JP2002350799A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JP2002350799A JP2002350799A JP2001152192A JP2001152192A JP2002350799A JP 2002350799 A JP2002350799 A JP 2002350799A JP 2001152192 A JP2001152192 A JP 2001152192A JP 2001152192 A JP2001152192 A JP 2001152192A JP 2002350799 A JP2002350799 A JP 2002350799A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザー光のエネルギーとレーザー光の照射
する領域を制御するスリットのサイズを調整したレーザ
ーリペア加工により、液晶セルの明点欠陥、線欠陥を低
減した液晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 樹脂材料からなるブラックマトリクスを
含むカラーフィルターを備えた液晶表示装置の製造方法
であって、セル状態でのレーザーリペア加工時における
レーザー光のエネルギーを３．５〜４．３ｍＪの範囲に
設定したものである。
する領域を制御するスリットのサイズを調整したレーザ
ーリペア加工により、液晶セルの明点欠陥、線欠陥を低
減した液晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 樹脂材料からなるブラックマトリクスを
含むカラーフィルターを備えた液晶表示装置の製造方法
であって、セル状態でのレーザーリペア加工時における
レーザー光のエネルギーを３．５〜４．３ｍＪの範囲に
設定したものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法、特に、透明画素電極と薄膜トランジスタを２次元
的に配置した基板よりなるマトリクス型の液晶表示装置
の製造方法に関するものである。
方法、特に、透明画素電極と薄膜トランジスタを２次元
的に配置した基板よりなるマトリクス型の液晶表示装置
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶を用いた表示装置は各方面に
広く使用されている。特に薄膜トランジスタ（以下ＴＦ
Ｔという）を用いた液晶表示装置に関する技術の進歩に
は著しいものがある。
広く使用されている。特に薄膜トランジスタ（以下ＴＦ
Ｔという）を用いた液晶表示装置に関する技術の進歩に
は著しいものがある。
【０００３】以下、図面を参照しながら、従来の液晶表
示装置の製造方法について説明する。図４は従来の液晶
表示装置の製造方法を適用し得る一般的な液晶表示装置
に用いられる液晶表示パネルの構成を示す断面図、図５
は図４に示す液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ
ー基板の要部拡大断面図、図６は従来の液晶表示装置の
製造方法を適用した一般的な液晶表示装置における電極
間ショートの説明図である。
示装置の製造方法について説明する。図４は従来の液晶
表示装置の製造方法を適用し得る一般的な液晶表示装置
に用いられる液晶表示パネルの構成を示す断面図、図５
は図４に示す液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ
ー基板の要部拡大断面図、図６は従来の液晶表示装置の
製造方法を適用した一般的な液晶表示装置における電極
間ショートの説明図である。
【０００４】図４において、４１は映像信号を書き込む
ためのＴＦＴを用いたマトリクス型のアレイ基板、４２
は液晶の動作を制御するための基準電圧を与える対向電
極（カラーフィルター）基板、４３はアレイ基板の画素
電極と対向電極間の電界により光を偏光させる液晶、４
４は一方向の光のみを通過させる偏光板であり、全体と
して液晶セル４５を構成している。
ためのＴＦＴを用いたマトリクス型のアレイ基板、４２
は液晶の動作を制御するための基準電圧を与える対向電
極（カラーフィルター）基板、４３はアレイ基板の画素
電極と対向電極間の電界により光を偏光させる液晶、４
４は一方向の光のみを通過させる偏光板であり、全体と
して液晶セル４５を構成している。
【０００５】ここで、カラーフィルター基板４２のパタ
ーンの詳細について説明する。図５はこのカラーフィル
ター基板４２のパターンを拡大して示しており、図中、
５１は光をアレイ基板に通さないように配置した樹脂材
料からなるＢＭ（ブラックマトリクス）部、５２は、後
述の着色層膜部５４の着色色層の段差を平坦化させ、さ
らに絶縁のために配置しているオーバーコート部、５３
はカラーフィルター基板４２の透明電極部、５４は着色
層膜部を示す。
ーンの詳細について説明する。図５はこのカラーフィル
ター基板４２のパターンを拡大して示しており、図中、
５１は光をアレイ基板に通さないように配置した樹脂材
料からなるＢＭ（ブラックマトリクス）部、５２は、後
述の着色層膜部５４の着色色層の段差を平坦化させ、さ
らに絶縁のために配置しているオーバーコート部、５３
はカラーフィルター基板４２の透明電極部、５４は着色
層膜部を示す。
【０００６】この液晶セル４５の表示画像に部分的に高
輝度になる明点欠陥がある場合、レーザーリペア加工に
よって欠陥部分をレスキューし、正常画素化もしくは暗
点欠陥にして画像上、明点欠陥にならないようにしてい
る。
輝度になる明点欠陥がある場合、レーザーリペア加工に
よって欠陥部分をレスキューし、正常画素化もしくは暗
点欠陥にして画像上、明点欠陥にならないようにしてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法では、ＢＭ部５１からなるカラーフィルターを
用いた液晶セル４５ではレーザーリペア加工時、レーザ
ー光にてＢＭ部５１の膜残り部を分離もしくは溶着した
場合、図６に示すようにＢＭ部５１がレーザー光の照射
により加熱されて膨潤し、そのためカラーフィルター基
板４２の透明電極部５３が起伏し、アレイ基板４１の透
明画素電極６１とショートする電極間ショートが起こ
り、これが明点欠陥もしくは線欠陥になるという問題点
があった。
うな方法では、ＢＭ部５１からなるカラーフィルターを
用いた液晶セル４５ではレーザーリペア加工時、レーザ
ー光にてＢＭ部５１の膜残り部を分離もしくは溶着した
場合、図６に示すようにＢＭ部５１がレーザー光の照射
により加熱されて膨潤し、そのためカラーフィルター基
板４２の透明電極部５３が起伏し、アレイ基板４１の透
明画素電極６１とショートする電極間ショートが起こ
り、これが明点欠陥もしくは線欠陥になるという問題点
があった。
【０００８】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
のであり、レーザー光のエネルギーとレーザー光の照射
する領域を制御するスリットのサイズを調整したレーザ
ーリペア加工により、液晶セルの明点欠陥、線欠陥を低
減した液晶表示装置の製造方法を提供することを目的と
する。
のであり、レーザー光のエネルギーとレーザー光の照射
する領域を制御するスリットのサイズを調整したレーザ
ーリペア加工により、液晶セルの明点欠陥、線欠陥を低
減した液晶表示装置の製造方法を提供することを目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、樹脂材料からなるブラックマトリクスを含
むカラーフィルターを備えた液晶表示装置の製造方法で
あって、セル状態でのレーザーリペア加工時におけるレ
ーザー光のエネルギーを３．５〜４．３ｍＪの範囲に設
定したものである。
製造方法は、樹脂材料からなるブラックマトリクスを含
むカラーフィルターを備えた液晶表示装置の製造方法で
あって、セル状態でのレーザーリペア加工時におけるレ
ーザー光のエネルギーを３．５〜４．３ｍＪの範囲に設
定したものである。
【００１０】この発明によれば、レーザーリペア加工時
のレーザー光のエネルギーとレーザー光の照射領域を制
御するスリットサイズを調整することにより、液晶セル
の明点欠陥、線欠陥を低減することが可能となり、材料
や工数も抑制することができる。
のレーザー光のエネルギーとレーザー光の照射領域を制
御するスリットサイズを調整することにより、液晶セル
の明点欠陥、線欠陥を低減することが可能となり、材料
や工数も抑制することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて、図面を参照しながら説明する。なお、前記従来の
ものと同一の部分については同一符号を用いるものとす
る。
いて、図面を参照しながら説明する。なお、前記従来の
ものと同一の部分については同一符号を用いるものとす
る。
【００１２】（実施の形態１）図１は本発明の液晶表示
装置の製造方法の実施の形態１におけるレーザー光のエ
ネルギーと欠陥の発生率との相関を示すグラフである。
装置の製造方法の実施の形態１におけるレーザー光のエ
ネルギーと欠陥の発生率との相関を示すグラフである。
【００１３】本実施の形態において対象とする液晶セル
は図４および図５に示した一般的な液晶セル４５を対象
とし、その明点欠陥、線欠陥を低減しうる製造方法を提
供するものである。
は図４および図５に示した一般的な液晶セル４５を対象
とし、その明点欠陥、線欠陥を低減しうる製造方法を提
供するものである。
【００１４】図１に示すように、レーザー光のエネルギ
ーと欠陥の発生率との間には相関があり、レーザーリペ
ア加工によるレスキュー時において、レーザー光の照射
領域を制御するスリットのサイズを長辺１２μｍ、短辺
２．８μｍに固定した状態でレーザー光を照射した場
合、レーザー光のエネルギーが３．５ｍＪ以下ではレー
ザー光のエネルギー不足により欠陥の修理が不十分とな
って、欠陥の発生率が高くなり、また、レーザー光のエ
ネルギーが４．３ｍＪ以上では、レーザー光の照射によ
るエネルギーが高いため、カラーフィルターの発熱によ
る膨潤により、カラーフィルター側の透明電極部５３の
起伏が発生しやすくなって、欠陥の発生率が高くなる。
ーと欠陥の発生率との間には相関があり、レーザーリペ
ア加工によるレスキュー時において、レーザー光の照射
領域を制御するスリットのサイズを長辺１２μｍ、短辺
２．８μｍに固定した状態でレーザー光を照射した場
合、レーザー光のエネルギーが３．５ｍＪ以下ではレー
ザー光のエネルギー不足により欠陥の修理が不十分とな
って、欠陥の発生率が高くなり、また、レーザー光のエ
ネルギーが４．３ｍＪ以上では、レーザー光の照射によ
るエネルギーが高いため、カラーフィルターの発熱によ
る膨潤により、カラーフィルター側の透明電極部５３の
起伏が発生しやすくなって、欠陥の発生率が高くなる。
【００１５】これから明らかなように、レーザー光の照
射するエネルギーを３．５〜４．３ｍＪにすることによ
り、レーザーリペア加工によるカラーフィルターのＢＭ
部５１の膨潤による透明電極部５３の起伏を減少させ、
これと対向する透明画素電極６１とのショートを防ぎ、
液晶シェルの明点欠陥、線欠陥を減少させることができ
る。
射するエネルギーを３．５〜４．３ｍＪにすることによ
り、レーザーリペア加工によるカラーフィルターのＢＭ
部５１の膨潤による透明電極部５３の起伏を減少させ、
これと対向する透明画素電極６１とのショートを防ぎ、
液晶シェルの明点欠陥、線欠陥を減少させることができ
る。
【００１６】以上のように、本実施の形態によれば、レ
ーザー光のエネルギーと欠陥の発生率との相関の解明に
より、これに対応したレーザーリペア加工を行うこと
で、欠陥の発生を減少させることが可能となり、材料や
工数も抑制した液晶表示装置を容易に製造することがで
きる。
ーザー光のエネルギーと欠陥の発生率との相関の解明に
より、これに対応したレーザーリペア加工を行うこと
で、欠陥の発生を減少させることが可能となり、材料や
工数も抑制した液晶表示装置を容易に製造することがで
きる。
【００１７】（実施の形態２）図２は本発明の液晶表示
装置の製造方法の実施の形態２におけるレーザー光の照
射領域を制御するスリットの長辺サイズと欠陥の発生率
との相関を示すグラフ、図３は同上スリットの短辺サイ
ズと欠陥の発生率との相関を示すグラフである。
装置の製造方法の実施の形態２におけるレーザー光の照
射領域を制御するスリットの長辺サイズと欠陥の発生率
との相関を示すグラフ、図３は同上スリットの短辺サイ
ズと欠陥の発生率との相関を示すグラフである。
【００１８】図２において、レーザー光の照射領域を制
御するスリットの短辺サイズを３．０μｍに固定し、レ
ーザー光のエネルギーを、３．５，４．０，４．３ｍＪ
に規定した場合、長辺サイズ１３．０μｍ以上ではレー
ザーリペア加工時のカラーフィルターのＢＭ部５１の膨
潤による透明電極部５３の起伏が起こりやすくなり、欠
陥の発生率が１０％以上になる。しかし、長辺サイズ１
３．０μｍ以下ではレーザーリペア加工によるカラーフ
ィルターのＢＭ部５１の膨潤による透明電極部５３の起
伏を防止し、欠陥の発生率を１０％以下に低減すること
が可能となる。また、図３において、レーザー光の照射
領域を制御するスリットの長辺サイズ１２．０μｍに固
定し、短辺方向２２を２．０μｍ〜３．０μｍにした
時、明点欠陥、線欠陥の発生率は３％〜５％になる。
御するスリットの短辺サイズを３．０μｍに固定し、レ
ーザー光のエネルギーを、３．５，４．０，４．３ｍＪ
に規定した場合、長辺サイズ１３．０μｍ以上ではレー
ザーリペア加工時のカラーフィルターのＢＭ部５１の膨
潤による透明電極部５３の起伏が起こりやすくなり、欠
陥の発生率が１０％以上になる。しかし、長辺サイズ１
３．０μｍ以下ではレーザーリペア加工によるカラーフ
ィルターのＢＭ部５１の膨潤による透明電極部５３の起
伏を防止し、欠陥の発生率を１０％以下に低減すること
が可能となる。また、図３において、レーザー光の照射
領域を制御するスリットの長辺サイズ１２．０μｍに固
定し、短辺方向２２を２．０μｍ〜３．０μｍにした
時、明点欠陥、線欠陥の発生率は３％〜５％になる。
【００１９】したがって、図２および図３に示す条件に
より、レーザーリペア加工を行えば、カラーフィルター
のＢＭ部５１の起伏を減少させ、対向するアレイ基板４
１の透明画素電極６１とのショートを防ぎ、前記実施の
形態１と同様、明点欠陥、線欠陥の発生を低減すること
ができる。
より、レーザーリペア加工を行えば、カラーフィルター
のＢＭ部５１の起伏を減少させ、対向するアレイ基板４
１の透明画素電極６１とのショートを防ぎ、前記実施の
形態１と同様、明点欠陥、線欠陥の発生を低減すること
ができる。
【００２０】以上のように、本実施の形態によれば、レ
ーザー光のエネルギーおよびレーザー光の照射領域を制
御するスリットのサイズと欠陥の発生率との相関の解明
により、これに対応したレーザーリペア加工を行うこと
で、欠陥の発生を減少させることが可能となり、材料や
工数も抑制した液晶表示装置を容易に製造することがで
きる。
ーザー光のエネルギーおよびレーザー光の照射領域を制
御するスリットのサイズと欠陥の発生率との相関の解明
により、これに対応したレーザーリペア加工を行うこと
で、欠陥の発生を減少させることが可能となり、材料や
工数も抑制した液晶表示装置を容易に製造することがで
きる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、レーザー
リペア加工時のレーザー光のエネルギーとレーザー光の
照射領域を制御するスリットのスリットサイズとの相関
に基づく調整により、明点欠陥、線欠陥の発生を防ぎ、
しいては材料や製造工数も抑制した液晶表示装置を製造
することができるという有利な効果が得られる。
リペア加工時のレーザー光のエネルギーとレーザー光の
照射領域を制御するスリットのスリットサイズとの相関
に基づく調整により、明点欠陥、線欠陥の発生を防ぎ、
しいては材料や製造工数も抑制した液晶表示装置を製造
することができるという有利な効果が得られる。
【図１】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施の形態
１におけるレーザー光のエネルギーと欠陥の発生率との
相関を示すグラフ
１におけるレーザー光のエネルギーと欠陥の発生率との
相関を示すグラフ
【図２】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施の形態
２におけるレーザー光の照射領域を制御するスリットの
長辺サイズと欠陥の発生率との相関を示すグラフ
２におけるレーザー光の照射領域を制御するスリットの
長辺サイズと欠陥の発生率との相関を示すグラフ
【図３】図２に示すスリットの短辺サイズと欠陥の発生
率との相関を示すグラフ
率との相関を示すグラフ
【図４】従来の液晶表示装置の製造方法を適用し得る一
般的な液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルの構成
を示す断面図
般的な液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルの構成
を示す断面図
【図５】図４に示す液晶表示装置に用いられるカラーフ
ィルター基板の要部拡大断面図
ィルター基板の要部拡大断面図
【図６】従来の液晶表示装置の製造方法を適用した一般
的な液晶表示装置における電極間ショートの説明図
的な液晶表示装置における電極間ショートの説明図
４１ アレイ基板 ４２ 対向電極（カラーフィルター） ４３ 液晶 ４４ 偏光板 ４５ 液晶セル ５１ 樹脂状ブラックマトリクス ５２ オーバーコート ５３ カラーフィルター基板の透明電極部 ５４ 着色層膜部 ６１ アレイ基板の透明画素電極
Claims (2)
- 【請求項１】 樹脂材料からなるブラックマトリクスを
含むカラーフィルターを備えた液晶表示装置の製造方法
であって、セル状態でのレーザーリペア加工時における
レーザー光のエネルギーを３．５〜４．３ｍＪの範囲に
設定したことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 レーザー光の照射領域を制御するスリッ
トを有し、そのスリットの長辺サイズを１３.０μｍ、
短辺サイズを３.０μｍ以下に設定したことを特徴とす
る請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001152192A JP2002350799A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001152192A JP2002350799A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002350799A true JP2002350799A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=18996908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001152192A Pending JP2002350799A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002350799A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004099866A1 (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Olympus Corporation | 欠陥修正装置及びその欠陥修正方法 |
| CN100395586C (zh) * | 2003-05-09 | 2008-06-18 | 奥林巴斯株式会社 | 缺陷修正装置及其缺陷修正方法 |
| CN100437224C (zh) * | 2005-10-21 | 2008-11-26 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 修补平板显示器亮点区域的系统和方法 |
-
2001
- 2001-05-22 JP JP2001152192A patent/JP2002350799A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004099866A1 (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Olympus Corporation | 欠陥修正装置及びその欠陥修正方法 |
| CN100395586C (zh) * | 2003-05-09 | 2008-06-18 | 奥林巴斯株式会社 | 缺陷修正装置及其缺陷修正方法 |
| KR101027832B1 (ko) | 2003-05-09 | 2011-04-07 | 올림푸스 가부시키가이샤 | 결함수정장치 및 그 결함수정방법 |
| KR101061653B1 (ko) | 2003-05-09 | 2011-09-01 | 올림푸스 가부시키가이샤 | 결함수정장치 및 결함수정방법 |
| CN100437224C (zh) * | 2005-10-21 | 2008-11-26 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 修补平板显示器亮点区域的系统和方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20061127 |