JP2002329627A - 希土類系永久磁石およびその製造方法 - Google Patents
希土類系永久磁石およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸化性で腐食性の高い電解質溶液（腐食液）
に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮する希土類系
永久磁石およびその製造方法を提供すること。 【解決手段】 その表面が酸化処理されたＣｕめっき被
膜を磁石表面の最表層として有することを特徴とする希
土類系永久磁石である。また、磁石表面の最表層として
Ｃｕめっき被膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめっ
き被膜の表面を酸化処理する工程を少なくとも含むこと
を特徴とする希土類系永久磁石の製造方法である。
に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮する希土類系
永久磁石およびその製造方法を提供すること。 【解決手段】 その表面が酸化処理されたＣｕめっき被
膜を磁石表面の最表層として有することを特徴とする希
土類系永久磁石である。また、磁石表面の最表層として
Ｃｕめっき被膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめっ
き被膜の表面を酸化処理する工程を少なくとも含むこと
を特徴とする希土類系永久磁石の製造方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化性で腐食性の
高い電解質溶液（腐食液）に浸漬して使用しても優れた
耐食性を発揮する希土類系永久磁石およびその製造方法
に関する。
高い電解質溶液（腐食液）に浸漬して使用しても優れた
耐食性を発揮する希土類系永久磁石およびその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表される
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石などの希土類系永久磁石は、高
い磁気特性を有しているが、酸化腐食されやすい金属種
（特にＲ）を含むので、表面処理を行わずに使用した場
合には、わずかな酸やアルカリや水分などの影響によっ
て表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴って、
磁気特性の劣化やばらつきを招くことになる。さらに、
磁気回路などの装置に組み込んだ磁石に錆が発生した場
合、錆が飛散して周辺部品を汚染する恐れがある。従っ
て、これらの問題点を回避するために、従来から、該磁
石に要求される耐食性を付与すべく、耐食性被膜として
のＮｉめっき被膜をその表面に形成することが行われて
いる。
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石などの希土類系永久磁石は、高
い磁気特性を有しているが、酸化腐食されやすい金属種
（特にＲ）を含むので、表面処理を行わずに使用した場
合には、わずかな酸やアルカリや水分などの影響によっ
て表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴って、
磁気特性の劣化やばらつきを招くことになる。さらに、
磁気回路などの装置に組み込んだ磁石に錆が発生した場
合、錆が飛散して周辺部品を汚染する恐れがある。従っ
て、これらの問題点を回避するために、従来から、該磁
石に要求される耐食性を付与すべく、耐食性被膜として
のＮｉめっき被膜をその表面に形成することが行われて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、井戸水汲み
上げ用や送液用の水中ポンプ、家電送液ポンプ、自動車
の熱交換器部品用のモーターなどに使用される磁石とし
ては、耐食性に優れたフェライト磁石が従来から使用さ
れてきているが、ポンプやモーターなどの小型化による
省スペース化や効率アップによる省エネルギー化などの
要請から高い磁気特性を有する希土類系永久磁石をフェ
ライト磁石に代えて使用することが検討されている。し
かしながら、希土類系永久磁石を水中で使用されるこれ
らの用途に供するためには当然のことながら大気中で使
用されるものよりも優れた耐食性が要求される。特に家
電や自動車などのエアコンエバポレーター、コンデン
サ、ラジエーター、暖房ヒーターなどの熱交換器部品用
のモーターにおいては、液循環系の構成材料、大気環
境、補給液などから不可避的に混入するＣｕイオン、塩
素イオン（塩分）、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオ
ンなどの不純物イオンや溶存酸素などの影響により、磁
石が使用される環境が酸化性で腐食性の高い電解質溶液
（腐食液）環境となる場合がある。不純物イオンの中で
もＣｕイオンや塩素イオンは腐食性が高く、とりわけ、
Ｃｕイオンは強酸化性であるため、希土類系永久磁石表
面にＮｉめっき被膜を形成した場合でも、Ｃｕイオンが
Ｎｉめっき被膜表面に置換析出して腐食の起点になった
り、局部電池を形成して深さ方向の腐食を進行させる傾
向が強く、結果的に、磁石素地に至る腐食（孔食や点
食）により磁気特性が大きく劣化してしまうなどの使用
上の問題がある。従って、希土類系永久磁石を水中で使
用する場合にはＣｕイオンや塩素イオンに対して如何に
して耐食性を向上させるかが重要な課題となる。そこで
本発明は、酸化性で腐食性の高い電解質溶液（腐食液）
に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮する希土類系
永久磁石およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
上げ用や送液用の水中ポンプ、家電送液ポンプ、自動車
の熱交換器部品用のモーターなどに使用される磁石とし
ては、耐食性に優れたフェライト磁石が従来から使用さ
れてきているが、ポンプやモーターなどの小型化による
省スペース化や効率アップによる省エネルギー化などの
要請から高い磁気特性を有する希土類系永久磁石をフェ
ライト磁石に代えて使用することが検討されている。し
かしながら、希土類系永久磁石を水中で使用されるこれ
らの用途に供するためには当然のことながら大気中で使
用されるものよりも優れた耐食性が要求される。特に家
電や自動車などのエアコンエバポレーター、コンデン
サ、ラジエーター、暖房ヒーターなどの熱交換器部品用
のモーターにおいては、液循環系の構成材料、大気環
境、補給液などから不可避的に混入するＣｕイオン、塩
素イオン（塩分）、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオ
ンなどの不純物イオンや溶存酸素などの影響により、磁
石が使用される環境が酸化性で腐食性の高い電解質溶液
（腐食液）環境となる場合がある。不純物イオンの中で
もＣｕイオンや塩素イオンは腐食性が高く、とりわけ、
Ｃｕイオンは強酸化性であるため、希土類系永久磁石表
面にＮｉめっき被膜を形成した場合でも、Ｃｕイオンが
Ｎｉめっき被膜表面に置換析出して腐食の起点になった
り、局部電池を形成して深さ方向の腐食を進行させる傾
向が強く、結果的に、磁石素地に至る腐食（孔食や点
食）により磁気特性が大きく劣化してしまうなどの使用
上の問題がある。従って、希土類系永久磁石を水中で使
用する場合にはＣｕイオンや塩素イオンに対して如何に
して耐食性を向上させるかが重要な課題となる。そこで
本発明は、酸化性で腐食性の高い電解質溶液（腐食液）
に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮する希土類系
永久磁石およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の点
に鑑み種々の検討を行う過程において、Ｃｕめっき被膜
を希土類系永久磁石表面に形成することに着目した。Ｃ
ｕめっき被膜を希土類系永久磁石表面に形成すれば、Ｎ
ｉめっき被膜のような電位差腐食の問題はない。しかし
ながら、Ｃｕイオンと塩素イオンが共存する腐食液中に
おいてはＣｕめっき被膜の腐食は進行し、特に１０ｐｐ
ｍを越えるＣｕイオンを含む場合、めっき被膜は塩素イ
オンなどの他の共存イオンによる腐食促進をさらに受け
やすくなること、また、腐食液中の２価のＣｕイオンが
めっき被膜を構成する金属Ｃｕを攻撃することにより、
金属Ｃｕが２価のＣｕイオンと反応して１価のＣｕイオ
ンが生成し、この１価のＣｕイオンが腐食液中で泥状の
Ｃｕ水酸化物に変化するなどしてめっき被膜の腐食が穏
やかながらも進行すること、さらに、溶出する１価のＣ
ｕイオンの量が多くなると、Ｃｕ水酸化物が多量に生成
して磁石以外の部品に付着したりするといったような悪
影響を及ぼすことなどを知見した。そこで、Ｃｕめっき
被膜の表面を予め酸化処理することにより、その表面を
Ｃｕ酸化物化しておけば、上記のような２価のＣｕイオ
ンによって引き起こされるＣｕめっき被膜の腐食を効果
的に抑制することができることを知見した。
に鑑み種々の検討を行う過程において、Ｃｕめっき被膜
を希土類系永久磁石表面に形成することに着目した。Ｃ
ｕめっき被膜を希土類系永久磁石表面に形成すれば、Ｎ
ｉめっき被膜のような電位差腐食の問題はない。しかし
ながら、Ｃｕイオンと塩素イオンが共存する腐食液中に
おいてはＣｕめっき被膜の腐食は進行し、特に１０ｐｐ
ｍを越えるＣｕイオンを含む場合、めっき被膜は塩素イ
オンなどの他の共存イオンによる腐食促進をさらに受け
やすくなること、また、腐食液中の２価のＣｕイオンが
めっき被膜を構成する金属Ｃｕを攻撃することにより、
金属Ｃｕが２価のＣｕイオンと反応して１価のＣｕイオ
ンが生成し、この１価のＣｕイオンが腐食液中で泥状の
Ｃｕ水酸化物に変化するなどしてめっき被膜の腐食が穏
やかながらも進行すること、さらに、溶出する１価のＣ
ｕイオンの量が多くなると、Ｃｕ水酸化物が多量に生成
して磁石以外の部品に付着したりするといったような悪
影響を及ぼすことなどを知見した。そこで、Ｃｕめっき
被膜の表面を予め酸化処理することにより、その表面を
Ｃｕ酸化物化しておけば、上記のような２価のＣｕイオ
ンによって引き起こされるＣｕめっき被膜の腐食を効果
的に抑制することができることを知見した。
【０００５】本発明は、上記の知見に基づいてなされた
ものであり、本発明の希土類系永久磁石は、請求項１記
載の通り、その表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を
磁石表面の最表層として有することを特徴とする。ま
た、請求項２記載の希土類系永久磁石は、請求項１記載
の希土類系永久磁石において、前記酸化処理が化成処理
液を用いて行われるものであることを特徴とする。ま
た、請求項３記載の希土類系永久磁石は、請求項２記載
の希土類系永久磁石において、前記化成処理液が黒色酸
化銅法を行うためのものであることを特徴とする。ま
た、請求項４記載の希土類系永久磁石は、請求項１乃至
３のいずれかに記載の希土類系永久磁石において、前記
Ｃｕめっき被膜の膜厚が１μｍ〜５０μｍであることを
特徴とする。また、請求項５記載の希土類系永久磁石
は、請求項１乃至４のいずれかに記載の希土類系永久磁
石において、前記酸化処理により形成された酸化処理層
の膜厚が０．０１μｍ以上であることを特徴とする。ま
た、請求項６記載の希土類系永久磁石は、請求項１乃至
５のいずれかに記載の希土類系永久磁石において、前記
Ｃｕめっき被膜がＣｕよりも電位が卑な金属のめっき被
膜の上に形成されていることを特徴とする。また、請求
項７記載の希土類系永久磁石は、請求項６記載の希土類
系永久磁石において、前記Ｃｕよりも電位が卑な金属が
Ｎｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｇから選ばれる金属である
ことを特徴とする。また、請求項８記載の希土類系永久
磁石は、請求項１乃至７のいずれかに記載の希土類系永
久磁石において、希土類系永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石であることを特徴とする。また、請求項９記載の
希土類系永久磁石は、請求項１乃至８のいずれかに記載
の希土類系永久磁石において、水中で使用されることを
特徴とする。また、本発明の希土類系永久磁石の製造方
法は、請求項１０記載の通り、磁石表面の最表層として
Ｃｕめっき被膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめっ
き被膜の表面を酸化処理する工程を少なくとも含むこと
を特徴とする。また、請求項１１記載の製造方法は、請
求項１０記載の製造方法において、Ｃｕめっき被膜の表
面を酸化処理する工程を化成処理液を用いて行うことを
特徴とする。また、請求項１２記載の製造方法は、請求
項１１記載の製造方法において、Ｃｕめっき被膜の表面
を酸化処理する工程の後に加熱処理を行うことを特徴と
する。また、請求項１３記載の製造方法は、請求項１０
乃至１２のいずれかに記載の製造方法において、磁石表
面にＣｕよりも電位が卑な金属のめっき被膜を形成する
工程、その後にＣｕめっき被膜を形成する工程を行うこ
とを特徴とする。
ものであり、本発明の希土類系永久磁石は、請求項１記
載の通り、その表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を
磁石表面の最表層として有することを特徴とする。ま
た、請求項２記載の希土類系永久磁石は、請求項１記載
の希土類系永久磁石において、前記酸化処理が化成処理
液を用いて行われるものであることを特徴とする。ま
た、請求項３記載の希土類系永久磁石は、請求項２記載
の希土類系永久磁石において、前記化成処理液が黒色酸
化銅法を行うためのものであることを特徴とする。ま
た、請求項４記載の希土類系永久磁石は、請求項１乃至
３のいずれかに記載の希土類系永久磁石において、前記
Ｃｕめっき被膜の膜厚が１μｍ〜５０μｍであることを
特徴とする。また、請求項５記載の希土類系永久磁石
は、請求項１乃至４のいずれかに記載の希土類系永久磁
石において、前記酸化処理により形成された酸化処理層
の膜厚が０．０１μｍ以上であることを特徴とする。ま
た、請求項６記載の希土類系永久磁石は、請求項１乃至
５のいずれかに記載の希土類系永久磁石において、前記
Ｃｕめっき被膜がＣｕよりも電位が卑な金属のめっき被
膜の上に形成されていることを特徴とする。また、請求
項７記載の希土類系永久磁石は、請求項６記載の希土類
系永久磁石において、前記Ｃｕよりも電位が卑な金属が
Ｎｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｇから選ばれる金属である
ことを特徴とする。また、請求項８記載の希土類系永久
磁石は、請求項１乃至７のいずれかに記載の希土類系永
久磁石において、希土類系永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石であることを特徴とする。また、請求項９記載の
希土類系永久磁石は、請求項１乃至８のいずれかに記載
の希土類系永久磁石において、水中で使用されることを
特徴とする。また、本発明の希土類系永久磁石の製造方
法は、請求項１０記載の通り、磁石表面の最表層として
Ｃｕめっき被膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめっ
き被膜の表面を酸化処理する工程を少なくとも含むこと
を特徴とする。また、請求項１１記載の製造方法は、請
求項１０記載の製造方法において、Ｃｕめっき被膜の表
面を酸化処理する工程を化成処理液を用いて行うことを
特徴とする。また、請求項１２記載の製造方法は、請求
項１１記載の製造方法において、Ｃｕめっき被膜の表面
を酸化処理する工程の後に加熱処理を行うことを特徴と
する。また、請求項１３記載の製造方法は、請求項１０
乃至１２のいずれかに記載の製造方法において、磁石表
面にＣｕよりも電位が卑な金属のめっき被膜を形成する
工程、その後にＣｕめっき被膜を形成する工程を行うこ
とを特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の希土類系永久磁石は、そ
の表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁石表面の最
表層として有することを特徴とするものである。磁石表
面の最表層として形成されるＣｕめっき被膜の表面を酸
化処理してＣｕ酸化物化することにより、腐食液に含ま
れる２価のＣｕイオンによって引き起こされるＣｕめっ
き被膜の腐食を効果的に抑制することができる。
の表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁石表面の最
表層として有することを特徴とするものである。磁石表
面の最表層として形成されるＣｕめっき被膜の表面を酸
化処理してＣｕ酸化物化することにより、腐食液に含ま
れる２価のＣｕイオンによって引き起こされるＣｕめっ
き被膜の腐食を効果的に抑制することができる。
【０００７】Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理とは、Ｃ
ｕめっき被膜の表面をＣｕ酸化物化することを意味す
る。酸化処理のための方法は特段限定されるものではな
いが、腐食液に対して優れた耐食性を有する酸化処理層
を形成することができる点において、化成処理液を用い
て行う方法が望ましい。その具体的な方法としては、一
般的に知られている銅に対する酸化銅被膜法が挙げられ
る。銅に対する酸化銅被膜法としては、Ｃｕめっき被膜
の表面に酸化第一銅の被膜層（酸化処理層）を化成させ
る亜酸化銅法と、酸化第二銅の被膜層（酸化処理層）を
化成させる黒色酸化銅法の二つの方法が著名である。亜
酸化銅法は、例えば、塩素酸カリウムや過塩素酸カリウ
ムなどを主成分とする酸化剤溶液（化成処理液）を用い
て赤銅色の亜酸化銅の被膜層を化成させる方法である。
黒色酸化銅法は、例えば、過硫酸カリウムを主成分とす
るアルカリ性過硫酸カリウム溶液（化成処理液）を用い
て黒色の酸化第二銅の被膜層を化成させる方法である。
本発明においては、亜酸化銅法、黒色酸化銅法いずれも
採用することができるが、黒色酸化銅法によれば、Ｃｕ
めっき被膜の表面に外観と耐食性に優れた被膜層を形成
することができるので、黒色酸化銅法を採用することが
望ましい。
ｕめっき被膜の表面をＣｕ酸化物化することを意味す
る。酸化処理のための方法は特段限定されるものではな
いが、腐食液に対して優れた耐食性を有する酸化処理層
を形成することができる点において、化成処理液を用い
て行う方法が望ましい。その具体的な方法としては、一
般的に知られている銅に対する酸化銅被膜法が挙げられ
る。銅に対する酸化銅被膜法としては、Ｃｕめっき被膜
の表面に酸化第一銅の被膜層（酸化処理層）を化成させ
る亜酸化銅法と、酸化第二銅の被膜層（酸化処理層）を
化成させる黒色酸化銅法の二つの方法が著名である。亜
酸化銅法は、例えば、塩素酸カリウムや過塩素酸カリウ
ムなどを主成分とする酸化剤溶液（化成処理液）を用い
て赤銅色の亜酸化銅の被膜層を化成させる方法である。
黒色酸化銅法は、例えば、過硫酸カリウムを主成分とす
るアルカリ性過硫酸カリウム溶液（化成処理液）を用い
て黒色の酸化第二銅の被膜層を化成させる方法である。
本発明においては、亜酸化銅法、黒色酸化銅法いずれも
採用することができるが、黒色酸化銅法によれば、Ｃｕ
めっき被膜の表面に外観と耐食性に優れた被膜層を形成
することができるので、黒色酸化銅法を採用することが
望ましい。
【０００８】Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理は、磁石
表面の最表層としてＣｕめっき被膜を形成した後に行
う。
表面の最表層としてＣｕめっき被膜を形成した後に行
う。
【０００９】Ｃｕめっき被膜は、電解めっき法や無電解
めっき法などの湿式めっき法により形成されたものであ
ってもよいし、気相めっき法により形成されたものであ
ってもよいが、被膜形成効率が優れている点からは電解
めっき法により形成されたものであることが望ましい。
電解めっき法に使用されるめっき浴としては、硫酸銅
浴、シアン化銅浴、ピロリン酸銅浴、ホウフッ化銅浴、
ＥＤＴＡ浴などのめっき浴が挙げられる。めっき条件は
個々のめっき浴に応じた自体公知の条件でよい。形成さ
れるＣｕめっき被膜の膜厚は１μｍ〜５０μｍであるこ
とが望ましい。膜厚が１μｍ未満の場合には、Ｃｕめっ
き被膜自体が耐食性被膜として機能しない恐れがあるか
らである。一方、膜厚が５０μｍを越えると、製造コス
トの上昇を招く恐れがあるからである。
めっき法などの湿式めっき法により形成されたものであ
ってもよいし、気相めっき法により形成されたものであ
ってもよいが、被膜形成効率が優れている点からは電解
めっき法により形成されたものであることが望ましい。
電解めっき法に使用されるめっき浴としては、硫酸銅
浴、シアン化銅浴、ピロリン酸銅浴、ホウフッ化銅浴、
ＥＤＴＡ浴などのめっき浴が挙げられる。めっき条件は
個々のめっき浴に応じた自体公知の条件でよい。形成さ
れるＣｕめっき被膜の膜厚は１μｍ〜５０μｍであるこ
とが望ましい。膜厚が１μｍ未満の場合には、Ｃｕめっ
き被膜自体が耐食性被膜として機能しない恐れがあるか
らである。一方、膜厚が５０μｍを越えると、製造コス
トの上昇を招く恐れがあるからである。
【００１０】Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理は、例え
ば、磁石表面の最表層としてＣｕめっき被膜が形成され
た磁石をアルカリ性過硫酸カリウム溶液などの化成処理
液に浸漬することにより行う。浸漬法によれば、優れた
処理効率での処理が可能となる。特に、必要に応じてス
チールボールやガラスボールなどのダミーと共にＣｕめ
っき被膜が形成された磁石を回転バレルに収容してアル
カリ性過硫酸カリウム溶液などの化成処理液中にこれを
浸漬し、回転バレルを回転させながら処理を行うことが
望ましい。なお、Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理は、
スプレー法やスピンコート法などにより、アルカリ性過
硫酸カリウム溶液などの化成処理液をＣｕめっき被膜表
面に塗布することより行うものであってもよい。
ば、磁石表面の最表層としてＣｕめっき被膜が形成され
た磁石をアルカリ性過硫酸カリウム溶液などの化成処理
液に浸漬することにより行う。浸漬法によれば、優れた
処理効率での処理が可能となる。特に、必要に応じてス
チールボールやガラスボールなどのダミーと共にＣｕめ
っき被膜が形成された磁石を回転バレルに収容してアル
カリ性過硫酸カリウム溶液などの化成処理液中にこれを
浸漬し、回転バレルを回転させながら処理を行うことが
望ましい。なお、Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理は、
スプレー法やスピンコート法などにより、アルカリ性過
硫酸カリウム溶液などの化成処理液をＣｕめっき被膜表
面に塗布することより行うものであってもよい。
【００１１】化成処理液としてアルカリ性過硫酸カリウ
ム溶液を使用する場合、アルカリ性過硫酸カリウム溶液
は、例えば、過硫酸カリウムを０．０３７ｍｏｌ／Ｌ〜
０．７４ｍｏｌ／Ｌ含み、水酸化ナトリウムや水酸化カ
リウムなどをその濃度が０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上、望ま
しくは０．１ｍｏｌ／Ｌ以上となるように添加すること
によってｐＨを１２以上、望ましくは１３以上に調整さ
れたものであることがよい。過硫酸カリウムの含有量
は、０．０３７ｍｏｌ／Ｌ未満であると十分な酸化処理
を行うことができない恐れがある一方、０．０３７ｍｏ
ｌ／Ｌを越えると製造コストの上昇の要因となり望まし
くないからである。ｐＨは１２未満であると緻密な酸化
第二銅の被膜層を形成することができない恐れがあるか
らである。アルカリ性過硫酸カリウム溶液の温度は、３
０℃〜９５℃に調整することが望ましく、４０℃〜８０
℃に調整することがより望ましい。３０℃よりも低い温
度であるとＣｕめっき被膜表面がＣｕ水酸化物化して酸
化第二銅の被膜層が形成されない恐れがある一方、９５
℃を越えると強アルカリによる人体への影響上、望まし
くないからである。
ム溶液を使用する場合、アルカリ性過硫酸カリウム溶液
は、例えば、過硫酸カリウムを０．０３７ｍｏｌ／Ｌ〜
０．７４ｍｏｌ／Ｌ含み、水酸化ナトリウムや水酸化カ
リウムなどをその濃度が０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上、望ま
しくは０．１ｍｏｌ／Ｌ以上となるように添加すること
によってｐＨを１２以上、望ましくは１３以上に調整さ
れたものであることがよい。過硫酸カリウムの含有量
は、０．０３７ｍｏｌ／Ｌ未満であると十分な酸化処理
を行うことができない恐れがある一方、０．０３７ｍｏ
ｌ／Ｌを越えると製造コストの上昇の要因となり望まし
くないからである。ｐＨは１２未満であると緻密な酸化
第二銅の被膜層を形成することができない恐れがあるか
らである。アルカリ性過硫酸カリウム溶液の温度は、３
０℃〜９５℃に調整することが望ましく、４０℃〜８０
℃に調整することがより望ましい。３０℃よりも低い温
度であるとＣｕめっき被膜表面がＣｕ水酸化物化して酸
化第二銅の被膜層が形成されない恐れがある一方、９５
℃を越えると強アルカリによる人体への影響上、望まし
くないからである。
【００１２】なお、通常、酸化処理の時間は１０秒〜１
時間が望ましい。処理時間が１０秒未満であると酸化が
十分に進行しない恐れがある一方、１時間を越えると作
業効率の点で劣るからである。
時間が望ましい。処理時間が１０秒未満であると酸化が
十分に進行しない恐れがある一方、１時間を越えると作
業効率の点で劣るからである。
【００１３】Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理後、水洗
してから乾燥処理を行う。乾燥処理はどのような方法で
行ってもよいが、通常、遠心乾燥により行う。
してから乾燥処理を行う。乾燥処理はどのような方法で
行ってもよいが、通常、遠心乾燥により行う。
【００１４】Ｃｕめっき被膜の表面の酸化処理は、処理
時間などの条件を適宜設定することにより、Ｃｕめっき
被膜の表面の一部分だけを酸化させて酸化処理層とする
こともできるし、被膜全体を酸化処理層とすることもで
きる。しかしながら、Ｃｕめっき被膜における酸化処理
により形成された酸化処理層の膜厚は０．０１μｍ以上
とすることが望ましい。膜厚が０．０１μｍ未満の場合
には、腐食液に含まれる２価のＣｕイオンによって引き
起こされるＣｕめっき被膜の腐食を効果的に抑制するこ
とができない恐れがあるからである。なお、酸化処理層
の膜厚の上限は磁石表面の最表層として形成されたＣｕ
めっき被膜の膜厚であるが、酸化反応進行性の点に鑑み
ると、通常、１０μｍである。
時間などの条件を適宜設定することにより、Ｃｕめっき
被膜の表面の一部分だけを酸化させて酸化処理層とする
こともできるし、被膜全体を酸化処理層とすることもで
きる。しかしながら、Ｃｕめっき被膜における酸化処理
により形成された酸化処理層の膜厚は０．０１μｍ以上
とすることが望ましい。膜厚が０．０１μｍ未満の場合
には、腐食液に含まれる２価のＣｕイオンによって引き
起こされるＣｕめっき被膜の腐食を効果的に抑制するこ
とができない恐れがあるからである。なお、酸化処理層
の膜厚の上限は磁石表面の最表層として形成されたＣｕ
めっき被膜の膜厚であるが、酸化反応進行性の点に鑑み
ると、通常、１０μｍである。
【００１５】Ｃｕめっき被膜の表面が化成処理液を用い
て酸化処理された磁石に対しては、乾燥後に加熱処理を
行ってもよい。加熱処理を行うことにより、腐食液に対
する耐食性をさらに向上させることができる。このよう
な効果が奏されるのは、Ｃｕめっき被膜の表面に形成さ
れた酸化処理層が加熱されることによってより緻密にな
ることによるものであると推測される。加熱処理は大気
中１００℃〜４００℃で行うことが望ましく、２００℃
〜３００℃で行うことがより望ましい。１００℃未満で
あると加熱処理の効果が得られにくく、４００℃を越え
ると磁石特性に影響を及ぼしたり、ボンド磁石の場合に
は使用している樹脂の耐熱性に影響を及ぼしたりする恐
れがあるからである。なお、通常、加熱処理の時間は１
０分〜１時間である。
て酸化処理された磁石に対しては、乾燥後に加熱処理を
行ってもよい。加熱処理を行うことにより、腐食液に対
する耐食性をさらに向上させることができる。このよう
な効果が奏されるのは、Ｃｕめっき被膜の表面に形成さ
れた酸化処理層が加熱されることによってより緻密にな
ることによるものであると推測される。加熱処理は大気
中１００℃〜４００℃で行うことが望ましく、２００℃
〜３００℃で行うことがより望ましい。１００℃未満で
あると加熱処理の効果が得られにくく、４００℃を越え
ると磁石特性に影響を及ぼしたり、ボンド磁石の場合に
は使用している樹脂の耐熱性に影響を及ぼしたりする恐
れがあるからである。なお、通常、加熱処理の時間は１
０分〜１時間である。
【００１６】磁石表面の最表層として形成されるＣｕめ
っき被膜は、磁石表面に直接形成されるものであっても
よいが、磁石表面に複数の金属めっき被膜を積層形成し
た場合における、その最表層として形成されるものであ
ってもよい。このような積層形態を採用することによ
り、Ｃｕめっき被膜の下層として形成される金属めっき
被膜の特性とともに、水中での優れた耐食性をはじめと
する種々の機能を発揮させることができる。Ｃｕめっき
被膜の下層として形成される金属めっき被膜としては、
例えば、Ｃｕよりも電位が卑な金属のめっき被膜、具体
的には、Ｎｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｇなどのめっき被
膜が挙げられる。中でも、Ｎｉめっき被膜は耐食性や機
械強度に優れるので、磁石の耐食性被膜として有用であ
る。Ｎｉめっき被膜は、例えば、ワット浴、スルファミ
ン酸ニッケル浴、塩化ニッケル浴、ホウフッ化ニッケル
浴、塩化アンモニウムニッケル浴などのめっき浴を使用
して電解めっき法にて形成すればよい。めっき条件は個
々のめっき浴に応じた自体公知の条件でよい。金属めっ
き被膜の積層形態の具体例としては、例えば、第１層が
公知のＮｉめっき被膜で第２層（最表層）が表面に酸化
処理層を有するＣｕめっき被膜である形態、第１層〜第
３層が公知のＮｉめっき被膜で第４層（最表層）が表面
に酸化処理層を有するＣｕめっき被膜である形態、第１
層が公知のＮｉめっき被膜で第２層が公知のＣｕめっき
被膜で第３層が公知のＮｉめっき被膜で第４層（最表
層）が表面に酸化処理層を有するＣｕめっき被膜である
形態などが挙げられる。
っき被膜は、磁石表面に直接形成されるものであっても
よいが、磁石表面に複数の金属めっき被膜を積層形成し
た場合における、その最表層として形成されるものであ
ってもよい。このような積層形態を採用することによ
り、Ｃｕめっき被膜の下層として形成される金属めっき
被膜の特性とともに、水中での優れた耐食性をはじめと
する種々の機能を発揮させることができる。Ｃｕめっき
被膜の下層として形成される金属めっき被膜としては、
例えば、Ｃｕよりも電位が卑な金属のめっき被膜、具体
的には、Ｎｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｇなどのめっき被
膜が挙げられる。中でも、Ｎｉめっき被膜は耐食性や機
械強度に優れるので、磁石の耐食性被膜として有用であ
る。Ｎｉめっき被膜は、例えば、ワット浴、スルファミ
ン酸ニッケル浴、塩化ニッケル浴、ホウフッ化ニッケル
浴、塩化アンモニウムニッケル浴などのめっき浴を使用
して電解めっき法にて形成すればよい。めっき条件は個
々のめっき浴に応じた自体公知の条件でよい。金属めっ
き被膜の積層形態の具体例としては、例えば、第１層が
公知のＮｉめっき被膜で第２層（最表層）が表面に酸化
処理層を有するＣｕめっき被膜である形態、第１層〜第
３層が公知のＮｉめっき被膜で第４層（最表層）が表面
に酸化処理層を有するＣｕめっき被膜である形態、第１
層が公知のＮｉめっき被膜で第２層が公知のＣｕめっき
被膜で第３層が公知のＮｉめっき被膜で第４層（最表
層）が表面に酸化処理層を有するＣｕめっき被膜である
形態などが挙げられる。
【００１７】本発明に適用される希土類系永久磁石の
内、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石における希土類元素（Ｒ）
は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なく
とも１種、あるいはさらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、
Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含
むものが望ましい。また、通常はＲのうち１種をもって
足りるが、実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタル
やジジムなど）を入手上の便宜などの理由によって使用
することもできる。さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、
Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも
１種を添加することで、保磁力や減磁曲線の角型性の改
善、製造性の改善、低価格化を図ることが可能となる。
また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得ら
れる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善
することができる。
内、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石における希土類元素（Ｒ）
は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なく
とも１種、あるいはさらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、
Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含
むものが望ましい。また、通常はＲのうち１種をもって
足りるが、実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタル
やジジムなど）を入手上の便宜などの理由によって使用
することもできる。さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、
Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも
１種を添加することで、保磁力や減磁曲線の角型性の改
善、製造性の改善、低価格化を図ることが可能となる。
また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得ら
れる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善
することができる。
【００１８】
【実施例】本発明を以下の実施例によってさらに詳細に
説明するが、本発明は以下の記載に何ら限定されるもの
ではない。なお、以下の実施例においては、粉末冶金法
により作製した１５Ｎｄ−１Ｄｙ−７Ｂ−７７Ｆｅ（原
子％）の組成をもつ焼結体をアルゴン雰囲気中６００℃
で２時間時効処理を施し、厚さ２ｍｍ、幅１５ｍｍ、長
さ３０ｍｍの平板状に加工し、さらにバレル面取り加工
を行って得られた焼結磁石を希釈硝酸で酸洗清浄化し、
水洗後にさらにアルカリ液で電解洗浄して水洗したもの
をサンプルとして使用した（以下、磁石体試験片とい
う）。
説明するが、本発明は以下の記載に何ら限定されるもの
ではない。なお、以下の実施例においては、粉末冶金法
により作製した１５Ｎｄ−１Ｄｙ−７Ｂ−７７Ｆｅ（原
子％）の組成をもつ焼結体をアルゴン雰囲気中６００℃
で２時間時効処理を施し、厚さ２ｍｍ、幅１５ｍｍ、長
さ３０ｍｍの平板状に加工し、さらにバレル面取り加工
を行って得られた焼結磁石を希釈硝酸で酸洗清浄化し、
水洗後にさらにアルカリ液で電解洗浄して水洗したもの
をサンプルとして使用した（以下、磁石体試験片とい
う）。
【００１９】実施例１：磁石体試験片に対し、硫酸銅２
５ｇ／Ｌ、ＥＤＴＡ・２ナトリウム塩５６ｇ／Ｌを含
み、水酸化ナトリウムでｐＨを１２に調整したＣｕめっ
き液を使用し、めっき浴の液温５０℃、電流密度０．２
Ａ／ｄｍ２、陽極としてＣｕ板という条件にて、１０分
間の処理を行い、電解めっき法にて膜厚が１μｍのＣｕ
めっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、水洗し
た。得られた表面にＣｕめっき被膜が形成された磁石体
試験片１００個をスチールボール（ダミー）とともに回
転バレルに収容し、過硫酸カリウムを０．０７ｍｏｌ／
Ｌ含み、水酸化ナトリウムをその濃度が１．５ｍｏｌ／
Ｌとなるように添加された６０℃のアルカリ性過硫酸カ
リウム溶液（ｐＨは１３以上）に浸漬し、回転バレルを
回転数１０ｒｐｍで回転させながら１５分間酸化処理を
行った。アルカリ性過硫酸カリウム溶液から回転バレル
を引き上げた後、表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜
を磁石表面に有する磁石体試験片を水洗し、遠心乾燥し
て乾燥した。Ｃｕめっき被膜の破断面の電子顕微鏡によ
る観察の結果、Ｃｕめっき被膜全体が酸化処理されて黒
色となっていた（即ち、酸化処理層の膜厚は１μｍ）。
以上のようにして得られた酸化処理されたＣｕめっき被
膜を磁石表面に有する磁石体試験片に対し、Ｃｕイオン
１０ｐｐｍ（塩化銅・２水和物で調整）と塩素イオン２
００ｐｐｍ（塩化ナトリウムで調整）を含有してさらに
溶存酸素が存在する腐食液を使用して耐食性評価試験
（９０℃腐食液８時間浸漬→２５℃腐食液１６時間浸漬
→９０℃腐食液８時間浸漬のヒートサイクルを行う試
験）を行ったところ、試験開始から１０００時間経過後
も発錆はなく、優れた耐食性を示した。
５ｇ／Ｌ、ＥＤＴＡ・２ナトリウム塩５６ｇ／Ｌを含
み、水酸化ナトリウムでｐＨを１２に調整したＣｕめっ
き液を使用し、めっき浴の液温５０℃、電流密度０．２
Ａ／ｄｍ２、陽極としてＣｕ板という条件にて、１０分
間の処理を行い、電解めっき法にて膜厚が１μｍのＣｕ
めっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、水洗し
た。得られた表面にＣｕめっき被膜が形成された磁石体
試験片１００個をスチールボール（ダミー）とともに回
転バレルに収容し、過硫酸カリウムを０．０７ｍｏｌ／
Ｌ含み、水酸化ナトリウムをその濃度が１．５ｍｏｌ／
Ｌとなるように添加された６０℃のアルカリ性過硫酸カ
リウム溶液（ｐＨは１３以上）に浸漬し、回転バレルを
回転数１０ｒｐｍで回転させながら１５分間酸化処理を
行った。アルカリ性過硫酸カリウム溶液から回転バレル
を引き上げた後、表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜
を磁石表面に有する磁石体試験片を水洗し、遠心乾燥し
て乾燥した。Ｃｕめっき被膜の破断面の電子顕微鏡によ
る観察の結果、Ｃｕめっき被膜全体が酸化処理されて黒
色となっていた（即ち、酸化処理層の膜厚は１μｍ）。
以上のようにして得られた酸化処理されたＣｕめっき被
膜を磁石表面に有する磁石体試験片に対し、Ｃｕイオン
１０ｐｐｍ（塩化銅・２水和物で調整）と塩素イオン２
００ｐｐｍ（塩化ナトリウムで調整）を含有してさらに
溶存酸素が存在する腐食液を使用して耐食性評価試験
（９０℃腐食液８時間浸漬→２５℃腐食液１６時間浸漬
→９０℃腐食液８時間浸漬のヒートサイクルを行う試
験）を行ったところ、試験開始から１０００時間経過後
も発錆はなく、優れた耐食性を示した。
【００２０】実施例２：実施例１と同様のＣｕめっき被
膜形成条件で３０分間の処理を行い、膜厚が３μｍのＣ
ｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、実施例
１と同様の条件でＣｕめっき被膜の表面を酸化処理し
た。Ｃｕめっき被膜の破断面の電子顕微鏡による観察の
結果、Ｃｕめっき被膜の表面に形成された黒色の酸化処
理層の膜厚は１μｍであった。この表面が酸化処理され
たＣｕめっき被膜を磁石表面に有する磁石体試験片に対
し、実施例１と同様の耐食性評価試験を行ったところ、
試験開始から１０００時間経過後も発錆はなく、優れた
耐食性を示した。
膜形成条件で３０分間の処理を行い、膜厚が３μｍのＣ
ｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、実施例
１と同様の条件でＣｕめっき被膜の表面を酸化処理し
た。Ｃｕめっき被膜の破断面の電子顕微鏡による観察の
結果、Ｃｕめっき被膜の表面に形成された黒色の酸化処
理層の膜厚は１μｍであった。この表面が酸化処理され
たＣｕめっき被膜を磁石表面に有する磁石体試験片に対
し、実施例１と同様の耐食性評価試験を行ったところ、
試験開始から１０００時間経過後も発錆はなく、優れた
耐食性を示した。
【００２１】実施例３：実施例１と同様のＣｕめっき被
膜形成条件で１００分間の処理を行い、膜厚が１０μｍ
のＣｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、ア
ルカリ性過硫酸カリウム溶液の温度を８０℃とし、処理
時間を３０分間とした以外は実施例１と同様の条件でＣ
ｕめっき被膜の表面を酸化処理した。Ｃｕめっき被膜の
破断面の電子顕微鏡による観察の結果、Ｃｕめっき被膜
の表面に形成された黒色の酸化処理層の膜厚は２μｍで
あった。この表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁
石表面に有する磁石体試験片に対し、実施例１と同様の
耐食性評価試験を行ったところ、試験開始から１５００
時間経過後も発錆はなく、きわめて優れた耐食性を示し
た。
膜形成条件で１００分間の処理を行い、膜厚が１０μｍ
のＣｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、ア
ルカリ性過硫酸カリウム溶液の温度を８０℃とし、処理
時間を３０分間とした以外は実施例１と同様の条件でＣ
ｕめっき被膜の表面を酸化処理した。Ｃｕめっき被膜の
破断面の電子顕微鏡による観察の結果、Ｃｕめっき被膜
の表面に形成された黒色の酸化処理層の膜厚は２μｍで
あった。この表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁
石表面に有する磁石体試験片に対し、実施例１と同様の
耐食性評価試験を行ったところ、試験開始から１５００
時間経過後も発錆はなく、きわめて優れた耐食性を示し
た。
【００２２】実施例４：実施例１と同様のＣｕめっき被
膜形成条件で２００分間の処理を行い、膜厚が２０μｍ
のＣｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、ア
ルカリ性過硫酸カリウム溶液の温度を８０℃とし、処理
時間を３０分間とした以外は実施例１と同様の条件でＣ
ｕめっき被膜の表面を酸化処理した。Ｃｕめっき被膜の
破断面の電子顕微鏡による観察の結果、Ｃｕめっき被膜
の表面に形成された黒色の酸化処理層の膜厚は２μｍで
あった。この表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁
石表面に有する磁石体試験片に対し、実施例１と同様の
耐食性評価試験を行ったところ、試験開始から１５００
時間経過後も発錆はなく、きわめて優れた耐食性を示し
た。
膜形成条件で２００分間の処理を行い、膜厚が２０μｍ
のＣｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、ア
ルカリ性過硫酸カリウム溶液の温度を８０℃とし、処理
時間を３０分間とした以外は実施例１と同様の条件でＣ
ｕめっき被膜の表面を酸化処理した。Ｃｕめっき被膜の
破断面の電子顕微鏡による観察の結果、Ｃｕめっき被膜
の表面に形成された黒色の酸化処理層の膜厚は２μｍで
あった。この表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁
石表面に有する磁石体試験片に対し、実施例１と同様の
耐食性評価試験を行ったところ、試験開始から１５００
時間経過後も発錆はなく、きわめて優れた耐食性を示し
た。
【００２３】実施例５：実施例１と同様のＣｕめっき被
膜形成条件で１０分間の処理を行い、膜厚が１μｍのＣ
ｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、アルカ
リ性過硫酸カリウム溶液の温度を４０℃とし、処理時間
を１分間とした以外は実施例１と同様の条件でＣｕめっ
き被膜の表面を酸化処理した。Ｃｕめっき被膜の破断面
の電子顕微鏡による観察の結果、Ｃｕめっき被膜の表面
に形成された黒色の酸化処理層の膜厚は０．０１μｍで
あった。この表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁
石表面に有する磁石体試験片に対し、実施例１と同様の
耐食性評価試験を行ったところ、試験開始から１０００
時間経過後も発錆はなく、きわめて優れた耐食性を示し
た。
膜形成条件で１０分間の処理を行い、膜厚が１μｍのＣ
ｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した後、アルカ
リ性過硫酸カリウム溶液の温度を４０℃とし、処理時間
を１分間とした以外は実施例１と同様の条件でＣｕめっ
き被膜の表面を酸化処理した。Ｃｕめっき被膜の破断面
の電子顕微鏡による観察の結果、Ｃｕめっき被膜の表面
に形成された黒色の酸化処理層の膜厚は０．０１μｍで
あった。この表面が酸化処理されたＣｕめっき被膜を磁
石表面に有する磁石体試験片に対し、実施例１と同様の
耐食性評価試験を行ったところ、試験開始から１０００
時間経過後も発錆はなく、きわめて優れた耐食性を示し
た。
【００２４】比較例１：実施例１にて膜厚が１μｍのＣ
ｕめっき被膜が表面に形成された磁石体試験片に対し、
実施例１と同様の耐食性評価試験を行ったところ、試験
開始から１０００時間を経過するまでに発錆し、要求さ
れる耐食性を具備しなかった。
ｕめっき被膜が表面に形成された磁石体試験片に対し、
実施例１と同様の耐食性評価試験を行ったところ、試験
開始から１０００時間を経過するまでに発錆し、要求さ
れる耐食性を具備しなかった。
【００２５】比較例２：実施例１と同様のＣｕめっき被
膜形成条件で５０分間の処理を行い、膜厚が５μｍのＣ
ｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した。この磁石
体試験片に対し、実施例１と同様の耐食性評価試験を行
ったところ、試験開始から１０００時間を経過するまで
に発錆し、要求される耐食性を具備しなかった。
膜形成条件で５０分間の処理を行い、膜厚が５μｍのＣ
ｕめっき被膜を磁石体試験片表面に形成した。この磁石
体試験片に対し、実施例１と同様の耐食性評価試験を行
ったところ、試験開始から１０００時間を経過するまで
に発錆し、要求される耐食性を具備しなかった。
【００２６】実施例６：磁石体試験片に対し、硫酸ニッ
ケル・６水和物１５０ｇ／Ｌ、クエン酸アンモニウム５
３ｇ／Ｌ、塩化ニッケル４０ｇ／Ｌ、ホウ酸２０ｇ／
Ｌ、硫酸ナトリウム５０ｇ／Ｌを含み、アンモニアでｐ
Ｈを６．５に調整したＮｉめっき液を使用し、めっき浴
の液温５０℃、電流密度０．３Ａ／ｄｍ２、陽極として
Ｎｉ板という条件にて、６０分間の処理を行い、電解め
っき法にて膜厚が５μｍのＮｉめっき被膜を第１層めっ
き被膜として磁石表面に形成した。次に、実施例１と同
様のＣｕめっき被膜形成条件で５０分間の処理を行い、
膜厚が５μｍのＣｕめっき被膜をＮｉめっき被膜の上に
形成した後、水洗した。以上のようにして得られたＮｉ
めっき被膜の上にＣｕめっき被膜を有する磁石体試験片
１００個をスチールボール（ダミー）とともに回転バレ
ルに収容し、表１に示す各種条件にてＣｕめっき被膜の
表面を酸化処理した（回転バレルの回転数はすべて１０
ｒｐｍ）。Ｃｕめっき被膜の破断面の電子顕微鏡による
観察に基づくＣｕめっき被膜の表面に形成された黒色の
酸化処理層の膜厚を表１に示す。また、表面が酸化処理
されたＣｕめっき被膜をＮｉめっき被膜の上に有する磁
石体試験片に対し、実施例１と同様の耐食性評価試験を
行った結果を表１に示す。表１から明らかなように、Ｃ
ｕめっき被膜の表面を酸化処理することで、いずれの磁
石体試験片も耐食性評価試験開始から１０００時間経過
後も発錆はなく、優れた耐食性を示した。
ケル・６水和物１５０ｇ／Ｌ、クエン酸アンモニウム５
３ｇ／Ｌ、塩化ニッケル４０ｇ／Ｌ、ホウ酸２０ｇ／
Ｌ、硫酸ナトリウム５０ｇ／Ｌを含み、アンモニアでｐ
Ｈを６．５に調整したＮｉめっき液を使用し、めっき浴
の液温５０℃、電流密度０．３Ａ／ｄｍ２、陽極として
Ｎｉ板という条件にて、６０分間の処理を行い、電解め
っき法にて膜厚が５μｍのＮｉめっき被膜を第１層めっ
き被膜として磁石表面に形成した。次に、実施例１と同
様のＣｕめっき被膜形成条件で５０分間の処理を行い、
膜厚が５μｍのＣｕめっき被膜をＮｉめっき被膜の上に
形成した後、水洗した。以上のようにして得られたＮｉ
めっき被膜の上にＣｕめっき被膜を有する磁石体試験片
１００個をスチールボール（ダミー）とともに回転バレ
ルに収容し、表１に示す各種条件にてＣｕめっき被膜の
表面を酸化処理した（回転バレルの回転数はすべて１０
ｒｐｍ）。Ｃｕめっき被膜の破断面の電子顕微鏡による
観察に基づくＣｕめっき被膜の表面に形成された黒色の
酸化処理層の膜厚を表１に示す。また、表面が酸化処理
されたＣｕめっき被膜をＮｉめっき被膜の上に有する磁
石体試験片に対し、実施例１と同様の耐食性評価試験を
行った結果を表１に示す。表１から明らかなように、Ｃ
ｕめっき被膜の表面を酸化処理することで、いずれの磁
石体試験片も耐食性評価試験開始から１０００時間経過
後も発錆はなく、優れた耐食性を示した。
【００２７】
【表１】
【００２８】比較例３：実施例６にて膜厚が５μｍのＣ
ｕめっき被膜がＮｉめっき被膜の上に形成された磁石体
試験片に対し、実施例１と同様の耐食性評価試験を行っ
たところ、試験開始から１０００時間を経過するまでに
発錆し、要求される耐食性を具備しなかった。
ｕめっき被膜がＮｉめっき被膜の上に形成された磁石体
試験片に対し、実施例１と同様の耐食性評価試験を行っ
たところ、試験開始から１０００時間を経過するまでに
発錆し、要求される耐食性を具備しなかった。
【００２９】実施例７：実施例６におけるサンプルＢを
大気中２５０℃で３０分間加熱処理したものに対し、実
施例１と同様の耐食性評価試験を行ったところ、試験開
始から２０００時間経過後も発錆はなく、きわめて優れ
た耐食性を示した。
大気中２５０℃で３０分間加熱処理したものに対し、実
施例１と同様の耐食性評価試験を行ったところ、試験開
始から２０００時間経過後も発錆はなく、きわめて優れ
た耐食性を示した。
【００３０】
【発明の効果】その表面が酸化処理されたＣｕめっき被
膜を磁石表面の最表層として有することを特徴とする本
発明の希土類系永久磁石は、Ｃｕめっき被膜の表面を酸
化処理してＣｕ酸化物化されているので、酸化性で腐食
性の高い電解質溶液（腐食液）に含まれる２価のＣｕイ
オンによって引き起こされるＣｕめっき被膜の腐食を効
果的に抑制することができる。本発明の希土類系永久磁
石の製造方法としては、例えば、磁石表面の最表層とし
てＣｕめっき被膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめ
っき被膜の表面を酸化処理する工程を少なくとも含む方
法がある。
膜を磁石表面の最表層として有することを特徴とする本
発明の希土類系永久磁石は、Ｃｕめっき被膜の表面を酸
化処理してＣｕ酸化物化されているので、酸化性で腐食
性の高い電解質溶液（腐食液）に含まれる２価のＣｕイ
オンによって引き起こされるＣｕめっき被膜の腐食を効
果的に抑制することができる。本発明の希土類系永久磁
石の製造方法としては、例えば、磁石表面の最表層とし
てＣｕめっき被膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめ
っき被膜の表面を酸化処理する工程を少なくとも含む方
法がある。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K026 AA06 AA12 BA08 CA15 CA18 CA35 DA03 4K044 AA01 AB10 BA06 BA10 BA12 BB03 BB04 BB05 BC02 CA15 CA16 CA17 5E062 CD04 CG07
Claims (13)
- 【請求項１】 その表面が酸化処理されたＣｕめっき被
膜を磁石表面の最表層として有することを特徴とする希
土類系永久磁石。 - 【請求項２】 前記酸化処理が化成処理液を用いて行わ
れるものであることを特徴とする請求項１記載の希土類
系永久磁石。 - 【請求項３】 前記化成処理液が黒色酸化銅法を行うた
めのものであることを特徴とする請求項２記載の希土類
系永久磁石。 - 【請求項４】 前記Ｃｕめっき被膜の膜厚が１μｍ〜５
０μｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれ
かに記載の希土類系永久磁石。 - 【請求項５】 前記酸化処理により形成された酸化処理
層の膜厚が０．０１μｍ以上であることを特徴とする請
求項１乃至４のいずれかに記載の希土類系永久磁石。 - 【請求項６】 前記Ｃｕめっき被膜がＣｕよりも電位が
卑な金属のめっき被膜の上に形成されていることを特徴
とする請求項１乃至５のいずれかに記載の希土類系永久
磁石。 - 【請求項７】 前記Ｃｕよりも電位が卑な金属がＮｉ、
Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｇから選ばれる金属であることを
特徴とする請求項６記載の希土類系永久磁石。 - 【請求項８】 希土類系永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
に記載の希土類系永久磁石。 - 【請求項９】 水中で使用されることを特徴とする請求
項１乃至８のいずれかに記載の希土類系永久磁石。 - 【請求項１０】 磁石表面の最表層としてＣｕめっき被
膜を形成する工程、その後に前記Ｃｕめっき被膜の表面
を酸化処理する工程を少なくとも含むことを特徴とする
希土類系永久磁石の製造方法。 - 【請求項１１】 Ｃｕめっき被膜の表面を酸化処理する
工程を化成処理液を用いて行うことを特徴とする請求項
１０記載の製造方法。 - 【請求項１２】 Ｃｕめっき被膜の表面を酸化処理する
工程の後に加熱処理を行うことを特徴とする請求項１１
記載の製造方法。 - 【請求項１３】 磁石表面にＣｕよりも電位が卑な金属
のめっき被膜を形成する工程、その後にＣｕめっき被膜
を形成する工程を行うことを特徴とする請求項１０乃至
１２のいずれかに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001131034A JP2002329627A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 希土類系永久磁石およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001131034A JP2002329627A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 希土類系永久磁石およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002329627A true JP2002329627A (ja) | 2002-11-15 |
Family
ID=18979287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001131034A Pending JP2002329627A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 希土類系永久磁石およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002329627A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007273556A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tdk Corp | 磁石 |
| WO2009139055A1 (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-19 | 日立金属株式会社 | 希土類系永久磁石 |
| JP2011199183A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Tdk Corp | 希土類磁石及び回転機 |
-
2001
- 2001-04-27 JP JP2001131034A patent/JP2002329627A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007273556A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tdk Corp | 磁石 |
| WO2009139055A1 (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-19 | 日立金属株式会社 | 希土類系永久磁石 |
| US9287027B2 (en) | 2008-05-14 | 2016-03-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Rare earth metal-based permanent magnet |
| JP2011199183A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Tdk Corp | 希土類磁石及び回転機 |
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