JPH11123507A - 連続鋳造用タンディッシュにおける介在物除去方法 - Google Patents
連続鋳造用タンディッシュにおける介在物除去方法Info
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- JPH11123507A JPH11123507A JP28718797A JP28718797A JPH11123507A JP H11123507 A JPH11123507 A JP H11123507A JP 28718797 A JP28718797 A JP 28718797A JP 28718797 A JP28718797 A JP 28718797A JP H11123507 A JPH11123507 A JP H11123507A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 タンディッシュを堰等により分割することな
く、介在物を合体凝集させて大型化し、且つタンディッ
シュ内溶鋼の流動を均一化して溶鋼中に懸濁する介在物
を安価に且つ高率良く除去する方法を確立する。 【解決手段】 連続鋳造用タンディッシュ１において、
取鍋２からの受鋼部１１近傍の下流側でタンディッシュ
内溶鋼７に静磁場を印加し、受鋼部での溶鋼攪拌を強化
して介在物を大型化すると共に、静磁場を通過する溶鋼
の流速を均一化して浮上時間を確保し、介在物の分離を
促進させる。
く、介在物を合体凝集させて大型化し、且つタンディッ
シュ内溶鋼の流動を均一化して溶鋼中に懸濁する介在物
を安価に且つ高率良く除去する方法を確立する。 【解決手段】 連続鋳造用タンディッシュ１において、
取鍋２からの受鋼部１１近傍の下流側でタンディッシュ
内溶鋼７に静磁場を印加し、受鋼部での溶鋼攪拌を強化
して介在物を大型化すると共に、静磁場を通過する溶鋼
の流速を均一化して浮上時間を確保し、介在物の分離を
促進させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、タンディッシュ内
に注入された溶鋼中の非金属介在物を効率良く除去する
ことができる連続鋳造用タンディッシュにおける介在物
除去方法に関するものである。
に注入された溶鋼中の非金属介在物を効率良く除去する
ことができる連続鋳造用タンディッシュにおける介在物
除去方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は、従来の連続鋳造用タンディッシ
ュ内における溶鋼流動を模式的に示す図であるが、タン
ディッシュ１内に注入された溶鋼７は、タンディッシュ
１内の溶鋼７より温度が高いため、上方に浮上する特徴
があり、従って、図６に示すように、ロングノズル４を
介して取鍋２からタンディッシュ１内に注入された溶鋼
７は、注入直後に浮上してタンディッシュ１内の溶鋼湯
面近傍を高速で通過し、その後、浸漬ノズル５付近で下
降して浸漬ノズル５を経て鋳型３に流入するので、溶鋼
７中に懸濁する非金属介在物（以下、「介在物」と記
す）の浮上する時間が短く、そのため、一般的にタンデ
ィッシュ１では介在物が除去されにくい。
ュ内における溶鋼流動を模式的に示す図であるが、タン
ディッシュ１内に注入された溶鋼７は、タンディッシュ
１内の溶鋼７より温度が高いため、上方に浮上する特徴
があり、従って、図６に示すように、ロングノズル４を
介して取鍋２からタンディッシュ１内に注入された溶鋼
７は、注入直後に浮上してタンディッシュ１内の溶鋼湯
面近傍を高速で通過し、その後、浸漬ノズル５付近で下
降して浸漬ノズル５を経て鋳型３に流入するので、溶鋼
７中に懸濁する非金属介在物（以下、「介在物」と記
す）の浮上する時間が短く、そのため、一般的にタンデ
ィッシュ１では介在物が除去されにくい。
【０００３】この介在物は、最終製品における表面疵等
欠陥の発生原因となるので、極力分離して除去する必要
があり、そのため、従来からタンディッシュにおいて、
種々の介在物低減対策が実施されてきた。
欠陥の発生原因となるので、極力分離して除去する必要
があり、そのため、従来からタンディッシュにおいて、
種々の介在物低減対策が実施されてきた。
【０００４】例えば、山田等は、材料とプロセス「Vol.
9(1996),p233」（以下、「先行技術１」と記す）におい
て、タンディッシュの受鋼部を円筒状の回転槽として分
割し、その周囲に旋回型の電磁攪拌機を配置し、この電
磁攪拌機にて回転槽内で溶鋼を水平方向に旋回させるこ
とで、溶鋼中の介在物が凝集、合体して浮上分離が促進
され、溶鋼が清浄になると報告している。
9(1996),p233」（以下、「先行技術１」と記す）におい
て、タンディッシュの受鋼部を円筒状の回転槽として分
割し、その周囲に旋回型の電磁攪拌機を配置し、この電
磁攪拌機にて回転槽内で溶鋼を水平方向に旋回させるこ
とで、溶鋼中の介在物が凝集、合体して浮上分離が促進
され、溶鋼が清浄になると報告している。
【０００５】又、田口等は、鉄と鋼「Vol.71(1985),No.
12,S-993」（以下、「先行技術２」と記す）において、
タンディッシュ内に衝突穴方式の多数の穴を有する耐火
物製の堰を設けてタンディッシュを仕切り、溶鋼が堰の
穴を通過することで、溶鋼中に懸濁するＡｌ2Ｏ3が堰の
穴内に付着して溶鋼を清浄にすることができると報告し
ている。
12,S-993」（以下、「先行技術２」と記す）において、
タンディッシュ内に衝突穴方式の多数の穴を有する耐火
物製の堰を設けてタンディッシュを仕切り、溶鋼が堰の
穴を通過することで、溶鋼中に懸濁するＡｌ2Ｏ3が堰の
穴内に付着して溶鋼を清浄にすることができると報告し
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】先行技術１は、介在物
を大型化させて浮上させる方法として、極めて優れた方
法であるが、タンディッシュ内に回転槽を分割して設け
る必要があり、タンディッシュ耐火物コストが極めて高
くなる。又、介在物を大型化するのみでは、溶鋼の清浄
性を十分には高めることはできず、清浄性向上のために
は、介在物の大型化と同時に、タンディッシュ内の溶鋼
流れを均一化する必要がある。
を大型化させて浮上させる方法として、極めて優れた方
法であるが、タンディッシュ内に回転槽を分割して設け
る必要があり、タンディッシュ耐火物コストが極めて高
くなる。又、介在物を大型化するのみでは、溶鋼の清浄
性を十分には高めることはできず、清浄性向上のために
は、介在物の大型化と同時に、タンディッシュ内の溶鋼
流れを均一化する必要がある。
【０００７】又、先行技術２では、堰によりタンディッ
シュ内の溶鋼流れは均一化されて十分な浮上時間が確保
されるが、堰は消耗品であり使用の毎に、新たに設置し
なければならず、先行技術１と同様にタンディッシュ耐
火物コストの増加を招く。又、近年のタンディッシュを
熱間で再使用する際には、高温のタンディッシュ内に人
手では堰を設置できず、堰を設置するための専用機が必
要となり、製造コストの上昇を招く。
シュ内の溶鋼流れは均一化されて十分な浮上時間が確保
されるが、堰は消耗品であり使用の毎に、新たに設置し
なければならず、先行技術１と同様にタンディッシュ耐
火物コストの増加を招く。又、近年のタンディッシュを
熱間で再使用する際には、高温のタンディッシュ内に人
手では堰を設置できず、堰を設置するための専用機が必
要となり、製造コストの上昇を招く。
【０００８】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
その目的は、タンディッシュを堰等により分割すること
なく、介在物を合体凝集させて大型化すると共にタンデ
ィッシュ内溶鋼の流動を均一化し、溶鋼中に懸濁する介
在物を安価に且つ効率良く除去する方法を提供すること
である。
その目的は、タンディッシュを堰等により分割すること
なく、介在物を合体凝集させて大型化すると共にタンデ
ィッシュ内溶鋼の流動を均一化し、溶鋼中に懸濁する介
在物を安価に且つ効率良く除去する方法を提供すること
である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による連続鋳造用
タンディッシュにおける介在物除去方法は、連続鋳造用
タンディッシュにおいて、取鍋からの受鋼部近傍の下流
側でタンディッシュ内溶鋼に静磁場を印加し、受鋼部で
の溶鋼攪拌を強化すると共に、静磁場を通過する溶鋼の
流速を均一化することを特徴とするものである。
タンディッシュにおける介在物除去方法は、連続鋳造用
タンディッシュにおいて、取鍋からの受鋼部近傍の下流
側でタンディッシュ内溶鋼に静磁場を印加し、受鋼部で
の溶鋼攪拌を強化すると共に、静磁場を通過する溶鋼の
流速を均一化することを特徴とするものである。
【００１０】連続鋳造用タンディッシュ内で、介在物を
効率良く除去する条件の１つとして、溶鋼中の介在物同
士を合体凝集させて大型化し、浮上速度を増加させるこ
とが必要である。そして、この介在物同士の合体凝集
は、溶鋼の攪拌強度の増加と共に促進される。
効率良く除去する条件の１つとして、溶鋼中の介在物同
士を合体凝集させて大型化し、浮上速度を増加させるこ
とが必要である。そして、この介在物同士の合体凝集
は、溶鋼の攪拌強度の増加と共に促進される。
【００１１】本発明では、取鍋からタンディッシュへの
溶鋼の落下エネルギーを利用して溶鋼をタンディッシュ
内で強攪拌し、介在物を合体凝集させて大型化する。こ
の落下エネルギーを利用して溶鋼を攪拌する際には、攪
拌する溶鋼量が少ないほど攪拌強度が増加するので、本
発明では取鍋からの受鋼部近傍の下流側において、溶鋼
に静磁場を印加し、溶鋼の攪拌される領域を静磁場が印
加される位置の上流側の狭い範囲に囲い込む。これは、
静磁場を印加することで、静磁場を通過する溶鋼の流速
は減速されると同時に、あたかも静磁場が遮蔽物のよう
に作用して、溶鋼が静磁場を迂回するように流れるため
に、溶鋼の攪拌される範囲が静磁場の上流側に限定され
るためである。
溶鋼の落下エネルギーを利用して溶鋼をタンディッシュ
内で強攪拌し、介在物を合体凝集させて大型化する。こ
の落下エネルギーを利用して溶鋼を攪拌する際には、攪
拌する溶鋼量が少ないほど攪拌強度が増加するので、本
発明では取鍋からの受鋼部近傍の下流側において、溶鋼
に静磁場を印加し、溶鋼の攪拌される領域を静磁場が印
加される位置の上流側の狭い範囲に囲い込む。これは、
静磁場を印加することで、静磁場を通過する溶鋼の流速
は減速されると同時に、あたかも静磁場が遮蔽物のよう
に作用して、溶鋼が静磁場を迂回するように流れるため
に、溶鋼の攪拌される範囲が静磁場の上流側に限定され
るためである。
【００１２】そして、静磁場を通過する溶鋼は所謂電磁
ブレーキ効果により減速され、タンディッシュ内溶鋼湯
面からタンディッシュ底面に至る縦断面方向での溶鋼流
速分布が均一となるので、タンディッシュ内で介在物を
効率良く除去する他の１つの条件である介在物の浮上時
間が十分に確保され、溶鋼の清浄性が向上する。静磁場
の印加では、溶鋼流速が速ければ速い程、減速されるの
で、特に、タンディッシュ内溶鋼との温度差に起因した
溶鋼湯面近傍の速い流れが減速され、タンディッシュ縦
断面での溶鋼流速分布が均一化される。
ブレーキ効果により減速され、タンディッシュ内溶鋼湯
面からタンディッシュ底面に至る縦断面方向での溶鋼流
速分布が均一となるので、タンディッシュ内で介在物を
効率良く除去する他の１つの条件である介在物の浮上時
間が十分に確保され、溶鋼の清浄性が向上する。静磁場
の印加では、溶鋼流速が速ければ速い程、減速されるの
で、特に、タンディッシュ内溶鋼との温度差に起因した
溶鋼湯面近傍の速い流れが減速され、タンディッシュ縦
断面での溶鋼流速分布が均一化される。
【００１３】上記のように、本発明では、受鋼部におい
ては介在物が大型化して浮上が促進されると共に、静磁
場印加の下流側においては溶鋼流速が均一化して介在物
の浮上時間が確保されるので、溶鋼中に懸濁する介在物
はタンディッシュ内で効率良く除去される。
ては介在物が大型化して浮上が促進されると共に、静磁
場印加の下流側においては溶鋼流速が均一化して介在物
の浮上時間が確保されるので、溶鋼中に懸濁する介在物
はタンディッシュ内で効率良く除去される。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明を図面に基づき説明する。
図１は本発明の実施の形態の１つの例を示す連続鋳造用
タンディッシュの概要図であり、（ａ）は正面断面図、
（ｂ）は側面断面図である。
図１は本発明の実施の形態の１つの例を示す連続鋳造用
タンディッシュの概要図であり、（ａ）は正面断面図、
（ｂ）は側面断面図である。
【００１５】内面を耐火物で構築された直方体形状のタ
ンディッシュ１の上方には取鍋２が配置されており、取
鍋２内の溶鋼７は取鍋２の底部に設置したロングノズル
４を介して、タンディッシュ１の一方の短辺側壁９側を
受鋼部１１としてタンディッシュ１内に注入される。
又、受鋼部１１の反対側の他の短辺側壁１０側の底部に
は、浸漬ノズル５が設けられ、タンディッシュ１内に注
入された溶鋼７は浸漬ノズル５を介して、鋳型３内に鋳
造される。そして、鋳型３内で冷却されて凝固し、鋳片
８が形成する。
ンディッシュ１の上方には取鍋２が配置されており、取
鍋２内の溶鋼７は取鍋２の底部に設置したロングノズル
４を介して、タンディッシュ１の一方の短辺側壁９側を
受鋼部１１としてタンディッシュ１内に注入される。
又、受鋼部１１の反対側の他の短辺側壁１０側の底部に
は、浸漬ノズル５が設けられ、タンディッシュ１内に注
入された溶鋼７は浸漬ノズル５を介して、鋳型３内に鋳
造される。そして、鋳型３内で冷却されて凝固し、鋳片
８が形成する。
【００１６】受鋼部１１の下流側近傍に、即ちロングノ
ズル４と浸漬ノズル５との間のロングノズル４側のタン
ディッシュ１側壁に、異極がタンディッシュ１を挟んで
対向するように静磁場発生装置６を設置して、溶鋼７に
静磁場を印加する。静磁場発生装置６は永久磁石型でも
良いが、磁束密度を調整することが可能な直流電源に連
結された直流電磁石型が望ましい。そして、磁極の高さ
は、溶鋼７に縦断面方向で均等な静磁場を印加するため
に、タンディッシュ１に収納される溶鋼高さＨと同等以
上の高さとする。
ズル４と浸漬ノズル５との間のロングノズル４側のタン
ディッシュ１側壁に、異極がタンディッシュ１を挟んで
対向するように静磁場発生装置６を設置して、溶鋼７に
静磁場を印加する。静磁場発生装置６は永久磁石型でも
良いが、磁束密度を調整することが可能な直流電源に連
結された直流電磁石型が望ましい。そして、磁極の高さ
は、溶鋼７に縦断面方向で均等な静磁場を印加するため
に、タンディッシュ１に収納される溶鋼高さＨと同等以
上の高さとする。
【００１７】静磁場発生装置６の磁束密度は最大０．４
テスラ程度の工業的に通常使用されているもので良い
が、望ましくは、タンディッシュ１の外郭を非磁性のス
テンレス鋼等で構築して、磁束密度の減衰を抑える。
又、静磁場発生装置６の設置位置は、静磁場を印加する
ことで受鋼部１１内の攪拌が強化し、受鋼部１１内の溶
鋼湯面直下での溶鋼流速が、静磁場を印加しない時の２
倍以上となる範囲であることが望ましい。溶鋼流速の増
加分が２倍未満では、介在物の合体凝集が促進されず、
目立った効果が現れないからである。
テスラ程度の工業的に通常使用されているもので良い
が、望ましくは、タンディッシュ１の外郭を非磁性のス
テンレス鋼等で構築して、磁束密度の減衰を抑える。
又、静磁場発生装置６の設置位置は、静磁場を印加する
ことで受鋼部１１内の攪拌が強化し、受鋼部１１内の溶
鋼湯面直下での溶鋼流速が、静磁場を印加しない時の２
倍以上となる範囲であることが望ましい。溶鋼流速の増
加分が２倍未満では、介在物の合体凝集が促進されず、
目立った効果が現れないからである。
【００１８】取鍋２から注入された溶鋼７は、静磁場発
生装置６の設置位置を境として、受鋼部１１側では強攪
拌されて介在物の合体凝集が促進して大型化し、そし
て、静磁場発生装置６を通過すると減速して縦断面方向
の溶鋼流速が均一化し、介在物の浮上時間が確保されて
浮上・分離する。こうして、鋳型３へは介在物の少ない
清浄な溶鋼７が鋳造される。
生装置６の設置位置を境として、受鋼部１１側では強攪
拌されて介在物の合体凝集が促進して大型化し、そし
て、静磁場発生装置６を通過すると減速して縦断面方向
の溶鋼流速が均一化し、介在物の浮上時間が確保されて
浮上・分離する。こうして、鋳型３へは介在物の少ない
清浄な溶鋼７が鋳造される。
【００１９】尚、図１は単ストランド鋳造のタンディッ
シュ１での説明であるが、本発明は、単ストランド鋳造
に限るものではなく、中央に受鋼部１１が設置され、左
右に鋳型３が配置された多ストランド鋳造にも、タンデ
ィッシュ１の左右に静磁場発生装置６を設置すること
で、適用することができる。
シュ１での説明であるが、本発明は、単ストランド鋳造
に限るものではなく、中央に受鋼部１１が設置され、左
右に鋳型３が配置された多ストランド鋳造にも、タンデ
ィッシュ１の左右に静磁場発生装置６を設置すること
で、適用することができる。
【００２０】
【実施例】図１に示す連続鋳造用タンディッシュでの実
施例を以下に説明する。タンディッシュ容量は３０ト
ン、タンディッシュの内面幅は８００ｍｍ、溶鋼収納高
さＨは１０００ｍｍ、溶鋼収納長さは５３００ｍｍであ
る。又、鋳片は厚み２５０ｍｍ、幅２１００ｍｍの矩形
型で、炭素濃度が０．０３ｗｔ％の低炭素アルミキルド
鋼を、鋳片引抜き速度３．０ｍ／ｍｉｎとして鋳造し
た。この条件ではタンディッシュ内の平均溶鋼流速は３
３ｍｍ／ｓｅｃとなる。尚、タンディッシュ内の平均溶
鋼流速とは、単位時間当たりに鋳型に鋳造される溶鋼体
積を、タンディッシュの内面幅と溶鋼収納高さＨとの積
で除算した計算値である。
施例を以下に説明する。タンディッシュ容量は３０ト
ン、タンディッシュの内面幅は８００ｍｍ、溶鋼収納高
さＨは１０００ｍｍ、溶鋼収納長さは５３００ｍｍであ
る。又、鋳片は厚み２５０ｍｍ、幅２１００ｍｍの矩形
型で、炭素濃度が０．０３ｗｔ％の低炭素アルミキルド
鋼を、鋳片引抜き速度３．０ｍ／ｍｉｎとして鋳造し
た。この条件ではタンディッシュ内の平均溶鋼流速は３
３ｍｍ／ｓｅｃとなる。尚、タンディッシュ内の平均溶
鋼流速とは、単位時間当たりに鋳型に鋳造される溶鋼体
積を、タンディッシュの内面幅と溶鋼収納高さＨとの積
で除算した計算値である。
【００２１】磁場発生装置は、磁極の高さが１２００ｍ
ｍ、極間距離が１０００ｍｍ、最大コイル電流が１００
０Ａ、最大磁束密度が０．３テスラであり、磁極の中心
位置を受鋼部側のタンディッシュ短辺側壁から１０００
ｍｍの位置として設置した。尚、ロングノズルの設置位
置は、受鋼部側のタンディッシュ短辺側壁から５００ｍ
ｍの位置である。
ｍ、極間距離が１０００ｍｍ、最大コイル電流が１００
０Ａ、最大磁束密度が０．３テスラであり、磁極の中心
位置を受鋼部側のタンディッシュ短辺側壁から１０００
ｍｍの位置として設置した。尚、ロングノズルの設置位
置は、受鋼部側のタンディッシュ短辺側壁から５００ｍ
ｍの位置である。
【００２２】そして、タンディッシュ中央位置で且つ対
抗する磁極の中心線における静磁場の磁束密度を０．２
５テスラとし鋳造した。尚、比較のために、静磁場を印
加せず、その他の条件を同一とした鋳造（従来例）も実
施した。
抗する磁極の中心線における静磁場の磁束密度を０．２
５テスラとし鋳造した。尚、比較のために、静磁場を印
加せず、その他の条件を同一とした鋳造（従来例）も実
施した。
【００２３】図２は、受鋼部の溶鋼湯面直下における溶
鋼流速の測定値を実施例と従来例とで比較して示した図
である。溶鋼流速は、耐火物製のブロックを耐火物製の
細棒の先端に装着させて溶鋼に浸漬させ、溶鋼の流動に
より耐火物製細棒の受ける応力から求めたものである。
図に示すように、湯面直下の溶鋼流速は、従来例では１
００ｍｍ／ｓｅｃであったものが、実施例では５００ｍ
ｍ／ｓｅｃまで上昇した。これは、静磁場により磁極近
傍の溶鋼流速が減速したため、受鋼部の流動範囲が狭く
なり、攪拌が強化されたためである。
鋼流速の測定値を実施例と従来例とで比較して示した図
である。溶鋼流速は、耐火物製のブロックを耐火物製の
細棒の先端に装着させて溶鋼に浸漬させ、溶鋼の流動に
より耐火物製細棒の受ける応力から求めたものである。
図に示すように、湯面直下の溶鋼流速は、従来例では１
００ｍｍ／ｓｅｃであったものが、実施例では５００ｍ
ｍ／ｓｅｃまで上昇した。これは、静磁場により磁極近
傍の溶鋼流速が減速したため、受鋼部の流動範囲が狭く
なり、攪拌が強化されたためである。
【００２４】図３は、受鋼部側のタンディッシュ短辺側
壁から１２００ｍｍ離れた位置、即ち静磁場の中心位置
より下流側でのタンディッシュ縦断面におけるタンディ
ッシュ内溶鋼の流速を実施例と従来例とで比較して示し
た図である。尚、溶鋼流速は上記の耐火物製細棒を溶鋼
中に浸漬させる方法で実施した。図に示すように、従来
例では、タンディッシュ内溶鋼湯面直下の流速は最大１
００ｍｍ／ｓｅｃであるのに対し、実施例では、最大流
速が３５ｍｍ／ｓｅｃとなり、タンディッシュ内の平均
溶鋼流速にほぼ等しい流速にまで、静磁場により減速し
ていた。
壁から１２００ｍｍ離れた位置、即ち静磁場の中心位置
より下流側でのタンディッシュ縦断面におけるタンディ
ッシュ内溶鋼の流速を実施例と従来例とで比較して示し
た図である。尚、溶鋼流速は上記の耐火物製細棒を溶鋼
中に浸漬させる方法で実施した。図に示すように、従来
例では、タンディッシュ内溶鋼湯面直下の流速は最大１
００ｍｍ／ｓｅｃであるのに対し、実施例では、最大流
速が３５ｍｍ／ｓｅｃとなり、タンディッシュ内の平均
溶鋼流速にほぼ等しい流速にまで、静磁場により減速し
ていた。
【００２５】図４は、実施例及び従来例の鋳片から介在
物調査用試料を採取し、５０ミクロン以上の直径の介在
物個数を顕微鏡観察により調査し、従来例の介在物個数
を１として指数化して示した図である。実施例では従来
例に比較して３／５に低減していた。
物調査用試料を採取し、５０ミクロン以上の直径の介在
物個数を顕微鏡観察により調査し、従来例の介在物個数
を１として指数化して示した図である。実施例では従来
例に比較して３／５に低減していた。
【００２６】次に、上記の鋳片寸法及び鋳片引抜き速度
で、静磁場設置位置を５００ｍｍ間隔で変化させ、同時
に、磁束密度を０．１５テスラ、０．２０テスラ、及
び、０．２５テスラの３水準に変化させて、静磁場設置
位置及び磁束密度の受鋼部湯面直下における溶鋼流速に
及ぼす影響を調査した。調査結果を図５に示す。図５に
おいて、●は磁束密度が０．２５テスラの場合を、○は
０．２０テスラの場合を、又、◎は０．１５テスラの場
合を示す。図に示すように静磁場の設置位置を受鋼部側
にするほど、そして磁束密度を高くするほど、受鋼部湯
面直下での流速は上昇することが分かった。静磁場を設
置しない場合には受鋼部湯面直下での溶鋼流速は前述の
ように１００ｍｍ／ｓｅｃであるので、磁束密度が０．
１５テスラでは静磁場設置位置が受鋼部側の短辺側壁か
ら１５００ｍｍを超えると、静磁場の効果は見られなく
なる。このように、印加する静磁場の磁束密度の上限値
から、静磁場設置位置を決めることで、十分な攪拌力が
得られることが分かった。
で、静磁場設置位置を５００ｍｍ間隔で変化させ、同時
に、磁束密度を０．１５テスラ、０．２０テスラ、及
び、０．２５テスラの３水準に変化させて、静磁場設置
位置及び磁束密度の受鋼部湯面直下における溶鋼流速に
及ぼす影響を調査した。調査結果を図５に示す。図５に
おいて、●は磁束密度が０．２５テスラの場合を、○は
０．２０テスラの場合を、又、◎は０．１５テスラの場
合を示す。図に示すように静磁場の設置位置を受鋼部側
にするほど、そして磁束密度を高くするほど、受鋼部湯
面直下での流速は上昇することが分かった。静磁場を設
置しない場合には受鋼部湯面直下での溶鋼流速は前述の
ように１００ｍｍ／ｓｅｃであるので、磁束密度が０．
１５テスラでは静磁場設置位置が受鋼部側の短辺側壁か
ら１５００ｍｍを超えると、静磁場の効果は見られなく
なる。このように、印加する静磁場の磁束密度の上限値
から、静磁場設置位置を決めることで、十分な攪拌力が
得られることが分かった。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、タンディッシュに堰等
を設けることなく、溶鋼中介在物を大型化し、且つ、タ
ンディッシュ内の溶鋼流動を均一化することができ、そ
の結果、安価で効率良く溶鋼中の介在物を除去すること
ができるので、工業的メリットは多大である。
を設けることなく、溶鋼中介在物を大型化し、且つ、タ
ンディッシュ内の溶鋼流動を均一化することができ、そ
の結果、安価で効率良く溶鋼中の介在物を除去すること
ができるので、工業的メリットは多大である。
【図１】本発明の実施の形態の１つの例を示す連続鋳造
用タンディッシュの概要図であり、（ａ）は正面断面
図、（ｂ）は側面断面図である。
用タンディッシュの概要図であり、（ａ）は正面断面
図、（ｂ）は側面断面図である。
【図２】受鋼部の溶鋼湯面直下における溶鋼流速を実施
例と従来例とで比較して示した図である。
例と従来例とで比較して示した図である。
【図３】静磁場設置位置の下流側でのタンディッシュ縦
断面における溶鋼流速を実施例と従来例とで比較して示
した図である。
断面における溶鋼流速を実施例と従来例とで比較して示
した図である。
【図４】鋳片の介在物を実施例と従来例とで比較して示
した図である。
した図である。
【図５】静磁場設置位置及び磁束密度の受鋼部湯面直下
における溶鋼流速に及ぼす影響を示した図である。
における溶鋼流速に及ぼす影響を示した図である。
【図６】従来のタンディッシュ内における溶鋼流動を模
式的に示した図である。
式的に示した図である。
１ タンディッシュ ２ 取鍋 ３ 鋳型 ４ ロングノズル ５ 浸漬ノズル ６ 静磁場発生装置 ７ 溶鋼 ８ 鋳片
フロントページの続き (72)発明者 久保田 淳 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 清水 宏 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 森 健太郎 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 久保 典子 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 連続鋳造用タンディッシュにおいて、取
鍋からの受鋼部近傍の下流側でタンディッシュ内溶鋼に
静磁場を印加し、受鋼部での溶鋼攪拌を強化すると共
に、静磁場を通過する溶鋼の流速を均一化することを特
徴とする連続鋳造用タンディッシュにおける介在物除去
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28718797A JPH11123507A (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 連続鋳造用タンディッシュにおける介在物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28718797A JPH11123507A (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 連続鋳造用タンディッシュにおける介在物除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11123507A true JPH11123507A (ja) | 1999-05-11 |
Family
ID=17714210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28718797A Pending JPH11123507A (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 連続鋳造用タンディッシュにおける介在物除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11123507A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112974783A (zh) * | 2021-02-07 | 2021-06-18 | 佛山科学技术学院 | 基于静磁场的中间包控流装置 |
-
1997
- 1997-10-20 JP JP28718797A patent/JPH11123507A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112974783A (zh) * | 2021-02-07 | 2021-06-18 | 佛山科学技术学院 | 基于静磁场的中间包控流装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040915 |
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| A977 | Report on retrieval |
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Effective date: 20060808 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
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Effective date: 20060920 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061205 |