JP2002348603A - 金属粉末の製造方法、金属粉末、導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品 - Google Patents

金属粉末の製造方法、金属粉末、導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品

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JP2002348603A
JP2002348603A JP2001154729A JP2001154729A JP2002348603A JP 2002348603 A JP2002348603 A JP 2002348603A JP 2001154729 A JP2001154729 A JP 2001154729A JP 2001154729 A JP2001154729 A JP 2001154729A JP 2002348603 A JP2002348603 A JP 2002348603A
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JP
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aluminum
metal powder
nickel
conductive paste
electronic component
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Application number
JP2001154729A
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English (en)
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Takanori Nakamura
孝則 中村
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微粒でありながら、焼結開始温度をより高温
側にシフトさせることができ、そのため、急峻な焼結収
縮を抑制できる金属粉末を提供する。 【解決手段】 たとえば水素ガスを含む不活性ガス中で
の、熱プラズマ、アークプラズマまたは高周波放電によ
って、ニッケル金属およびアルミニウム金属、またはこ
れら金属の合金を蒸発させたり、あるいは、ニッケル化
合物およびアルミニウム化合物を加熱蒸発させた後、気
相中で水素還元したりすることによって、ニッケル元素
およびアルミニウム元素を含む混合気体を作製し、次い
で、蒸発したニッケル元素およびアルミニウム元素を冷
却固化することによって、ニッケルを核として、その周
囲にアルミニウムが存在する金属粉末を得る。この金属
粉末は、アルミニウムの存在によって、焼成時の収縮開
始温度が高温側にシフトし、急峻な焼結収縮が抑制され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、金属粉末の製造
方法、この製造方法によって得られた金属粉末、この金
属粉末を含む導電性ペースト、およびこの導電性ペース
トをもって構成された積層セラミック電子部品に関する
もので、特に、金属粉末の微粒化を図るとともに焼結性
の制御を可能とするための改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】積層セラミックコンデンサのような積層
セラミック電子部品の内部導体を形成するため、導電性
ペーストが用いられる。導電性ペーストは、導電成分と
なる金属粉末を含有している。
【0003】上述した金属粉末としては、積層セラミッ
ク電子部品の製品コストの低減のため、コバルト、ニッ
ケル、銅などの卑金属からなる粉末が用いられている
が、コストの点ばかりでなく、耐酸化性の点を考慮し
て、ニッケル粉末が用いられることが多い。
【0004】他方、積層セラミック電子部品において、
その小型化が進むに伴って、内部導体としての内部電極
のような内部導体膜が薄層化されなければならず、その
ため、内部導体膜を形成するための導電性ペーストに含
まれる金属粉末の微粒化が必要となってくる。
【0005】粒径の小さい金属粉末を有利に製造できる
方法として、たとえば、液相法による方法および気相法
による方法がある。液相法については、たとえば特開2
000−87121号公報に記載されているような方法
を適用することができ、これによれば、粒径100nm
以下のものが得られている。他方、気相法については、
ニッケル粉末を得ようとする場合、特開平8−2460
01号公報に記載されているような方法を適用すること
ができ、これによれば、粒径0.1〜1.0μmのニッ
ケル粉末を得ることができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の液相法や気相法によって、粒径の極めて小
さいニッケル粉末が得られたとしても、たとえば粒径1
00nmのニッケル粉末を含む導電性ペーストを用いて
積層セラミック電子部品のための内部導体を形成しよう
とする場合、ニッケル粉末の酸化防止のために不活性雰
囲気や還元性雰囲気などの非還元性雰囲気中で焼成工程
を実施しなければならず、このような焼成条件の下で
は、ニッケル粉末の焼結およびそれによる収縮は、40
0℃未満の温度で開始される。
【0007】他方、たとえば積層セラミックコンデンサ
に用いられるセラミック材料であるチタン酸バリウムな
どは、焼結のために1200℃以上の高温を必要とす
る。
【0008】このような状況の下、チタン酸バリウムの
ようなセラミック材料を含むセラミック層とニッケル粉
末を含む内部導体膜とを積層構造とした生の積層体を一
体的に焼成した場合、セラミック層と内部導体膜との間
で、焼成過程での熱収縮開始温度や収縮量の差が比較的
大きいため、内部に比較的大きな応力が発生し、デラミ
ネーションやクラックといった構造欠陥が生じやすく、
積層セラミック電子部品の製造の歩留まりや生産性の低
下などの原因となっている。
【0009】そこで、この発明の目的は、比較的低温で
の焼結性を制御し、焼結開始温度を高温度側にシフトさ
せることができるとともに、急峻な焼結収縮を抑制でき
る、金属粉末を製造する方法およびこの製造方法によっ
て得られた金属粉末を提供しようとすることである。
【0010】この発明の他の目的は、積層セラミック電
子部品の薄層化を図ろうとするにあたって、内部導体を
形成するために有利に用いることができる導電性ペース
ト、およびこの導電性ペーストを用いて製造された積層
セラミック電子部品を提供しようとすることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述した技術的課題を解
決するため、この発明に係る金属粉末の製造方法は、ニ
ッケル元素およびアルミニウム元素を含む混合気体よ
り、ニッケルを核として、その周囲にアルミニウムが存
在する金属粉末を、気相法によって得ることを特徴とし
ている。
【0012】上述した気相法は、好ましい実施態様で
は、不活性ガス中または水素ガスを含む不活性ガス中で
の、熱プラズマ、アークプラズマまたは高周波放電によ
って、ニッケル金属およびアルミニウム金属、またはこ
れら金属の合金を蒸発させた後、冷却固化させる工程を
備えている。
【0013】他の好ましい実施態様では、気相法は、ニ
ッケル化合物およびアルミニウム化合物を加熱蒸発させ
た後、気相中で水素還元し、次いで冷却固化させる工程
を備えている。
【0014】上述の場合、ニッケル化合物およびアルミ
ニウム化合物として、それぞれ、塩化物を用いることが
好ましい。
【0015】この発明は、また、上述したような製造方
法によって得られた金属粉末にも向けられる。この金属
粉末は、平均粒径が0.2μm以下であり、ニッケルを
主成分とし、アルミニウムをニッケルとの合計に対して
0.2〜10重量%の割合で含む、組成を有し、アルミ
ニウムは、その少なくとも一部がアルミニウム酸化物と
してニッケルの表面上に膜状態または粒子状態で存在し
ている。
【0016】このような金属粉末は、好ましくは、40
0℃以上の熱収縮開始温度を有している。
【0017】この発明は、また、上述したような金属粉
末と有機ビヒクルとを含む、導電性ペーストにも向けら
れる。
【0018】さらに、この発明は、複数の積層されたセ
ラミック層をもって構成される積層体と、積層体の内部
に形成された内部導体とを備える、積層セラミック電子
部品にも向けられる。この積層セラミック電子部品にお
いて、この発明は、内部導体が、上述した導電性ペース
トを焼成して得られた焼結体から構成されることを特徴
としている。
【0019】上述した内部導体として、セラミック層間
の特定の界面に沿って形成される内部導体膜を含む場
合、この内部導体膜を形成するために前述したような導
電性ペーストが用いられるとき、特に、この発明が有利
に適用される。
【0020】
【発明の実施の形態】この発明によれば、前述したよう
に、ニッケルを核として、その周囲にアルミニウムが存
在する金属粉末が得られるが、このような金属粉末を得
るため、ニッケル元素およびアルミニウム元素を含む混
合気体が作製され、この混合気体に対して気相法が適用
される。
【0021】好ましい実施形態では、不活性ガス中また
は水素ガスを含む不活性ガス中での、熱プラズマ、アー
クプラズマまたは高周波放電によって、ニッケル金属お
よびアルミニウム金属またはこれら金属の合金を蒸発さ
せ、それによって、ニッケル元素およびアルミニウム元
素を含む原料金属蒸気が作製される。ニッケル金属およ
びアルミニウム金属をそれぞれ個別に蒸発させる場合に
は、ニッケル成分とアルミニウム成分とは、気相状態で
混合されることになる。
【0022】次いで、原料金属蒸気が冷却されることに
よって、ニッケルを核として、その周囲にアルミニウム
が存在する金属粉末が得られるように固化される。この
とき、アルミニウムは、その少なくとも一部が非晶質の
アルミニウム酸化物としてニッケルの表面上に膜状態ま
たは粒子状態で存在している。
【0023】この発明に係る金属粉末は、より好ましく
は、不活性ガス中または水素ガスを含む不活性ガス中で
のアークプラズマ法または高周波誘導プラズマ法によっ
て作製される。これらのプラズマ法は、不活性ガスや水
素含有不活性ガス中でプラズマを形成し、このプラズマ
の中に蒸発源を投入するか、または、蒸発源を電極とし
てプラズマを発生させることによって、蒸発源の蒸気を
生成させ、気相中で凝集・冷却・固化を行ない、微粉末
を製造する方法である。
【0024】これらのプラズマ法は、特公昭57−44
725号公報または特開平6−91162号公報などに
記載されているように、粒径100nm以下の超微粒粉
末を得るのに適した方法であり、高温のプラズマを蒸発
のための加熱源として使用しているため、蒸発させるこ
とができる元素の制約が少なく、蒸発速度が高いため、
蒸発源の組成と作製粉末の組成とが一致し、さらに、大
量の粉末を能率的に作製できるという特徴を有してい
る。
【0025】また、この方法によれば、結晶性の高い微
粉末を容易に得ることができ、微粉末の粒径について
は、プラズマの出力や雰囲気の組成、投入原料量などを
変えることによって、容易にコントロールすることがで
きる。
【0026】この発明において、ニッケル元素およびア
ルミニウム元素を含む混合気体を得るための蒸発方法に
ついては、どのような方法を用いても、実質的に同様の
効果が得られる。
【0027】たとえば、特開平8−246001号公報
に記載されているように、塩化物のような化合物を加熱
蒸発させた後、気相水素還元法に基づく粉末形成法が適
用されてもよい。すなわち、たとえば、それぞれ、塩化
物のようなニッケル化合物およびアルミニウム化合物
を、所望の割合をもって加熱蒸発させた後、気相中で水
素還元し、次いで冷却固化させることによって、この発
明に係る金属粉末を得るようにしてもよい。
【0028】金属粉末が、積層セラミック電子部品に備
える内部導体を形成するための導電性ペーストに含ませ
るものとして用いられる場合、その平均粒径が0.2μ
m以下であり、ニッケルを主成分とし、アルミニウムを
ニッケルとの合計に対して0.2〜10重量%の割合で
含む、組成を有し、アルミニウムは、その少なくとも一
部がアルミニウム酸化物としてニッケルの表面上に膜状
態または粒子状態で存在していることが好ましい。この
ような性状を有する金属粉末は、上述したような製造方
法によって容易に得ることが可能である。
【0029】このような金属粉末において、アルミニウ
ムは、ニッケルの焼結を阻害するように作用するととも
に、金属粉末全体としての熱収縮特性をコントロールす
るように作用する。得られた金属粉末に対しては、低酸
素濃度下で一定時間放置する徐酸化処理が施され、それ
によって、金属粉末の表面の酸化や析出したアルミニウ
ム金属の酸化が行なわれる。
【0030】このように表面に存在する酸化物層の厚み
または酸化物の量は、金属粉末に含まれるアルミニウム
の含有率によって変化するため、金属粉末の焼結開始温
度は、アルミニウムの含有率によって調整することがで
きる。すなわち、アルミニウムの含有率を高くすると、
金属粉末の焼結開始温度をより高温側にシフトさせるこ
とができる。
【0031】したがって、この金属粉末を、積層セラミ
ックコンデンサなどの積層セラミック電子部品に備える
セラミック層を構成する、焼結温度が金属粉末よりも高
いセラミック材料と同時に焼成を行なう導電性ペースト
に含まれる金属粉末として用いる場合には、金属粉末に
含まれるアルミニウムの含有率を調整することによっ
て、金属粉末の焼成時における熱収縮挙動を、セラミッ
ク材料の熱収縮挙動に一致または近似させることが可能
となり、そのため、得られた積層セラミック電子部品に
おいて、デラミネーションやクラックなどの構造欠陥が
生じることを防止することができる。
【0032】ニッケル−アルミニウム合金の状態図によ
ると、ニッケルに対するアルミニウムの固溶限界は5.
2重量%である。この発明による金属粉末は、金属蒸気
の凝集・冷却・固化という気相過程を経て製造されるも
のである。そのため、金属粉末の製造に際して、高温の
金属蒸気を急激に冷却する過程を経ることになり、得ら
れた金属粉末の各粒子の内部に固溶限界を超えたアルミ
ニウムを過飽和状態で固溶させることができる。したが
って、金属ニッケルの構造を維持した状態でのアルミニ
ウムの含有が可能となる。
【0033】しかし、過飽和に粒子内部に取り込まれた
アルミニウムは、その金属結合半径の差から、粒子の内
部に留まることは困難である。そのため、粒子内部に一
旦取り込まれたアルミニウムの一部は、粒子の冷却過程
で粒子表面に析出することとなる。この表面に析出した
アルミニウムは、粉末作製後の徐酸化処理によって酸化
され、アルミニウム酸化物を形成する。
【0034】また、このような過程を経て得られた粒子
の表面に析出したアルミニウム酸化物は、X線回折によ
る構造解析の結果、ニッケルとアルミニウムと酸素との
化合物であるスピネル構造を有する高融点の複合酸化物
ではなく、非晶質であることが確認されている。
【0035】得られた金属粉末は、有機バインダおよび
有機溶剤からなる有機ビヒクル中に、これを混合し、均
一に分散させることによって、この金属粉末を導電成分
として含む導電性ペーストとすることができる。この導
電性ペーストにおいて、その印刷性の向上などを目的と
して、他の導電成分やガラス粒子などの無機結合材、そ
の他添加剤が加えられてもよい。
【0036】図1には、上述したような導電性ペースト
を用いて形成される内部導体を備える積層セラミック電
子部品の一例としての積層セラミックコンデンサ1の内
部構造が図解的に断面図で示されている。
【0037】積層セラミックコンデンサ1は、複数の積
層された誘電体セラミック層2をもって構成される積層
体3を備えている。また、積層体3の内部であって、誘
電体セラミック層2間の特定の界面に沿って、内部導体
膜としての複数の内部電極4が形成されている。内部電
極4は、誘電体セラミック層2を介して互いに対向する
ものの間に静電容量を形成するように配置される。
【0038】積層体3の両端部上には、端子電極となる
外部電極5が形成される。外部電極5は、特定の内部電
極4と電気的に接続され、一方の外部電極5に電気的に
接続される内部電極4と他方の外部電極5に電気的に接
続される内部電極4とは、積層方向に関して交互に配置
されている。
【0039】この発明に係る導電性ペーストは、上述し
た内部電極4を形成するために有利に用いられ、積層セ
ラミックコンデンサ1において、内部電極4は、この導
電性ペーストを焼成して得られた焼結体の形態をなして
いる。
【0040】この発明に係る導電性ペーストは、上述し
た積層セラミックコンデンサ1における内部電極4ばか
りでなく、たとえば積層正特性サーミスタ、多層セラミ
ック基板などの他の積層セラミック電子部品における内
部導体膜を形成するためにも有利に用いられ、また、内
部導体膜以外の内部導体、たとえばビアホール導体を形
成するためにも有利に用いられ、さらに、内部導体に限
らず、通常の厚膜による導体膜を形成するためにも有利
に用いられる。
【0041】以下に、この発明に係る金属粉末につい
て、実験例に従って、より具体的に説明する。
【0042】
【実験例1】(実施例1〜6)ペレット状のニッケルお
よびショット状のアルミニウムをそれぞれ用意した。
【0043】次いで、ニッケルを約30g秤量するとと
もに、アルミニウムを、ニッケルとの合計に対して1重
量%、2重量%、4重量%、6重量%、8重量%および
10重量%とそれぞれなるように秤量し、これらを、ア
ルゴンガス中でアーク溶解し、表1の実施例1〜6に示
すように、種々のアルミニウム含有量を有する合金イン
ゴットを作製した。
【0044】次いで、これら合金インゴットの各々を陽
極とし、タングステン電極を陰極とした直流アークプラ
ズマ発生装置内に設置し、合金インゴットをターゲット
としながら、全圧60kPa、アルゴンガス30%およ
び水素ガス70%となる雰囲気とし、両極間でアーク電
流100A、アーク電圧30Vの条件でアークプラズマ
を生成させ、それによって、各合金インゴットを溶融・
蒸発させ、得られた合金蒸気を雰囲気ガス中で冷却する
ことによって固化させ、試料となる実施例1〜6の各々
に係る金属粉末を作製した。
【0045】
【表1】
【0046】表1には、得られた金属粉末の平均粒径が
示されている。これら平均粒径は、SEM写真から求め
たもので、実施例1〜6に係る金属粉末は、いずれも、
60〜70nmの範囲内にあった。
【0047】また、得られた金属粉末の組成を、誘導結
合プラズマ分光分析法(ICP−AES)で分析した。
その結果が、表1に示されている。表1において、「ニ
ッケル組成」および「アルミニウム組成」は、金属粉末
中におけるニッケルの組成比率およびアルミニウムの組
成比率をそれぞれ示し、「アルミニウム含有率」は、ニ
ッケルとアルミニウムとの合計に対するアルミニウムの
含有割合を示している。
【0048】また、得られた各試料に係る金属粉末の構
造をX線回折により解析した結果が図2に示されてい
る。図2は、各試料に係る金属粉末のX線回折チャート
を示している。図2からわかるように、実施例1〜6の
各々に係る金属粉末では、金属ニッケル「Ni」に関す
る回折ピークのみが検出され、ニッケルとアルミニウム
との金属間化合物(Ni3 AlまたはNiAl等)やア
ルミニウム酸化物やニッケルとアルミニウムと酸素との
化合物であるスピネル構造を有する複合酸化物の生成は
検出されなかった。
【0049】また、TEMによって、各試料に係る金属
粉末の粒子表面を観察した。その結果、実施例1〜6の
各々に係る金属粉末において、ニッケル粒子の表面に、
粒子径2〜10nmの粒子状態のアルミニウム酸化物や
膜厚5nm程度の膜状態のアルミニウム酸化物を確認す
ることができた。図3は、実施例6に係る金属粉末のT
EM写真である。図3において、各粒子の表面に白っぽ
く見える部分がアルミニウム酸化物である。
【0050】さらに、実施例1〜6の各々に係る金属粉
末を、35〜45%の密度となるようにペレット状に成
形し、10gの荷重をかけながら、97%の窒素および
3%の水素からなる混合ガスによる還元性雰囲気中にお
いて、熱機械分析(TMA)を行ない、熱収縮変化を測
定し、各試料に係る金属粉末の収縮開始温度および収縮
終了温度を求めた。表1に、これら収縮開始温度および
収縮終了温度が示されている。
【0051】(比較例1)ペレット状のニッケル約30
gを用い、実施例1〜6の場合と同様の条件で、純ニッ
ケル粒子からなる金属粉末を作製した。
【0052】この比較例1についても、実施例1〜6の
場合と同様の方法により、平均粒径、ニッケル組成、ア
ルミニウム組成、アルミニウム含有率、熱収縮開始温度
および熱収縮終了温度をそれぞれ求めた。これらの結果
も表1に示されている。
【0053】(比較例2)ペレット状のニッケルを約3
0g秤量するとともに、ショット状のアルミニウムを、
ニッケルとの合計に対して20重量%となるように秤量
し、実施例1〜6の場合と同様の条件で、金属粉末を作
製した。
【0054】得られた金属粉末について、実施例1〜6
の場合と同様の方法により、平均粒径、ニッケル組成、
アルミニウム組成、アルミニウム含有率、熱収縮開始温
度および熱収縮終了温度をそれぞれ求めた。これらの結
果も表1に示されている。
【0055】また、この比較例2に係る金属粉末を構成
する粒子の構造をX線回折で評価した結果、図2に示す
ように、ニッケルとアルミニウムとの金属間化合物であ
るNi3 AlおよびNiAlの各々のピークが検出され
た。
【0056】これら実施例1〜6ならびに比較例1およ
び2の各々についての金属粉末のTMAチャートがまと
めて図4に示されている。
【0057】また、図5は、前述のようにして求められ
たアルミニウム含有率と収縮開始温度との関係を図解し
たもので、ここには、実施例1〜6ならびに比較例1お
よび2について前述のようにして求められたアルミニウ
ム含有率と収縮開始温度とがプロットされている。
【0058】表1および図4に示した熱収縮特性からわ
かるように、比較例1としてのアルミニウムを含まない
純ニッケル粉末(Al:0wt%)の場合には、225
℃の比較的低温から熱収縮が開始され、570℃で熱収
縮が終了してしまうのに対し、実施例1〜6に係る金属
粉末(Al:0.2〜9.7wt%)の場合には、熱収
縮開始温度がアルミニウム含有率の増加に従って高温側
にシフトし、また、収縮が緩やかに進行している。
【0059】また、表1および図5に示した金属粉末に
おけるアルミニウム含有率と熱収縮開始温度との関係か
ら、アルミニウム含有率の増加に伴い、熱収縮開始温度
が2次曲線的に高温側にシフトしていることがわかる。
【0060】なお、比較例2のように、アルミニウムが
10重量%を超え、20重量%近く含まれている場合に
は、熱収縮開始温度が1200℃となり、たとえば積層
セラミックコンデンサに備える誘電体セラミック層を構
成するセラミック材料の熱収縮開始温度より高くなっ
た。
【0061】次に、この発明に係る導電性ペーストおよ
び積層セラミック電子部品について、実験例に基づき、
より具体的に説明する。
【0062】
【実験例2】この実験例2では、簡単に言えば、実験例
1において作製した実施例1〜6ならびに比較例1およ
び2の各々に係る金属粉末を用いて導電性ペーストを作
製し、この導電性ペーストを内部電極の形成のために用
いて積層セラミックコンデンサを作製した。
【0063】まず、チタン酸バリウム系のセラミック原
料粉末に、ポリビニルブチラール系バインダおよびエタ
ノール等の有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混
合し、セラミックスラリーを作製した。
【0064】次いで、このセラミックスラリーにドクタ
ーブレード法を適用することによって、厚み1.4μm
のセラミックグリーンシートを成形した。
【0065】他方、実験例1において作製した実施例1
〜6ならびに比較例1および2の各々に係る金属粉末5
0重量%に対して、エチルセルロース系バインダ10重
量%をテルピネオール90重量%に溶解して作製した有
機ビヒクル40重量%とテルピネオール10重量%とを
加え、3本ボールミルにより入念に分散混合処理を行な
うことによって、良好に分散した上記各金属粉末をそれ
ぞれ含有する導電性ペーストを作製した。
【0066】次に、前述のセラミックグリーンシート上
に、これら実施例1〜6ならびに比較例1および2の各
々に係る導電性ペーストをスクリーン印刷することによ
って、内部電極となる導電性ペースト膜を、乾燥後に
0.6μmの厚みとなる厚みをもって形成し、次いで、
これを乾燥した。
【0067】次に、導電性ペースト膜が印刷されたセラ
ミックグリーンシートを、導電性ペースト膜の引き出さ
れている側が互い違いとなるように複数枚積層し、熱プ
レスして一体化し、その後、所定の寸法にカットするこ
とによって、積層セラミックコンデンサのための積層体
となるべき生のチップを得た。
【0068】次に、これら生のチップを、窒素雰囲気中
において400℃の温度に加熱することによって、脱バ
インダ処理を行なった後、酸素分圧9×10-12 MPa
の水素−窒素−水蒸気ガスからなる還元性雰囲気中にお
いて、1200℃を最高焼成温度として3時間保持する
プロファイルをもって焼成し、焼結後の積層体を得た。
【0069】なお、この積層体において、有効誘電体セ
ラミック層の数は250とし、1層あたりの内部電極の
対向面積は18.2×10-62 とした。
【0070】次に、積層体の両端部上に端子電極として
の外部電極を形成し、積層セラミックコンデンサを完成
させた。
【0071】次に、これら実施例1〜6ならびに比較例
1および2の各々に係る積層セラミックコンデンサの各
試料について、以下のような要領で以下のような評価を
行なった。
【0072】まず、各試料に係る積層セラミックコンデ
ンサのショート不良発生率を求めた。
【0073】また、得られた積層セラミックコンデンサ
の層間剥離(デラミネーション)について、試料断面を
研磨し、顕微鏡観察することによって目視判定し、全試
料数に対する層間剥離の発生した試料数の比率(剥離発
生率)を求めた。
【0074】また、内部電極のカバレッジ(被覆面積
率)を、試料の内部電極面を剥離し、電極面に穴があい
ている様子を顕微鏡写真に撮り、これを画像解析処理す
ることによって定量化した結果から求めた。
【0075】また、各試料に係る積層セラミックコンデ
ンサを樹脂に埋めた状態で研磨を行ない、研磨面を顕微
鏡観察し、内部電極内にひびが発生しているか否か判定
し、ひびが発生している試料の比率をクラック発生率と
して求めた。
【0076】さらに、前述した剥離発生率を評価した結
果、剥離の発生しなかった積層セラミックコンデンサに
ついて、ESR(等価直列抵抗)を測定し、その平均値
を求めた。
【0077】以上の評価結果が表2に示されている。
【0078】
【表2】
【0079】表2には、表1に示したアルミニウム含有
率が再び掲載されている。
【0080】表2からわかるように、アルミニウム含有
率が0.2重量%の実施例1では、剥離発生率が55%
となっているが、アルミニウム含有率が0重量%すなわ
ち純ニッケルからなる金属粉末を用いた比較例1の場合
に比べると、剥離発生率が約1/2となっており、この
ことから、アルミニウム含有の効果を確認することがで
きる。
【0081】また、アルミニウム含有率を0.8〜9.
7重量%というようにより多くした実施例2〜6によれ
ば、剥離発生率は0%であり、カバレッジは80%以上
であり、クラック発生率も0%であった。
【0082】他方、ESRについて見ると、アルミニウ
ム含有率が18.8重量%というように10重量%を超
える比較例2では、ESRがかなり大きくなるという不
具合に遭遇したが、実施例1〜6では、ESRが120
〜140Ω程度と比較的低い値を示した。
【0083】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る金属粉末
の製造方法によれば、ニッケル元素およびアルミニウム
元素を含む混合気体から気相法に基づいて金属粉末を得
るようにしているので、微粒化された金属粉末を容易に
得ることができる。
【0084】また、得られた金属粉末は、ニッケルを核
として、その周囲にアルミニウムが存在するものである
ので、金属粉末が微粒化されても、焼成時における熱収
縮開始温度をアルミニウムによって高温側にシフトさせ
ることができるとともに、急峻な焼結収縮を抑制するこ
とができる。
【0085】また、金属粉末におけるアルミニウムは、
その少なくとも一部がアルミニウム酸化物としてニッケ
ルの表面上に膜状態または粒子状態で存在するが、この
ようなアルミニウム含有量を調整することによって、熱
収縮挙動をコントロールすることが可能である。そのた
め、この金属粉末を含む導電性ペーストを、積層セラミ
ック電子部品における内部導体を形成するために用いた
とき、焼成工程における導電性ペーストの収縮挙動を、
セラミック層側の収縮挙動と一致させたり近似させたり
することが可能となり、熱収縮挙動の差によるデラミネ
ーションやクラックの発生といった構造欠陥を生じにく
くすることができる。また、導電性ペーストに含まれる
金属粉末の微粒化が可能なことから、積層セラミック電
子部品における内部導体膜の薄層化が可能となる。
【0086】特に、得られた金属粉末において、平均粒
径が0.2μm以下であり、かつ、ニッケルを主成分と
し、アルミニウムをニッケルとの合計に対して0.2〜
10重量%の割合で含む、組成を有しているとき、これ
を含む導電性ペーストを用いて構成した積層セラミック
コンデンサのような積層セラミック電子部品において、
デラミネーションやクラックの防止の効果をより確実に
達成することが可能になるとともに、ESRの増大を防
止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用される積層セラミック電子部品
の一例としての積層セラミックコンデンサ1の内部構造
を図解的に示す断面図である。
【図2】実験例1において作製した実施例1〜6および
比較例2の各々に係る金属粉末のX線回折チャートを示
す図である。
【図3】実験例1において作製した実施例6に係る金属
粉末のTEM写真を示す。
【図4】実験例1において作製した実施例1〜6ならび
に比較例1および2の各々に係る金属粉末のTMAチャ
ートを示す図である。
【図5】実験例1において求めた各試料に係る金属粉末
のアルミニウム含有率と収縮開始温度との関係を示す図
である。
【符号の説明】
1 積層セラミックコンデンサ 2 誘電体セラミック層 3 積層体 4 内部電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 1/00 H01B 1/00 C 1/22 1/22 A 13/00 501 13/00 501Z H01G 4/12 361 H01G 4/12 361 // B22F 5/00 B22F 5/00 H Fターム(参考) 4K017 AA04 AA06 BA03 BB01 DA08 EF02 EG04 EK03 4K018 AA08 BA04 CA09 JA16 KA33 KA39 5E001 AB03 AH01 AH09 AJ01 5G301 DA04 DA10 DA42 DD01 DD05

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ニッケル元素およびアルミニウム元素を
    含む混合気体より、ニッケルを核として、その周囲にア
    ルミニウムが存在する金属粉末を、気相法によって得
    る、金属粉末の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記気相法は、不活性ガス中または水素
    ガスを含む不活性ガス中での、熱プラズマ、アークプラ
    ズマまたは高周波放電によって、ニッケル金属およびア
    ルミニウム金属、またはこれら金属の合金を蒸発させた
    後、冷却固化させる工程を備える、請求項1に記載の金
    属粉末の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記気相法は、ニッケル化合物およびア
    ルミニウム化合物を加熱蒸発させた後、気相中で水素還
    元し、次いで冷却固化させる工程を備える、請求項1に
    記載の金属粉末の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記ニッケル化合物および前記アルミニ
    ウム化合物は、それぞれ、塩化物である、請求項3に記
    載の金属粉末の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の製
    造方法によって得られた、金属粉末であって、 平均粒径が0.2μm以下であり、 ニッケルを主成分とし、アルミニウムを前記ニッケルと
    の合計に対して0.2〜10重量%の割合で含む、組成
    を有し、 前記アルミニウムは、その少なくとも一部がアルミニウ
    ム酸化物としてニッケルの表面上に膜状態または粒子状
    態で存在する、金属粉末。
  6. 【請求項6】 熱収縮開始温度が400℃以上である、
    請求項5に記載の金属粉末。
  7. 【請求項7】 請求項5または6に記載の金属粉末と有
    機ビヒクルとを含む、導電性ペースト。
  8. 【請求項8】 複数の積層されたセラミック層をもって
    構成される積層体と、前記積層体の内部に形成された内
    部導体とを備える、積層セラミック電子部品であって、
    前記内部導体は、請求項7に記載の導電性ペーストを焼
    成して得られた焼結体から構成される、積層セラミック
    電子部品。
  9. 【請求項9】 前記内部導体は、前記セラミック層間の
    特定の界面に沿って形成される内部導体膜を含む、請求
    項8に記載の積層セラミック電子部品。
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