JP3451467B2

JP3451467B2 - ２ビーム走査用光源装置

Info

Publication number: JP3451467B2
Application number: JP15380896A
Authority: JP
Inventors: 天田　　琢; 智宏中島
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1996-06-14
Filing date: 1996-06-14
Publication date: 2003-09-29
Anticipated expiration: 2016-06-14
Also published as: JPH103047A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は２ビーム走査用光
源装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光走査による画像記録の高速化を目し
て、複数の走査線を一度に走査するマルチビーム走査方
式が意図されている。マルチビーム走査方式の１形態と
して、２つの発光源からのビームを利用する「２ビーム
走査方式」がある。

【０００３】マルチビーム走査方式で問題となるのは、
通常のシングルビーム走査方式に比してビームによる光
走査の軌跡である「走査線」が顕著に曲がりやすく、走
査線の「ピッチ偏差（隣接する走査線間隔の最大値と最
小値の差の、設計上の走査線間隔に対する割合）」が大
きくなり易いことである。

【０００４】走査線の曲がりやピッチ偏差を有効に軽減
する方法としては、特開平７−２０９５９６号公報や特
開平６−１８８０２号公報記載のものが知られている。
しかし、前者は「テレセントリック」という特別な光学
配置が必要であり、これを実現するため、光源装置と光
偏向器との間にあるシリンダレンズと、このシリンダレ
ンズと光源装置の間にあるアパーチュアとの間隔を大き
くとる必要があり、光走査装置の光源側の大型化を招来
する。

【０００５】また後者では、光偏向器と被走査面との間
に配備される結像光学系と上記アパーチュアとの位置
を、アパーチュアと光偏向器との間に配備されるシリン
ダレンズにより共役関係とするものであり、適用できる
光学系が限られてしまう。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑み、走査線ピッチの調整や変更が容易で、光走査
光学系の光源側を大型化することなく、走査線の曲がり
や走査線のピッチ偏差を有効に小さくできる新規な２ビ
ーム走査用光源装置の実現を課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明の２ビーム走査
用光源装置は「独立した２つの発光源からのビームを別
個にコリメートしたのち、主走査対応方向には互いに近
づき、副走査対応方向には互いに遠ざかる２ビームとし
て合成して放射する光源装置」である。

【０００８】この光源装置の使用される光走査装置は、
光走査装置として一般的な「光源装置からの平行ビーム
をシリンダレンズにより副走査対応方向（光源から被走
査面までの光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的
な光路上で副走査方向と平行的に対応する方向）に集光
させて、主走査対応方向（上記仮想的な光路上で主走査
方向に平行的に対応する方向）に長い線像として結像せ
しめ、線像の結像位置近傍に偏向反射面を持つポリゴン
ミラーにより偏向させ、偏向ビームを面倒れ補正機能を
持つアナモフィックな結像光学系により被走査面上に光
スポットとして集光し、光走査を行なう」方式のもので
ある。

【０００９】アナモフィックな結像光学系は通常、長尺
トロイダルレンズや長尺シリンダレンズ等を「面倒れ補
正用の光学素子」として有する。上記結像光学系は、一
般に、偏向反斜面による偏向の起点と被走査面位置とを
副走査対応方向に関して共役な関係とする。

【００１０】請求項１記載の２ビーム走査用光源装置
は、「２ビームの、主走査対応方向における近づき度
と、副走査対応方向における遠ざかり度、上記２ビーム
をコリメートする２個のコリメートレンズの、合成後に
おける副走査対応方向の光軸間隔を可調整とした」こと
を特徴とする。

【００１１】ここで、図３を参照して、上記「近づき
度」と「遠ざかり度」を説明する。図３（ａ）は、２ビ
ーム走査用光源装置１００から合成されて射出する２ビ
ームＬ₁，Ｌ₂の様子を副走査対応方向から見た状態を説
明図的に示している。図３（ａ）における上下方向が
「主走査対応方向」である。図３（ａ）に示すように、
合成されて射出する２ビームＬ₁，Ｌ₂は、射出後、主走
査対応方向において次第に近づきあい、図中の位置：Ｐ
において交差するようになる。交差位置：Ｐにおけるビ
ームＬ₁，Ｌ₂の交差角：αを「近づき度」という。

【００１２】図３（ｂ）は、２ビーム走査用光源装置１
００から合成されて射出する２ビームＬ₁，Ｌ₂の様子を
主走査対応方向から見た状態を説明図的に示している。
図３（ｂ）における上下方向が副走査対応方向である。
図３（ｂ）において、符号ＡＸ₁，ＡＸ₂は、２ビーム走
査用光源装置における２個のコリメートレンズの、ビー
ム合成後の光軸を示し、光軸ＡＸ₁，ＡＸ₂の副走査対応
方向における光軸間隔：ｄは上記の如く調整可能であ
る。

【００１３】図３（ｂ）に示すように、２ビーム走査用
光源装置１００から射出する２ビームＬ₁，Ｌ₂は、射出
後、副走査対応方向において互いに次第に遠ざかる。換
言すれば、ビームＬ₁，Ｌ₂は、図３（ｂ）における位
置：ｑを交差位置として、交差位置：ｑから互いに異な
る方向へ進行するように進む。交差位置：ｑにおけるビ
ームＬ₁，Ｌ₂の仮想上の交差角：βを「遠ざかり度」と
いう。２ビーム走査用光源装置から被走査面に到る光学
系が定まっていれば、交差角：βにより被走査面上にお
ける光スポットの副走査方向の間隔、即ち走査線のピッ
チが定まる。

【００１４】遠ざかり度、即ち交差角：βを一定にして
おいて、光軸ＡＸ₁，ＡＸ₂の間隔を調整すると、交差位
置：ｑを図３（ｂ）において左右方向に変位できること
が容易に理解されるであろう。

【００１５】２ビーム走査方式において、２ビーム走査
用光源装置から放射された２ビームがシリンダレンズに
より結像する「２つの線像」の位置が主走査対応方向に
ずれると、２つの偏向ビームに対して「面倒れ補正機
能」が異なって作用し、走査線に大きな曲がりが発生し
易くなる。

【００１６】この発明の２ビーム走査用光源装置のよう
に、光源装置から放射される２ビームが、主走査対応方
向に互いに近づくようにすると、両ビームを主走査方向
に関して交差させることができるから、交差位置（図３
（ａ）の位置：Ｐ）を前記偏向反射面による偏向の起点
の近傍とすることにより、面倒れ補正効果が主走査方向
に関して各ビームに同じように作用するようにでき、走
査線に大きな曲がりが発生するのを有効に軽減できる。

【００１７】また前記の光走査装置では、一般に、２つ
の偏向ビームは副走査対応方向に関して、被走査面と上
記偏向の起点との間で互いに交差する。このような光走
査装置では２ビーム走査の際の走査線の「ピッチ偏差」
は、前記結像光学系に用いられる面倒れ補正用光学素子
の影響を強く受ける。

【００１８】これを避けるには、偏向された２ビームの
副走査対応方向の交差位置を、上記面倒れ補正用光学素
子の近傍（面倒れ補正用光学素子の物体側焦点位置より
も被走査面側）に位置させればよい。このようにする
と、面倒れ補正用光学素子の作用が、２ビームのそれぞ
れに就いて略同様となるからである。

【００１９】上記「偏向された２ビームの副走査対応方
向の交差位置」は、２ビーム走査用光源装置と上記交差
位置との間にある光学素子による、図３（ｂ）の交差位
置：ｑの共役位置である。そこで、図３（ｂ）における
光軸ＡＸ₁，ＡＸ₂の間隔を調整することにより交差位
置：ｑの位置を調整することにより、偏向された２ビー
ムＬ₁，Ｌ₂の副走査対応方向の交差位置を容易に面倒れ
補正用光学素子の近傍に位置させることができ、このよ
うにしてピッチ偏差の有効な軽減が可能になる。

【００２０】請求項２記載の２ビーム走査用光源装置
は、２個のコリメートレンズと、２つの発光源と、合成
プリズム部材とを有する。「２個のコリメートレンズ」
は、互いに所定の距離を隔し、光軸を平行にして配備さ
れる。「２つの発光源」は、これらコリメートレンズの
個々に対応して設けられる。発光源としてはＬＤ（半導
体レーザ）素子やＬＥＤ（発光ダイオード）素子を利用
することができる。２つの発光源が独立しているとは、
例えば、上記ＬＤ素子を発光源とする場合で言えば、発
光源が「ＬＤ素子として互いに別個」であることを意味
する。

【００２１】「合成プリズム部材」は、２つの発光源か
ら放射され、対応するコリメートレンズでコリメートさ
れた２ビームを合成する。即ち、合成プリズム部材は、
反射面とビームスプリット面とを互いに平行、且つ、所
定の距離だけ離して有する。反射面は、一方のコリメー
トレンズによりコリメートされたビームをビームスプリ
ット面に向けて反射させる。ビームスプリット面は、上
記反射面により反射されたビームを反射するとともに、
他方のコリメートレンズによりコリメートされたビーム
を透過させる。このようにして、ビームスプリット面に
より反射されたビームと、ビームスプリット面を透過し
たビームとが合成された２ビームとして放射される。

【００２２】合成プリズム部材における「反射面とビー
ムスプリット面との配列方向」に対する「２個のコリメ
ートレンズの配列方向」の傾き角が可調整であり、傾き
角の調整により、ビームスプリット面以後の光路におけ
る２個のコリメートレンズの光軸の副走査対応方向の間
隔が調整可能である。

【００２３】また、２つの発光源の少なくとも一方は、
対応するコリメートレンズの光軸からずらして配備で
き、ずらされる発光源の、ずらし方向とずらし量とによ
り、ビームスプリット面以後の光路における各ビームの
主走査対応方向における近づき度と、副走査対応方向に
おける遠ざかり度とが調整可能である。

【００２４】上記合成プリズム部材における「ビームス
プリット面」は例えば「半透鏡面」でもよいが、半透鏡
面では光利用効率が低い。そこで「２つの発光源」を
「独立したＬＤ素子」とすれば、放射されるビームは実
質的に直線偏光状態であるので、一方の発光源と合成プ
リズム部材との間に１／２波長板を有し、合成プリズム
におけるビームスプリット面を「偏光ビームスプリット
面」とする（請求項３）ことにより、光の利用項率を高
めることができる。この場合において、独立した各ＬＤ
素子を、放射ビームの主光線の回りに回転調整可能とす
ることができる（請求項４）。

【００２５】請求項５記載の発明の２ビーム走査用光源
装置は、上記請求項２または３または４記載の２ビーム
走査用光源装置において、各可調整部分を調整した後、
全体を一体として固定した２ビーム走査用光源装置であ
る。

【００２６】

【発明の実施の形態】発明の実施の形態を示す図１で、
（ａ）においては、上下方向が副走査対応方向で、図面
に直交する方向が主走査対応方向、（ｂ）においては左
右方向が主走査対応方向、上下方向が副走査対応方向で
ある。

【００２７】図１（ａ）において、独立した２つの発光
源１ａ，１ｂは「ＬＤ素子」であり、２個のコリメート
レンズ２ａ，２ｂおよび、開口部を持つ絞り板３ａ，３
ｂは、発光源１ａ，１ｂと共にホルダ１０により保持さ
れている。

【００２８】２個のコリメートレンズ２ａ，２ｂは「互
いに所定の距離を隔し、光軸を平行にして」ホルダ１０
に固定的に保持されている。コリメート２ａ，２ｂの光
軸に沿って穿設された穴には絞り板３ａ，３ｂが設けら
れている。

【００２９】発光源１ａ，１ｂはそれぞれ、コリメート
レンズ２ａ，２ｂの入射側に設けられた保持穴に設けら
れている。保持穴は、これに保持される発光源の係合部
分よりも大きく、発光源１ａ，１ｂは、その発光部の位
置を対応するコリメートレンズ２ａ，２ｂの光軸に直交
する方向へ変位調整することができ、このように調整し
た状態でホルダ１０に固定できるようになっている。

【００３０】合成プリズム部材５は透明な光学素子であ
り、反射面５１と偏向ビームスプリット面５２とを互い
に平行且つ所定の距離だけ離して有し、コリメートレン
ズ２ｂ側からのビームの入射部には１／２波長板４が固
設されている（請求項３）。

【００３１】図１（ａ）に示すように、副走査対応方向
（図の上下方向）に就いて見ると、発光源１ａの発光部
は「コリメートレンズ２ａの光軸と同一平面内」にあ
り、ビームＬ₁は図示のように偏向ビームスプリット面
５２を透過する。

【００３２】発光源１ｂから放射されたビームはコリメ
ートレンズ２ｂによりコリメートされ、１／２波長板４
により偏光面を９０度旋回され、反射面５１と偏光ビー
ムスプリット面５２とにより順次反射され、ビームＬ₂
として射出する。

【００３３】コリメートレンズ２ｂの光軸ＡＸ₂を、合
成プリズム部材５側へ延長し、反射面５１および偏向ビ
ームスプリット面５２により光線と同様に反射させる
と、図１（ａ）に示すように、コリメートレンズ２ａの
光軸光軸ＡＸ₁（図１（ａ）において、ビームＬ₁と重な
っている）と副走査対応方向において間隔：ｄを形成す
る。

【００３４】発光源１ｂの発光部は上述の如く、副走査
対応方向においてコリメートレンズ２ｂの光軸からずれ
ているので、反射面５１および偏向ビームスプリット面
５２に反射された後のビームＬ₂は、副走査対応方向に
おいて遠ざかり度：βだけ、ビームＬ₁に対して傾く。
遠ざかり度：βは、被走査面上に所望のピッチで光スポ
ットが集光するように定められる。

【００３５】図１（ｂ）は、図１（ａ）の状態を、図１
（ａ）の右側即ち、合成されたビームの射出側から見た
状態を説明図的に描いている。

【００３６】図中の各記号に就き説明すると、距離：Δ
Ｐは、合成プリズム部材５における反射面５１と偏向ビ
ームスプリット面５２の中央部間距離で、この距離：Δ
Ｐが「反射面と偏向ビームスプリット面の距離」であっ
て「所定の距離」である。距離：ΔＣは、２個のコリメ
ートレンズ２ａ，２ｂの光軸間距離であり「所定の距
離」である。説明中の実施の形態において、距離：ΔＰ
とΔＣとは等しく設定されている。角：σは、合成プリ
ズム部材５における反射面５１と偏向ビームスプリット
面５２との配列方向（図１（ｂ）における鎖線５−１）
に対する、２個のコリメートレンズ２ａ，２ｂの配列方
向（図１（ｂ）における鎖線１−１）の傾き角である。
傾き角：σのため、コリメートレンズ２ａ，２ｂの配列
間隔は、副走査対応方向に対し「ΔＣ・ｃｏｓσ」、主
走査対応方向に対し「ΔＣ・ｓｉｎσ」となる。

【００３７】間隔：δ₁は、コリメートレンズ２ａの光
軸と発光源１ａの発光部１ａ１の主走査対応方向におけ
る「ずらし量」であり、この実施の形態において発光部
１ａ１は、主走査対応方向にのみコリメートレンズ２ａ
の光軸からずれている。これに対し、発光源１ｂの発光
部１ｂ１は、コリメートレンズ２ｂの光軸から、主走査
対応方向にずらし量：δ₂だけずれ、同時に副走査対応
方向にずらし量：δ₃だけずれている。従って、これら
のずらし量：δ₂，δ₃により発光部１ｂ１の「ずらし方
向」が定まる。

【００３８】発光部１ａ１がコリメートレンズ１ａの光
軸からずらし量：δ₁だけずれることにより、合成プリ
ズム部材５から射出するビームＬ₁は、光軸ＡＸ₁に対し
て傾くけれども、この傾きは専ら主走査対応方向におい
てのみ生じるので、図１（ａ）においては、光軸ＡＸ₁
とビームＬ₁とは互いに重なって描かれている。

【００３９】一方、発光部１ｂ１はコリメートレンズ２
ｂの光軸に対し主・副走査対応方向にともにずらされて
いるので、合成プリズム部材５から射出するビームＬ₂
は、主・副走査対応方向とも光軸ＡＸ₂に対して傾く。
このときの「副走査対応方向における光軸ＡＸ₂に対す
るビームＬ₂の傾き」が前述の遠ざかり度：βである。

【００４０】図１（ｂ）に示すように、発光部１ａ１，
１ｂ１は、主走査対応方向においては、対応するコリメ
ートレンズの光軸からのずれの方向が互いに逆、即ち、
発光部１ａ１，１ｂ１が主走査対応方向に互いに離れる
ようにずれている（ずらし量：δ₁，δ₂）ので、合成プ
リズム５から射出するビームＬ₁とＬ₂とは、互いに主走
査対応方向において近づき合うようになる。従って、ず
らし量：δ₁，δ₂を調整することにより前記「近づき
度」を調整することができる。

【００４１】同様の考察により、ずらし量：δ₃の調整
により、前記遠ざかり度：βを調整できること、前記
角：σを調整することにより偏向ビームスプリット面５
２以降における光軸ＡＸ₁，ＡＸ₂の副走査対応方向にお
ける光軸間隔：ｄを調整できることは容易に理解される
であろう。

【００４２】上記の如く、傾き角：σ、ずらし量：
δ₁，δ₂，δ₃を調整したのち、図示されない適宜の一
体化手段（接着、螺子止め手段、ハウジング等）によ
り、ホルダ１０と発光源１ａ，１ｂおよび合成プリズム
部材５を一体化すれば、請求項５記載の２ビーム走査用
光源装置を実現できる。

【００４３】かくして得られる光源装置は、独立した２
つの発光源１ａ，１ｂからのビームを別個にコリメート
したのち、主走査対応方向には互いに近づき、副走査対
応方向には互いに遠ざかる２ビームとして合成して放射
する。

【００４４】図１の実施の形態において、発光源１ａ，
１ｂはＬＤ素子であるので、放射されるビームはレーザ
ビームで実質的に直線偏光しており、その偏光面は、コ
リメートレンズ２ａ，２ｂの光軸の配列方向（図１
（ｂ）で鎖線１−１で示す方向）に向いている。一方に
おいて、偏光ビームスプリット面５２は、ビームの偏光
面が、図１（ｂ）における鎖線５−１に平行なときにビ
ームを完全に反射し、鎖線５−１に対して直交する偏光
面を持つビームを完全に透過するような特性を有してい
る。

【００４５】このため、図１の実施の形態においては、
図１（ｂ）における角：σが０でないと、発光源１ａ，
１ｂからのビームの一部が偏光ビームスプリット面５２
により、それぞれ反射され・透過することになり、光の
利用効率が悪い。

【００４６】そこで請求項３記載の発明では、図２に示
すように２つの独立した発光源１ａ，１ｂである各ＬＤ
素子を「放射ビームの主光線（対応するコリメートレン
ズの光軸に平行である）の回りに回転調整可能」とす
る。各ＬＤ素子の回転調整により、放射ビームにおける
偏光面の向き１ａ１０，１ｂ１０を調整し、合成プリズ
ム部材５における偏光反射面が、入射するビームのう
ち、発光源１ａからのビームを全て透過させ、発光源１
ｂからのビームを全て反射するようにすることにより、
良好な光利用効率での２ビーム走査が可能になる。

【００４７】図４は、この発明の２ビーム走査用光源装
置４１を用いた光走査装置を説明図的に示している。２
ビーム走査用光源装置４１は上述した如き構成であり、
光利用効率が最大になるように、各ＬＤ素子からのビー
ムの偏光面の方向を調整してある（請求項３）。

【００４８】図４において、２ビーム走査用光源装置４
１から放射された２つのビームは２個のコリメートレン
ズにより共に平行ビーム化されており、シリンダレンズ
４３に入射する。シリンダレンズ４３は副走査対応方向
にのみ正のパワーを持ち、２ビームをそれぞれ副走査対
応方向にのみ集束させて主走査対応方向に長い２つの線
像として結像させる。

【００４９】光偏向器であるポリゴンミラーは偏向反射
面４４を上記２つの線像の結像位置近傍に有し、２ビー
ムを偏向させる。偏向された２ビームは、ｆθレンズ４
５と長尺レンズ（面倒れ補正用光学素子）４６の結像作
用により被走査面（ドラム状の光導電性感光体４８の周
面）上に、互いに副走査方向に離れ、ビームの偏向に伴
い被走査面を同時に光走査する２つの光スポットとして
集光する。長尺レンズ４６は「長尺トロイダルレンズ」
である。

【００５０】図４において、長尺レンズ４６を透過した
ビームは光路屈曲ミラー４７により光路を屈曲され、被
走査面に周面を合致させた光導電性の感光体４８上に集
光し、感光体周面を光走査する。かくして、被走査面は
２走査線を同時に光走査されることになる。

【００５１】図５は、２ビーム走査用光源装置４１から
被走査面４８までを、光軸に沿って直線的に展開した前
述の「仮想的な光路上」における光学配置を示し、(ａ)
では上下方向が主走査対応方向であり、(ｂ)では上下方
向が副走査対応方向である。

【００５２】図５（ａ）に示すように、２ビーム走査用
光源装置４１からのビームＬ₁，Ｌ₂は、主走査対応方向
において近づき度：αを持って互いに近づくように放射
され、その交差位置：Ｐは偏向反射面４４の位置に設定
されている。

【００５３】その結果、ｆθレンズ４５および長尺レン
ズ４６による「面倒れ補正効果」が主走査方向に関して
ビームＬ₁，Ｌ₂に同じように作用し、走査線に大きな曲
がりが発生するのを有効に軽減できる。

【００５４】図５（ｂ）に示すように、２つのビームＬ
₁，Ｌ₂は遠ざかり度：βを持って互いに遠ざかり、副走
査対応方向に関して被走査面４８と偏向の起点との間の
位置：Ｑで互いに交差する。副走査対応方向における位
置：Ｑは、シリンダレンズ４３とｆθレンズ４５および
長尺レンズ４６とによる位置：ｑ（副走査対応方向にお
けるビームＬ₁，Ｌ₂の分岐位置）に対する共役点であ
る。従って、前記傾き角：σを調整することで位置ｑを
調整し、その共役点たる位置：Ｑを、面倒れ補正用光学
素子である長尺レンズ４６の近傍（長尺レンズ４６と被
走査面４８の間）に位置させることにより、長尺レンズ
４６のビームＬ₁，Ｌ₂のそれぞれに就いての作用を互い
に略同様とすることができ、ピッチ偏差の有効な軽減が
可能になる。

【００５５】図１の実施の形態において、ΔＰ＝ΔＣ＝
１２ｍｍ、傾き角：σ＝９．５度、ずらし量：δ₁＝δ₂
＝０．０４６ｍｍ、δ₃＝０．００６ｍｍとし、走査線
の曲がりが少なく、ピッチ偏差も小さい良好な２ビーム
走査を実現できた。

【００５６】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば２ビーム走査用の新規な光源装置を実現できる。この
発明の２ビーム走査用光源装置は、放射する２ビーム
が、副走査対応方向においては互いに遠ざかり、主走査
対応方向においては互いに近づき、副走査対応方向の遠
ざかり度や、２つのコリメートレンズの放射ビームに関
する光軸間距離、主走査対応方向における近づき度を調
整できるので、走査線ピッチの調整・変更が容易であ
り、走査線の曲がりや走査線のピッチ偏差を有効に軽減
して良好な光走査が可能になり、光走査光学系の光源側
が大型化することもない。また請求項３記載の発明は、
光の利用効率が良い。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の１形態を説明するための図で
ある。

【図２】請求項３記載の発明の実施の形態の特徴部分を
説明する図である。

【図３】この発明の２ビーム走査用光源装置から放射さ
れる２ビームの遠ざかり度・近づき度を説明するための
図である。

【図４】この発明の２ビーム走査要項源装置を用いた光
走査装置の形態の１例を示す図である。

【図５】図４の光走査装置において、２ビーム走査用光
源装置から放射された２ビームの様子を説明するための
図である。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ発光源であるＬＤ素子２ａ，２ｂコリメートレンズ４１／２波長板５合成プリズム部材

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】独立した２つの発光源からのビームを別個
にコリメートしたのち、主走査対応方向には互いに近づ
き、副走査対応方向には互いに遠ざかる２ビームとして
合成して放射する光源装置であって、上記２ビームの、主走査対応方向における近づき度と、
副走査対応方向における遠ざかり度、上記２ビームをコ
リメートする２個のコリメートレンズの、ビーム合成後
における副走査対応方向の光軸間隔を可調整としたこと
を特徴とする２ビーム走査用光源装置。
【請求項２】請求項１記載の２ビーム走査用光源装置に
おいて、互いに所定の距離を隔し、光軸を平行にして配備された
２個のコリメートレンズと、これらコリメートレンズの個々に対応して設けられる２
つの発光源と、反射面とビームスプリット面とを互いに平行、且つ、所
定の距離だけ離して有し、一方のコリメートレンズによ
りコリメートされたビームをして上記ビームスプリット
面を透過せしめ、他方のコリメートレンズによりコリメ
ートされたビームを上記反射面とビームスプリット面と
で順次反射して、２ビームの合成を行なう合成プリズム
部材とを有し、この合成プリズム部材における反射面とビームスプリッ
ト面との配列方向に対して、上記２個のコリメートレン
ズの配列方向の傾き角を可調整とすることにより、上記
ビームスプリット面以後の光路における２個のコリメー
トレンズの光軸の副走査対応方向の間隔を可調整にする
とともに、上記２つの発光源の少なくとも一方を、対応するコリメ
ートレンズの光軸からずらせるようにし、ずらされる発
光源の、ずらし方向とずらし量とにより、上記ビームス
プリット面以後の光路における各ビームの主走査対応方
向における近づき度と、副走査対応方向における遠ざか
り度とを可調整としたことを特徴とする２ビーム走査用
光源装置。
【請求項３】請求項２記載の２ビーム走査用光学系にお
いて、２つの発光源が独立したＬＤ素子であり、一方の発光源
と合成プリズム部材との間に１／２波長板を有し、合成
プリズムにおけるビームスプリット面が偏光ビームスプ
リット面であることを特徴とする２ビーム走査用光源装
置。
【請求項４】請求項３記載の２ビーム走査用光源装置に
おいて、各ＬＤ素子を、放射ビームの主光線の回りに回転調整可
能としたことを特徴とする２ビーム走査用光源装置。
【請求項５】請求項２または３または４記載の２ビーム
走査用光源装置において、各可調整部分を調整した後、全体を一体として固定した
ことを特徴とする２ビーム走査用光源装置。