JP2002249451A - 有機基質の酸化方法 - Google Patents
有機基質の酸化方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低コストで効率的に有機基質を酸素酸化し、
各種含酸素有機化合物を生産性良く製造する方法を提供
すること。 【解決手段】 有機基質を、Ｎ−ヒドロキシ環状イミ
ド、有機基質に対して０．１モル％以下のコバルト化合
物、および有機基質に対して０．１モル％以下のバナジ
ウム化合物の存在下、酸素と接触させることにより、有
機基質を酸化する。この方法により、炭化水素類から、
ケトン類、アルコール類、ヒドロペルオキシド類および
カルボン酸類等を、アルコール類から、ケトン類、カル
ボン酸類等を製造する。
各種含酸素有機化合物を生産性良く製造する方法を提供
すること。 【解決手段】 有機基質を、Ｎ−ヒドロキシ環状イミ
ド、有機基質に対して０．１モル％以下のコバルト化合
物、および有機基質に対して０．１モル％以下のバナジ
ウム化合物の存在下、酸素と接触させることにより、有
機基質を酸化する。この方法により、炭化水素類から、
ケトン類、アルコール類、ヒドロペルオキシド類および
カルボン酸類等を、アルコール類から、ケトン類、カル
ボン酸類等を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機基質を酸素
（本明細書においては。「分子状酸素」を単に「酸素」
という）と接触させることにより、有機基質を酸化する
方法に関する。
（本明細書においては。「分子状酸素」を単に「酸素」
という）と接触させることにより、有機基質を酸化する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、有機基質の酸化方法として、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミドのようなイミド化合物と金属化
合物の存在下に酸素酸化する方法が開発されている。例
えば、特開平８−３８９０９号公報、特開平９−３２７
６２６号公報、特開平１０−２８６４６７号公報には、
有機基質を、イミド化合物と各種金属化合物の存在下に
有機溶媒中、酸素雰囲気下で反応させる方法が記載され
ている。また、特開平９−８７２１５号公報、特開平９
−１４３１０９号公報には、シクロヘキサンを、イミド
化合物とルテニウム化合物やコバルト化合物の存在下に
無溶媒で、窒素−酸素混合ガスを流しながら反応させる
方法が記載されている。
ヒドロキシフタルイミドのようなイミド化合物と金属化
合物の存在下に酸素酸化する方法が開発されている。例
えば、特開平８−３８９０９号公報、特開平９−３２７
６２６号公報、特開平１０−２８６４６７号公報には、
有機基質を、イミド化合物と各種金属化合物の存在下に
有機溶媒中、酸素雰囲気下で反応させる方法が記載され
ている。また、特開平９−８７２１５号公報、特開平９
−１４３１０９号公報には、シクロヘキサンを、イミド
化合物とルテニウム化合物やコバルト化合物の存在下に
無溶媒で、窒素−酸素混合ガスを流しながら反応させる
方法が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平８−３８９０９号公報等の方法では、金属化合物の
使用量が多いため、コストの点で満足できるものではな
く、また、多量の有機溶媒を用いるため、容積効率が低
く、酸化の効率すなわち酸化生成物の生産性が十分でな
い。一方、上記特開平９−８７２１５号公報等の方法で
は、金属化合物の使用量は少ないものの、転化率が低
く、生産性が十分でない。本発明の目的は、低コストで
効率的に有機基質を酸素酸化する方法を提供することに
ある。
開平８−３８９０９号公報等の方法では、金属化合物の
使用量が多いため、コストの点で満足できるものではな
く、また、多量の有機溶媒を用いるため、容積効率が低
く、酸化の効率すなわち酸化生成物の生産性が十分でな
い。一方、上記特開平９−８７２１５号公報等の方法で
は、金属化合物の使用量は少ないものの、転化率が低
く、生産性が十分でない。本発明の目的は、低コストで
効率的に有機基質を酸素酸化する方法を提供することに
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、有機基質
をＮ−ヒドロキシ環状イミドと金属化合物の存在下に酸
素酸化する方法について鋭意検討した結果、金属化合物
としてコバルト化合物およびバナジウム化合物を併用す
ることにより、それらの使用量が少なくても、効率的に
有機基質を酸化できることを見出し、本発明を完成する
に至った。
をＮ−ヒドロキシ環状イミドと金属化合物の存在下に酸
素酸化する方法について鋭意検討した結果、金属化合物
としてコバルト化合物およびバナジウム化合物を併用す
ることにより、それらの使用量が少なくても、効率的に
有機基質を酸化できることを見出し、本発明を完成する
に至った。
【０００５】すなわち、本発明は、有機基質を、Ｎ−ヒ
ドロキシ環状イミド、有機基質に対して０．１モル％以
下のコバルト化合物、および有機基質に対して０．１モ
ル％以下のバナジウム化合物の存在下、酸素と接触させ
ることにより、有機基質を酸化する方法に係るものであ
る。
ドロキシ環状イミド、有機基質に対して０．１モル％以
下のコバルト化合物、および有機基質に対して０．１モ
ル％以下のバナジウム化合物の存在下、酸素と接触させ
ることにより、有機基質を酸化する方法に係るものであ
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる有機基質としては、例えば、炭化水素
類、アルコール類、ケトン類、アルデヒド類等が挙げら
れ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもでき
る。中でも、炭化水素類またはアルコール類が好まし
い。
本発明で用いる有機基質としては、例えば、炭化水素
類、アルコール類、ケトン類、アルデヒド類等が挙げら
れ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもでき
る。中でも、炭化水素類またはアルコール類が好まし
い。
【０００７】炭化水素類としては、例えば、ブタン、イ
ソブタン、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカンのよ
うな飽和脂肪族非環式炭化水素類；シクロブタン、シク
ロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シク
ロデカンのような飽和脂肪族環式炭化水素類；ブテン、
イソブチレン、ブタジエン、イソプレンのような不飽和
脂肪族非環式炭化水素類；シクロプロペン、シクロブテ
ン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘ
キセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネ
ン、シクロデセンのような不飽和脂肪族環式炭化水素
類；トルエン、キシレン、クメン、シメン、ジイソプロ
ピルベンゼン、テトラリン、インダンのような芳香族炭
化水素類等が挙げられる。
ソブタン、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカンのよ
うな飽和脂肪族非環式炭化水素類；シクロブタン、シク
ロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シク
ロデカンのような飽和脂肪族環式炭化水素類；ブテン、
イソブチレン、ブタジエン、イソプレンのような不飽和
脂肪族非環式炭化水素類；シクロプロペン、シクロブテ
ン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘ
キセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネ
ン、シクロデセンのような不飽和脂肪族環式炭化水素
類；トルエン、キシレン、クメン、シメン、ジイソプロ
ピルベンゼン、テトラリン、インダンのような芳香族炭
化水素類等が挙げられる。
【０００８】また、アルコール類としては、例えば、上
記炭化水素類において、メチル基、メチレン基またはメ
チリジン基がそれぞれヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
メチレン基またはヒドロキシメチリジン基となった、一
価または多価の、飽和脂肪族非環式アルコール類、飽和
脂肪族環式アルコール類、不飽和脂肪族非環式アルコー
ル類、不飽和脂肪族環式アルコール類、芳香族アルコー
ル類等が挙げられる。
記炭化水素類において、メチル基、メチレン基またはメ
チリジン基がそれぞれヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
メチレン基またはヒドロキシメチリジン基となった、一
価または多価の、飽和脂肪族非環式アルコール類、飽和
脂肪族環式アルコール類、不飽和脂肪族非環式アルコー
ル類、不飽和脂肪族環式アルコール類、芳香族アルコー
ル類等が挙げられる。
【０００９】本発明では、上記有機基質を酸素と接触さ
せて酸化する際、Ｎ−ヒドロキシ環状イミドを存在させ
るとともに、コバルト化合物およびバナジウム化合物を
少量存在させる。このようにコバルト化合物およびバナ
ジウム化合物を併用することにより、それらの使用量が
少なくても、有機基質の酸化反応を促進することができ
る。
せて酸化する際、Ｎ−ヒドロキシ環状イミドを存在させ
るとともに、コバルト化合物およびバナジウム化合物を
少量存在させる。このようにコバルト化合物およびバナ
ジウム化合物を併用することにより、それらの使用量が
少なくても、有機基質の酸化反応を促進することができ
る。
【００１０】Ｎ−ヒドロキシ環状イミドとしては、例え
ば、置換基されていてもよい、Ｎ−ヒドロキシフタルイ
ミド、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシ
マレイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド等が挙げら
れ、該置換基としては、例えば、アルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げられる。具体的に
は、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシクロ
ロフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシニトロフタルイミド、
Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシクロロ
ナフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシマレイミド、Ｎ−ヒド
ロキシスクシンイミド等が挙げられる。Ｎ−ヒドロキシ
環状イミドは、必要に応じてそれらの２種以上を用いて
もよい。
ば、置換基されていてもよい、Ｎ−ヒドロキシフタルイ
ミド、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシ
マレイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド等が挙げら
れ、該置換基としては、例えば、アルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げられる。具体的に
は、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシクロ
ロフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシニトロフタルイミド、
Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシクロロ
ナフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシマレイミド、Ｎ−ヒド
ロキシスクシンイミド等が挙げられる。Ｎ−ヒドロキシ
環状イミドは、必要に応じてそれらの２種以上を用いて
もよい。
【００１１】Ｎ−ヒドロキシ環状イミドの使用量は、有
機基質に対して、反応促進の観点から、通常０．０００
１モル％以上、好ましくは０．００１モル％以上であ
り、製造コストの観点から、通常５モル％以下、好まし
くは１モル％以下である。
機基質に対して、反応促進の観点から、通常０．０００
１モル％以上、好ましくは０．００１モル％以上であ
り、製造コストの観点から、通常５モル％以下、好まし
くは１モル％以下である。
【００１２】コバルト化合物としては、通常、２価また
は３価のコバルトを含む化合物が用いられ、バナジウム
化合物としては、通常、２価、３価、４価または５価の
バナジウムを含む化合物が用いられる。コバルト化合物
およびバナジウム化合物の種類としては、それぞれ、例
えば、酸化物、有機酸塩、無機酸塩、ハロゲン化物、ア
ルコキシド、アセチルアセトナートのような錯体、オキ
ソ酸やその塩、イソポリ酸やその塩、ヘテロポリ酸やそ
の塩等が挙げられる。
は３価のコバルトを含む化合物が用いられ、バナジウム
化合物としては、通常、２価、３価、４価または５価の
バナジウムを含む化合物が用いられる。コバルト化合物
およびバナジウム化合物の種類としては、それぞれ、例
えば、酸化物、有機酸塩、無機酸塩、ハロゲン化物、ア
ルコキシド、アセチルアセトナートのような錯体、オキ
ソ酸やその塩、イソポリ酸やその塩、ヘテロポリ酸やそ
の塩等が挙げられる。
【００１３】好ましくは、コバルト化合物としては、酢
酸コバルト、オクチル酸コバルト、ナフテン酸コバル
ト、ステアリン酸コバルト、コバルトアセチルアセトナ
ート、塩化コバルト、臭化コバルトが挙げられ、バナジ
ウム化合物としては、ナフテン酸バナジウム、バナジウ
ムアセチルアセトナート、酸化バナジウム、バナジルア
セチルアセトナート、塩化バナジル、バナドモリブデン
酸が挙げられる。コバルト化合物およびバナジウム化合
物は、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもで
きる。
酸コバルト、オクチル酸コバルト、ナフテン酸コバル
ト、ステアリン酸コバルト、コバルトアセチルアセトナ
ート、塩化コバルト、臭化コバルトが挙げられ、バナジ
ウム化合物としては、ナフテン酸バナジウム、バナジウ
ムアセチルアセトナート、酸化バナジウム、バナジルア
セチルアセトナート、塩化バナジル、バナドモリブデン
酸が挙げられる。コバルト化合物およびバナジウム化合
物は、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもで
きる。
【００１４】コバルト化合物およびバナジウム化合物の
使用量は、それぞれ、有機基質に対して、０．１モル％
以下であり、好ましくは０．０５モル％以下、さらに好
ましくは０．０１モル％以下である。また、該使用量の
下限については、反応促進の観点から、通常０．０００
００１モル％以上、好ましくは０．００００１モル％以
上である。
使用量は、それぞれ、有機基質に対して、０．１モル％
以下であり、好ましくは０．０５モル％以下、さらに好
ましくは０．０１モル％以下である。また、該使用量の
下限については、反応促進の観点から、通常０．０００
００１モル％以上、好ましくは０．００００１モル％以
上である。
【００１５】また、コバルト化合物およびバナジウム化
合物の使用量は、両者の和として、有機基質に対して、
好ましくは０．００００１〜０．１モル％、さらに好ま
しくは０．００００１〜０．０１モル％の範囲である。
合物の使用量は、両者の和として、有機基質に対して、
好ましくは０．００００１〜０．１モル％、さらに好ま
しくは０．００００１〜０．０１モル％の範囲である。
【００１６】反応は溶媒の存在下に行ってもよく、該溶
媒としては、例えば、ベンゾニトリル、アセトニトリル
のようなニトリル類；ぎ酸、酢酸のような有機酸類；ニ
トロメタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物；ク
ロロベンゼン、１，２−ジクロロエタンのような塩素化
炭化水素類等が挙げられ、必要に応じてそれらの２種以
上を用いることもできる。中でも、ニトリル類や有機酸
類が好ましい。
媒としては、例えば、ベンゾニトリル、アセトニトリル
のようなニトリル類；ぎ酸、酢酸のような有機酸類；ニ
トロメタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物；ク
ロロベンゼン、１，２−ジクロロエタンのような塩素化
炭化水素類等が挙げられ、必要に応じてそれらの２種以
上を用いることもできる。中でも、ニトリル類や有機酸
類が好ましい。
【００１７】溶媒を用いる場合、その使用量は、基質１
００重量部に対して、反応促進の観点から、通常１重量
部以上、好ましくは１０重量部以上であり、容積効率の
観点から、通常８０重量部以下、好ましくは５０重量部
以下である。
００重量部に対して、反応促進の観点から、通常１重量
部以上、好ましくは１０重量部以上であり、容積効率の
観点から、通常８０重量部以下、好ましくは５０重量部
以下である。
【００１８】有機基質と酸素との接触は、通常、有機基
質、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、コバルト化合物および
バナジウム化合物を含む液に、酸素含有ガスの気泡を分
散させることにより行われ、例えば、ガス導入管を用い
てもよいし、反応器に吹き出し孔を設けてもよい。酸素
含有ガスとしては、酸素、空気、または酸素もしくは空
気を窒素やヘリウムのような不活性ガスで希釈したもの
を用いることができる。酸素含有ガスの供給速度は、有
機基質１モルに対して、酸素として、通常０．００１〜
１モル／ｈで、好ましくは０．０１〜０．５モル／ｈで
ある。
質、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、コバルト化合物および
バナジウム化合物を含む液に、酸素含有ガスの気泡を分
散させることにより行われ、例えば、ガス導入管を用い
てもよいし、反応器に吹き出し孔を設けてもよい。酸素
含有ガスとしては、酸素、空気、または酸素もしくは空
気を窒素やヘリウムのような不活性ガスで希釈したもの
を用いることができる。酸素含有ガスの供給速度は、有
機基質１モルに対して、酸素として、通常０．００１〜
１モル／ｈで、好ましくは０．０１〜０．５モル／ｈで
ある。
【００１９】反応温度は、反応促進の観点から、通常７
０℃以上、好ましくは９０℃以上であり、また、通常１
７０℃以下、好ましくは１６０℃以下である。また、反
応圧力は、通常０．１〜３ＭＰａ、好ましくは０．５〜
２ＭＰａの範囲である。反応は回分式で行ってもよい
し、連続式で行ってもよいが、操作性の観点からは、有
機基質、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、コバルト化合物、
バナジウム化合物および酸素含有ガスを反応系内に供給
しながら、反応液および排ガスを反応系内から抜き出す
ことにより、連続式で行うのが好ましい。
０℃以上、好ましくは９０℃以上であり、また、通常１
７０℃以下、好ましくは１６０℃以下である。また、反
応圧力は、通常０．１〜３ＭＰａ、好ましくは０．５〜
２ＭＰａの範囲である。反応は回分式で行ってもよい
し、連続式で行ってもよいが、操作性の観点からは、有
機基質、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、コバルト化合物、
バナジウム化合物および酸素含有ガスを反応系内に供給
しながら、反応液および排ガスを反応系内から抜き出す
ことにより、連続式で行うのが好ましい。
【００２０】反応後の後処理操作としては、例えば、濾
過、濃縮、洗浄、アルカリ処理、酸処理等が挙げられ、
必要に応じてそれらの２種以上が組み合わせて採用され
る。例えば、アルカリ処理をすることにより、アルコー
ル類とカルボン酸類とからなるエステル類をケン化して
アルコール類およびカルボン酸類を再生できると共に、
ヒドロペルオキシド類をケトン類やアルコール類に変換
することができる。また、精製操作としては、通常、蒸
留や晶析が採用される。
過、濃縮、洗浄、アルカリ処理、酸処理等が挙げられ、
必要に応じてそれらの２種以上が組み合わせて採用され
る。例えば、アルカリ処理をすることにより、アルコー
ル類とカルボン酸類とからなるエステル類をケン化して
アルコール類およびカルボン酸類を再生できると共に、
ヒドロペルオキシド類をケトン類やアルコール類に変換
することができる。また、精製操作としては、通常、蒸
留や晶析が採用される。
【００２１】上記本発明の酸化方法で、炭化水素類、ア
ルコール類、ケトン類、アルデヒド類等の有機基質を酸
化することにより、対応する酸化生成物として、ケトン
類、アルコール類、ヒドロペルオキシド類、アルデヒド
類、カルボン酸類等の含酸素有機化合物を製造すること
ができる。
ルコール類、ケトン類、アルデヒド類等の有機基質を酸
化することにより、対応する酸化生成物として、ケトン
類、アルコール類、ヒドロペルオキシド類、アルデヒド
類、カルボン酸類等の含酸素有機化合物を製造すること
ができる。
【００２２】例えば、炭化水素類の酸化により、対応す
るケトン類として、該炭化水素類の有するメチレン基が
カルボニル基となった化合物等を、対応するアルコール
類として、該炭化水素類の有するメチル基、メチレン基
またはメチリジン基がそれぞれヒドロキシメチル基、ヒ
ドロキシメチレン基またはヒドロキシメチリジン基とな
った化合物等を、対応するヒドロペルオキシド類とし
て、該炭化水素類の有するメチル基、メチレン基または
メチリジン基がそれぞれヒドロペルオキシメチル基、ヒ
ドロペルオキシメチレン基またはヒドロペルオキシメチ
リジン基となった化合物等を、対応するアルデヒド類と
して、該炭化水素の有するメチル基がホルミル基となっ
た化合物等を、対応するカルボン酸類として、該炭化水
素の有するメチル基がカルボキシル基となった化合物
や、炭化水素類が環式炭化水素類である場合には、炭素
−炭素結合が開裂して両炭素がカルボキシル基となった
化合物（ジカルボン酸類）等を製造することができる。
るケトン類として、該炭化水素類の有するメチレン基が
カルボニル基となった化合物等を、対応するアルコール
類として、該炭化水素類の有するメチル基、メチレン基
またはメチリジン基がそれぞれヒドロキシメチル基、ヒ
ドロキシメチレン基またはヒドロキシメチリジン基とな
った化合物等を、対応するヒドロペルオキシド類とし
て、該炭化水素類の有するメチル基、メチレン基または
メチリジン基がそれぞれヒドロペルオキシメチル基、ヒ
ドロペルオキシメチレン基またはヒドロペルオキシメチ
リジン基となった化合物等を、対応するアルデヒド類と
して、該炭化水素の有するメチル基がホルミル基となっ
た化合物等を、対応するカルボン酸類として、該炭化水
素の有するメチル基がカルボキシル基となった化合物
や、炭化水素類が環式炭化水素類である場合には、炭素
−炭素結合が開裂して両炭素がカルボキシル基となった
化合物（ジカルボン酸類）等を製造することができる。
【００２３】また、アルコール類の酸化により、対応す
るケトン類として、該アルコール類の有するヒドロキシ
メチレン基がカルボニル基となった化合物等を、対応す
るアルデヒド類として、該アルコール類の有するヒドロ
キシメチル基がホルミル基となった化合物等を、対応す
るカルボン酸類として、該アルコール類の有するヒドロ
キシメチル基がカルボキシル基となった化合物や、アル
コール類が環式アルコール類である場合には、炭素−炭
素結合が開裂して両炭素がカルボキシル基となった化合
物（ジカルボン酸類）等を製造することができる。
るケトン類として、該アルコール類の有するヒドロキシ
メチレン基がカルボニル基となった化合物等を、対応す
るアルデヒド類として、該アルコール類の有するヒドロ
キシメチル基がホルミル基となった化合物等を、対応す
るカルボン酸類として、該アルコール類の有するヒドロ
キシメチル基がカルボキシル基となった化合物や、アル
コール類が環式アルコール類である場合には、炭素−炭
素結合が開裂して両炭素がカルボキシル基となった化合
物（ジカルボン酸類）等を製造することができる。
【００２４】中でも、本発明の酸化方法は、炭化水素類
を原料としてケトン類、アルコール類、ヒドロペルオキ
シド類およびカルボン酸類から選ばれる少なくとも１種
を製造する方法や、アルコール類を原料としてケトン類
およびカルボン酸類から選ばれる少なくとも１種を製造
する方法に好適に用いることができる。
を原料としてケトン類、アルコール類、ヒドロペルオキ
シド類およびカルボン酸類から選ばれる少なくとも１種
を製造する方法や、アルコール類を原料としてケトン類
およびカルボン酸類から選ばれる少なくとも１種を製造
する方法に好適に用いることができる。
【００２５】具体的には、例えば、シクロヘキサンを原
料としてシクロヘキサノン、シクロヘキサノール、シク
ロヘキシルヒドロペルオキシドおよびアジピン酸から選
ばれる少なくとも１種を製造する方法や、シクロヘキサ
ノールを原料としてシクロヘキサノンおよび／またはア
ジピン酸を製造する方法が挙げられる。
料としてシクロヘキサノン、シクロヘキサノール、シク
ロヘキシルヒドロペルオキシドおよびアジピン酸から選
ばれる少なくとも１種を製造する方法や、シクロヘキサ
ノールを原料としてシクロヘキサノンおよび／またはア
ジピン酸を製造する方法が挙げられる。
【００２６】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。なお、酸素含有ガスと
しては、空気または空気を窒素で希釈したものを用い、
酸素含有ガスの吹き込みは、ガス導入管により行い、実
施例２および比較例３では、ガス導入管の先端にフィル
ターを装着して気泡径が１ｍｍ以下となるようにした。
ガスの排出は、冷却管および保圧弁を介して行い、冷却
管の冷媒には８℃の水を用いた。また、シクロヘキサ
ン、シクロヘキサノン、シクロヘキサノールおよびシク
ロヘキシルヒドロペルオキシドの分析は、ガスクロマト
グラフィーにより行い、アジピン酸の分析は、イオンク
ロマトグラフィーにより行い、これらの分析結果に基づ
いて、反応成績を算出した。
れらに限定されるものではない。なお、酸素含有ガスと
しては、空気または空気を窒素で希釈したものを用い、
酸素含有ガスの吹き込みは、ガス導入管により行い、実
施例２および比較例３では、ガス導入管の先端にフィル
ターを装着して気泡径が１ｍｍ以下となるようにした。
ガスの排出は、冷却管および保圧弁を介して行い、冷却
管の冷媒には８℃の水を用いた。また、シクロヘキサ
ン、シクロヘキサノン、シクロヘキサノールおよびシク
ロヘキシルヒドロペルオキシドの分析は、ガスクロマト
グラフィーにより行い、アジピン酸の分析は、イオンク
ロマトグラフィーにより行い、これらの分析結果に基づ
いて、反応成績を算出した。
【００２７】実施例１ １リットルのガラスオートクレーブに、シクロヘキサン
２５２．５ｇ（３モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
０．２８ｇ（０．００２モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．０１６ｇ（０．０
０００２１モル）、バナジウム含有率２重量％のナフテ
ン酸バナジウム（ＩＩＩ）０．０６２ｇ（０．００００
２４モル）、シクロヘキサノン２．８ｇ（０．０２９モ
ル）およびシクロヘキサノール１０．８ｇ（０．１０８
モル）を入れ、窒素雰囲気下、圧力１．０５ＭＰａ、温
度１４０℃に調整した。この中に、該圧力および温度を
維持しながら、酸素濃度７容量％の酸素含有ガスを３０
０ｍｌ／分で１時間吹き込んだ。その後、該酸素含有ガ
スを空気２００ｍｌ／分に切り替えて徐々に流速を上げ
て７００ｍｌ／分とし、切り替えと同時に、コバルト換
算で６重量ｐｐｍのオクチル酸コバルト（ＩＩ）および
バナジウム換算で６重量ｐｐｍのナフテン酸バナジウム
（ＩＩＩ）を含むシクロヘキサンを７．９ｇ／分で、な
らびに０．０５重量％のＮ−ヒドロキシフタルイミド、
５．０重量％のシクロヘキサノンおよび１９．８重量％
のシクロヘキサノールを含むシクロヘキサンを１．９ｇ
／分で供給開始し、引き続き上記の圧力および温度を維
持しながら供給速度とほぼ等速度で反応液を抜き出し、
滞留時間０．５時間で連続的に３時間反応させた。排ガ
スの平均酸素濃度は０．６容量％であった。供給液全体
における、シクロヘキサンの濃度は９５重量％（１１．
３モル／ｋｇ）、シクロヘキサノンの濃度は１．０重量
％（０．１モル／ｋｇ）、シクロヘキサノールの濃度は
３．９重量％（０．３９モル／ｋｇ）、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドの濃度は０．０１重量％（０．０００６モ
ル／ｋｇ）、オクチル酸コバルト（ＩＩ）の濃度はコバ
ルトとして５重量ｐｐｍ（０．００００９モル／ｋ
ｇ）、ナフテン酸バナジウム（ＩＩＩ）の濃度はバナジ
ウムとして５重量ｐｐｍ（０．０００１モル／ｋｇ）と
なる。
２５２．５ｇ（３モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
０．２８ｇ（０．００２モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．０１６ｇ（０．０
０００２１モル）、バナジウム含有率２重量％のナフテ
ン酸バナジウム（ＩＩＩ）０．０６２ｇ（０．００００
２４モル）、シクロヘキサノン２．８ｇ（０．０２９モ
ル）およびシクロヘキサノール１０．８ｇ（０．１０８
モル）を入れ、窒素雰囲気下、圧力１．０５ＭＰａ、温
度１４０℃に調整した。この中に、該圧力および温度を
維持しながら、酸素濃度７容量％の酸素含有ガスを３０
０ｍｌ／分で１時間吹き込んだ。その後、該酸素含有ガ
スを空気２００ｍｌ／分に切り替えて徐々に流速を上げ
て７００ｍｌ／分とし、切り替えと同時に、コバルト換
算で６重量ｐｐｍのオクチル酸コバルト（ＩＩ）および
バナジウム換算で６重量ｐｐｍのナフテン酸バナジウム
（ＩＩＩ）を含むシクロヘキサンを７．９ｇ／分で、な
らびに０．０５重量％のＮ−ヒドロキシフタルイミド、
５．０重量％のシクロヘキサノンおよび１９．８重量％
のシクロヘキサノールを含むシクロヘキサンを１．９ｇ
／分で供給開始し、引き続き上記の圧力および温度を維
持しながら供給速度とほぼ等速度で反応液を抜き出し、
滞留時間０．５時間で連続的に３時間反応させた。排ガ
スの平均酸素濃度は０．６容量％であった。供給液全体
における、シクロヘキサンの濃度は９５重量％（１１．
３モル／ｋｇ）、シクロヘキサノンの濃度は１．０重量
％（０．１モル／ｋｇ）、シクロヘキサノールの濃度は
３．９重量％（０．３９モル／ｋｇ）、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドの濃度は０．０１重量％（０．０００６モ
ル／ｋｇ）、オクチル酸コバルト（ＩＩ）の濃度はコバ
ルトとして５重量ｐｐｍ（０．００００９モル／ｋ
ｇ）、ナフテン酸バナジウム（ＩＩＩ）の濃度はバナジ
ウムとして５重量ｐｐｍ（０．０００１モル／ｋｇ）と
なる。
【００２８】反応液を分析した結果、シクロヘキサノン
の濃度は３．４重量％、シクロヘキサノールの濃度は
４．１重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は１．２重量％、アジピン酸の濃度は０．５重量％で
あり、シクロヘキサンの転化率は４．５％、シクロヘキ
サノン、シクロヘキサノールおよびシクロヘキシルヒド
ロペルオキシドの合計収率は３．４％（選択率７６．０
％）、アジピン酸の収率は０．３４％（選択率７．５
％）であった。
の濃度は３．４重量％、シクロヘキサノールの濃度は
４．１重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は１．２重量％、アジピン酸の濃度は０．５重量％で
あり、シクロヘキサンの転化率は４．５％、シクロヘキ
サノン、シクロヘキサノールおよびシクロヘキシルヒド
ロペルオキシドの合計収率は３．４％（選択率７６．０
％）、アジピン酸の収率は０．３４％（選択率７．５
％）であった。
【００２９】比較例１ １リットルのガラスオートクレーブに、シクロヘキサン
２５２．５ｇ（３モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
０．２８ｇ（０．００２モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．０３２ｇ（０．０
０００４４モル）、シクロヘキサノン２．９ｇ（０．０
３モル）およびシクロヘキサノール１０．８ｇ（０．１
０８モル）を入れ、窒素雰囲気下、圧力１．０５ＭＰ
ａ、温度１４０℃に調整した。この中に、該圧力および
温度を維持しながら、酸素濃度７容量％の酸素含有ガス
を３００ｍｌ／分で１時間吹き込んだ。その後、該酸素
含有ガスを空気２００ｍｌ／分に切り替えて徐々に流速
を上げて４００ｍｌ／分とし、切り替えと同時に、コバ
ルト換算で１２．５重量ｐｐｍのオクチル酸コバルト
（ＩＩ）を含むシクロヘキサンを８．０ｇ／分で、なら
びに０．０５重量％のＮ−ヒドロキシフタルイミド、
４．９重量％のシクロヘキサノンおよび１９．８重量％
のシクロヘキサノールを含むシクロヘキサンを２．０ｇ
／分で供給開始し、引き続き上記の圧力および温度を維
持しながら供給速度とほぼ等速度で反応液を抜き出し、
滞留時間０．５時間で連続的に２．５時間反応させた。
排ガスの平均酸素濃度は１．９容量％であった。供給液
全体における、シクロヘキサンの濃度は９５重量％（１
１．３モル／ｋｇ）、シクロヘキサノンの濃度は１．０
重量％（０．１モル／ｋｇ）、シクロヘキサノールの濃
度は４．０重量％（０．４モル／ｋｇ）、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミドの濃度は０．０１重量％（０．０００６
モル／ｋｇ）、オクチル酸コバルト（ＩＩ）の濃度はコ
バルトとして１０重量ｐｐｍ（０．０００１７モル／ｋ
ｇ）となる。
２５２．５ｇ（３モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
０．２８ｇ（０．００２モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．０３２ｇ（０．０
０００４４モル）、シクロヘキサノン２．９ｇ（０．０
３モル）およびシクロヘキサノール１０．８ｇ（０．１
０８モル）を入れ、窒素雰囲気下、圧力１．０５ＭＰ
ａ、温度１４０℃に調整した。この中に、該圧力および
温度を維持しながら、酸素濃度７容量％の酸素含有ガス
を３００ｍｌ／分で１時間吹き込んだ。その後、該酸素
含有ガスを空気２００ｍｌ／分に切り替えて徐々に流速
を上げて４００ｍｌ／分とし、切り替えと同時に、コバ
ルト換算で１２．５重量ｐｐｍのオクチル酸コバルト
（ＩＩ）を含むシクロヘキサンを８．０ｇ／分で、なら
びに０．０５重量％のＮ−ヒドロキシフタルイミド、
４．９重量％のシクロヘキサノンおよび１９．８重量％
のシクロヘキサノールを含むシクロヘキサンを２．０ｇ
／分で供給開始し、引き続き上記の圧力および温度を維
持しながら供給速度とほぼ等速度で反応液を抜き出し、
滞留時間０．５時間で連続的に２．５時間反応させた。
排ガスの平均酸素濃度は１．９容量％であった。供給液
全体における、シクロヘキサンの濃度は９５重量％（１
１．３モル／ｋｇ）、シクロヘキサノンの濃度は１．０
重量％（０．１モル／ｋｇ）、シクロヘキサノールの濃
度は４．０重量％（０．４モル／ｋｇ）、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミドの濃度は０．０１重量％（０．０００６
モル／ｋｇ）、オクチル酸コバルト（ＩＩ）の濃度はコ
バルトとして１０重量ｐｐｍ（０．０００１７モル／ｋ
ｇ）となる。
【００３０】反応液を分析した結果、シクロヘキサノン
の濃度は２．４重量％、シクロヘキサノールの濃度は
４．４重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は０．６重量％、アジピン酸の濃度は０．２９重量％
であり、シクロヘキサンの転化率は２．８％、シクロヘ
キサノン、シクロヘキサノールおよびシクロヘキシルヒ
ドロペルオキシドの合計収率は２．２％（選択率７９．
９％）、アジピン酸の収率は０．１８％（選択率６．４
％）であった。
の濃度は２．４重量％、シクロヘキサノールの濃度は
４．４重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は０．６重量％、アジピン酸の濃度は０．２９重量％
であり、シクロヘキサンの転化率は２．８％、シクロヘ
キサノン、シクロヘキサノールおよびシクロヘキシルヒ
ドロペルオキシドの合計収率は２．２％（選択率７９．
９％）、アジピン酸の収率は０．１８％（選択率６．４
％）であった。
【００３１】比較例２ １リットルのガラスオートクレーブに、シクロヘキサン
２５２．５ｇ（３モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
０．２８ｇ（０．００２モル）、バナジウム含有率２重
量％のナフテン酸バナジウム（ＩＩＩ）０．１２ｇ
（０．００００４８モル）、シクロヘキサノン２．７ｇ
（０．０２８モル）およびシクロヘキサノール１０．８
ｇ（０．１０８モル）を入れ、窒素雰囲気下、圧力１．
０５ＭＰａ、温度１４０℃に調整した。この中に、該圧
力および温度を維持しながら、酸素濃度７容量％の酸素
含有ガスを３００ｍｌ／分で吹き込んだ。１時間後、該
酸素含有ガスの吹き込みを維持したまま、バナジウム換
算で１２．６重量ｐｐｍのナフテン酸バナジウム（ＩＩ
Ｉ）を含むシクロヘキサンを７．９ｇ／分で、ならびに
０．０５重量％のＮ−ヒドロキシフタルイミド、４．９
重量％のシクロヘキサノンおよび１９．８重量％のシク
ロヘキサノールを含むシクロヘキサンを２．０ｇ／分で
供給開始し、引き続き上記の圧力および温度を維持しな
がら供給速度とほぼ等速度で反応液を抜き出し、滞留時
間０．５時間で連続的に２．５時間反応させた。排ガス
の平均酸素濃度は４．６容量％であった。供給液全体に
おける、シクロヘキサンの濃度は９５重量％（１１．３
モル／ｋｇ）、シクロヘキサノンの濃度は１．０重量％
（０．１モル／ｋｇ）、シクロヘキサノールの濃度は
４．０重量％（０．４モル／ｋｇ）、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミドの濃度は０．０１重量％（０．０００６モル
／ｋｇ）、ナフテン酸バナジウム（ＩＩＩ）の濃度はバ
ナジウムとして１０重量ｐｐｍ（０．０００２モル／ｋ
ｇ）となる。
２５２．５ｇ（３モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
０．２８ｇ（０．００２モル）、バナジウム含有率２重
量％のナフテン酸バナジウム（ＩＩＩ）０．１２ｇ
（０．００００４８モル）、シクロヘキサノン２．７ｇ
（０．０２８モル）およびシクロヘキサノール１０．８
ｇ（０．１０８モル）を入れ、窒素雰囲気下、圧力１．
０５ＭＰａ、温度１４０℃に調整した。この中に、該圧
力および温度を維持しながら、酸素濃度７容量％の酸素
含有ガスを３００ｍｌ／分で吹き込んだ。１時間後、該
酸素含有ガスの吹き込みを維持したまま、バナジウム換
算で１２．６重量ｐｐｍのナフテン酸バナジウム（ＩＩ
Ｉ）を含むシクロヘキサンを７．９ｇ／分で、ならびに
０．０５重量％のＮ−ヒドロキシフタルイミド、４．９
重量％のシクロヘキサノンおよび１９．８重量％のシク
ロヘキサノールを含むシクロヘキサンを２．０ｇ／分で
供給開始し、引き続き上記の圧力および温度を維持しな
がら供給速度とほぼ等速度で反応液を抜き出し、滞留時
間０．５時間で連続的に２．５時間反応させた。排ガス
の平均酸素濃度は４．６容量％であった。供給液全体に
おける、シクロヘキサンの濃度は９５重量％（１１．３
モル／ｋｇ）、シクロヘキサノンの濃度は１．０重量％
（０．１モル／ｋｇ）、シクロヘキサノールの濃度は
４．０重量％（０．４モル／ｋｇ）、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミドの濃度は０．０１重量％（０．０００６モル
／ｋｇ）、ナフテン酸バナジウム（ＩＩＩ）の濃度はバ
ナジウムとして１０重量ｐｐｍ（０．０００２モル／ｋ
ｇ）となる。
【００３２】反応液を分析した結果、シクロヘキサノン
の濃度は１．４重量％、シクロヘキサノールの濃度は
３．８重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は０．２重量％、アジピン酸の濃度は０．０７重量％
であり、シクロヘキサンの転化率は０．４６％、シクロ
ヘキサノン、シクロヘキサノールおよびシクロヘキシル
ヒドロペルオキシドの合計収率は０．４１％（選択率７
８．６％）、アジピン酸の収率は０．０４％（選択率
９．０％）であった。
の濃度は１．４重量％、シクロヘキサノールの濃度は
３．８重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は０．２重量％、アジピン酸の濃度は０．０７重量％
であり、シクロヘキサンの転化率は０．４６％、シクロ
ヘキサノン、シクロヘキサノールおよびシクロヘキシル
ヒドロペルオキシドの合計収率は０．４１％（選択率７
８．６％）、アジピン酸の収率は０．０４％（選択率
９．０％）であった。
【００３３】実施例２ １リットルのガラスオートクレーブに、シクロヘキサン
１６８．８ｇ（２モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
２．４２ｇ（０．０１５モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．０６６ｇ（０．０
０００９３モル）、バナジウム（ＩＩＩ）アセチルアセ
トナート０．０３２ｇ（０．００００９９モル）および
アセトニトリル７０ｇを加え、窒素雰囲気下、圧力１．
０５ＭＰａ、温度１００℃に調整した。この中に、該圧
力および温度を維持しながら、攪拌下、酸素含有ガスを
４５０ｍｌ／分の供給速度で２時間吹き込んだ。吹き込
みの間、排ガスの酸素濃度が２〜４容量％の範囲となる
ように、酸素含有ガス中の酸素濃度を９〜２１容量％の
範囲で調整した。
１６８．８ｇ（２モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
２．４２ｇ（０．０１５モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．０６６ｇ（０．０
０００９３モル）、バナジウム（ＩＩＩ）アセチルアセ
トナート０．０３２ｇ（０．００００９９モル）および
アセトニトリル７０ｇを加え、窒素雰囲気下、圧力１．
０５ＭＰａ、温度１００℃に調整した。この中に、該圧
力および温度を維持しながら、攪拌下、酸素含有ガスを
４５０ｍｌ／分の供給速度で２時間吹き込んだ。吹き込
みの間、排ガスの酸素濃度が２〜４容量％の範囲となる
ように、酸素含有ガス中の酸素濃度を９〜２１容量％の
範囲で調整した。
【００３４】反応液を分析した結果、シクロヘキサノン
の濃度は５．６重量％、シクロヘキサノールの濃度は
０．０４重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの
濃度は２．２重量％、アジピン酸の濃度は１．４重量％
であり、シクロヘキサンの転化率は１３．４％、シクロ
ヘキサノンの収率は７．６％（選択率５７．１％）、シ
クロヘキサノールの収率は０．０６％（選択率０．４４
％）、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの収率は２．
５％（選択率１８．６％）、アジピン酸の収率は１．３
％（選択率９．５％）であった。
の濃度は５．６重量％、シクロヘキサノールの濃度は
０．０４重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの
濃度は２．２重量％、アジピン酸の濃度は１．４重量％
であり、シクロヘキサンの転化率は１３．４％、シクロ
ヘキサノンの収率は７．６％（選択率５７．１％）、シ
クロヘキサノールの収率は０．０６％（選択率０．４４
％）、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの収率は２．
５％（選択率１８．６％）、アジピン酸の収率は１．３
％（選択率９．５％）であった。
【００３５】比較例３ １リットルのガラスオートクレーブに、シクロヘキサン
１６８．８ｇ（２モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
２．４２ｇ（０．０１５モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．１３ｇ（０．００
０１８モル）およびアセトニトリル７０ｇを加え、窒素
雰囲気下、圧力１．０５ＭＰａ、温度１００℃に調整し
た。この中に、該圧力および温度を維持しながら、攪拌
下、酸素含有ガスを４５０ｍｌ／分の供給速度で２時間
吹き込んだ。吹き込みの間、排ガスの酸素濃度が２〜４
容量％の範囲となるように、酸素含有ガス中の酸素濃度
を９〜２１容量％の範囲で調整した。
１６８．８ｇ（２モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
２．４２ｇ（０．０１５モル）、コバルト含有率８重量
％のオクチル酸コバルト（ＩＩ）０．１３ｇ（０．００
０１８モル）およびアセトニトリル７０ｇを加え、窒素
雰囲気下、圧力１．０５ＭＰａ、温度１００℃に調整し
た。この中に、該圧力および温度を維持しながら、攪拌
下、酸素含有ガスを４５０ｍｌ／分の供給速度で２時間
吹き込んだ。吹き込みの間、排ガスの酸素濃度が２〜４
容量％の範囲となるように、酸素含有ガス中の酸素濃度
を９〜２１容量％の範囲で調整した。
【００３６】反応液を分析した結果、シクロヘキサノン
の濃度は３．９重量％、シクロヘキサノールの濃度は
１．０重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は１．２重量％、アジピン酸の濃度は０．９重量％で
あり、シクロヘキサンの転化率は９．８％、シクロヘキ
サノンの収率は５．３％（選択率５４．２％）、シクロ
ヘキサノールの収率は１．３％（選択率１３．５％）、
シクロヘキシルヒドロペルオキシドの収率は１．３％
（選択率１３．３％）、アジピン酸の収率は０．８％
（選択率８．６％）であった。
の濃度は３．９重量％、シクロヘキサノールの濃度は
１．０重量％、シクロヘキシルヒドロペルオキシドの濃
度は１．２重量％、アジピン酸の濃度は０．９重量％で
あり、シクロヘキサンの転化率は９．８％、シクロヘキ
サノンの収率は５．３％（選択率５４．２％）、シクロ
ヘキサノールの収率は１．３％（選択率１３．５％）、
シクロヘキシルヒドロペルオキシドの収率は１．３％
（選択率１３．３％）、アジピン酸の収率は０．８％
（選択率８．６％）であった。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、各種有機基質の酸素酸
化を低コストで効率的に行うことができ、対応する酸化
生成物として、各種含酸素有機化合物を生産性良く製造
することができる。
化を低コストで効率的に行うことができ、対応する酸化
生成物として、各種含酸素有機化合物を生産性良く製造
することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 51/215 Ｃ０７Ｃ 51/215 55/14 55/14 409/14 409/14 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 村田 修三 愛媛県新居浜市惣開町５番１号 住友化学 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC40 AC41 AC44 AC46 BA12 BA20 BA51 BC34 BE30 BS10 FC22 FE12 4H039 CA60 CA62 CA64 CA65 CC30
Claims (5)
- 【請求項１】有機基質を、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、
有機基質に対して０．１モル％以下のコバルト化合物、
および有機基質に対して０．１モル％以下のバナジウム
化合物の存在下、酸素と接触させることを特徴とする有
機基質の酸化方法。 - 【請求項２】有機基質が炭化水素類またはアルコール類
である請求項１記載の酸化方法。 - 【請求項３】有機基質を請求項１記載の方法で酸化する
含酸素有機化合物の製造方法。 - 【請求項４】有機基質が炭化水素類であり、含酸素有機
化合物がケトン類、アルコール類、ヒドロペルオキシド
類およびカルボン酸類から選ばれた少なくとも１種であ
る請求項３記載の製造方法。 - 【請求項５】有機基質がアルコール類であり、含酸素有
機化合物がケトン類およびカルボン酸類から選ばれた少
なくとも１種である請求項３記載の製造方法。
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|---|---|---|---|
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001046389A JP2002249451A (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | 有機基質の酸化方法 |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003064365A1 (fr) * | 2002-01-29 | 2003-08-07 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Procede de production d'acide dicarboxylique |
| JP2006248951A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Daicel Chem Ind Ltd | 脂肪族飽和カルボン酸の製造法 |
| EP1980549A1 (en) | 2007-04-13 | 2008-10-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing cycloalkanol and/or cycloalkanone |
-
2001
- 2001-02-22 JP JP2001046389A patent/JP2002249451A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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