JP4965563B2 - 架橋性セルロースエステル組成物およびそれから形成されるフィルム - Google Patents
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Description
キャスト工程は、上記のドープ組成物を加圧型の計量ギアポンプを経て加圧ダイに搬送し、そして該加圧ダイから、キャスト位置のキャスト用支持体(例えば走行しているエンドレス金属ベルトまたは回転している金属ドラム)の上にキャストするものである。キャスト用支持体の表面は典型的には鏡面様である。
Ro=(nx−ny)×フィルム厚み
により規定される。
Rt=[(nx+ny)/2−nz]×フィルム厚み
により規定される。
溶媒蒸発工程は、ウェブ(フィルム)が支持体上でキャストのために加熱され、そして溶媒が蒸発するものである。溶媒蒸発方法としては、ウェブ側からの空気の吹き付け、および/または液体を用いた支持体と逆の表面からの加熱が挙げられる。好適な他の溶媒蒸発方法としては、熱放射を用いた両面の加熱がある。これらのうち、逆表面液体加熱方法は乾燥効率が高いため好ましい。これらの方法を組み合わせることもできる。キャストウェブは(好ましくは支持体上で)温度約30℃から約100℃で乾燥される。ウェブをこれらの温度まで加熱することは、好ましくは、該温度を有する空気を用いてまたは赤外線ヒーターを経て実施される。
ウェブは、好ましくは、ウェブが代わりに互い違いのローラを経て移送される乾燥装置を経て乾燥される。または、クリップを用いてウェブの両縁が保持されつつ該ウェブが移送されるテンター装置で乾燥を達成できる。乾燥工程において、ウェブを移送するための移送張力は、好ましくは、残留溶媒量が約5質量%未満になるまで低くされる。
光学的に2軸の配向を得るために、任意の公知の方法を用いることができる。好ましい方法では、溶媒がフィルム中にまだ存在している間にフィルムの延伸を行う。すなわち、ウェブ(フィルム)がキャスト支持体から剥離されている間、約1.0から約4.0、より好ましくは約1.01から約6.0、およびさらにより好ましくは約1.1から約3.5の係数で少なくとも1方向にこれが延伸される。延伸中、ウェブ中には、100質量%とされるフィルム中の固形分を基にして約10から約100質量%、好ましくは約10から約50質量%、およびより好ましくは約20から約40質量%のレベルで残留溶媒が存在する。ウェブ中の残留溶媒量が過度に大きい場合、延伸効果が得られない。一方、残留溶媒量が過度に小さい場合、延伸が顕著に困難になってウェブが損傷することがある。さらに、延伸係数が過度に小さい場合には十分な位相差を得ることが困難であり、そして延伸係数が過度に大きい場合には延伸が困難になってウェブが損傷することがある。延伸中の温度は、好ましくは約25℃から約160℃である。
フィルムの残留溶媒量が上記のレベルになった後、フィルムは、典型的にはその後の使用のためにスプールの周りに巻取られる。任意の従来の巻取方法を使用でき、そして巻取方法の例としては、定トルク法、定張力法、テーパー張力法、および一定の内部応力を有するようにプログラムされた方法が挙げられる。
ある態様において、本発明のフィルムは、これらの良好な気化水分浸透および寸法安定性に鑑み、好ましくは液晶ディスプレイ(LCD)の一部(例えば偏光板保護フィルム)として用いられる。本発明のフィルムを用いた偏光板は、任意の従来の方法に従って作製できる。例えば、光学またはセルロースフィルムをアルカリ鹸化し、そして得られる併用フィルムを、水性の完全に鹸化されたポリビニルアルコール溶液を介して偏光フィルムの両面に接着させる方法がある。偏光フィルムは、典型的には、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素液中に浸漬し、そして得られたフィルムを延伸することにより作製される。アルカリ鹸化は、フィルムの水性接着剤への濡れ性を向上させ、およびフィルムに良好な接着を与えるために、光学またはセルロースフィルムを環境温度より上(例えば、約30℃から約50℃)で約60秒間強アルカリ溶液中に浸漬する処理をいう。
以下の例は本発明に関する好ましい方法を説明する。しかしこれらの例は実例の目的で与えられ、そしてこのうちのいずれも本発明の範囲全体の限定ととるべきでないことを理解すべきである。
1.ドープ組成物の調製
表1で説明するドープ組成物を、密閉容器に入れて60℃に加熱する。セルロースアセテートプロピオネート(CAP)を攪拌しながら完全に溶解させてドープを得る。溶解に必要な時間は4時間である。ドープ組成物をろ過し、そして、35℃に維持した状態で、30℃に維持されたステンレススチールバンド支持体上に均一にキャストする。
この例のパート1で作製したフィルムサンプルの各々に対して、水酸化ナトリウム2.5mol/L水溶液中、40℃で60秒間アルカリ処理を行い、そして水で3分間洗浄して鹸化層を形成し、アルカリ処理フィルムを作製する。次に、ポリビニルアルコールフィルム(クラレ株式会社からPOVAL(登録商標)の名称で入手可能)を、1質量部のヨウ素と4質量部のホウ酸とを含む水溶液100質量部に浸漬し、そして50℃で4倍まで延伸して偏光フィルムを得た。偏光板サンプルは、水性(5質量%)の完全に鹸化されたポリビニルアルコールを接着剤として用いて偏光フィルムの両面の上に上記のアルカリ処理フィルムを積層することにより作製する。
1.ドープ組成物の調製
表2で説明するドープ組成物を、密閉容器に入れて60℃に加熱する。セルロースアセテートブチレート(CAB)を攪拌しながら完全に溶解させてドープを得る。溶解に必要な時間は4時間である。ドープ組成物をろ過し、そして、35℃に維持した状態で、30℃に維持されたステンレススチールバンド支持体上に均一にキャストする。
この例のパート1で作製したフィルムサンプルの各々に対して、水酸化ナトリウム2.5mol/L水溶液中、40℃で60秒間アルカリ処理を行い、そして水で3分間洗浄して鹸化層を形成し、アルカリ処理フィルムを作製する。
1.ドープ組成物の調製
表3で説明するドープ組成物を、密閉容器に入れて70℃に加熱する。セルロースアセテートブチレート(CAB)を攪拌しながら完全に溶解させてドープを得る。溶解に必要な時間は4時間である。
遅延増加剤は、表4の含有成分を混合タンクに入れて各成分が溶解するまで攪拌することにより調製する。
艶消し剤溶液は、表5に示す含有成分を分散器に入れて各成分が溶解するまで攪拌することにより調製する。次に、この例のパート1で調製したドープ組成物95質量部、艶消し剤溶液1質量部、および遅延増加剤溶液4質量部を、均一になるまで混合する。次いで、この組成物をろ過し、そして、35℃に維持した状態で、30℃に維持されたステンレススチールバンド支持体上に均一にキャストする。
ドープは、これを剥離可能な程度に乾燥させた後にステンレスバンド支持体から剥離する。この時点でドープ中の残留溶媒は15%である。支持体から剥離された後、テンターを用いてフィルムを130℃で30%横延伸する。次いで、延伸された幅を維持した状態でフィルムを140℃で30秒間保持する。クリップを除去し、そしてフィルムを140℃で40分間乾燥および架橋させる。乾燥された光学補償フィルムはロール上に巻取られ、そして最終厚み50μmを有する。
1.ドープ組成物の調製
表6で説明するドープ成分を、密閉容器に入れて70℃に加熱する。セルローストリアセテート(CTA)を攪拌しながら完全に溶解させてドープを得る。溶解に必要な時間は4時間である。
遅延増加剤は、表7の含有成分を混合タンクに入れて各成分が溶解するまで攪拌することにより調製する。
艶消し剤溶液は、表8に示す含有成分を分散器に入れて各成分が溶解するまで攪拌することにより調製する。次に、この例のパート1で調製したドープ組成物95質量部、艶消し剤溶液1質量部、遅延増加剤溶液4質量部を、均一になるまで混合する。次いで、この組成物をろ過し、そして、35℃に維持した状態で、30℃に維持されたステンレススチールバンド支持体上に均一にキャストする。
ドープは、これを剥離可能な程度に乾燥させた後にステンレスバンド支持体から剥離する。この時点でドープ中の残留溶媒は15%である。支持体から剥離された後、テンターを用いてフィルムを130℃で30%横延伸する。次いで、延伸された幅を維持した状態でフィルムを140℃で30秒間保持する。クリップを除去し、そしてフィルムを140℃で40分間乾燥および架橋させる。乾燥された光学補償フィルムはロール上に巻取られ、そして最終厚み50μmを有する。
1.ドープ組成物の調製
表9で説明するドープ成分を、密閉容器に入れて70℃に加熱する。セルロースジアセテート(CA)を攪拌しながら完全に溶解させてドープを得る。溶解に必要な時間は4時間である。
遅延増加剤は、表10の含有成分を混合タンクに入れて各成分が溶解するまで攪拌することにより調製する。
艶消し剤溶液は、表11に示す含有成分を分散器に入れて各成分が溶解するまで攪拌することにより調製する。次に、この例のパート1で調製したドープ組成物95質量部、艶消し剤溶液1質量部、遅延増加剤溶液4質量部を、均一になるまで混合する。次いで、この組成物をろ過し、そして、35℃に維持した状態で、30℃に維持されたステンレススチールバンド支持体上に均一にキャストする。
ドープは、これを剥離可能な程度に乾燥させた後にステンレスバンド支持体から剥離する。この時点でドープ中の残留溶媒は15%である。支持体から剥離された後、テンターを用いてフィルムを130℃で30%横延伸する。次いで、延伸された幅を維持した状態でフィルムを140℃で30秒間保持する。クリップを除去し、そしてフィルムを140℃で40分間乾燥および架橋させる。乾燥された光学補償フィルムはロール上に巻取られ、そして最終厚み50μmを有する。
架橋剤を有さないセルロースジアセテートフィルム
まず、207.5gのメチルエチルケトン(MEK,Aldrichから入手)を、続いて、3.4gのトリフェニルホスフェート(TPP,固形分8%,Aldrichから入手)および42.5gのセルロースジアセテート(39.7質量%アセチル,Eastman Chemical CompanyからCA 398−30の名称で入手可能)を、8オンス瓶内に導入した。混合物を均一な溶液が得られるまで回した。2インチ幅および40mil高さのギャップを有する四角形の引落棒を用いて均一溶液を清浄なガラス板の上に引落した。フィルムは、これらをガラス板から剃刀を用いて除去する前に1晩乾燥させた。
架橋剤を有さないセルロースアセテートプロピオネートフィルム
まず、207.5gのMEKを、続いて、3.4gのTPPおよび42.5gのセルロースアセテートプロピオネート(46質量%プロピオニル,Eastman Chemical CompanyからCAP 482−20の名称で入手可能)を、8オンス瓶内に導入した。混合物を均一な溶液が得られるまで回した。2インチ幅および40mil高さのギャップを有する四角形の引落棒を用いて均一溶液を清浄なガラス板の上に引落した。フィルムは、これらをガラス板から剃刀を用いて除去する前に1晩乾燥させた。
架橋剤を有さないセルロースアセテートブチレートフィルム
まず、207.5gのMEKを、続いて、3.4gのTPPおよび42.5gのセルロースアセテートブチレート(35.5質量%ブチリル,Eastman Chemical CompanyからCAB 381−20の名称で入手可能)を、8オンス瓶内に導入した。混合物を均一な溶液が得られるまで回した。2インチ幅および40mil高さのギャップを有する四角形の引落棒を用いて均一溶液を清浄なガラス板の上に引落した。フィルムは、これらをガラス板から剃刀を用いて除去する前に1晩乾燥させた。
メラミン架橋されたセルロースジアセテートフィルム
CA 398−30(セルロースジアセテート、39.7質量%アセチル)のヒドロキシル量は3.5質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量486、または例6で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量2,857が与えられる。用いたメラミン架橋剤はCYMEL(登録商標)303(Cytec Industries,Inc.から入手可能なメラミン架橋剤)であった。CYMEL(登録商標)303の有効ヒドロキシル質量当量は130から190の範囲であるため、ストイキオメトリーを決定するために160のメジアン値を選択し、そしてこの例では1当量の架橋剤を用いた。
メラミン架橋されたセルロースジアセテートフィルム
CA 398−30のヒドロキシル量は3.5%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量486、または例6で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量2857が与えられる。用いたメラミン架橋剤は、Cytec Industries,Inc.のCYMEL(登録商標)303であった。有効ヒドロキシル質量当量は130から190の範囲であるため、ストイキオメトリーを決定するために160のメジアン値を選択し、そしてこの例では0.5当量の架橋剤を用いた。
メラミン架橋されたセルロースアセテートプロピオネートフィルム
CAP 482−20(セルロースアセテートプロピオネート,46質量%プロピオニル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例7で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたメラミン架橋剤はCYMEL(登録商標)303(Cytec Industries,Inc.から入手可能なメラミン架橋剤)であった。CYMEL(登録商標)303の有効ヒドロキシル質量当量は130から190の範囲であるため、ストイキオメトリーを決定するために160のメジアン値を選択し、そしてこの例では1当量の架橋剤を用いた。
メラミン架橋されたセルロースアセテートプロピオネートフィルム
CAP 482−20(セルロースアセテートプロピオネート,46質量%プロピオニル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例7で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたメラミン架橋剤はCYMEL(登録商標)303(Cytec Industries,Inc.から入手可能なメラミン架橋剤)であった。CYMEL(登録商標)303の有効ヒドロキシル質量当量は130から190の範囲であるため、ストイキオメトリーを決定するために160のメジアン値を選択し、そしてこの例では0.5当量の架橋剤を用いた。
メラミン架橋されたセルロースアセテートブチレートフィルム
CAB 381−20(セルロースアセテートブチレート,35.5質量%ブチリル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例8で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたメラミン架橋剤はCYMEL(登録商標)303(Cytec Industries,Inc.から入手可能なメラミン架橋剤)であった。CYMEL(登録商標)303の有効ヒドロキシル質量当量は130から190の範囲であるため、ストイキオメトリーを決定するために160のメジアン値を選択し、そしてこの例では1当量の架橋剤を用いた。
メラミン架橋されたセルロースアセテートブチレートフィルム
CAB 381−20(セルロースアセテートブチレート,35.5質量%ブチリル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例8で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたメラミン架橋剤はCYMEL(登録商標)303(Cytec Industries,Inc.から入手可能なメラミン架橋剤)であった。CYMEL(登録商標)303の有効ヒドロキシル質量当量は130から190の範囲であるため、ストイキオメトリーを決定するために160のメジアン値を選択し、そしてこの例では0.5当量の架橋剤を用いた。
イソシアネート架橋されたセルロースアセテートプロピオネートフィルム
CAP 482−20(セルロースアセテートプロピオネート,46質量%プロピオニル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例7で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたイソシアネート架橋剤はDESMODUR(登録商標)BL 3272 MPA(Bayerから入手可能)、1−メトキシプロピル−アセテート−2中の固形分72%で供給されるブロックイソシアネート、である。有効ヒドロキシル質量当量は410であり、この例では1当量の架橋剤を用いた。
イソシアネート架橋されたセルロースアセテートプロピオネートフィルム
CAP 482−20(セルロースアセテートプロピオネート,46質量%プロピオニル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例7で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたイソシアネート架橋剤はDESMODUR(登録商標)BL 3272 MPA(Bayerから入手可能)、1−メトキシプロピル−アセテート−2中の固形分72%で供給されるブロックイソシアネート、である。有効ヒドロキシル質量当量は410であり、この例では0.5当量の架橋剤を用いた。
イソシアネート架橋されたセルロースアセテートブチレートフィルム
CAB 381−20(セルロースアセテートブチレート,35.5質量%ブチリル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例8で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたイソシアネート架橋剤はDESMODUR(登録商標)BL 3272 MPA(Bayerから入手可能)、1−メトキシプロピル−アセテート−2中の固形分72%で供給されるブロックイソシアネート、である。有効ヒドロキシル質量当量は410であり、この例では1当量の架橋剤を用いた。
イソシアネート架橋されたセルロースアセテートブチレートフィルム
CAB 381−20(セルロースアセテートブチレート,35.5質量%ブチリル)のヒドロキシル量は1.8質量%である。これにより固体ポリマーに対するヒドロキシル質量当量944、または例8で調製したような固形分17%でのヒドロキシル質量当量5,556が与えられる。用いたイソシアネート架橋剤はDESMODUR(登録商標)BL 3272 MPA(Bayerから入手可能)、1−メトキシプロピル−アセテート−2中の固形分72%で供給されるブロックイソシアネート、である。有効ヒドロキシル質量当量は410であり、この例では0.5当量の架橋剤を用いた。
1.分析方法
硬化した乾燥フィルムのフィルム厚みは、Metricon 2010Mプリズムカプラーを用いて波長633nmで評価した。貯蔵弾性率(E’)は、動的粘弾性解析(Dynamic Mechanical Thermal Analysis )(DMTA)により、張力モード1Hz振動数、ひずみ0.1%、および温度ランプ速度毎分5℃で−50℃から250℃、で行って得た。
以下もまた開示される。
[1] 光ディスプレイ装置において使用するための偏光板であって、前記偏光板が、
第1および第2の外面を有する偏光フィルム、ならびに
前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に支持されるかまたは前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに隣接する併用フィルム、
を含み、
前記併用フィルムが、架橋剤と架橋したセルロースを含み、前記セルロースが、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択され、かつ前記架橋剤が、式、
を有する、偏光板。
[2] 各Xが−NR 2 である、上記[1]に記載の偏光板。
[3] 各Rがアルコキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基およびヒドロキシメチル基からなる群から選択される、上記[1]に記載の偏光板。
[4] 各Rがアルコキシアルキル基である、上記[3]に記載の偏光板。
[5] 各Xが−NR 2 であり、かつ各Rがメトキシメチル基である、上記[4]に記載の偏光板。
[6] 前記偏光フィルムがポリビニルアルコールフィルムを含む、上記[1]に記載の偏光板。
[7] 前記セルロースがセルロースエステルを含む、上記[1]に記載の偏光板。
[8] 前記セルロースエステルがセルロースのC 1 -C 20 エステルを含む、上記[7]に記載の偏光板。
[9] 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[7]に記載の偏光板。
[10] 前記併用フィルムが、保護フィルム、補償フィルム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[1]に記載の偏光板。
[11] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に接着剤を介して支持されている、上記[10]に記載の偏光板。
[12] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに接着剤を使用することなく隣接している、上記[10]に記載の偏光板。
[13] 光ディスプレイ装置において使用するための偏光板であって、前記偏光板が、
第1および第2の外面を有する偏光フィルム、ならびに
前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に支持されるかまたは前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに隣接する併用フィルム、
を含み、
前記併用フィルムが、架橋剤と架橋したセルロースを含み、前記セルロースが、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択され、かつ前記架橋剤が、
式−OR’を有する少なくとも1つの基を含み、式中R’はアルキルであり、かつ、
エポキシ基および式、
[14] R’が、C 2 −C 4 アルキルからなる群から選択される、上記[13]に記載の偏光板。
[15] 前記偏光フィルムがポリビニルアルコールフィルムを含む、上記[13]に記載の偏光板。
[16] 前記セルロースがセルロースエステルを含む、上記[13]に記載の偏光板。
[17] 前記セルロースエステルがセルロースのC 1 −C 20 エステルを含む、上記[16]に記載の偏光板。
[18] 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[16]に記載の偏光板。
[19] 前記併用フィルムが、保護フィルム、補償フィルム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[13]に記載の偏光板。
[20] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に接着剤を介して支持されている、上記[19]に記載の偏光板。
[21] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに接着剤を使用することなく隣接している、上記[19]に記載の偏光板。
[22] 前記架橋剤がトリアジン架橋剤を含む、上記[13]に記載の偏光板。
[23] 光ディスプレイ装置において使用するための偏光板を形成する方法であって、該方法が、
第1および第2の外面を有する偏光フィルムを準備すること、ならびに
併用フィルムを前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに適用すること、
を含み、
前記併用フィルムが、架橋剤と架橋したセルロースを含み、前記セルロースが、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択され、かつ前記架橋剤が、式、
を有する、方法。
[24] 各Xが−NR 2 である、上記[23]に記載の方法。
[25] 各Rがアルコキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基およびヒドロキシメチル基からなる群から選択される、上記[23]に記載の方法。
[26] 各Rがアルコキシアルキル基である、上記[25]に記載の方法。
[27] 各Xが−NR 2 であり、かつ各Rがメトキシメチル基である、上記[4]に記載の方法。
[28] 前記偏光フィルムがポリビニルアルコールフィルムを含む、上記[23]に記載の方法。
[29] 前記セルロースがセルロースエステルを含む、上記[23]に記載の方法。
[30] 前記セルロースエステルがセルロースのC 1 -C 20 エステルを含む、上記[29]に記載の方法。
[31] 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[29]に記載の方法。
[32] 前記併用フィルムが、保護フィルム、補償フィルム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[23]に記載の方法。
[33] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に接着剤を介して支持されている、上記[32]に記載の方法。
[34] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに接着剤を使用することなく隣接している、上記[32]に記載の方法。
[35] 光ディスプレイ装置において使用するための偏光板を形成する方法であって、前記方法が、
第1および第2の外面を有する偏光フィルムを準備すること、ならびに
併用フィルムを前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに適用すること、
を含み、
前記併用フィルムが、架橋剤と架橋したセルロースを含み、前記セルロースが、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択され、かつ前記架橋剤が、
式−OR’を有する少なくとも1つの基を含み、式中R’はアルキルであり、かつ、
エポキシ基および式、
[36] R’が、C 2 −C 4 アルキルからなる群から選択される、上記[35]に記載の方法。
[37] 前記偏光フィルムがポリビニルアルコールフィルムを含む、上記[35]に記載の方法。
[38] 前記セルロースがセルロースエステルを含む、上記[35]に記載の方法。
[39] 前記セルロースエステルがセルロースのC 1 −C 20 エステルを含む、上記[38]に記載の方法。
[40] 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[38]に記載の方法。
[41] 前記併用フィルムが、保護フィルム、補償フィルム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[35]に記載の方法。
[42] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に接着剤を介して支持されている、上記[41]に記載の方法。
[43] 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに接着剤を使用することなく隣接している、上記[41]に記載の方法。
[44] 前記架橋剤がトリアジン架橋剤を含む、上記[35]に記載の方法。
[45] 光ディスプレイ装置において使用するための組成物であって、前記組成物が、架橋剤、ならびに、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択されるセルロース、を溶媒系中に分散または溶解させて含み、前記組成物が、厚み約0.5から約15milを有する硬化フィルムに形成されたときに、波長約400から700nmを有する光の少なくとも約80%を透過させることができ、前記架橋剤が式、
を有する、組成物。
[46] 前記セルロースがセルロースエステルを含む、上記[45]に記載の組成物。
[47] 前記セルロースエステルがセルロースのC 1 −C 20 エステルを含む、上記[46]に記載の組成物。
[48] 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、上記[46]に記載の組成物。
[49] 各Xが−NR 2 である、上記[45]に記載の組成物。
[50] 各Rが、アルコキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基およびヒドロキシメチル基からなる群から選択される、上記[49]に記載の組成物。
[51] 各Rがアルコキシアルキル基である、上記[50]に記載の組成物。
[52] 各Xが−NR 2 であり、かつ各Rがメトキシメチル基である、上記[51]に記載の組成物。
Claims (29)
- 光ディスプレイ装置において使用するための偏光板であって、前記偏光板が、
第1および第2の外面を有する偏光フィルム、ならびに
前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に支持されるかまたは前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに隣接する併用フィルム、
を含み、
前記併用フィルムが、架橋剤と架橋したセルロースを含み、前記セルロースが、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択され、かつ前記架橋剤が、式、
を有する、偏光板。 - 各Xが−NR2である、請求項1に記載の偏光板。
- 各Rがアルコキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基およびヒドロキシメチル基からなる群から選択される、請求項1に記載の偏光板。
- 各Xが−NR2であり、かつ各Rがメトキシメチル基である、請求項3に記載の偏光板。
- 前記偏光フィルムがポリビニルアルコールフィルムを含む、請求項1に記載の偏光板。
- 前記セルロースがセルロースエステルを含む、請求項1に記載の偏光板。
- 前記セルロースエステルがセルロースのC1−C20エステルを含む、請求項6に記載の偏光板。
- 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項6に記載の偏光板。
- 前記併用フィルムが、保護フィルム、補償フィルム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1に記載の偏光板。
- 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に接着剤を介して支持されている、請求項9に記載の偏光板。
- 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに接着剤を使用することなく隣接している、請求項9に記載の偏光板。
- 光ディスプレイ装置において使用するための偏光板を形成する方法であって、該方法が、
第1および第2の外面を有する偏光フィルムを準備すること、ならびに
併用フィルムを前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに適用すること、
を含み、
前記併用フィルムが、架橋剤と架橋したセルロースを含み、前記セルロースが、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択され、かつ前記架橋剤が、式、
を有する、方法。 - 各Xが−NR2である、請求項12に記載の方法。
- 各Rがアルコキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基およびヒドロキシメチル基からなる群から選択される、請求項12に記載の方法。
- 各Xが−NR2であり、かつ各Rがメトキシメチル基である、請求項14に記載の方法。
- 前記偏光フィルムがポリビニルアルコールフィルムを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記セルロースがセルロースエステルを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記セルロースエステルがセルロースのC1−C20エステルを含む、請求項17に記載の方法。
- 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項17に記載の方法。
- 前記併用フィルムが、保護フィルム、補償フィルム、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項12に記載の方法。
- 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかの上に接着剤を介して支持されている、請求項20に記載の方法。
- 前記併用フィルムが前記第1および第2の外面の少なくともいずれかに接着剤を使用することなく隣接している、請求項20に記載の方法。
- 架橋剤、ならびに、セルロースエーテルおよびセルロースエステルからなる群から選択されるセルロース、を溶媒系中に分散または溶解させて含む組成物を硬化させることによって得られる、光ディスプレイ装置において使用するための硬化フィルムであって、前記硬化フィルムが、厚み0.5から15milを有し、波長400から700nmを有する光の少なくとも80%を透過させることができ、前記架橋剤が式、
を有する、硬化フィルム。 - 前記セルロースがセルロースエステルを含む、請求項23に記載の硬化フィルム。
- 前記セルロースエステルがセルロースのC1−C20エステルを含む、請求項24に記載の硬化フィルム。
- 前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースブチレート、セルローストリブチレート、セルロースプロピオネート、セルローストリプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートブチレートサクシネート、セルロースプロピオネートブチレート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項24に記載の硬化フィルム。
- 各Xが−NR2である、請求項23に記載の硬化フィルム。
- 各Rが、アルコキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基およびヒドロキシメチル基からなる群から選択される、請求項27に記載の硬化フィルム。
- 各Xが−NR2であり、かつ各Rがメトキシメチル基である、請求項28に記載の硬化フィルム。
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