JP2002270905A - 複合発光素子 - Google Patents
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Abstract
1個のサブマウント素子に搭載することによりコスト面
と熱による発光効率の低下を改善した複合発光素子を提
供すること。 【解決手段】 Si基板2aを持つサブマウント素子2
の上にブロック発光素子1を導通搭載する複合発光素子
であって、Si基板2aの良放熱性とブロック発光素子
1には複数の発光素子を含む構成とすることにより、大
電流の印加に対しても熱による発光効率の低下を改善
し、高輝度を保てるようにする。
Description
り、特に発光素子をサブマウント素子にチップ接合させ
て複合素子化し、このサブマウント素子によって機能改
善を可能とした複合発光素子に関する。
nAlGaN等のGaN系化合物半導体を利用した青色
発光の半導体発光素子は、従来のものに比べて格段に高
輝度化されたので、青色発光だけでなく蛍光物質を含む
波長変換層で被覆するようにして白色発光としても利用
されるようになった。GaN系化合物半導体を利用する
発光素子では、結晶基板として一般的には透明で絶縁性
のサファイアが利用されるので、基板とは反対側の面に
p側及びn側の電極がそれぞれ形成されたフリップチッ
プ型である。このようなフリップチップ型の発光素子で
は、各電極をマイクロバンプを介して配線基板やリード
フレームの搭載面に搭載して接合するフェイスダウン方
式とし、透明のサファイア基板の上面を主光取り出し面
とすることが効果的である。一方、このようなGaN系
化合物半導体による青色発光の発光素子では、静電気に
弱いという性質があるので、静電気保護用のツェナーダ
イオードと組み合わせた複合発光素子が近来では広く使
用されるようになった。
面図、(b)は正面図、(c)は等価回路図である。
基板51aの上にGaN系化合物半導体を積層したもの
で、p型層及びn型層に導通させてp側電極51c及び
n側電極51bが形成されている。一方、ツェナーダイ
オードを利用したサブマウント素子52はn型のSi基
板52aの上面側の一部に不純物を注入してp型半導体
領域52bを形成し、このp型半導体領域52bに接触
させてp側電極52cを設け、残りのn型半導体領域5
2aの上面側にn側電極52dを形成し、下面側に裏面
電極52eを形成したものである。そして、発光素子5
1のn側電極51bがバンプ53aによってサブマウン
ト素子52のp側電極52cに接続され、発光素子51
のp側電極51cがバンプ53bによってサブマウント
素子52のn側電極52dに接続されている。
させることにより、ツェナーダイオードを利用したサブ
マウント素子52によって発光素子51の静電気による
破壊を防止できる。また、サファイア基板51aは熱伝
導率が小さいので放熱が十分ではないが、Si基板52
aには十分な放熱性があるので、発光素子51をサブマ
ウント素子52と複合素子化することで、発光素子51
の発熱による輝度低下も防ぐことができる。
(LED素子)は、各種の分野で広く利用されている
が、近年では植物栽培用や照明用の光源としても検討さ
れるようになってきた。この植物栽培用や照明用の光源
とする場合では、大きな光度が必要となるため、多数の
LEDランプ等の発光装置が必要になる。すなわち、現
在までに開発されている発光素子では、通電可能な電流
の大きさはせいぜい20mA程度と極めて小さいので、
光度を大きくするためには多数のLED素子を必要とす
るためコストが極めて高くなる。
でも、図11に示したサブマウント素子52に発光素子
51を搭載した複合発光素子を利用できる。この場合、
サブマウント素子52にSi基板52aを用いることに
より放熱性が促進されるため、発光効率が良くなり、照
明用の光源としては適している。しかし、このタイプの
発光素子51は、p側及びn側電極が同一面側に形成さ
れたフリップチップ型でn側電極が4角の1角に形成さ
れているため、流れる電流はn側とp側電極の境界近傍
に集中し、その部分の電流密度が大きくなり、発熱も多
く発光効率が悪くなるという欠点がある。そのため、発
光素子51全体で考えても、均等に電流密度が分布して
いる場合と比較すると、一部に電流が集中している場合
のほうが発光効率は悪くなる。言い換えると、発光素子
51全体で同じ発光量を得るためには、均等な電流密度
分布に近いほうがトータルの発熱量が少ないということ
である。
に、直列配置とすると100Vの商用電源をそのまま使
えるような消費電力に設定できる。しかしながら、1個
の発光素子51を1個のサブマウント素子52に搭載
し、サブマウント素子52にSi基板52aを用いたも
のでも、この放熱性を利用するだけでは設備全体の放熱
の促進には限界があり、発光素子51の発光効率低下を
もたらしてしまう。
ンプ53a,53bを介して発光素子51をサブマウン
ト素子52上にフリップチップ実装するが、その実装工
程は、発光素子51の1個ずつについて行われるので、
この工程に要する時間がかなり長くなる。すなわち、発
光素子51の搭載の工程は、この発光素子51をピック
アップしてサブマウント素子52が形成されたウエハー
の電極パターンに合わせて位置決めする工程と、これに
続いて超音波、加熱及び荷重の負荷を加えながらバンプ
接合する工程となるため、1個の発光素子51について
は3秒程度の時間が必要となる。そして、サブマウント
素子52が形成されたウエハーにたとえば3万個程度の
発光素子51を搭載できるようにしたものが多用されて
いるので、このような多数の発光素子51の搭載完了ま
でには24時間以上を費やすことになり、生産性への影
響すなわちコストへの影響は無視できない。
合発光素子により照明用など大きな光度が必要な光源を
実現するには、上記のような問題点を改善することが必
要である。
たブロック発光素子を1個のサブマウント素子に搭載す
ることにより、コスト面及び発熱による発光効率の低下
を改善した複合発光素子を提供することを目的とする。
は、サブマウント素子上に発光素子が実装された複合発
光素子であって、発光素子が複数個の発光素子で構成さ
れたブロック発光素子からなることを特徴とする。
ブロック発光素子を1個のサブマウント素子に搭載する
ことにより、コスト面と発熱による発光効率の低下を改
善した複合発光素子が得られる。
ウント素子上に発光素子が実装された複合発光素子であ
って、前記発光素子が複数個の発光素子で構成されたブ
ロック発光素子からなることを特徴とする複合発光素子
であり、複数の発光素子からなるブロック発光素子にす
ることにより、熱による発光効率の低下と生産性を含め
たコストを改善できる。
ト素子に対し、前記ブロック発光素子を構成する複数個
の発光素子を直列、並列またはその組み合わせで接続し
たことを特徴とする請求項1記載の複合発光素子であ
り、ブロック発光素子を構成する複数の発光素子を並列
に接続することにより請求項1に記載の発明と同様の作
用が得られ、また、直列に接続することにより請求項1
に記載の発明による作用に加え、100Vの商用電源を
そのまま使えるような消費電力に設定できる。
ト素子に、前記ブロック発光素子を構成する複数個の発
光素子が直列、並列またはその組み合わせで接続される
配線を設けたことを特徴とする請求項1記載の複合発光
素子であり、配線により複数の発光素子を並列に接続す
ることにより請求項1に記載の発明と同様の作用が得ら
れ、また、直列に接続することにより請求項1に記載の
発明による作用に加え、100Vの商用電源をそのまま
使えるような消費電力に設定できる。
ト素子は、少なくとも1つのダイオードからなり、前記
ブロック発光素子と逆極性で並列に接続されたものであ
ることを特徴とする請求項2または3記載の複合発光素
子であり、請求項2,3に記載の発明による作用に加
え、1つのサブマウント素子で複数の発光素子の静電気
保護を行うことができる。
て説明する。
ック発光素子の詳細であって、(a)は平面図、(b)
は(a)のA−A線矢視による断面図である。
イア基板1aの上にGaN系化合物半導体を積層した青
色発光のもので、GaN系化合物半導体のn型層の上面
にn側電極1bを形成するとともに、p型層の上面にp
側電極1cを形成したものである。n側電極1b及びp
側電極1cの形成パターンは、従来例の図11で示した
ものの相似形で約4分の1の面積のものを4組配列した
ものに相当し、1個のブロック発光素子1で従来の発光
素子の1.1倍の発光輝度を担うことができる。なお、
n側電極1b及びp側電極1cの形成パターンを、図1
1で示したものと同じサイズのものを4組配列したもの
に相当するものとすれば、4倍以上の発光輝度を担うこ
とができる。
(a)は平面図、(b)は正面図である。
用のツェナーダイオードを利用してn型のSi基板2a
の下面に裏面電極2bを形成するとともに上面にはSi
O2の絶縁膜2cを形成したものである。Si基板2a
の一部には不純物を注入してp型半導体領域2dを形成
している。絶縁膜2cはSi基板2aの全体に形成され
ているが、p型半導体領域2dを開放するp側窓2e及
びSi基板2aのn型層を開放するn側窓2fを一部に
設けている。そして、絶縁膜2cの上にはp側窓2eに
被さってp型半導体領域2dに導通するp側電極3a
と、n側窓2fに被さってSi基板2aのn型層に導通
するn側電極3bが形成されている。また、絶縁膜2c
にはp側電極3a及びn側電極3bとともにブロック発
光素子のn側電極1b及びp側電極1cのパターンを直
列配置するための配線パターンとして第1電極4a,第
2電極4b,第3電極4cがそれぞれ形成されている。
素子1を搭載したときの詳細であって、(a)は平面
図、(b)は正面図である。
ま反転してサブマウント素子2の上に被せたものであ
り、サブマウント素子2のp側電極3a,n側電極3b
及び第1〜第3電極4a,4b,4cに予め形成したバ
ンプ5によって導通接続されている。このとき、ブロッ
ク発光素子1の4組のn側電極1b及びp側電極1cと
サブマウント素子2の各電極3a,3b,4a,4b,
4cの対応は図4に示す通りである。このような導通構
造により、図5の等価回路に示すように、1個のサブマ
ウント素子2に対して4個の発光素子が直列配列される
ことになる。
の上に導通搭載されたブロック発光素子1には4個の発
光素子が含まれているので、従来のものに比べて高輝度
の発光が得られ、植物栽培用光源や照明用光源として最
適に利用できる。また、ブロック発光素子1は4個の発
光素子を直列配列しているので駆動電圧を家庭用電源の
100Vに近づけることができ、植物栽培や照明施設等
での使用が簡単になる。そして、駆動電流が大きくて発
光素子による発熱が大きくても、Si基板2aを用いた
サブマウント素子2による放熱が促進されるので、発熱
輝度が低下することもない。
サブマウント素子2の詳細であって、(a)は平面図、
(b)は正面図である。
型のSi基板2aの下面に裏面電極2bを形成するとと
もに上面にはSiO2の絶縁膜2cを形成したものであ
る。Si基板2aの一部には不純物を注入してp型半導
体領域2dを形成している。絶縁膜2cはSi基板2a
の全体に形成されているが、p型半導体領域2dを開放
するp側窓2e及びSi基板2aのn型層を開放するn
側窓2f,2gを一部に設けている。そして、絶縁膜2
cの上にはp側窓2eに被さってp型半導体領域2dに
導通するp側電極3aと、n側窓2fに被さってSi基
板2aのn型層に導通するn側電極3bと、n側窓2g
に被さってSi基板のn型層に導通するn側電極3cが
形成されている。
ブロック発光素子1の実装は、ブロック発光素子1を図
1の姿勢からそのまま反転してサブマウント素子2の上
に被せたものである。すなわち、ブロック発光素子1の
4組のn側電極1b及びp側電極1cとサブマウント素
子2の各電極3a,3b,3cの対応は図7に示す通り
である。このような導通構造により、図8の等価回路に
示すように、1個のサブマウント素子2に対して4個の
発光素子が並列配列されることになる。
子1は、4分割の4個の発光素子で構成されているが、
これに限ったものではなく、発光効率への効果は、分割
が細かいほど、すなわち構成される発光素子の数が多い
ほど、また、電流が大きいほど大きくなる。
発光素子1を導通搭載することで、ブロック発光素子1
の発光素子を並列配列することができ、高輝度の光源と
して利用できる。
によって構成することにより,発光効率が良くなること
を概算で説明する。
において、計算を簡単とするため発光素子51のチップ
サイズを図9(a)に示すように平面的で1辺が0.4
mmの正方形とし、その一角(同図右下)に半径0.2
mmの扇状のn側電極が形成されているものとする。ま
た、n側電極以外の部分にはp側電極が形成されている
ものとし、この部分の下のp−nジャンクション部が発
光する。電流は20mA流すものとする。このとき、n
側とp側電極の境界線A近傍の電流密度と円弧B近傍の
電流密度は、円弧Aと円弧Bの長さに逆比例する。すな
わち、A近傍の電流密度はB近傍の電流密度の2倍とな
る。
合発光素子を示すものとして、図9(a)に示す1辺が
0.4mmの正方形を図9(b)に示すように1辺が
0.2mmの正方形に4等分し、その各々に1/4の面
積で相似形のn側電極及びp側電極を形成する。その小
さな4個の発光素子は並列に接続され、その各々には電
流5mAが流される。このとき、小さな発光素子のn側
電極とp側電極の境界線SA近傍の電流密度は、円弧S
B近傍の電流密度の2倍となる。また、図9(a)に示
すA近傍の電流密度は、SA近傍の電流密度の2倍とな
る。すなわち、A近傍の電流密度,B近傍の電流密度,
SA近傍の電流密度,SB近傍の電流密度の比は4:
2:2:1である。
子の輝度が電流密度に比例して大きくなるものであれ
ば、A近傍の輝度とB近傍の輝度との合計(4×1+2
×2)はSA近傍の輝度とSB近傍の輝度との合計(2
×1/2+1×1)の4倍に等しくなるはずであるが、
実際は図10(b)に示すように電流密度が大きくなる
にしたがって飽和していく。飽和の重みをそれぞれA,
B,SA,SBの順に0.89,0.95,0.95,
1とすると、A近傍の輝度とB近傍の輝度との合計は4
×0.89×1+2×0.95×2=7.36、SA近
傍の輝度とSB近傍の輝度との合計の4倍は4×(2×
0.95×1/2+1×1×1)=7.8となる。すな
わち、合計面積が同じで発光素子であっても、分割して
並列に接続する方が、発光効率が高くなることを示して
いる。なお、直列に接続する場合も同じように説明でき
る。
ので発光装置の数が削減できる。また、発光素子を複数
個形成したブロック発光素子を1つのサブマウント素子
上に実装するため、1個ずつの発光素子をチップ接合す
るのに比べると、チップ接合時間の工程が大幅に短縮で
きるとともに、小型の発光素子もブロックで扱うのでハ
ンドリングも容易にすることができる。また、複数個の
発光素子の静電気保護を1つのツェナーダイオードで行
えることもコスト的にメリットがある。
ナーダイオードを用いたサブマウント素子2の例につい
て説明したが、複数のダイオードによって等価的に1つ
のダイオードとすることも可能である。
の発光素子で構成されたブロック発光素子を搭載するの
で、発光輝度を向上させることができ、植物栽培用や照
明用の光源として有効に利用できる。また、ブロック発
光素子に含まれる複数の発光素子は、サブマウント素子
を静電気保護用のSi基板のツェナーダイオードとする
ことによって静電気による破壊が防止されるとともに、
大電流を流してもSi基板による放熱が促進されるので
熱による発光素子の発光効率の低下を低く抑えることが
できる。
ロック発光素子の詳細であって、 (a)は平面図 (b)は(a)のA−A線矢視による断面図
ト素子の詳細であって、 (a)は平面図 (b)は正面図
に導通搭載したときの平面図 (b)は正面図
電極の対応を説明するための平面図
ク発光素子の等価回路図
ターンを形成したサブマウント素子の詳細であって、 (a)は平面図 (b)は正面図
素子の電極の対応を説明するための平面図
あって、 (a)は従来の発光素子の模式図 (b)はブロック発光素子の模式図
の電流密度依存性を表したグラフであって、 (a)は理論値を示す図 (b)は実際値を示す図
Claims (4)
- 【請求項1】 サブマウント素子上に発光素子が実装さ
れた複合発光素子であって、前記発光素子が複数個の発
光素子で構成されたブロック発光素子からなることを特
徴とする複合発光素子。 - 【請求項2】 前記サブマウント素子に対し、前記ブロ
ック発光素子を構成する複数個の発光素子を直列、並列
またはその組み合わせで接続したことを特徴とする請求
項1記載の複合発光素子。 - 【請求項3】 前記サブマウント素子に、前記ブロック
発光素子を構成する複数個の発光素子が直列、並列また
はその組み合わせで接続される配線を設けたことを特徴
とする請求項1記載の複合発光素子。 - 【請求項4】 前記サブマウント素子は、少なくとも1
つのダイオードからなり、前記ブロック発光素子と逆極
性で並列に接続されたものであることを特徴とする請求
項2または3記載の複合発光素子。
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Cited By (17)
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