JP2002319495A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 陽極、有機化合物層及び陰極を有する発光装置の作製方法において、
   前記陽極を形成し、
   前記陽極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
2. 陽極、有機化合物層及び陰極を有する発光装置の作製方法において、
   透明性導電膜からなる前記陽極を形成し、
   前記陽極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
3. 請求項１又は請求項２において、
   平坦化された前記陽極上に前記有機化合物層が形成され、
   前記有機化合物層上に前記陰極が形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
4. 陰極、有機化合物層及び陽極を有する発光装置の作製方法において、
   前記陰極を形成し、
   前記陰極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
5. 陰極、有機化合物層及び陽極を有する発光装置の作製方法において、
   透明性導電膜からなる前記陰極を形成し、
   前記陰極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
6. 請求項４又は請求項５において、
   平坦化された前記陰極上に前記有機化合物層が形成され、
   前記有機化合物層上に前記陽極が形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
7. 基板上に複数のＴＦＴを形成し、
   前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
   前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
   前記第２の絶縁膜上に透明性導電膜を形成し、
   前記透明性導電膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
8. 基板上に複数のＴＦＴを形成し、
   前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
   前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
   前記第２の絶縁膜上に陽極を形成し、
   前記陽極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
9. 基板上に複数のＴＦＴを形成し、
   前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
   前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
   前記第２の絶縁膜上に陰極を形成し、
   前記陰極の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
10. 基板上に複数のＴＦＴを形成し、
    前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
    前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
    前記第２の絶縁膜上に透明性導電膜を形成し、
    前記透明性導電膜上に有機樹脂材料からなる第３の絶縁膜を形成し、
    前記第３の絶縁膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
11. 基板上に複数のＴＦＴを形成し、
    前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
    前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
    前記第２の絶縁膜上に陽極を形成し、
    前記陽極上に有機樹脂材料からなる第３の絶縁膜を形成し、
    前記第３の絶縁膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
12. 基板上に複数のＴＦＴを形成し、
    前記ＴＦＴ上に有機樹脂材料からなる第１の絶縁膜を形成し、
    前記第１の絶縁膜上に無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成し、
    前記第２の絶縁膜上に陰極を形成し、
    前記陰極上に有機樹脂材料からなる第３の絶縁膜を形成し、
    前記第３の絶縁膜の表面を拭浄性材料により拭浄して平坦化することを特徴とする発光装置の作製方法。
13. 請求項１０乃至請求項１２のいずれか一項において、
    前記第３の絶縁膜は、１〜５０ｎｍの膜厚で形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
14. 請求項１０乃至請求項１３のいずれか一項において、
    前記第３の絶縁膜がアクリル、ポリイミドまたはポリアミドからなることを特徴とする発光装置の作製方法。
15. 請求項７乃至請求項１４のいずれか一項において、
    前記有機樹脂材料とは、アクリル、ポリイミドまたはポリアミドであることを特徴とする発光装置の作製方法。
16. 請求項７乃至請求項１５のいずれか一項において、
    前記無機絶縁材料とは、酸化珪素、窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム、または酸化窒化アルミニウムであることを特徴とする発光装置の作製方法。
17. 請求項１乃至請求項１６のいずれか一項において、
    前記拭浄性材料とはポリビニルアルコール系の多孔質体であることを特徴とする発光装置の作製方法。
18. 請求項１乃至請求項１７のいずれか一項において、
    洗浄液と前記拭浄性材料によって前記表面を拭浄することを特徴とする発光装置の作製方法。
19. 請求項１乃至請求項１８のいずれか一項において、
    前記拭浄性材料で前記表面を擦ることを特徴とする発光装置の作製方法。
20. 請求項１乃至請求項１９のいずれか一項において、
    前記表面における拭浄前の水に対する接触角が９０°よりも小さいときは、拭浄後における水に対する接触角は、拭浄前の水に対する接触角よりも大きく、かつ９０°より小さくなることを特徴とする発光装置の作製方法。