JP2002323289A - 遠心式乾燥装置 - Google Patents

遠心式乾燥装置

Info

Publication number
JP2002323289A
JP2002323289A JP2001126860A JP2001126860A JP2002323289A JP 2002323289 A JP2002323289 A JP 2002323289A JP 2001126860 A JP2001126860 A JP 2001126860A JP 2001126860 A JP2001126860 A JP 2001126860A JP 2002323289 A JP2002323289 A JP 2002323289A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sub
main table
main
rotation
rotating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001126860A
Other languages
English (en)
Inventor
Takuzo Yokoyama
卓造 横山
Yoshinori Naito
義範 内藤
Shoji Koto
章志 小戸
Naoki Tanaka
直樹 田中
Kazuhiro Mikawa
和弘 三川
Yuji Shimada
雄司 島田
Takayoshi Kojima
孝由 小島
Yasuhiro Abe
泰博 阿部
Kohei Toyama
公平 外山
Takashi Matsuo
孝 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Ono Sokki Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Ono Sokki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Handotai Co Ltd, Ono Sokki Co Ltd filed Critical Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority to JP2001126860A priority Critical patent/JP2002323289A/ja
Publication of JP2002323289A publication Critical patent/JP2002323289A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Centrifugal Separators (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】短時間に効率よく対象物を乾燥する。 【解決手段】二つのサブテーブル15上に各々対象物を
固定すると共にサブテーブル15をメインテーブル15
に固定し、モータ12を駆動してメインテーブル15を
所定期間回転し、対象物の遠心力による乾燥を行う。そ
して、メインテーブル15を停止させ、サブテーブル駆
動部61によって、サブテーブル62をメインテーブル
15に対して180度回転して固定し、再度、メインテ
ーブル15を所定期間回転し、対象物の遠心力による乾
燥を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
【0002】本発明は、対象物を乾燥する技術に関し、特
に、シリコンウエーハのような半導体ウエーハの搬送や
保管に用いられる収容容器であるシッピングボックスの
ような比較的複雑な凹凸のある対象物の乾燥の用にも好
適な乾燥装置に関するものである。
【0003】
【従来の技術】
【0004】例えば、シリコンウエーハの搬送や保管に用い
られる収容容器であるシッピングボックスは高清浄性を
備えていることが必要とされる。このため、シッピング
ボックスの再使用の際には、再使用に先立ちシッピング
ボックスを洗浄液による洗浄、水による濯ぎを行った
後、充分に乾燥させることが必要である。
【0005】従来、このようなシッピングボックスの乾燥
は、ヒーターにより雰囲気を加熱した乾燥室内にシッピ
ングボックスを収容したり、あるいはエアブロー等によ
りシッピングボックスに付着した水滴、水分を蒸発させ
ることにより行われてきた。
【0006】前述したヒーターによる乾燥の技術によれば、
一般的に化学樹脂などにより形成されるシッピングボッ
クスに変形などの損傷を与えないために、雰囲気をあま
り高温にすることができない。そして、このために、シ
ッピングボックスの乾燥の完了までには長時間を要する
ことになり、また、ヒーターによって消費される電力量
も大きなものとなる。また、エアブローの場合にも乾燥
に長時間を要するという問題がある。更に、どちらの乾
燥方法においても蒸発乾燥時にパーティクルが付着し易
いという問題もある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】そこで、本発明は、乾燥時のパーティクルの付
着を低減し、高清浄度を保ちながら、短時間に効率よ
く、対象物を乾燥させることのできる乾燥装置を提供す
ることを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
【0010】前記課題達成のために、本発明は、例えば、乾
燥室と、前記乾燥室内に設けられたメインテーブルと、
前記メインテーブルを回転させる回転機構部と、前記メ
インテーブルに回転可能に組み付けられた複数のサブテ
ーブルと、前記メインテーブルの回転中に前記サブテー
ブルの前記メインテーブルに対する回転を抑止する回転
抑止手段と、前記対象物を前記サブテーブルと共に運動
するように前記サブテーブルに対して当該対象物を拘束
する拘束手段とを有することを特徴とする遠心式乾燥装
置を提供する。
【0011】このような遠心式乾燥装置によれば、前記サブ
テーブルの前記メインテーブルに対する回転によってメ
インテーブルに対する対象物の向きを変えることによ
り、異なる対象物の向きのそれぞれにつき、メインテー
ブルを回転して、その遠心力による乾燥を行うことがで
きる。したがって、比較的複雑な凹凸がある対象物につ
いては、複数の異なる方向に遠心力を働かせて乾燥を行
うことができるので、良好な乾燥を行うことができる。
また、この際に、回転抑止手段によって前記メインテー
ブルの回転中は前記サブテーブルの前記メインテーブル
に対する回転は抑止されるので、メインテーブルを高速
に安定して回転させることができる。
【0012】また、前記メインテーブルの回転停止中に、前
記サブテーブルを前記メインテーブルに対して回転する
サブテーブル回転機構部を備えるようにすれば、対象物
の異なる向きについての一連の乾燥をスムーズに行うこ
とができるようになる。
【0013】また、特に、前記サブテーブル回転機構部が、
前記メインテーブルの回転停止中に、前記サブテーブル
を前記メインテーブルに対して180度回転するように
すれば、その前後のいずれかで、およその凹凸について
は遠心方向に向けることができるので、最小回数のサブ
テーブルの回転すなわちメインテーブルの回転動作で効
率良く良好な乾燥が行えることが期待できる。
【0014】また、前記サブテーブル回転機構部を、前記サ
ブテーブルに分離可能に連結して回転力を与える、前記
メインテーブルと分離して設けられた駆動部と、前記メ
インテーブルの回転停止中に、前記駆動部を移動して前
記サブテーブルに連結し、前記メインテーブルの回転中
に、前記駆動部を移動して、前記サブテーブルから分離
する移動機構部とより構成するようにすれば、サブテー
ブルを回転するための機構の主要部を、回転中にメイン
テーブルに荷重がかからないように設けることができ、
これによって。たとえばメインテーブル上の荷重の不均
一が生じるなどの不具合が発生することを避けることが
できる。したがって、メインテーブルの安定した高速回
転が可能となる。
【0015】また、前記サブテーブルにバランスウエイトを
装着するようにすれば、前記メインテーブルに対する少
なくとも一つの所定回転角の回転前後において、前記対
象物が拘束されたサブテーブルがメインテーブルに加え
る荷重バランスが変化しないようにすることができる。
したがって、メインテーブルを安定して高速回転し、強
い遠心力による効果的な乾燥を行うことができるように
なる。
【0016】ここで、以上のような各遠心式乾燥装置は、前
述のようなシリコンウエーハ(silicon wafer)などの
半導体ウエーハやフォトマスク用石英ガラス基板、液晶
表示装置用ガラス基板、ハードディスク用基板やCD-RO
M、CD-RAM、DVD、MDなどの清浄性を要する対象物を収容
するシッピングボックスやコンテナを対象物とすること
ができ、また、これらの乾燥に好適である。また、もち
ろん、この他の物を対象物とするようにしてもかまわな
い。
【0017】
【発明の実施の形態】
【0018】以下、本発明の実施形態について説明する。
【0019】まず、本乾燥装置の構造について説明する。
【0020】図1に、本実施形態に係る乾燥装置の構造を示
す。
【0021】図中aに示すように、本乾燥装置は、大きく分
けて、本体部1と、ドア部2とよりなる。
【0022】まず、本体部について説明する。
【0023】本体部1は、その主要部として、フレーム1
1、モータ12、シャフト13、ローター14、メイン
テーブル15、乾燥室壁16、シャフト軸受17、ロー
ター軸受18、伸縮シリンダ31、開閉アーム32、ガ
スケット35、二つのサブテーブル駆動部61、二つの
サブテーブル62、回転角エンコーダー63、制御部6
4を有している。
【0024】モータ12とシャフト軸受17とローター軸受
18は直接または間接的にフレーム11に対して固定さ
れ、シャフト13は垂直軸を回転軸として回動可能なよ
うにシャフト軸受け17によって支持され、ローター1
4は垂直軸を回転軸として回動可能なようにローター軸
受18によって支持され、メインテーブル15はロータ
ー14に固定されている。そして、このような構成にお
いて、モーター12のモータ軸12aに回転は、シャフ
ト13を介して、ローター14に伝わり、ローター14
をメインテーブル15共々回転させる。
【0025】また、二つのサブテーブル62は、メインテー
ブル15に垂直軸を回転軸として回動可能なように支持
されている。二つのサブテーブル62は、メインテーブ
ル15回転時にはメインテーブル15に対して固定さ
れ、メインテーブル15停止時にはサブテーブル駆動部
61によってメインテーブル15に対して回転すること
ができる。このサブテーブル62の、メインテーブル1
5に対する回転と固定の機構については後述する。
【0026】次に、乾燥室壁16は、下底が塞がれ上底が開
放された、ほぼ円筒形の乾燥室を形成している。乾燥室
の側壁の一部には、排気路壁17が形成する排気路に連
結する排気口が設けられている。そして、図中bの本体
部1上面図にも示されるように、乾燥室内部と装置外部
とは、排気エアフィルタ19を間に介在させた形態で排
気路によって連結されている。
【0027】次に、伸縮シリンダ31は油圧シリンダなどの
アームを伸縮する機構部であり、本体がフレーム11
に、アーム31aが開閉アーム32に枢着されている。
また、開閉アーム32の伸縮シリンダ31と逆側の端は
ドア部2に固定されている。また、ドア部2は、ヒンジ
33を介してフレーム11に取り付けられている。そし
て、図示した状態から伸縮シリンダ31のアーム31a
を引き込むと、図中破線で示すように伸縮シリンダ3
1、開閉アーム32は回転、移動しながら、ドア部2を
ヒンジ33を中心に回転させて本体部1に対して開く。
また、この開いた状態から、伸縮シリンダ31のアーム
31aを繰り出すと、伸縮シリンダ31、開閉アーム3
2は回転、移動しながら、ドア部2をヒンジ33を中心
に回転し元のように本体部1に対してガスケット35を
間に挟んで閉ることになる。
【0028】次に、ドア部2について説明する。
【0029】ここで、図中cはドア部2の上面図、図中dは
ドア部2の下面図である。
【0030】図示するように、ドア部2は、ドアフレーム2
1、エアフィルタ22を有する。ドアフレーム21は垂
直方向から見て中央に開口を有した口の字状の形状を有
しており、このドア部の開口を覆うようにエアフィルタ
22がドアフレーム21に固着されている。そして、エ
アフィルタ 25は、乾燥室の外部よりの吸気口を構成
している。
【0031】さて、このような乾燥装置の構成において、メ
インテーブル15と、サブテーブル62は、図中eに示
すように円形の多数の貫通口を設けた円盤状の部材であ
る。メインテーブル15の大きさは例えば直径700m
m、サブテーブル62の大きさは例えば直径が340mm
である。また、本乾燥装置において、図中bに示すよう
に、水平方向に関し、メインテーブル15の中心は、乾
燥室の円筒形状における円の中心に対して偏心させて配
置している。そして、乾燥室の排気口は、メインテーブ
ル15の回転方向に沿って見た場合に、水平方向につい
てメインテーブル15と乾燥室壁16との間隔が最大か
ら狭まっていく箇所に設けてある。乾燥室の円筒形状に
おける円の大きさは例えば直径が800mmであり、テー
ブル15の中心の偏心の大きさは、例えば25mmであ
る。
【0032】ここで、本乾燥装置は、クリーンルーム内に設
置され使用される。そして、排気路は、クリーンルーム
外への排気口へと連結される。
【0033】次に、本乾燥装置が乾燥させる対象物であるシ
ッピングボックスについて説明する。
【0034】図2に、シッピングボックスの構造を示す。
【0035】図中aの構成図に示すように、シッピングボッ
クスは、主として、本体41、底部保持具42、上部保
持具43、ガスケット44、蓋部45よりなる。
【0036】ここで、図中bの斜視図に示すように、本体4
1はバケツ状の容器であり、内壁側の対向する2側面に
は複数の凹部形状が形成されている。また、底部保持具
42は、概略、棒状の部材であり、上部には傾斜を持た
せた複数の凹部形状が形成されている。また、上部保持
具43は、両側に設けられた下方外側に向かう傾斜面を
有し、各傾斜面には複数の凹部形状が形成されている。
【0037】そして、このようなシッピングボックスにおい
て、シリコンウエーハ46の収容は、図中cに示すよう
に行う。すなわち、本体41内底部に配置した2つの底
部保持具42の凹部と、本体部41の側面の凹部と、上
部保持具43の凹部とで、シリコンウエーハ46の円周
近傍を、シリコンウエーハ同士が接触しないように支持
することにより、シッピングボックス内に保持する。
【0038】このように、本乾燥装置が乾燥の対象とするシ
ッピングボックスは、上記凹部形状の他、本体41上縁
の折り返し部41aなど比較的複雑な凹凸が多い形状を
有している。
【0039】以下、このようなシッピングボックスの乾燥の
具体例について説明する。
【0040】シッピングボックスの乾燥は、シッピングボッ
クスの上記各構成品をサブテーブル62上に固定するな
どして拘束し、サブテーブル62を固定したメインテー
ブル15を高速(例えば800r/min〜1000r/min)
に回転し、各構成品に付着した水滴や水分を遠心力や気
流で振り飛ばすことにより主として行う。もちろん、こ
の他、気化などの要素も各構成品の乾燥に貢献する。
【0041】まず、本体41のサブテーブル62への固定に
ついて説明する。
【0042】本体41のサブテーブル62への固定は、拘束
手段として取付具501を用いて行う。
【0043】取付具501の構造を図3aに示す。a-1は取付
具501の上面図、a-2は正面図、a-3は底面図、a-4は
右側面図、a-5は裏面図である。図に示すように、取付
具501は中央に、正面と底面が開口した略直方体形状
を有しており、上面と左右側面は、複数の円形状の貫通
穴を設けた板材により塞がれ、裏面は円形状の貫通穴を
設けた田の字状の板材によって形成されている。また、
左右側面下端と、裏面側下端には、外側に折り返された
耳部が設けられている。なお、取付具501の左側面は
右側面と対象に表れる。
【0044】さて、この取付具501を用いた本体41のサ
ブテーブル62への固定は、図3cに示すように行う。
c-1は本体41をサブテーブル62へ固定した状態を上
方から見たようすを表し、c-2はサブテーブル62へ固
定した状態を正面から見たようすを表している。
【0045】図示するように、本体41の開口を横向きにし
てサブテーブル62上に配置し、本体41に上から取付
具501を、取付具501正面が開口側となるように被
せ、取付具501の耳部をサブテーブル62にネジ止め
などにより固定することにより、本体41をサブテーブ
ル62に固定する。
【0046】ここで、本実施形態では、このような本体41
のサブテーブル62への固定に際して、図3bに示すバ
ランスウエイト502をサブテーブル62に固定し、サ
ブテーブル62の回転によって、本体41を固定したサ
ブテーブル62がメインテーブル15に加える荷重バラ
ンスが変わらないようにする。
【0047】図3bにおいて、b-1はバランスウエイト50
2の上面図、b-2は正面図、b-3は右側面図、b-4は裏
面図であり、左側面は右側面と、底面は上面と対象に表
れる。
【0048】次に、ガスケット44のサブテーブル62上へ
の拘束について説明する。
【0049】ガスケット44のサブテーブル62上への拘束
は、拘束手段として図4aに示す取付具503を用いて
行う。
【0050】取付具503の構造を図4aに示す。a-1の上面
図、a-2の正面図、a-3の右側面図、a-4の底面図に示す
ように、取付具503は、下端に外方向に折り返したフ
ランジを有する、円形状の貫通穴を多数設けた上下底が
開放された円筒状の部材である。なお、取付具503の
左側面、裏面は正面と同様に表れる。
【0051】さて、この取付具503を用いたガスケット4
4のサブテーブル62上への拘束は、図4bに示すよう
に行う。b-1はガスケット44をサブテーブル62上に
拘束した状態を上方から見たようすを表し、b-2はサブ
テーブル62上に拘束した状態を正面から見たようすを
表している。
【0052】図示するように、取付具503のフランジをサ
ブテーブル62にネジ止めなどにより固定し、取付具5
03の円筒内に、ガスケット44を広げて配置すること
により、ガスケット44をサブテーブル62上に拘束す
る。
【0053】次に、蓋部45のサブテーブル62への固定に
ついて説明する。
【0054】蓋部45のサブテーブル62への固定は、拘束
手段として取付具504を用いて行う。
【0055】取付具504の構造を図5aに示す。a-1の上面
図、a-2の正面図、a-3の底面図に示すように、取付具5
04は中央に四辺形の貫通口(切り欠き)を有する四辺
形の、下部が上部より内側に絞られた段を有する枠50
4aの上面に、四辺形の貫通口を横断する十字の帯50
4bをネジ止めなどにより固定したものである。また、
枠504aの段より上方の側面と、十字の帯には、円形
の多数の貫通穴を設けたものである。なお、取付具50
4の左右側面、裏面は正面と同様に表れる。
【0056】この取付具を504を用いた蓋部45のサブテ
ーブル62への固定は、図5bに示すように行う。b-1は
蓋部45をサブテーブル62へ固定した状態を上方から
見たようすを表し、b-2はサブテーブル62へ固定した
状態を正面から見たようすを表している。
【0057】図示するように、その四辺が枠504aの段上
に支持されるように、蓋部45を枠504aの四辺形の
貫通口に挿入して配置し、蓋部45を枠と十字の帯50
4bで挟み込むようにに十字の帯504bをネジ止めな
どにより枠504aに固定し、取付具504の枠504a
をサブテーブル62にネジ止めなどにより固定すること
により、蓋部45をサブテーブル62に固定する。
【0058】次に、上部保持具43のサブテーブル62への
固定について説明する。
【0059】上部保持具43のサブテーブル62への固定
は、拘束手段として取付具505を用いて行う。
【0060】取付具505の構造を図6aに示す。a-1の上面
図、a-2の正面図、a-3の底面図に示すように、取付具5
05は中央に四辺形の貫通口(切り欠き)を有する四辺
形の枠505aの下面に8本の脚部505bを設けたも
のである。また、枠505aの上面に、6個の押さえ板
505cをネジ止めなどにより取り付けたものである。
また、枠には、円形の多数の貫通穴を設けたものであ
る。なお、取付具505の左右側面、裏面は正面と同様
に表れる。
【0061】この取付具を505を用いた上部保持具43の
サブテーブル62への固定は、図6bに示すように行
う。b-1は上部保持具43をサブテーブル62へ固定し
た状態を上方から見たようすを表し、b-2はサブテーブ
ル62へ固定した状態を正面から見たようすを表してい
る。
【0062】図示するように、上部保持具43を取付具50
5の枠505aの四辺形の貫通口に、上部保持具43の
縁が枠の上面に掛かるように挿入し、上部保持具43の
2辺の縁を上から押さえ板505cをネジ込むことによ
り上部保持具43を枠に固定し、取付具505の脚部5
05bをサブテーブル62にネジ止めなどにより固定す
ることにより、上部保持具43をサブテーブル62に固
定する。
【0063】次に、底部保持具42のサブテーブル62への
固定について説明する。
【0064】底部保持具42のサブテーブル62への固定
は、拘束手段として取付具506を用いて行う。
【0065】取付具506の構造を図7aに示す。a-1の上面
図、a-2の正面図、a-3の底面図、a-4の右側面図、a-5
の裏面図に示すように、取付具506は90度アングル
部材506aに、挟持部材506bを設けたものである。
挟持部材506bは、ネジ機構などにより備えた間の距
離が可変な2枚の板を備えた部材である。
【0066】この取付具を506を用いた底部保持具42の
サブテーブル62への固定は、図6bに示すように行
う。b-1は底部保持具42のをサブテーブル62へ固定
した状態を上方から見たようすを表し、b-2はサブテー
ブル62へ固定した状態を正面から見たようすを表して
いる。
【0067】図示するように、底部保持具42の両端をそれ
ぞれ2つの取付具506の挟持部材506bに挟持さ
せ、この2つの取付具506をサブテーブル62にネジ
止めなどにより固定することにより、底部保持具42を
サブテーブル62に固定する。ここで、この固定の際に
は、底部保持具42がサブテーブル62の外周側を向く
ように取り付ける。
【0068】以下、このようにしてサブテーブル62に固
定、拘束したシッピングボックスの各構成品を乾燥する
本乾燥装置の作用について説明する。
【0069】図1aにおいて、サブテーブル15上に上記の
ようにして、シッピングボックスの構成品を固定、拘束
し、ドア部2を閉じ、モータ12を駆動し、サブテーブ
ル15を固定したメインテーブル15を高速(例えば8
00r/min〜1000r/min)に回転する。
【0070】すると、シッピングボックスの構成品に付着し
ていた水滴や水分は、回転によって加わる遠心力によっ
て、シッピングボックスの構成品から分離し外周側に飛
ばされる。
【0071】また、この際に、メインテーブル15や、サブ
テーブル62や、サブテーブル62上のシッピングボッ
クス構成品や取付具などの構造物によって、ちょうど、
シロッコファンのように、ドア部2のエアフィルター2
4から下方、メインテーブル15中心に空気を吸い込
み、メインテーブル15外周方向に空気を吐き出す作用
と、メインテーブル15が乾燥室の円筒形状と偏心して
いることより生じる、外周方向に吐き出された空気を効
率よく排気口より排出する作用が生じる。
【0072】そして、図中に矢印で示した以上の作用の結果
生じる気流の作用によって、メインテーブル15中心付
近も含め、シッピングボックス構成品の乾燥が促進され
ると共に、シッピングボックス構成品から分離した水
滴、水分が排出されることになる。また、この際に、メ
インテーブル15や各取付具に設けた円形の貫通穴によ
って、遠心力によるシッピングボックス構成品に付着し
た水滴、水分の移動路を充分に確保すると共に、気流が
シッピングボックス構成品にまんべんなく行き渡らせる
ことができるため、乾燥むらが生じることもない。
【0073】しかし、シッピングボックス構成品が複雑な形
状、例えば、相互に反対方向を向いている凹形状を有し
ている場合などは、どうしても、外周(遠心)方向が凹
形状の底となる箇所が生じ、この箇所の乾燥が妨げられ
ることがある。また、メインテーブル15の中心側は働
く遠心力が弱いので、シッピングボックス構成品の中心
側に設置された部分が充分に乾燥できない場合も考えら
れる。
【0074】そこで、本乾燥装置では、サブテーブル62を
メインテーブル15に固定してメインテーブル15を回
転して乾燥を行ったならば、メインテーブル15を停止
させ、サブテーブル62をメインテーブル15に対して
180度回転し、サブテーブル62をメインテーブル1
5に固定した後、再度、メインテーブル15を回転して
乾燥を行うことにより、複雑な形状を有しているシッピ
ングボックス構成品についても良好に乾燥を行えるよう
にしている。また、このようにメインテーブル15回転
中はサブテーブル62をメインテーブル15に対して固
定することにより、メインテーブル15の安定した高速
回転を可能としている。
【0075】以下、このサブテーブル62のメインテーブル
15に対する回転と回転抑止手段による固定の機構につ
いて説明する。
【0076】図8aはサブテーブル62のメインテーブル1
5に対する回転と回転抑止手段による固定の機構に関す
る部位の構造を示したものである。
【0077】a-1に示すように、回転抑止手段として、メイ
ンテーブル15には複数のキー穴81が、サブテーブル
62内部には先端がキー穴81に係止するキー82が設
けられている。キー82はサブテーブル83に上下方向
のみ所定距離移動可能なように取り付けられており、キ
ー82がキー穴81に係止した状態においてサブテーブ
ル62は回転方向についてメインテーブル15に固定さ
れることになる。また、キー82にはサブテーブル62
の軸穴中に挿入された押し棒83が連結されており、押
し棒83を上方に押し上げることにより、キー82は上
方に移動しキー穴81との係止が解除され、サブテーブ
ル62はメインテーブル15に対して回転可能となる。
【0078】一方、サブテーブル駆動部61は、回転軸61
aを備えたモーターであり、回転軸61aを上下に押し出
し/引き込む機構を備えている。このようなサブテーブ
ル駆動部61は、単純にはモーターとモーターを上下に
移動するエレベーター機構を組み合わせることにより実
現できる。
【0079】さて、キー82がキー穴81に係止した状態、
すなわち、サブテーブル62がメインテーブル15に固
定された状態において、制御部64はモータ12を制御
しメインテーブル15を所定期間回転し1回目の乾燥が
完了したならば、制御部64は、回転角エンコーダー6
3のエンコード角に基づいて、モータ12を制御し、サ
ブテーブル62の軸穴とサブテーブル駆動部61の回転
軸61aの軸線を一致させる。
【0080】そして、次に、a-2に示すようにサブテーブル
駆動部61に回転軸61aを上方に押し出させ、サブテ
ーブル62の軸穴に回転軸61aを挿入し、キー82と
キー穴81の係止を解除する。そして、サブテーブル駆
動部61に回転軸61aを180度回転させ、回転が完
了したならば、回転軸61aを下方に引き戻させる。こ
れにより、キー82は下方に移動し、先程とは180度
ずれた位置にあるキー穴81に係止し、サブテーブル6
2をメインテーブル15に固定する。
【0081】このようにしてサブテーブル62がメインテー
ブル15に対して180度回転し固定されたならば、制
御部64はモータ12を制御し、再度メインテーブル1
5を所定期間回転し2回目の乾燥を行う。
【0082】さて、ここで本実施形態では、本体41につい
ては、前述したようにバランスウエイト502をサブテ
ーブル62に装着することにより、以上のようなサブテ
ーブル62の回転によって、固定したサブテーブル62
がメインテーブル15に加える荷重バランスが変わらな
いようにしている。したがって、上述のようなサブテー
ブル62の回転の前後で、メインテーブル15の荷重バ
ランスは変わらず、安定した回転動作を行うことができ
る。
【0083】なお、本体41の乾燥を行う場合には、図8b
のb-1、b-2に示すように、本体の開口がメインテーブ
ル15の外周側を向いた状態と、メインテーブル15の
中心を向いた状態の、相互に180度サブテーブルの回
転角が異なる2つの状態で、メインテーブル15を回転
し乾燥を行うようにするのがよい。
【0084】以上、本発明の実施形態について説明した。
【0085】ところで、以上の実施形態で示した取付具やこ
れを用いたシッピングボックス構成品のメインテーブル
15への構成または拘束は例示であり、これら以外の取
付具や、他の手法によってシッピングボックス構成品を
メインテーブル15に固定、拘束するようにしてかまわ
ない。
【0086】また、本乾燥装置は、以上の実施形態にさまざ
まな修正を施して実施することができる。
【0087】例えば、図9aに示すように、サブテーブル6
2をメインテーブル15に固定する機構を、サブテーブ
ル62に固定した取付具を上方から下方に押しつけるこ
とにより行う機構としてもよい。
【0088】図中、a-1はサブテーブル62をメインテーブ
ル15に固定したようすを、a-2はサブテーブル62の
メインテーブル15への固定を解除したようすを示して
いる。図中、91はバネなどにより下方に付勢された伸
縮ポールであり下端はメインテーブルに固定されてい
る。また、伸縮ポール91の上部には水平に延びた押さ
え部材91aが設けられている。次に、92はアーム9
2aを左右に移動して押さえ板92の左右端に挿抜する
挿抜機構部であり、93は挿抜機構部92を上下に移動
する垂直移動機構部である。
【0089】このように、2つのサブテーブル62に固定し
た2つの取付具を上方において連結することにより、回
転系全体を強固な高速回転に適した構造とすることがで
きる。
【0090】また、例えば、本乾燥装置のサブテーブル62
を移動する機構を、図9bに示すようにサブテーブル6
2の外周を操作し回転する機構とするようにしてもよ
い。図b-1中において、94aは支持材は、94bはサブ
テーブル62の外周に当接し自己の回転によってサブテ
ーブル62を回転させるスプロケット、94cは支持材
の回転移動とスプロケット94bの回転を行う回転移動
機構である。ここで、b-2に示すように、回転移動機構
94cによって、メインテーブル15回転中、支持材9
4aはメインテーブル15の回転の障害とならない位置
に回転移動される。
【0091】また、例えば、本乾燥装置のサブテーブル62
を移動する機構は、メインテーブル15上に、サブテー
ブル62を回転するモータを設置して行うようにしても
よい。
【0092】また、例えば、本乾燥装置のメインテーブル1
5は、例えば、図10aに示すように、2つの円形の貫
通穴を有する2つのかごを、連結部材で連結したものと
してもよい。図10aは回転軸上方斜めから見たメイン
テーブル15を表している。この場合、シッピングボッ
クス構成品をかごの中に収容し、メインテーブル15を
回転することにより乾燥を行う。
【0093】また、例えば、図10bに示すように、外部の
エアコンプレッサー95などから、加圧した清浄な空気
を乾燥室内に導入し、エアーノズル96からシッピング
ボックス構成品の任意の部位に吹き付けるようにしても
良い。また、この際には、エアーノズル96の、向き、
位置を任意に変えることのできる機構を設けるようにし
ても良い。また、メインテーブル15の回転中心上方な
どに、メインテーブル15の中心から円周方向に延びる
形状の面を有する固定翼97を設け、メインテーブル1
5の中心から外周方向に向かう気流をさらに喚起するよ
うにしてもよい。
【0094】また、以上の実施形態では、180度異なるサ
ブテーブル62の2つの回転角のそれぞれについて、メ
インテーブル15の回転を行ったが、このサブテーブル
62の回転角は相互に180度異なるものでなく任意回
転角異なるものとしてもよい。また、サブテーブル62
の2つの回転角についてのみメインテーブル15の回転
を行うのではなく、サブテーブル62の3種類以上の回
転角について、それぞれメインテーブル15の回転を行
うようにしてもよい。また、以上の実施形態におけるバ
ランスウエイト502およびその配置は、実際にメイン
テーブル15の回転を行うサブテーブル62の回転角の
それぞれについて、サブテーブル62がメインテーブル
15に加える荷重バランスが変わらなければ足りる。
【0095】また、以上では、具体的なシリコンウエーハ用
のシッピングボックスを乾燥の対象として本発明に係る
乾燥装置の実施形態を示したが、これは単なる一例であ
り、本発明および本発明の乾燥の対象物はこれに限定さ
れるものではない。すなわち、本実施形態の乾燥装置
は、これ以外の形状やサイズのシリコンウエーハ用のシ
ッピングボックスや、その他の任意の対象、たとえば、
シリコン以外の半導体ウエーハ、フォトマスク用石英ガ
ラス基板、液晶表示用ガラス基板、ハードディスク、CD
-ROM、CD-RAM、DVD、MDなどを収容するシッピングボッ
クスやコンテナの乾燥についても同様に適用することが
できる。
【0096】また、FOUP(Front Opening Unified Pod)な
どのシリコンウエーハ収容容器のFIMS(Front-opening
Interface Mechanical Standard)構造を持つドアの乾
燥についても同様に適用することができる。
【0097】
【発明の効果】
【0098】以上のように、本発明によれば、短時間に効率
よく、対象物を乾燥させることのできる乾燥装置を提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る乾燥装置の構造を示す
図である。
【図2】本発明の実施形態に係る乾燥装置が乾燥の対象
とするシッピングボックスの構造を示す図である。
【図3】本発明の実施形態に係る乾燥装置の取付具を示
す図である。
【図4】本発明の実施形態に係る乾燥装置の取付具を示
す図である。
【図5】本発明の実施形態に係る乾燥装置の取付具を示
す図である。
【図6】本発明の実施形態に係る乾燥装置の取付具を示
す図である。
【図7】本発明の実施形態に係る乾燥装置の取付具を示
す図である。
【図8】本発明の実施形態に係る乾燥装置のサブテーブ
ルの回転と固定の機構を示す図である。
【図9】本発明の実施形態に係る乾燥装置の他の構成例
を示す図である。
【図10】本発明の実施形態に係る乾燥装置の他の構成
例を示す図である。
【符号の説明】
1;本体部、2;ドア部2、11;フレーム、12;モ
ータ、13;シャフト、14;ローター、15;テーブ
ル、16;乾燥室壁、17;シャフト軸受、18;ロー
ター軸受、21;ドアフレーム、22;連結部材、2
3;固定翼支持部材、24;固定翼、25;エアフィル
タ 、31;伸縮シリンダ、32;開閉アーム、35;
ガスケット、33;ヒンジ、61;サブテーブル駆動
部、62;サブテーブル、63;回転角エンコーダー、
64;制御部、81;キー穴、82;キー、83;押し
棒、91;エアコンプレッサー、92;エアーノズル、
93;サブテーブル、501、503〜506;取付
具、502;バランスウエイト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 義範 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 小戸 章志 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 田中 直樹 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 三川 和弘 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 島田 雄司 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 小島 孝由 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 阿部 泰博 横浜市緑区白山1丁目16番1号 株式会社 小野測器内 (72)発明者 外山 公平 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150 信越半導体株式会社半導体白河研究 所内 (72)発明者 松尾 孝 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150 信越半導体株式会社半導体白河研究 所内 Fターム(参考) 3L113 AA04 AB08 AC63 AC67 AC75 AC83 BA34 CB34 DA02 DA10 DA24 4D057 AA19 AB01 AC05 AD01 AE11 AF01 BA21 BA29 5F031 CA02 DA08 FA01 FA03 PA24

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】遠心力を利用して対象物を乾燥する遠心式
    乾燥装置であって、 乾燥室と、前記乾燥室内に設けられたメインテーブル
    と、前記メインテーブルを回転させる回転機構部と、前
    記メインテーブルに回転可能に組み付けられた複数のサ
    ブテーブルと、前記メインテーブルの回転中に前記サブ
    テーブルの前記メインテーブルに対する回転を抑止する
    回転抑止手段と、前記対象物を前記サブテーブルと共に
    運動するように前記サブテーブルに対して当該対象物を
    拘束する拘束手段とを有することを特徴とする遠心式乾
    燥装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の遠心式乾燥装置であって、 前記メインテーブルの回転停止中に、前記サブテーブル
    を前記メインテーブルに対して回転するサブテーブル回
    転機構部を有することを特徴とする遠心式乾燥装置。
  3. 【請求項3】請求項2記載の遠心式乾燥装置であって、 前記サブテーブル回転機構部は、前記メインテーブルの
    回転停止中に、前記サブテーブルを前記メインテーブル
    に対して180度回転することを特徴とする遠心式乾燥
    装置。
  4. 【請求項4】請求項2または3記載の遠心式乾燥装置で
    あって、 前記サブテーブル回転機構部は、 前記サブテーブルに分離可能に連結して回転力を与え
    る、前記メインテーブルと分離して設けられた駆動部
    と、 前記メインテーブルの回転停止中に、前記駆動部を移動
    して前記サブテーブルに連結し、前記メインテーブルの
    回転中に、前記駆動部を移動して、前記サブテーブルか
    ら分離する移動機構部とを有することを特徴とする遠心
    式乾燥装置。
  5. 【請求項5】請求項1、2、3または4記載の遠心式乾
    燥装置であって、 前記サブテーブルにバランスウエイトが装着ていること
    を特徴とする遠心式乾燥装置。
  6. 【請求項6】請求項1、2、3、4または5記載の遠心
    式乾燥装置であって、 前記対象物は、シリコンウエーハを収容するシッピング
    ボックスの構成品、または、FIMS(Front-opening Inte
    rface Mechanical Standard)構造を持つシリコンウエ
    ーハ収容容器のドアであることを特徴とする遠心式乾燥
    装置。
JP2001126860A 2001-04-25 2001-04-25 遠心式乾燥装置 Pending JP2002323289A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001126860A JP2002323289A (ja) 2001-04-25 2001-04-25 遠心式乾燥装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001126860A JP2002323289A (ja) 2001-04-25 2001-04-25 遠心式乾燥装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002323289A true JP2002323289A (ja) 2002-11-08

Family

ID=18975827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001126860A Pending JP2002323289A (ja) 2001-04-25 2001-04-25 遠心式乾燥装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002323289A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108700405A (zh) * 2016-12-06 2018-10-23 爱思开矽得荣株式会社 晶圆载体厚度测量装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108700405A (zh) * 2016-12-06 2018-10-23 爱思开矽得荣株式会社 晶圆载体厚度测量装置
US11371829B2 (en) 2016-12-06 2022-06-28 Sk Siltron Co., Ltd. Wafer carrier thickness measuring device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5369538B2 (ja) 液処理装置及び液処理方法並びに記憶媒体
JP4025096B2 (ja) 基板処理方法
JP2012084931A (ja) 基板処理方法
JPS6064436A (ja) スピンドライヤ
JP3958594B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP6811675B2 (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2001156034A (ja) シリコン基板(ないしウェーハ)・キャリア洗浄方法
JP2002323289A (ja) 遠心式乾燥装置
JP4565433B2 (ja) 液処理装置および液処理方法
JP3244220B2 (ja) 平板状物の乾燥方法および乾燥装置
JP2663492B2 (ja) 基板の回転式表面処理装置
WO2017029861A1 (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2002323288A (ja) 遠心式乾燥装置
KR101551545B1 (ko) 캐리어 세정 장치 및 그 세정 방법
JPH07283108A (ja) 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
JP2004079842A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3740377B2 (ja) 液供給装置
JP3322630B2 (ja) 回転処理装置
KR20180126109A (ko) 복수개의 캐리어를 세정하기 위한 세정장치 및 이를 이용한 세정방법
JPS63302521A (ja) 半導体基板の乾燥装置
KR100624466B1 (ko) 반도체 웨이퍼 고정용 진공 척
JP2004349470A (ja) 基板処理装置およびその方法
KR102582493B1 (ko) 세정 장치 및 기판 처리 장치
JPH07183266A (ja) 回転式基板処理装置
JP3544618B2 (ja) 基板乾燥方法および基板乾燥装置