JP2002355031A - 細胞パターンの形成方法 - Google Patents

細胞パターンの形成方法

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JP2002355031A
JP2002355031A JP2001322549A JP2001322549A JP2002355031A JP 2002355031 A JP2002355031 A JP 2002355031A JP 2001322549 A JP2001322549 A JP 2001322549A JP 2001322549 A JP2001322549 A JP 2001322549A JP 2002355031 A JP2002355031 A JP 2002355031A
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cell
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Gabriele Nelles
ネレス、ガブリエーレ
Akio Yasuda
章夫 安田
Wolfgang Knoll
クノッル、ヲルフガング
Andreas Offenhausser
オッフェンハウザー、アンドレアス
Chi-Kong Yeung
コング ヨン、チー
Lars Lauer
ラウアー、ラース
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Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
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Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
Sony International Europe GmbH
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面上での正確な細胞の成長を制御及び誘導
可能とする。 【解決手段】 細胞パターンを形成しようとする表面に
細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子を当該表
面にパターン被着させることによって予備パターンする
工程と、上記予備パターンされた表面上に細胞を培養す
ることによって上記表面上に細胞パターンを形成する工
程とを有し、上記細胞が全体組織である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面への細胞のパ
ターンの形成方法、細胞のネットワーク及びそれに基づ
いた組織に関する。
【0002】
【従来の技術】同一種類で他の細胞に関する挙動及び空
間的組成をより理解するために、様々な種類の細胞の機
能を研究するためには、厳密に制御された条件下で細胞
を培養できるようにする必要がある。細胞成長を誘導す
るように予めパターンされた基板上で、当該基板上のパ
ターンに沿って細胞を培養及び成長させる実験が、2年
間続けられた。
【0003】上記の実験は、短期的には、生物超小型電
子回路を作製するための生きた細胞を組み込んだ、微小
な生物電子デバイスの構築を可能とするという目的の下
で為されたものである。この研究の長期的なもう1つの
目的は、生物体内へ移植される移植片として好適な人工
組織の作製を可能とすることであり、これについては、
機能不全の組織と同種類の生体由来の組織に取って代わ
るものとなるかもしれない。また、この研究の3番目の
目的は、細胞の特別な配列でこれらのデバイスの外側を
「マスク」することによって、移植組織及び/又はイン
プラントの融合を促進することである。この特別な配列
とは、細胞の化学的及び免疫学的性質、及びデバイスが
導入される生物体内の部位に適合する配列である。
【0004】その程度までの細胞の培養、すなわち、特
定の所期のパターンを示す培養を実現する1つの方法と
しては、前もって細胞の成長を促進させる「誘導」分子
のパターンが作られた表面にそって、細胞を成長させる
ことが挙げられる。なお、この表面には、細胞の成長を
促進しない領域が存在する。細胞成長促進分子として
は、様々な種類のものが用いられる。
【0005】Mrksichらは、金基板への細胞の付着を制
御するために、アルカンチオレートのパターンを用いた
(1996, PNAS USA, 93, 10775-10778;1997, Exp. Cell
Res., 235, 305-313)。適当な末端のアルカンチオレー
トを選択することにより、彼らは細胞成長を促進する領
域及び細胞成長を阻害する領域を作り出すことに成功し
た。Coreyらは、様々な値で線幅、交差間距離及び節の
径を有するポリリジンの格子を残すように、選択的なレ
ーザーアブレーションを行うことにより、ポリリジンコ
ートされたカバーガラス上に神経細胞をパターンした
(1991, J. Neurosc. Res., 30, 300-307)。
【0006】Matsuzawaらは、基板上に、ラミニンのB
2鎖の神経突起伸長促進ドメインに由来する合成ペプチ
ドを化学的に付着させた(1996, J. Neurosci. Meth.,
69,189-196)。また、Matsudaらは、様々な種類の他の
ペプチドを固定化した(Matsuda et al., 1990, Trans.
Am. Soc. Artif. Int. Organs; 36(3): M559-63)。ま
た、Kleinらは、ラミニンのような細胞外基質タンパク
質(ECM)を固定化した(1999, J. Mat. Sci. Mat.
in Med; 10: 721-727)。
【0007】生体分子を表面に付着させ、さらにパター
ン化するために、クロスリンカー(Clemence et al., 1
985, Bioconjugated Chem. 6: 411-417)、シランカッ
プリング剤(Plueddemann E. 2 edn New York Plenum P
ress, 1991: 1-250)を含めて、様々な技術が用いられ
てきた。
【0008】近年、基板上に特異的パターンでタンパク
質を付着させる技術として、いわゆるマイクロコンタク
トプリンティング(microcontact printing)技術が適
用されている。この方法は、比較的単純であり、また、
生体分子のパターン化に一般的に用いることができる
(Kumar et al., 1993, Appl. Phys. Lett., 63(14), 2
002-2004)。この技術では、先ず、シリコンエラストマ
ー(ポリジメチルシロキサン,PDMS)を所望のパタ
ーンで鋳造することによってスタンプを作製し、その
後、このスタンプに、転写される生体分子の溶液を塗布
する。その後、「インク付けされた」スタンプを基板の
表面に接触させると、生体分子が、予め付与されたパタ
ーンにて自己集合し、基板上にパターンが形成される。
【0009】Kumarら及びMrksichらは、金基板上にアル
カンチオールをスタンプすることにより、パターンを形
成する上記方法を開発した(Mrksich et al. 1996, PNA
S USA, 93, 10775-10778,Mrksich et al. 1997, Exp. C
ell Res., 235, 305-313)。クロスリンカーとしてグル
タルアルデヒド(Branch et al. 1998, Med. Biol. En
g. Comput., 36, 135-141)及び硫化GMBS(Wheeler
et al. 1999, J. Biomech. Eng., 121, 73-78)を用い
たマイクロコンタクトプリンティング法により、ポリ−
D−リジン及びラミニンを、アミノシランで変性された
ガラス基板上に固定化した。マイクロコンタクトプリン
ティング(microcontact printing)技術は、神経細胞
の誘導に用いられている(Wheeler et al. 1999, ibi
d.; Branchet al. 2000, IEEE Transact. Biomed. En
g., 47, 3, 290-300)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した全
ての研究では、主に神経細胞から分離した細胞の培養物
を用いており、いくつかの事例においてだけパターンの
形成に成功している。
【0011】しかしながら、このようにして形成された
細胞のパターンが、自然界で実際に現れるものと同じ様
相のものであるかどうかは不明であり、また、例えば生
物電子デバイス等に対して有用性があるのかどうかも不
明である。
【0012】したがって、これらの研究から得られた結
果は、例えば、器官内細胞の空間的な配列又は器官内の
細胞間相互作用等に関しては、限定的にしか役に立たな
い。そのうえ、現在の生物電子インターフェースデバイ
ス及び細胞改良インターフェースには、これらのデバイ
スを作製するに際して再現性に問題がある。つまり、基
板上で細胞の付着及び成長を誘導し、そして完全に制御
することは、いまだ不可能である。
【0013】現在の生物電子インターフェースデバイス
及び細胞改良インターフェースでは、細胞がデバイスの
基板上に直接培養されるので、全てのデバイスについて
細胞の成長に成功するといった保証はない。したがっ
て、多くのデバイス及び多くの培養スターターには、培
養後に有益な細胞ネットワークが基板上に実際に現れる
ことが確実に要求される。
【0014】インプラントに関する問題としては、これ
らのインプラントは、たいていの場合、生体適合性が限
られていることが挙げられる。これは、インプラントの
適合性の悪さ、すなわちホストによる拒絶反応、又は単
に基板の毒性による。器官内の細胞の空間的配置に模倣
させた細胞パターンに沿って細胞を並べることで、イン
プラントの生体適合性を確実に向上させることができ
る。
【0015】そこで本発明はこのような従来の実情に鑑
みて提案されたものであり、本発明の第1の目的は、従
来にない方法で、表面上での正確な細胞の成長を制御及
び誘導可能とすることである。また、本発明の他の目的
は、有益なデバイスを与える培養スターター又は基板の
数を減少させることにより、生物電子デバイスの生産に
かかる労力を抑制することである。また、本発明の他の
目的は、インプラント及び移植組織の生体適合性を向上
させることである。
【0016】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の表面への細胞パターンの形成方法は、細
胞パターンを形成しようとする表面に細胞成長促進分子
及び/又は細胞成長阻害分子を当該表面にパターン被着
させることによって予備パターンする工程と、上記予備
パターンされた表面上に細胞を培養することによって上
記表面上に細胞パターンを形成する工程とを有し、上記
細胞が全体組織であることを特徴とする。
【0017】上述したような本発明に係る表面への細胞
パターンの形成方法では、細胞パターンを培養する表面
を予備パターンすることで、表面上での正確な細胞の成
長の制御及び誘導が可能となる。
【0018】また、上述の目的を達成するために、本発
明の表面へのパターンの形成方法は、細胞パターンを形
成しようとする表面に、細胞成長促進分子及び/又は細
胞成長阻害分子を当該表面にパターン被着させることに
よって予備パターンする工程と、上記予備パターンされ
た表面上に細胞を培養することによって、上記表面上に
細胞パターンを形成する工程と、上記表面上に形成され
た上記細胞パターンを、その後、第2の表面へ転写する
転写工程を有し、上記細胞が全体組織及び解離された細
胞を含む群から選択されるものであることを特徴とす
る。
【0019】上述したような本発明に係る表面へのパタ
ーンの形成方法では、細胞パターンを培養する表面を予
備パターンすることで、表面上での正確な細胞の成長の
制御及び誘導が可能となり、その転写により正確な細胞
パターンの再現が可能になる。
【0020】また、上述した本発明の目的は、転写段階
を除いて、上述した本発明の方法により生産可能な細胞
のパターン及び/又は人工組織によって達成される。さ
らにまた、本発明の目的は、転写段階を除いて、上述し
た本発明の方法により生産可能な、表面上の細胞のパタ
ーン及び/又は人工組織によって達成される。また、本
発明の目的は、転写段階及びそれについての様々な実施
形態を含む、上述した本発明の方法により生産可能な、
細胞のパターン及び/又は人工組織によって達成され
る。また、本発明の目的は、転写段階及びそれについて
の様々な実施形態を含む、上述した本発明の方法により
生産可能な、表面上の細胞のパターン及び/又は人工組
織によって解決される。
【0021】また、本発明の目的は、本発明の細胞のパ
ターンの組み合わせによって達成される。また、本発明
の目的は、本発明の人工組織の組み合わせによって達成
される。また、本発明の目的は、本発明の細胞パターン
及び人工組織の組み合わせによって達成される。「細胞
パターンの組み合わせ」という用語は、いかなる細胞パ
ターンの空間的配置も含むことを意味し、この細胞パタ
ーンは互いに近接している。「人工組織の組み合わせ」
についても同様である。
【0022】さらにまた、本発明の目的は、センサ、技
術的基板(technical substrate)、組織、インプラン
ト及び移植組織を含む群から選ばれるデバイスにおけ
る、本発明に従った細胞のパターン、及び/又は人工組
織、及び/又は組み合わせの使用によって達成される。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した表面上の
細胞のパターンの形成方法、細胞のネットワーク及びそ
れに基づいた組織について、図面を参照しながら詳細に
説明する。
【0024】本発明者らは、本発明を適用することで、
多くの最適なパターン上に、器官の組織切片の細胞を処
理できることを明らかにした。すなわち、本発明の細胞
パターンの形成方法は、細胞パターンを形成しようとす
る表面に細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子
を当該表面にパターン被着させることによって予備パタ
ーンする工程と、上記予備パターンされた表面上に細胞
を培養することによって上記表面上に細胞パターンを形
成する工程とを有する。
【0025】ここで、上記細胞は全体組織である。そし
て、当該全体組織は生物の組織体に由来するものである
ことが好ましい。具体的には、上記全体組織が、脳、肝
臓、腎臓、筋肉、皮膚、骨、肺及び心臓を含む群から選
ばれる器官に由来するものであることが好ましい。ま
た、上記細胞が、器官の組織切片であることが好まし
い。これらの器官の組織切片は、器官の組織切片が器官
内での細胞の配列を模倣する点で、器官適合性を有する
(organotypic)ものであることが好ましい。また、上記
細胞は、脳の組織切片であることが好ましい。
【0026】また、上記予備パターンされた表面に付着
した上記細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子
のパターンは、細胞の成長及び移動の誘導を可能とし、
そして、上記細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害
分子のパターンが、器官の細胞の配列を模倣するもので
あることが好ましい。さらに、上記細胞成長促進分子及
び/又は細胞成長阻害分子のパターンは、筋(line)及
び節(node)を有する構造を有し、ここで、上記筋の幅
が1μm〜8μmの範囲であり、上記節の直径が1μm
〜30μmの範囲であることが好ましく、上記筋の幅が
1μm〜6μmの範囲であり、上記節の直径が8μm〜
16μmの範囲であることがより好ましく、上記筋の幅
が2μm〜4μmの範囲であり、上記節の直径が10μ
m〜14μmの範囲であることが最も好ましい。
【0027】上記細胞成長促進分子及び/又は細胞成長
阻害分子のパターンは、ポリペプチド、ポリエチレンイ
ミン及びポリスチレンを含む群から選ばれる物質の少な
くとも1層によって形成されることが好ましい。ここ
で、上記ポリペプチドが、細胞外タンパク質、ポリ−L
−リジン及びポリ−オルニチンを含む群から選択され、
上記細胞外タンパク質が、ラミニン及びフィブロネクチ
ンを含む群から選択されることが好ましい。
【0028】以上説明したように、本発明では広範な全
体組織から得られた細胞を用いることで、従来は困難で
あった、例えば格子状(grid)等のほぼ完全な細胞のパ
ターンを実現することができた。全体組織から得られる
組織切片を使用することは、表面の層は別として、従来
に比べて機械的なダメージが小さくなること及びその組
織の構成が維持されるという点で、分離された細胞を用
いた培養よりも多くの利点がある。その後パターン化さ
れた細胞は、最初の組織切片の細胞の相対的な位置を反
映したものとなる。
【0029】本発明を用いることにより、例えばグリッ
ド及び/又は筋形状等のECMタンパク質の構造で培養
された、例えば、脳幹組織切片からの神経細胞、神経突
起及び糸状仮足を安定して成長させることができる。表
面上の、細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子
の適当なパターンを選択することによって、いかなる所
望の細胞パターンも実現することができる。
【0030】さらにまた、本発明者らは、上述のように
して得られた、ほぼ完全な細胞パターンを処理すること
により、これらのパターンを所望の他の表面上に容易に
転写することに成功した。
【0031】すなわち、本発明に係る表面上のパターン
の形成方法は、細胞パターンを形成しようとする表面
に、細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子を当
該表面にパターン被着させることによって予備パターン
する工程と、上記予備パターンされた表面上に細胞を培
養することによって、上記表面上に細胞パターンを形成
する工程と、上記予備パターンされた表面上に形成され
た上記細胞パターンを、その後、第2の表面へ転写する
転写工程とを有し、上記細胞が全体組織及び解離された
細胞を含む群から選択されるものである。
【0032】ここで、上記転写工程が、 a)マトリクスに上記細胞パターンを埋め込む手順と、 b)上記予備パターンされた表面から、上記細胞パター
ンを含む上記マトリクスを引き上げる手順と、 c)上記マトリクスに埋め込まれた上記細胞パターン
を、上記第2の表面に接触させる手順とを含むことが好
ましい。
【0033】具体的には、上記転写工程が、さらに、 d)上記マトリクスから、上記細胞パターンを離型する
手順と、 e)上記細胞パターンから、上記マトリクスを除去する
手順とを含むことが好ましい。
【0034】上記マトリクスは、細胞と適合性があるこ
とが好ましい。細胞と適合性があるとは、用いられる細
胞の生存能力を妨げないということである。上記マトリ
クスは、アガロース、フィブリン、コラーゲン及びセル
ロースを含む群から選ばれる材料からなることが好まし
い。具体的には、上記マトリクスは、硬化可能な材料か
らなり、上記硬化可能な材料が、アガロースを含む群か
ら選ばれることが好ましい。この場合には、アガロース
が液体の状態で細胞パターンを注入し、その後に冷却す
ることで硬化する。
【0035】また、上記マトリクスとして、ゲルを形成
可能な材料を用いることもできる。上記ゲルを形成可能
な材料が、フィブリノゲン及びコラーゲンを含む群から
選ばれることが好ましい。フィブリノゲンは、トロンビ
ンの添加によって、フィブリンのゲル形成を促進する。
フィブリンのゲルを形成する方法は、例えば、Schense
et al., 2000, Nature Biotechnology, 18, 415-419及
びYe et al., 2000, European Journal of Cardio-thor
acic Surgery, 17, 587-591に記載されており、これら
の記載も参照として本明細書の記載に含める。コラーゲ
ンのゲルは、コラーゲンの冷たい中性溶液を加熱するこ
とによりコラーゲン分子が自己集合して形成される。こ
のような方法は、例えば、O'Connor et al., 2000, Bio
sensors and Bioelectronics, 14, 871-881,に記載され
ており、これらの記載も参照として本明細書の記載に含
める。
【0036】細胞パターンが転写される上記第2の表面
は、生物電子デバイスの表面、センサ、電子素子、組
織、インプラント及び移植組織を含む群から選ばれる。
「センサ」は、特に、バイオセンサ、光学的センサを含
む。「電子素子」としては、例えば、電界効果トランジ
スタ、多極アレイ(multi-electrode array)及びその
他同種類のものが挙げられる。移植組織としては、例え
ば、自原性(autogenesis)(ドナーと受容者とが同
一)、同質遺伝性(syngenous)(遺伝的にドナーと受
容者とが同一)、同種間性(allogenous)(ドナーと受
容者とが同じ種に属する)、及び異種間性(xenogenou
s)(ドナーと受容者とが異なる種に属する)等、公知
のいかなる形態のものが適用可能である。
【0037】具体的には、上記埋め込み工程が、 aa)液体状の上記マトリクスで、上記細胞パターンの
一部又は全体を被覆する手順と、 ab)上記マトリクスを形成する手順とを有することが
好ましい。
【0038】上記マトリクスの形成は、ゲル転移温度以
上に温度を上昇させること、及び/又は少なくとも1つ
のゲル誘導要素の添加により行われることが好ましい。
ここで上記ゲル誘導要素が、トロンビン及び他の血液凝
固因子を含む群から選ばれることが好ましい。この方法
の改良型、例えばX因子等の血液凝固カスケードからの
様々な因子と組み合わせてプロトロンビンを添加する方
法も、本発明の範囲内である。
【0039】上記マトリクスからの上記細胞パターンの
離型は、酵素による分解及び/又はゲル転移温度未満に
温度を低下させることによって行われることが好まし
い。
【0040】上述したように、本発明の細胞パターンの
転写は、例えば、細胞の生存能力を妨害しないという意
味で生体適合性のある材料からなるマトリクスに、細胞
パターン又は人工組織を埋め込むことによって行われ
る。本発明によれば、全てのマトリクスは、その性質に
拘わらず、すでに表面上に形成された細胞又は人工組織
のパターン上に集合する。これは、本発明によれば、細
胞及び人工組織のパターンの形成後においてのみ、マト
リクスがパターン形成されるということを意味する。続
いて、ゲルを用いることによって、この細胞パターンを
他の場所へと転写する。続いて、例えばゲル転移温度未
満に温度を下げること、酵素的な分解、その他の方法等
によって、このマトリクスを除去する。
【0041】本発明では、完全な細胞パターンだけをこ
れらデバイスの表面に転写して用いることで、生物電子
デバイスの生産をより経済的にするとともに、これらの
デバイスの特性の正確な制御が可能となる。完全な細胞
パターンが形成されると、この細胞パターンをマトリク
スを用いて固定して、さらに基板から剥離し、それ自身
では細胞成長の最初の場となる基板としては不適当な、
電界効果トランジスタ等のようなバイオセンサ上などに
転写することができる。
【0042】「予備培養された状態(pre-cultured-sit
uation)」を用いる本発明によれば、有用な細胞パター
ンだけが用いられ、そしてその細胞パターンがデバイス
上に転写される。そして、このような操作により、要求
される多くのデバイスをよりよく制御することができ
る。これは、これまで言及した全ての他の応用例、考え
られる応用例についても広く当てはまる。
【0043】この「特別あつらえでないアプローチ(of
f-the-shelf-approach)」は、デバイスの入手が限られ
ているとき、デバイスそれ自体は細胞成長及び培養にあ
まり適さないとき、又はこれらのデバイス上での細胞の
操作が、不可逆的なダメージを細胞に与えるときに非常
に有用である。
【0044】この場合、予備パターン化された基板上に
成長する新たな細胞のパターンは、同じようなデバイス
上に配置することができ、この特定のデバイスで行われ
るあらゆる種類の測定が再開される。或いはまた、ある
デバイスで用いられた細胞パターンは、すなわち、細胞
パターンをデバイスから外した状態で、無菌状態へ移す
ことができ、測定を行った後で、当該細胞パターンは、
さらなる培養のために培養器へと戻される。
【0045】本発明者らは、器官適合性の全体組織の組
み合わせと、表面上に注意深く予備パターンを形成する
ことにより、極めて多様な細胞パターンを形成すること
に成功した。また、デバイスに依存するあらゆる要求に
従って、さらに多くのパターンのデザインが可能とな
る。また、人工組織を作製することにも成功した。
【0046】細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害
分子を表面上に被着させることで、表面を予備パターン
するために適当な技術として、マイクロコンタクトプリ
ンティング(microcontact printing)技術について以
下の実験例に述べるが、本発明は、特にこの技術に限定
されるものではない。表面を予備パターンするための技
術として、他に例えばフォトリソグラフィ、リソグラフ
ィ用マスクを用いたレーザーアブレーション技術等が挙
げられるが、これらの技術も、本発明の範囲に含まれ
る。
【0047】なお、本発明は、明細書、特許請求の範囲
及び/又は添付された図面に開示された本発明のそれぞ
れの特徴を別々に適用することもできるし、それらをあ
らゆる組み合わせで適用することもできる。いずれの形
態においても本発明を実現することができる。
【0048】〈実験例〉本発明について行った実験例に
ついて述べるが、本発明はこれらの例に限定されるもの
ではない。
【0049】実験例1 本発明の方法を用いて、表面上に多くの種類のラミニン
のパターンを形成した。これらのパターンは、細胞成長
を厳密に制御することで形成することができる。これら
のパターンを表1〜表3に示す。
【0050】
【表1】
【0051】
【表2】
【0052】
【表3】
【0053】実験例2 ・脳幹細胞と器官適合性を有する細胞の培養 発生15日齢〜18日齢のSDラット(Sprague-Dawley
rat)の胎児の脳全体を摘出した。このとき、脳脚を切
開して取り出された、くちばし状の脳橋及び小脳を横断
切断することによって延髄及び脳橋を除去した。そし
て、無菌状態の冷却されたpH7.4の脳幹組織切片培
養基で、脳幹細胞組織切片の冠状切片(coronal sectio
ns)を得た。マキルウェイン組織切断器を用いて切り取
ったこれらの組織切片の厚さは250μmであった。
【0054】このようにして準備された組織切片(通
常、ラット脳幹細胞から約6〜12組織切片得られ
る。)を、37℃、5%のCO雰囲気に設定された培
養器内に、最低4〜5時間放置した。この保温培養によ
って、切り取られたことによってダメージを受けた細胞
を、切り取られた組織切片の表面から分離させる。
【0055】この保温培養の後、当該組織切片を、表面
を洗浄したスパチュラを用いて、ラミニンコートされた
対照試料上、及びラミニンがパターンされたテスト基板
上に載置した。このとき、組織切片にさらにダメージを
与えないように気をつけなければならない。
【0056】G hwilerによって記載された方法
とは異なり、組織切片を固定する際に、プラズマ凝固物
又はコラーゲンは用いない。プラズマ凝固物又はコラー
ゲンのどちらの方法も、細胞の移動、特にECMパター
ン上での移動を妨げるからである。また、回転チューブ
技術は不要である。
【0057】その代わりに、組織切片が表面から分離し
ないように、全ての培養皿において大量の培養基を添加
した。培養2〜3日後には、組織切片がかなり広範囲に
わたって移動するので、より多くの培養基をこの段階で
添加してもよい。
【0058】非神経細胞の増殖を阻害するために、有糸
分裂阻害剤であるシトシンβ−D−アラビノフラノシド
(ARA−C、SIGMA C−6645)を、必要に
応じて4日目又は5日目に添加した。ARA−Cを用い
た場合、培養基は5日後〜7日後に、ARA−Cを添加
しない状態に戻った。
【0059】実験例3 ・マイクロコンタクトプリンティング(Micro contact
printing)及び溶液 実験用のマイクロスタンプをフォトリソグラフィ及び成
形によって作製した。実験用にデザインした種々の構造
パターンを、電子ビームでクロムマスクに書き込んだ。
そして、紫外線フォトリソグラフィ技術を用いて、厚さ
0.6mmのシリコンウェハ(MEMC Electronic Materi
als, Germany)上に、厚さ12.5μmのフォトレジス
ト層(AZ 4562, Clariant GmbH, Germany)がスピンコ
ートされてなるマスター型を作製した。
【0060】引き続いて、10mlエッペンドルフ管内
で55℃、48時間処理してシルガード182(Dow Co
rning, Germany)を硬化させることにより、上記マスタ
ー型に逆状態の、ポリジメチルシロキサン(PDMS)
のマイクロスタンプを作製した。マスター型を離型した
後、110℃で1時間処理して、最終硬化を行った。
【0061】スタンプの親水性を向上させるために、最
低24時間、PDMSスタンプを脱イオン水中に保持し
た。パターン形成を行う前に、スタンプを水から取り出
し、70%エタノール浴中で1分間の滅菌を行った。
【0062】そして、スタンプを25μg/ml(〜
0.25μM)のラミニン溶液中に30秒間浸すことに
よりインク付けを行った。その後、インクが付けられた
スタンプを、穏やかな窒素空気流中で乾燥し、直ちに基
板上に10秒間押しつけた。全ての実験において、基板
として、組織培養用ではないポリスチレン製の直径3c
mのペトリ皿(Greiner Labortechick, Germany)を用
いた。
【0063】脳組織切片培養基は、20%〜25%の胎
児牛血清(SIGMA,F7524)及び4mMのグル
タミン(SIGMA,G7513)で補足されたHAM
SF10(SIGMA;G7513)から作製したもの
を用いた。ラミニン(1243217, Boehringer Mannheim G
mbH, Germany)は、無菌のPBS中で再構成されたもの
である。
【0064】実験例4 ・細胞パターンの実現 図1A〜図1Dは、ラミニンコートされた組織培養プラ
スチック上における、器官適合性を有する(organotypi
c)脳幹神経細胞の移動を示す図である。図1Aに示すよ
うに、培養3日目では、移動した神経細胞をはっきりと
認識することができ、また、神経突起の成長がすでに始
まっていた。図1Bに示すように、培養5日目では、こ
れらの樹枝状突起及び神経突起は、かなりの長さに成長
していた。13日目(図1C)及び20日目(図1D)
では、この神経突起は、グリア細胞及び他の非神経細胞
の上に広く行き渡るネットワークを形成する全ての神経
細胞と合流するようになった。
【0065】図2は、本発明の技術を用いて、神経突起
の成長及び神経細胞の移動を誘導することの有効性を示
す図である。用いたパターンには関係なく、ラミニンで
パターンされた基板上の脳幹組織切片は、神経突起の急
速な成長を示した。そしてこの神経突起は、2週間以内
にスタンプされたパターンの端まで伸び、2週間の終わ
りには神経突起は成熟して厚くなった。
【0066】図3及び図4は、細胞外基質タンパク質の
様々な評価を示す図である。図3AA及び図3ABに示
すパターン1は、節(node)の直径が10μmであり、
筋(line)の幅が2μmである。図3BA及び図3BB
に示すパターン2は、節の直径が10μmであり、筋の
幅が4μmである。図3CA及び図3CBに示すパター
ン3は、節の直径が10μmであり、筋の幅が6μmで
あった。図4DA及び部3DBに示すパターン4は、節
の直径が10μmであり、筋の幅が2μmであった。図
4EA及び図4EBに示すパターン5は、節の直径が1
0μmであり、筋の幅が2μmであった。図4FA及び
図4FBに示すパターン6は、節の直径が20μmであ
り、トラックが4μmであった。培養初期には、移動し
た神経細胞及び突起の成長プロセスは、全てのパターン
において殆ど重なり合うことなくはっきりと見えてい
た。これらの培養物は、少なくとも培養10日目までは
成熟を続け、ラミニンでスタンプされたパターンの元の
形状が識別可能であった。
【0067】図5乃至図7は、幅2μmの筋(節の直径
10μm)で殆ど完全なパターンが実現できること及び
完全な格子(grid)構造が形成されることを示す図であ
る。パターン1の培養14日目における神経突起の成長
を、図5では40倍、図6では100倍、図7では20
0倍と、倍率を次第に増して示す。この神経突起の完全
なネットワークは、最小幅(2μm)のパターンで得ら
れた。図中の*は、それらの対応する倍率における基板
上の同じポイントを示す。しかしながら、この特別なパ
ターンでは、視覚的に確認できる神経細胞で実際にパタ
ーン上に移動したものは極めて少ない。つまり、そのパ
ターンは、神経突起の成長によってのみ形成されるもの
である。節の径が10μm〜14μmであり、筋の幅が
2〜4μmであるようなパターンが、神経細胞の制限に
最も適していた。
【0068】筋幅を様々に変えて行った実験では、筋幅
が6μmの場合に最もよく神経細胞の移動が生ることが
示された。この筋幅では、神経突起の完全なネットワー
クは、マイクロコンタクトプリンティング(microconta
ct printing)技術に使われる最初のスタンプ(直径1
0mm)とほぼ同じ面積に広がっていた。細胞は、節
(node)に向かって移動する傾向があり(Klein et a
l., 1999, J. of Mat. Sci; Mat. in Med., 10, 721-72
9)、また、脳神経細胞を用いたときにも同じ現象が観
察されることが知られている。節上に移動したこれらの
神経細胞を、その後固定化する。数日間の培養の後、神
経細胞の神経突起が成長し始め、単純な線状の神経細胞
のネットワークを形成した。
【0069】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、従来にない方法で、表面上での正確な細胞
の成長の制御及び誘導を可能にすることができる。ま
た、本発明によれば、有益なデバイスを与える培養スタ
ータ(starter cultures)又は基板の数を減少させるこ
とにより、生物電子デバイスの生産にかかる労力を抑制
可能とする。また、本発明によれば、インプラント及び
移植組織の生体適合性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ラミニンコートされた組織培養プラスチック上
の器官の機能を維持した状態(organotypic) である脳幹
神経細胞の移動を示す図であり、Aは培養3日目、Bは
培養5日目、Cは培養13日目、Dは培養20日目の状
態を示す図である。
【図2】ラミニンのトラック上に神経突起が成長した様
子を示す図である。
【図3】細胞外基質タンパク質の様々な評価を示す図で
ある。
【図4】細胞外基質タンパク質の様々な評価を示す図で
ある。
【図5】パターン1の培養14日目における神経突起の
成長を示す図であり、倍率40倍で示す図である。
【図6】パターン1の培養14日目における神経突起の
成長を示す図であり、倍率100倍で示す図である。
【図7】パターン1の培養14日目における神経突起の
成長を示す図であり、倍率200倍で示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 500382141 マックス プランク ゲゼルシャフト ツ ル フォルデルング デル ウィッセンシ ャフテン エー.ヴェー. ドイツ連邦共和国 ディー−80539 ミュ ンヘン ホフガルテンシュトラーセ 8 (72)発明者 ネレス、ガブリエーレ ドイツ連邦共和国 70327 シュトゥット ゥガルトヘデルフィンガー シュトラーセ 61 ソニー インターナショナル(ヨー ロッパ) ゲゼルシャフト ミット ベシ ュレンクテル ハフツング アドバンスド テクノロジー センター シュトゥット ゥガルト内 (72)発明者 安田 章夫 ドイツ連邦共和国 70327 シュトゥット ゥガルトヘデルフィンガー シュトラーセ 61 ソニー インターナショナル(ヨー ロッパ) ゲゼルシャフト ミット ベシ ュレンクテル ハフツング アドバンスド テクノロジー センター シュトゥット ゥガルト内 (72)発明者 クノッル、ヲルフガング ドイツ連邦共和国 55128 マインツ ア ッケルマンウェグ 10 マックス プラン ク インスティテュート フル ポリメル フォルシュング内 (72)発明者 オッフェンハウザー、アンドレアス ドイツ連邦共和国 55128 マインツ ア ッケルマンウェグ 10 マックス プラン ク インスティテュート フル ポリメル フォルシュング内 (72)発明者 ヨン、チー コング ドイツ連邦共和国 55128 マインツ ア ッケルマンウェグ 10 マックス プラン ク インスティテュート フル ポリメル フォルシュング内 (72)発明者 ラウアー、ラース ドイツ連邦共和国 55128 マインツ ア ッケルマンウェグ 10 マックス プラン ク インスティテュート フル ポリメル フォルシュング内 Fターム(参考) 4B065 AA90X BB19 BB25 BC41 BC50 CA44 4C081 BA12 BC01 CD34 EA01 4C097 BB01 MM04

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 細胞パターンを形成しようとする表面
    に、細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子を当
    該表面にパターン被着させることによって予備パターン
    する工程と、 上記予備パターンされた表面上に細胞を培養することに
    よって、上記表面上に細胞パターンを形成する工程とを
    有し、 上記細胞が全体組織であることを特徴とする表面への細
    胞パターンの形成方法。
  2. 【請求項2】 上記全体組織が、生物の組織体に由来す
    るものであることを特徴とする請求項1記載の表面への
    細胞パターンの形成方法。
  3. 【請求項3】 上記全体組織が、脳、肝臓、腎臓、筋
    肉、皮膚、骨、肺及び心臓を含む群から選ばれる器官に
    由来するものであることを特徴とする請求項1又は請求
    項2のいずれかに記載の表面への細胞パターンの形成方
    法。
  4. 【請求項4】 上記細胞が、器官の組織切片であること
    を特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
    表面への細胞パターンの形成方法。
  5. 【請求項5】 上記細胞が、脳の組織切片であることを
    特徴とする請求項4記載の表面への細胞パターンの形成
    方法。
  6. 【請求項6】 上記予備パターンされた表面に被着され
    た上記細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子の
    パターンが、細胞の成長及び移動を誘導することを特徴
    とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の表面へ
    の細胞パターンの形成方法。
  7. 【請求項7】 上記細胞成長促進分子及び/又は細胞成
    長阻害分子のパターンが、器官の細胞の配列を模倣した
    ものであることを特徴とする請求項6記載の表面への細
    胞パターンの形成方法。
  8. 【請求項8】 上記細胞成長促進分子及び/又は細胞成
    長阻害分子のパターンが、筋及び節を有する構造である
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記
    載の表面への細胞パターンの形成方法。
  9. 【請求項9】 上記筋の幅が1μm〜8μmの範囲であ
    り、上記節の直径が1μm〜30μmの範囲であること
    を特徴とする請求項8記載の表面への細胞パターンの形
    成方法。
  10. 【請求項10】 上記筋の幅が1μm〜6μmの範囲で
    あり、上記節の直径が8μm〜16μmの範囲であるこ
    とを特徴とする請求項9記載の表面への細胞パターンの
    形成方法。
  11. 【請求項11】 上記筋の幅が2μm〜4μmの範囲で
    あり、上記節の直径が10μm〜14μmの範囲である
    ことを特徴とする請求項10記載の表面への細胞パター
    ンの形成方法。
  12. 【請求項12】 上記細胞成長促進分子及び/又は細胞
    成長阻害分子のパターンが、ポリペプチド、ポリエチレ
    ンイミン及びポリスチレンを含む群から選ばれる物質の
    少なくとも1層によって形成されることを特徴とする請
    求項1乃至請求項11のいずれかに記載の表面への細胞
    パターンの形成方法。
  13. 【請求項13】 上記ポリペプチドが、細胞外基質タン
    パク質、ポリ−L−リジン及びポリ−オルニチンを含む
    群から選択されることを特徴とする請求項12記載の表
    面への細胞パターンの形成方法。
  14. 【請求項14】 上記細胞外基質タンパク質が、ラミニ
    ン及びフィブロネクチンを含む群から選択されることを
    特徴とする請求項13記載の表面への細胞パターンの形
    成方法。
  15. 【請求項15】 細胞パターンを形成しようとする表面
    に、細胞成長促進分子及び/又は細胞成長阻害分子を当
    該表面にパターン被着させることによって予備パターン
    する工程と、 上記予備パターンされた表面上に細胞を培養することに
    よって、上記表面上に細胞パターンを形成する工程と、 上記表面上に形成された上記細胞パターンを、その後、
    第2の表面へ転写する転写工程とを有し、 上記細胞が、全体組織及び解離された細胞を含む群から
    選択されるものであることを特徴とする請求項1乃至請
    求項14のいずれかに記載の表面への細胞パターンの形
    成方法。
  16. 【請求項16】 上記転写工程が、 a)マトリクスに上記細胞パターンを埋め込む手順と、 b)上記予備パターンされた表面から、上記細胞パター
    ンを含む上記マトリクスを引き上げる手順と、 c)上記マトリクスに埋め込まれた上記細胞パターン
    を、上記第2の表面に接触させる手順とを含むことを特
    徴とする請求項15記載の表面への細胞パターンの形成
    方法。
  17. 【請求項17】 上記転写工程が、さらに d)上記マトリクスから、上記細胞パターンを離型する
    手順と、 e)上記細胞パターンから、上記マトリクスを除去する
    手順とを含むことを特徴とする請求項15又は請求項1
    6のいずれかに記載の表面への細胞パターンの形成方
    法。
  18. 【請求項18】 上記マトリクスが、細胞と適合性のあ
    ることを特徴とする請求項16及び請求項17のいずれ
    かに記載の表面への細胞パターンの形成方法。
  19. 【請求項19】 上記マトリクスが、アガロース、フィ
    ブリン、コラーゲン及びセルロースを含む群から選ばれ
    る材料からなることを特徴とする請求項16乃至請求項
    18のいずれかに記載の表面への細胞パターンの形成方
    法。
  20. 【請求項20】 上記マトリクスが、硬化可能な材料か
    らなることを特徴とする請求項16乃至請求項18のい
    ずれかに記載の表面への細胞パターンの形成方法。
  21. 【請求項21】 上記硬化可能な材料が、アガロースを
    含む群から選ばれることを特徴とする請求項20に記載
    の表面への細胞パターンの形成方法。
  22. 【請求項22】 上記マトリクスが、ゲルを形成可能な
    材料からなることを特徴とする請求項16乃至請求項1
    8のいずれかに記載の表面への細胞パターンの形成方
    法。
  23. 【請求項23】 上記ゲルを形成可能な材料が、フィブ
    リノゲン及びコラーゲンを含む群から選ばれることを特
    徴とする請求項22記載の表面への細胞パターンの形成
    方法。
  24. 【請求項24】 上記第2の表面が、生物電子デバイス
    の表面、センサ、電子素子、組織、インプラント及び移
    植組織を含む群から選ばれることを特徴とする請求項1
    5乃至請求項21のいずれかに記載の表面への細胞パタ
    ーンの形成方法。
  25. 【請求項25】 上記埋め込み工程が、 aa)液体状の上記マトリクスで、上記細胞パターンの
    一部又は全体を被覆する手順と ab)上記マトリクスを形成する手順とを有することを
    特徴とする請求項16乃至請求項24のいずれかに記載
    の表面への細胞パターンの形成方法。
  26. 【請求項26】 上記マトリクスの形成は、ゲル転移温
    度以上に温度を上昇させること、及び/又は少なくとも
    1つのゲル誘導要素の添加により行われることを特徴と
    する請求項25記載の表面への細胞パターンの形成方
    法。
  27. 【請求項27】 上記ゲル誘導要素が、トロンビン及び
    他の血液凝固因子を含む群から選ばれることを特徴とす
    る請求項26記載の表面への細胞パターンの形成方法。
  28. 【請求項28】 上記マトリクスからの上記細胞パター
    ンの離型は、酵素による分解及び/又はゲル転移温度未
    満に温度を低下させることによって行われることを特徴
    とする請求項17乃至請求項27のいずれかに記載の表
    面への細胞パターンの形成方法。
  29. 【請求項29】 請求項1乃至請求項14のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である細胞パターン。
  30. 【請求項30】 請求項1乃至請求項14のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である表面上の細胞パターン。
  31. 【請求項31】 請求項1乃至請求項28のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である細胞パターン。
  32. 【請求項32】 請求項1乃至請求項28のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である表面上の細胞パターン。
  33. 【請求項33】 請求項1乃至請求項14のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である人工組織。
  34. 【請求項34】 請求項1乃至請求項14のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である表面上の人工組織。
  35. 【請求項35】 請求項1乃至請求項28のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である人工組織。
  36. 【請求項36】 請求項1乃至請求項28のいずれかに
    記載される表面への細胞パターンの形成方法によって作
    成可能である表面上の人工組織。
  37. 【請求項37】 請求項29乃至請求項32のいずれか
    に記載される細胞パターンの組み合わせ。
  38. 【請求項38】 請求項33乃至請求項36のいずれか
    に記載される人工組織の組み合わせ。
  39. 【請求項39】 請求項29乃至請求項32のいずれか
    に記載される細胞パターン及び請求項33乃至請求項3
    6のいずれかに記載される人工組織の組み合わせ。
  40. 【請求項40】 センサ、技術的基板、組織、インプラ
    ント及び移植組織を含む群から選ばれるデバイスにおけ
    る、請求項29乃至請求項32のいずれかに記載の細胞
    パターン、及び/又は請求項33乃至請求項36のいず
    れかに記載の人工組織、及び/又は請求項37又は請求
    項38のいずれかに記載の組み合わせの使用。
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