JP2002316380A - 光触媒転写体並びに光触媒付き基材及びその製造方法 - Google Patents

光触媒転写体並びに光触媒付き基材及びその製造方法

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JP2002316380A
JP2002316380A JP2001121248A JP2001121248A JP2002316380A JP 2002316380 A JP2002316380 A JP 2002316380A JP 2001121248 A JP2001121248 A JP 2001121248A JP 2001121248 A JP2001121248 A JP 2001121248A JP 2002316380 A JP2002316380 A JP 2002316380A
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Tomoyuki Shirakawa
伴幸 白川
Toshiyuki Aritake
利行 有竹
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡便な構成で保護フィルムに光触媒層を有す
る転写体としての機能を付与し、光触媒付き基材を製造
しやすくすること、コストの抑制が可能で、品質の良好
な光触媒転写体並びに光触媒付き基材及びその製造方法
を提供すること。 【解決手段】 剥離性保護フィルム11に光触媒粒子を含
むコート液を塗布して乾燥し、光触媒層12を形成し、そ
の上に接着層13を施して光触媒転写体10を得る。次い
で、得られた光触媒転写体10を前記接着層13にて基材21
に転写し、積層することにより、光触媒付き基材20を製
造する。光触媒層12は、少なくとも有機溶媒及び水を含
む溶媒と、固形分濃度で5〜10重量%の光触媒粒子とを
混合してなるコート液を塗布して乾燥したものであるの
が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、二酸化チタン等の
光触媒による層を剥離性保護フィルムに形成した光触媒
転写体並びにこのような光触媒転写体を転写、積層して
得られる光触媒付き基材及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】二酸化チタン等の光触媒は、紫外線を照
射することにより有機物を分解したり、超親水性等の機
能を発現する、光触媒機能を有する物質である。光触媒
を基材の表面に付着させることにより、抗菌、脱臭、防
汚等の効果を奏するので、種々の分野で利用されつつあ
る。従来、このような光触媒を、基材となる合成樹脂板
に付着させる方法として、先ず、合成樹脂フィルムに光
触媒を付着させ、次いで、この光触媒が付着した合成樹
脂フィルムを、光触媒が付着した面が表側となるよう
に、基材となる合成樹脂板に加熱積層等して接着する方
法が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
方法による場合、使用に至るまでの間、基材の表面に付
着した光触媒の面を保護するため、さらに光触媒の面を
保護フィルムによって被覆する手段を講じる必要があ
る。このため、製造工程が煩雑となり、光触媒付き基材
を低廉なコストで製造することは困難であった。
【0004】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的は、簡便な構成で保護フィルムに光触媒
層を有する転写体としての機能を付与し、光触媒付き基
材を製造しやすくすること、また、コストの抑制が可能
で、品質の良好な光触媒転写体並びに光触媒付き基材及
びその製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、剥離性保護フ
ィルムに光触媒粒子を含むコート液を塗布して乾燥した
後、その上に接着層を施してなる光触媒転写体である。
光触媒粒子を含むコート液を塗布して乾燥することによ
り形成される光触媒コート層(光触媒層)は、少なくと
も有機溶媒及び水を含む溶媒と、固形分濃度で5〜10
重量%の光触媒粒子とを混合してなるコート液を塗布し
て乾燥したものであるのが好ましい。
【0006】また、本発明は、上記のような光触媒転写
体を、前記接着層にて基材に転写し、積層してなる光触
媒付き基材である。
【0007】さらに、本発明は、剥離性保護フィルムに
光触媒粒子を含むコート液を塗布し、乾燥した後、その
上に接着層を施して光触媒転写体を得、次いで、得られ
た光触媒転写体を前記接着層にて基材に転写し、積層す
ることからなる光触媒付き基材の製造方法である。上記
製造方法においては、基材となる合成樹脂をダイから押
し出し、押出しラミネーション法によって、前記光触媒
転写体を前記接着層にて前記基材に転写し、積層するこ
とからなるものとするのが好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の光触媒転写体及び光触媒
付き基材の実施の形態について、図面を参照して説明す
る。図1は光触媒転写体10を模式的に示す断面図、図
2は光触媒付き基材20を模式的に示す断面図である。
図中、符号11は剥離性保護フィルム、12は光触媒
層、13は接着層である。
【0009】本発明に用いられる剥離性保護フィルム
(シートを含む)11としては、ポリエチレンテレフタ
レート、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカー
ボネート、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン
その他の合成樹脂の単層あるいは複数層からなるフィル
ムが好適に用いられる。紙類を用いることもできる。必
要に応じて、適宜表面処理を施してもよい。例えば、光
触媒層12との剥離性を向上させるため、シリコーンそ
の他の離型剤による表面処理を施してもよい。
【0010】光触媒層12は、光触媒粒子を含むコート
液を塗布して乾燥することにより形成される。光触媒粒
子を構成する光触媒としては、二酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化スズ、、酸化鉛、酸化第二鉄、三酸化二ビスマ
ス、三酸化タングステン、チタン酸ストロンチウム等の
金属酸化物が挙げられる。これらにFe、Co、Ni、
Cu、Zn、Ru、Rh、Pd、Ag、Pt、Au等を
付加していてもよい。中でも、二酸化チタンが、無害で
化学的に安定しておりかつ安価であるため、好ましい。
二酸化チタンは、アナターゼ型二酸化チタン、ルチル型
二酸化チタン、ブルックライト型二酸化チタンのいずれ
も使用できるが、光触媒反応の高活性なアナターゼ型二
酸化チタンが好ましい。光触媒の粒子の粒径は、特に限
定されるものではないが、平均粒径0. 1nm〜0. 1
μmの範囲のものが好ましい。
【0011】光触媒層12を形成するための、光触媒粒
子を含むコート液は、有機溶媒及び水を含む溶媒と、光
触媒粒子とを混合してなるコーティング液を用いること
ができる。有機溶媒としては、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール等の一価低級ア
ルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール
等の多価アルコール類及びそれらのエステルであるセル
ソルブ等を好適に使用できる。一価低級アルコール、中
でもイソプロピルアルコール及びエタノールを用いるの
が好ましい。
【0012】有機溶媒及び水を含む溶媒には、適宜、シ
ランカップリング剤等のバインダー成分を含ませること
ができる。バインダー成分は、光触媒粒子の密着を高
め、光触媒による膜の強度を向上させる。光触媒粒子を
含むコート液は、例えば、アナターゼ型二酸化チタンゾ
ル80重量部、テトラエトキシシラン70重量部、エタ
ノール150重量部、2- プロパノール150重量部、
純水550重量部といった配合により構成される。
【0013】光触媒粒子は、上記のような溶媒に固形分
濃度で5〜10重量%を混合するのが好ましい。5%未
満では塗布後の光触媒の効果が小さく、汚れ防止といっ
た効果が期待しにくい。10%を超えると外観が白くな
る(透明でなくなる)ことと、温度を高くしても光触媒
が脱落しやすくなるので、無駄になってしまうだけとな
る。
【0014】光触媒粒子を含むコート液を剥離性保護フ
ィルムに塗布する手段は、特に限定されるものではな
い。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイッ
プコート等、各種の塗布方法を選択し得る。グラビアロ
ールコーターを用いるのが好ましい。剥離性保護フィル
ム11への光触媒層12の形成は、上記コート液を塗布
し、加熱乾燥して行うのがよい。
【0015】加熱乾燥は、加熱温度80〜100℃で行
うのが好ましい。さらには、乾燥熱風風速10〜30m
/秒、乾燥時間20〜180秒の条件で行うのがよい。
【0016】なお、光触媒層12の厚さは、乾燥前のW
ET状態で5〜50g/m2 、乾燥後の被膜の厚さで
0.1〜1μmが望ましい。これ以下の厚さでは光触媒
反応の活性が低く、逆にこれ以上の厚さでは密着強度・
表面硬度が低下し、被膜が剥がれ易くなる。光触媒粒子
を含むコート液の塗布は、一回のみならず、複数回行っ
てもよい。光触媒層12は、異なる平均粒径の光触媒粒
子により構成された複数層で構成されていてもよい。
【0017】また、光触媒層12の乾燥が完了した後、
所要時間エージングを行うのが好ましい。これにより、
コーティングされた被膜の剥離強度を向上させることが
できる。エージングは30〜60℃で30時間以上エー
ジングを行うのが好ましい。
【0018】光触媒粒子を含むコート液を剥離性保護フ
ィルム11に塗布して乾燥した後、これによって形成さ
れた光触媒層12の上に接着層13を施す。
【0019】接着層13は、これが積層される基材21
の材質を考慮して、適宜選択し得る。例えば、基材21
が合成樹脂材で構成される場合、接着層13は、アクリ
ル樹脂、アクリル変性シリコン樹脂化合物又はシリコン
変性アクリル樹脂化合物を主要成分として含むものが好
ましい。多木化学社製 商品名:タイノックプライマー
A(固形分としてシリコン変性樹脂20%、コロイダル
シリカ30%に溶媒としてエタノール20%、2- プロ
パノール20%、純水10%を配合したもの)等が好ま
しく用いられる。接着層13の厚さは特に限定されるも
のではないが、0.2μm以上が好ましい。なお、接着
層13(接着剤)内に、光触媒粒子を含有させてもよ
い。
【0020】接着層13を光触媒層12の上に施す手段
は、光触媒粒子を含むコート液を剥離性保護フィルム1
1に塗布する手段と同様、特に限定されるものではな
い。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイッ
プコート等、各種の塗布方法を選択し得る。グラビアロ
ールコーターを用いるのが好ましい。接着層13を光触
媒層12の上に施し、加熱乾燥することにより、光触媒
転写体10が得られる。
【0021】図2に、光触媒付き基材20を示す。上記
のようにして得られた光触媒転写体10を、接着層13
にて基材21に転写し、積層することにより、光触媒付
き基材20が得られる。
【0022】基材21は、接着層13にて積層可能なも
のであればよいが、合成樹脂のフィルムないしシートが
好適に用いられる。その厚さに制限はない。合成樹脂と
しては、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
ト、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、
ポリエチレン、ポリプロピレンその他の合成樹脂の単層
あるいは複数層からなるものが好適に用いられる。紙や
アルミニウム等の金属層を含む複合材であってもよい。
光触媒転写体10は、接着層13によって基材21に転
写され、剥離性保護フィルム11によって表面が保護さ
れた光触媒基材20が得られる。光触媒基材20は、使
用する時、図2(b)に示すように、剥離性保護フィル
ム11を剥がし、光触媒層12を露出させて使用すれば
よく、使用時に剥離性保護フィルム11を離型するまで
光触媒層12の損傷等が剥離性保護フィルム11によっ
て保護される。
【0023】図3、4を参照して本発明の製造方法につ
いて説明する。図3は、押出しラミネーション法による
製造方法を例示する説明図である。前記したような適宜
手段を用い、剥離性保護フィルムに光触媒層及び接着層
が順次積層されることにより構成された光触媒転写体1
0は、供給ロール40から繰り出され、プレスロール4
1を介し、キャストロール(冷却ロール)42へ導かれ
る。一方、基材21となる合成樹脂21aは、押出機3
0を経てダイ31から溶融押し出しされる。そして、押
出しラミネーション法によって、光触媒転写体10の接
着層13と基材21とが積層される。しかして、光触媒
転写体10が基材21に転写、積層された光触媒付き基
材20が得られる。
【0024】上記のような押出ラミネーション法による
場合、基材として結晶性高分子材料(結晶性樹脂)を用
いるとき、基材となる合成樹脂の結晶化温度以上となる
温度で行うのがよい。非晶性樹脂の場合は融点でラミネ
ートする。例えば、基材としてポリエチレンテレフタレ
ートを用いる場合、約180℃でラミネーションする必
要がある。
【0025】図4は、再加熱(熱)ラミネーション法に
よる製造方法を例示する説明図である。前記したような
適宜手段を用い、剥離性保護フィルムに光触媒層及び接
着層が順次積層されることにより構成された光触媒転写
体10は、供給ロール40からキャストロール(冷却ロ
ール)42aへ導かれる。一方、基材21となる合成樹
脂21aは、押出機30を経てダイ31から溶融押し出
しされる。そして、キャストロール(冷却ロール)42
を経て一旦フィルムないしシート状の基材21を形成し
てロール43を介した後、ヒータ50により再加熱して
基材21の温度を上昇させ、熱ラミネーション法によっ
て、光触媒転写体10の接着層13と基材21とが積層
される。しかして、光触媒転写体10が基材21に転
写、積層された光触媒付き基材20が得られる。
【0026】上記のような再加熱ラミネーション法によ
る場合、基材として結晶性高分子材料を用いるとき、基
材となる合成樹脂の結晶化温度以上となる温度で行うの
がよい。結晶性樹脂の場合、結晶化開始〜融解までブロ
ードであり、この範囲すべてを融点としているので、こ
のような結晶化温度の範囲内でラミネーションすること
ができる。非晶性樹脂の場合、融点がシャープであるの
で、その融点でのみラミネーションすることができる。
【0027】
【実施例】<実施例1>剥離性保護フィルムとしてPE
T(ポリエチレンテレフタレート)フィルムの片面に、
粒径17〜25nmのアナターゼ型二酸化チタンを含む
コート液(:多木化学社製光触媒コート剤CZP−22
1、アナターゼ型二酸化チタンゾル80g、テトラエト
キシシラン70g、エタノール150g、2- プロパノ
ール150g、純水550g)をグラビアコートによっ
て5g/m2 塗布し、110℃で2分間乾燥した。
【0028】その上に、接着層(固形分としてシリコン
変性樹脂20%、コロイダルシリカ30%に溶媒として
エタノール20%、2- プロパノール20%、純水10
%を配合したもの、多木化学社製 商品名:タイノック
プライマーA)を同じくグラビアコートによって5g/
2 塗布し110℃で2分間乾燥する。
【0029】そうしてできた光触媒転写体を、ポリカー
ボネート(PC)板の結晶化温度(約150℃)以上の
約180℃で約50kg/ cm2 の圧力で押出しラミ
ネーション法によって接着層を介して光触媒転写体をP
C板に加熱押圧した。得られた光触媒付き基材の光触媒
層の膜厚は約0.2μm、接着層の膜厚は約0.2μm
であった。
【0030】本発明の光触媒付き基材は、そのままの形
態で、あるいは、鋼板その他の金属板等の表面に被覆し
て使用することができる。内外装建材、その他抗菌、脱
臭、防汚等の効果を利用し得る各種の用途に用いること
ができ、その用途は特に限定されない。
【0031】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明は上記説明したものに限定されず、本発明の要旨
の範囲で適宜変更、付加等して実施し得るものである。
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、簡便な構成により低コ
ストで光触媒層を有する転写体が得られる。また、工程
も複雑化せず、光触媒層の損傷を防ぐことが可能な光触
媒付き基材が製造しやすくなる。コストを抑制し、品質
の良好な光触媒転写体並びに光触媒付き基材及びその製
造方法が提供される。本発明の製造方法によれば、基材
の成形とともに光触媒付き基材を得ることが可能であ
り、製造方法を簡素化し、コストを低減することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】光触媒転写体10を模式的に示す断面図であ
る。
【図2】光触媒付き基材20を模式的に示す断面図であ
る。
【図3】押出しラミネーション法による製造方法を例示
する説明図である。
【図4】再加熱(熱)ラミネーション法による製造方法
を例示する説明図である。
【符号の説明】
10 光触媒転写体 11 保護フィルム 12 光触媒層 13 接着層 20 光触媒付き基材 21 基材 31 ダイ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AA21 AK01C AK42 AK45 AR00A AT00C BA03 BA07 BA10A BA10C CC00B DE01B EH23C EH46B EJ86B GB90 JL02 JL08B JL14A 4G069 AA03 AA08 BA04A BA04B BA22A BA22B BA48A BB04A BB06A BC12A BC21A BC22A BC25A BC35A BC50A BC60A BC66A BE09A BE09B CA01 CA10 CA11 CA17 EA08 EE01 EE06 FA03 FB23 FB57 FB78 4J004 CA07 DA04 DB02 FA04 GA01 4J038 AA011 HA216 JA18 JA22 JA25 KA06 MA06 NA05

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 剥離性保護フィルムに光触媒粒子を含む
    コート液を塗布して乾燥した後、その上に接着層を施し
    てなる光触媒転写体。
  2. 【請求項2】 光触媒コート層は、少なくとも有機溶媒
    及び水を含む溶媒と、固形分濃度で5〜10重量%の光
    触媒粒子とを混合してなるコート液を塗布して乾燥した
    ものである請求項1に記載の光触媒転写体。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の光触媒転写体
    を、前記接着層にて基材に転写し、積層してなる光触媒
    付き基材。
  4. 【請求項4】 剥離性保護フィルムに光触媒粒子を含む
    コート液を塗布し、乾燥した後、その上に接着層を施し
    て光触媒転写体を得、 次いで、得られた光触媒転写体を前記接着層にて基材に
    転写し、積層することからなる光触媒付き基材の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 基材となる合成樹脂をダイから押し出
    し、押出しラミネーション法によって、前記光触媒転写
    体を前記接着層にて前記基材に転写し、積層することか
    らなる請求項4に記載の光触媒付き基材の製造方法。
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