JPH04214852A - 窒化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は窒化装置に関し、詳しく
は被処理物を浸炭窒化ガス雰囲気中で保持して浸炭窒化
する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上記のような窒化装置としては従来から
バッチ炉が知られており、被処理物は該バッチ炉によっ
て次のようにして浸炭窒化されていた。すなわち、被処
理物をバッチ炉に投入すると共に、炉内に浸炭性ガスを
導入しておき、次に、炉内を被処理物の浸炭窒化に適し
た温度になるまで昇温した後、炉内を降温し、しかる後
、炉内に浸炭性ガスにＮＨ３　ガスを添加してなる浸炭
窒化ガスを導入し、該浸炭窒化ガスによって作られるガ
ス雰囲気中で被処理物を保持して浸炭窒化するものであ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかるに、被処理物を
バッチ炉で浸炭窒化処理することは作業効率が悪く、特
に被処理物を多量に浸炭窒化処理する場合には作業効率
が極めて悪いという問題があった。

【０００４】そこで、本発明者等は、浸炭窒化処理を連
続式に行なうため、被処理物を浸炭性ガス雰囲気中で加
熱する昇温ゾーンと、該昇温ゾーンで加熱された被処理
物を窒化性ガス雰囲気中で保持して窒化する窒化ゾーン
と、上記昇温ゾーンと窒化ゾーンとを被処理物が移送可
能に連通させる連通部と、該連通部を開閉する開閉扉と
を備えた窒化装置を考慮した。

【０００５】この窒化装置は次のようにして窒化処理す
るものである。すなわち、被処理物を昇温ゾーンに投入
すると共に該昇温ゾーンに浸炭性ガスを導入した後、該
昇温ゾーンを昇温し、次に開閉扉を開操作して連通部を
開放し、被処理物を昇温ゾーンから連通部を通って窒化
ゾーンに移送し、被処理物の移送が完了すると、開閉扉
を閉操作して連通部を閉鎖し、しかる後、窒化ゾーンに
浸炭窒化ガスを導入して被処理物を浸炭窒化ガス雰囲気
中で保持して浸炭窒化し、被処理物の窒化が完了すると
該被処理物を窒化ゾーンから外部例えば焼入れゾーンへ
搬出するものである。尚、この場合、窒化ゾーンの温度
は、浸炭窒化ガス中のＮＨ３　が適度に分解する温度つ
まり昇温ゾーンの温度よりも低い温度に設定されている
と共に、浸炭窒化時に窒化ゾーンに導入する浸炭窒化ガ
スは略一定量に設定されている。

【０００６】しかるに、昇温ゾーンで加熱した被処理物
を窒化ゾーンに移送するため開閉扉を開操作すると、連
通部を通って雰囲気ガスの流動が生じるため、窒化ゾー
ンに導入されていた浸炭窒化ガスひいてはＮＨ３　ガス
が昇温ゾーンに流入してしまう。そしてＮＨ３　ガスが
昇温ゾーンに流入すると、上記のように昇温ゾーンは窒
化ゾーンよりも高い温度に設定されておりＮＨ３　の分
解率が高いので、該昇温ゾーンにおいて［Ｎ］が発生す
る。この［Ｎ］によって昇温ゾーンの被処理物が部分的
に窒化されてしまい、次工程での浸炭窒化が完了した際
に、被処理物の表面層に拡散浸透した［Ｎ］の量にバラ
ツキが生じ、被処理物の品質が低下するという問題が発
生した。

【０００７】また、上記の窒化装置を用いて浸炭窒化を
繰り返すと、以下に説明するように、窒化ゾーンに残留
するＮＨ３　ガス量が次第に増加してしまう。すなわち
、例えば１番目の被処理物を窒化する際に窒化ゾーンに
導入される窒化性ガスのうちの一定量は、［Ｎ］とＨ２
　とに分解しないで残留ＮＨ３　ガスとして滞留する。 ところが、次に移送されてくる２番目の被処理物を浸炭
窒化する際にも、１番目の被処理物と同量の窒化性ガス
が導入されるので、そのうちの一定量は残留ＮＨ３　ガ
スとして滞留する。従って、２番目の被処理物の浸炭窒
化が完了した時点では１番目の被処理物の窒化が完了し
た時点よりも残留ＮＨ３　ガス量が多くなっている。従
って、上記のようなサイクルを繰り返すと、窒化ゾーン
に残留するＮＨ３　量は次第に増加するため、被処理物
の表面に拡散浸透する［Ｎ］の量が多くなり過ぎて被処
理物の品質に悪影響が生じるという問題が発生した。こ
れに対して、残留ＮＨ３　ガスの量を検出する適当な手
段は存在しないのが実状であるため、窒化ゾーンに残留
するＮＨ３　ガス量を検出し、その検出量に応じて窒化
性ガスの量を調整することができない。

【０００８】上記に鑑みて、本発明は、被処理物の表面
槽に拡散浸透する［Ｎ］の量のバラツキに伴う被処理物
の品質の低下を招かないようにすることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項１の発明は、昇温ゾーンの浸炭性ガスを窒化
ゾーン側へ流出させておくことによって、昇温ゾーンか
ら窒化ゾーンにかけての気流を作り、窒化ゾーンに存在
する窒化性ガスが昇温ゾーンへ流入するのを阻止するも
のである。

【００１０】具体的に請求項１の発明が講じた解決手段
は、被処理物を浸炭性ガス雰囲気中で加熱する昇温ゾー
ンと、該昇温ゾーンで加熱された被処理物を窒化性ガス
雰囲気中で保持して窒化する窒化ゾーンと、上記昇温ゾ
ーンと窒化ゾーンとを被処理物が移送可能に連通させる
連通部と、該連通部を開閉する開閉扉と、上記昇温ゾー
ンと窒化ゾーンとを浸炭性ガスが流通可能に連通させる
バイパス路と、上記昇温ゾーンの浸炭性ガスを上記連通
部及びバイパス路のうちの少なくとも一方を通じて上記
窒化ゾーンに流出させる流れを作る気流生成手段とを備
えている構成とするものである。

【００１１】また、上記の目的を達成するため、請求項
２の発明は、適時に、浸炭性ガスを窒化ゾーンに導入し
、該浸炭性ガスによって窒化ゾーンに残留するＮＨ３　
ガスをパージするものである。

【００１２】具体的に請求項２の発明が講じた解決手段
は、被処理物を浸炭性ガス雰囲気中で加熱する昇温ゾー
ンと、該昇温ゾーンで加熱された被処理物を窒化性ガス
雰囲気中で保持して窒化する窒化ゾーンと、上記昇温ゾ
ーンと窒化ゾーンとを被処理物が移送可能に連通させる
連通部と、該連通部を開閉する開閉扉とを備え、上記窒
化ゾーンには、窒化性ガスを該窒化ゾーンに導入する窒
化性ガス導入手段と、浸炭性ガスを該窒化ゾーンに導入
する浸炭性ガス導入手段と、該窒化ゾーンに残留する残
留アンモニアガスを外部へ排出する排出手段とが設けら
れている構成とするものである。

【００１３】

【作用】請求項１の構成により、開閉扉が開操作されて
連通部が開放状態のときには、気流生成手段を作動させ
て、昇温ゾーンの浸炭性ガスを連通部を通じて窒化ゾー
ンに流出させる気流を作る。このため、連通部が開放さ
れても窒化ゾーンのＮＨ３　ガスは気流に阻止されて昇
温ゾーンに流入しない。

【００１４】また、開閉扉が閉操作されて連通部が閉塞
状態のときには、気流生成手段を作動させて、昇温ゾー
ンの浸炭性ガスをバイパス路を通じて窒化ゾーン側へ流
出させる気流を作る。このため、常に昇温ゾーンから窒
化ゾーンにかけての気流が生じているので、連通部の開
放直後においても窒化ゾーンのＮＨ３ガスは昇温ゾーン
に流入しない。

【００１５】請求項２の構成により、窒化ゾーンに、浸
炭性ガスを導入する浸炭性ガス導入手段と、残留アンモ
ニアガスを外部へ排出する排出手段とが設けられている
ため、浸炭性ガスを浸炭性ガス導入部から窒化ゾーンに
導入し、該浸炭性ガスによって窒化ゾーンに残留するＮ
Ｈ３　ガスをパージすることにより、窒化ゾーンに残留
するアンモニアガスを排出手段から外部に排出すること
ができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

【００１７】図１は本発明の一実施例に係る窒化装置の
左側部分の概略平面構造を、図２は上記窒化装置の右側
部分の概略平面構造を各々示し、該窒化装置は、左右方
向に延びる一連の通路を有するトンネル型の連続炉１０
の内部で、被処理物を積載したパレット１２が、移送手
段としての駆動ローラによって左方から右方に順次移送
されるものである。

【００１８】連続炉１０は開閉可能な複数の開閉扉１４
，１４…によって順次仕切られており、該連続炉１０に
は、左方から、順次、脱脂室１６、昇温室１８、浸炭室
２０、冷却室２２、昇温ゾーンとしての再昇温室２４、
窒化ゾーンとしての降温室２６、窒化室２８及び抽出ベ
スチブル３０が配置されている。この場合、冷却室２２
と再昇温室２４との間には、両室間のシール性を強化す
るため開閉扉１４が二重に設けられている。また、連続
炉１０の右方にソルト槽３２が該連続炉１０に隣接して
配設されている。

【００１９】脱脂室１６は、脱脂処理つまり被処理物の
表面に付着している油を除去するゾーンであって、該脱
脂処理は、被処理物に付着している油が熱処理中に蒸発
して雰囲気ガスを汚染し、所望の熱処理例えば浸炭処理
が適切にできなくなるのを防止するために行なうもので
ある。そして、被処理物を加熱して脱脂処理を行なうた
め、脱脂室１６には、室温を約７００〜８００℃に上昇
させるヒータとしてのエレクトロチューブ３４、加熱さ
れた空気を撹拌する撹拌ファン３６、及び該脱脂室１６
の室温を検出する温度センサーとしての熱電対３８が各
々配設されている。

【００２０】昇温室１８は、脱脂処理された被処理物を
予め加熱するゾーンであって、被処理物を加熱するため
、該昇温室１８には、室温を約９００〜９５０℃に上昇
させるエレクトロチューブ３４、被処理物の酸化及び脱
炭を防止するために、炉内変成法により得られる変成ガ
ス（空気とＣ４　Ｈ１０との混合ガス）である酸浸炭ガ
ス（以下、酸浸炭ガスと称する。）を導入する酸浸炭ガ
ス導入部４０Ａ、該昇温室１８の酸素濃度を検出するＯ
２　センサーを内蔵し雰囲気ガスをサンプル抽出するた
めのサンプルチューブ４２、及び上記同様の撹拌ファン
３６及び熱電対３８が各々配設されている。

【００２１】浸炭室２０は、浸炭つまり被処理物の表面
にＣを拡散浸透させるゾーンであって、浸炭を行なうた
め、該浸炭室２０には、室温を約９００℃〜９５０℃に
上昇させるエレクトロチューブ３４、被処理物の表面に
Ｃを拡散浸透させるための浸炭性ガスとしての酸浸炭ガ
スを導入する酸浸炭ガス導入部４０Ｂ、上記同様の撹拌
ファン３６、熱電対３８及びサンプルチューブ４２が各
々配設されている。

【００２２】冷却室２２は浸炭された被処理物を強制冷
却するゾーンであって、該冷却室２２には、被処理物の
酸化及び脱炭を防止する浸炭性ガスとしての酸浸炭ガス
を該冷却室２２に導入する酸浸炭ガス供給手段４４、冷
却用ガスを被処理物に吹き付けて冷却するガス冷却手段
４６、及び冷却室２２内の圧力を調整する圧力調整手段
４８が各々接続されている。

【００２３】再昇温室２４は、金属組織をオーステナイ
ト組織に固溶させるため、被処理物を再度加熱するゾー
ンであって、該再昇温室２４には、室温を約８５０〜８
７０℃に昇温させるエレクトロチューブ３４、被処理物
の酸化及び脱炭を防止する浸炭性ガスとしての酸浸炭ガ
スを導入する酸浸炭ガス導入部４０Ｃ、同じく浸炭性ガ
スとしての吸熱形変成ガスを導入する吸熱形変成ガス導
入部５４Ｃ、上記同様の撹拌ファン３６、熱電対３８及
びサンプルチューブ４２が各々配設されている。

【００２４】降温室２６は、再昇温室２４で加熱された
被処理物を約８２０〜８４０℃に降温させつつ、浸炭窒
化つまり被処理物の表面に［Ｃ］及び［Ｎ］を拡散浸透
させるゾーンであって、該降温室２６には、酸浸炭ガス
を導入する浸炭性ガス導入手段としての酸浸炭ガス導入
部４０Ｄ、同じく吸熱形変成ガスを導入する浸炭性ガス
導入手段としての吸熱形変成ガス導入部５４Ｄ、ＮＨ３
　ガス（窒化性ガス）を導入する窒化性ガス導入手段と
してのアンモニア供給手段５６Ｄ、上記同様のエレクト
ロチューブ３４、撹拌ファン３６、熱電対３８、サンプ
ルチューブ４２が各々配設されている。そして、アンモ
ニア供給手段５６Ｄは、ＮＨ３　ガスを供給するアンモ
ニア供給装置５６ａと、ＮＨ３ガスを降温室２６へ導入
するアンモニア導入路５６ｂと、アンモニア導入路５６
ｂを流通するＮＨ３　ガス量を調整する異径の複数の流
路よりなるバイパス路５６ｃとから構成されている。

【００２５】このようにして降温室２６の内部で、酸浸
炭ガス導入部４０Ｄから導入される酸浸炭ガス及び／又
は吸熱形変成ガス導入部５４Ｄから導入される吸熱形変
成ガスに、アンモニア供給手段５６Ｄから導入されるＮ
Ｈ３　ガスが添加されて浸炭窒化ガスが生成されるので
、該降温室２６の内部は浸炭窒化ガス雰囲気になる。従
って、該降温室２６で被処理物を約８２０〜８４０℃に
降温させる過程で該被処理物は浸炭窒化される。

【００２６】窒化室２８は、降温室２６で降温された被
処理物を上記同様の浸炭窒化ガス雰囲気中における約８
２０〜８４０℃の温度下で保持することにより、該被処
理物を本格的に浸炭窒化するゾーンであって、該窒化室
２８には、室温を約８２０〜８４０℃に維持するエレク
トロチューブ３４、上記同様の撹拌ファン３６、熱電対
３８、酸浸炭ガス導入部４０Ｅ、吸熱形変成ガス導入部
５４Ｅ、サンプルチューブ４２、及びアンモニア供給手
段５６が各々配設されており、降温室２６と同様にして
浸炭窒化ガスが生成される。

【００２７】抽出ベスチブル３０は、浸炭窒化された被
処理物を連続炉１０からソルト槽３２に移送するため、
窒化室２８における右側つまりソルト槽３２側の開閉扉
１４を開放した際に、窒化室２８の圧力及び温度が低下
するのを防止するゾーンであって、上記同様のエレクト
ロチューブ３４及び熱電対３８が各々配設されている。

【００２８】ソルト槽３２は、浸炭窒化された被処理物
をソルト焼き入れするものであって、周知の構造を有し
ている。

【００２９】本実施例の特徴として、再昇温室２４と降
温室２６との間には、両室を連通させるため流路開閉弁
５８ａを介設した第１バイパス路５８が設けられ、降温
室２６と窒化室２８との間には、両室を連通させるため
流路開閉弁６０ａを介設した第２バイパス路６０が設け
られ、窒化室２８と抽出ベスチブル３０との間には、両
室を連通させるため流路開閉弁６２ａを介設した第３バ
イパス路６２が設けられている。

【００３０】そして、本実施例の窒化装置においては、
再昇温室２４に酸浸炭ガス導入部４０Ｃ及び／又はＲＸ
ガス導入部５４Ｃから導入される浸炭性ガスのボリュー
ム（Ｖ１　）が、降温室２６に酸浸炭ガス導入部４０Ｄ
及び／又はＲＸガス導入部５４Ｄから導入される浸炭性
ガスのボリュームとアンモニア供給手段５６Ｄから導入
される窒化性ガスのボリュームとの合計ボリューム（Ｖ
２　）よりも多くなるように設定されている。このため
、再昇温室２４と降温室２６との間の開閉扉１４が開操
作されて再昇温室２４と降温室２６との連通部２５が開
放されている場合には、再昇温室２４の浸炭性ガスは連
通部２５を通って降温室２６に流入し、第１バイパス路
５８の流路開閉弁５８ａが開操作されている場合には、
再昇温室２４の浸炭性ガスは第１バイパス路５８を通っ
て降温室２６に流入する。従って、再昇温室２４におけ
る浸炭性ガスのボリューム（Ｖ１　）を降温室２６にお
ける上記合計ボリューム（Ｖ２　）より大きくする手段
である酸浸炭ガス導入部４０Ｃ及び／又はＲＸガス導入
部５４Ｃによって、再昇温室２４の浸炭ガスを降温室２
６に流出させる流れを作る気流生成手段６３が構成され
ている。

【００３１】また、本実施例の窒化装置においては、降
温室２６の上記合計ボリューム（Ｖ２　）が、窒化室２
８に酸浸炭ガス導入部４０Ｅ及び／又はＲＸガス導入部
５４Ｅから導入される浸炭性ガスのボリュームとアンモ
ニア供給手段５６Ｅから導入される窒化性ガスのボリュ
ームとの合計ボリューム（Ｖ３　）よりも多くなるよう
に設定されている。このため、第２バイパス路６０の流
路開閉弁６０ａが開操作されている場合には、降温室２
６の浸炭窒化性ガスは第２バイパス路６０を通って窒化
室２８に流入し、さらに、第３バイパス路６２の流路開
閉弁６２ａが開操作されている場合には、窒化室２８の
浸炭窒化性ガスは第３バイパス路６２を通って抽出ベス
チブル３０に流出した後、該流出ベスチブル３０から外
部に流出する。

【００３２】尚、再昇温室２４の上記ボリューム（Ｖ１
　）を降温室２６の上記合計ボリューム（Ｖ２　）より
も大きくする方法としては、再昇温室２４に流入するガ
スの圧力を降温室２６に流入するガスの圧力よりも大き
くしてもよいし、両室に流入するガスの圧力を同圧に設
定する一方、再昇温室２４の容積を降温室２６の容積よ
り大きく設定してもよい。

【００３３】また、降温室２６の上記合計ボリューム（
Ｖ２　）を窒化室２８の上記合計ボリューム（Ｖ３　）
よりも大きくする方法としては、両室に流入するガスの
圧力に差を設けてもよいし、両室に流入するガスの圧力
を同圧に設定する一方、降温室２６の容積を窒化室２８
の容積より大きく設定してもよい。

【００３４】本実施例の窒化装置は、被処理物を再昇温
室２４から降温室２６に移送する際に次のように操作さ
れる。

【００３５】まず、降温室２６に被処理物が存在しない
状態で再昇温室２４と降温室２６との間の開閉扉１４を
開操作する。この場合には、第１バイパス路５８の流路
開閉弁５８ａを閉操作しておく。このようにすると、再
昇温室２４の浸炭ガスが連通部２５を通って降温室２６
に流出し、再昇温室２４から降温室２６にかけて流れる
気流が発生しているため、この気流に阻止されて降温室
２６の浸炭窒化性ガスひいてはＮＨ３　ガスが再昇温室
２４に流入することはない。

【００３６】被処理物の降温室２６への移送が完了する
と、再昇温室２４と降温室２６との間の開閉扉１４を閉
操作する一方、第１バイパス路５８の流路開閉弁５８ａ
を開操作する。このようにすると、再昇温室２４の浸炭
ガスが第１バイパス路５８を通って降温室２６に常時流
出しているため、再昇温室２４から降温室２６にかけて
流れる気流が常時生成されているので、、やはりこの気
流に阻止されて降温室２６の窒化性ガスが再昇温室２４
に流入することはない。

【００３７】このようにして降温室２６に流入した浸炭
ガスは、該降温室２６に存在している浸炭窒化性ガスに
混入されて第２バイパス路６０、窒化室２８、第３バイ
パス路６２及び抽出ベスチブル３０を通って外部に流出
する。

【００３８】さらに、本実施例の特徴として、昇温室２
４には、該再昇温室２４内の浸炭性ガスを外部へ排出す
るため流路開閉弁６４ａを介設した再昇温室ガス排出路
６４が設けられ、降温室２６には、該降温室２６内に残
留したＮＨ３ガスを外部へ排出するため流路開閉弁６６
ａを介設した残留ＮＨ３　ガス排出手段としての降温室
ガス排出路６６が設けられ、抽出ベスチブル３０には、
該抽出ベスチブル３０内の浸炭窒化性ガスを外部へ排出
するため流路開閉弁６８ａを介設した抽出ベスチブルガ
ス排出路６８が設けられている。

【００３９】本実施例の窒化装置は、被処理物を再昇温
室２４から降温室２６に移送する際、次のように操作さ
れる。尚、以下では説明の便宜のために、再昇温室２４
と降温室２６との間の開閉扉１４を搬入用扉１４Ａ、降
温室２６と窒化室２８との間の開閉扉１４を搬出用扉１
４Ｂと称する。

【００４０】まず、降温室２６における被処理物の降温
が完了すると、搬出用扉１４Ｂを開放し、被処理物を窒
化室２８へ移送し、移送完了後に搬出用扉１４Ｂを閉塞
する。このようにすると、窒化室２８からの浸炭窒化性
ガスの流入により、降温室２６における浸炭窒化ガスの
ボリュームが増加するので、図３におけるピーク１で示
されるように残留ＮＨ３　ガス量は急に増加する。その
後、ＮＨ３　ガスは時間の経過と共に［Ｎ］とＨ２　と
に分解するので、残留ＮＨ３　量は減少する。

【００４１】次に、搬入用扉１４Ａを開放して被処理物
を再昇温室２４から降温室２６に移送し、移送が完了す
ると、搬入用扉１４Ａを閉塞して、一定量の窒化性ガス
をＮＨ３　ガス供給手段５６から降温室２６に導入し、
被処理物を浸炭窒化ガス雰囲気中で降温しつつ浸炭窒化
する。このようにすると、窒化性ガスの導入により、図
３におけるピーク２で示されるように残留ＮＨ３　ガス
量は急に増加する。その後、ＮＨ３　ガスは時間の経過
と共に［Ｎ］とＨ２　とに分解するので、残留ＮＨ３　
量は減少する。

【００４２】次に、被処理物の降温が完了すると、再度
、搬出用扉１４Ｂを開放し、被処理物を窒化室２８へ移
送し、移送完了後に搬出用扉１４Ｂを閉塞する。このよ
うにすると、上記と同様の理由により図３におけるピー
ク３で示されるように残留ＮＨ３　ガス量は急増する。 その後、ＮＨ３　ガスは時間の経過と共に［Ｎ］とＨ２
　とに分解するので、残留ＮＨ３　量は減少する。

【００４３】次に、再度、搬入用扉１４Ａを開放して被
処理物を降温室２６に移送し、移送完了後に搬入用扉１
４Ａを閉塞し、一定量の窒化性ガスを導入して被処理物
を浸炭窒化雰囲気中で降温しつつ窒化する。このように
すると、上記と同様の理由により図３におけるピーク４
で示されるように残留ＮＨ３　ガス量は急増する。

【００４４】その後、上記同様、残留ＮＨ３　量は減少
するが、残留ＮＨ３　量を減少させる措置を講じなけれ
ば、図３の破線で示されるようにピーク３後の残留ＮＨ
３　量はピーク１後の残留ＮＨ３　量よりも多くなり、
ピーク４後の残留ＮＨ３　量はピーク２後の残留ＮＨ３
　量よりも多くなる。

【００４５】そこで、本実施例に係る窒化装置を用いて
被処理物を窒化する場合には、ピーク３の直後、つまり
被処理物の窒化室２８への移送が完了し、搬出用扉１４
Ｂを閉塞した直後に、降温室ガス排出路６６の流路開閉
弁６６ａを開操作すると共に、吸熱形変成ガス導入部５
４Ｄから浸炭性ガスとしての吸熱形変成ガスを多量に導
入する。

【００４６】このようにすると、残留ＮＨ３　ガスは吸
熱形変成ガスによってパージされて降温室ガス排出路６
６から外部に排出される。このため、図３の実線に示す
ように、ピーク３後の残留ＮＨ３　量はピーク１後の残
留ＮＨ３　量と略同量になり、これに伴って、ピーク４
後の残留ＮＨ３　量はピーク２後の残留ＮＨ３　量と略
同量になる。

【００４７】尚、本実施例に係る窒化装置は、再昇温室
２４と窒化室２８との間に降温室２６が設けられていた
が、これに代えて降温室２６を省略してもよい。この場
合には、窒化室２８が窒化ゾーンを構成するため、該窒
化室２８に、窒化室２６内に残留したＮＨ３　ガスを外
部へ排出するための窒化室ガス排出路を設ける必要があ
る。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
係る窒化装置によると、昇温ゾーンと窒化ゾーンとを被
処理物が移送可能に連通させる連通部と、昇温ゾーンと
窒化ゾーンとを浸炭性ガスが流通可能に連通させるバイ
パス路と、昇温ゾーンの浸炭性ガスを連通部及びバイパ
ス路のうちの少なくとも一方を通じて窒化ゾーンに流出
させる流れを生成する気流生成手段とを設けたため、開
閉扉を開操作して連通部を開放しても、昇温ゾーンから
窒化ゾーンへかけて流れる気流に阻止されて窒化ゾーン
の窒化性ガスは昇温ゾーンに流入しないので、昇温ゾー
ンでの［Ｎ］に起因する被処理物の品質の低下を防止す
ることができ、安定した品質の被処理物を得ることがで
きる。

【００４９】また、請求項２の発明に係る窒化装置によ
ると、窒化ゾーンに、浸炭性ガスを導入する浸炭性ガス
導入手段と、残留する残留アンモニアガスを外部へ排出
する排出手段とを設けたため、浸炭性ガスを窒化ゾーン
に導入して該窒化ゾーンに残留するＮＨ３　ガスをパー
ジし、残留ＮＨ３　ガスを外部へ排出することができる
ので、窒化ゾーンで被処理物に対する窒化を繰り返して
も、該窒化ゾーンに残留するＮＨ３　ガスの量が増加せ
ず、窒化ゾーンでの［Ｎ］に起因する被処理物の品質の
低下を防止することができ、安定した品質の被処理物を
得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である窒化装置の左側部分を
示す概略平面図である。

【図２】本発明の一実施例である窒化装置の右側部分を
示す概略平面図である。

【図３】上記窒化装置を用いて窒化処理する場合の時間
経過と残留ＮＨ３　ガス量との関係を示す図である。

【符号の説明】

１０…連続炉 １４…開閉扉 ２４…再昇温室（昇温ゾーン） ２５…連通部 ２６…降温室（窒化ゾーン） ２８…窒化室 ４０Ｃ…酸浸炭ガス導入部 ４０Ｄ…酸浸炭ガス導入部（浸炭性ガス導入手段）５４
Ｃ…吸熱形ガス導入部 ５４Ｄ…吸熱形変成ガス導入部（浸炭性ガス導入手段）
５６Ｄ…アンモニアガス供給手段（窒化性ガス導入手段
） ５８…第１バイパス路（バイパス路） ６３…気流生成手段 ６６…降温室ガス排出路（排出手段）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　被処理物を浸炭性ガス雰囲気中で加熱
   する昇温ゾーンと、該昇温ゾーンで加熱された被処理物
   を窒化性ガス雰囲気中で保持して窒化する窒化ゾーンと
   、上記昇温ゾーンと窒化ゾーンとを被処理物が移送可能
   に連通させる連通部と、該連通部を開閉する開閉扉と、
   上記昇温ゾーンと窒化ゾーンとを浸炭性ガスが流通可能
   に連通させるバイパス路と、上記昇温ゾーンの浸炭性ガ
   スを上記連通部及びバイパス路のうちの少なくとも一方
   を通じて上記窒化ゾーンに流出させる流れを作る気流生
   成手段とを備えていることを特徴とする窒化装置。
2. 【請求項２】　　被処理物を浸炭性ガス雰囲気中で加熱
   する昇温ゾーンと、該昇温ゾーンで加熱された被処理物
   を窒化性ガス雰囲気中で保持して窒化する窒化ゾーンと
   、上記昇温ゾーンと窒化ゾーンとを被処理物が移送可能
   に連通させる連通部と、該連通部を開閉する開閉扉とを
   備え、上記窒化ゾーンには、窒化性ガスを該窒化ゾーン
   に導入する窒化性ガス導入手段と、浸炭性ガスを該窒化
   ゾーンに導入する浸炭性ガス導入手段と、該窒化ゾーン
   に残留する残留アンモニアガスを外部へ排出する排出手
   段とが設けられていることを特徴とする窒化装置。