JP2002288841A - 光記録媒体及び光記録方法 - Google Patents
光記録媒体及び光記録方法Info
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Abstract
ォーマットよりも簡単に製造可能な高周波ウオブルフォ
ッマットでデータ部の書き足しを効率よく実施でき、し
かも現在、大量に製造されているCD−R、DC−RW
とほぼ同一フォーマットでの光記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも有機色素記録層を設
けてなり、周波数4T〜96Tのウオブルを有し、該有
機色素記録層が有機色素を2種以上混合してなり、か
つ、各単独の色素膜の極大吸収波長が最も大きい色素の
記録波長における屈折率がその他の色素の屈折率よりも
大きいことを特徴とする光記録媒体。
Description
録方法に関し、特に光ビームを照射することにより、記
録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、
情報の記録、再生を行ない、かつ追記が可能なデータ用
追記光ディスク、追記型コンパクトディスク等の光記録
媒体及び光記録方法に関するものである。
VD−Rの開発が進められている。記録容量の向上の要
素技術は、記録ピット微小化のための記録材料開発、M
PEG2に代表される画像圧縮技術の採用、記録ピット
読み取りのための半導体レーザの短波長化等の技術開発
が必要である。これまで赤色波長域の半導体レーザとし
ては、バーコードリーダ、計測器用に670nm体のA
lGaInPレーザダイオードが商品化されているのみ
であったが、光ディスクの高密度化に伴い、赤色レーザ
が本格的に光ストレージ市場で使用されつつある。DV
Dドライブの場合、光源として635nm帯と650n
m帯のレーザダイオードの2つの波長で規格化されてい
る。一方、再生専用のDVD−ROMドライブは波長〜
650nmで商品化されている。このような状況下で最
も好ましいDVD−Rメディアは、波長630nm〜6
80nmで記録、再生が可能なメディアである。
ドプリピットと呼ばれるランド部の一部をカットしたフ
ォーマットで規格化されている。この方式をとると、ラ
ンドプリピット信号(LPPb)が0.16以下ではプ
リピットアドレス等のプリピット情報が良好に再生でき
ず、0.32以上であると今度はLPP信号自体がデー
タ領域においてノイズ的な振る舞いをし、データエラー
が多く発生してしまう。従って、LPPはその記録材に
あったカット幅をスタンパで微調整して(LPPb=)
0.16〜0.32の範囲になるようにランドカット幅
を制御しなければならない。
〜680nmで記録可能な材料か望まれるが有機色素メ
ディアでは色素自体の吸収を利用して記録を行うため、
波長依存性が大きく広範囲な記録波長で記録を可能にす
ることは困難なことが一般的である。
ステムに比べて、短波長に発振波長を有する半導体レー
ザを用いる追記型DVDシステムの新フォーマット方式
であり、LPP方式同様のデータの書き足し部における
未記録領域をなくす有効な方式の光記録媒体及び光記録
方法を提供することをその課題とする。また、本発明
は、DVD−Rランドプリピット方式に比較して、スタ
ンパ作製時における微細なカット幅制御やLPP信号の
データ部への漏れだしによるデータエラーが生じない等
の優れた方式の光記録媒体及び光記録方法を提供するこ
とを別の課題とする。さらに、本発明は、色素を2種以
上混合することにより、色素メディアとしては広範囲な
波長での記録を可能にでき、また高耐光性を有する金属
キレート色素を混合することで耐光性が向上した光記録
媒体及び光記録方法を提供することを別の課題とする。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、上記課題を下記の技
術的手段により解決することができる。 (1)基板上に少なくとも有機色素記録層を設けてな
り、周波数4T〜96Tのウオブルを有し、該有機色素
記録層が有機色素を2種以上混合してなり、かつ各単独
の色素膜の極大吸収波長が最も大きい色素の記録波長に
おける屈折率がその他の色素の屈折率よりも大きいこと
を特徴とする光記録媒体。 (2)反射層を有することを特徴とする上記(1)に記
載の光記録媒体。 (3)基板の溝深さが1000Å〜2500Å、トラッ
クピッチが0.64μm〜0.8μm、かつ溝幅が半値
幅で0.18μm〜0.40μmであることを特徴とす
る上記(1)又は(2)に記載の光記録媒体。 (4)極大吸収波長が最も大きい色素がメチン色素及び
/又はポリメチン色素であり、該色素よりも短い吸収波
長を有する色素がアゾ金属キレート色素、ホルマザン金
属キレート色素、ジピロメテン金属キレート色素のうち
少なくとも1つであることを特徴とする上記(1)〜
(3)のいずれかに記載の光記録媒体。 (5)記録層の金属キレート色素の金属がニッケル、
銅、コバルト、マンガン及び酸化バナジウムよりなる群
から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする上
記(1)〜(4)のいずれかに記載の光記録媒体。 (6)記録再生波長±5nmの波長域の光に対する記録
層単層の屈折率nが1.5≦n≦3.0で、消衰係数k
が0.02≦n≦0.2であることを特徴とする上記
(1)〜(5)のいずれかに記載の光記録媒体。 (7)記録層の分解開始温度360℃以下であることを
特徴とする上記(1)〜(6)のいずれかに記載の光記
録媒体。 (8)反射層が金、銀、アルミニウムもしくはこれらを
主成分とした他の金属との合金であることを特徴とする
上記(2)〜(7)のいずれかに記載の光記録媒体。 (9)上記(1)〜(8)のいずれかに記載の光記録媒
体に720nm〜600nmの記録波長で記録すること
を特徴とする光記録方法。
本発明の光記録媒体は、基板上に少なくとも有機色素記
録層を設けてなり、周波数4T〜96Tのウオブルを有
し、該有機色素記録層が有機色素を2種以上混合してな
り、かつ各単独の色素膜の極大吸収波長が最も大きい色
素の記録波長における屈折率がその他の色素の屈折率よ
りも大きいことを特徴とする、なお、ここで定義するT
とは基本クロック周波数で記録したときの記録ピット長
(単位はμm)であり、DVD(4.7GB)メディア
であれば、約0.133μmである。
収を利用して記録を行うため、無機系の記録層に比べて
記録波長の依存性が大きい。言い換えると記録波長が変
動すると、記録パワーが変動したり、また、最適ストラ
テジが変わってしまうことがある。
くは記録パワー変動を要しないように記録層を色素の2
種以上の混合系とすることで補償できることを確認し
た。また、混合する色素の各単独膜の極大吸収波長が最
も大きい色素の屈折率を他の色素よりも大きくすること
で、色素メディアの特徴である高反射率が実現可能とな
ることを確認した。さらに該高屈折率色素に適した材料
は(ポリ)メチン色素が適しているが、該色素は耐光性
が低いことが問題となる。そこで、(ポリ)メチン色素
に高耐光性の金属キレート色素を混合することで耐光性
を向上できることを確認した。
し、記録層として記録再生波長±5nmの波長域の光に
対する記録層単層の屈折率nが1.5≦n≦3.0であ
り、消衰係数kが0.02≦n≦0.2である有機色素
膜を有する光記録媒体を作製することにより、書き足し
データ部先頭の未記録領域を低減でき、広範囲な波長で
の記録が可能であり、高耐光、低エラー率なDVD追記
型ディスクが得られる。
比=P、その他の色素重量比=Qとした場合、比率は
P:Q=1:9〜9:1の範囲で用いることができる
が、高反射率で高耐光性を維持させるには、好ましくは
3:7〜8:2の混合比である。
00T相当が用いられている。この周波数帯であると、
周波数変調にしろ、位相変調にしろデータの書き足しを
する場合、ウオブルの周波数が低すぎて、前データと書
き足しデータとの間がかなり空いてしまい、高密度記録
には向かない。
け、このLPP信号でデータの書き込む位置を制御して
いる。しかしながら、LPP方式ではLPPの信号振幅
が小さすぎてはLPPが良好に読み出せず、逆にLPP
が大きすぎると今度はLPP信号自体が書き込みデータ
へ漏れ込んでデータエラーが多発するという不具合が生
じるため、LPPは0.16≦LPPb≦0.32の範
囲、好ましくは0.18≦LPPb≦0.26という制
約が生じ、スタンパ作成の際、ランドのカット幅を微細
に制御しなくてはならない。
必要なく、ウオブルを変調して同期をとるため、LPP
方式の様にデータエラーが多発するような事態には至ら
ない。本発明におけるウオブルの振幅であるが、適当な
フィルターを通した後のウオブル振幅(Wo)に対す
る、これも適当なフィルターを通したプシュプル信号
(PP)割合Wo/PP=NW0が0.1≦NW0≦
0.4の範囲にあれば本発明の目的であるウオブルでの
同期合わせは可能であり、更に好ましいNW0の値は
0.15≦NW0≦0.30の範囲である。NW0の値
が0.1未満であると同期をとるには不十分な信号強度
であり、0.4を超えてしまうとデータ部エラーが増え
てくる傾向にある。但し、LPP方式に比べ、LPPが
大きなメディアのデータエラーに比較してデータエラー
の発生の影響度は小さく、ウオブル振幅の増加に伴うデ
ータエラーは緩やかである。更にスタンパを作成する
際、LPP方式のLPPカット幅はLPPb=0.16
〜0.32内の範囲にするには高度なカット幅制御技術
を必要とするが、本発明の高周波ウオブル方式において
は高周波発生源とウオブルの振り量の大きさ(ウオブル
振り量を制御する回路で振り量は任意に再現性よく作成
できる)だけを管理しさえすれば目的は達成されるた
め、スタンパの歩留まりや、メディアの歩留まりが飛躍
的に向上できる。
であるが、主に有機色素を溶剤塗工法にて記録層を形成
するわけであるが、その場合の最適溝深さは1000Å
〜2500Åであり、さらに好ましくは1500Å〜2
000Åである。溝深さが1000Å未満であるとプシ
ュプル信号が充分にとれず、トラッキング制御ができ
ず、2500Åを超えると基板成形の際、転写性があま
くなり、好ましくない。また、記録密度を4GB〜5G
Bの容量を確保するためにはトラクピッチは0.64μ
m〜0.8μm程度が必要である。溝幅に関しては、記
録材料によって異なるが、ほぼ全ての有機材料におい
て、半値幅0.18μm〜0.40μmの幅で適用でき
る。
ては200Å〜2000Åまで可能であるが、ウオブリ
ングしているためふれ幅は測定場所によりバラツキおお
よそ上記のような範囲に入っていればよい。
べる。光記録媒体の記録層を構成するのに必要な項目と
して、光学特性が上げられる。光学特性に必要な条件
は、記録再生波長である630nm〜690nmに対し
て短波長側に大きな吸収帯を有し、かつ記録再生波長が
該吸収帯の長波長端近傍にあることが必要である。これ
は、記録再生波長である630nm〜690nmで大き
な屈折率と消衰係数を有することを意味するものであ
る。具体的には、記録再生波長近傍の長波長近傍の波長
域光に対する記録層単層の屈折率nが1.5以上3.0
以下であり、消衰係数kが0.02以上0.2以下の範
囲にあることが好ましい。nが1.5未満の場合には、
十分な光学的変化得られにくいため、記録変調度が低く
なるため好ましくなく、nが3.0を超える場合には、
波長依存性が高くなり過ぎるため、記録再生波長領域で
あってもエラーとなってしまうため好ましくない。ま
た、kが0.02未満の場合には、記録感度が悪くなる
ため好ましくなく、kが0.2を超える場合には、50
%以上の反射率を得ることが困難となるので好ましくな
い。
であるが、アゾ(金属キレート)色素、ホルマザン(金
属キレート)色素、ジピロメテン(金属キレート)色
素、ポリメチン色素、アザアヌレン色素等が適用可能
で、具体的には金属キレート色素、シアニン色素、スチ
リル色素が特に好ましい。
が、アゾ結合をはさみ両側のアゾ化合物形成ユニットが
置換、未置換の芳香環、ピリジン残基、ピリミジン残
基、ピラジン残基、ピリミジン残基、ピリダジン残基、
トリアジン残基、イミダゾール残基、チアゾール残基、
トリアゾール残基、ピラゾール残基、イソチアゾール残
基、ベンズチアゾール残基等の組み合わせでアゾ化合物
が形成され、それらのアゾ化合物の金属キレート化合物
が特に好ましい。
が、ホルマザンの構造は下記化1に示されるものである
と一緒になって多複素環を形成する残基であり、具体的
にはピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリア
ジン環である。また、この複素環にはアルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、置換アミノ基、アリル基、
アリルオキシ基、アニリノ基、ケト基等の置換基を有し
ていてもよい。Aはアルキル基、アラルキル基、アリル
基、シクロヘキシル基を表し、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン、ケト基、カルボキシル基又はそのエステ
ル、ニトリル基、ニトロ基等の置換基を有していてもよ
い。Bはアリル基を表し、アルキル基、アルコキシ基、
ハロゲン基、カルボキシル基、又はそのエステル、ニト
リル基、ニトロ基等の置換基を有していてもよい。金属
キレート化物の場合、金属は2価の金属原子である。
ロメテン化合物は、下記構造式(2)で示されるもので
ある。
子、置換未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルケニ
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキル
基、アリール基、ヘテロアリール基を表し、金属キレー
ト化物の場合、金属は2価又は3価の金属原子である。
また、R2とR3で環を形成してもよい。アゾ化合物、
ホルマザン化合物、ジピロメテン化合物ともにキレート
化合物の場合の金属は遷移金属が挙げられ、例えばN
i,Co,Cu,Mn,VO,Zn,Fe,Cr,Al
等が挙げられ、製造上とディスク特性上、特にNi,C
o,Cu,Mn,VOが好ましい。
0nmに吸収帯を有する色素なら本発明に適用可能であ
るが、さらにトリメチンシアニン色素が好ましく、特に
さらにトリメチン鎖の両端が置換未置換のインドレニ
ン、ベンズインドレニンが好ましく、カウンターアニオ
ンとしてはハロゲン、ClO4、BF4、PF6、Sb
F6等の他にニッケルジチオレート錯体に代表される各
種金属キレートアニオンでもよい。
換未置換の芳香族化合物、置換未置換のインドレニン、
チアゾール、ベンズチアゾール、オキサゾール、ベンズ
オキサゾール等のヘテロ環化合物で形成されている化合
物が好ましい。
色素単独で用いる場合も混合して用いる場合もその記録
材料の分解開始温度が360℃以下であることが好まし
い。特に100〜350℃が好ましい。分解温度が36
0℃を超えると記録時のピット形成がうまく行われず、
ジッタ特性が悪い。また100℃未満であると今度はデ
ィスクの保存安定性が悪化する。
図1、図2の構造(図1、図2のものを2枚貼合わせた
いわゆるエアーサンドイッチ構造又は密着貼合わせ構造
としてもよい)あるいは図3のようなCD−R用メディ
アの構造としてもよい。
板とを記録層を介して接着剤で貼り合わせた構造を基本
構造とする。記録層は有機色素層単層でもよく、反射率
を高めるため有機色素層と金属反射層との積層でもよ
い。記録層と基板間は下引き層あるいは保護層を介して
層成してもよく、機能向上のためそれらを積層化した構
成でもよい。最も通常に用いられるのは、第1基板/有
機色素層/金属反射層/保護層/接着層/第2基板構造
である。
録再生を行う場合にのみ、使用レーザに対して透明でな
ければならず、記録層側から記録、再生を行う場合基板
は透明である必要はない。基板材料としては、例えばポ
リエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック、又はガラ
ス、セラミック、あるいは金属などを用いることができ
る。なお、基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内
ピット、さらにアドレス信号などのプリフォーマットな
どが形成されていてもよい。
何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報を
記録するものであって、この記録層中には本発明の色素
が含有されていることが必要で、記録層の形成に当たっ
て本発明によれば2種以上の組み合わせで用いる。さら
に、本発明の上記色素は光学特性、記録感度、信号特性
などの向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物
と混合又は積層化して用いてもよい。
素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリ
リウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノ
ン系、アントラキノン系(インダンスレン系)、キサン
テン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトラヒ
ドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン
系染料及び、金属錯体化合物などが挙げられる。
e、Bi、Se、Sb、Ge、Sn、Al、Be、Te
O2、SnO、As,Cd、などが挙げられ、それぞれ
を分散混合あるいは積層の形態で用いることができる。
アイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天
然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もし
くはシランカップリング剤などを分散混合してもよい
し、特性改良の目的で安定剤(例えば遷移金属錯体)、
分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑
剤などを一緒に用いることができる。
タリング、CVD又は溶剤塗布などの通常の手段を用い
ることができる。塗布法を用いる場合には、上記染料な
どを有機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーティ
グ、ディピング及びスピンコーティングなどの慣用のコ
ーティング法によって行うことができる。用いられる有
機溶媒としては、一般にメタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホ
キシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなど
のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル
類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四
塩化炭素、トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭
化水素類、ベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、
ジクロロベンゼンなどの芳香族類、メトキシエタノー
ル、エトキシエタノールなどのセロソルブ類、ヘキサ
ン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
などの炭化水素類などが挙げられる。記録層の膜厚は1
00Å〜10μm、好ましくは200Å〜2000Åが
適当である。
水又はガスなどのバリアー、記録層の保存安定性の
向上、反射率の向上溶剤からの基板の保護、案内
溝、案内ピット、プレフォーマットの形成などを目的と
して使用される。の目的に対しては高分子材料、例え
ばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂、天
然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々
の高分子化合物、及びシランカップリング剤などを用い
ることができ、及びの目的に対しては上記高分子材
料以外に無機化合物、例えばSiO、MgF、Si
O2、TiO、ZnO、TiN、SiNなどを用いるこ
とができ、さらに金属又は半金属、例えばZn、Cu、
Ni、Cr、Ge、Se、Au、Ag、Alなどを用い
ることができる。また、の目的に対しては金属、例え
ばAl、Au、Ag等や、金属光沢を有する有機薄膜、
例えばメチン染料、キサンテン系染料などを用いること
ができ、、の目的に対しては紫外線硬化性樹脂、熱
硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。下
引き層の膜厚としては0.01μm〜30μm、好まし
くは、0.05μm〜10μmが適当である。
率の得られる腐食されにくい金属、半金属等が挙げら
れ、材料例としてはAu、Ag、Cr、Ni、Al、F
e、Snなどが挙げられるが、反射率、生産性の点から
Au、Ag、Alが最も好ましく、これらの金属、半金
属は単独で使用してもよく、2種の合金としてもよい。
膜形成法としては蒸着、スッパタリングなどが挙げら
れ、膜厚としては50Å〜5000Å、好ましくは10
0Å〜3000Åである。
及び基板面ハードコート層は記録層(反射吸収層)を
傷、ホコリ、汚れ等から保護する、記録層(反射吸収
層)の保存安定性の向上、反射率の向上等を目的とし
て使用される。これらの目的に対しては、前記下引き層
に示した材料を用いることができる。また、無機材料と
して、SiO、SiO2なども用いることができ、有機
材料としてポリメチルアクリレート、ポリカーボネー
ト、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、
ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、天然ゴ
ム、スチレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワッ
クス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、
熱溶融性樹脂も用いることができる。上記材料のうち最
も好ましい例としては、生産性に優れた紫外線硬化性樹
脂である。保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は
0.01〜30μm、好ましくは0.05μm〜10μ
mが適当である。本発明において、前記下引き層、保護
層及び基板面ハードコート層には、記録層の場合と同様
に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面
活性剤、可塑剤等を含有させることができる。
らレーザ光を照射する場合、使用レーザ光に対し透明で
なくてはならず、単なる保護板として用いる場合、透明
性は問わない。使用可能な基板材料としては、基板材料
と全く同様であり、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリ
アミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラ
スチック、又はガラス、セラミック、あるいは金属など
を用いることができる。
できる接着できる材料なら何でもよく、生産性を考える
と、紫外線硬化型もしくはホットメルト型接着剤が好ま
しい。
例えば720〜600nmの記録波長で記録することが
できる。
す。
チ0.74μm、ウオブル周波数32T相当、ウオブル
振れ幅300Åの案内溝を有するバンド条件を有する厚
さ0.6mm、外径120mmの射出成形ポリカーボネ
ート基板上に化合物例A−1/C−1=1/1重量比に
混合した色素を2,2,3,3−テトラフルオロ−1−
プロパノールで溶解し、スピンナー塗布し、厚さ900
Åの有機色素層を形成し、次いでスパッタ法により金1
100Åの反射層を設け、更にその上にアクリル系フォ
トポリマーにて7μmの保護層を設けた後、厚さ0.6
mm、外径120mmの射出成形ポリカーボネート平板
基板をアクリル系フォトポリマーにて接着し光記録媒体
とした。
した色素を用いたこと以外は実施例1と全く同様に光記
録媒体を形成した。
した色素を用いたこと以外は実施例1と全く同様に光記
録媒体を形成した。
く同様であり、ウオブル振れ量が50Å相当でウオブル
周波数は190T相当のLPPカット幅が12水準振ら
れた条件基板を用いたこと以外は実施例1と全く同様に
光記録媒体を形成した。
1と全く同様に光記録媒体を形成した。
2で得た光記録媒体に発振波長635nm、ビーム径
0.9μmの半導体レーザ光を用い、トラッキングしな
がらEFM信号(線速3.5m/sec.)をBott
om Jitterが極小となるようなストラテジと記
録パワーで記録し、これらの記録位置を発振波長649
nmの連続光0.3mWでBottom Jitter
が8.0%となるようにイコライザーゲインを調整して
再生し、その時のPI Errorを測定した。また、
比較例1でのディスクに関してはLPPb値がそれぞれ
0.12、0.20、0.36近傍となるBandを選
択し、記録ピックアップにてそのときのLPPブロック
エラーレートも測定した。また、実施例1〜3及び比較
例1〜2で得た光記録媒体に発振波長657nm、ビー
ム径0.85μmの半導体レーザ光を用い、トラッキン
グしながらEFM信号(線速3.5m/sec.)をB
ottom Jitterが極小となるようなストラテ
ジと記録パワーで記録し、これらの記録位置を発振波長
649nmの連続光0.3mWでBottom Jit
terが8.0%となるようにイコライザーゲインを調
整して再生し、その時のPI Errorを測定した。
さらに635nmで記録した場合の最適記録パワーをP
aとし657nmで記録した場合の最適記録パワーをP
bとした時のPb/Paを算出して評価した。(Pb/
Paが大きい方が波長依存性が大きいのは言うまでもな
い。) さらに、上記実施例、比較例で記録したメディアを5万
ルクスの光暴露試験器に50時間投入した後635n
m、657nm記録部のPIエラー数も評価した。その
結果を表6に示す。
で生産性に優れ、高耐光性を有するメディアの提供が可
能になる。また、色素を混合したことにより、記録波長
依存性が低減可能となった。
るランドプリピットフォーマットよりも簡単に製造可能
な高周波ウオブルフォッマットでデータ部の書き足しを
効率よく実施でき、しかも現在、大量に製造されている
CD−R、DC−RWとほぼ同一フォーマットでの光記
録媒体の提供が可能となる。また、従来の色素メディア
に比べ記録波長の変動に対し、記録パワーを変化させな
くとも記録が可能なメディアが提供できるとともに、
(ポリ)メチン系色素の欠点であった低耐光性を改善で
き、高耐光メディアの提供が可能となる。
図である。
した図である。
明した図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 基板上に少なくとも有機色素記録層を設
けてなり、周波数4T〜96Tのウオブルを有し、該有
機色素記録層が有機色素を2種以上混合してなり、かつ
各単独の色素膜の極大吸収波長が最も大きい色素の記録
波長における屈折率がその他の色素の屈折率よりも大き
いことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項2】 反射層を有することを特徴とする請求項
1に記載の光記録媒体。 - 【請求項3】 基板の溝深さが1000Å〜2500
Å、トラックピッチが0.64μm〜0.8μm、かつ
溝幅が半値幅で0.18μm〜0.40μmであること
を特徴とする請求項1又は2に記載の光記録媒体。 - 【請求項4】 極大吸収波長が最も大きい色素がメチン
色素及び/又はポリメチン色素であり、該色素よりも短
い吸収波長を有する色素がアゾ金属キレート色素、ホル
マザン金属キレート色素、ジピロメテン金属キレート色
素のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の光記録媒体。 - 【請求項5】 記録層の金属キレート色素の金属がニッ
ケル、銅、コバルト、マンガン及び酸化バナジウムより
なる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴と
する請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体。 - 【請求項6】 記録再生波長±5nmの波長域の光に対
する記録層単層の屈折率nが1.5≦n≦3.0で、消
衰係数kが0.02≦n≦0.2であることを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載の光記録媒体。 - 【請求項7】 記録層の分解開始温度360℃以下であ
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光
記録媒体。 - 【請求項8】 反射層が金、銀、アルミニウムもしくは
これらを主成分とした他の金属との合金であることを特
徴とする請求項2〜7のいずれかに記載の光記録媒体。 - 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の光記録
媒体に720nm〜600nmの記録波長で記録するこ
とを特徴とする光記録方法。
Priority Applications (2)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001084738A JP4060543B2 (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | 光記録媒体 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002288841A5 JP2002288841A5 (ja) | 2007-06-28 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPWO2003082593A1 (ja) * | 2002-03-29 | 2005-08-04 | 三井化学株式会社 | 光記録媒体及びジピロメテン金属キレート化合物 |
-
2001
- 2001-03-23 JP JP2001084738A patent/JP4060543B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPWO2003082593A1 (ja) * | 2002-03-29 | 2005-08-04 | 三井化学株式会社 | 光記録媒体及びジピロメテン金属キレート化合物 |
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