JP2002267962A - 光ビーム合成方法・合成光ビーム用レンズ・マルチビーム光源装置 - Google Patents
光ビーム合成方法・合成光ビーム用レンズ・マルチビーム光源装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】波長の異なる複数の光ビームを、マルチビーム
走査に適合する光ビーム群として光ビーム合成し、各光
ビームを主走査方向に長い線像として、光偏向器の偏向
反射面位置に結像させる。 【解決手段】互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダ
イクロイックミラー７、８を用いて、マルチビーム走査
用の光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビ
ーム群を、共通のアナモルフィックレンズ１１により光
偏向器１０の偏向反射面１０Ａ位置に主走査方向に長い
線像として結像させる方法であって、アナモルフィック
レンズ１１への各光ビームの入射位置を主走査方向へ互
いにずらして設定し、各光ビームがその波長に拘わら
ず、偏向反射面１０Ａ位置に線像を結像するように、ア
ナモルフィックレンズの配置態位及び／または形状を定
める。
走査に適合する光ビーム群として光ビーム合成し、各光
ビームを主走査方向に長い線像として、光偏向器の偏向
反射面位置に結像させる。 【解決手段】互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダ
イクロイックミラー７、８を用いて、マルチビーム走査
用の光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビ
ーム群を、共通のアナモルフィックレンズ１１により光
偏向器１０の偏向反射面１０Ａ位置に主走査方向に長い
線像として結像させる方法であって、アナモルフィック
レンズ１１への各光ビームの入射位置を主走査方向へ互
いにずらして設定し、各光ビームがその波長に拘わら
ず、偏向反射面１０Ａ位置に線像を結像するように、ア
ナモルフィックレンズの配置態位及び／または形状を定
める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光ビーム合成方
法・合成光ビーム用レンズ・マルチビーム光源装置に関
する。
法・合成光ビーム用レンズ・マルチビーム光源装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近来、光プリンタや光製版装置、光描画
装置等の画像形成装置に用いられる光走査装置におい
て、一度に複数の走査線を走査する「マルチビーム走査
方式」が提案され、実用化されつつある。
装置等の画像形成装置に用いられる光走査装置におい
て、一度に複数の走査線を走査する「マルチビーム走査
方式」が提案され、実用化されつつある。
【０００３】このようなマルチビーム走査方式で提案さ
れている「偏光分離膜を有するビーム合成プリズムを用
いる光ビーム合成」の場合、ビーム合成プリズムが高価
であるうえに、３以上の光ビームの合成が困難であると
いう問題がある。
れている「偏光分離膜を有するビーム合成プリズムを用
いる光ビーム合成」の場合、ビーム合成プリズムが高価
であるうえに、３以上の光ビームの合成が困難であると
いう問題がある。
【０００４】一方、光走査装置の光源として一般的であ
る半導体レーザは、近来、種々の波長のものが実用化さ
れてきている。このような状況に鑑み、互いに波長の異
なる光ビームを光ビーム合成してマルチビーム走査を行
なうことが考えられ、そのためのマルチビーム光源装置
として、図６に示す如きものが意図されている。
る半導体レーザは、近来、種々の波長のものが実用化さ
れてきている。このような状況に鑑み、互いに波長の異
なる光ビームを光ビーム合成してマルチビーム走査を行
なうことが考えられ、そのためのマルチビーム光源装置
として、図６に示す如きものが意図されている。
【０００５】符号１、２、３は光源を示す。各光源は
「半導体レーザとカップリングレンズとの組み合わせ」
であって、平行光束化された光ビームを放射する。光源
１から放射される光ビームの波長はλ１、光源２から放
射される光ビームの波長はλ２、光源３から放射される
光ビームの波長はλ３である。
「半導体レーザとカップリングレンズとの組み合わせ」
であって、平行光束化された光ビームを放射する。光源
１から放射される光ビームの波長はλ１、光源２から放
射される光ビームの波長はλ２、光源３から放射される
光ビームの波長はλ３である。
【０００６】各光ビームは、対応するシリンドリカルレ
ンズ４、５、６に入射する。各シリンドリカルレンズ
４、５、６は、副走査方向（図面に直交する方向）に正
のパワーを有する。シリンドリカルレンズ４、５、６を
透過した各光ビームは副走査方向に集光する光束とな
る。
ンズ４、５、６に入射する。各シリンドリカルレンズ
４、５、６は、副走査方向（図面に直交する方向）に正
のパワーを有する。シリンドリカルレンズ４、５、６を
透過した各光ビームは副走査方向に集光する光束とな
る。
【０００７】シリンドリカルレンズ４から射出した光ビ
ームはダイクロイックミラー７に入射する。シリンドリ
カルレンズ５から射出した光ビームはダイクロイックミ
ラー８に入射する。また、シリンドリカルレンズ６から
射出した光ビームはミラー９により反射されてダイクロ
イックミラー８に入射する。
ームはダイクロイックミラー７に入射する。シリンドリ
カルレンズ５から射出した光ビームはダイクロイックミ
ラー８に入射する。また、シリンドリカルレンズ６から
射出した光ビームはミラー９により反射されてダイクロ
イックミラー８に入射する。
【０００８】ダイクロイックミラー７は、波長：λ１の
光を透過させ、波長：λ２、λ３の光を反射する。ま
た、ダイクロイックミラー８は、波長：λ３の光を透過
させ、波長λ２の光を反射する。従って、各光ビームは
ダイクロイックミラー７の作用により「光ビーム群」と
して光ビーム合成され、光偏向器であるポリゴンミラー
１０の偏向反射面１０Ａに入射する。
光を透過させ、波長：λ２、λ３の光を反射する。ま
た、ダイクロイックミラー８は、波長：λ３の光を透過
させ、波長λ２の光を反射する。従って、各光ビームは
ダイクロイックミラー７の作用により「光ビーム群」と
して光ビーム合成され、光偏向器であるポリゴンミラー
１０の偏向反射面１０Ａに入射する。
【０００９】シリンドリカルレンズ４、５、６は互いに
正のパワーが異なり、これら正のパワーは、光ビーム群
として光ビーム合成された各光ビームが、ポリゴンミラ
ー１０の偏向反射面位置に「主走査方向に長い線像」と
して結像するように設定されている。
正のパワーが異なり、これら正のパワーは、光ビーム群
として光ビーム合成された各光ビームが、ポリゴンミラ
ー１０の偏向反射面位置に「主走査方向に長い線像」と
して結像するように設定されている。
【００１０】このようなマルチビーム光源装置は、上記
の如く互いに正のパワーが異なる複数種のシリンドリカ
ルレンズを用いるので部品点数が多くなり、光源装置、
ひいてはマルチビーム走査装置のコストアップにつなが
る。シリンドリカルレンズ４、５、６として同一のレン
ズを用いることも考えられるが、光源やシリンドリカル
レンズ等の光学配置に対する制約が強く、光学系レイア
ウトの自由度が制限される。
の如く互いに正のパワーが異なる複数種のシリンドリカ
ルレンズを用いるので部品点数が多くなり、光源装置、
ひいてはマルチビーム走査装置のコストアップにつなが
る。シリンドリカルレンズ４、５、６として同一のレン
ズを用いることも考えられるが、光源やシリンドリカル
レンズ等の光学配置に対する制約が強く、光学系レイア
ウトの自由度が制限される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上述したと
ころに鑑み、波長の異なる複数の光ビームをマルチビー
ム走査に適合する光ビーム群として光ビーム合成し、各
光ビームを主走査方向に長い線像として、光偏向器の偏
向反射面位置に結像させる光ビーム合成を、安価に実現
することを課題とする。
ころに鑑み、波長の異なる複数の光ビームをマルチビー
ム走査に適合する光ビーム群として光ビーム合成し、各
光ビームを主走査方向に長い線像として、光偏向器の偏
向反射面位置に結像させる光ビーム合成を、安価に実現
することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明の光ビーム合成
方法は「互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダイク
ロイックミラーを用いて、マルチビーム走査用の光ビー
ム群として光ビーム合成し、合成された光ビーム群を、
共通のアナモルフィックレンズにより光偏向器の偏向反
射面位置に主走査方向に長い線像として結像させる方
法」である。
方法は「互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダイク
ロイックミラーを用いて、マルチビーム走査用の光ビー
ム群として光ビーム合成し、合成された光ビーム群を、
共通のアナモルフィックレンズにより光偏向器の偏向反
射面位置に主走査方向に長い線像として結像させる方
法」である。
【００１３】マルチビーム走査用の光ビーム群は「所望
のマルチビーム走査を実現できるように、光ビーム相互
の関係を調整された１群の光ビーム」である。上記の如
く、波長の異なる複数の光ビームは、ダイクロイックミ
ラーを用いて光ビーム合成されるが、このように合成さ
れた光ビーム群は「光ビーム群の各光ビームに共通のア
ナモルフィックレンズ」に入射し、同レンズの作用によ
り、光偏向器の偏向反射面位置に主走査方向に長い線像
として結像される。
のマルチビーム走査を実現できるように、光ビーム相互
の関係を調整された１群の光ビーム」である。上記の如
く、波長の異なる複数の光ビームは、ダイクロイックミ
ラーを用いて光ビーム合成されるが、このように合成さ
れた光ビーム群は「光ビーム群の各光ビームに共通のア
ナモルフィックレンズ」に入射し、同レンズの作用によ
り、光偏向器の偏向反射面位置に主走査方向に長い線像
として結像される。
【００１４】「アナモルフィックレンズへの各光ビーム
の入射位置」は、主走査方向へ互いにずらして設定さ
れ、各光ビームがその波長に拘わらず「偏向反射面位置
に（主走査方向に長い）線像を結像する」ように、アナ
モルフィックレンズの配置態位及び／または形状が定め
られる。
の入射位置」は、主走査方向へ互いにずらして設定さ
れ、各光ビームがその波長に拘わらず「偏向反射面位置
に（主走査方向に長い）線像を結像する」ように、アナ
モルフィックレンズの配置態位及び／または形状が定め
られる。
【００１５】なお、主走査方向・副走査方向は本来、被
走査面上において定義された方向であるが、この明細書
においては、光源から被走査面に至る光路上の任意の位
置において、被走査面上の主走査方向・副走査方向に対
応する方向をも、主走査方向・副走査方向と称する。
走査面上において定義された方向であるが、この明細書
においては、光源から被走査面に至る光路上の任意の位
置において、被走査面上の主走査方向・副走査方向に対
応する方向をも、主走査方向・副走査方向と称する。
【００１６】請求項２記載の光ビーム合成方法は、請求
項１記載の光ビーム合成方法において、アナモルフィッ
クレンズの配置態位と形状とを定める点を特徴とする。
即ち、合成された光ビーム群に共通のアナモルフィック
レンズは形状が「シリンドリカルレンズ」であり、その
母線方向（シリンドリカル面における曲率のない方向）
を、光軸と主走査方向とに平行な面内で光ビームの入射
方向に対して傾け、傾き角（即ち、配置態位）の調整に
より、各光ビームを、その波長に拘わらず、光偏向器の
偏向反射面位置に「主走査方向に長い線像」として結像
させる。
項１記載の光ビーム合成方法において、アナモルフィッ
クレンズの配置態位と形状とを定める点を特徴とする。
即ち、合成された光ビーム群に共通のアナモルフィック
レンズは形状が「シリンドリカルレンズ」であり、その
母線方向（シリンドリカル面における曲率のない方向）
を、光軸と主走査方向とに平行な面内で光ビームの入射
方向に対して傾け、傾き角（即ち、配置態位）の調整に
より、各光ビームを、その波長に拘わらず、光偏向器の
偏向反射面位置に「主走査方向に長い線像」として結像
させる。
【００１７】請求項３〜６に記載された各光ビーム合成
方法では、特殊な形状のアナモルフィックレンズが用い
られる。即ち、合成された光ビーム群に共通のアナモル
フィックレンズとして、請求項３記載の方法では「副走
査方向に正のパワーを持つシリンドリカル面の母線方向
にレンズ肉厚が変化する特殊シリンドリカルレンズ」が
用いられ、請求項４記載の方法では「片面が副走査方向
に正のパワーを持つ円錐面、他方の面が平面で、レンズ
肉厚が円錐面の母線方向において、円錐面の頂点側へ向
かって薄くなるように変化する円錐面レンズ」が用いら
れる。
方法では、特殊な形状のアナモルフィックレンズが用い
られる。即ち、合成された光ビーム群に共通のアナモル
フィックレンズとして、請求項３記載の方法では「副走
査方向に正のパワーを持つシリンドリカル面の母線方向
にレンズ肉厚が変化する特殊シリンドリカルレンズ」が
用いられ、請求項４記載の方法では「片面が副走査方向
に正のパワーを持つ円錐面、他方の面が平面で、レンズ
肉厚が円錐面の母線方向において、円錐面の頂点側へ向
かって薄くなるように変化する円錐面レンズ」が用いら
れる。
【００１８】また、請求項５記載の方法では、合成され
た光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズとして
「片面が副走査方向に正のパワーを持つシリンドリカル
面で、他方の面が副走査方向にパワーを持たず主走査方
向に正のパワーを持つように、レンズ肉厚がシリンドリ
カル面の母線方向において一方から他方の側へ向かって
薄くなるように変化する特殊なシリンドリカルレンズ」
が用いられ、請求項６記載の方法では「各光ビームの入
射位置に応じて、曲率（入射光ビームの波長に応じて定
まる）が段階的に変化するシリンドリカル面を有する特
殊なシリンドリカルレンズ」が、合成された光ビーム群
に共通のアナモルフィックレンズとして用いられる。
た光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズとして
「片面が副走査方向に正のパワーを持つシリンドリカル
面で、他方の面が副走査方向にパワーを持たず主走査方
向に正のパワーを持つように、レンズ肉厚がシリンドリ
カル面の母線方向において一方から他方の側へ向かって
薄くなるように変化する特殊なシリンドリカルレンズ」
が用いられ、請求項６記載の方法では「各光ビームの入
射位置に応じて、曲率（入射光ビームの波長に応じて定
まる）が段階的に変化するシリンドリカル面を有する特
殊なシリンドリカルレンズ」が、合成された光ビーム群
に共通のアナモルフィックレンズとして用いられる。
【００１９】請求項７〜１０に記載された各合成光ビー
ム用レンズは「合成された光ビーム群に共通のアナモル
フィックレンズ」である。請求項７記載の合成光ビーム
用レンズは、上記請求項３記載の光ビーム合成方法の実
施に用いられる合成光ビーム用レンズであって「合成さ
れた光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズで、副
走査方向に正のパワーを持つシリンドリカル面の母線方
向にレンズ肉厚が変化する特殊シリンドリカルレンズ」
である。
ム用レンズは「合成された光ビーム群に共通のアナモル
フィックレンズ」である。請求項７記載の合成光ビーム
用レンズは、上記請求項３記載の光ビーム合成方法の実
施に用いられる合成光ビーム用レンズであって「合成さ
れた光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズで、副
走査方向に正のパワーを持つシリンドリカル面の母線方
向にレンズ肉厚が変化する特殊シリンドリカルレンズ」
である。
【００２０】請求項８記載の合成光ビーム用レンズは、
上記請求項４記載の光ビーム合成方法の実施に用いられ
る合成光ビーム用レンズであって「片面が副走査方向に
正のパワーを持つ円錐面、他方の面が平面で、レンズ肉
厚が円錐面の母線方向において、円錐面の頂点側へ向か
って薄くなるように変化する円錐面レンズ」である。
上記請求項４記載の光ビーム合成方法の実施に用いられ
る合成光ビーム用レンズであって「片面が副走査方向に
正のパワーを持つ円錐面、他方の面が平面で、レンズ肉
厚が円錐面の母線方向において、円錐面の頂点側へ向か
って薄くなるように変化する円錐面レンズ」である。
【００２１】請求項９記載の合成光ビーム用レンズは、
上記請求項５記載の光ビーム合成方法の実施に用いられ
る合成光ビーム用レンズであって「合成された光ビーム
群に共通のアナモルフィックレンズで、片面が副走査方
向に正のパワーを持つシリンドリカル面で、他方の面が
副走査方向にパワーを持たず主走査方向に正のパワーを
持つように、レンズ肉厚がシリンドリカル面の母線方向
において一方から他方の側へ向かって薄くなるように変
化する特殊なシリンドリカルレンズ」である。
上記請求項５記載の光ビーム合成方法の実施に用いられ
る合成光ビーム用レンズであって「合成された光ビーム
群に共通のアナモルフィックレンズで、片面が副走査方
向に正のパワーを持つシリンドリカル面で、他方の面が
副走査方向にパワーを持たず主走査方向に正のパワーを
持つように、レンズ肉厚がシリンドリカル面の母線方向
において一方から他方の側へ向かって薄くなるように変
化する特殊なシリンドリカルレンズ」である。
【００２２】請求項１０記載の合成光ビーム用レンズ
は、上記請求項６記載の光ビーム合成方法の実施に用い
られる合成光ビーム用レンズであって「各光ビームの入
射位置に応じて、曲率が（入射光ビームの波長に応じ
て）段階的に変化するシリンドリカル面を有する特殊な
シリンドリカルレンズ」である。
は、上記請求項６記載の光ビーム合成方法の実施に用い
られる合成光ビーム用レンズであって「各光ビームの入
射位置に応じて、曲率が（入射光ビームの波長に応じ
て）段階的に変化するシリンドリカル面を有する特殊な
シリンドリカルレンズ」である。
【００２３】この発明のマルチビーム光源装置は「互い
に波長の異なる複数の光ビームを、ダイクロイックミラ
ーを用いて、マルチビーム走査用の光ビーム群として光
ビーム合成し、合成された光ビーム群を、共通のアナモ
ルフィックレンズにより光偏向器の偏向反射面位置に主
走査方向に長い線像として結像させるマルチビーム光源
装置」であって、複数の光源と、１以上のダイクロイッ
クミラーと、アナモルフィックレンズを有する。
に波長の異なる複数の光ビームを、ダイクロイックミラ
ーを用いて、マルチビーム走査用の光ビーム群として光
ビーム合成し、合成された光ビーム群を、共通のアナモ
ルフィックレンズにより光偏向器の偏向反射面位置に主
走査方向に長い線像として結像させるマルチビーム光源
装置」であって、複数の光源と、１以上のダイクロイッ
クミラーと、アナモルフィックレンズを有する。
【００２４】「複数の光源」は、互いに異なる波長の光
ビームを放射する。「１以上のダイクロイックミラー」
は、複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビーム
群として光ビーム合成する。「アナモルフィックレン
ズ」は、合成された光ビーム群を、光偏向器の偏向反射
面位置に主走査方向に長い線像として結像させるためレ
ンズである。
ビームを放射する。「１以上のダイクロイックミラー」
は、複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビーム
群として光ビーム合成する。「アナモルフィックレン
ズ」は、合成された光ビーム群を、光偏向器の偏向反射
面位置に主走査方向に長い線像として結像させるためレ
ンズである。
【００２５】請求項１１記載のマルチビーム光源装置で
は、上記アナモルフィックレンズがシリンドリカルレン
ズであって、その母線方向が、光軸と主走査方向とに平
行な面内で光ビームの入射方向に対して傾けられ、各光
ビームが、その波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面
位置に、主走査方向に長い線像として結像するように傾
き角を調整されている。
は、上記アナモルフィックレンズがシリンドリカルレン
ズであって、その母線方向が、光軸と主走査方向とに平
行な面内で光ビームの入射方向に対して傾けられ、各光
ビームが、その波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面
位置に、主走査方向に長い線像として結像するように傾
き角を調整されている。
【００２６】即ち、請求項１１記載のマルチビーム光源
装置では、請求項２記載の光ビーム合成方法で光ビーム
合成が行なわれる。
装置では、請求項２記載の光ビーム合成方法で光ビーム
合成が行なわれる。
【００２７】請求項１２記載のマルチビーム光源装置
は、上記アナモルフィックレンズとして上記請求項７〜
１０の任意の１に記載の合成光ビーム用レンズを用い、
請求項１記載の光ビーム合成方法で光ビーム合成を行な
うことを特徴とする。即ち、合成光ビーム用レンズに応
じて、請求項３〜６の何れかに記載の光ビーム合成が行
われる。
は、上記アナモルフィックレンズとして上記請求項７〜
１０の任意の１に記載の合成光ビーム用レンズを用い、
請求項１記載の光ビーム合成方法で光ビーム合成を行な
うことを特徴とする。即ち、合成光ビーム用レンズに応
じて、請求項３〜６の何れかに記載の光ビーム合成が行
われる。
【００２８】
【発明の実施の形態】図１は、請求項１１記載のマルチ
ビーム光源装置の、実施の１形態を示している。なお、
繁雑を避けるため、混同の恐れがないと思われるものに
ついては、図６におけると同一の符号を示した。
ビーム光源装置の、実施の１形態を示している。なお、
繁雑を避けるため、混同の恐れがないと思われるものに
ついては、図６におけると同一の符号を示した。
【００２９】図１（ａ）において、光源１、２、３は
「半導体レーザとカップリングレンズとの組み合わせ」
で構成され、平行光束化された光ビームを放射する。光
源１から放射される波長：λ１の光ビームはダイクロイ
ックミラー７に入射する。
「半導体レーザとカップリングレンズとの組み合わせ」
で構成され、平行光束化された光ビームを放射する。光
源１から放射される波長：λ１の光ビームはダイクロイ
ックミラー７に入射する。
【００３０】光源２から放射される波長：λ２の光ビー
ムはダイクロイックミラー８に入射し、光源３から放射
される波長：λ３の光ビームはミラー９により反射され
てダイクロイックミラー８に入射する。なお、波長：λ
１、λ２、λ３の大小関係は、λ１＞λ２＞λ３である
とする。
ムはダイクロイックミラー８に入射し、光源３から放射
される波長：λ３の光ビームはミラー９により反射され
てダイクロイックミラー８に入射する。なお、波長：λ
１、λ２、λ３の大小関係は、λ１＞λ２＞λ３である
とする。
【００３１】ダイクロイックミラー７は波長：λ１の光
を透過させ、波長：λ２、λ３の光を反射する。またダ
イクロイックミラー８は波長：λ３の光を透過させ、波
長λ ２の光を反射する。従って、各光ビームはダイクロ
イックミラー７の作用により、光ビーム群として光ビー
ム合成される。
を透過させ、波長：λ２、λ３の光を反射する。またダ
イクロイックミラー８は波長：λ３の光を透過させ、波
長λ ２の光を反射する。従って、各光ビームはダイクロ
イックミラー７の作用により、光ビーム群として光ビー
ム合成される。
【００３２】このように光ビーム合成された光ビーム群
は「これら光ビームに共通のアナモルフィックレンズ」
であるシリンドリカルレンズ１１に入射する。シリンド
リカルレンズ１１は副走査方向に正のパワーを持ち、各
光ビームを副走査方向に集束させる。シリンドリカルレ
ンズ１１により副走査方向に集束された各光ビームは、
集束しつつ（光偏向器である）ポリゴンミラー１０の偏
向反射面１０Ａに入射する。
は「これら光ビームに共通のアナモルフィックレンズ」
であるシリンドリカルレンズ１１に入射する。シリンド
リカルレンズ１１は副走査方向に正のパワーを持ち、各
光ビームを副走査方向に集束させる。シリンドリカルレ
ンズ１１により副走査方向に集束された各光ビームは、
集束しつつ（光偏向器である）ポリゴンミラー１０の偏
向反射面１０Ａに入射する。
【００３３】このとき、各光ビームは副走査方向におい
て、偏向反射面１０Ａの位置に線像を結像することが必
要であるが、図１（ｂ）に示すように、各光ビームをシ
リンドリカルレンズ１１へ「その光軸に平行に入射」さ
せると、各光ビームは波長が異なるので、シリンドリカ
ルレンズ１１の色収差により、各光ビームの集束位置
（主走査方向に長い線像の結像位置）が、波長：λ１の
光ビームに対する集束位置Ｐ１、波長：λ２の光ビーム
に対する集束位置Ｐ２、波長：λ３の光ビームに対する
集束位置Ｐ３が、図のようにシリンドリカルレンズ１１
の光軸方向へずれてしまう。
て、偏向反射面１０Ａの位置に線像を結像することが必
要であるが、図１（ｂ）に示すように、各光ビームをシ
リンドリカルレンズ１１へ「その光軸に平行に入射」さ
せると、各光ビームは波長が異なるので、シリンドリカ
ルレンズ１１の色収差により、各光ビームの集束位置
（主走査方向に長い線像の結像位置）が、波長：λ１の
光ビームに対する集束位置Ｐ１、波長：λ２の光ビーム
に対する集束位置Ｐ２、波長：λ３の光ビームに対する
集束位置Ｐ３が、図のようにシリンドリカルレンズ１１
の光軸方向へずれてしまう。
【００３４】すると、主走査方向に長い３つの線像を全
て、ポリゴンミラー１０の偏向反射面位置に結像させる
ことはできず、線像のうちの２つは偏向反射面に対して
ずれることになる。このようになると、各光ビームが被
走査面上に形成する光スポットの大きさが不揃いにな
り、この不揃いは、ｆθレンズとして「色収差を補正し
たレンズ」を用いても解消できない。
て、ポリゴンミラー１０の偏向反射面位置に結像させる
ことはできず、線像のうちの２つは偏向反射面に対して
ずれることになる。このようになると、各光ビームが被
走査面上に形成する光スポットの大きさが不揃いにな
り、この不揃いは、ｆθレンズとして「色収差を補正し
たレンズ」を用いても解消できない。
【００３５】そこで図１の実施の形態においては、図１
（ｃ）に示すように、アナモルフィックレンズとしての
シリンドリカルレンズ１１への、３つの光ビームの入射
位置を主走査方向に互いにずらすと共に、シリンドリカ
ルレンズ１１を「その母線方向を、光軸と主走査方向と
に平行な面内（図の面内）で、光ビームの入射方向に対
して傾」け、傾き角：ξの調整により、各光ビームを
「その波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面１０Ａ位
置に、主走査方向に長い線像として結像させる」ように
している。
（ｃ）に示すように、アナモルフィックレンズとしての
シリンドリカルレンズ１１への、３つの光ビームの入射
位置を主走査方向に互いにずらすと共に、シリンドリカ
ルレンズ１１を「その母線方向を、光軸と主走査方向と
に平行な面内（図の面内）で、光ビームの入射方向に対
して傾」け、傾き角：ξの調整により、各光ビームを
「その波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面１０Ａ位
置に、主走査方向に長い線像として結像させる」ように
している。
【００３６】即ち、図１に実施の形態を示したマルチビ
ーム光源装置は、互いに波長の異なる複数の光ビーム
を、ダイクロイックミラーを用いて、マルチビーム走査
用の光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビ
ーム群を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏向
器の偏向反射面位置に主走査方向に長い線像として結像
させるマルチビーム光源装置であって、互いに異なる波
長の光ビームを放射する複数の光源１、２、３と、これ
ら複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビーム群
として光ビーム合成するための１以上のダイクロイック
ミラー７、８と、合成された光ビーム群を、光偏向器１
０の偏向反射面１０Ａ位置に主走査方向に長い線像とし
て結像させるためのアナモルフィックレンズ１１とを有
し、アナモルフィックレンズ１１がシリンドリカルレン
ズであって、その母線方向を、光軸と主走査方向とに平
行な面内で、光ビームの入射方向に対して傾け、各光ビ
ームをその波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面位置
に、主走査方向に長い線像として結像させるように傾き
角：ξを調整されている（請求項１１）。
ーム光源装置は、互いに波長の異なる複数の光ビーム
を、ダイクロイックミラーを用いて、マルチビーム走査
用の光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビ
ーム群を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏向
器の偏向反射面位置に主走査方向に長い線像として結像
させるマルチビーム光源装置であって、互いに異なる波
長の光ビームを放射する複数の光源１、２、３と、これ
ら複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビーム群
として光ビーム合成するための１以上のダイクロイック
ミラー７、８と、合成された光ビーム群を、光偏向器１
０の偏向反射面１０Ａ位置に主走査方向に長い線像とし
て結像させるためのアナモルフィックレンズ１１とを有
し、アナモルフィックレンズ１１がシリンドリカルレン
ズであって、その母線方向を、光軸と主走査方向とに平
行な面内で、光ビームの入射方向に対して傾け、各光ビ
ームをその波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面位置
に、主走査方向に長い線像として結像させるように傾き
角：ξを調整されている（請求項１１）。
【００３７】そして図１のマルチビーム光源装置では、
互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダイクロイック
ミラー７、８を用いて、マルチビーム走査用の光ビーム
群として光ビーム合成し、合成された光ビーム群を、共
通のアナモルフィックレンズ１１により光偏向器の偏向
反射面位置に主走査方向に長い線像として結像させる方
法であって、アナモルフィックレンズ１１への各光ビー
ムの入射位置を主走査方向へ互いにずらして設定し、各
光ビームが、その波長に拘わらず偏向反射面１０Ａ位置
に線像を結像するように、アナモルフィックレンズ１１
の配置態位（傾き角：ξ）及び形状（シリンドリカルレ
ンズ）を定めた光ビーム合成方法（請求項１）が実施さ
れる。
互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダイクロイック
ミラー７、８を用いて、マルチビーム走査用の光ビーム
群として光ビーム合成し、合成された光ビーム群を、共
通のアナモルフィックレンズ１１により光偏向器の偏向
反射面位置に主走査方向に長い線像として結像させる方
法であって、アナモルフィックレンズ１１への各光ビー
ムの入射位置を主走査方向へ互いにずらして設定し、各
光ビームが、その波長に拘わらず偏向反射面１０Ａ位置
に線像を結像するように、アナモルフィックレンズ１１
の配置態位（傾き角：ξ）及び形状（シリンドリカルレ
ンズ）を定めた光ビーム合成方法（請求項１）が実施さ
れる。
【００３８】この光ビーム合成方法はまた、合成された
光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ１１がシリ
ンドリカルレンズであって、その母線方向を、光軸と主
走査方向とに平行な面内で、光ビームの入射方向に対し
て傾け、傾き角：ξの調整により、各光ビームを、その
波長に拘わらず光偏向器１０の偏向反射面１０Ａ位置
に、主走査方向に長い線像として結像させる光ビーム合
成方法（請求項２）である。
光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ１１がシリ
ンドリカルレンズであって、その母線方向を、光軸と主
走査方向とに平行な面内で、光ビームの入射方向に対し
て傾け、傾き角：ξの調整により、各光ビームを、その
波長に拘わらず光偏向器１０の偏向反射面１０Ａ位置
に、主走査方向に長い線像として結像させる光ビーム合
成方法（請求項２）である。
【００３９】図２（ａ）は、請求項７記載の合成光ビー
ム用レンズの実施の１形態を示している。合成光ビーム
用レンズ１２は「合成された光ビーム群に共通のアナモ
ルフィックレンズ」であって、副走査方向に正のパワー
を持つシリンドリカル面１２Ａの母線方向に、レンズ肉
厚が変化する特殊シリンドリカルレンズである。シリン
ドリカル面１２Ａと対向する面１２Ｂは平面である。
ム用レンズの実施の１形態を示している。合成光ビーム
用レンズ１２は「合成された光ビーム群に共通のアナモ
ルフィックレンズ」であって、副走査方向に正のパワー
を持つシリンドリカル面１２Ａの母線方向に、レンズ肉
厚が変化する特殊シリンドリカルレンズである。シリン
ドリカル面１２Ａと対向する面１２Ｂは平面である。
【００４０】図２（ｂ）に示すように、３つの光ビーム
を特殊シリンドリカルレンズ１２へ「入射位置を主走査
方向へ互いにずらして入射」させると、シリンドリカル
面のレンズ作用における色収差が、各光ビームが透過す
るレンズ肉厚の差により補正され、各光ビームをその波
長に拘わらず、光偏向器１０の偏向反射面１０Ａ位置
に、主走査方向に長い線像として結像させることができ
る。
を特殊シリンドリカルレンズ１２へ「入射位置を主走査
方向へ互いにずらして入射」させると、シリンドリカル
面のレンズ作用における色収差が、各光ビームが透過す
るレンズ肉厚の差により補正され、各光ビームをその波
長に拘わらず、光偏向器１０の偏向反射面１０Ａ位置
に、主走査方向に長い線像として結像させることができ
る。
【００４１】従って、図１（ａ）に示すマルチビーム光
源装置において、シリンドリカルレンズ１１に換えて、
特殊シリンドリカルレンズ１２を用いることにより、前
記請求項３記載の光ビーム合成方法が実施される。
源装置において、シリンドリカルレンズ１１に換えて、
特殊シリンドリカルレンズ１２を用いることにより、前
記請求項３記載の光ビーム合成方法が実施される。
【００４２】図３（ａ）に示す合成光ビーム用レンズ１
３は「合成された光ビーム群に共通のアナモルフィック
レンズ」で、片面が副走査方向に正のパワーを持つ円錐
面１３Ａ、他方の面が平面１３Ｂで、レンズ肉厚が円錐
面１３Ａの（鎖線で示す）母線方向において、円錐面１
３Ａの頂点側へ向かって薄くなるように変化する円錐面
レンズである（請求項８）。
３は「合成された光ビーム群に共通のアナモルフィック
レンズ」で、片面が副走査方向に正のパワーを持つ円錐
面１３Ａ、他方の面が平面１３Ｂで、レンズ肉厚が円錐
面１３Ａの（鎖線で示す）母線方向において、円錐面１
３Ａの頂点側へ向かって薄くなるように変化する円錐面
レンズである（請求項８）。
【００４３】図３（ｂ）に示すように、３つの光ビーム
を円錐面レンズ１３へ、入射位置を主走査方向へ互いに
ずらして入射させると、光ビーム間の色収差が、各光ビ
ームが透過するレンズ肉厚の差と円錐面の曲率の差とに
より補正され、各光ビームをその波長に拘わらず、光偏
向器１０の偏向反射面１０Ａ位置に、主走査方向に長い
線像として結像させることができる。従って、図１
（ａ）に示すマルチビーム光源装置において、シリンド
リカルレンズ１１に換えて、円錐面レンズ１３を用いる
ことにより、前記請求項４記載の光ビーム合成方法が実
施される。
を円錐面レンズ１３へ、入射位置を主走査方向へ互いに
ずらして入射させると、光ビーム間の色収差が、各光ビ
ームが透過するレンズ肉厚の差と円錐面の曲率の差とに
より補正され、各光ビームをその波長に拘わらず、光偏
向器１０の偏向反射面１０Ａ位置に、主走査方向に長い
線像として結像させることができる。従って、図１
（ａ）に示すマルチビーム光源装置において、シリンド
リカルレンズ１１に換えて、円錐面レンズ１３を用いる
ことにより、前記請求項４記載の光ビーム合成方法が実
施される。
【００４４】図４（ａ）に示す合成光ビーム用レンズ１
４は「合成された光ビーム群に共通のアナモルフィック
レンズ」で、片面が副走査方向に正のパワーを持つシリ
ンドリカル面１４Ａで、他方の面１４Ｂは「副走査方向
にパワーを持たず、主走査方向に正のパワーを持つよう
に、レンズ肉厚がシリンドリカル面の母線方向において
一方から他方の側へ向かって薄くなるように変化」する
特殊なシリンドリカルレンズ（請求項９）である。
４は「合成された光ビーム群に共通のアナモルフィック
レンズ」で、片面が副走査方向に正のパワーを持つシリ
ンドリカル面１４Ａで、他方の面１４Ｂは「副走査方向
にパワーを持たず、主走査方向に正のパワーを持つよう
に、レンズ肉厚がシリンドリカル面の母線方向において
一方から他方の側へ向かって薄くなるように変化」する
特殊なシリンドリカルレンズ（請求項９）である。
【００４５】図４（ｂ）に示すように、３つの光ビーム
を特殊なシリンドリカルレンズ１４へ、入射位置を主走
査方向へ互いにずらして入射させると、光ビーム間の色
収差が、各光ビームが透過するレンズ肉厚の差により補
正され、各光ビームをその波長に拘わらず、光偏向器１
０の偏向反射面１０Ａ位置に、主走査方向に長い線像と
して結像させることができる。
を特殊なシリンドリカルレンズ１４へ、入射位置を主走
査方向へ互いにずらして入射させると、光ビーム間の色
収差が、各光ビームが透過するレンズ肉厚の差により補
正され、各光ビームをその波長に拘わらず、光偏向器１
０の偏向反射面１０Ａ位置に、主走査方向に長い線像と
して結像させることができる。
【００４６】また、レンズ面１４Ｂの有する「主走査方
向の正のパワー」により、レンズ透過後の各光ビームの
方向が、偏向反射面１０Ａに向かうに連れて互いに近づ
くので、図の如く、上記各線像の結像位置を主走査方向
に揃えることもできる。従って、図１（ａ）に示すマル
チビーム光源装置において、シリンドリカルレンズ１１
に換えて、特殊なシリンドリカルレンズ１４を用いるこ
とにより、前記請求項５記載の光ビーム合成方法が実施
される。
向の正のパワー」により、レンズ透過後の各光ビームの
方向が、偏向反射面１０Ａに向かうに連れて互いに近づ
くので、図の如く、上記各線像の結像位置を主走査方向
に揃えることもできる。従って、図１（ａ）に示すマル
チビーム光源装置において、シリンドリカルレンズ１１
に換えて、特殊なシリンドリカルレンズ１４を用いるこ
とにより、前記請求項５記載の光ビーム合成方法が実施
される。
【００４７】図５には、請求項１０記載の合成光ビーム
用レンズを２例示す。これら合成光ビーム用レンズ１
５、１６は「合成された光ビーム群に共通のアナモルフ
ィックレンズで、各光ビームの入射位置に応じて、曲率
が段階的に変化するシリンドリカル面を有する特殊なシ
リンドリカルレンズ」である。
用レンズを２例示す。これら合成光ビーム用レンズ１
５、１６は「合成された光ビーム群に共通のアナモルフ
ィックレンズで、各光ビームの入射位置に応じて、曲率
が段階的に変化するシリンドリカル面を有する特殊なシ
リンドリカルレンズ」である。
【００４８】特殊なシリンドリカルレンズ１５では、各
光ビームの入射位置に応じて、曲率（光ビームの波長に
応じて定まる）が段階的に変化するシリンドリカル面１
５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃを有する。これらシリンドリカル
面と対向する面は平面である。シリンドリカルレンズ１
５では、シリンドリカル面の曲率とともに、シリンドリ
カル面１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃの部分でのレンズ肉厚が
異なっている。
光ビームの入射位置に応じて、曲率（光ビームの波長に
応じて定まる）が段階的に変化するシリンドリカル面１
５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃを有する。これらシリンドリカル
面と対向する面は平面である。シリンドリカルレンズ１
５では、シリンドリカル面の曲率とともに、シリンドリ
カル面１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃの部分でのレンズ肉厚が
異なっている。
【００４９】また、シリンドリカルレンズ１６では、シ
リンドリカル面１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ（これらの面に
対向する面は平面である）は曲率が、各光ビームの入射
位置で「入射光ビームの波長に応じて段階的に変化」す
るが、レンズの肉厚は同一である。
リンドリカル面１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ（これらの面に
対向する面は平面である）は曲率が、各光ビームの入射
位置で「入射光ビームの波長に応じて段階的に変化」す
るが、レンズの肉厚は同一である。
【００５０】これら特殊なシリンドリカルレンズ１５ま
たは１６を、図１（ａ）に示すマルチビーム光源装置に
おいて、シリンドリカルレンズ１１に換えて用いること
により、前記請求項６記載の光ビーム合成方法を実施す
ることができる。
たは１６を、図１（ａ）に示すマルチビーム光源装置に
おいて、シリンドリカルレンズ１１に換えて用いること
により、前記請求項６記載の光ビーム合成方法を実施す
ることができる。
【００５１】図１（ａ）におけるシリンドリカルレンズ
１１に換えて、図２〜図６に示した各合成光ビーム用レ
ンズを用いたものは、互いに波長の異なる複数の光ビー
ムを、ダイクロイックミラーを用いて、マルチビーム走
査用の光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光
ビーム群を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏
向器の偏向反射面位置に主走査方向に長い線像として結
像させるマルチビーム光源装置であって、互いに異なる
波長の光ビームを放射する複数の光源１、２、３と、こ
れら複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビーム
群として光ビーム合成するための１以上のダイクロイッ
クミラー７、８と、合成された光ビーム群を、光偏向器
１０の偏向反射面１０Ａ位置に主走査方向に長い線像と
して結像させるためのアナモルフィックレンズとを有
し、アナモルフィックレンズが請求項７〜１０の任意の
１に記載の合成光ビーム用レンズ（１２、１３、１４、
１５、１６）であって、合成光ビーム用レンズに応じ
て、請求項３〜６の何れかに記載の光ビーム合成方法で
光ビーム合成を行なうもの（請求項１２）である。
１１に換えて、図２〜図６に示した各合成光ビーム用レ
ンズを用いたものは、互いに波長の異なる複数の光ビー
ムを、ダイクロイックミラーを用いて、マルチビーム走
査用の光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光
ビーム群を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏
向器の偏向反射面位置に主走査方向に長い線像として結
像させるマルチビーム光源装置であって、互いに異なる
波長の光ビームを放射する複数の光源１、２、３と、こ
れら複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビーム
群として光ビーム合成するための１以上のダイクロイッ
クミラー７、８と、合成された光ビーム群を、光偏向器
１０の偏向反射面１０Ａ位置に主走査方向に長い線像と
して結像させるためのアナモルフィックレンズとを有
し、アナモルフィックレンズが請求項７〜１０の任意の
１に記載の合成光ビーム用レンズ（１２、１３、１４、
１５、１６）であって、合成光ビーム用レンズに応じ
て、請求項３〜６の何れかに記載の光ビーム合成方法で
光ビーム合成を行なうもの（請求項１２）である。
【００５２】上には、３つの光ビームを合成する場合を
説明したが、勿論、２つの光ビームを合成できるし、４
つ以上の光ビームを合成することもできることは言うま
でもない。また、光源から射出する光ビームは「平行光
束」に限らず、弱い発散性の光束や、弱い集束性の光束
でも良い。光偏向器はポリゴンミラーを用いるものに限
らず、回転単面鏡や回転２面鏡でも良いし、ガルバノミ
ラーのような揺動鏡でもよい。
説明したが、勿論、２つの光ビームを合成できるし、４
つ以上の光ビームを合成することもできることは言うま
でもない。また、光源から射出する光ビームは「平行光
束」に限らず、弱い発散性の光束や、弱い集束性の光束
でも良い。光偏向器はポリゴンミラーを用いるものに限
らず、回転単面鏡や回転２面鏡でも良いし、ガルバノミ
ラーのような揺動鏡でもよい。
【００５３】上に説明した各種の「合成光ビーム用レン
ズ」は、硝材の研磨あるいは金型による樹脂成形加工に
より、容易且つ安価に製造することができる。
ズ」は、硝材の研磨あるいは金型による樹脂成形加工に
より、容易且つ安価に製造することができる。
【００５４】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規な光ビーム合成方法・合成光ビーム用レンズ・マ
ルチビーム光源装置を実現できる。この発明の光ビーム
合成方法・マルチビーム光源装置は、この発明の合成光
ビーム用レンズを用いることにより、波長の異なる複数
の光ビームを、確実に光ビーム合成して、光偏向器の偏
向反射面位置に、各々主走査方向に長い線像として結像
させることができる。
ば新規な光ビーム合成方法・合成光ビーム用レンズ・マ
ルチビーム光源装置を実現できる。この発明の光ビーム
合成方法・マルチビーム光源装置は、この発明の合成光
ビーム用レンズを用いることにより、波長の異なる複数
の光ビームを、確実に光ビーム合成して、光偏向器の偏
向反射面位置に、各々主走査方向に長い線像として結像
させることができる。
【００５５】合成光ビーム用レンズは、高価な偏光ビー
ムスプリッタに比して安価に作製できるので、マルチビ
ーム光源装置、ひいてはマルチビーム走査装置のコスト
を低減でき、３以上の光ビームによるマルチビーム走査
も容易に実現できる。
ムスプリッタに比して安価に作製できるので、マルチビ
ーム光源装置、ひいてはマルチビーム走査装置のコスト
を低減でき、３以上の光ビームによるマルチビーム走査
も容易に実現できる。
【図１】マルチビーム光源装置の実施の１形態を説明す
るための図である。
るための図である。
【図２】請求項７記載の特殊シリンドリカルレンズを説
明するための図である。
明するための図である。
【図３】請求項８記載の円錐面レンズを説明するための
図である。
図である。
【図４】請求項９記載の特殊なシリンドリカルレンズを
説明するための図である。
説明するための図である。
【図５】請求項１０記載の特殊なシリンドリカルレンズ
を２例示す図である。
を２例示す図である。
【図６】従来技術を説明するための図である。
１、２、３ 光源 ７、８ ダイクロイックミラー １０ 光偏向器（ポリゴンミラー） １０Ａ 偏向反射面 １１ シリンドリカルレンズ
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 13/08 Ｇ０２Ｂ 13/18 13/18 Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｚ Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ｚ Ｆターム(参考） 2C362 AA04 AA42 AA47 AA48 BA54 BA58 BA84 BA90 DA03 DA09 2H045 AA01 BA24 BA33 CA03 2H087 KA19 LA21 LA26 LA28 NA01 PA01 PA17 PB01 QA02 QA05 QA07 QA13 QA14 QA33 QA34 RA07 RA12 RA13 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 5C072 AA03 BA02 DA02 DA06 DA21 HA02 HA06 HA10 HA11 HB10 XA05
Claims (12)
- 【請求項１】互いに波長の異なる複数の光ビームを、ダ
イクロイックミラーを用いて、マルチビーム走査用の光
ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビーム群
を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏向器の偏
向反射面位置に主走査方向に長い線像として結像させる
方法であって、 上記アナモルフィックレンズへの各光ビームの入射位置
を、主走査方向へ互いにずらして設定し、 各光ビームが、その波長に拘わらず、上記偏向反射面位
置に上記線像を結像するように、上記アナモルフィック
レンズの配置態位及び／または形状を定めたことを特徴
とする光ビーム合成方法。 - 【請求項２】請求項１記載の光ビーム合成方法におい
て、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
がシリンドリカルレンズであって、その母線方向を、光
軸と主走査方向とに平行な面内で、光ビームの入射方向
に対して傾け、傾き角の調整により、各光ビームを、そ
の波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面位置に、主走
査方向に長い線像として結像させることを特徴とする光
ビーム合成方法。 - 【請求項３】請求項１記載の光ビーム合成方法におい
て、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
として、副走査方向に正のパワーを持つシリンドリカル
面の母線方向に、レンズ肉厚が変化する特殊シリンドリ
カルレンズを用いることを特徴とする光ビーム合成方
法。 - 【請求項４】請求項１記載の光ビーム合成方法におい
て、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
として、片面が副走査方向に正のパワーを持つ円錐面、
他方の面が平面で、レンズ肉厚が上記円錐面の母線方向
において、上記円錐面の頂点側へ向かって薄くなるよう
に変化する円錐面レンズを用いることを特徴とする光ビ
ーム合成方法。 - 【請求項５】請求項１記載の光ビーム合成方法におい
て、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
として、片面が副走査方向に正のパワーを持つシリンド
リカル面で、他方の面が副走査方向にパワーを持たず主
走査方向に正のパワーを持つように、レンズ肉厚が上記
シリンドリカル面の母線方向において一方から他方の側
へ向かって薄くなるように変化する特殊なシリンドリカ
ルレンズを用いることを特徴とする光ビーム合成方法。 - 【請求項６】請求項１記載の光ビーム合成方法におい
て、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
として、各光ビームの入射位置に応じて、曲率が段階的
に変化するシリンドリカル面を有する特殊なシリンドリ
カルレンズを用いることを特徴とする光ビーム合成方
法。 - 【請求項７】請求項３記載の光ビーム合成方法の実施に
用いられる合成光ビーム用レンズであって、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
で、副走査方向に正のパワーを持つシリンドリカル面の
母線方向に、レンズ肉厚が変化する特殊シリンドリカル
レンズであることを特徴とする合成光ビーム用レンズ。 - 【請求項８】請求項４記載の光ビーム合成方法の実施に
用いられる合成光ビーム用レンズであって、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
で、片面が副走査方向に正のパワーを持つ円錐面、他方
の面が平面で、レンズ肉厚が上記円錐面の母線方向にお
いて、上記円錐面の頂点側へ向かって薄くなるように変
化する円錐面レンズであることを特徴とする合成光ビー
ム用レンズ。 - 【請求項９】請求項５記載の光ビーム合成方法の実施に
用いられる合成光ビーム用レンズであって、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
で、片面が副走査方向に正のパワーを持つシリンドリカ
ル面で、他方の面が副走査方向にパワーを持たず主走査
方向に正のパワーを持つように、レンズ肉厚が上記シリ
ンドリカル面の母線方向において一方から他方の側へ向
かって薄くなるように変化する特殊なシリンドリカルレ
ンズであることを特徴とする合成光ビーム用レンズ。 - 【請求項１０】請求項６記載の光ビーム合成方法の実施
に用いられる合成光ビーム用レンズであって、 合成された光ビーム群に共通のアナモルフィックレンズ
で、各光ビームの入射位置に応じて、曲率が段階的に変
化するシリンドリカル面を有する特殊なシリンドリカル
レンズであることを特徴とする合成光ビーム用レンズ。 - 【請求項１１】互いに波長の異なる複数の光ビームを、
ダイクロイックミラーを用いて、マルチビーム走査用の
光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビーム
群を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏向器の
偏向反射面位置に主走査方向に長い線像として結像させ
るマルチビーム光源装置であって、 互いに異なる波長の光ビームを放射する複数の光源と、 これら複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビー
ム群として光ビーム合成するための１以上のダイクロイ
ックミラーと、 合成された光ビーム群を、光偏向器の偏向反射面位置に
主走査方向に長い線像として結像させるためのアナモル
フィックレンズとを有し、 上記アナモルフィックレンズがシリンドリカルレンズで
あって、その母線方向を、光軸と主走査方向とに平行な
面内で、光ビームの入射方向に対して傾け、各光ビーム
を、その波長に拘わらず、光偏向器の偏向反射面位置
に、主走査方向に長い線像として結像させるように、傾
き角を調整されていることを特徴とするマルチビーム光
源装置。 - 【請求項１２】互いに波長の異なる複数の光ビームを、
ダイクロイックミラーを用いて、マルチビーム走査用の
光ビーム群として光ビーム合成し、合成された光ビーム
群を、共通のアナモルフィックレンズにより光偏向器の
偏向反射面位置に主走査方向に長い線像として結像させ
るマルチビーム光源装置であって、 互いに異なる波長の光ビームを放射する複数の光源と、 これら複数の光源からの波長の異なる光ビームを光ビー
ム群として光ビーム合成するための１以上のダイクロイ
ックミラーと、 合成された光ビーム群を、光偏向器の偏向反射面位置に
主走査方向に長い線像として結像させるためのアナモル
フィックレンズとを有し、 上記アナモルフィックレンズが請求項７〜１０の任意の
１に記載の合成光ビーム用レンズであって、請求項１記
載の光ビーム合成方法で光ビーム合成を行なうことを特
徴とするマルチビーム光源装置。
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| JP2001061980A JP4558969B2 (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 光ビーム合成方法・合成光ビーム用レンズ・マルチビーム光源装置 |
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| JP2001061980A JP4558969B2 (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 光ビーム合成方法・合成光ビーム用レンズ・マルチビーム光源装置 |
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| JP (1) | JP4558969B2 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0341410A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
| JPH04505517A (ja) * | 1990-03-05 | 1992-09-24 | イーストマン・コダック・カンパニー | 光ビームスキャナ用ビーム位置センサ |
| JPH06179047A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-28 | Leo Tec:Kk | 金属基複合材の製造方法 |
| JPH08327922A (ja) * | 1995-06-01 | 1996-12-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 走査光学系 |
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| JP2000313137A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ビーム走査プリンタ |
-
2001
- 2001-03-06 JP JP2001061980A patent/JP4558969B2/ja not_active Expired - Fee Related
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