給量制御用）マスフローコン
トローラー １１ａ 酸化性ガス供給部 １２ 真空ポンプ １３ 炭素ポテンシャル演算装置 １４ 調節計 １７ 浸炭室
コントローラー １０ａ 炭化水素系ガス供給部 １１ （酸化性ガスの供給量制御用）マスフローコン
トローラー １１ａ 酸化性ガス供給部 １２ 真空ポンプ １３ 炭素ポテンシャル演算装置 １４ 調節計 １７ 浸炭室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 虻川 文隆 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内 (72)発明者 横瀬 敬二 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内 (72)発明者 十良澤英寿 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポ
テンシャルに維持して浸炭を行うことを特徴とする浸炭
処理方法。 - 【請求項２】 炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポ
テンシャルに維持及び炉内を減圧して浸炭を行うことを
特徴とする浸炭処理方法。 - 【請求項３】 炉内圧力が０．１〜１０１ｋＰａである
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の浸炭処理方
法。 - 【請求項４】 炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャル雰
囲気の維持を、炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガ
スの炉内への直接供給により行うことを特徴とする請求
項１又は２に記載の浸炭処理方法。 - 【請求項５】 炭化水素系ガスが、Ｃ３ Ｈ８ 、Ｃ３
Ｈ６ 、Ｃ４ Ｈ１０、Ｃ２ Ｈ２ 、Ｃ２ Ｈ４ 、Ｃ２
Ｈ６ 、ＣＨ４ ガスのうちの１種又は２種以上であるこ
とを特徴とする請求項４に記載の浸炭処理方法。 - 【請求項６】 酸化性ガスが、空気、Ｏ２ ガス、ある
いはＣＯ２ ガスであることを特徴とする請求項４に記
載の浸炭処理方法。 - 【請求項７】 炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャル雰
囲気を維持する炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガ
スの供給量の制御を、炉内雰囲気のＣＯガス、ＣＯ２
ガス、Ｏ２ ガス、Ｈ２ ガス、Ｈ２ Ｏ又はＣＨ４ ガス
のうちの少なくとも１種のガス分圧の測定により行なう
ことを特徴とする請求項４に記載の浸炭処理方法。 - 【請求項８】 炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャル雰
囲気を維持する炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性ガ
スの供給量の制御を、炉内雰囲気のＣＯガス、ＣＯ２
ガス、Ｏ２ ガス、Ｈ２ ガス、Ｈ２ Ｏ又はＣＨ４ ガス
のうちの少なくとも１種のガス濃度の測定により行なう
ことを特徴とする請求項４に記載の浸炭処理方法。 - 【請求項９】 炭化水素系ガス供給部、酸化性ガス供給
部及び炉内減圧用の真空ポンプを有することを特徴とす
る浸炭処理装置。 - 【請求項１０】 炉内雰囲気分析装置及び圧力計を有す
ることを特徴とする請求項９に記載の浸炭処理装置。 - 【請求項１１】 炉内雰囲気分析装置の分析値に基づい
て炭素ポテンシャルを演算する演算装置、該演算装置の
演算値に基づいて炭化水素系ガス及び／あるいは酸化性
ガスの供給量を調節する調節計及び熱電対を有すること
を特徴とする請求項１０に記載の浸炭処理装置。 - 【請求項１２】 炉内雰囲気分析装置が、ＣＯガス濃度
計、ＣＯ２ ガス濃度計、Ｏ２ ガス濃度計、Ｈ２ ガス
濃度計、露点計又はＣＨ４ ガス濃度計のうちの少なく
とも１種であることを特徴とする請求項１０又は１１に
記載の浸炭処理装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001169636A JP5428032B2 (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | 浸炭処理方法 |
| US10/107,449 US7276204B2 (en) | 2001-06-05 | 2002-03-28 | Carburization treatment method and carburization treatment apparatus |
| EP10007118.2A EP2233601B1 (en) | 2001-06-05 | 2002-05-31 | Carburization treatment method |
| EP02253876A EP1264914B1 (en) | 2001-06-05 | 2002-05-31 | A carburising method and an apparatus therefor |
| DE60237059T DE60237059D1 (de) | 2001-06-05 | 2002-05-31 | Verfahren und Vorrichtung zum Aufkohlen |
| KR1020020031353A KR100871241B1 (ko) | 2001-06-05 | 2002-06-04 | 침탄 처리 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001169636A JP5428032B2 (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | 浸炭処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002363727A true JP2002363727A (ja) | 2002-12-18 |
| JP5428032B2 JP5428032B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=19011684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001169636A Expired - Lifetime JP5428032B2 (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | 浸炭処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (2) | EP2233601B1 (ja) |
| JP (1) | JP5428032B2 (ja) |
| KR (1) | KR100871241B1 (ja) |
| DE (1) | DE60237059D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005163056A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Koyo Thermo System Kk | ガス浸炭方法 |
| JP2009185349A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Ihi Corp | 多室型熱処理炉 |
| JP7430472B2 (ja) | 2022-03-08 | 2024-02-13 | 中外炉工業株式会社 | 浸炭処理装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| MX2017000565A (es) * | 2017-01-13 | 2018-07-12 | Thyssenkrupp Presta De Mexico S A De C V | Proceso de carburizado a baja presión. |
| CN111593292B (zh) * | 2020-06-24 | 2023-07-14 | 南京高速齿轮制造有限公司 | 一种真空炉碳势动态检测装置及其检测方法 |
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| JPH01212748A (ja) * | 1988-02-18 | 1989-08-25 | Daido Steel Co Ltd | 鋼の迅速浸炭処理方法 |
| JPH0649621A (ja) * | 1991-08-21 | 1994-02-22 | Dowa Mining Co Ltd | 鋼の迅速浸炭法 |
| JPH09184057A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Dowa Mining Co Ltd | 金属の浸炭方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2233601A1 (en) | 2010-09-29 |
| EP1264914A2 (en) | 2002-12-11 |
| EP1264914B1 (en) | 2010-07-21 |
| JP5428032B2 (ja) | 2014-02-26 |
| KR100871241B1 (ko) | 2008-11-28 |
| EP2233601B1 (en) | 2014-07-30 |
| KR20020092837A (ko) | 2002-12-12 |
| EP1264914A3 (en) | 2003-06-04 |
| DE60237059D1 (de) | 2010-09-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A711 | Notification of change in applicant |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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