JP2000225663A - 光触媒フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光触媒作用を有する物質をプラスチックフィル
ムに短工程で固定化することができ、光触媒作用を有す
る物質のプラスチックフィルムに対する接着性が高く、
生産ロスが少なく、さらに生産コストの安い、光触媒コ
ートフィルムの提供。 【解決手段】プラスチックフィルム上に、けい素酸化物
及びまたはアルミニウム酸化物からなる薄膜層、及び光
触媒層を順次積層してなる光触媒フィルム、ならびにプ
ラスチックフィルム上に、けい素酸化物及びまたはアル
ミニウム酸化物と、金属フッ化物，マグネシウム酸化物
類，及びチタン酸化物から選ばれる一種または二種以上
の化合物とからなる薄膜層、及び光触媒層を順次積層し
てなる光触媒フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基材表面を高度に
親水性にする光触媒層を有する光触媒フィルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、光半導性物質の光触媒作用が、水
の光分解等の化学反応の触媒としてだけでなく、水中や
空気中の環境汚染物質の分解除去、脱臭、殺菌などの多
くの用途で注目をあつめている。例えば、特開平５−１
５４４７３号公報には、流体に含まれている有機物の酸
化分解や殺菌を効果的に行う方法として、酸化チタンな
どの光半導性物質の光触媒作用を用いた光化学反応処理
方法が開示されている。また、特開平９−２２６０４２
号公報には、フィルム基体表面に、光触媒粒子を含有す
る表面層を備えてなり、基材表面に貼着すると、表面が
光触媒の光励起に応じて親水性を呈する光触媒フィルム
が開示されている。

【０００３】特開平９−２２７１６１号公報には、窓ガ
ラスに直接及び窓ガラス貼着用のフィルムに光触媒性酸
化物粒子を含有する表面層を備え、光触媒の励起に応じ
て表面層が親水性を呈し、その結果付着した湿分の凝縮
水や水滴が表面層に一様に広がる窓ガラスや窓ガラス貼
着用のフィルムが開示されている。この他にも、特開平
９−５９０４２号公報，特開平９−２２７１６９号公
報，特開平１０−１５６１９０号公報に光触媒性能を有
する基材が開示されている。一般に、光半導性物質の光
触媒作用を有するフィルムを作成するには、基材である
プラスチックフィルムにコロナ放電処理を施し、シリコ
ーン樹脂からなるプライマー塗料を塗布、乾燥した後、
シリコン系ハードコート剤を塗布、乾燥し、さらにその
シリコン系ハードコート剤にコロナ放電処理を施した後
に酸化チタン含有塗料組成物（例えば、アナターゼ型酸
化チタンゾル，シリカゾル及びトリメトキシシランのエ
タノール希釈物）を塗布、熱処理硬化させて作成する。

【０００４】このような多層にするのは理由があり、酸
化チタンを代表とする光触媒作用を有する光半導性物質
を固定化するには、その光触媒の作用で分解される有機
物のバインダーは使用できないので、必然的に分解され
にくい無機材料のバインダーが選択される。この光触媒
作用を有する物質（例えば酸化チタン）と無機バインダ
ーからなる塗工層はプラスチックフィルムとは接着し難
く、また接着したとしても光触媒作用を有する物質がこ
のプラスチックフィルムを分解してしまうために、プラ
スチックフィルム基材の劣化、プラスチックフィルム／
光触媒層の剥離が発生する。そのため、光触媒作用に対
し耐性を有するベースコーティングが必要である。この
ベースコーティングとしては、前述したようなシリコー
ン系ハードコート剤が用いられることが多い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このシ
リコーン系ハードコート剤もプラスチックフィルムとは
直接接着し難く、シリコーン系プライマーのようなプラ
イマー剤が必要である。更により接着力をあげるため
に、コロナ放電処理等の易接着処理も必要である。光触
媒作用を有する物質をプラスチックフィルムに固定化す
るにはこのように非常に多工程の接着に関わるコーティ
ング剤を塗布せざるを得なく、また接着力も十分でな
く、多工程がゆえ、生産ロス増加やコスト高になってし
まっていた。

【０００６】本発明の目的は、光触媒作用を有する物質
をプラスチックフィルムに短工程で固定化することがで
き、光触媒作用を有する物質のプラスチックフィルムに
対する接着性が高く、生産ロスが少なく、さらに生産コ
ストの安い、光触媒コートフィルムを提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、光触媒作
用を有する物質を含む光触媒層とプラスチックフィルム
の間に、けい素酸化物及びまたはアルミニウム酸化物か
らなる薄膜層、または、けい素酸化物及びまたはアルミ
ニウム酸化物と、金属フッ化物、マグネシウム酸化物
類、及びチタン酸化物から選ばれる一種または二種以上
の化合物とからなる薄膜層を設けることにより、光触媒
層の接着力が十分で、層構成数が少ないため生産ロスが
少ない光触媒フィルムが得られること見出し、本発明に
至った。

【０００８】すなわち、本発明は、プラスチックフィル
ム上に、けい素酸化物及びまたはアルミニウム酸化物か
らなる薄膜層、及び光触媒層を順次積層してなる光触媒
フィルムによって達成できる。また、本発明は、プラス
チックフィルム上に、けい素酸化物及びまたはアルミニ
ウム酸化物と、金属フッ化物，マグネシウム酸化物類，
及びチタン酸化物から選ばれる一種または二種以上の化
合物とからなる薄膜層、及び光触媒層を順次積層してな
る光触媒フィルムによって達成できる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明において、プラスチックフ
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム，ポリプロピレンフィルム，ポリエチレンフィルム，
塩化ビニルフィルム，塩化ビニリデンフィルム，アクリ
ルフィルム，ナイロンフィルム，フッ素フィルム，ポリ
フッ化ビニリデンフィルム，ポリカーボネートフィル
ム，ポリエチレン−２，６−ナフタレ−トフィルムがあ
げられる。この中でも、２軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムが望ましい。プラスチックフィルム
の表面は、コロナ放電処理やフレーム処理，プラズマ処
理等の表面処理してあっても構わないが、これらの表面
処理は必須ではない。また、このプラスチックフィルム
の表面には何も付与されていない方が望ましいが、予め
界面活性剤や高分子電解質系等の有機系の導電剤やＵＶ
吸収剤や光安定剤が塗工または練り込みされているもの
でも構わない。プラスチックフィルムの厚さは特に制限
されないが、６μm〜２mm が適当であり、特に１２〜２
００μm が望ましい。

【００１０】薄膜層は、プラスチックフィルムと強固に
接着すると共に、光触媒層とも強固に接着しなければな
らず、薄膜層の組成は、けい素酸化物単独からなるも
の，アルミニウム酸化物単独からなるもの，その混合物
・化合物、けい素酸化物と金属フッ化物，マグネシウム
酸化物類，チタン酸化物の１種または２種以上からなる
もの，アルミニウム酸化物と金属フッ化物，マグネシウ
ム酸化物類，チタン酸化物の１種または２種以上からな
るものに大別される。

【００１１】薄膜層を構成するけい素酸化物は、ＳｉＯ
ｘ（ｘ＝０．５〜２）で表される化合物であり、具体的
にはＳｉＯ（一酸化けい素）やＳｉＯ₂ （二酸化けい
素），Ｓｉ₂ Ｏ₃ 等が挙げられる。けい素酸化物単独か
らなる薄膜層は、ＳｉＯｘのｘが２に近いほど無色透明
になり、反対にｘの値が小さければ小さいほど褐色〜黄
色を呈する。真空薄膜形成技術を用いて薄膜層を形成す
る場合、ＳｉＯｘのｘを完全に２にすることはかなり困
難であり、薄膜層をけい素酸化物単独とした場合は、少
なくとも若干着色してしまう。薄膜層を構成するアルミ
ニウム酸化物は、Ａｌ₂ Ｏ₃ （酸化アルミニウム）のよ
うな完全な酸化物でなくてもよく、Ａｌ₂ Ｏｘ(ｘ＝
１．５〜３)のように多少酸素欠乏状態でも構わない。
真空薄膜形成技術のうち真空蒸着により薄膜層を形成す
る場合、この酸素欠乏状態になりやすい。

【００１２】薄膜層を構成する金属フッ化物としては、
アルカリ土類金属のフッ化物およびアルカリ金属のフッ
化物があげられる。具体的には、フッ化マグネシウム，
フッ化カルシウム，フッ化ストロンチウム，フッ化バリ
ウム，フッ化リチウム，フッ化ナトリウム，フッ化カリ
ウム，フッ化ルビジウム，フッ化セシウム，フッ化フラ
ンシウム等があげられる。この中でも、特にフッ化マグ
ネシウムは屈折率が低い値を示すので、光線透過性に優
れている。マグネシウム酸化物類としては、酸化マグネ
シウム、酸化マグネシウムと二酸化けい素との共酸化物
（フォルステライトやステアタイトと呼称される共酸化
物），酸化マグネシウムと金属フッ化物との複合化合物
が挙げられる。チタン酸化物としては、一酸化チタン、
三二酸化チタン、二酸化チタンが挙げられる。二酸化チ
タンとしてはアナターゼ／ルチルのいずれでも構わな
い。

【００１３】薄膜層を構成するけい素酸化物及びまたは
アルミニウム酸化物：金属フッ化物，マグネシウム酸化
物類及びチタン酸化物から選ばれる一種または二種以上
の化合物の組成比は、それぞれ９８〜８０モル％：２〜
２０モル％の範囲が望ましく、特に９５〜９０モル％：
５〜１０モル％の範囲が望ましい。薄膜層の組成におい
て、けい素酸化物とアルミニウム酸化物を混合する場合
は、特にその比は限定はない。同様に、金属フッ化物，
マグネシウム酸化物類及びチタン酸化物をを混合する場
合も、特にその比は限定はない。薄膜層と光触媒層の接
着性をより強固にしたい場合は、薄膜層がチタン酸化物
を含み、薄膜層中のチタン酸化物の比が２〜５モル％で
あることが望ましい。

【００１４】薄膜層の原料は、金属酸化物，金属フッ化
物，金属，有機金属化合物等の無機化合物，有機化合物
の単独または混合物の何れでも構わない。中でも、薄膜
層の光線透過性の点から、けい素酸化物と金属フッ化物
の混合物、またはけい素酸化物と二酸化けい素と酸化マ
グネシウムの共酸化物の混合物を原料とすることが望ま
しい。その原料の組成比は、けい素酸化物及びまたはア
ルミニウム酸化物と金属フッ化物とを原料とする場合
は、けい素酸化物及びまたはアルミニウム酸化物：金属
フッ化物＝９８〜７０モル％：２〜３０モル％の範囲が
望ましく、特に９５〜８５モル％：５〜１５モル％の範
囲が望ましい。

【００１５】また、けい素酸化物及びまたはアルミニウ
ム酸化物と金属フッ化物とマグネシウム酸化物類とを原
料とする場合は、けい素酸化物及びまたはアルミニウム
酸化物：金属フッ化物：マグネシウム酸化物類＝９７．
５〜７０モル％：２〜２９．５モル％：０．５〜２８モ
ル％の範囲が望ましく、特に９５〜９０モル％：４．５
〜９．５モル％：０．５〜５．５モル％の範囲が望まし
い。さらに、薄膜層にチタン酸化物を含有させる場合
は、上記原料組成に対して外割でチタン酸化物を５〜１
０モル％混合すると、前述の膜組成になる。

【００１６】原料として用いるけい素酸化物の例として
は、けい素と二酸化けい素の混合物，一酸化けい素単
体、及びけい素と二酸化けい素と一酸化けい素の混合物
が挙げられる。けい素酸化物としてけい素（Ｓｉ）と二
酸化けい素（ＳｉＯ₂ ）の混合物を用いる場合、その組
成比は基本的には等モルが好ましいが、Ｓｉ：ＳｉＯ₂
＝４０〜６０モル％：６０〜４０モル％の範囲ならよ
い。また原料として用いるけい素酸化物が、Ｓｉ、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂ の混合物である場合は、Ｓｉ：ＳｉＯ ₂ を
ほぼ等モルにすれば良く、（Ｓｉ＋ＳｉＯ₂ ）：ＳｉＯ
の比率は特に限定されない。

【００１７】原料として用いるアルミニウム酸化物とし
ては、酸化アルミニウム、金属アルミニウム、有機アル
ミニウム化合物等が挙げられ、薄膜層の状態でアルミニ
ウム酸化物となればよい。原料として用いる金属フッ化
物、マグネシウム酸化物類、チタン酸化物も特に限定さ
れず、薄膜層の状態で前述の膜になればよい。薄膜層
は、真空薄膜形成技術により、プラスチックフィルム上
に形成することができる。真空薄膜形成技術の方式とし
ては、真空蒸着，イオンプレ−ティング，スパッタリン
グ等の物理気相蒸着（ＰＶＤ）や，プラズマ等を用いる
化学気相蒸着（ＣＶＤ）などが挙げられる。この中でも
蒸着スピードの点から、真空蒸着が特に望ましい。

【００１８】真空蒸着の加熱方法としては、その蒸着中
にスプラッシュと呼称される蒸着飛沫が発生しなけれ
ば、あるいは支障なく取り除ける程度に少なければ特に
制限はなく、高周波誘導加熱，抵抗加熱，電子線加熱な
どの公知の加熱方法を用いることができる。この蒸着飛
沫が多量に発生すると、飛沫が薄膜層上に異物として残
り、後に光触媒層を積層する時に、黒点として外観不良
となる。真空蒸着の蒸発源としては一般的なルツボ方式
でもかまわないが、異なる昇華点，融点の物質が常時均
一に真空蒸着できる特開平１−２５２７８６号公報や特
開平２−２７７７７４号公報に記載される蒸発原料を連
続的に供給排出する方式や電子線加熱方式が望ましい。

【００１９】プラスチックフィルムの上に薄膜層を形成
する場合、真空蒸着の方法により、原料組成をそのまま
薄膜層の組成に反映させてもよいが、反応蒸着により２
種以上の原料を反応させながら、薄膜層の組成としても
良い。反応蒸着による薄膜層の積層方法としては金属ま
たは有機金属酸化物のような金属を含む化合物を酸化ま
たはフッ化させながら真空蒸着する方法、金属フッ化物
をプラスチックフィルム上に蒸着層として形成させ後工
程でその蒸着層を酸化処理する方法があげられる。酸化
処理の方法としてはプラスチックフィルムの使用可能温
度範囲内で処理を行う方法なら特に限定されず、蒸着中
の酸素ガス導入法，放電処理法，酸素プラズマ法，熱酸
化法等が挙げられる。

【００２０】薄膜層の膜厚は、プラスチックフィルムと
の接着性の点から、１〜１００ｎｍが望ましい。さら
に、５〜３０ｎｍが望ましく、特に５〜１０ｎｍが望ま
しい。ましい。薄膜層の膜厚が３０ｎｍを越えると徐々
に薄膜層の内部応力が内在し始め、１００ｎｍを越える
と完全に薄膜層の内部応力が大きくなり、それがプラス
チックフィルムと薄膜層の剥離に関係する。薄膜層は、
最終的に得られる層の必要機能が得られていれば、２層
積層や多重積層でも構わない。すなわち、積層を２回以
上に分けて行ってもよく、その時、異種類の金属フッ化
物，マグネシウム酸化物類，チタン酸化物を積層しても
構わない。また、２層以上を積層する場合には、薄膜層
の間に有機物質の樹脂等の層を入れてもかまわない。

【００２１】光触媒層は、光触媒作用を有する物質とバ
インダーとから構成される。光触媒作用を有する物質と
は、その結晶の伝導帯と価電子帯との間のエネルギーギ
ャップよりも大きなエネルギー（すなわち短い波長）の
光（励起光）を照射したときに、価電子帯中の電子の励
起（光励起）が生じて、伝導電子と正孔を生成しうる物
質をいい、例えばアナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸
化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、三酸化二ビスマス、三酸
化タングステン、酸化第二鉄、チタン酸ストロンチウム
等が好適に利用できる。光触媒作用を有する物質につい
ては、例えば、特開平９−２２６０４２号公報、特開平
９−５９０４２号公報、特開平１０−１９５３７９号公
報、特開平１０−１５６１９０号公報、特開平９−２２
７１６１号公報、特開平９−２２７１６９号公報等に詳
細に述べられている。ここで、光触媒作用を有する物質
の光励起に用いる光源としては、太陽光、室内照明、特
殊ランプ等があり、例えば、蛍光灯、白熱電灯、メタル
ハライドランプ、水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯
等が挙げられる。

【００２２】光触媒層を構成するバインダーは、基本的
には光触媒作用を有する物質の光励起による触媒活性効
果のうち、有機物の分解に耐えられるバインダーであれ
ば限定されないが、具体例としては、無機または有機け
い素化合物が挙げられる。詳しくは、無定型シリカの前
駆体（テトラアルコキシシランの部分加水分解、脱水縮
重合物である平均組成式（ＯＲ）ｘＳｉＯｙ（０＜ｘ≦
４、０≦ｙ＜２）からなる４官能性シロキサン樹脂、シ
ラノール、その脱水縮重合物であるシラノール樹脂）や
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメト
キシシラン等のシラン化合物が挙げられる。

【００２３】光触媒層を構成するバインダーが無機また
は有機けい素化合物の場合は、薄膜層と光触媒層が化学
結合し、特に薄膜層と光触媒層が強固に接着するため望
ましい。具体的に説明すると、薄膜層がけい素酸化物を
含む場合は、薄膜層内のＳｉと、光触媒層を構成する無
機けい素化合物や有機けい素化合物内のＳｉ分子とがシ
ロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）する。また、薄膜
層がアルミニウム酸化物の場合は、アルミニウム／シリ
カ酸化物結合（−Ａｌ−Ｏ−Ｓｉ−）する。

【００２４】光触媒層を薄膜層の上に積層するには、例
えば、無定型シリカの前駆体とアナターゼ型酸化チタン
粒子を分散・混合して、薄膜層の上にスプレーコーティ
ング法、ディップコーティング法、フォローコーティン
グ法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、
グラビアコーティング法、リバースコーティング法、コ
ンマコーティング法、リップコーティング法、オフセッ
トグラビアコーティング法、ダイコーティング法等で塗
布後、硬化反応により、無定型シリカを生成すると共
に、アナターゼ型酸化チタン粒子を無定型シリカを結着
剤として固着させる。または、未反応の若しくは部分的
に硬化したシリコーン又はシリコーン前駆体からなる塗
料とアナターゼ型酸化チタンゾルとを混合し、シリコー
ンの前駆体を必要に応じて、加水分解させた後、混合物
を基材の表面に前述した、各種コーティング法で塗布
し、加熱等の方法でシリコーンの前駆体の加水分解物を
脱水縮重合に付して、アナターゼ型酸化チタン粒子とシ
リコーンからなる光触媒層を形成する。

【００２５】光触媒層は、薄膜層との接着性を向上させ
るため、シランカップリング剤を含むことが望ましい。
光触媒層に含有させるシランカップリング剤としては、
けい素原子に直接、または酸素原子、または−ＯＣＯ−
基を介して結合した炭化水素基を有し、これらの炭化水
素基の少なくとも一つが二重結合、ハロゲン原子、エポ
キシ基、酸無水物基、アルコキシカルボニル基、アミノ
基、アクロイル基、メタクリロイル基、アクリルアミノ
基、メタクリルアミノ基またはハロアシルアミノ基を含
む化合物が挙げられる。このうち特にエポキシ基やアミ
ノ基を有する化合物が有効である。光触媒層は、光触媒
層の全量に対して０．１〜５重量％の範囲でシランカッ
プリング剤を含むことが望ましい。シランカップリング
剤の含有量が０．１重量％未満の場合は、充分な接着性
が得られず、５重量％を越える場合は、接着性の向上効
果が得られず、コスト面からも降りである。

【００２６】更に、光触媒層にはＡｇ，Ｃｕ，Ｚｎ等の
抗菌性金属を含有させても構わない。また、同様に光触
媒層には、光触媒層の酸化還元活性を増強するため、Ｐ
ｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｏｓ等の白金族金属を含
有させても構わない。光触媒層の厚みは、薄ければ薄い
ほど薄膜層との接着性が良好なため、０．４μｍ以下に
するのが好ましい。特に、０．２μｍ以下が望ましく、
概ね０．０１μｍ以上である。更に、光触媒層の表面に
親水化可能な耐摩擦性又は耐食性の保護層や他の機能膜
を設けても良い。

【００２７】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもの
ではない。なお、実施例における試験方法は以下の通り
である。 耐候性試験：光触媒フィルムをサンシャインウエザーメ
ーターで５００時間及び１０００時間暴露後、光触媒面
について碁盤目テープ剥離試験を行った。

【００２８】〔実施例１〕厚さ５０μm のポリエチレン
テレフタレートフィルム（帝人社製 テトロンフィルム
ＨＢ）の片面に、特開平１−２５２７８６号公報に記
載された蒸発原料を連続的に供給排出する方式の連続巻
き取り式抵抗加熱方式の真空蒸着機を用い、けい素と二
酸化けい素の混合物（混合比５０モル％：５０モル％）
を原料として加熱真空蒸着した（薄膜層の厚みは約２０
ｎｍ）。次いで、薄膜層の上に、光触媒コーティング液
（アナターゼ型酸化チタンゾル＜日産化学社製 ＴＡ−
１５ 固形分１５重量％＞１６重量部とシリカゾル＜日
本合成ゴム社製 グラスカＡ液 固形分１３重量％＞９
重量％を混合し、エタノールで希釈後、更にトリメトキ
シシラン＜日本合成ゴム社製 グラスカＢ液＞３重量部
を添加したもの。）をダイコーティング法にて塗布後、
１２０℃で３０分間熱処理して硬化させて光触媒層を積
層し、光触媒フィルムを得た。

【００２９】〔実施例２〕厚さ５０μm のポリエチレン
テレフタレートフィルム（帝人社製 テトロンフィルム
ＨＢ）の片面に、電子線加熱方式の連続巻き取り式真
空蒸着機を用い、けい素と二酸化けい素とフッ化マグネ
シウムの混合物（混合比４６モル％：４６モル％：８モ
ル％）を原料として加熱真空蒸着した（薄膜層の厚みは
約５ｎｍ）。次いで、薄膜層の上に、実施例１と同様に
して光触媒層を積層し、光触媒フィルムを得た。

【００３０】〔実施例３〕厚さ５０μm のポリエチレン
テレフタレートフィルム（帝人社製 テトロンフィルム
ＨＢ）の片面に、特開平１−２５２７８６号公報に記
載された蒸発原料を連続的に供給排出する方式の連続巻
き取り式抵抗加熱方式の真空蒸着機を用い、けい素と二
酸化けい素とフッ化マグネシウムとステアタイトの混合
物（混合比４６モル％：４６モル％：４モル％：４モル
％）を原料として加熱真空蒸着し（薄膜層の厚みは約１
００ｎｍ）た。次いで、薄膜層の上に、実施例１と同様
にして光触媒層を積層し、光触媒フィルムを得た。

【００３１】〔実施例４〕厚さ５０μm のポリエチレン
テレフタレートフィルム（帝人社製 テトロンフィルム
ＨＢ）の片面に、特開平１−２５２７８６号公報に記
載された蒸発原料を連続的に供給排出する方式の連続巻
き取り式抵抗加熱方式の真空蒸着機を用い、けい素と二
酸化けい素と酸化マグネシウムの混合物（混合比４６モ
ル％：４６モル％：８モル％）を原料として加熱真空蒸
着した（薄膜層の厚みは約５ｎｍ）。次いで、薄膜層の
上に、実施例１で作成した光触媒コーティング液１００
重量部にシランカップリング剤（γ−グリシジルプロピ
ルトリメトキシシラン、信越シリコーン社製 ＫＢＭ４
０３）３重量部を添加した光触媒コーティング液を用い
て、実施例１と同様にして光触媒層を積層し、光触媒フ
ィルムを得た。

【００３２】〔実施例５〕厚さ５０μm のポリエチレン
テレフタレートフィルム（帝人社製 テトロンフィルム
ＨＢ）の片面に、実施例２で用いた電子線加熱方式の
連続巻き取り式真空蒸着機を用い、酸素を導入しながら
アルミニウムを原料として加熱真空蒸着した（薄膜層の
厚みは約５ｎｍ）。次いで、薄膜層の上に、実施例１と
同様にして光触媒層を積層し、光触媒フィルムを得た。

【００３３】〔実施例６〕厚さ５０μm のポリエチレン
テレフタレートフィルム（帝人社製 テトロンフィルム
ＨＢ）の片面に、反応性スパッタリング方式のスパッ
タリング機を用い、金属シリコンと金属チタンをターゲ
ット（モル比は９５：５）として、酸素を導入しながら
（スパッタリング機内を５×１０^-4torrにする）スパッ
タリングした（薄膜層の厚みは約５ｎｍ）。薄膜層をＥ
ＳＣＡで組成分析したところ、酸化チタンが３モル％含
まれていた。次いで、薄膜層の上に、実施例１と同様に
して光触媒層を積層し、光触媒フィルムを得た。

【００３４】〔比較例１〕実施例１で用いたポリエチレ
ンテレフタレートフィルムに、プライマー塗料（信越シ
リコーン社製、ＰＣ−７Ａ）をフローコーティング法に
て塗布後、１２０℃で２０分間乾燥させて、フィルムを
プライマー樹脂層で被覆した。次に、プライマー樹脂層
で被覆したプラスチックフィルムに、シリコーン系ハー
ドコーティング剤（信越シリコーン社製、ＫＰ−８５）
をフローコーティング法にて塗布後、１２０℃で６０分
間乾燥させて、ハードコート層を形成し、そのハードコ
ート層をコロナ処理した。次に、ハードコート層の上
に、実施例１と同様にして光触媒層を積層し、光触媒フ
ィルムを得た。

【００３５】〔比較例２〕実施例１で用いたポリエチレ
ンテレフタレートフィルムに、特開平１−２５２７８６
号公報に記載された蒸発原料を連続的に供給排出する方
式の連続巻き取り式抵抗加熱方式の真空蒸着機を用い、
金属アルミニウムを原料として加熱真空蒸着した（薄膜
層の厚みは約２０ｎｍ）。次いで、薄膜層の上に、実施
例１と同様にして光触媒層を積層し、光触媒フィルムを
得た。

【００３６】実施例および比較例で得られた光触媒フィ
ルムについて、耐候性試験を行った。結果を表１に示
す。

【表１】

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、プラスチックフィルム
と光触媒層の間に、けい素酸化物及びまたはアルミニウ
ム酸化物からなる薄膜層、またはけい素酸化物及びまた
はアルミニウム酸化物と特定の化合物とからなる薄膜層
を形成することにより、光触媒フィルムにおける光触媒
層の接着性を向上させることができる。つまり、従来に
比べて光触媒フィルムの構成を簡略化することができ、
さらに製造工程を圧倒的に短縮できるようになったこと
で、安価な光触媒フィルムを市場に出せるようになっ
た。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F006 AA35 AB67 AB73 AB74 AB76 DA01 DA04 4F100 AA05B AA06B AA18B AA19B AA20B AA21B AB11 AK01A AK42 AK52C AS00C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C EH46 EH66 EJ59 EJ59B JA20B JB20 JK06 JL02 JL08C JM02B JN30C YY00B 4G069 AA01 AA08 BA01A BA02A BA02B BA04A BA04B BA06A BA06B BA37 BA48A BB06A BB08A BC09A BC10A BC10B BC12A BC13A BD15A BD15B BE32A EA08 EB15X ED02 EE08 FB02 FB23 FB30 FC05 4K029 AA11 BA41 BA42 BA43 BA44 BA46 BA48 BA50 BB02 BD00 CA01 KA01

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プラスチックフィルム上に、けい素酸化物
   及びまたはアルミニウム酸化物からなる薄膜層、及び光
   触媒層を順次積層してなる光触媒フィルム。
2. 【請求項２】プラスチックフィルム上に、けい素酸化物
   及びまたはアルミニウム酸化物と、金属フッ化物，マグ
   ネシウム酸化物類，及びチタン酸化物から選ばれる一種
   または二種以上の化合物とからなる薄膜層、及び光触媒
   層を順次積層してなる光触媒フィルム。
3. 【請求項３】薄膜層を構成する金属フッ化物が、フッ化
   マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化ストロンチウ
   ム及びフッ化バリウムから選ばれる一種または二種以上
   である請求項２記載の光触媒フィルム。
4. 【請求項４】薄膜層を構成するマグネシウム酸化物類
   が、酸化マグネシウム，酸化マグネシウムと二酸化けい
   素との共酸化物及び酸化マグネシウムと金属フッ化物と
   の複合化合物から選ばれる一種または二種以上である請
   求項２記載の光触媒フィルム。
5. 【請求項５】光触媒層がシランカップリング剤を含む請
   求項１ないし４いずれか１項に記載の光触媒フィルム。
6. 【請求項６】薄膜層の膜厚が５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲で
   ある請求項１ないし５いずれか１項に記載の光触媒フィ
   ルム。
7. 【請求項７】薄膜層を真空薄膜形成技術により形成する
   請求項１ないし６いずれか１項に記載の光触媒フィル
   ム。