JP2002265518A - α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いたα−オレフィンの重合方法 - Google Patents
α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いたα−オレフィンの重合方法Info
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Abstract
せたα−オレフィン重合体を製造可能とする触媒及びそ
の重合方法の提供 【解決手段】(A)マグネシウム、チタン及びハロゲン
を必須成分とする固体触媒成分、(B)有機アルミニウ
ム化合物成分、及び(C)酸素原子含有有機化合物成分
を組み合わせてなるα−オレフィン重合用触媒であっ
て、四塩化チタン分子に対する酸素原子含有有機化合物
の配位熱が、52.0kcal/mol以上79.0k
cal/mol以下であることを特徴とするα−オレフ
ィン重合用触媒。
Description
合用触媒及びそれを用いたα−オレフィンの重合方法に
関するものである。更に詳しくは、本発明は、固体触媒
成分、有機アルミニウム化合物成分及び特定の酸素原子
含有有機化合物を組み合わせてなるα−オレフィン重合
用触媒であり、また、それを用いてα−オレフィンの重
合を行うことにより、非晶性成分の極めて少ない高結晶
性α−オレフィン重合体を高い収率で得ることができ
る、α−オレフィンの重合方法に関するものである。
ンを必須成分として含有する固体触媒成分を使用してα
−オレフィンの高立体規則性重合体を高収率で製造する
という提案が数多くなされている(例えば、特開昭57
−63310号、同57−63311号、同57−63
312号、同58−138705号、同58−1387
06号、同58−138711号各公報参照。)。これ
らの中で、上記の固体触媒成分、有機アルミニウム化合
物成分及び電子供与体成分を併用してなる重合用触媒は
実用性の高いものである。
は、この触媒系においても生成するα−オレフィン重合
体の立体規則性は十分とはいえなく、特に最近の高結晶
性α−オレフィン重合体が要望される分野においては、
非晶性成分の更なる改善が望まれていた。
非晶性成分の低減によって立体規則性を向上させたα−
オレフィン重合体を製造可能とする触媒及びその重合方
法を提供するものである。
点を解決するために、各種触媒成分について鋭意検討を
行った結果、固体触媒成分に有機アルミニウム化合物成
分及び特定の酸素原子含有有機化合物成分を組み合わせ
ることにより、非晶性成分の極めて少ない高結晶性α−
オレフィン重合体が高収率で得られることを見出し、本
発明に到達したものである。
及びハロゲンを必須成分とする固体触媒成分、(B)有
機アルミニウム化合物成分、及び(C)酸素原子含有有
機化合物成分を組み合わせてなるα−オレフィン重合用
触媒であって、四塩化チタン分子に対する酸素原子含有
有機化合物の配位熱が、52.0kcal/mol以上
79.0kcal/mol以下であることを特徴とする
α−オレフィン重合用触媒を提供するものである。
る酸素原子含有有機化合物の配位熱が、57.0kca
l/mol以上72.0kcal/mol以下である上
記のα−オレフィン重合用触媒、及び、下記の成分
(A)、成分(B)及び成分(C)を組み合わせてなる
上記のα−オレフィン重合用触媒を提供するものであ
る。
(A2)を接触させてなる固体触媒成分、 成分(A1):チタン、マグネシウム及びハロゲンを必
須成分として含有するα−オレフィン重合用固体成分、 成分(A2):下記の一般式のいずれかで表されるケイ
素化合物、 R1R2 3-mSi(OR3)m 一般式(1) (R4O)(R5O)3-mSi(OR3)m 一般式(2) (R6R7N)(R8R9N)3-m Si(OR3)m 一般式(3) (ここで、R1はケイ素原子に隣接する炭素原子、すな
わちα位炭素原子が二級又は三級の脂肪族炭化水素基で
あり、R2はR1と同一もしくは異なる脂肪族炭化水素基
又はヘテロ原子含有炭化水素基であり、R3、R4、
R5、R6、R7、R8、R9は炭化水素基であり、R6とR
7、R8とR9は環状を形成していてもよく、mは1≦m
≦3である。) 成分(B):有機アルミニウム化合物成分 成分(C):酸素原子含有有機化合物成分 さらに、本発明は、成分(C)酸素原子含有有機化合物
成分が炭酸エステル化合物、アセタール化合物、エーテ
ル化合物から選ばれてなる上記のα−オレフィン重合用
触媒、及び、成分(C)酸素原子含有有機化合物成分
が、下記の酸素原子含有有機化合物から選ばれたもので
ある上記のα−オレフィン重合用触媒を提供するもので
ある。
57.0kcal/mol〜66.0kcal/mol
の炭酸エステル化合物 b.四塩化チタン分子に対する配位熱が、66.0kc
al/mol〜72.0kcal/molのアセタール
化合物 c.四塩化チタン分子に対する配位熱が72.0kca
l/mol〜77.5kcal/molのエーテル化合
物 また、本発明は、上記のα−オレフィン重合用触媒を用
いて、α−オレフィンを単独重合又は共重合することを
特徴とするα−オレフィンの重合方法を提供するもので
ある。
発明に用いられる触媒は、成分(A)、成分(B)及び
特定の成分(C)を組み合わせてなるものである。ここ
で「組み合わせてなる」ということは、成分が挙示のも
の(すなわち、成分(A)、成分(B)及び成分
(C))のみであるということを意味するものではな
く、本発明の効果を損なわない範囲で他の成分が共存す
ることを排除しない。
ゲンを必須成分とする固体触媒成分、(B)有機アルミ
ニウム化合物成分、及び(C)酸素原子含有有機化合物
成分を組み合わせてなるα−オレフィン重合用触媒であ
って、好ましくは、成分(A)として、特定の固体成分
(成分(A1))及び特定のケイ素化合物(成分(A
2))の接触生成物が使用される。このような本発明の
成分(A)は、上記必須二成分以外の合目的的な他の成
分の共存を排除しない。
及びハロゲンを必須成分として含有してなるα−オレフ
ィンの立体規則性重合用固体成分である。ここで「必須
成分として含有し」ということは、挙示の三成分以外に
合目的的な他元素を含んでいてもよいこと、これらの元
素はそれぞれが合目的的な任意の化合物として存在して
もよいこと、ならびにこれら元素は相互に結合したもの
として存在してもよいことを示すものである。
固体成分そのものは公知のものである。例えば、特開昭
53−45688号、同54−3894号、同54−3
1092号、同54−39483号、同54−9459
1号、同54−118484号、同54−131589
号、同55−75411号、同55−90510号、同
55−90511号、同55−127405号、同55
−147507号、同55−155003号、同56−
18609号、同56−70005号、同56−720
01号、同56−86905号、同56−90807
号、同56−155206号、同57−3803号、同
57−34103号、同57−92007号、同57−
121003号、同58−5309号、同58−531
0号、同58−5311号、同58−8706号、同5
8−27732号、同58−32604号、同58−3
2605号、同58−67703号、同58−1172
06号、同58−127708号、同58−18370
8号、同58−183709号、同59−149905
号、同59−149906号、同63−108008
号、同63−264607号、同63−264608
号、特開平1−79203号、同1−98603号、同
7−258328号、同8−269125号、同11−
21309号各公報等に記載のものが使用される。
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムジハ
ライド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネ
シウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアル
キルマグネシウム、アルキルマグネシウムハライド、金
属マグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウ
ム、マグネシウムのカルボン酸塩等が挙げられる。これ
らの中でもマグネシウムジハライド、ジアルコキシマグ
ネシウム等のMg(OR10)2-nXn(ここで、R10は炭
化水素基、好ましくは炭素数1〜10程度のものであ
り、Xはハロゲンを示し、nは0≦n≦2である。)で
表されるマグネシウム化合物が好ましい。
は、一般式Ti(OR11)4-pXp(ここで、R11は炭化
水素基、好ましくは炭素数1〜10程度のものであり、
Xはハロゲンを示し、pは0≦p≦4である。)で表さ
れる化合物が挙げられる。
Ti(OC2H5)Cl3、Ti(OC2H5)2Cl2、T
i(OC2H5)3Cl、Ti(O−i−C3H7)Cl3、
Ti(O−n−C4H9)Cl3、Ti(O−n−C4 H
9)2Cl2、Ti(OC2H5)Br3、Ti(OC2
H5)(O−n−C4H9)2Cl、Ti(O−n−C
4H9)3Cl、Ti(OC6H5)Cl3、Ti(O−i−
C4H9)2Cl2、Ti(OC 5H11)Cl3、Ti(OC
6H13)Cl3 、Ti(OC2H5)4、Ti(O−n−
C3H7)4、Ti(O−n−C4H9)4、Ti(O−i−
C4H9)4、Ti(O−n−C6H13)4、Ti(O−n
−C8H17)4、Ti(OCH2CH(C2H5)C4H
9 )4 等が挙げられる。
ンである。)に後述する電子供与体を反応させた分子化
合物をチタン源として用いることもできる。そのような
分子化合物の具体例としては、TiCl4・CH3COC
2H5、TiCl4・CH3CO 2C2H5、TiCl4・C6
H5NO2、TiCl4・CH3COCl、TiCl4・C 6
H5COCl、TiCl4・C6H5CO2C2H5、TiC
l4・ClCOC2H5、TiCl4・C4H4O等が挙げら
れる。
したもの、アルミニウム金属で還元したもの、あるいは
有機金属化合物で還元したもの等を含む)、TiB
r3、Ti(OC2H5)Cl2、TiCl2、ジシクロペ
ンタジエニルチタニウムジクロライド、シクロペンタジ
エニルチタニウムトリクロライド等のチタン化合物の使
用も可能である。これらのチタン化合物の中でもTiC
l4、Ti(OC4H9)4、Ti(OC2H5)Cl3等が
好ましい。
は)チタンのハロゲン化合物から供給されるのが普通で
あるが、他のハロゲン源、例えばAlCl3、AlBr3
、AlI3、EtAlCl2、Et2AlCl等のアル
ミニウムのハロゲン化物やBCl3 、BBr3、BI3
等のホウ素のハロゲン化物、SiCl4、MeSiCl 3
等のケイ素のハロゲン化物、PCl3、PCl5等のリン
のハロゲン化物、WCl6等のタングステンのハロゲン
化物、MoCl5 等のモリブデンのハロゲン化物とい
った公知のハロゲン化剤から供給することもできる。触
媒成分中に含まれるハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素又はこれらの混合物であってもよく、特に塩素が
好ましい。
任意成分として電子供与体を内部ドナーとして使用して
製造することもできる。この固体成分の製造に利用でき
る電子供与体(内部ドナー)としては、アルコール類、
フェノール類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸
類、有機酸又は無機酸類のエステル類、エーテル類、酸
アミド類、酸無水物類のような含酸素電子供与体、アン
モニア、アミン、ニトリル、イソシアネートのような含
窒素電子供与体、スルホン酸エステルのような含硫黄電
子供与体などを例示することができる。
ール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、ド
デカノール、オクタデシルアルコール、ベンジルアルコ
ール、フェニルエチルアルコール、イソプロピルベンジ
ルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、1,3−プロパンジオールなどの炭素数1ないし
18のアルコール類。 (ロ)フェノール、クレゾール、キシレノール、エチル
フェノール、プロピルフェノール、イソプロピルフェノ
ール、ノニルフェノール、ナフトール、1,1’−ビ−
2−ナフトールなどのアルキル基を有してよい炭素数6
ないし25のフェノール類。 (ハ)アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アセチル
アセトンなどの炭素数3ないし15のケトン類。 (ニ)アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オク
チルアルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、
ナフトアルデヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒ
ド類。 (ホ)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、吉草酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メ
チル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロ
トン酸エチル、シクロへキサンカルボン酸エチル、安息
香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息
香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セ
ロソルブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トル
イル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチ
ル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、γ−ブ
チロラクトン、α−バレロラクトン、クマリン、フタリ
ドなどの有機酸モノエステル、又は、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘプチル、コハク酸ジエチル、マレイン酸ジブチ
ル、1,2−シクロヘキサンカルボン酸ジエチル、炭酸
エチレン、ノルボルナンジエニル−1,2−ジメチルカ
ルボキシラート、シクロプロパン−1,2−ジカルボン
酸−n−ヘキシル、1,1−シクロブタンジカルボン酸
ジエチルなどの有機酸多価エステルの炭素数2ないし2
0の有機酸エステル類。 (ヘ)ケイ酸エチル、ケイ酸ブチルなどのケイ酸エステ
ルのような無機酸エステル類。 (ト)アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、トルイ
ル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩化フタロイル、イ
ソ塩化フタロイルなどの炭素数2ないし15の酸ハライ
ド類。 (チ)メチルエーテル、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、ブチルエーテル、アミルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、ジフェニルエーテル、2,
2’−ジメトキシ−1,1’−ビナフタレン、1,3−
ジメトキシプロパン、2,2−ジメチル−1,3−ジメ
トキシプロパン、2,2−ジイソプロピル−1,3−ジ
メトキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジ
メトキシプロパン、2−イソプロピル−2−イソブチル
−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2
−s−ブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−t−
ブチル−2−メチル−1,3−ジメトキシプロパン、2
−t−ブチル−2−イソプロピル−1,3−ジメトキシ
プロパン、2,2−ジシクロペンチル−1,3−ジメト
キシプロパン、2,2−ジシクロヘキシル−1,3−ジ
メトキシプロパン、2,2−ジフェニル−1,3−ジメ
トキシプロパン、1,3−ジエトキシプロパン、2,2
−ジメチル−1,3−ジエトキシプロパン、1,3−ジ
プロポキシプロパン、1,3−ジブトキシプロパン、
2,2−ジイソプロピル−1,3−ジエトキシプロパ
ン、1,2,3−トリメトキシプロパン、1,1,1−
トリメトキシメチル−エタンなどの炭素数2ないし20
のエーテル類、 (リ)酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸アミド
などの酸アミド類。 (ヌ)メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、
トリブチルアミン、ピペリジン、トリベンジルアミン、
アニリン、ピリジン、ピコリン、テトラメチルエチレン
ジアミンなどのアミン類。 (ル)アセトニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリル
などのニトリル類、 (ヲ)2−(エトキシメチル)−安息香酸エチル、2−
(t−ブトキシメチル)−安息香酸エチル、3−エトキ
シ−2−フェニルプロピオン酸エチル、3−エトキシプ
ロピオン酸エチル、3−エトキシ−2−s−ブチルプロ
ピオン酸エチル、3−エトキシ−2−t−ブチルプロピ
オン酸エチルなどのアルコキシエステル化合物類。 (ワ)2−ベンゾイル安息香酸エチル、2−(4’−メ
チルベンゾイル)安息香酸エチル、2−ベンゾイル−
4,5−ジメチル安息香酸エチルなどのケトエステル化
合物類。 (カ)ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸
エチル、p−トルエンスルホン酸エチル、p−トルエン
スルホン酸イソプロピル、p−トルエンスルホン酸−n
−ブチル、p−トルエンスルホン酸−s−ブチルなどの
スルホン酸エステル類等を挙げることができる。これら
の電子供与体は、二種類以上用いることもできる。これ
らの中で好ましいのは有機酸エステル化合物、酸ハライ
ド化合物及びエーテル化合物であり、特に好ましいのは
フタル酸ジエステル化合物、酢酸セロソルブエステル化
合物、フタル酸ジハライド化合物及びジエーテル化合物
である。
は、下記の一般式のいずれかで表されるものである。
わちα位炭素原子が2級又は3級の脂肪族炭化水素基で
あり、R2はR1と同一もしくは異なる脂肪族炭化水素基
又はヘテロ原子含有炭化水素基であり、R3、R4、
R5、R6、R7、R8、R9は炭化水素基であり、R6とR
7、R8とR9は環状を形成していてもよく、mは1≦m
≦3である。) ここで、R1は、ケイ素原子に隣接する炭素原子、すな
わちα位炭素原子が2級又は3級の脂肪族炭化水素基で
あり、R1が分岐脂肪族炭化水素基である場合の炭素数
は通常3〜20、好ましくは3〜10である。また、R
1が環状脂肪族炭化水素基である場合の炭素数は通常4
〜20、好ましくは5〜10である。R2はR1と同一も
しくは異なる脂肪族炭化水素基又はヘテロ原子含有炭化
水素基であり、炭素数は通常1〜20、好ましくは1〜
10であり、含有可能なヘテロ原子としては窒素、酸
素、ケイ素、リン、硫黄である。R3は炭化水素基であ
り、炭素数は通常1〜20、好ましくは1〜10であ
る。R4、R5は炭化水素基であり、炭素数は通常1〜2
0、好ましくは分岐脂肪族炭化水素基又は環状脂肪族炭
化水素基で炭素数は3〜20である。R6、R7、R8、
R9は炭化水素基であり、炭素数は通常1〜20、好ま
しくは、R6とR7、R8とR9が環状を形成していて、炭
素数が4〜20である。
は、下記の通りである。(CH3)3CSi(CH3)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH(CH3)2)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH3)(OC
2H5)2、(CH3)3CSi(C2H5)(OCH3)2、
(CH3)3CSi(n−C3H7)(OCH3 )2、(C
H3)3CSi(n−C6H13)(OCH3)2、(C
2H5)3CSi(CH3)(OCH3)2、(CH3)(C2
H5)CHSi(CH3)(OCH3)2、((CH3)2C
HCH 2)2Si(OCH3)2、(C2H5)(CH3)2C
Si(CH3)(OCH3)2、(C2H5)(CH3)2C
Si(CH3)(OC2H5)2、(CH3)3CSi(OC
H3)3、(CH3)3CSi(OC2H5)3、(CH3)
(C2H5)CHSi(OCH3)3、(CH3)2CH(C
H3)2CSi(CH3)(OCH3)2、((CH3)
3C)2Si(OCH3 )2、(C2H5)(CH3)2CS
i(OCH3)3、(C2H 5)(CH3)2CSi(OC2
H5)3、(CH3)3CSi(OC(CH3)3)(OCH
3)2、((CH3)2CH)2Si(OCH3)2、((C
H3)2CH)2Si(OC2H5)2、(C5H9)2Si
(OCH3)2、(C5H9)2Si(OC2H5)2、(C5
H9)(CH3)Si(OCH3)2、(C5H9)((CH
3)2CHCH2)Si(OCH3)2、(C6H11)Si
(CH3)(OCH3)2、(C6H11)2Si(OCH3)
2、(C6H11)((CH3)2CHCH2)Si(OC
H3)2、((CH 3)2CHCH2)((C2H5)(C
H3)CH)Si(OCH3)2、((CH3)2CHC
H2)((CH3)2CH)Si(OC5H11)2、HC
(CH3)2C(CH3)2Si(CH3)(OCH3)2、
HC(CH3)2C(CH3)2Si(CH3)(OC
2H5)2、HC(CH3)2C(CH3)2Si(OCH3)
3、HC(CH3)2C(CH3)2Si(OC2H5)3、
(OCH3)2、(CH3)3CSi(OC(CH3)3)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(N(C2H5)2)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(NC4H9)(OCH
3)2、(CH3)3CSi(NC5H11)(OCH3)2、
(CH3)3CSi(NC9H17)(OCH3)2、((C
H3)2HCO)2Si(OCH3)2、((CH3)3C
O)2Si(OCH3)2、(C6H1 1O)2Si(OC
H3)2、(4−CH3−C6H11O)2Si(OC
H3)2、(4−C2H5−C6H11O)2Si(OC
H3)2、(4−C4H9−C6H11O)2Si(OC
H3)2、(C10H17O)2Si(OCH3)2、((C2H
5)2N)2Si(OCH3)2、(C4H9N)2Si(OC
H3)2、(C5H11N)2Si(OCH3)2、(C9H17
N)2Si(OCH3)2等を挙げることができる。
Si(CH3)(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH
(CH3)2)(OCH3)2、(CH3)3CSi(C
H3)(OC2H5)2、(CH3)3CSi(C2H5)(O
CH3)2、(CH3)3CSi(n−C3H7)(OC
H3)2、(CH3)3CSi(n−C6H13)(OCH3)
2、(C5H9)2Si(OCH3)2、(C5H9)2Si
(OC2H5)2、(C6H11)Si(CH3)(OCH3)
2、(C6H11)2Si(OCH3)2等が挙げられる。
ては、上記の成分の他に任意成分を含んでもよいことは
前記の通りであるが、そのような任意成分として適当な
ものとしては以下の化合物を挙げることができる。
中の少なくとも一つの水素原子がビニル基(CH2=C
H−)に置き換えられ、そして残りの水素原子のうちの
いくつかが、ハロゲン(好ましくはCl)、アルキル基
(好ましくは炭素数1〜12の炭化水素基)、アリール
基(好ましくはフェニル基)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜12のアルコキシ基)、その他で置き換え
られた構造を示すものである。
CH2=CH−SiH2(CH3)、CH2=CH−SiH
(CH3)2、CH2=CH−Si(CH3)3、CH2=C
H−SiCl3、CH2=CH−SiCl2(CH3)、C
H2=CH−SiCl(CH3 )2、CH2=CH−Si
H(Cl)(CH3)、CH2=CH−Si(C2H 5)3
、CH2=CH−SiCl(C2H5)2、CH2=CH
−SiCl2(C2H5)、CH2=CH−Si(CH3)2
(C2H5)、CH2=CH−Si(CH3)(C2H5)2
、CH2=CH−Si(n−C4H9)3、CH2=CH
−Si(C6H5)3、CH2=CH−Si(CH3)(C6
H5)2、CH2=CH−Si(CH3)2(C6H5)、C
H2=CH−Si(CH3)2(C6H4CH3)、(CH2
=CH)(CH3)2Si−O−Si(CH3)2(CH=
CH2)、(CH2=CH)2SiH2、(CH2=CH)2
SiCl2、(CH2=CH)2Si(CH3)2、(CH2
=CH)2Si(C6H5)2等を例示することができる。
金属化合物 周期律表第I族〜第III族金属の有機金属化合物を使
用することも可能である。本発明で使用する周期律表第
I族〜第III族金属の有機金属化合物は、少なくとも
一つの有機基−金属結合を持つ。その場合の有機基とし
ては、炭素数1〜20程度、好ましくは1〜6程度のヒ
ドロカルビル基が代表的である。原子価の少なくとも一
つが有機基で充足されている有機金属化合物の金属の残
りの原子価(もしそれがあれば)は、水素原子、ハロゲ
ン原子、ヒドロカルビルオキシ基(ヒドロカルビル基
は、炭素数1〜20程度、好ましくは1〜6程度)、あ
るいは酸素原子を介した当該金属(具体的には、メチル
アルモキサンの場合の−O−Al(CH3)−)その他
で充足される。
れば、(イ)メチルリチウム、n−ブチルリチウム、第
三ブチルリチウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチ
ルエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシ
ルエチルマグネシウム、ブチルマグネシウムクロライ
ド、第三ブチルマグネシウムブロマイド等の有機マグネ
シウム化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の
有機亜鉛化合物、(ニ)トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ト
リ−n−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルア
ルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチ
ルアルミニウムジクロライド、メチルアルモキサン等の
有機アルミニウム化合物がある。このうちでは、特に有
機アルミニウム化合物が好ましい。
は二種以上を組み合わせて使用することができる。これ
らの任意成分を使用すると、本発明の効果はより大きく
なる。
要により前記任意成分を段階的にあるいは一時的に相互
に接触させて、その中間及び/又は最後に有機溶媒、例
えば炭化水素溶媒又はハロゲン化炭化水素溶媒で洗浄す
ることによって製造することができる。
ロゲンを必須成分とする固体生成物(A1)を先ず製造
し、それを前記一般式のケイ素化合物と同時あるいは順
次接触させる方式(いわば逐次法)によることもできる
し、チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分とす
る固体生成物をつくる過程で既にこのケイ素化合物を存
在させることによって一挙に成分(A)を製造する方式
(いわば一段法)によることも可能である。好ましい方
式は前者である。
条件は、酸素の不存在下で実施する必要があるものの、
本発明の効果が認められるかぎり任意のものでありうる
が、一般的には、次の条件が好ましい。接触温度は、−
50〜200℃程度、好ましくは0〜100℃である。
接触方法としては、回転ボールミル、振動ミル、ジェッ
トミル、媒体撹拌粉砕機などによる機械的な方法、不活
性希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方法などがあ
る。このとき使用する不活性希釈剤としては、脂肪族又
は芳香族の炭化水素及びハロ炭化水素、ポリシロキサン
等が挙げられる。
は本発明の効果が認められるかぎり任意のものでありう
るが、一般的には、次の範囲内が好ましい。チタン化合
物の使用量は、使用するマグネシウム化合物の使用量に
対してモル比で0.0001〜1000の範囲内がよ
く、好ましくは0.01〜10の範囲内である。ハロゲ
ン源としてそのための化合物を使用する場合は、その使
用量はチタン化合物及び(又は)マグネシウム化合物が
ハロゲンを含む、含まないにかかわらず、使用するマグ
ネシウムの使用量に対してモル比で0.01〜1000
の範囲内がよく、好ましくは0.1〜100の範囲内で
ある。成分(A2)のケイ素化合物の使用量は、成分
(A1)を構成するチタン成分に対するケイ素の原子比
(ケイ素/チタン)で0.01〜1000、好ましくは
0.1〜100の範囲内である。
用するときのその使用量は、成分(A1)を構成するチ
タン成分に対するモル比で、0.001〜1000の範
囲内がよく、好ましくは0.01〜100の範囲内であ
る。任意成分としての有機金属化合物を使用するときの
その使用量は、前記のマグネシウム化合物の使用量に対
してモル比で0.001〜100の範囲内がよく、好ま
しくは0.01〜10の範囲内である。任意成分として
の電子供与体を使用するときのその使用量は、前記のマ
グネシウム化合物の使用量に対してモル比で0.001
〜10の範囲内がよく、好ましくは0.01〜5の範囲
内である。
分(A2)の接触により、必要により電子供与体等の他
成分を用いて、例えば以下のような製造方法によって製
造される。 (イ)ハロゲン化マグネシウムと必要に応じて電子供与
体、チタン含有化合物及び/又はケイ素化合物を接触さ
せる方法。 (ロ)アルミナ又はマグネシアをハロゲン化リン化合物
で処理し、それにハロゲン化マグネシウム、電子供与
体、チタンハロゲン含有化合物及び/又はケイ素化合物
を接触させる方法。 (ハ)ハロゲン化マグネシウムとチタンテトラアルコキ
シド及び特定のポリマーケイ素化合物を接触させて得ら
れる固体成分に、チタンハロゲン化合物及び/又はケイ
素のハロゲン化合物を接触させた反応生成物を不活性有
機溶媒で洗浄後、ケイ素化合物を接触させるか、又は、
各々別に接触させる方法。このポリマーケイ素化合物と
しては、下式で示されるものが適当である。
り、qはこのポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100
センチストークス程度となるような重合度を示す。)具
体的には、メチルハイドロジェンポリシロキサン、エチ
ルハイドロジェンポリシロキサン、フェニルハイドロジ
ェンポリシロキサン、シクロヘキシルハイドロジェンポ
リシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテ
トラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチルシ
クロペンタシロキサン等が好ましい。 (ニ)マグネシウム化合物をチタンテトラアルコキシド
及び/又は電子供与体で溶解させて、ハロゲン化剤又は
チタンハロゲン化合物で析出させた固体成分に、チタン
化合物及び/又はケイ素化合物を接触させるか又は、各
々別に接触させる方法。 (ホ)グリニャール試薬等の有機マグネシウム化合物を
ハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、これに必要に
応じて電子供与体を接触させ、次いでチタン化合物及び
/又はケイ素化合物を接触させるか又は、各々別に接触
させる方法。 (ヘ)アルコキシマグネシウム化合物にハロゲン化剤及
び/又はチタン化合物を電子供与体の存在下もしくは不
存在下に接触させ、次いでチタン化合物及び/又はケイ
素化合物を接触させるか又は、各々別に接触させる方
法。
(ハ)、(ニ)及び(ヘ)が好ましい。成分(A)は、
その製造の中間及び/又は最後に不活性有機溶媒、例え
ば脂肪族又は芳香族炭化水素溶媒(例えば、ヘキサン、
ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等)、あるいはハ
ロゲン化炭化水素溶媒(例えば、塩化−n−ブチル、
1,2−ジクロロエチレン、四塩化炭素、クロルベンゼ
ン等)で洗浄することができる。
ニル基含有化合物、例えばオレフィン類、ジエン化合
物、スチレン類等を接触させて重合させることからなる
予備重合工程を経たものとして使用することもできる。
予備重合を行う際に用いられるオレフィン類の具体例と
しては、例えば炭素数2〜20程度のもの、具体的には
エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メチルブテン
−1、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチルペンテ
ン−1、1−オクテン、1−デセン、1−ウンデセン、
1−エイコセン等があり、ジエン化合物の具体例として
は、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,4−ヘキサ
ジエン、1,5−ヘキサジエン、1,3−ペンタジエ
ン、1,4−ペンタジエン、2,4−ペンタジエン、
2,6−オクタジエン、cis−2,trans−4−
ヘキサジエン、trans−2,trans−4−ヘキ
サジエン、1,3−ヘプタジエン、1,4−ヘプタジエ
ン、1,5−ヘプタジエン、1,6−ヘプタジエン、
2,4−ヘプタジエン、ジシクロペンタジエン、1,3
−シクロヘキサジエン、1,4−シクロヘキサジエン、
シクロペンタジエン、1,3−シクロヘプタジエン、4
−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4
−ヘキサジエン、1,9−デカジエン、1,13−テト
ラデカジエン、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベ
ンゼン、o−ジビニルベンゼン、ジシクロペンタジエン
等がある。また、スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン、クロルスチ
レン等がある。
ル基含有化合物の反応条件は、本発明の効果が認められ
るかぎり任意のものでありうるが、一般的には次の範囲
内が好ましい。ビニル基含有化合物の予備重合量は、チ
タン固体成分1グラムあたり0.001〜100グラ
ム、好ましくは0.1〜50グラム、さらに好ましくは
0.5〜10グラムの範囲内である。予備重合時の反応
温度は−150〜150℃、好ましくは0〜100℃で
ある。そして、「本重合」、すなわちα−オレフィンの
重合のときの重合温度よりも低い重合温度が好ましい。
反応は、一般的に撹拌下に行うことが好ましく、そのと
きヘキサン、ヘプタン等の不活性溶媒を存在させること
もできる。また、成分(A1)と成分(A2)の接触時
に予備重合を行うこともできる。 (2)有機アルミニウム化合物成分(成分(B)) 本発明で用いられる有機アルミニウム化合物成分(成分
(B))の具体例としては、R13 3-rAlXr 又はR14
3-sAl(OR15)s(ここで、R13及びR14は炭素数1
〜20の炭化水素基又は水素原子であり、R15は炭化水
素基であり、Xはハロゲンであり、r及びsはそれぞれ
0≦r<3、0<s<3である。)で表されるものがあ
る。
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オ
クチルアルミニウム、トリ−n−デシルアルミニウムな
どのトリアルキルアルミニウム、(ロ)ジエチルアルミ
ニウムモノクロライド、ジイソブチルアルミニウムモノ
クロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エ
チルアルミニウムジクロライドなどのアルキルアルミニ
ウムハライド、(ハ)ジエチルアルミニウムハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアル
キルアルミニウムハイドライド、(ニ)ジエチルアルミ
ニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド
などのアルキルアルミニウムアルコキシド等が挙げられ
る。
化合物に他の有機金属化合物、例えばR16 3-tAl(O
R17)t(ここで、R16及びR17は同一又は異なっても
よい炭素数1〜20の炭化水素基であり、tは0<t≦
3である。)で表されるアルミニウムアルコキシドを併
用することもできる。例えば、トリエチルアルミニウム
とジエチルアルミニウムエトキシドの併用、ジエチルア
ルミニウムモノクロライドとジエチルアルミニウムエト
キシドとの併用、エチルアルミニウムジクロライドとエ
チルアルミニウムジエトキシドとの併用、トリエチルア
ルミニウムとジエチルアルミニウムエトキシドとジエチ
ルアルミニウムモノクロライドとの併用等が挙げられ
る。
と成分(A)の固体触媒成分中のチタン成分との割合
は、Al/Ti=1〜1000モル/モルが一般的であ
り、好ましくは、Al/Ti=10〜500モル/モル
の割合で使用される。 (3)酸素原子含有有機化合物成分(成分(C)) 本発明で用いる酸素原子含有有機化合物(成分(C))
は、分子科学計算によって求めた四塩化チタン分子に対
する当該化合物の配位熱が52.0kcal/mol以
上、79.0cal/mol以下、好ましくは55.0
kcal/mol以上、77.5kcal/mol以
下、特に好ましくは57.0kcal/mol以上、7
2.0kcal/mol以下のものである。四塩化チタ
ン分子は非晶性成分を生成する触媒活性点を簡易的に表
現したものである。配位熱が52.0kcal/mol
より小さい場合は、固体触媒成分中のチタンと酸素原子
含有有機化合物成分の相互作用が弱く、非晶性成分を生
成する触媒活性点を十分に封鎖できないため好ましくな
い。また配位熱が79.0kcal/molより大きい
場合は固体触媒成分中の本来結晶性を制御している電子
供与体成分との置換を引き起こすため、十分な選択的非
晶性成分低減の効果が得らず、極端な場合では非晶性成
分が増加する。
1)より算出される。
分子が配位した構造の全エネルギー 分子の構造は熱運動によって変化している。分子のエネ
ルギーはその構造によって決まるため、やはり熱運動に
より変化する。その中でも最も存在しやすい構造の目安
として、エネルギーが最低である構造(最安定構造)が
よく用いられる。本発明においては分子動力学計算を活
用することにより、四塩化チタン分子、酸素原子含有有
機化合物分子、そして四塩化チタン1分子に酸素原子含
有有機化合物1分子が配位した構造の最安定構造を求め
る。得られた最安定構造をもとに、量子化学計算で
E1、E2、E3を求め、(式1)より配位熱ΔEを計算
する。
には、炭酸エステル化合物、アセタール化合物、エーテ
ル化合物などを例示することができる。
しては、四塩化チタン分子に対する酸素原子含有有機化
合物の配位熱が、下記の範囲であることが特に望まし
い。
7.0kcal/mol〜66.0kcal/mol、
好ましくは57.0kcal/mol〜64.0kca
l/mol、 b.アセタール化合物ついては、66.0kcal/m
ol〜72.0kcal/mol、好ましくは66.1
kcal/mol〜70.6kcal/mol c.エーテル化合物ついては、72.0kcal/mo
l〜77.5kcal/mol なお、アセタール化合物においては、酸素間を結合する
骨格炭素が脂環式化合物の一員であるか、又は、脂環式
基もしくはアリール基と結合したものであることが好ま
しいより具体的には、 (イ)炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸イ
ソプロピル、炭酸ブチル、炭酸ヘプチルなどの炭酸エス
テル化合物。 (ロ)ジメチルアセタール、ジエチルアセタール、ジプ
ロピルアセタール、ジブチルアセタール、アセトンジメ
チルアセタール、アセトンジエチルアセタール、アセト
ンジプロピルアセアタール、アセトンジブチルアセター
ル、ジフェニルジメトキシメタン、t−ブチルメチルジ
メトキシメタン、ジ−t−ブチルジメトキシメタン、
1,1−ジメトキシシクロペンタン、1,1−ジメトキ
シシクロヘキサンなどのアセタール化合物。 (ハ)1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジメチル
−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソプロピ
ル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソブチ
ル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−
2−イソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イ
ソプロピル−2−s−ブチル−1,3−ジメトキシプロ
パン、2−t−ブチル−2−メチル−1,3−ジメトキ
シプロパン、2−t−ブチル−2−イソプロピル−1,
3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシクロペンチル−
1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシクロヘキシ
ル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジフェニル
−1,3−ジメトキシプロパン、1,3−ジエトキシプ
ロパン、2,2−ジメチル−1,3−ジエトキシプロパ
ン、2,2−ジイソプロピル−1,3−ジエトキシプロ
パン、1,3−ジプロポキシプロパン、1,3−ジブト
キシプロパン、1,2,3−トリメトキシプロパン、
1,1,1−トリメトキシメチル−エタンなどのエーテ
ル化合物等を挙げることができる。これらの酸素原子含
有有機化合物は、二種類以上用いることもできる。
と成分(B)の有機アルミニウム化合物成分との割合
は、有機アルミニウム化合物成分の使用量に対してモル
比で0.001〜1の範囲内がよく、好ましくは0.0
05〜0.5の範囲内である。
フィン重合は、炭化水素溶媒を用いるスラリー重合、実
質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合又は気相重合に適
用される。スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化
水素溶媒が用いられる。採用される重合方法は、連続式
重合、回分式重合又は多段式重合等いかなる方法でもよ
い。重合温度は、通常30〜200℃程度、好ましくは
50〜150℃であり、そのとき分子量調節剤として水
素を用いることができる。
は、一般式R12−CH=CH2 (ここで、R12は炭素
数1〜20の炭化水素基であり、分枝基を有してもよ
い。)で表されるものである。具体的には、プロピレ
ン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1,4−メ
チルペンテン−1などのα−オレフィン類がある。これ
らのα−オレフィンの単独重合のほかに、α−オレフィ
ンと共重合可能なモノマー(例えば、エチレン、α−オ
レフィン、ジエン類、スチレン類等)との共重合も行う
ことができる。これらの共重合性モノマーはランダム共
重合においては15重量%まで、ブロック共重合におい
ては50重量%まで使用することができる。
明する。本発明における計算値及び各物性値の測定方法
及び装置を以下に示す。 [配位熱]以下本発明で用いた分子科学計算方法につき
説明する。
て四塩化チタン1分子に酸素原子含有有機化合物1分子
が配位した構造、それぞれの最安定構造を求めるため、
分子動力学計算を実施する。 (1)使用ソフトウエア 米国MSI社製の画像インターフェースInsight
II(4.0.0P+)を介して、同社の分子動力学計
算モジュールDiscover3(Discover
version 99.1)を使用した。また計算結果
の表示に関して、同社の分子動力学計算結果表示モジュ
ールAnalysisを用いた。 (2)分子力場の設定 ソフトウエア内蔵の分子力場ESFFを使用する。四塩
化チタン分子に関しては、チタン原子には4価4配位の
力場を指定し、塩素原子には塩素イオンの力場を指定す
る。四塩化チタンへ酸素原子含有有機化合物が配位した
構造については、配位する酸素原子とチタン原子の間に
結合を設定し、これに対応する配位数の4価の力場をチ
タン原子に指定する。尚、原子間の非結合相互作用のカ
ットオフ距離は25Åとし、スプライン幅、バッファー
幅は共に5Åに設定した。その他の条件は当該ソフトウ
エアのデフォルト値を用いた。 (3)分子動力学計算 四塩化チタン分子、酸素原子含有有機化合物分子、そし
て四塩化チタン1分子に酸素原子含有有機化合物1分子
が配位した構造、それぞれにつき温度1000ケルビ
ン、時間ステップ1フェムト秒の動力学計算を実施す
る。1000フェムト秒毎に分子構造を50回抽出す
る。得られた50構造は全て分子力場法にて最適化し、
その内でエネルギーがもっとも低い構造を最安定構造と
して選ぶ。構造最適化の収束判定条件は当該ソフトウエ
アのデフォルト値を用いた。
計算する。 (4)使用ソフトウエア 米国Wavefunction社の量子化学計算ソフト
ウエアSpartanversion 5.0を用い
た。 (5)計算手法 制限ハートリー・フォック法(RHF法)により算出し
た。基底関数はソフトウエア内蔵のSTO−3Gを用い
た。構造最適化計算時の反復回数上限は150回とし、
その他の条件は当該ソフトウエアのデフォルト値を用い
た。 (6)配位熱の計算 四塩化チタン分子、酸素原子含有有機化合物分子、そし
て四塩化チタン1分子に酸素原子含有有機化合物1分子
が配位した構造、それぞれにつき分子動力学計算で得ら
れた最安定構造を初期構造として構造最適化を実施す
る。得られた最適化構造の分子の全エネルギーを用い
て、(式1)により配位熱ΔEを算出する。
分子が配位した構造の全エネルギー なお、酸素原子含有有機化合物中に複数の酸素原子があ
る場合、四塩化チタンへの配位の仕方は配位する酸素原
子数などにより複数考えられることになる。この場合、
全ての可能性について配位熱を求め、その中で最大の配
位熱を採用する。
ml)中に一度完全に溶解させてから、23℃に冷却
し、12時間放置した後に濾過し、その濾液を除去して
溶けていた固形物を回収して、回収した固形物の重量割
合を求めた。
脱水及び脱酸素したn−ヘプタン200ミリリットルを
導入し、次いでMgCl2を0.4モル、Ti(O−n
−C4H9)4を0.8モル導入し、95℃で2時間反応
させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次いでメチ
ルヒドロポリシロキサン(20センチストークスのも
の)を48ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ミリリットル
導入し、上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.
24モル導入した。次いでn−ヘプタン25ミリリット
ルにSiCl4 0.4モルを混合して30℃、30分
間でフラスコへ導入し、70℃で3時間反応させた。反
応終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次いでn−ヘプタ
ン25ミリリットルにフタル酸クロライド0.024モ
ルを混合して、70℃、30分間でフラスコへ導入し、
90℃で1時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタン
で洗浄した。次いで、TiCl4 2.5モルを導入し
て90℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタ
ンで充分に洗浄して、更に、TiCl4 2.5モルを
導入して90℃で3時間反応させた。反応終了後、n−
ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)を製造するための
固体成分とした。このもののチタン含量は2.6重量%
であった。
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ミリリットル
導入し、上記で合成した固体成分を5グラム導入し、
(t−C4H9)Si(CH3)(OCH3)2 1.2ミ
リリットル、Al(C2H5)31.7グラムを30℃で
2時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に
洗浄し、塩化マグネシウムを主体とする成分(A)を得
た。このもののチタン含量は、2.3重量%であった。
置を有する内容積3.0リットルのステンレス鋼製オー
トクレーブを真空下で加熱乾燥し、室温まで冷却してプ
ロピレン置換した後、成分(B)としてAl(C2H5)
3を550ミリグラム、成分(C)として炭酸メチルを
43ミリグラム及び水素を8000ミリリットル導入
し、次いで液体プロピレンを1000グラム導入して、
内部温度を75℃に合わせた後に、上記で製造した成分
(A)を7ミリグラム圧入して、プロピレンを重合させ
た。1時間後にエタノールを10ミリリットル圧入して
重合を終了し、得られたポリマーを回収し乾燥させた。
その結果、96.6(g)のポリマーが得られた。得ら
れたポリマーは、MFR=74(g/10分)、ポリマ
ー嵩密度=0.48(g/cc)、CXS=1.0(w
t%)であった。
−ジメトキシシクロヘキサンを70ミリグラム使用した
以外は実施例−1と全く同様に行った。その結果、11
4.5(g)のポリマーが得られた。得られたポリマー
は、MFR=40(g/10分)、ポリマー嵩密度=
0.45(g/cc)、CXS=1.2(wt%)であ
った。
−ジイソプロピル−1,3−ジメトキシプロパンを91
ミリグラム、水素を5000ミリリットル使用した以外
は実施例−1と全く同様に行った。その結果、203.
7(g)のポリマーが得られた。得られたポリマーは、
MFR=39(g/10分)、ポリマー嵩密度=0.4
6(g/cc)、CXS=0.8(wt%)であった。
を5000ミリリットル使用した以外は実施例−1と全
く同様に行った。その結果、214.9(g)のポリマ
ーが得られた。得られたポリマーは、MFR=26(g
/10分)、ポリマー嵩密度=0.48(g/cc)、
CXS=1.6(wt%)であった。
チルを36ミリグラム、水素を5000ミリリットル使
用した以外は実施例−1と全く同様に行った。その結
果、245.7(g)のポリマーが得られた。得られた
ポリマーは、MFR=42(g/10分)、ポリマー嵩
密度=0.48(g/cc)、CXS=1.6(wt
%)であった。
−ジメトキシエタンを43ミリグラム、水素を5000
ミリリットル使用した以外は実施例−1と全く同様に行
った。その結果、112.0(g)のポリマーが得られ
た。得られたポリマーは、MFR=37(g/10
分)、ポリマー嵩密度=0.44(g/cc)、CXS
=6.9(wt%)であった。
脱水及び脱酸素したn−ヘプタン 200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2を0.4モル、Ti(O−
n−C4H9)4を0.8モル導入し、95℃で2時間反
応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次いでメ
チルヒドロポリシロキサン(20センチストークスのも
の)を48ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ミリリットル
導入し、上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.
24モル導入した。次いでn−ヘプタン25ミリリット
ルにSiCl4 0.4モルを混合して30℃、30分
間でフラスコへ導入し、70℃で3時間反応させた。応
終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次いでn−ヘプタン
25ミリリットルに酢酸ブチルセロソルブ0.024モ
ルを混合して、70℃、30分間でフラスコへ導入し、
90℃で1時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタン
で洗浄した。次いで、TiCl4 2.5モルを導入し
て90℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタ
ンで充分に洗浄して、更に、TiCl4 2.5モルを
導入して90℃で3時間反応させた。反応終了後、n−
ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)を製造するための
固体成分とした。このもののチタン含量は2.6重量%
であった。
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ミリリットル
導入し、上記で合成した固体成分を5グラム導入し、
(t−C4H9)Si(n−C3H7)(OCH3)2 1.
5ミリリットル、Al(C2H5)3 1.7グラムを3
0℃で2時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで
充分に洗浄し、塩化マグネシウムを主体とする成分
(A)を得た。このもののチタン含量は、2.2重量%
であった。
記の成分を用い、成分(C)の炭酸メチルに代わりに炭
酸エチルを57ミリグラム使用した以外は実施例−1と
全く同様に行った。その結果、172.9(g)のポリ
マーが得られた。得られたポリマーは、MFR=63
(g/10分)、ポリマー嵩密度=0.47(g/c
c)、CXS=0.9(wt%)であった。
脱水及び脱酸素したトルエン100ミリリットルを導入
し、次いでMg(OEt)2 10グラムを導入し懸濁
状態とした。次いで、TiCl4 20ミリリットルを
導入し、90℃に昇温してフタル酸ジ−n−ブチル2.
5ミリリットルを導入し、さらに110℃に昇温して3
時間反応させた。反応終了後、トルエンで洗浄した。次
いでTiCl4 20ミリリットル及びトルエン100
ミリリットルを導入し、110℃で2時間反応させた。
反応終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄して、更に、T
iCl4 20ミリリットル及びトルエン100ミリリ
ットルを導入し、110℃で2時間反応させた。反応終
了後、n−ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)を製造
するための固体成分とした。このもののチタン含量は
2.7重量%であった。
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ミリリットル
導入し、上記で合成した固体成分を5グラム導入し、
(C5H9)2Si(OCH3)2 1.5ミリリットル及
びAl(C2H5)3 1.7グラムを30℃で2時間接
触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し、
塩化マグネシウムを主体とする成分(A)を得た。この
もののチタン含量は、2.3重量%であった。
記の成分を用い、成分(C)の炭酸メチルに代わりに
1,1−ジメトキシシクロペンタンを63ミリグラム使
用した以外は実施例−1と全く同様に行った。その結
果、103.1(g)のポリマーが得られた。得られた
ポリマーは、MFR=41(g/10分)、ポリマー嵩
密度=0.45(g/cc)、CXS=1.2(wt
%)であった。
脱水及び脱酸素したトルエン100ミリリットルを導入
し、次いでMg(OEt)2 10グラムを導入し懸濁状
態とした。次いで、TiCl4 20ミリリットルを導
入し、90℃に昇温して2,2−ジイソプロピル−1,
3−ジメトキシプロパン2.5ミリリットルを導入し、
さらに110℃に昇温して3時間反応させた。反応終了
後、トルエンで洗浄した。次いでTiCl4 20ミリ
リットル及びトルエン100ミリリットルを導入し、1
10℃で2時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタン
で充分に洗浄して、更に、TiCl4 20ミリリット
ル及びトルエン100ミリリットルを導入し、110℃
で2時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充分
に洗浄して成分(A)を製造するための固体成分とし
た。このもののチタン含量は2.7重量%であった。
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ミリリットル
導入し、上記で合成した固体成分を5グラム導入し、
(C9H17N)2Si(OCH3)2 2.7ミリリットル
及びAl(C2H5)3 1.7グラムを30℃で2時間
接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄
し、塩化マグネシウムを主体とする成分(A)を得た。
このもののチタン含量は、2.3重量%であった。 [プロピレンの重合]成分(A)として上記の成分を用
い、成分(C)の炭酸メチルに代わりに1,1,1−ト
リメトキシメチル−エタンを78ミリグラム、水素を5
000ミリリットル使用した以外は実施例−1と全く同
様に行った。その結果、163.0(g)のポリマーが
得られた。得られたポリマーは、MFR=38(g/1
0分)、ポリマー嵩密度=0.47(g/cc)、CX
S=0.9(wt%)であった。
なく高い立体規則性を持ち、比較的臭いや色相も良好な
α−オレフィン重合体を高収率で得ることが可能である
ため、高剛性化や高耐熱性化の求められている自動車部
品、家電部品、包装材料などの用途に好適に用いられ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】(A)マグネシウム、チタン及びハロゲン
を必須成分とする固体触媒成分、(B)有機アルミニウ
ム化合物成分、及び(C)酸素原子含有有機化合物成分
を組み合わせてなるα−オレフィン重合用触媒であっ
て、四塩化チタン分子に対する酸素原子含有有機化合物
の配位熱が、52.0kcal/mol以上79.0k
cal/mol以下であることを特徴とするα−オレフ
ィン重合用触媒。 - 【請求項2】四塩化チタン分子に対する酸素原子含有有
機化合物の配位熱が、57.0kcal/mol以上7
2.0kcal/mol以下である請求項1記載のα−
オレフィン重合用触媒。 - 【請求項3】下記の成分(A)、成分(B)及び成分
(C)を組み合わせてなる請求項1又は2に記載のα−
オレフィン重合用触媒。 成分(A):下記の成分(A1)及び成分(A2)を接
触させてなる固体触媒成分、 成分(A1):チタン、マグネシウム及びハロゲンを必
須成分として含有するα−オレフィン重合用固体成分、 成分(A2):下記の一般式のいずれかで表されるケイ
素化合物、 R1R2 3-mSi(OR3)m 一般式(1) (R4O)(R5O)3-mSi(OR3)m 一般式(2) (R6R7N)(R8R9N)3-mSi(OR3)m 一般式(3) (ここで、R1はケイ素原子に隣接する炭素原子、すなわ
ちα位炭素原子が二級又は三級の脂肪族炭化水素基であ
り、R2はR1と同一もしくは異なる脂肪族炭化水素基又
はヘテロ原子含有炭化水素基であり、R3、R4、R5、
R6、R7、R8、R 9は炭化水素基であり、R6とR7、R
8とR9は環状を形成していてもよく、mは1≦m≦3で
ある。) 成分(B):有機アルミニウム化合物成分 成分(C):酸素原子含有有機化合物成分 - 【請求項4】成分(C)酸素原子含有有機化合物成分が
炭酸エステル化合物、アセタール化合物、エーテル化合
物から選ばれた請求項1〜3のいずれかに記載のα−オ
レフィン重合用触媒。 - 【請求項5】成分(C)酸素原子含有有機化合物成分
が、下記の酸素原子含有有機化合物から選ばれたもので
ある請求項4に記載のα−オレフィン重合用触媒。 a.四塩化チタン分子に対する配位熱が、57.0kc
al/mol〜66.0kcal/molの炭酸エステ
ル化合物 b.四塩化チタン分子に対する配位熱が、66.0kc
al/mol〜72.0kcal/molのアセタール
化合物 c.四塩化チタン分子に対する配位熱が72.0kca
l/mol〜77.5kcal/molのエーテル化合
物 - 【請求項6】請求項1〜5いずれかに記載のα−オレフ
ィン重合用触媒を用いて、α−オレフィンを単独重合又
は共重合することを特徴とするα−オレフィンの重合方
法。
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