JP2002346455A - 塗布ノズルおよびこれを用いた塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノズル洗浄の負担を軽減しつつ、被塗布基板
の全域にわたってムラのない均一な厚さで塗布液を塗布
することが可能な塗布ノズルを提供することを課題とす
る。 【解決手段】 塗布液を被塗布基板上に吐出させる塗布
ノズルであって、水平方向に帯状に形成され、前記塗布
液が吐出されるスリットと、該スリットから傾斜して延
在する傾斜面を有し、吐出された塗布液を平坦化するノ
ズルリップ部とを具備し、前記傾斜面のプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角が
５〜４０°である塗布ノズルにより上記課題を解決す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被塗布基板上に塗
布液を塗布する塗布装置および塗布方法に関するもので
あり、詳しくは、大型のガラス基板やプラスチック基板
等の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率
的に塗布するための塗布装置および塗布方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ；li
quid crystal display）用カラーフィルター等の大型ガ
ラス基板に塗布液を塗布する方式としては、スピン塗布
方式が多く採用されており、この方式には大気開放型と
密閉カップ式とがある。

【０００３】しかしながら、これらのいずれの方式にお
いても、その塗布液の使用効率が１０％程度と低いもの
であった。すなわち、残りの９０％の塗布液は飛散して
しまい有効に再利用されないだけでなく、塗布装置周辺
に付着、乾燥、飛散して異物不良の原因にもなってい
た。また、被塗布基板の回転中心部と周辺部の塗布膜厚
がその中間部分に比べて厚くなりすぎるという欠点もあ
った。このため、例えば、塗布厚膜が数μｍ±３％の範
囲であることが要求される場合、スピン塗布方式により
形成した塗布膜をそのまま使用することが困難であり、
被塗布基板の回転中心部分と周辺部分との中間領域の塗
布膜厚が比較的均一な部分のみを使用せざるを得なかっ
た。このように、スピン塗布方式は、塗布液の使用量、
被塗布基板の有効利用等の点で満足のいくものではなか
った。

【０００４】そこで、上述したような各塗布方式の欠点
を解消して、枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液の物性
等の影響を受けることなく安定した状態で均一な塗膜を
形成することのできる方式として、ダイ塗布方式やエク
ストルージョン塗布方式、ビード塗布方式が提案されて
いる（特願平６−５２４１０９号参照）。

【０００５】これらの塗布方式に基づく塗布装置として
は、例えば、被塗布基板上に塗布ノズルの直線上スリッ
トから塗布液を吐出し、これと同時に被塗布基板を一定
速度でスライドさせることにより、被塗布基板上に塗膜
を形成するものが挙げられる。このとき、塗布ノズルに
は、塗布液供給機構から連続して塗布液の供給が行わ
れ、塗布ノズルから吐出される塗布液の吐出量が一定に
保たれるようになっている。なお、被塗布基板上に塗膜
が形成されるとき、塗布ノズルと被塗布基板との間には
一定量のビードが形成され、そのうちの一定量が被塗布
基板上に塗布される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この塗
布方法は塗布ノズルから吐出した塗布液がスリットに隣
接するノズルリップ側面に付着し易く、被塗布基板への
初期ビード形成の際、ノズル側面への周り込みが生じや
すい。このため、初期ビードの形成に際し、初期ビード
形成に本来必要とされる量よりも多めの量の塗布液を吐
出しなければならないことから、塗り始めの塗膜の膜厚
が正規の値から外れてしまい、不良部分が発生してしま
うという問題がある。

【０００７】また、ノズルリップ部に付着した塗布液が
乾燥することにより、膜厚精度が劣ったり、縦方向のス
ジムラが発生したり、乾燥した塗布液が剥離し被塗布基
板に付着することによる異物不良が発生するおそれがあ
る等の問題も考えられる。このような問題を解決するた
めに塗布ノズル洗浄などの対策が採られているが、スル
ープットの低下、ノズルの洗浄性等の点で満足のいくも
のではなかった。

【０００８】このような問題に対し、ノズルリップ部の
塗布液の周り込みや付着を抑えるために金属メッキを行
ったり、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）コー
ト等の表面処理を行うことも一案として考えられる。し
かしながら、金属メッキでは膜硬度および化学的安定性
の点で不充分であり、また、塗布ノズルの材料として多
く用いられているステンレス鋼との比較で濡れ性の差異
を付けるのが困難であり、メッキが剥がれやすくなった
り、あるいは従来の塗布液乾燥により縦方向のスジムラ
が発生し得るという問題がある。また、ノズルリップ部
のＰＴＦＥ処理では、塗布液の表面自由エネルギーと比
較しノズルリップ部の表面自由エネルギーが小さすぎる
ためリップ部の濡れ性が著しく劣化し、ビードメニスカ
スのノズルリップとの接触点が不安定化し、その結果塗
布ムラを引き起こすおそれがある。

【０００９】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、ノズル洗浄の負担を軽減しつつ、被塗布基板の
全域にわたってムラのない均一な厚さで塗布液を塗布す
ることができる塗布ノズル、およびこれを用いた塗布装
置を提供することを課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたものであり、塗布液を被塗布基板
上に吐出させる塗布ノズルであって、水平方向に帯状に
形成され、前記塗布液が吐出されるスリットと、該スリ
ットから傾斜して延在する傾斜面を有し、吐出された塗
布液を平坦化するノズルリップ部とを具備し、前記傾斜
面のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トに対する接触角が５〜４０°であることを特徴とす
る、塗布ノズルを提供する。

【００１１】また、本発明は、上記塗布ノズルと、前記
塗布ノズルに塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記
塗布ノズルを被塗布基板に対向させた状態で前記塗布ノ
ズルと前記被塗布基板とを水平方向に相対移動させる塗
布用移動機構とを有してなることを特徴とする、塗布装
置を提供する。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の塗布ノズルおよび
これを用いた塗布装置の一例について具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。塗布ノズル 本発明における塗布ノズルとは、塗布液を被塗布基板上
に吐出させるものであって、より好ましくは、塗布ノズ
ルを被塗布基板に対向させた状態で塗布ノズルと被塗布
基板とを水平方向に相対移動させる方式の塗布装置に用
いられるものである。

【００１３】本発明の塗布ノズルにおいて用いられる塗
布液は、特に制限はなく、溶剤系感光性樹脂、水系感光
性樹脂、または、これらの感光性樹脂に顔料等の着色剤
を分散させた着色感光性樹脂、各種接着剤、保護膜等を
形成するための樹脂、各種インキ等を対象とすることが
できる。

【００１４】また、本発明の塗布ノズルにおいて塗布可
能な被塗布基板としては、特に制限は無く、例えば、Ｌ
ＣＤカラーフィルタ用のガラス基板等のような大面積基
板に対しても基板の全域にわたって均一な塗布膜を形成
することが出来る。

【００１５】図１に、本発明の塗布ノズルの一例の概略
側面図を示す。図１に示される塗布ノズル１０は、塗布
ノズル本体１２と、スリット１４と、ノズルリップ部１
６とを有する。塗布ノズル本体１２は、塗布装置から供
給される塗布液をスリット１４に供給可能に連通してな
る供給ポート１８と、この供給ポートを通過する塗布液
を一時的に貯留するマニホールド２０とを有する。これ
により、スリット１４に塗布液が効率的に供給される。
この塗布ノズル本体１２は、結果としてスリット１４に
塗布液を供給するような構成であれば特に限定されず、
種々の構成のものが使用可能である。

【００１６】スリット１４は、塗布液が吐出される吐出
口であり、水平方向に帯状に形成される。図１に示され
るスリット１４は、塗布ノズル本体１２の下端部に突出
させ、かつ塗布液供給ポート１８と連通するように形成
される。これにより、水平方向に搬送される被塗布基板
上に塗布液を均等に吐出させることができる。

【００１７】ノズルリップ部１６は、塗布ノズル本体１
２からスリット１４に向かってテーパー状に突出して形
成された部分であって、スリット１４の外縁を形成する
平坦面１６ａと、この平坦面を介して傾斜して延在する
傾斜面１６ｂとを有する。なお、本発明のノズルリップ
部１６は少なくとも傾斜面１６ｂを有していればよく、
平坦面１６ａを有していなくてもよい。

【００１８】図２に、図１に示される塗布ノズルの先端
部の、塗布作業中における様子を示す。図２に示される
ように、スリット１４から吐出された塗布液Ａは、塗布
ノズル１０と被塗布基板Ｂとを水平方向に相対移動させ
ることにより、ノズルリップ部の傾斜面１６ｂによって
効率的に平坦化され、膜厚が均一化される。

【００１９】ところで、上述したように、通常使用され
ているステンレス鋼製のノズルリップでは、ノズル洗浄
の負担が大きく、また、被塗布基板の全域にわたってム
ラのない均一な厚さで塗布液を塗布することが困難であ
った。

【００２０】そこで、本発明では、このノズルリップ傾
斜面１６ｂにおける、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート（以下、ＰＧＭＥＡという）に対す
る接触角を５〜４０°、好ましくは５〜２０°、より好
ましくは１０〜１５°、とした。すなわち、少なくとも
ノズルリップ傾斜面１６ｂを上記範囲内の接触角を有す
る材料で形成する。これにより、ノズル洗浄の負担が軽
減されると同時に、被塗布基板の全域にわたってムラの
ない均一な厚さで塗布液を塗布することが可能になる。
なお、本発明における接触角は、図３に示されるよう
に、被膜が形成された基材２２と、ＰＧＭＥＡの液滴２
４と、外気２６との３相の接触点で液滴２４に引いた接
線と基材２２とのなす角のうち、液体を含む方の角度θ
をいうものとする。

【００２１】すなわち、本発明では、接触角が４０°を
越える場合には、表面自由エネルギーが小さすぎてしま
い、ノズルリップ部が塗布液で均一に濡れにくくなり、
塗布ムラが発生しやすくなる。一方、接触角が５°未満
の場合には、表面自由エネルギーが大きすぎてしまい、
ノズルリップ部傾斜面１６ｂが塗布液で過度に濡れやす
くなり、ノズルリップ部側面に塗布液が周り込んだり、
付着したりし易くなる。このため、初期ビードが形成さ
れにくくなって塗布開始直後の膜が不均一になりやすい
とともに、塗布液が付着した塗布ノズルの洗浄が容易に
は行えなくなる。したがって、ノズルリップ部の表面を
上記接触角となるようにすることで、ノズルリップ部側
面への塗布液の付着しにくさと、塗布品質の両方を兼ね
そろえた塗布ノズルを得ることができる。そして、この
ようなノズルを用いることにより、被塗布基板の全域に
わたって、所望の膜厚を有した塗布品質の良い塗膜を形
成することができる。

【００２２】なお、接触角の測定にＰＧＭＥＡを用いる
こととしたのは、この溶剤は感光性樹脂の溶剤として多
く用いられている安全な溶剤であり、カラーフィルタを
主用途の一つとする本発明において、濡れ性を評価する
指標として最も適切であると考えたためである。

【００２３】本発明の塗布ノズルにおける、上記範囲内
の接触角を有する材料としては、特に限定されるもので
はなく、上述した接触角測定方法に従い種々の材料を選
択することができる。

【００２４】本発明の好ましい態様によれば、ノズルリ
ップ傾斜面１６ｂを金属窒化物、金属酸化物、および金
属シアノ化物からなる群より選択される少なくとも１種
で表面被覆することができる。これらの金属化合物は、
膜の硬度、加工性、表面処理膜厚の制御、化学的安定性
などに優れた特徴を持つことから、ノズルリップ部に好
適である。このような化合物の好ましい例としては、Ｔ
ｉＮ，ＣｒＮ，ＴｉＯ，ＴｉＣＮ，ＣｒＣＮおよびそれ
らの組合せなどが挙げられるが、これに限定されず、前
記以外の金属の金属窒化物、金属酸化物、または金属シ
アノ化物であってもよい。また、このような表面被覆処
理は、スパッタリング、イオンプレーティングなどのＰ
ＶＤ法、ＣＶＤ法、ディッピング、スプレー、ハケ塗
り、スピンコート等の既存のコーティング法により行う
ことができ、特に限定されるものでない。

【００２５】また、本発明の別の好ましい態様によれ
ば、ノズルリップ傾斜面１６ｂを高分子樹脂で表面被覆
処理することができる。好ましい高分子樹脂の例として
は、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエス
テル樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、およびそ
れらの組合せなどが挙げられる。また、このような表面
被覆処理は、ディッピング、スプレー、ハケ塗り、スピ
ンコート、蒸着重合法などで行うことができ、特に限定
されるものではない。

【００２６】図示例のノズルリップ１６は、市販される
ステンレス鋼製のノズルリップを基材として、その傾斜
面１６ｂとして上記接触角の材料がさらに表面被覆され
てなるものである。すなわち、本発明の塗布ノズルは、
既存のノズルリップを表面処理するだけで低コストでか
つ簡便に得ることができるという利点がある。この場
合、ノズルリップ平坦面１６ａのＰＧＭＥＡに対する接
触角が５°未満となっている。これにより、高水準に加
工されたノズル先端の精度を保持するとともに、ノズル
リップ平坦面１６ａおよびノズルリップ傾斜面１６ｂに
おける塗布液の濡れ性に差異をつけてノズルリップ１６
ｂまで塗布液が上昇するのを抑え、ビード形状を安定化
することができる。なお、基材としてのノズルリップ
は、ステンレス鋼以外にも、超鋼、チタン、セラミック
ス等、種々の材料ですることができるが、ＰＧＭＥＡに
対する接触角が５°未満であるのが平坦面１６ａとノズ
ルリップ傾斜面１６ｂとの濡れ性に差異が出るので好ま
しい。また、傾斜面１６ａのみならずノズルリップ１６
の全体を上記接触角の材料で形成してもよい。なお、本
発明はこれに限定されず、例えば、ノズルリップ１６全
体や、スリット１４の内面にも表面処理を施し、所定の
接触角を付与する構成としてもよいのは勿論である。

【００２７】塗布装置 図４は、本発明の塗布ノズルを用いた塗布装置の一例の
概略側面図である。図４に示されるように、塗布装置３
０は、被塗布基板Ｂ上に塗布液Ａを塗布するものであ
り、前述した塗布ノズル１０を備えている。

【００２８】塗布ノズル１０は、その帯状のスリット１
４が、被塗布基板Ｂが載置されるステージ３６のスライ
ド（移動）方向（図４の左右方向）と直交する方向（図
４の紙面に直交する方向）に延在するように配置され、
塗布液供給機構（図示せず）から供給される塗布液Ａを
スリット１４を介して下方に吐出することができるよう
になっている。

【００２９】また、塗布ノズル１０は、被塗布基板Ｂに
対する塗布ノズル１０の水平状態を調整することが可能
なダイホルダ３８に支持されている。ダイホルダ３８
は、昇降機構４２を介して支柱４４に取り付けられてお
り、被塗布基板Ｂに対する塗布ノズル１０の高さを任意
に調整することができるようになっている。なお、支柱
４４は基台３２上に固定されている。

【００３０】一方、被塗布基板Ｂは、基板ホルダ４０を
介してステージ３６上に載置されており、基板ホルダ４
０の上面にて真空吸着により保持されるようになってい
る。ここで、ステージ３６は、エアースライドリニアモ
ータ（塗布用移動機構）３４を介して基台３２上にてス
ライド（移動）自在に設置されており、塗布ノズル１０
のスリット１４を被塗布基板Ｂに対向させた状態で塗布
ノズル１０と被塗布基板Ｂとを水平方向に相対移動させ
ることができるようになっている。

【００３１】このような図示例の塗布装置において、塗
布作業は以下のようにして行われる。まず、ステージ３
６上に配設された基板ホルダ４０上にて真空吸着により
被塗布基板Ｂを保持するとともに、ステージ３６上に配
設された被塗布基板Ｂの端部近傍に塗布ノズル１０のス
リット１４がくるようにステージ３６の左右方向の位置
を調整する。なお、このとき、被塗布基板Ｂに対する塗
布ノズル１０の平行度および高さはそれぞれダイホルダ
３８および昇降機構４２により調整される。

【００３２】この状態で、塗布液供給機構（図示せず）
から塗布液を塗布ノズル１０に連続して供給させなが
ら、塗布ノズル１０のスリット１４から下方に塗布液Ａ
を吐出する。また、同時に、エアースライドリニアモー
タ３４によりステージ３６を水平方向（図４では右方
向）にスライドさせる。こうして、塗布液Ａが被塗布基
板Ｂ上に均一にムラなく塗布される。その後、被塗布基
板Ｂの全面に亘って塗布液Ａを塗布した後、エアースラ
イドリニアモータ３４によりステージ３６を図４の左方
向にスライドさせ、初期の位置へ戻す。

【００３３】ところで、図４に示される塗布装置３０
は、塗布ノズル１０のスリット１４が下方に向かって開
口した状態で固定されており、この塗布ノズル１０に対
して（被塗布基板Ｂが固定された）基板ホルダ４０が移
動して塗布を行うものであるが、本発明はこれに限定さ
れず、塗布ノズルと被塗布基板とを水平方向に相対移動
させることができるものであれば種々の構成が採用可能
である。例えば、スリット１４が上方に向かって開口し
た状態で塗布ノズル１０を固定し、（被塗布基板Ｂが保
持された）基板ホルダ４０を移動するような構成であっ
てもよい。また、固定されている被塗布基板Ｂに対し
て、スリット１４が下方に向かって開口した塗布ノズル
１０が移動して塗布を行う構成でもよいし、あるいは固
定されている被塗布基板Ｂに対して、スリット１４が上
方に向かって開口した塗布ノズル１０が移動して塗布を
行うような構成であってもよい。

【００３４】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。

【００３５】以下に示される実施例および比較例におい
て、塗布状態および得られた塗布ノズルの評価方法は以
下の通りとした。 評価１：接触角の測定 まず、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ートに対する、塗布ノズル表面の接触角を測定するため
に、塗布ノズルとは別個に接触角測定用の板状試験片を
作製した。次いで、塗布ノズルを表面被覆する場合と同
様の方法により、被膜を形成した。得られた試験片につ
いて、接触角を接触角計ＣＡ−Ｄ型（協和界面科学株式
会社製）で測定した。

【００３６】評価２：初期ビード形成性 塗布液が塗布ノズルのスリットから最初に吐出され、被
塗布基材に到達するまでの間、塗布液がスリット直下で
球状に溜まった状態となるが、これをビードという。こ
のビードが形成されやすいほど、定常時よりも多めの塗
布液が必要とされる塗布供給開始時において適量の塗布
液を供給することができ、直ちに均一な膜厚が得られる
という利点がある。そこで、このビードの形成のしやす
さを目視にて観察し、以下に示される○および×の２段
階で評価した。 ○：リップ側面への塗布液の付着（周り込み）が少なく
良好な結果であった。すなわち、ビードが形成されやす
かったことを意味する。 ×：塗液供給開始後ノズル側面へ周り込みが起きている
ため若干のタイムラグの後基板との間にビードが形成さ
れていた。すなわち、ビードが形成されにくかったこと
を意味する。

【００３７】評価３：洗浄性 塗布作業を長時間行うにつれ、塗布ノズル表面には塗布
液が乾燥して付着していく。このため、安定して均質な
塗布作業を行うためには、定期的（例えば１５分に１回
程度）に塗布ノズル表面を洗浄する必要がある。したが
って、塗布ノズル表面の洗浄を容易に行える程、生産効
率が高くなる。そこで、この塗布ノズル表面をＰＧＭＥ
Ａにより洗浄した際の塗布液の除去のしやすさを、以下
に示される○および×の２段階で評価した。 ○：ノズルリップ部に塗布液の付着が少なく、ノズル洗
浄により容易に洗浄できるものであった。すなわち、塗
布液を短時間で除去できたことを意味する。 ×：ノズルリップ部への塗布液の付着状況を確認したと
ころ、塗布液が塗布ノズルリップ部にびっしりと付着し
て乾燥しており、ノズル洗浄を行ってもは容易に付着液
を取ることができなかった。すなわち、塗布液の除去に
長時間を要したことを意味する。

【００３８】評価４：塗布ムラ 被塗布基板上に形成された塗布膜を目視にて観察するこ
とにより塗布ムラがあるかどうかを、以下に示される
○、△および×の３段階で評価した。 ○：縦スジムラの発生など一切無く良好な塗膜を得るこ
とが出来た。 △：ノズルリップとビードメニスカスの接触点の不安定
性の影響が出始め、若干の膜厚変動があったがおおむね
良好な塗膜を得ることが出来た。 ×：ノズルリップとビードメニスカスの接触点の不安定
性の影響が極めて大きく、幅方向の膜厚変動が大きく良
好な塗膜を得ることが出来なかった。

【００３９】実施例１ 表面処理が施されていない塗布ノズルとして、図１に示
される形状（スリットのサイズ：３００ｍｍ×０．０８
ｍｍ）の、市販される塗布ノズル（東洋刃物社製、商品
名；ダイヘッド、ステンレス鋼製）を用意した。このス
テンレス鋼製の塗布ノズルにイオンプレーティング法に
より厚さ２μｍのＣｒＮ膜を形成して、表面被覆塗布ノ
ズルを得た。図４に示されている塗布装置に、表面被覆
塗布ノズルをセットするとともに、塗布液であるポジレ
ジスト（クラリアントジャパン（株）製、ＴＦＰ−２１
０Ｋ（５ｃ．Ｐ．））を塗布液供給手段の所定のタンク
（図示せず）に充填した。一方、被塗布基板として、大
きさ３００×４００×０．７ｍｍのガラス板を５０枚用
意した。次に、連続塗工テストとして、５０枚の全ての
被塗布基板に塗布液の塗布を行った。このとき、塗布乾
燥後の膜厚が１．０μｍになるように塗布液供給レー
ト、塗布速度等のパラメータを設定した。連続塗工テス
トに関して、前述した評価１〜４を行った。結果を表１
に示す。

【００４０】実施例２ ステンレス製の塗布ノズルにイオンプレーティング法に
より厚さ２μｍのＴｉＮ膜を形成させたこと以外は、実
施例１と同様にして、塗布液の塗布および評価１〜４を
行った。結果を表１に示す。

【００４１】実施例３ ステンレス製の塗布ノズルにポリイミド蒸着重合を行
い、厚さ５μｍのポリイミド膜を形成させたこと以外
は、実施例１と同様にして、塗布液の塗布および評価１
〜４を行った。結果を表１に示す。

【００４２】実施例４ ステンレス製の塗布ノズルにポリイミド蒸着重合を行い
厚さ２０μｍのポリイミド膜を形成させたこと以外は、
実施例１と同様にして、塗布液の塗布および評価１〜４
を行った。結果を表１に示す。

【００４３】実施例５ ステンレス製の塗布ノズルにディッピング方式により厚
さ１０μｍのＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレン−エチ
レン共重合体）を形成させたこと以外は、実施例１と同
様にして、塗布液の塗布および評価１〜４を行った。結
果を表１に示す。

【００４４】比較例１ ステンレス鋼製の塗布ノズルに何ら表面処理を施さなか
ったこと以外は、実施例１と同様にして、塗布液の塗布
および評価１〜４を行った。結果を表１に示す。

【００４５】比較例２ ステンレス鋼製の塗布ノズルにディッピング方式により
厚さ１５μｍのＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレ
ン）被膜を形成させたこと以外は、実施例１と同様にし
て、塗布液の塗布および評価１〜４を行った。結果を表
１に示す。

【００４６】 表 １ 接触角 初期ビード 洗浄性 塗布ムラ 成形性 実施例１ ８° Ａ Ａ Ａ 実施例２ ８° Ａ Ａ Ａ 実施例３ １２° Ａ Ａ Ａ 実施例４ ２０° Ａ Ａ Ａ 実施例５ ４０° Ａ Ａ Ｂ 比較例１ ２．５° Ｃ Ｃ Ａ※ 比較例２ ６５° Ａ Ａ Ｃ ※塗膜も塗り始めの基板は良好な膜質であったが、塗工開始から３０枚目以降 の塗膜はノズルリップ部に付着した塗布液の影響でスジムラが発生していた。

【００４７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の塗布ノズ
ルおよびこれを用いた塗布装置によれば、ノズル洗浄の
負担を軽減しつつ、被塗布基板の全域にわたってムラの
ない均一な厚さで塗布液を塗布することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布ノズルの一例を示す概略側面図で
ある。

【図２】図１に示される塗布ノズルの先端部の、塗布作
業中における様子を示す拡大図を示す。

【図３】本発明における接触角の測定方法を示す図であ
る。

【図４】図１に示される塗布ノズルを用いた塗布装置の
一例を示す概略側面図である。

【符号の説明】

１０ 塗布ノズル １２ 塗布ノズル本体 １４ スリット １６ ノズルリップ部 １６ａ ノズルリップ平坦面 １６ｂ ノズルリップ傾斜面 １８ 供給ポート ２０ マニホールド ３０ 塗布装置 ３２ 基台 ３４ エアースライドリニアモータ ３６ ステージ ３８ ダイホルダ ４０ 基板ホルダ ４２ 昇降機構 ４４ 支柱

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 甘 田 晶 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 小 糸 健 夫 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4D075 AC02 AC09 AC56 DA06 DB13 DB31 DC24 EA05 EA45 EC07 4F033 AA01 BA03 CA05 DA01 EA01 FA00 NA01 4F041 AA01 AA02 AA05 AB01 BA11 BA12 BA17 BA51 BA56 CA02 CA21 CA22 CA25

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】塗布液を被塗布基板上に吐出させる塗布ノ
   ズルであって、 水平方向に帯状に形成され、前記塗布液が吐出されるス
   リットと、 該スリットから傾斜して延在する傾斜面を有し、吐出さ
   れた塗布液を平坦化するノズルリップ部とを具備し、 前記傾斜面のプロピレングリコールモノメチルエーテル
   アセテートに対する接触角が５〜４０°であることを特
   徴とする、塗布ノズル。
2. 【請求項２】前記接触角が５〜２０°である、請求項１
   に記載の塗布ノズル。
3. 【請求項３】前記塗布ノズルを被塗布基板に対向させた
   状態で前記塗布ノズルと前記被塗布基板とを水平方向に
   相対移動させる方式の塗布装置に用いられるものであ
   る、請求項１または２に記載の塗布ノズル。
4. 【請求項４】前記ノズルリップ部の傾斜面が、金属窒化
   物、金属酸化物、および金属シアン化物からなる群より
   選択される少なくとも１種で形成されている、請求項１
   〜３のいずれか一項に記載の塗布ノズル。
5. 【請求項５】前記金属窒化物、金属酸化物、および金属
   シアン化物が、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＯ、ＴｉＣＮ、お
   よびＣｒＣＮからなる群より選択される少なくとも１種
   である、請求項４に記載の塗布ノズル。
6. 【請求項６】前記ノズルリップ部の傾斜面が高分子樹脂
   で形成されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載
   の塗布ノズル。
7. 【請求項７】前記高分子樹脂が、ポリプロピレン樹脂、
   ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹
   脂、およびポリイミド樹脂からなる群より選択される少
   なくとも１種である、請求項６に記載の塗布ノズル。
8. 【請求項８】前記ノズルリップ部が、前記スリットの外
   縁を形成する平坦面を有し、該平坦面を介して、前記傾
   斜面が延在してなり、かつ、 前記ノズルリップの平坦面のプロピレングリコールモノ
   メチルエーテルアセテートに対する接触角が５°未満で
   ある、請求項１〜７のいずれか一項に記載の塗布ノズ
   ル。
9. 【請求項９】請求項１〜８のいずれか一項に記載される
   塗布ノズルと、 前記塗布ノズルに塗布液を供給する塗布液供給手段と、 前記塗布ノズルを被塗布基板に対向させた状態で前記塗
   布ノズルと前記被塗布基板とを水平方向に相対移動させ
   る塗布用移動機構とを有してなることを特徴とする、塗
   布装置。