JP2002346709A

JP2002346709A - 連続鋳造用タンディッシュおよびそれを使用する連続鋳造方法

Info

Publication number: JP2002346709A
Application number: JP2001158690A
Authority: JP
Inventors: Seiji Furuhashi; 誠治古橋; Toshihiko Murakami; 敏彦村上; Tadashi Kawakami; 忠司河上
Original assignee: Sumitomo Metal Industries Ltd
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 2001-05-28
Filing date: 2001-05-28
Publication date: 2002-12-04

Abstract

(57)【要約】【課題】非金属介在物が少なく清浄性に優れた鋳片を得
ることができる連続鋳造用タンディッシュ、およびその
タンディッシュを使用する連続鋳造方法を提供する。【解決手段】溶鋼を受け入れる受湯部４と、受湯部内の
溶鋼を鋳型３へ供給するための給湯部５と、受湯部およ
び給湯部を接続する通流路６を有し、前記通流路の外周
部に静磁場を発生する磁場発生装置７を備え、または更
に、前記通流路内の溶鋼に対し通流路の軸方向に直流電
流を印加する直流電源装置および通電用電極を備えるタ
ンディッシュ、およびこのタンディッシュを使用する連
続鋳造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非金属介在物が少
なく清浄性に優れた鋳片を得ることができる連続鋳造用
タンディッシュ、およびそれを使用する連続鋳造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】溶鋼を連続鋳造する際、溶鋼中の酸化物
等（ここでは、溶鋼が凝固した状態で非金属介在物とし
て検出されるものをいう）はタンディッシュ内で浮上分
離され、除去される。しかし、溶鋼がタンディッシュを
通過する時間内に全ての酸化物等を浮上させ、除去する
こと、特に、溶鋼が凝固したときに鋳片欠陥となり得る
粒径が１０μｍから３０μｍ程度の微小な介在物となる
ような酸化物等を浮上除去することは困難であり、従
来、種々の対策が採られてきた。

【０００３】例えば、特開平６−５９８号公報には、タ
ンディッシュ内の溶融金属の入り側のロングノズルと出
側のイマージョンノズルとの間で溶融金属の進行方向に
対して垂直かつ水平方向の一様な静磁場を作用させる際
に、静磁場作用領域のタンディッシュ壁を良導体とする
ことにより、溶融金属にその進行方向と逆向きの制動力
を効果的に働かせて介在物（本発明でいう酸化物等であ
る。以下、従来の技術の欄において同じ）の浮上促進を
図る技術が開示されている。

【０００４】特開平１１−１２３５０７号公報では、取
鍋からの受湯部近傍の下流側でタンディッシュ内の溶鋼
に静磁場を印加することによって、取鍋からタンディッ
シュへの溶鋼の落下による攪拌の効果をより高め、介在
物同士の凝集の促進を図るとともに、介在物の浮上時間
を確保する技術が、また、特開平１１−１２３５０６号
公報では、プラズマトーチにてタンディッシュ内溶鋼を
加熱するとともに、プラズマトーチ近傍のプラズマ加熱
されている溶鋼に静磁場を印加し、プラズマ電流と静磁
場とで生起されるローレンツ力をタンディッシュの上流
側（取鍋からの受湯部側）に向けて溶鋼に作用させるこ
とによりタンディッシュ内の溶鋼流動を均一化し、介在
物の浮上時間を十分に確保する技術が提案されている。

【０００５】しかし、上記の従来技術には、以下に述べ
るような問題点がある。すなわち、タンディッシュの形
状は、直方体で、通常は、その短辺方向（つまり、直方
体の厚み方向）に静磁場を印加しているが、溶鋼の収容
容量が１０〜５０トン規模のタンディッシュの場合、そ
の短辺方向の厚みは、鉄皮および耐火物を含めると、通
常、１０００ｍｍ程度になる。このタンディッシュの外
側に磁極間距離が１０００ｍｍとなる磁極を設置して、
約１０００ｍｍ角の領域（つまり、各辺とも１０００ｍ
ｍの立方体部分）に０．３〜０．５Ｔ（テスラ）の静磁
場を印加するには、大規模な磁場発生装置が必要とな
る。永久磁石を利用した場合でもかなり大きな磁石が必
要となって、設備コスト面で膨大なものとなり現実的と
は言い難い。

【０００６】また、上記のような静磁場が得られたとし
ても、介在物の浮上速度は小さいため、タンディッシュ
内の深さ１０００ｍｍ程度の溶鋼中を介在物が浮上する
には十分な浮上時間が必要で、上記の約１０００ｍｍ角
の静磁場が印加された領域を溶鋼が通過する時間だけで
は十分な浮上除去効果が得られない場合がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点を解決し、磁場発生装置を小型化、低コスト化
し、酸化物等の浮上除去効果を向上させ得る連続鋳造用
タンディッシュ、およびこのタンディッシュを使用する
連続鋳造方法で、溶鋼中の酸化物等、特に、溶鋼が凝固
したときに鋳片欠陥となり得る粒径が１０μｍから３０
μｍ程度の微小な介在物となるような酸化物等を浮上除
去し、清浄性に優れた鋳片を製造することができる連続
鋳造方法を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、下記の
（１）の連続鋳造用タンディッシュ、および（２）のそ
のタンディッシュを使用する連続鋳造方法にある。

【０００９】（１）溶鋼を受け入れる受湯部と、受湯部
内の溶鋼を鋳型へ供給するための給湯部と、受湯部およ
び給湯部を接続する通流路を有し、前記通流路の外周部
に静磁場を発生する磁場発生装置を備える連続鋳造用タ
ンディッシュ。

【００１０】前記のタンディッシュが、さらに、前記通
流路内の溶鋼に対し通流路の軸方向に直流電流を印加す
る直流電源装置および通電用電極を備えるものであれ
ば、酸化物等の浮上除去効果を一層大きくし得るので、
好ましい。なお、ここでいう「通電用電極」は、通常用
いられる棒状のいわゆる「電極」に限らず、後述するよ
うに、例えば、導電性の耐火物を適当な個所に埋め込む
等、直流電源装置に接続して溶鋼に通電できるものであ
ればよい。

【００１１】（２）上記（１）に記載の連続鋳造用タン
ディッシュを使用する連続鋳造方法であって、受湯部に
供給された溶鋼が通流路を通過する間に、溶鋼に静磁場
を印加する連続鋳造方法。

【００１２】前記の通流路を通過する溶鋼に静磁場を印
加するとともに、通流路の軸方向に受湯部側から給湯部
側へ向けて直流電流を印加すれば、後述するように、タ
ンディッシュ内での酸化物等の浮上除去効果は一層大き
くなる。

【００１３】なお、本発明において、「酸化物等」と
は、溶融金属が凝固した状態でいわゆる非金属介在物と
して検出されるものの総称である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明について、図面を用
いて詳細に説明する。

【００１５】図１は本発明の連続鋳造用タンディッシュ
の一例の構成を示す図で、（ａ）は縦断側面図、（ｂ）
はタンディッシュの通流路の部分の横断平面図である。

【００１６】図１に示すように、このタンディッシュ２
は、取鍋（レードル）１内の溶鋼を受け入れる受湯部４
と、受湯部４内の溶鋼を鋳型３へ供給するための給湯部
５に分割され、その間がステンレス鋼製の鉄皮で覆われ
た耐火物製の通流路６で接続されており、通流路６の外
周部には静磁場を発生する磁場発生装置７が取り付けら
れている。

【００１７】通流路６は、断面が円または矩形状の筒状
体で、タンディッシュ２の本体部分、つまり受湯部４と
給湯部５に比べて溶鋼の通過断面が狭くなっている。そ
のため、磁場発生装置７の磁極間を狭くすることがで
き、大規模な設備を必要とせずに効率的に静磁場を印加
することが可能となる。なお、通流路６の断面形状は上
記の形状に限定されず、多角形状その他の形状であって
もよい。

【００１８】磁場発生装置７の磁極は、図１の（ｂ）に
示したように、通流路６の外周部に対向して設置され、
静磁場は、符号８を付して示したように水平方向に印加
される。その結果、溶鋼の移動に対して、その移動方向
とは逆向きの、つまり給湯部５側から受湯部４側へ向か
う方向の制動力が働き、通流路６内の溶鋼の流速が、図
１の（ａ）で符号９を付して示したように、平均化され
る。なお、図１では、磁場発生装置７の磁極が水平方向
に配置されているが、磁極が垂直方向に配置されていて
もよい。

【００１９】図２は、通流路内の溶鋼の流速分布を模式
的に示す図で、（ａ）は静磁場を印加していない場合、
（ｂ）は静磁場を印加した場合である。一般に、筒状の
容器内を溶鋼が通過する場合、流速分布は、図２（ａ）
に示すように放物線（面）状となり、筒の軸心付近で流
速が最大となるが、静磁場を印加すると、ハルトマン効
果と呼ばれる流速の均一化現象（流速に比例して逆方向
に制動力が作用することにより生じる現象）が起こって
図２（ｂ）に示すように流速分布が均一となり、整流化
されるので、酸化物等の浮上が促進されることとなる。
しかも、通流路６は、タンディッシュ２の他の部分に比
べて断面が狭く高さ方向距離が短くなっているので、浮
上距離が短く、わずかの浮上時間で酸化物等を十分に浮
上除去することができる。

【００２０】磁場発生装置７は、鉄芯にコイルを巻いた
電磁石を利用するタイプのものでも、永久磁石を利用す
るタイプのものでもよい。永久磁石を利用する方がコス
ト的には有利である。

【００２１】図３は本発明の連続鋳造用タンディッシュ
の他の例の構成を示す図で、（ａ）は縦断側面図、
（ｂ）はタンディッシュの通流路の部分の横断平面図で
ある。

【００２２】図３に示すように、このタンディッシュ２
は、受湯部４と、給湯部５と、それらを接続する通流路
６を有し、通流路６の外周部に磁場発生装置７が取り付
けられており、さらに、前記通流路６内の溶鋼に対して
通流路６の軸方向に直流電流を印加することができる直
流電源装置１１および通電用電極１０を有している。す
なわち、この例では、通電用電極１０として導電性耐火
物が用いられ、通流路６の入り側と出側の耐火物に導電
性耐火物が埋め込まれており、これら導電性耐火物と直
流電源装置１１とを接続して通流路６内の軸方向に受湯
部４側から給湯部５側へ向けて直流電流１２を流すこと
ができるように構成されている。

【００２３】図４は、前記の直流電流を流したときの通
流路内の酸化物等の挙動を模式的に示す図であるが、こ
の図に示すように、水平方向に印加した静磁場８と前記
の直流電流１２（図３参照）との相互作用で通流路６内
に下向き（重力方向）の電磁気力１３が生じ、その反作
用で、図４中に符号１５を付して示したように、非導電
性である酸化物等１４は上方に移動する。つまり、酸化
物等の浮上除去効果が一層強められる。

【００２４】図３に示すように、この連続鋳造用タンデ
ィッシュにおいても、通流路６はタンディッシュ２の他
の部分に比べて断面が狭くなっているので、酸化物等の
浮上距離が短く、わずかの浮上時間で酸化物等を通流路
６の天井側に移動させ、除去することができる。

【００２５】酸化物等の浮上速度Ｖ（ｍ／ｓ）は、酸化
物等を球形と仮定すると、ストークス(Stokes)の式か
ら、下記式で表される。

【００２６】Ｖ＝ｇ(ρ_ｓ−ρ_ｉｎｃ)ｄ^２／(18μ) ・・ただし、ρ_ｓ：溶鋼の密度（ｋｇ／ｍ^３） ρ_ｉｎｃ：酸化物等の密度（ｋｇ／ｍ^３）ｄ：酸化物等の径（ｍ） μ ：溶鋼の粘度（Ｐａ・ｓ）ｇ：重力加速度（ｍ／ｓ^２）一方、図４に示したように、電磁気力１３が重力方向に
作用する場合は、酸化物等の浮上速度Ｖ_ｍは、電磁気力
の項が付加され、下記式で表される。

【００２７】Ｖ_ｍ＝｛ｄ^２／(18μ)｝×｛ｇ(ρ_ｓ−ρ_ｉｎｃ)＋(３／４)(Ｊ×Ｂ)｝・・ただし、Ｊ：電流密度（Ａ／ｍ^２）Ｂ：磁束密度（Ｔ、テスラ）仮に、酸化物等の径ｄを３０μｍ、通流路の内径を０．
１ｍ、溶鋼の密度ρ_ｓを７０００ｋｇ／ｍ^３、酸化物等
（Ａｌ_２Ｏ_３と仮定）の密度ρ_ｉｎｃを４０００ｋｇ／
ｍ^３、電流Ｉを１５０００Ａ、電流密度Ｊを１．９×１
０^６Ａ／ｍ^２、磁束密度Ｂを０．２Ｔ（テスラ）とする
と、Ｖ_ｍ／Ｖ＝１０．７・・となり、溶鋼と酸化物等の比重差のみによる浮上に対
し、約１０倍の浮上速度とすることができる。この比は
磁束密度に比例するので、通流路の径を小さくして磁極
間距離を短くし磁束密度を大きくできれば、酸化物等の
浮上をさらに促進することができる。

【００２８】通流路の軸方向に直流電流を流すための導
電性耐火物としては、ＺｒＢ_２が溶損がなく好適である
が、その他の材料でもよい。また、通電用の電極として
導電性耐火物を使用せず、例えば棒状の電極をタンディ
ッシュの受湯部および給湯部内の溶鋼中に浸漬する方式
を採ってもよい。

【００２９】通流路を構成する耐火物の材質は、Ａｌ_２
Ｏ_３、ＭｇＯを主成分とするものが浮上してきた酸化物
等を吸着しやすく、好ましい。

【００３０】通流路の取り付け本数は、通流路の大きさ
にもよるが、磁極間距離を５００ｍｍ程度以下に短くし
得る通流路をタンディッシュの大きさに合わせて１〜３
本設けるのが好ましい。

【００３１】通流路の内部の大きさは、例えば断面が円
形の場合であれば、内径７０〜２００ｍｍとするのが好
ましい。内径が７０ｍｍに満たないと、浮上し、通流路
の天井部分に吸着した酸化物等に起因して通流路の詰ま
りが生じやすく、２００ｍｍを超えると溶鋼が通流路を
通過する間に酸化物等の浮上除去が十分に行われない場
合も起こり得る。また、通流路内での電磁気力のわずか
な不均一により溶鋼の流動が生じてしまい、酸化物等の
浮上除去性が悪化する場合もある。

【００３２】通流路の長さは、１０００〜２０００ｍｍ
であるのが好ましい。１０００ｍｍよりも短いと溶鋼が
通流路を通過する間に酸化物等を十分浮上除去しきれな
い。酸化物等の浮上除去の観点からは通流路の長さが長
い方がよいが、２０００ｍｍ以下とすれば、本発明のタ
ンディッシュを設置するに際し従来の設置範囲を超え
ず、既設の連続鋳造装置に設置することができる。

【００３３】本発明の連続鋳造方法は上述した連続鋳造
用タンディッシュを使用する方法、すなわち、このタン
ディッシュから溶鋼を鋳型に供給し、連続鋳造する方法
である。

【００３４】前記の図１に示したタンディッシュを使用
する場合は、受湯部４に供給された溶鋼が通流路６を通
過する間に、磁場発生装置７により溶鋼に静磁場を印加
する。すなわち、受湯部４と給湯部５を接続する通流路
６の部分で溶鋼に静磁場を印加する。この鋳造方法によ
れば、溶鋼が通流路６を通過する間に、溶鋼中の酸化物
等、特に、浮上除去が困難な酸化物等（溶鋼が凝固した
ときに粒径が１０μｍから３０μｍ程度の、鋳片欠陥と
なり得る微小な介在物となるようなもの）をも除去する
ことができるので、清浄性に優れた鋳片を製造すること
が可能となる。

【００３５】また、前記の図３に示したタンディッシュ
を使用すれば、溶鋼が通流路６を通過する間に、溶鋼に
静磁場を印加するとともに、直流電源装置１１および通
電用電極１０（導電性耐火物）により通流路６の軸方向
に受湯部４側から給湯部５側へ向けて直流電流１２を印
加することができ、これによって酸化物等の除去効果を
一層高めることができる。

【００３６】以上の説明では、タンディッシュの給湯部
の底部に排出口を有する構造のタンディッシュ、および
このタンディッシュを使用する連続鋳造方法について述
べたが、本発明は、給湯部の側壁に排出口を有する水平
式タンディッシュ、およびこのタンディッシュを備える
水平式連続鋳造装置にも適用可能で、同じ効果が得られ
る。

【００３７】

【実施例】（本発明例１）図１に示した構成を有する実
験用のタンディッシュであって、永久磁石を使用し、磁
極を水平方向に設置した磁場発生装置を備える実験用の
タンディッシュを用いて、溶鋼の清浄化試験を行った。

【００３８】実施条件：タンディッシュの受湯部および
給湯部の大きさは同じで、それぞれ、高さを１２００ｍ
ｍ、水平断面における横長さ（タンディッシュの長手方
向、つまり溶鋼が流れる方向の長さ）を２３００ｍｍ、
幅を９００ｍｍとした。給湯部の底部には溶鋼を排出す
るための排出口を設けた。

【００３９】通流路は、内径を１５０ｍｍ、長さを１５
００ｍｍとした筒状体で、受湯部および給湯部の底部に
１本配設した。材質は、高アルミナ質の耐火物とした。

【００４０】このタンディッシュの受湯部に、Ｃ含有率
が０．０５質量％の低炭素鋼の溶鋼を０．５ｔ／ｍｉｎ
の速度で供給するとともに、給湯部の排出口から排出し
た。各試験では、約１００分間溶鋼を供給した。その
間、受湯部および給湯部の溶鋼の高さ（つまり、溶鋼の
深さ）は約７５０ｍｍでほぼ一定とした。受湯部と給湯
部の合計の溶鋼量は約２２ｔであった。

【００４１】試験では、通流路の軸心部での磁束密度Ｂ
を０．２０Ｔ（テスラ）の一定とした。

【００４２】評価方法：受湯部の溶鋼表面および給湯部
の排出口から、直径３０ｍｍ、長さ１００ｍｍに相当す
る容量の溶鋼試料をボンブ法により採取し、得られた試
料について全酸素量を分析した。また、同じ試料から検
鏡用サンプルを採取し、凝固したサンプルについて粒径
が１０〜３０μｍの範囲の介在物の個数（単位面積当た
りの個数）を調査した。

【００４３】表１に、実施条件および試験結果を示す。
また、図８に、介在物の個数を「介在物個数指数」で示
す。なお、「介在物個数指数」とは、介在物の単位面積
当たりの個数を、後述する比較例１の場合の単位面積当
たりの個数を基準（ここでは、１とした）とし、それに
対する比で表したものである。

【００４４】（本発明例２）図３に示した構成を有し、
永久磁石を使用して磁極を水平方向に設置した磁場発生
装置を備えるとともに、通流路の入り側と出側に導電性
耐火物（ＺｒＢ_２）埋め込んだ実験用のタンディッシュ
を用いて、溶鋼の清浄化試験を行った。

【００４５】実施条件：タンディッシュの受湯部および
給湯部の大きさ、通流路の形状、大きさ、配設本数およ
び配設位置は、本発明例１の場合と同じである。また、
試験に用いた溶鋼および供給速度等も本発明例１の場合
と同じとした。

【００４６】試験では、通流路の軸心部での磁束密度Ｂ
を０．２０Ｔ（テスラ）の一定とし、直流電流値を１５
０００Ａとした。

【００４７】評価方法：本発明例１の場合と同じであ
る。表１に実施条件および試験結果を示す。また、図８
に介在物個数指数を示す。

【００４８】（比較例１）図７に示した構成を有する一
体型の実験用タンディッシュを用いて、溶鋼の清浄化試
験を行った。

【００４９】実施条件：タンディッシュの大きさは、高
さを１２００ｍｍ、長さを６１００ｍｍ、幅を９００ｍ
ｍとした。給湯部の底部には溶鋼を排出するための排出
口を設けた。

【００５０】このタンディッシュに、本発明例１の場合
と同様、Ｃ含有率が０．０５質量％の低炭素鋼の溶鋼を
０．５ｔ／ｍｉｎの速度で供給するとともに、排出口か
ら排出した。各試験では、約１００分間溶鋼を供給し
た。その間、受湯部および給湯部の溶鋼の高さは約７５
０ｍｍでほぼ一定とした。タンディッシュ内の溶鋼量は
約２９ｔであった。

【００５１】評価方法：本発明例１の場合と同じであ
る。表１に実施条件および試験結果を示す。また、図８
に介在物個数指数を示す。

【００５２】（比較例２）図５に示した構成を有する一
体型の実験用タンディッシュで、永久磁石を使用し、磁
極を水平方向に設置した磁場発生装置を備えるタンディ
ッシュを用いて、溶鋼の清浄化試験を行った。

【００５３】実施条件：タンディッシュ本体の形状、大
きさは比較例１の場合と同じであり、また、試験に用い
た溶鋼および供給速度等も比較例１の場合と同じとし
た。

【００５４】磁場発生装置の永久磁石の強さ（磁極の強
さ）は本発明例１または２の場合と同じであるが、タン
ディッシュが一体型で磁極間距離が大きいため、タンデ
ィッシュの中央部での磁束密度Ｂは０．０５Ｔ（テス
ラ）で、本発明例１または２の場合より低下した。試験
では、磁束密度Ｂはこの値で一定とした。

【００５５】評価方法：本発明例１の場合と同じであ
る。表１に実施条件および試験結果を示す。また、図８
に介在物個数指数を示す。

【００５６】（比較例３）比較例２の場合と同じく、図
５に示した構成を有し、磁場発生装置を備える一体型の
実験用タンディッシュを用いて、溶鋼の清浄化試験を行
った。

【００５７】実施条件：タンディッシュ本体の形状、大
きさは比較例１の場合と同じであり、また、試験に用い
た溶鋼および供給速度等も比較例１の場合と同じとし
た。

【００５８】磁場発生装置の磁石には本発明例１または
２の場合より強い（磁極の強さの大きい）永久磁石を用
いた。タンディッシュの中央部での磁束密度Ｂは０．２
０Ｔ（テスラ）と本発明例１または２の場合と同じで、
試験では、この値で一定とした。

【００５９】評価方法：本発明例１の場合と同じであ
る。表１に実施条件および試験結果を示す。また、図８
に介在物個数指数を示す。

【００６０】（比較例４）図６に示した構成を有する一
体型の実験用タンディッシュで、永久磁石を使用し、磁
極を水平方向に設置した磁場発生装置を備えたタンディ
ッシュを用い、さらに、図６に示すように、磁場発生範
囲７の受湯部４側と給湯部５側に通電用電極１０として
の導電性のＺｒＢ_２製耐火物棒を浸漬して、溶鋼の清浄
化試験を行った。

【００６１】実施条件：タンディッシュ本体の形状、大
きさは比較例１の場合と同じであり、また、試験に用い
た溶鋼および供給速度等も比較例１の場合と同じとし
た。

【００６２】磁場発生装置の磁石には本発明例１または
２の場合より強い永久磁石を用いた。タンディッシュの
中央部での磁束密度Ｂは０．２０Ｔ（テスラ）で、試験
では、この値で一定とした。また、ＺｒＢ_２製の電極間
に流す直流電流値を１５０００Ａとした。

【００６３】評価方法：本発明例１の場合と同じであ
る。表１に実施条件および試験結果を示す。また、図８
に介在物個数指数を示す。

【００６４】

【表１】表１および図８に示した結果から、本発明例１および２
では、溶鋼の全酸素量の低下量が大きく、介在物個数指
数で表した粒径が１０〜３０μｍの介在物の個数（以
下、単に介在物個数という）の低減効果も大きかった。
特に、静磁場の印加に加えて、通流路６内の軸方向に直
流電流１２を流して電磁気力を作用させた本発明例２に
おいては、より良好な結果が得られた。

【００６５】一方、比較例１では溶鋼の全酸素量の低減
効果はなく、比較例２、３では、静磁場を印加している
にもかかわらず、全酸素量および介在物個数の低減効果
は小さかった。これは、タンディッシュ内の溶鋼深さが
深いため、溶鋼がタンディッシュ内を通過する間に酸化
物等が浮上除去されなかったものと考えられる。静磁場
の印加に加えて電磁気力を作用させた比較例４において
も、幾分向上したものの、全酸素量および介在物個数の
低減効果はやはり小さかった。

【００６６】以上の結果から、タンディッシュに通流路
を設け、磁極間距離および酸化物等の浮上距離を小さく
することにより酸化物等の低減効果を向上させ得ること
が確認された。同時に磁場を作用させる範囲を狭くする
ことができ、磁場発生装置の設備コストを低減すること
ができる。

【００６７】

【発明の効果】本発明の連続鋳造用タンディッシュで
は、磁極間距離を小さくできるので低コストで強い磁場
が得られ、また、酸化物等の浮上距離を短くできるので
酸化物等の除去効果が大きい。このタンディッシュを使
用する本発明の連続鋳造方法によれば、鋳型に注入され
る溶鋼中の酸化物等、特に、浮上除去が困難な、凝固し
たときに粒径が１０μｍから３０μｍ程度の微小な介在
物となるような酸化物等を浮上除去し、清浄性に優れた
鋳片を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の連続鋳造用タンディッシュの一例の構
成を示す図で、（ａ）は縦断側面図、（ｂ）はタンディ
ッシュの通流路の部分の横断平面図である。

【図２】通流路内の溶鋼の流速分布を模式的に示す図
で、（ａ）は静磁場を印加していない場合、（ｂ）は静
磁場を印加した場合である。

【図３】本発明の連続鋳造用タンディッシュの他の例の
構成を示す図で、（ａ）は縦断側面図、（ｂ）はタンデ
ィッシュの通流路の部分の横断平面図である。

【図４】本発明の連続鋳造用タンディッシュにおいて、
通流路内の溶鋼に直流電流を印加したときの酸化物等の
挙動を模式的に示す図である。

【図５】一体型のタンディッシュの一例の構成を示す縦
断側面図である。

【図６】一体型のタンディッシュの他の例の構成を示す
縦断側面図である。

【図７】一体型のタンディッシュのさらに他の例の構成
を示す縦断側面図である。

【図８】実施例の結果で、介在物個数指数を示す図であ
る。

【符号の説明】

１：取鍋２：タンディッシュ３：鋳型４：受湯部５：給湯部６：通流路７：磁場発生装置８：静磁場９：溶鋼の流速１０：通電用電極１１：直流電源装置１２：直流電流１３：電磁気力１４：酸化物等１５：酸化物等の移動方向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者河上忠司大阪府大阪市中央区北浜４丁目５番33号住友金属工業株式会社内Ｆターム(参考） 4E004 MB11 MB20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】溶鋼を受け入れる受湯部と、受湯部内の溶
鋼を鋳型へ供給するための給湯部と、受湯部および給湯
部を接続する通流路を有し、前記通流路の外周部に静磁
場を発生する磁場発生装置を備えることを特徴とする連
続鋳造用タンディッシュ。
【請求項２】溶鋼を受け入れる受湯部と、受湯部内の溶
鋼を鋳型へ供給するための給湯部と、受湯部および給湯
部を接続する通流路を有し、前記通流路の外周部に静磁
場を発生する磁場発生装置を備え、かつ、前記通流路内
の溶鋼に対し通流路の軸方向に直流電流を印加する直流
電源装置および通電用電極を備えることを特徴とする連
続鋳造用タンディッシュ。
【請求項３】請求項１に記載の連続鋳造用タンディッシ
ュを使用する連続鋳造方法であって、受湯部に供給され
た溶鋼が通流路を通過する間に、溶鋼に静磁場を印加す
ることを特徴とする連続鋳造方法。
【請求項４】請求項２に記載の連続鋳造用タンディッシ
ュを使用する連続鋳造方法であって、受湯部に供給され
た溶鋼が通流路を通過する間に、溶鋼に静磁場を印加す
るとともに通流路の軸方向に受湯部から給湯部へ向けて
直流電流を印加することを特徴とする連続鋳造方法。