JP2002316331A

JP2002316331A - 溶液製膜方法及び偏光板等

Info

Publication number: JP2002316331A
Application number: JP2001120817A
Authority: JP
Inventors: Tadahiro Tsujimoto; 忠宏辻本; Mitsuyuki Matsuoka; 光進松岡
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-04-19
Filing date: 2001-04-19
Publication date: 2002-10-29

Abstract

(57)【要約】【課題】マイクロ波照射により均一なドープを効率良
く調製し、そのドープを用いて溶液製膜方法によりフイ
ルムを製造する。【解決手段】セルローストリアセテートと酢酸メチル
を主溶剤とした溶媒と添加剤からなる混合物１２をタン
ク１１に入れる。ポンプ１４により加熱用タンク１６に
混合物１２を送液する。混合物１２を撹拌翼１７で攪拌
しつつ、２４５０ＭＨｚのマイクロ波発生装置により、
５００Ｗで２０分照射する。混合物１２からセルロース
トリアセテートが溶媒中に均一に溶解したドープが得ら
れる。ドープを冷却後、製膜ラインによりフイルムを製
造し、このフイルムから偏光板等を製造すると良好な光
学的特性を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、溶液製膜方法並び
にこの方法により製膜したフイルムを用いた偏光板等に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ポリマーの成形には主として溶融法と溶
液法が用いられる。溶液法に用いるポリマー溶液を作成
するには、ポリマーをそのポリマーに対して高い溶解性
を有する溶媒に溶解させる方法が一般的である。例え
ば、光学機能材料などに用いられる高酢化度（酢化度５
８％以上）のセルローストリアセテートフイルムを例に
挙げると、これまでは塩化メチレンを主溶剤とした溶媒
に溶解し、これを流延してフイルムとしていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら最近では
環境に有害な塩化メチレンを用いた溶液製膜法は大きな
問題となりつつある。さらに、溶剤中の水分濃度が大き
いと、フイルムの乾燥負荷が増大する上、ポリマーの経
時安定性、寸度安定性が低下する事が知られている。

【０００４】そこで、酢酸メチル、アセトンなどの炭素
数４以下のアルコール類、エステル類、ケトン類、エー
テル類、カルボン酸類を主溶媒とする溶剤を用いてセル
ローストリアセテートを溶解する方法が特開平９−９５
５３８号，同１１−２１３７９号，同１１−６０７５２
号，同１１−６０８０７号，同１１−７１４６３号の各
公報及び公開技報２００１−１７４５などに記載されて
いる。しかし、塩化メチレンに比べこれら溶媒は溶解性
が低く、これらの溶媒とセルローストリアセテート粒子
とを混合しただけでは高濃度（１０％以上）の溶液を作
成することは困難である。

【０００５】この問題を解決するため、特開平９−９５
５４４号、同９−９５５５７号、同９−９５５３８号の
各公報には、セルローストリアセテートと溶剤との混合
物を冷却後に加温することで溶解することが開示されて
いる。しかし本方法では組成物を−７０℃という低温に
冷却する必要があり、実用上問題点が多い。

【０００６】また、溶剤の沸点を超える高温で溶解する
ことも特開昭６１−１０６６２８号、特開昭６１−１２
９０３１号の各公報などに記載されている。一般的にポ
リマーは、溶媒の温度が高い温度ほど溶解しやすい事が
知られている。しかしながらその加熱方法について工業
的にはタンク内の溶液をジャケットに熱媒を流通し、内
部を攪拌して伝熱させる方法や多管式熱交換器により伝
熱する方法が主流であった。そのため高温で長時間の処
理をすることにより溶媒やポリマーの分解または劣化が
生ずる恐れがある。

【０００７】これらの方法においては壁面を通じての伝
導伝熱による伝熱が主体であるために効率的に伝熱する
ためには熱媒の温度は流体の到達温度よりも通常高く設
定され、その結果、必然的に壁面部にある被加熱流体
と、これより内部の被加熱流体との間には温度差が生ず
る。多管式熱交換器のような流通状態で加熱する際も壁
面部分の被加熱流体は平均以上の加熱温度、処理時間に
さらされることとなる。また、滞留部においても同様な
現象が生じ過剰な熱処理を受けた被加熱流体は分解、変
質などの劣化を生ずることが避けられなかった。

【０００８】伝熱効率を高めるために回転薄膜蒸発器な
どを使う例が特開平４−３０２７９８号公報に記載され
ているが、装置が大規模になり現実的ではない。

【０００９】本発明は、溶液製膜法により高品質な溶液
製膜フイルムを得るための高濃度溶液を効率的に得る方
法および装置を提供することを目的とする。また、その
溶液を用いて製膜した高品質な溶液製膜フイルムおよび
製造方法を提供することを目的とする。さらに、その溶
液製膜フイルムから偏光板等を製造することを目的とす
る、

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を検討した結
果、本発明者らは、マイクロ波の照射によって高濃度の
ポリマー溶液が作成でき、さらにこのポリマー溶液を溶
液製膜する事で高品質のポリマーフイルムを作成しうる
事を見出した。

【００１１】本発明の溶液製膜方法は、ポリマーを溶媒
に溶解または分散させたドープを流延ダイから流延支持
体上に流延してフイルムを製造する溶液製膜方法におい
て、マイクロ波を照射して前記ドープを作成する。ま
た、周波数が９００〜３０００ＭＨｚの範囲であるマイ
クロ波を照射して、前記ドープを作成することが好まし
い。さらに、マイクロ波を直接及び／または導波管を通
じて２０秒〜１２０分間マイクロ波を照射して前記ドー
プを作成することが好ましい。より好ましくは、３０秒
〜６０分間、最も好ましくは、３０秒〜３０分間であ
る。

【００１２】また、本発明の溶液製膜方法は、前記溶媒
とポリマーとの混合物を圧力制御手段を有する配管内に
連続して流通させながら、前記マイクロ波を照射して前
記ドープを作成することが好ましい。また、前記溶媒と
ポリマーとの混合物を圧力制御手段を有する容器に入れ
て、前記マイクロ波を照射してバッチ式に前記ドープを
作成する方法でも良い。

【００１３】前記ドープが、セルロースアシレート溶液
または分散物であり、かつ前記セルロースアシレートの
６位のアシル基置換度Ｘが残余の置換度Ｙとの関係にお
いて、Ｘ≧０．７，Ｘ＋Ｙ≧２．７１の関係を満たすこ
とが好ましい。また、前記セルロースアシレートが、セ
ルローストリアセテートであることが好ましい。さら
に、前記セルローストリアセテートの酢化度が、５９．
０〜６２．５％であることがより好ましい。

【００１４】前記ドープが、セルロースアシレート溶液
または分散物であって、その溶媒が酢酸メチル、ケトン
類及びアルコール類からなり、その溶媒比率が、酢酸メ
チルが２０〜９０重量％、ケトン類が０〜６０重量％、
アルコール類が５〜３０重量％であることが好ましい。

【００１５】前記ドープが、セルロースアシレート溶液
または分散物であり、かつ、少なくとも一種の可塑剤を
前記セルロースアシレートに対して０．１〜２０重量％
含有していることが好ましい。また、前記ドープが、セ
ルロースアシレート溶液または分散物であり、かつ、少
なくとも一種の紫外線吸収剤を前記セルロースアシレー
トに対して０．００１〜５重量％含有していることが好
ましい。さらに、前記ドープが、セルロースアシレート
溶液または分散物であり、かつ、少なくとも一種の微粒
子粉体を前記セルロースアシレートに対して０．００１
〜５重量％含有していることが好ましい。

【００１６】前記ドープが、セルロースアシレート溶液
または分散物であり、かつ少なくとも一種の離型剤を前
記セルロースアシレートに対して０．００１〜２重量％
単位含有していることが好ましい。また、前記ドープ
が、セルロールアシレート溶液または分散物であり、か
つ、少なくとも一種のフッ素系界面活性剤を前記セルロ
ースアシレートに対して０．００２〜２重量％含有して
いることが好ましい。さらに、前記ドープが、セルロー
スアシレート溶液または分散物であり、かつ、少なくと
も一種の劣化防止剤を前記セルロースアシレートに対し
て０．００１重量％〜５重量％含有していることが好ま
しい。

【００１７】セルロースアシレート溶液または分散物を
１２０℃以上の温度で処理することが好ましい。この場
合に、１２０℃以上に保つ時間が２０秒以上かつ４時間
以下であることが好ましい。また、セルロースアシレー
ト溶液または分散物をその到達最高温度において発泡さ
せないように加圧することが好ましい。さらに、セルロ
ースアシレート溶液または分散物を加熱前または加熱後
に−１００〜−１０℃に冷却することがより好ましい。
また、前記ドープに含まれる酢酸量が２０ｐｐｍ以下で
あることが好ましい。さらには、前記フイルムの６％溶
液の粘度が９５０ｃＰ以下であることが好ましい。

【００１８】前記流延ダイから流延支持体に流延する際
に、剪断速度５００（ｓｅｃ^-1）における剪断粘度が５
００ポイズ以下であることが好ましい。また、前記流延
ダイから流延支持体に流延する際に、前記ドープの温度
が前記溶液の沸点よりも３℃以上低いことが好ましい。
さらに、前記流延支持体の表面温度が、前記溶液の沸点
よりも１０℃以上低いことが好ましい。

【００１９】本発明の溶液製膜方法には、前記ドープを
流延する際に、２種類以上のドープを共流延すること方
法も含まれる。また、前記フイルムを乾燥する際に、周
波数９００〜３０００ＭＨｚのマイクロ波を照射する溶
液製膜方法も本発明には含まれる。

【００２０】前述したいずれかの溶液製膜方法で製造さ
れたフイルムも本発明には含まれる。また、そのフイル
ムを用いて構成された偏光板、偏光板保護膜、光学機能
性膜、液晶表示装置も本発明には含まれる。

【００２１】

【発明の実施の形態】［ポリマー］本発明に用いるポリ
マーは、セルロースアシレートが好ましい。特に、セル
ロースアセテートが好ましく、最も好ましくは、平均酢
化度が５９．０〜６２．５％であるセルローストリアセ
テートである。この場合において、酢化度とは、セルロ
ース単位重量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、
ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等
の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算に
従う。本発明では、セルロースアシレート粒子を使用
し、使用する粒子の９０重量％以上が０．１〜４ｍｍの
粒子径、好ましくは１〜４ｍｍを有する。また、好まし
くは９５重量％以上、より好ましくは９７重量％以上、
さらに好ましくは９８重量％以上、最も好ましくは９９
重量％以上の粒子が０．１〜４ｍｍの粒子径を有する。
さらに、使用する粒子の５０重量％以上が２〜３ｍｍの
粒子径を有することが好ましい。より好ましくは７０重
量％以上、さらに好ましくは８０重量％以上、最も好ま
しくは９０重量％以上の粒子が２〜３ｍｍの粒子径を有
する。セルロースアシレートの粒子形状は、なるべく球
形に近い形状を有することが好ましい。

【００２２】セルロースのモノマー単位においては、３
箇所の水酸基が酢酸とエステル化されて、アセテートを
形成する。しかしながら、セルロースアセテートは、エ
ステル化された位置によってドープ調製用の溶媒への溶
解性が異なる。セルロースの６員環に結合している２，
３位の水酸基がエステル化される場合より、６位（−Ｃ
Ｈ₂ＯＨ）の水酸基がエステル化された方が溶媒への溶
解性が向上する。本発明において６位の水酸基の置換度
をＸ、２，３位の水酸基の置換度の合計をＹとした場
合、Ｘ≧０．７，Ｘ＋Ｙ≧２．７１が好ましい。より好
ましくは、Ｘ≧０．８，Ｘ＋Ｙ≧２．７３である。

【００２３】［溶媒］本発明に用いることができる溶媒
は、ハロゲンを含有しないものであって、ポリマーを溶
解するものであれば良い。代表的には、酢酸メチルであ
る。その酢酸メチルは、市販品の純度であれば、特に制
限される要因はない。溶媒は、酢酸メチルのみ（１００
重量％）であっても良いし、他の溶媒を混合して使用す
るものでもよい。他の溶媒と酢酸メチルとを併用するこ
とで、調製するドープの性質（例えば、粘度）を調節す
ることができる。酢酸メチルと併用できる溶媒の例に
は、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノンなど）、酢酸メチル以外のエステ
ル類（例えば、メチルホルメート、エチルアセテート、
アミルアセテート、ブチルアセテートなど）、エーテル
類（例えば、ジオキサン、ジオキソラン、テトラヒドロ
フラン（以下、ＴＨＦと略する）、ジエチルエーテル、
メチル−ｔ−ブチルエーテルなど）、炭化水素（例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサンなど）お
よびアルコール類（例えば、メタノール、エタノールな
ど）が含まれる。この場合において、ケトン類およびア
ルコール類が特に好ましい。また、二種類以上の溶媒
を、酢酸メチルと併用してもよい。さらに、本発明にお
いて、溶媒に酢酸メチルを使用せず、前記溶媒のうち少
なくとも１つを含むものであっても良い。

【００２４】ドープ調製用の溶媒に酢酸メチル、ケトン
類及びアルコール類を用いる場合、それらの溶媒比率
が、酢酸メチルが２０〜９０重量％、ケトン類が５〜６
０重量％、アルコール類が５〜３０重量％であること
が、セルロースアシレートの溶解性の点から好ましい。

【００２５】［添加剤］本発明で用いることのできる添
加剤としては特に限定はなく、可塑剤、紫外線吸収剤、
微粒子粉体、離型剤、フッ素系界面活性剤、劣化防止剤
などをドープに添加することができる。また、ドープの
調製時のいずれかの段階で添加しても良いし、ドープを
流延する際に添加してもよい。例えば、セルロースアシ
レートを溶媒中で膨潤させる時に添加しても良いし、後
述する製膜ラインにおいて流延ダイから流延バンド上に
流延する直前に、ドープ中に添加してスタティックミキ
サで混合する方法などでも良い。

【００２６】（可塑剤）可塑剤として、リン酸エステル
系（例えば、トリフェニルフォスフェート、トリクレジ
ルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェー
ト、オクチルジフェニルフォスフェート、ジフェニルビ
フェニルフォスフェート、トリオクチルフォスフェー
ト、トリブチルフォスフェートなど）、フタル酸エステ
ル系（例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチル
フタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレー
トなど）、グリコール酸エステル系（例えば、トリアセ
チン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレー
ト、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリ
ルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレ
ートなど）およびその他の可塑剤を用いることができ
る。これら添加剤は単独使用または併用してよい。セル
ロースアシレート溶液またはセルロースアシレート分散
物（以下の説明において、セルロースアシレート溶液と
は、セルロースアシレート溶液とセルロースアシレート
分散物の両方を含む用語として用いる）中において、可
塑剤をセルロースアシレートに対して０．１〜２０重量
％含むように調製することが望ましい。さらに、特開平
１１−８０３８１号公報、同１１−１２４４４５号公
報、同１１−２４８９４０号公報に記載されている可塑
剤も添加することができる。

【００２７】（紫外線吸収剤）ドープには、紫外線吸収
剤を添加することもできる。特に、好ましくは一種また
は二種以上の紫外線吸収剤を含有することである。液晶
用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３
７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示
性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少
ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系
化合物，ベンゾトリアゾール系化合物，サリチル酸エス
テル系化合物，ベンゾフェノン系化合物，シアノアクリ
レート系化合物，ニッケル錯塩系化合物などが挙げられ
る。特に好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール
系化合物やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベ
ンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対
する不要な着色が少ないことから、好ましい。さらに
は、特開平８−２９６１９号公報に記載されているベン
ゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、あるいは同８−２３
９５０９号公報に記載されている紫外線吸収剤も添加す
ることができる。その他、公知の紫外線吸収剤を添加し
ても良い。これら紫外線吸収剤は、セルロースアシレー
ト溶液中にセルロースアシレートに対して０．００１〜
５重量％を含むように調製することが望ましい。

【００２８】好ましい紫外線防止剤として、２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール，ペンタエリスリ
チル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリ
エチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチ
オ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−
チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ´−
ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−ト
リメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス
−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペン
タエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］が最も好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ
´−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジンなどの
ヒドラジン系化合物の金属不活性剤やトリス（２，４−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの
リン系加工安定剤を併用してもよい。

【００２９】（微粒子粉体）ドープには、フイルムの易
滑性や高湿度下での耐接着性の改良のために微粒子粉体
であるマット剤を使用することができる。マット剤の表
面の突起物の平均高さは０．００５〜１０μｍが好まし
く、より好ましくは０．０１〜５μｍである。また、そ
の突起物は表面に多数ある程良いが、必要以上に多いと
へイズとなり問題である。使用されるマット剤として
は、無機化合物、有機化合物ともに使用可能である。無
機化合物としては、硫酸バリウム、マンガンコロイド、
二酸化チタン、硫酸ストロンチウムバリウム、二酸化ケ
イ素、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カル
シウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシ
ウムなどの無機物の微粉末があるが、さらに例えば湿式
法やケイ酸のゲル化より得られる合成シリカ等の二酸化
ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生成する二酸化チ
タン（ルチル型やアナタース型）等が挙げられる。ま
た、粒径の比較的大きい、例えば２０μｍ以上の無機物
から粉砕した後、分級（振動濾過、風力分級など）する
ことによっても得られる。有機化合物としては、ポリテ
トラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリス
チレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタク
リレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカー
ボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、
メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるい
はポリ弗化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物
の粉砕分級物もあげられる。あるいは懸濁重合法で合成
した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等
により球型にした高分子化合物、または無機化合物を用
いることができる。また、微粒子粉体は、あまり多量に
添加するとフイルムの柔軟性が損なわれるなどの弊害も
生じるため、セルロースアシレート溶液中において、セ
ルロースアシレートに対して０．００１〜５重量％含有
するように調製することが好ましい。

【００３０】（離型剤）また、ドープには、離型操作を
容易にするための離型剤を添加することもできる。離型
剤には、高融点のワックス類、高級脂肪酸およびその塩
やエステル類、シリコーン油、ポリビニルアルコール、
低分子量ポリエチレン、植物性タンパク質誘導体などが
挙げられるが、これらに限定されない。離型剤の添加量
は、フイルムの表面の光沢や平滑性に影響を及ぼすた
め、セルロースアシレート溶液中において、セルロース
アシレートに対して０．００１〜２重量％含有している
ことが好ましい。

【００３１】（フッ素系界面活性剤）ドープには、フッ
素系界面活性剤を添加することもできる。フッ素系界面
活性剤は、フルオロカーボン鎖を疎水基とする界面活性
剤であり、表面張力を著しく低下させるため有機溶媒中
での塗布剤や、帯電防止剤として用いられる。フッ素系
界面活性剤としては、Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−（ＣＨ
₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀−ＯＳＯ₃Ｎａ、Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ
₃Ｈ₇）（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆−Ｈ、Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ
（Ｃ₃Ｈ₇）ＣＨ₂ＣＯＯＫ、Ｃ₇Ｆ₁₅ＣＯＯＮＨ₄、
Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₃Ｈ₇）（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₄−
（ＣＨ₂）₄−ＳＯ₃Ｎａ、Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₃Ｈ
₇）−（ＣＨ₂）₃−Ｎ⁺（ＣＨ₃）₃・Ｉ^-、Ｃ₈Ｆ
₁₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₃Ｈ₇）ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｎ⁺（ＣＨ
₃）₂−ＣＨ₂ＣＯＯ^-、Ｃ₈Ｆ ₁₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ（Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆−Ｈ、Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ
₂）₃−Ｎ⁺（ＣＨ₃）₃・Ｉ^-、Ｈ（ＣＦ₂）₈−Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ（ＳＯ₃）ＣＯＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−（ＣＦ₂）₈−Ｈ、Ｈ（ＣＦ₂）₆
ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆−Ｈ、Ｈ（Ｃ
Ｆ₂）₈ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）₃−Ｎ⁺（ＣＨ₃）
₃・Ｉ^-、Ｈ（ＣＦ₂）₈ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ（ＳＯ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ
₈Ｆ₁₇、Ｃ₉Ｆ₁₇−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₃Ｈ₇）
（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆−Ｈ、Ｃ₉Ｆ₁₇−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＳ
Ｏ₂Ｎ（Ｃ₃Ｈ₇）−（ＣＨ₂）₃−Ｎ⁺（ＣＨ₃）₃
・Ｉ^-などが挙げられるが、これらに限定される訳では
ない。セルロースアシレート溶液中において、フッ素系
界面活性剤は、セルロースアシレートに対して０．００
２〜２重量％含有するように調製することが好ましい。

【００３２】（剥離促進剤）さらに、剥離時の荷重を小
さくするための剥離促進剤も、ドープに添加してもよ
い。それらは、界面活性剤が有効であり、リン酸系，ス
ルフォン酸系，カルボン酸系，ノニオン系，カチオン系
などがあるが、これらに特に限定されない。これらの剥
離促進剤は、例えば特開昭６１−２４３８３７号などに
記載されている。特開昭５７−５００８３３号にはポリ
エトキシル化リン酸エステルが剥離促進剤として開示さ
れている。特開昭６１−６９８４５号には非エステル化
ヒドロキシ基が遊離酸の形であるモノまたはジリン酸ア
ルキルエステルをセルロースエステルに添加することに
より迅速に剥離できることが開示されている。また、特
開平１−２９９８４７号には非エステル化ヒドロキシル
基およびプロピレンオキシド鎖を含むリン酸エステル化
合物と無機物粒子を添加することにより剥離荷重が低減
できることが開示されている。

【００３３】（劣化防止剤）さらに、劣化防止剤（例え
ば、酸化防止剤, 過酸化物分解剤, ラジカル禁止剤，金
属不活性化剤，酸捕獲剤，アミンなど）や紫外線防止剤
をドープに添加してもよい。これらの劣化防止剤や紫外
線防止剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特
開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同
５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１
０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４
３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同
７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９
５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記
載がある。これらの添加量は、セルロースアシレート溶
液中において、セルロースアシレートに対して０．００
１〜５重量％含有するように調製することが好ましい。
添加量が０．００１重量％未満であると、劣化防止剤の
効果がほとんど認められない。添加量が５重量％を超え
ると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト
（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣
化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン
（ＢＨＴ）を挙げることができる。

【００３４】（レターデーション上昇剤）また、光学異
方性をコントロールするためのレターデーション上昇剤
も、ドープに添加してもよい。それらは、セルロースア
シレートフイルムのレターデーションを調整するため、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレタ
ーデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳
香族化合物は、セルロースアシレート１００重量部に対
して、０．０１〜２０重量部の範囲で使用する。芳香族
化合物は、セルロースアシレート１００重量部に対し
て、０．０５〜１５重量部の範囲で使用することが好ま
しく、０．１〜１０重量部の範囲で使用することがさら
に好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよ
い。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に
加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

【００３５】芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、
ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、５員環、６員環または７員環であることが好まし
く、５員環または６員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘ
テロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子
が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ
環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オ
キサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イ
ソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラ
ザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリ
ダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５
−トリアジン環が含まれる。

【００３６】［ドープの調製］（膨潤工程）ドープ調製ラインを図１に示す。ドープの
調製は、前記セルロースアシレート粒子と溶媒とをタン
ク１１に注入した後に混合し、セルロースアシレート粒
子を溶媒により膨潤させる膨潤工程を始めに行う。膨潤
工程の温度は、−１０〜５５℃であることが好ましい。
通常は室温で実施する。セルロースアシレートと溶媒と
の比率は、最終的に得られる溶液の濃度に応じて決定す
る。一般に、混合物中のセルロースアシレートの量は、
５〜３０重量％であることが好ましく、８〜２０重量％
であることがさらに好ましく、１０〜１５重量％である
ことが最も好ましい。溶媒とセルロースアシレートとの
混合物（以下、この混合物をドープ１２と称する）は、
セルロースアシレートが充分に膨潤するまで撹拌翼１３
で攪拌することが好ましい。また、膨潤工程において、
溶媒とセルロースアシレート以外の成分、例えば、前述
した添加剤、例えば可塑剤、劣化防止剤、染料や紫外線
吸収剤などを添加してもよい。そして、ドープ１２は、
ポンプ１４によりバルブ１５を介して加熱用タンク１６
に送液される。

【００３７】（加熱工程）次に、上記ドープ１２を加熱
用タンク１６において１２０℃以上に加熱する加熱工程
を行う。加熱温度は、１３０℃以上が好ましく、より好
ましくは１６０℃以上、最も好ましくは１８０℃以上で
ある。しかしながら、２５０℃を超えると、ドープ中の
セルロースアシレートの分解が生じるため、フイルムの
品質が損なわれ、好ましくない。この場合において、加
熱速度は、１℃／分以上であることが好ましく、２℃／
分以上であることがより好ましく、４℃／分以上である
ことがさらに好ましく、８℃／分以上であることが最も
好ましい。加熱速度は、速いほど好ましいが、１０００
０℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術
的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限で
ある。なお、加熱速度とは、加熱を開始する時の温度と
最終的な加熱温度との差を、加熱開始時から最終的な加
熱温度に達するまでの時間で割った値である。加熱方法
は、オートクレーブ方式、多管式熱交換器、スクリュー
押し出し機、スタティックミキサなどのいずれの方法で
あっても良い。

【００３８】また、加熱時間は、２０秒以上４時間以下
が好ましい。加熱時間が２０秒に満たない場合、加熱溶
解したドープに不溶解物が残存して高品質なフイルムを
作成することができない。また、この不溶解物を濾過に
より取り除く場合でも、濾過寿命が極端に短くなること
により不利である。加熱時間の始期は、目的温度に達し
たときから測定するものとし、終期は、目的温度から冷
却を開始したときとする。なお、装置の冷却は、自然冷
却であっても良いし、強制的な冷却であっても良い。

【００３９】（マイクロ波照射）本発明において、ドー
プ１２の加熱をマイクロ波照射により行うことで、より
均一かつ効率良くドープを調製できる。この際に、ドー
プ１２を撹拌翼１７で撹拌しながらマイクロ波を照射す
ることが、より好ましい。マイクロ波とは、波長が非常
に短い周波数の電磁波を意味し、通常、３００ＭＨｚ〜
３ＧＨｚの周波数帯をいうが、はっきりと決まった周波
数帯ではない。一般にマイクロ波は、マグネトロン、ク
ライストロンなどの装置により発生させることができ
る。図１に示したマイクロ波発生装置１７から発生され
るマイクロ波の周波数は、溶媒とセルロースアシレート
との両者の分子が運動しやすい周波数を選ぶことが必要
である。好ましくは、９００〜３０００ＭＨｚの周波数
のマイクロ波をドープに照射することである。しかしな
がら、通常は電波法やマイクロ波電子管の制約により２
４５０ＭＨｚの周波数のマイクロ波発生装置１８が一般
的である。ただし、他の電子機器（例えば、通信装置）
などへの影響がなければ９１５ＭＨｚの周波数のマイク
ロ波を用いることもできる。

【００４０】マイクロ波発生装置１８で発生したマイク
ロ波は、導波管１９を通り加熱用タンク１６を照射す
る。マイクロ波の照射時間は、２０秒〜１２０分である
ことが好ましい。２０秒未満であると、加熱用タンク１
６の壁面のみが加熱されるだけで中に注入されているド
ープ１２が加熱しないため好ましくない。また、１２０
分を超えると、フイルム製造において実用的でないばか
りでなく、ドープを構成している成分の変性を招く恐れ
があり好ましくない。また、マイクロ波の強度は、加熱
用タンク１６のサイズ、ドープを構成している成分など
により決定される。なお、図１には、マイクロ波発生装
置１８で発生したマイクロ波を導波管１９を通して加熱
用タンク１６に照射している実施形態を示したが、本発
明はこの形態に限定されない。例えば、加熱用タンク１
６とマイクロ波発生装置１８とが一体として構成されて
いる加熱装置であれば、必ずしも導波管１９は必要では
ない。

【００４１】図１に示したドープ調製ラインでは、ドー
プの加熱をマイクロ波の照射のみで行っているが、前述
した従来の加熱方法とマイクロ波加熱法を併用すること
も可能である。この際には、従来の加熱法とマイクロ波
加熱法によるドープの加熱は、その順番はどちらでも良
い。すなわち、従来の加熱法で加熱した後にマイクロ波
加熱を行っても良いし、マイクロ波加熱の後に従来の加
熱法で加熱しても良い。さらには、従来の加熱法と同時
にマイクロ波加熱を行う方法であっても良い。

【００４２】図１には、ドープ１２を加熱用タンク１６
に注入した後にマイクロ波を照射するいわゆるバッチ式
処理によって加熱する実施形態を示した。しかし、図２
に示すように加熱用配管２４に連続的にドープ１２を通
過させバルブ２５で圧力を制御しながら、その加熱用配
管２４に連続的にマイクロ波を照射する連続式（コンベ
アオーブン式）照射法を用いることも本発明では可能で
ある。

【００４３】（加圧工程）加熱用タンク１６には、ドー
プ１２が発泡しないように圧力を調整する加圧装置２０
が取り付けられていても良い。加圧することによって、
ドープの発泡を防止して、均一なドープを得ることがで
きる。この時、加圧する圧力は、加熱温度と溶媒の沸点
との関係で決定する。

【００４４】（冷却工程）ドープ１２は、加熱用タンク
１６から冷却機２１に送られ常温に戻される。この際、
バルブ２２の開閉具合により、圧力を調整することも本
発明においてドープの調製に有効である。冷却機２１で
は、光学的性質が良好なフイルムを得るためにドープ１
２を−１００〜−１０℃に冷却する。常温で容易に溶解
し得ない系と、不溶解物の多くなる系では、冷却または
加熱あるいは両者を組み合わせて用いると、冷却すると
セルロースアシレート中に溶媒を急速かつ有効に浸透せ
しめることができ溶解が促進されるため、良好なドープ
を調製できる。冷却工程においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器（図示しない）を用
いることが望ましい。また、冷却時に減圧すると、冷却
時間を短縮することができる。減圧を実施するために
は、耐圧性容器を用いることが望ましい。また、この冷
却工程は、加熱工程の前に実施することも本発明におい
て有効である。なお、溶解が不充分である場合は、冷却
工程から加熱工程までを繰り返して実施してもよい。溶
解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観
察して判断できる。

【００４５】冷却機２１の具体的な冷却手段としては、
様々な方法または装置が採用できる。例えば、冷却機２
１は、スクリュー押出し機と熱交換器とから構成されて
いるものが挙げられる。この場合、ドープ１２をスクリ
ュー押出し機により冷却しつつ、熱交換器に送液する。
スクリュー押出し機は、ジャケットとフライトとスクリ
ューとを有しており、ジャケット内にはドープを冷却す
るために冷媒を流通させている。熱交換器ではドープ１
２がさらに冷却され、リザーブタンク２３に溜まる。冷
却機２１から送液されたドープ１２をリザーブタンク２
３に溜める前に、濾過装置（図示しない）により、ドー
プ１２中に残存した不純物を取り除いておくことは、以
下に説明するフイルム製膜において、良好な品質のフイ
ルムを得るために好ましい。濾過装置には、公知のいず
れの装置を利用することができる。

【００４６】［フイルム製膜］図３は本発明に係る溶液
製膜方法を実施するためのセルロースアシレートフイル
ムの製膜ラインの一実施形態を示している。図１に示し
た方法により、調製されたドープ１２がストックタンク
３１内に供給されている。ストックタンク３１内のドー
プ１２は、定量ポンプ３２によって一定の流量で流延ダ
イ３３に送られる。この時、ドープ１２は、定量ポンプ
３２と流延ダイ３３との間に設けられた濾過装置３４に
よって不純物が除去される。なお、添加剤３５が注入さ
れているタンク３６から添加剤３５がポンプ３７により
ドープ１２中に供給され、スタティックミキサ３８によ
り均一化される装置を備えていても良い。

【００４７】ドープ１２は、流延ダイ３３から流延ベル
ト３９上に流延される。流延ベルト３９は、ローラ４
０，４１に掛け渡され、図示しない駆動装置により駆動
回転している。ドープ１２は、流延時において剪断速度
５００（ｓｅｃ^-1）の剪断粘度が５００ポイズ以下にな
るように調製されていることが好ましい。ドープ１２の
剪断粘度が５００ポイズ以下であると、ドープ１２が流
延ダイ３３から流延ベルト３９に流延される際に形成す
る流延ビードを安定して維持できる。

【００４８】また、この流延ビードを安定して維持する
ため、ドープ１２の沸点より３℃以上低い温度のドープ
を流延することが、流延時に発生する皮張りの発生を抑
制する点から好ましい。さらに、流延ベルト３９の温度
が、ドープ１２の沸点より１０℃以上低い温度に調整さ
れていると、流延ベルト３９上でドープ１２から溶媒が
急激に揮発して、フイルムの品質を劣化させる現象を抑
制できる。このため、流延ベルト３９には、流延ベルト
温度調節装置４３が取り付けられ、流延ベルト３９の温
度を調整できることが好ましい。流延ベルト温度調節装
置４３には、公知の装置のいずれをも利用出来るが、例
えば、ローラ４０，４１にヒータが内蔵されているもの
などが挙げられる。

【００４９】流延ベルト３９上で、徐々に溶媒が揮発す
るとフイルム４４が形成される。フイルム４４は、剥ぎ
取りローラ４５により剥ぎ取られ、テンタ乾燥機４６に
導入され、両端が保持され張力が与えられつつ乾燥す
る。さらにフイルム４４は、多数のローラ４７が備えら
れた乾燥ゾーン４８でさらに乾燥された後に冷却ゾーン
４９を通過して常温まで冷却される。その後に耳切装置
５０で製品フイルム幅になるようにフイルム４４の耳切
りが行われる。最後に、ナーリング付与装置５１により
ナーリングとマーキングが施され、巻き取り機５２でフ
イルム４４は巻き取られる。

【００５０】得られたフイルム４４から、エタノールと
塩化メチレンの混合溶液（混合比は、エタノール：塩化
メチレン１０：９０の重量比）にフイルムが６重量％含
まれるような溶液（以下、６％溶液）を作成する。本発
明において、この６％溶液の２５℃での粘度が９５０ｃ
Ｐ以下になるように、前述したドープ調製及びフイルム
製膜を行うことが、このフイルムから後述する偏光板等
の各種製品を製造した際に、それら各製品の品質の点か
ら好ましい。

【００５１】また、図３に示した実施形態においては、
テンタ乾燥機４６及び多数のローラ４７が備えられた乾
燥ゾーン４８によってフイルム４４を乾燥する製膜ライ
ンを示して説明した。しかしながら、本発明において
は、フイルム４４の乾燥にマイクロ波を用いた乾燥方法
を適用することも可能である。照射するマイクロ波は、
先にドープ調製における加熱工程で説明したと同様に、
フイルム４４に含まれるポリマーと溶媒との両分子が運
動しやすい周波数を選択することが必要である。本発明
においては、周波数９００〜３０００ＭＨｚのマイクロ
波をフイルムに照射し、フイルム中の溶媒を揮発させる
ことが好ましい。マイクロ波の強度及び照射時間は、フ
イルム表面の劣化などが生じない範囲から選択する必要
がある。

【００５２】［製品］上記製膜方法で得られたフイルム
は、偏光板保護膜として用いることができる。この偏光
板保護膜をポリビニルアルコールなどから形成された偏
光膜の両面に貼付することで偏光板を形成できる。さら
に、上記フイルム上に光学補償シートを貼付した光学補
償フイルム、防眩層をフイルム上に形成した反射防止膜
などの光機能性膜として用いることもできる。これら製
品からは、液晶表示装置の一部を構成することも可能で
ある。

【００５３】また、本発明の溶液製膜方法は、２種類以
上のドープを調製して同時重層塗布する共流延法にも適
用が可能である。例えば、同時３層塗布においてフイル
ムを形成する場合、内層用のドープにはセルロースアシ
レートを多めに含有させ、内層の表面と裏面に形成され
る外層用のドープには、内層用のドープと比較してセル
ロースアシレートを少なめに含有させる。これらドープ
を共流延法により塗布して形成されたフイルムは平面
性、透明性、成形加工性が良好になる。しかしながら本
発明の溶液製膜法における共流延法は、この態様に限定
されず、同時２層塗布等にも適用可能である。

【００５４】

【実施例】以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。各実施例及び比較例における
セルローストリアセテート溶液（ドープ）、セルロース
トリアセテート及び得られたフイルムの化学的性質およ
び物理的性質は、以下のように測定および算出した。測
定結果については、後に表１（溶液）、表２（セルロー
ストリアセテート）及び表３（フイルム）にまとめて示
す。

【００５５】［溶液の測定］（１）溶液の安定性得られた溶液またはスラリーの状態を常温（２３℃）で
静置保存したまま観察し、以下のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの４段
階に評価した。Ａ：２０日間経時でも透明性と液均一性を示す。Ｂ：１０日間経時まで透明性と液均一性を保持している
が、２０日で少し白濁が見られる。Ｃ：液作成終了時では透明性と均一な液であるが、一日
経時するとゲル化し不均一な液となる。Ｄ：液は膨潤・溶解が見られず不透明性で不均一な溶液
状態である。

【００５６】（２）溶液粘度の測定方法得られた溶液を２５℃の条件下でオストワルド粘度計に
より測定した。

【００５７】（３）６％粘度の測定方法エタノールと塩化メチレンとの混合溶液（混合比は、エ
タノール：塩化メチレンを重量比で１０：９０に調製す
る）に、フイルムを６重量％溶解した（以下、この溶液
を６％溶液と称する）。この６％溶液の粘度を、２５℃
の条件下でオストワルド粘度計によって測定した値を６
％粘度と規定する。

【００５８】（４）酢酸量の測定方法フイルムを塩化メチレンに溶解し、さらにメタノールを
加えて再沈殿を行った。上澄み液をろ過し、その上澄み
液をガスクロマトグラフィーにて測定し、酢酸量を算出
した。

【００５９】［セルローストリアセテートの測定］（５）セルローストリアセテートの酢化度（％）の測定
方法酸化度はケン化法により測定した。乾燥したセルロース
トリアセテートを精秤し、アセトンとジメチルスルホキ
シドとの混合溶媒（容量比４：１）に溶解した後に、所
定量の１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を添加し、２５℃
で２時間ケン化した。フェノールフタレインを指示薬と
して添加し、１Ｎ−硫酸（濃度ファクター：Ｆ）で過剰
の水酸化ナトリウムを滴定した。また、上記と同様の方
法により、ブランクテストを行った。そして、下記式に
従って酢化度（％）を算出した。酢化度（％）＝（６．００５×（Ｂ−Ａ）×Ｆ）／Ｗ式中、Ａは試料の滴定に要した１Ｎ−硫酸量（ｍｌ）、
Ｂはブランクテストに要した１Ｎ−硫酸量（ｍｌ）、Ｆ
は１Ｎ−硫酸のファクター、Ｗは試料重量（ｇ）を示
す。

【００６０】（６）セルローストリアセテートの平均分
子量の測定方法ゲル濾過カラムに、屈折率、光散乱を検出する検出器を
接続した高速液体クロマトグラフィーシステム（ＧＰＣ
−ＬＡＬＬＳ）を用い、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平
均分子量（Ｍｎ）を測定した。測定条件は以下にまとめ
て示す。溶媒：メチレンクロリドカラム：ＧＭＨ×１（東ソー（株）製）試料濃度：０．１ｗ／ｖ％流量：１ｍｌ／ｍｉｎ試料注入量：３００μｌ標準試料：ポリメタクリル酸メチル（Ｍｗ＝１８８，２
００）温度：２３℃

【００６１】（７）セルローストリアセテートの粘度平
均重合度（ＤＰ）の測定方法絶乾したセルローストリアセテート約０．２ｇを精秤
し、メチレンクロリド：エタノール＝９：１（重量比）
の混合溶媒１００ｍｌに溶解した。これをオストワルド
粘度計にて２５℃で落下秒数を測定し、平均重合度（Ｄ
Ｐ）を以下の式により求めた。 ηrel ＝Ｔ／Ｔ０［η］＝ｌｎ（ηrel ）／ＣＤＰ＝［η］／Ｋｍ上記式中で、Ｔは測定試料の落下秒数、Ｔ０は溶剤単独
の落下秒数、Ｃは試料濃度（ｇ／ｌ）、Ｋｍは定数（６
×１０^-4）をそれぞれ示している。

【００６２】［フイルムの測定］（８）フイルム面状フイルムを目視で観察し、その面状を以下の４段階に評
価した。Ａ：フイルム表面は平滑である。Ｂ：フイルム表面は平滑であるが、少し異物が見られ
る。Ｃ：フイルム表面に弱い凹凸が見られ、異物の存在がは
っきり観察される。Ｄ：フイルムに凹凸が見られ、異物が多数見られる。

【００６３】（９）フイルムの耐湿熱性試料１ｇを折り畳んで１５ｍｌ容量のガラス瓶に入れ、
温度９０℃、相対湿度１００％条件下で調湿した後、密
閉した。これを９０℃で経時して１０日後に取り出し
た。フイルムの状態を目視で確認し、以下の４段階に判
定をした。Ａ：特に異常が認められないＢ：かすかな分解臭が認められるＣ：かなりな分解臭が認められるＤ：分解臭と分解による形状の変化が認められる

【００６４】（１０）フイルムのレターデーション（Ｒ
ｅ）値の測定方法エリプソメーター（偏光解析計ＡＥＰ−１００：島津製
作所（株）製）を用いて、波長６３２．８ｎｍにおける
フイルム面に垂直方向から測定した正面レターデーショ
ン値を求めた。

【００６５】（１１）フイルムのヘイズの測定方法ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を
用いて測定した。

【００６６】［実施例１］（１−１）セルローストリアセテート溶液の作成下記の組成でセルローストリアセテート溶液を作成し
た。下記の溶媒をあらかじめ混合した溶液に、よく攪拌
しつつセルローストリアセテート粉体（平均サイズ２ｍ
ｍ）を徐々に添加した。添加後、室温（２５℃）で３時
間放置したところ不均一なゲル状物が得られた。セルローストリアセテート（平均酢化度５９．７％、粘度平均重合度３００）１３重量部酢酸メチル６８重量部エタノール１２．８重量部ブタノール４．３重量部トリフェニルフォスフェート／ビフェニルジフェニルフォスフェートの１：２混合物１．６重量部シリカ（粒径２０ｎｍ）０．１重量部２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン０．２重量部溶剤として用いた酢酸メチル、エタノール、ブタノール
中の水分含量はいずれも０．５％以下であった。

【００６７】溶解方法は、得られた不均一なゲル状物を
ガラス製耐圧容器に入れ、良く攪拌しつつ、２４５０Ｍ
Ｈｚのマイクロ波発生装置により、５００Ｗで２０分照
射した。マイクロ波照射停止後、攪拌を継続しつつ内温
を５０℃とした。このような方法で５０℃のポリマー溶
液（Ｓ−１）を得た。

【００６８】次に得られたポリマー溶液を５０℃で、絶
対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃
６３）で濾過し、さらに絶対濾過精度０．００２５ｍｍ
の濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）で濾過した。

【００６９】（１−２）セルローストリアセテートフイ
ルムの作成（１−１）で作成したセルローストリアセテート溶液
を、ガラス板上に乾燥膜厚が８０μｍになるように流延
した。乾燥は７０℃で３分、１３０℃で５分した後に、
ガラス板からフイルムを剥ぎ取り、そして１４０℃、３
０分で段階的に乾燥して溶剤を蒸発させセルローストリ
アセテートフイルム（Ｆ−１）を得た。

【００７０】［実施例２］酢酸メチルを同重量のアセト
ンに変更した以外は実施例１と同一条件でポリマー溶液
（Ｓ−２）を作成した。さらにこのポリマー溶液から実
施例１と同一条件でフイルム（Ｆ−２）を作成した。

【００７１】［実施例３］サンプルを−７０℃の冷凍庫
に１２時間保冷した後に、マイクロ波を照射して５０℃
に加温して溶液（Ｓ−３）を作成した。他の条件は実施
例１と同一条件で行った。さらにこの溶液から実施例１
と同一条件でフイルム（Ｆ−３）を作成した。

【００７２】［実施例４］サンプルを−７０℃の冷凍庫
に１２時間保冷した後に、マイクロ波を照射して５０℃
に加温して溶液（Ｓ−４）を作成した。他の条件は実施
例２と同一条件で行った。さらにこの溶液から実施例２
と同一条件でフイルム（Ｆ−４）を作成した。

【００７３】［比較例１−１］マイクロ波照射をしない
以外は実施例１と同一条件でポリマー溶液の作成を試み
たが、ゲル状物であり溶液は得られなかった。

【００７４】［比較例１−２］マイクロ波照射をしない
以外は実施例２と同一条件でポリマー溶液の作成を試み
たが、ゲル状物であり溶液は得られなかった。

【００７５】フイルム（Ｆ−１）を用いてＷＶフイルム
（ワイドビューフィルム：視野角拡大を可能としたフィ
ルム）を作成した。このＷＶフイルムをＬＣＤに組み込
んだところ、視野角の拡大が確認できた。

【００７６】［実施例５］下記の組成比でセルロースト
リアセテート溶液を作成した。下記の溶媒をあらかじめ
混合した溶液に、よく攪拌しつつセルローストリアセテ
ート粉体（平均サイズ２ｍｍ）を徐々に添加した。添加
後、室温（２５℃）で３時間放置したところ、ゲル状物
が得られた。セルローストリアセテート（平均酢化度６０．９％、粘度平均重合度３００）１３重量部酢酸メチル６８重量部アセトン７．６重量部メタノール５重量部ブタノール４．３重量部トリフェニルフォスフェート／ビフェニルジフェニルフォスフェートの１：２混合物１．６重量部シリカ（粒径２０ｎｍ）０．１重量部２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン０．２重量部ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤０．２重量部

【００７７】溶解方法は、得られた不均一なゲル状物を
ガラス製耐圧容器に入れ、窒素ガスにより容器内の圧力
が常時２Ｍｐａに保ちつつ良く攪拌しつつ、２４５０Ｍ
Ｈｚのマイクロ波発生装置により、２５００Ｗで４０分
照射した。マイクロ波照射停止後、攪拌を継続しつつ内
温を１７０℃とした。このような方法で５０℃のポリマ
ー溶液（Ｔ−１）を得た。このポリマー溶液（Ｔ−１）
から実施例１と同一の条件で製膜し、サンプルフイルム
（Ｆ−５）を得た。ポリマー溶液（Ｔ−１）中の酢酸濃
度は２０ｐｐｍ以下であった。

【００７８】［比較例２］加熱方法がマイクロ波を照射
する代わりに容器の外部に設けられた電気ヒータにより
加熱する以外は実施例５と同一条件でポリマー溶液（Ｔ
−２）を得た。容器を加熱して内部の溶液の温度を短時
間で１７０℃にするためには容器の壁面温度を２００℃
まで上昇させる必要があった。ポリマー溶液（Ｔ−２）
からは１５０ｐｐｍの酢酸が検出されポリマー溶液中の
成分の劣化が生じたことが判った。

【００７９】［比較例３］実施例１と同条件の組成によ
り、マイクロ波を用いずに比較例２と同様な加熱方法に
より溶解した。その結果、ポリマー溶液から１２０ｐｐ
ｍの酢酸が検出された。

【００８０】［比較例４］実施例２と同条件の組成によ
り、マイクロ波を用いずに比較例２と同様な加熱方法に
より溶解した。その結果、ポリマー溶液から１８０ｐｐ
ｍの酢酸が検出された。

【００８１】［実施例６］実施例２と同一組成の成分を
溶媒中に分散させた後に、ガラス製耐圧容器に入れる代
わりにガラス製の耐圧配管に流通させながら２４５０Ｍ
Ｈｚのマイクロ波発生装置により、マイクロ波を２０分
間照射した。この際、配管内の圧力を２Ｍｐａに保持し
た。このように加熱溶解したポリマー溶液をジャケット
配管により連続的に冷却して５０℃の溶液を得た。この
ポリマー溶液（Ｔ−３）を用いて、実施例１と同一条件
で製膜し、サンプルフイルム（Ｆ−６）を得た。ポリマ
ー溶液（Ｔ−３）の酢酸の量は２０ｐｐｍ以下であっ
た。

【００８２】［実施例７］実施例５の実験で得られたポ
リマー溶液（Ｔ−３）を温度１２０℃でフラッシュ法に
より、固形分濃度を２０重量％まで濃縮した。この溶液
をポリマー溶液（Ｔ−４）とした。ポリマー溶液（Ｔ−
４）の５０℃における６％粘度は４５０ｃＰであり、剪
断速度５００（ｓｅｃ^-1）における粘度は２５０ポイズ
であった。また、ポリマー溶液（Ｔ−４）の酢酸量は２
０ｐｐｍ以下であった。このポリマー溶液（Ｔ−４）を
３５℃の支持体上に流延製膜して剥ぎ取り、実施例１と
同一条件で乾燥を行いフイルムサンプル（Ｆ−７）を得
た。

【００８３】

【表１】

【００８４】

【表２】

【００８５】

【表３】

【００８６】上記の各表に示したように、本発明の実施
例１から７によれば、安定性の高いセルローストリアセ
テート溶液が製造でき、この溶液中のセルローストリア
セテートは問題のない物性を有していた。また、これら
溶液より作成したフイルムは、良好な性能を有している
ことがわかった。一方、比較例１−１，１−２の組成物
はゲル状物であり、フイルムを作成できなかった。ま
た、比較例２から４の溶液中のセルローストリアセテー
トは、酢化度，分子量，重合度の低下が認めら、さらに
は、酢酸量が１００ｐｐｍを超えていた。これより製造
したフイルムには、面状，耐湿熱性に問題があった。ま
た、Ｒｅ値やヘイズもやや高めであり、透過度の低下も
認められた。

【００８７】［偏光板の作成方法］偏光板サンプルはポ
リビニルアルコールを延伸してヨウ素を吸着させた偏光
素子の両面に、各実施例で得られたフイルムをポリビニ
ルアルコール系接着剤により貼合し作成した。この偏光
板サンプルを６０℃、９０％ＲＨの雰囲気下で５００時
間暴露した。

【００８８】［偏光度の評価方法］分光光度計により可
視領域における並行透過率Ｙｐ、直行透過率Ｙｃを求め
次式に基づき偏光度Ｐを決定した。Ｐ＝√（（Ｙｐ−Ｙｃ）／（Ｙｐ＋Ｙｃ））×１００（％）フイルムサンプル（Ｆ−１）〜（Ｆ−７）のいずれにお
いても偏光度は９９．６％以上であり、十分な耐久性が
認められた。

【００８９】［反射防止膜の作成方法］さらに、フイル
ム（Ｆ−６）及び（Ｆ−７）を使って塗工による反射防
止膜を下記の手順により作成した。

【００９０】（防眩層用塗布液Ａの調製）ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフ
ェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）
１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘ
キサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒に溶解した。得
られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）５．０ｇおよび光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメ
チルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を
塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０
であった。

【００９１】さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポ
リスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学
（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパで５０００
ｒｐｍ、１時間攪拌および分散した後に、孔径３０μｍ
のポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層の塗布
液Ａを調製した。

【００９２】（防眩層用塗布液Ｂの調製）シクロヘキサ
ノン１０４．１ｇ、メチルエチルケトン６１．３ｇの混
合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら酸化ジルコニウ
ム分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７
８８６Ａ、ＪＳＲ（株）製）２１７．０ｇ、を添加し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６１であった。さらにこの溶液に平均粒径２
μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇを添加して、高速ディスパ
で５０００ｒｐｍ、１時間攪拌および分散した後に、孔
径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防
眩層の塗布液Ｂを調製した。

【００９３】（防眩層用塗布液Ｃの調製）ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）９１ｇ、酸化ジルコニウム分散物含有ハード
コート塗布液（デソライトＫＺ−７１１５、ＪＳＲ
（株）製）１９９ｇ、および酸化ジルコニウム分散物含
有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１６１、Ｊ
ＳＲ（株）製）１９ｇを、５２ｇのメチルエチルケトン
／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）１０ｇを加えた。この溶液
を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６
１であった。さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポ
リスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学
（株）製）２０ｇを８０ｇのメチルエチルケトン／シク
ロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に高速ディ
スパで５０００ｒｐｍ、１時間攪拌および分散した後に
分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリ
プロピレン製フィルターで濾過して防眩層の塗布液Ｃを
調製した。

【００９４】（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）紫外
線硬化性ハードコート組成物（デソライトＫＺ−７６８
９、７２重量％、ＪＳＲ（株）製）２５０ｇを６２ｇの
メチルエチルケトンおよび８８ｇのシクロヘキサノンに
溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化し
て得られた塗膜の屈折率は１．５３であった。さらにこ
の溶液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで
濾過してハードコート層の塗布液Ｄを調製した。

【００９５】（低屈折率層用塗布液の調製）屈折率１．
４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＴＮ−０４９、ＪＳ
Ｒ（株）製）２００９３ｇにＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１
０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ₂ゾルの
ＭＥＫ分散物、日産化学（株）製）８ｇ、およびメチル
エチルケトン１００ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用
塗布液を調製した。

【００９６】実施例６で作成した８０μｍの厚さのセル
ローストリアセテートフイルム（Ｆ−６）に上記のハー
ドコート層用塗布液Ｄをバーコーターを用いて塗布し、
１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハラ
イドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、
照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍの
ハードコート層を形成した。その上に上記防眩層用塗布
液Ａをバーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート
層と同一条件で乾燥、紫外線硬化して、厚さ約１．５μ
ｍの防眩層を形成した。さらに、その上に上記低屈折率
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾
燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．
０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００９７】次に実施例６のフイルム（Ｆ−６）を用い
て、防眩層用塗布液Ａを防眩層用塗布液Ｂに代え、その
他の条件は同じにした反射防止膜を作成した。さらに、
防眩層用塗布液Ａを防眩層用塗布液Ｃに代え、その他の
条件は同じにした反射防止膜も作成した。

【００９８】実施例７のフイルム（Ｆ−７）からも、防
眩層用塗布液Ａ，Ｂ，Ｃを１つずつ用いて前述した反射
防止膜の作成条件を同じにしてそれぞれの反射防止膜を
作成した。

【００９９】［反射防止膜の評価方法］前述した作成方
法で、実施例６のフイルム（Ｆ−６）に防眩層Ａ，Ｂ，
Ｃをそれぞれ塗工した反射防止膜及び実施例７のフイル
ム（Ｆ−７）に防眩層Ａ，Ｂ，Ｃをそれぞれ塗工した反
射防止膜、合計６種類の反射防止膜について以下の項目
の評価を行った。以下の評価方法から得られた結果につ
いては後に表４にまとめて示す。

【０１００】（１）鏡面反射率及び積分反射率分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプタ
ーＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波
長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡
面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を
算出し、反射防止性を評価した。鏡面反射率は、１．５
％以下であれば、実用上問題がない。また、積分反射率
は、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダ
プターＩＬＶ−４７１を装着して、３８０〜７８０ｎｍ
の波長領域において、入射角５°における積分反射率を
測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出した。
積分反射率は、１．５％以下であれば、実用上問題がな
い。

【０１０１】（２）色味さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光
源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表わす
ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、
ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価した。色味は、そ
れぞれの空間においてＬ＊が０〜１５、ａ＊が０〜＋２
０、ｂ＊が−３０〜０であれば、実用上問題がない。

【０１０２】（３）ヘイズ得られたフイルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。ヘイズは、１５％以下であれば実用上問題はな
い。

【０１０３】（４）鉛筆硬度評価耐傷性の指標としてＪＩＳＫ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳＳ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重で、ｎ
＝５の評価において傷が全く認められない（○）、ｎ＝
５の評価において傷が１または２つ（△）、ｎ＝５の評
価において傷が３つ以上（×）と評価を行った。

【０１０４】（５）接触角測定表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定し、指紋付着性の指標とした。接触角は、９０〜
１８０°であれば実用上問題がない。

【０１０５】（６）動摩擦係数測定表面滑り性の指標として動摩擦係数で評価した。動摩擦
係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した
後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφス
テンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎで
測定した値を用いた。動摩擦係数は、０．１５以下であ
れば実用上問題が生じない。

【０１０６】（７）防眩性評価作成した防眩性フイルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ²）を映し、その反射像のボケの
程度を、蛍光灯の輪郭が全くわからない（◎）、蛍光灯
の輪郭がわずかにわかる（○）、蛍光灯はぼけている
が、輪郭は識別できる（△）、蛍光灯がほとんどぼけな
い（×）の基準で評価した。

【０１０７】

【表４】

【０１０８】反射防止膜の評価の結果を示した表４から
実施例６のフイルム（Ｆ−６）、実施例７のフイルム
（Ｆ−７）を用いて作成した反射防止膜は、防眩性、反
射防止性に優れ、かつ色味が弱く、また、鉛筆硬度、指
紋付着性、動摩擦係数のような膜物性を反映する評価の
結果も良好であった。

【０１０９】次に、実施例１のフイルム（Ｆ−１）を用
いて防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用
いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成
したところ、外光の映り込みがないために優れたコント
ラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた
視認性を有し、指紋付も良好であった。

【０１１０】

【発明の効果】以上のように、本発明の溶液製膜方法に
よれば、ドープを作成する際にマイクロ波を照射して溶
液を作成するので、均一かつ効率よくポリマーと溶媒と
の混合物の加熱が可能となり、作成した溶液は均一で透
明になり、濾過性も向上する。このドープをから溶液製
膜方法で製造されたフイルムを用いて構成された偏光
板、偏光板保護膜、光学機能性膜、液晶表示装置は、光
学機能材料として高品質のものが得られる。さらには、
これら光学機能材料を用いたフラットパネルディスプレ
イが高い有用性を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るドープ調製ラインの実施形態を示
した図である。

【図２】本発明に係るドープ調製ラインの他の実施形態
の要部を示した図である。

【図３】本発明に係るフイルム製造ラインを示した図で
ある。

【符号の説明】

１１タンク１２ドープ１３，１７撹拌翼１４，３２，３７ポンプ１５，２２，２５バルブ１６加熱用タンク１８マイクロ波発生装置１９導波管２０加圧装置２１冷却機２３リザーブタンク２４加熱用配管３１，３６タンク３３流延ダイ３４濾過装置３５添加剤溶液３８スタティックミキサ３９流延ベルト４０，４１ローラ４３流延ベルト温度調節装置４４フイルム４５剥ぎ取りローラ４６テンタ乾燥機４７ローラ４８乾燥ゾーン４９冷却ゾーン５０耳切装置５１ナーリング付与装置５２巻き取り機

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB13 BB33 BB49 BB65 BC09 4F205 AA01 AB06 AB07 AB10 AB11 AC05 AH73 AR17 GA07 GB02 GB26 GC07 GE24 GE25 GF02 GF24 4J002 AB021 AB022 AD003 AE033 BB012 BB033 BC032 BC072 BD122 BD152 BE023 BG042 BG052 BG062 CC182 CC192 CF002 CG002 CL002 CM042 CP032 CP033 DE097 DE137 DG047 DG057 DJ017 DJ037 DJ047 EE036 EF058 EH018 EH076 EH126 EU176 EZ006 FD012 FD017 FD030 FD056 FD163 FD168 FD319 GQ00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリマーを溶媒に溶解または分散させた
ドープを流延ダイから流延支持体上に流延してフイルム
を製造する溶液製膜方法において、マイクロ波を照射して前記ドープを作成することを特徴
とする溶液製膜方法。
【請求項２】周波数が９００〜３０００ＭＨｚの範囲
であるマイクロ波を照射して、前記ドープを作成するこ
とを特徴とする請求項１に記載の溶液製膜方法。
【請求項３】マイクロ波を直接及び／または導波管を
通じて２０秒〜１２０分間マイクロ波を照射して前記ド
ープを作成することを特徴とする請求項１または２に記
載の溶液製膜方法。
【請求項４】前記溶媒とポリマーとの混合物を圧力制
御手段を有する配管内に連続して流通させながら、前記
マイクロ波を照射して前記ドープを作成することを特徴
とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の溶液製
膜方法。
【請求項５】前記溶媒とポリマーとの混合物を圧力制
御手段を有する容器に入れて、前記マイクロ波を照射し
てバッチ式に前記ドープを作成することを特徴とする請
求項１ないし３のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項６】前記ドープが、セルロースアシレート溶
液または分散物であり、かつ前記セルロースアシレート
の６位のアシル基置換度Ｘが残余の置換度Ｙとの関係に
おいて下記（１）の関係を満たすことを特徴とする請求
項１ないし５のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。Ｘ≧０．７，Ｘ＋Ｙ≧２．７１（１）
【請求項７】前記セルロースアシレートが、セルロー
ストリアセテートであることを特徴とする請求項６に記
載の溶液製膜方法。
【請求項８】前記セルローストリアセテートの酢化度
が、５９．０〜６２．５％であることを特徴とする請求
項７に記載の溶液製膜方法。
【請求項９】前記ドープが、セルロースアシレート溶
液または分散物であって、その溶媒が酢酸メチル、ケト
ン類及びアルコール類からなり、その溶媒比率が、酢酸
メチルが２０〜９０重量％、ケトン類が０〜６０重量
％、アルコール類が５〜３０重量％であることを特徴と
する請求項６ないし８のいずれか１つに記載の溶液製膜
方法。
【請求項１０】前記ドープが、セルロースアシレート
溶液または分散物であり、かつ、少なくとも一種の可塑
剤を前記セルロースアシレートに対して０．１〜２０重
量％含有していることを特徴とする請求項６ないし９の
いずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項１１】前記ドープが、セルロースアシレート
溶液または分散物であり、かつ、少なくとも一種の紫外
線吸収剤を前記セルロースアシレートに対して０．００
１〜５重量％含有していることを特徴とする請求項６な
いし１０のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項１２】前記ドープが、セルロースアシレート
溶液または分散物であり、かつ、少なくとも一種の微粒
子粉体を前記セルロースアシレートに対して０．００１
〜５重量％含有していることを特徴とする請求項６ない
し１１のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項１３】前記ドープが、セルロースアシレート
溶液または分散物であり、かつ少なくとも一種の離型剤
を前記セルロースアシレートに対して０．００１〜２重
量％含有していることを特徴とする請求項６ないし１２
のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項１４】前記ドープが、セルロールアシレート
溶液または分散物であり、かつ、少なくとも一種のフッ
素系界面活性剤を前記セルロースアシレートに対して
０．００２〜２重量％含有していることを特徴とする請
求項６ないし１３のいずれか１つに記載の溶液製膜方
法。
【請求項１５】前記ドープが、セルロースアシレート
溶液または分散物であり、かつ、少なくとも一種の劣化
防止剤を前記セルロースアシレートに対して０．００１
重量％〜５重量％含有していることを特徴とする請求項
６ないし１４のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項１６】セルロースアシレート溶液または分散
物を１２０℃以上の温度で処理することを特徴とする請
求項６ないし１５のいずれか１つに記載の溶液製膜方
法。
【請求項１７】１２０℃以上に保つ時間が２０秒以上
かつ４時間以下であることを特徴とする請求項１６に記
載の溶液製膜方法。
【請求項１８】セルロースアシレート溶液または分散
物をその到達最高温度において発泡させないように加圧
することを特徴とする請求項６ないし１７のいずれか１
つに記載の溶液製膜方法。
【請求項１９】セルロースアシレート溶液または分散
物を加熱前または加熱後に−１００〜−１０℃に冷却す
ることを特徴とする請求項１６ないし１８のいずれか１
つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２０】前記ドープに含まれる酢酸量が２０ｐ
ｐｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし１９の
いずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２１】前記フイルムの６％溶液の粘度が９５
０ｃＰ以下であることを特徴とする請求項１ないし２０
のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２２】前記流延ダイから流延支持体に流延す
る際に、剪断速度５００（ｓｅｃ^-1）における剪断粘度
が５００ポイズ以下であることを特徴とする請求項１な
いし２１のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２３】前記流延ダイから流延支持体に流延す
る際に、前記ドープの温度が前記溶液の沸点よりも３℃
以上低いことを特徴とする請求項１ないし２２のいずれ
か１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２４】前記流延支持体の表面温度が、前記溶
液の沸点よりも１０℃以上低いことを特徴とする請求項
１ないし２３のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２５】前記ドープを流延する際に、２種類以
上のドープを共流延することを特徴とする請求項１ない
し２４のいずれか１つに記載の溶液製膜方法。
【請求項２６】前記フイルムを乾燥する際に、周波数
９００〜３０００ＭＨｚのマイクロ波を照射することを
特徴とする請求項１ないし２５のいずれか１つに記載の
溶液製膜方法。
【請求項２７】請求項１ないし２６のいずれか１つに
記載の溶液製膜方法で製造されたフイルム。
【請求項２８】請求項１ないし２６のいずれか１つに
記載の溶液製膜方法で製造されたフイルムを用いて構成
されたことを特徴とする偏光板。
【請求項２９】請求項１ないし２６のいずれか１つに
記載の溶液製膜方法で製造されたフイルムを用いて構成
されたことを特徴とする偏光板保護膜。
【請求項３０】請求項１ないし２６のいずれか１つに
記載の溶液製膜方法で製造されたフイルムを用いて構成
されたことを特徴とする光学機能性膜。
【請求項３１】請求項１ないし２６のいずれか１つに
記載の溶液製膜方法で製造されたフイルムを用いて構成
されたことを特徴とする液晶表示装置。