JP2004504273A - 炭化水素の酸化方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、炭化水素、ろう又はカーボンブラックのような基質の酸化方法に関するものであり、その際、触媒として、式(1)[ここで、R1、R2は、H、それぞれ1〜20個の炭素原子を有する、脂肪族又は芳香族のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又は炭化水素基、SO3H、NH2、OH、F、Cl、Br、I及び/又はNO2であり、その際、R1及びR2は、同じか又は異なる基を表していてよく、又はR1及びR2は、共有結合を介して互いに結合していてよく、Q1、Q2はそれぞれ同じか又は異なり、C、CH、N、CR5であり、X、Zはそれぞれ同じか又は異なり、C、S、CH2であり、Y=O、OH、k=0、1、2、l=0、1、2、m=1〜3、R5はR1の意味の1つである]の化合物を、ラジカル開始剤の存在下に使用し、その際、触媒と炭化水素とのモル比が10モル%未満である。ラジカル開始剤として、ペルオキシ化合物又はアゾ化合物が使用されることができる。好ましい基質は、脂肪族又は芳香族の炭化水素である。
Description
【0001】
本発明は、置換又は非置換の炭化水素を接触酸化して、相応するアルコール、ヒドロペルオキシド、カルボン酸、ジカルボン酸又はケトンに変換する方法に関する。
【0002】
炭化水素の酸化は、工業有機化学における重要な反応である。これらの酸化のためには、KMnO4、CrO3又はHNO3のような化合物が酸化剤として使用されることができる。しかし、これらは、一方では、相対的に高い価格の欠点を有し、他方では、これらの使用は、廃棄物処理問題及び生態系の負荷でありうる望ましくないカップリング生成物を共にもたらす。
【0003】
従って、好ましくは、ペルオキシド又はN2Oをベースとする酸化剤が使用される。しかし、最も低価格の酸化剤は、純粋な形でか又は空気酸素としての分子状酸素である。しかし、単独で利用される酸素は、炭化水素の酸化にはたいてい不適当である、それというのも、エネルギー論により好都合な三重項−形で存在するO2−分子の反応性は、不十分であるからである。
【0004】
レドックス金属触媒の使用により、分子状酸素を有機化合物の酸化に利用することは可能である。多数の工業的方法は、炭化水素の金属触媒作用された自動酸化に基づいている。そして、例えば、コバルト塩の使用下に、シクロヘキサンをO2で酸化してシクロヘキサノール若しくはシクロヘキサノンに変換することが行われる。これらの工業的方法は、ラジカル連鎖機構に基づいている。ビラジカルである酸素は、炭化水素ラジカルと、ペルオキシラジカルの形成及び別の炭化水素でのH−原子の引抜きによるその後の連鎖成長下に反応する。しかし、金属塩に加えて、有機分子も、ラジカル開始剤として機能しうる。
【0005】
これらの方法の場合には、選択率が上昇する変換率と共に極めて強く低下し、ひいては、方法が低い変換率水準で運転されなければならないことが不利である。そして、例えばシクロヘキサノール/シクロヘキサノンへのシクロヘキサンの酸化は、10〜12%の変換率で実施され、これで選択率は80〜85%である(“Industrielle Organische Chemie” 1994, 261, VCH−Verlag, D−69451 Weinheim)。別の重要な工業的自動酸化プロセス、つまりクメン−酸化において、変換率は、約90%のクメンヒドロペルオキシド−選択率で約30%である(上記引用文中、385以降)。
【0006】
金属塩触媒の代わりは、触媒系若しくはメディエーター系、例えばN−ヒドロキシフタルイミド(NHPI)の使用である。しかしながら、紹介された方法の場合の反応速度は、多量のメディエーター(基質に対して等モルの割合まで)にもかかわらず、十分ではない(J. Mol. Catalysis A. 1997, 117, 123−137)。そして、US 5 030 739には、イソプレン誘導体を相応するアクロレイン化合物に酸化するためのN−ヒドロキシジカルボン酸イミドの使用が記載されている。シクロヘキサジエン若しくは六環系、例えばα−テルピンの組み合わされた酸化/脱水は、確かにクメン誘導体をもたらすが、しかしながら、この誘導体はもはや酸化されない。従って、この方法は、クメンをクメンヒドロペルオキシドに変換するには適していない。
【0007】
一般に、基質に比較して少なくとも10モル%のメディエーター量は使用され、その際、反応速度の増大のためにより多量のメディエーターが使用される(J. Org. Chem. 1995, 60, 3934−3935)。生成物選択率は、技術的用途には不十分である。そして、NHPIでのクメンの酸化の際に、アセトフェノンを有する生成物混合物が主生成物として得られるが、しかしながら所望の酸化生成物であるクメンヒドロペルオキシドは、単離されることができなかった(J. Org. Chem. 1995, 60, 3934−3935)。
【0008】
系の別の展開は、助触媒の使用である。助触媒として、金属化合物、特に重金属塩、酵素又は強ブレンステッド−酸が使用されることができる。例えば、Ishii他により、助触媒としてレドックス金属塩と組み合わせたNHPIは、助触媒を有しない類似の酸化に対して利点を有しうることが示されている(例えばEP 0878234、EP 0864555、EP 0878458、EP 0858835、JP 11180913、J. Mol. Catalysis A. 1997, 117, 123−137)。しかし、これらの系については、望ましくない重金属含有量に加えて、ここでも多量の使用されるNHPIが不利である。満足のいく反応速度を保証するために、少なくとも10モル%のメディエーターが使用されなければならない。更に、使用したレドックス金属は、生成物の部分的に続行される反応を触媒し、かつこうして反応の選択率が低下することは不利である。
【0009】
飽和環式炭化水素、例えばシクロペンタデカノン、シクロドデカノン又はシクロオクタノンの酸化生成物は、重要な発香性物質若しくは発香性物質中間生成物である。これらの物質には、高い純度要求がなされるので、触媒作用により含まれた金属塩量自体が、大きな問題を引き起こす。必要な後処理工程、例えば金属化合物の分離及び特に添加された金属塩の回収は、金属塩触媒された方法の効率及び環境に負荷をかける。
【0010】
助触媒なしでメディエーターのみを使用する方法も公知になってきている。しかしながら、これらは、特に活性化された基質、例えばエーテル、エステル又はイソプレン誘導体の酸化に限定されている。
【0011】
例えば、系NHPI/酢酸コバルトでのクメンの酸化の際に、アセトフェノン(選択率54%)、2−フェニル−2−プロパノール(10%)及びフェノール(17%)からなる生成物混合物が得られる。所望の生成物であるクメンヒドロペルオキシドは、中間にのみ形成され、かつ与えられた方法条件下で不安定である。
【0012】
別の変法は、助触媒としてアルコール又はアルデヒドと組み合わせたNHPIの使用である(Chem. Commun. 1999, 727−728, Tetrahedron Letters 1999, 40, 2165−2168, Chem. Commun. 1997, 447−448)。これらの方法については、カップリング生成物の形成及び使用された高いメディエーター−基質−比(10モル%)が不利である。
【0013】
DE 19723890には、芳香族及び複素芳香族のアルデヒド及びケトンの製造のための有機メディエーター及び酸化還元酵素ラッカーゼからなる酸化系が記載されている。ここでも、使用されるメディエーター量が極めて高い。その上、この方法は、酵素の使用により、生物学的に必要な緩衝液系を有する複雑な反応系を有し、このことは、この系の幅広い利用可能性を制限する。
【0014】
本発明の課題は、高い変換率で高い選択率を有する、炭化水素の酸化のための重金属不含若しくは金属不含の方法を発展させることにあった。
【0015】
意外なことに、タイプ
【0016】
【化8】
【0017】
で示される化合物若しくはこれらの化合物の誘導体が、重金属又は強酸なしでも、基質、例えば炭化水素の酸化に使用されることができることが見出された。
【0018】
従って、本発明の対象は、飽和又は不飽和で、置換又は非置換の炭化水素、複素環式化合物、アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、アミン又はカーボンブラック(以下:基質)を接触酸化して、相応するヒドロペルオキシド、アルコール、ケトン、カルボン酸又はジカルボン酸に変換する方法であり、その際、触媒として、式I
【0019】
【化9】
【0020】
[式中、R1、R2は、H、それぞれ1〜20個の炭素原子を有する、脂肪族又は芳香族のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又は炭化水素基、SO3H、NH2、OH、F、Cl、Br、I及び/又はNO2であり、ここでR1及びR2は、同じか又は異なる基を表してよく、又はR1及びR2は、共有結合を介して互いに結合していてよく、
Q1、Q2はそれぞれ同じか又は異なり、C、CH、N、CR5であり、
X、Zはそれぞれ同じか又は異なり、C、S、CH2であり、
YはO、OHであり、
kは0、1、2であり、
lは0、1、2であり、
mは1〜3であり;
R5はR1の意味の1つである]で示される化合物をラジカル開始剤の存在下に使用し、その際、触媒と炭化水素とのモル比が10モル%未満である。
【0021】
本発明による方法において、金属化合物又は酵素が助触媒として使用されない。本方法は、好ましくは有機溶剤中で強酸の不在下に実施され、中性ないし塩基性のpH−範囲における水溶液の使用も同様に可能である。
【0022】
触媒と酸化すべき炭化水素とのモル比は、10− 6モル%〜10モル%、好ましくは10− 6〜5モル%、まさに特に好ましくは10− 6〜2.5モル%、特別な実施態様において10− 6〜1モル%であってよい。
【0023】
酸化すべき基質に対するこの僅かな割合での式Iによる触媒(メディエーター)の使用は、意外なことに、短い反応時間で高い変換率を達成する結果になるだけではなくて、技術水準に対して、達成された選択率によっても卓越している。本発明による方法の別の利点は、メディエーター量の低下による経済性の改善にある。
【0024】
本発明による方法の特別な実施態様において、式Iの化合物の誘導体若しくは特例も使用されることができる。
【0025】
好ましくは、式IIのメディエーター/触媒、即ちm=1である式Iによる化合物である。
【0026】
【化10】
【0027】
Q1、Q2、R1、R2、X、Y、Z、k及びlは式Iに定義された意味を有する。
【0028】
特に好ましくは、式III
【0029】
【化11】
【0030】
[式中、R1、R2、R3、R4は、H、それぞれ1〜20個の炭素原子を有する、脂肪族又は芳香族のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又は炭化水素基、SO3H、NH2、OH、F、Cl、Br、I及び/又はNO2であり、その際、R1、R2、R3及びR4は、同じか又は異なる基を表していてよく、ここで
X、Zはそれぞれ同じか又は異なり、C、S、CH2であり、
YはO、OHであり、
kは0、1、2であり、
lは0、1、2である]のメディエーター/触媒である。
【0031】
更に、本発明による方法において、式IX
【0032】
【化12】
【0033】
[式中、Q1、R1、R2、X、Z、k、l、mは請求項1に記載の意味を有する]で示されるヒダントイン誘導体が使用されることができる。
【0034】
本発明による方法において使用される式Iによる触媒の例は、N−ヒドロキシフタルイミド、4−アミノ−N−ヒドロキシフタルイミド、3−アミノ−N−ヒドロキシフタルイミド、テトラブロモ−N−ヒドロキシフタルイミド、テトラクロロ−N−ヒドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシヘチミド(N−hydroxyhetimid)、N−ヒドロキシヒミミド(N−hydroxyhimimid)、N−ヒドロキシトリメリトイミド、N−ヒドロキシ−ベンゼン−1,2,4−トリカルボン酸イミド、N,N′−ジヒドロキシ−ピロメリト酸ジイミド、N,N′−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン−3,3′,4,4′テトラカルボン酸−ジイミド、N−ヒドロキシマレイミド、ピリジン−2,3−ジカルボン酸イミド、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ酒石酸イミド、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸イミド、エキソ−N−ヒドロキシ−7−オキサビシクロ[2.2.1]−ヘプタ−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ヒドロキシ−シス−シクロヘキサン−1,2−ジカルボキシイミド、N−ヒドロキシ−シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−ヒドロキシナフタル酸イミド−ナトリウム塩、ヒダントイン、ヒダントイン誘導体又はN−ヒドロキシ−o−ベンゼンジスルホンイミドである。
【0035】
本発明の特別な一実施態様において、液相中の酸化は、0〜500℃、好ましくは50〜300℃の温度で、特に好ましくは50〜200℃の温度で行われる。その際、溶剤若しくは溶剤混合物並びに基質自体が溶剤として使用されることができる。
【0036】
酸化すべき基質は、通例、置換又は非置換で、飽和又は不飽和の炭化水素のグループに属する。本発明による方法を用いて、多数のこれらの化合物、例えば芳香族化合物、脂肪族化合物、オレフィン又は脂環式化合物が選択的に酸化されることができる。本発明の方法のための基質は、酸素原子、硫黄原子及び/又は窒素原子及び/又はシアノ基を含有していてよい。特に、本発明による方法は、環式及び非環式のアルカン、アルケン、アルコール、アルデヒド、ケトン、アミン、窒素を含有しているヘテロ環式化合物、有機スルフィド及びスルホキシド、シアノ基を含有している化合物、ベンゼン、トルエン−誘導体及びアルキル芳香族化合物の酸化に使用されることができる。そのような化合物の例は、特にエタン、エテン、エチン、プロピン、アミノシクロドデカン、ブタジエン、ブテン、ブチルベンゼン、クメン、シクロデカジエン、シクロデカン、シクロデセン、シクロドデカジエン、シクロドデカン、シクロドデカノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキセン、シクロヘキサノン、シクロドデカノン、シクロドデカトリエン、シクロドデセン、シクロドデシルベンゼン、シクロヘプテン、シクロヘキシルベンゼン、シクロノネン、シクロオクタジエン、シクロオクタン、シクロオクタノール、シクロオクタノン、シクロオクテン、シクロペンタデカン、シクロペンタデカノール、シクロペンタデカノン、シクロペンタデカトリエン、シクロペンタデセン、シクロペンタデカジエン、デカリン、ジシクロドデシルエーテル、エチルベンゼン、イソブタン、イソブテン、イソホロン、イソホロン誘導体、m−キシレン、o−キシレン、p−キシレン、ピコリン、プロパン、プロペン、テトラリン、トルエン、トリメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノン、トリビニルシクロヘキサンであり、それぞれ純物質として、溶液中で又は混合物として使用される。
【0037】
環式の化合物の酸化の際に、ジカルボン酸、ケトン、アルデヒド及びアルコールの形成下に環を開裂させることができる。
【0038】
酸化によるこれらの化合物の廃水の精製は、本発明による方法で同様に可能である。
【0039】
この方法を用いて、天然及び合成由来のろう、特に炭化水素ろう、例えばパラフィン、微晶ろう、ポリエチレンろう及びポリプロピレンろう並びにフィッシャー−トロプシュ−ろうの酸化も、効率よく実施されることができる。基質がアンモニアの存在で酸化され、かつそれによりニトリルが製造されるいわゆるアンモ酸化も本方法を用いて可能である。
【0040】
本発明の範囲内で、特定の含分の配合された炭化水素を有する炭素骨格を含有するカーボンブラックは、炭化水素とみなされるべきである。例えば、充填剤として及び/又はポリマー又はゴムの着色に使用されるカーボンブラックの酸化による表面処理は、同様に本発明による方法の使用可能性である。カーボンブラックの表面酸化の際に、純粋に酸化による表面処理並びにアンモ酸化は、技術的に大きく重要である。
【0041】
原則的に、本発明による方法を用いて、炭素原子又はヘテロ原子の目的に合致した酸化により、アルコール、アルデヒド、ケトン、カルボン酸、ジカルボン酸、特にα−ω−ジカルボン酸、エポキシド、N−オキシド、スルホキシド、スルホン及びスルホン酸が製造されることができる。
【0042】
好ましくは、第一、第二又は第三炭素原子を有する炭化水素は相応するヒドロペルオキシドに酸化される。酸化は、それによればCH−結合で行われる。C−C−結合のみを有する第四炭素原子は、本発明による方法により酸化されず、むしろ開裂する。好ましくは、第二又は第三炭素原子を有する炭化水素、特に好ましくは、式
【0043】
【化13】
【0044】
[式中、R1、R2は、H、1〜20個の炭素原子を有する脂肪族又は芳香族の炭化水素基であり、その際、R1及びR2は、同じか又は異なる基を表していてよく、かつR1及びR2は、共有結合を介して互いに結合していてよく、かつ
Arは芳香族炭化水素基である]の第三炭素原子を有する化合物が基質として使用される。
【0045】
式IVの化合物の例は、クメン、シクロヘキシルベンゼン、シクロドデシルベンゼン、エチルベンゼン及び2−n−ブチルベンゼンである。
【0046】
更に、本発明による方法に好ましい基質は、式V、VI、VII及びVIII
【0047】
【化14】
【0048】
[式中、Arは芳香族炭化水素基を表す]で示される化合物である。
【0049】
本発明の方法によるこれらの炭化水素の酸化は、相応するヒドロペルオキシド、アルコール、アルデヒド、ケトン又はカルボン酸をもたらす。
【0050】
芳香族炭化水素基Arは、式IVないしVIII中で、フェニル基、ナフチル基又はジフェニル基を表す。
【0051】
更に、酸化すべき基質として、式X
【0052】
【化15】
【0053】
[式中、n=3〜21]で示される環式で、置換又は非置換の飽和炭化水素が使用されることができる。
【0054】
その上、酸化すべき基質として、式XI
【0055】
【化16】
【0056】
[式中、R6はOH又は1〜10個のC−原子を有するアルキル鎖であり、かつn=3〜21]で示される環式で、置換又は非置換の飽和炭化水素が使用されることができる。
【0057】
本発明による反応は、気相、液相又は固相中で行われることができる。反応媒体としての気相は、易揮発性物質、例えばプロパン、プロペン、ブタン、ブテン、イソブタン及びイソブテンが、例えば相応するアルデヒド又はカルボン酸に酸化されるべき場合には、技術的に重要である。固相は、固体製品、例えばカーボンブラックの表面変性の際に該当する。この場合に例えば温めた流動床槽又は回転管室オーブン(Drehrohrkammeroefen)が使用される。しかし、特に好ましくは、液相中の酸化である。酸化すべき基質は、それ自体溶剤としても利用することができる。
【0058】
本発明による方法により、おそらくまず最初に相応するヒドロペルオキシドが形成される。これらは、−安定性に応じて−単離されかつ目的に合致して再加工されることができるか、又は選択された反応条件下にその場で、後続の生成物(アルデヒド、ケトン又はモノ−又はジ−カルボン酸)への更なる変換(即ちヒドロペルオキシドの開裂又は転位)が行われる。
【0059】
反応混合物は、ラジカルの形成下に、即ちラジカル開始分子に崩壊するラジカル開始剤、例えばペルオキシ化合物又はアゾ化合物を含有する。そのような化合物の例は、クメンヒドロペルオキシド、シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシド、シクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシド、1,4−ジ(2−ネオデカノイル−ペルオキシイソプロピル)ベンゼン、アセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシド、クミルペルオキシネオデカノエート、ジシクロヘキシルペルオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジミリスチルペルオキシジカーボネート、ジセチルペルオキシジカーボネート、t−ブチルペルオキシネオデカノエート、t−アミルペルオキシネオデカノエート、t−アミルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、ジイソノナノイルペルオキシド、ジデカノイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシイソノナノエート、2,2′−ジ−t−ブチルペルオキシブタン、ジ−t−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、3,4−ジメチル−3,4−ジフェニルヘキサン、ジベンゾイルペルオキシド、1,4−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン、t−ブチルペルオキシエチルヘキシルカーボネート、1,1−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2′−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)、1,1′−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)又はシクロヘキシルヒドロペルオキシドである。もちろん、中間に形成されたペルオキシド及びアゾ化合物も、ラジカル開始剤として使用されることができる。
【0060】
好ましくは、第二又は第三炭素原子に結合した酸素原子を含有するラジカル開始剤であり、特に好ましくは、最終生成物を誘導し、かつ第一、第二又は第三炭素原子に結合した酸素原子少なくとも1個を含有するラジカル開始剤である。ラジカル開始剤は、別々に添加されるか又は上記のように反応の間に中間に生じるか又はそれどころか、製造プラントが完全に清浄化されることができないので、先行する反応から僅かな量でなお存在している。そのような化合物の例は、クメンヒドロペルオキシド(1−メチル−1−フェニルエチルヒドロペルオキシド)、シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシド(1−フェニルシクロヘキシルヒドロペルオキシド)、シクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシド(1−フェニルシクロ−ドデシルヒドロペルオキシド)及び2−n−ブチルベンゼンヒドロペルオキシド(1−メチル−1−フェニルプロピル−ヒドロペルオキシド)である。
【0061】
ラジカル開始分子(例えばヒドロキシラジカル)の濃度は、本発明による方法において、反応の開始に、しばしば、触媒の濃度よりも少ない。しかしながら、反応の過程でこれらの化合物の中間の形成が行われることが観察されうるので、ラジカル開始分子の濃度は反応の過程で高められる。
【0062】
ラジカル開始剤と触媒とのモル比は、4:1、好ましくは3:1、まさに特に好ましくは2:1又は1未満:1ないし0.5:1であってよい。ラジカル開始分子の濃度は、反応パラメーター、例えば温度又は反応時間に依存する。
【0063】
ラジカル開始剤の含分が少なければ少ないほど、反応はますますゆっくりになる、それというのも、最初に特定の含分のラジカル開始分子が形成されなければならないからである。ラジカル開始剤量は、より高い温度で運転される場合に、選択率の費用をなお再び低下することができる。
【0064】
形成された酸化生成物は、それ自体単離されることができるが、しかし別の生成物へのこの化合物の更なる直接変換も可能である。生成物の単離は、それぞれ現行の技術的方法、例えば蒸留又は結晶化により可能である。
【0065】
本発明による方法は、バッチ式に、フィードバッチ(fedbatch)で並びに連続的に実施されることができる。
【0066】
本発明による方法は、酸化剤として酸素含有ガスの使用下に実施されることができる。ガス中の酸素含分は、5〜100体積%であってよい。好ましくは、空気酸素又は純酸素が酸化剤として使用される。各場合に、液相及び気相の完全混合が考慮されうる。このことは、例えば、相応する撹拌速度によるか又は装入物による撹拌釜中で、及び充填要素を有する管形反応器中で、並びに気泡塔で達成されることができる。
【0067】
本発明による方法は、僅かな真空下並びに大気圧下並びに100barまでの高められた圧力下に実施されることができる。好ましくは、1bar〜50barの圧力であり、特に好ましくは1bar〜20barの圧力である。
【0068】
以下の実施例は、本発明の保護範囲を制限することなく、本発明をより詳細に説明する。
【0069】
反応の変換率は、一方ではヨウ素でのヒドロペルオキシドの滴定により、かつ他方では内部標準(ナフタレン)を用いるGC−分析により測定した。反応の選択率は、同様に、内部標準(同様にナフタレン)を用いるGC−分析により測定した。
【0070】
例1(本発明による):
シクロヘキシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、110℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び1−シクロヘキシベンジルヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。28.6%のシクロヘキシルベンゼン変換率で、96.2%の選択率を有する1−シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0071】
例2(本発明によらない、助触媒あり):
シクロヘキシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、110℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。18.7%のシクロヘキシルベンゼン−変換率で54.1%の選択率を有する1−シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0072】
例3(本発明による):
クメン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びクメンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。30.8%のクメン−変換率で99.9%の選択率を有するクメンヒドロペルオキシドが得られる。
【0073】
例4(本発明によらない、助触媒あり):
クメン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。目的生成物だけではなくて、49.3%のクメン−変換率で、58.7%の選択率を有するアセトフェノン、2−フェニル−2−プロパノール(13.1%)及びフェノール(10.4%)が得られる。
【0074】
例5(本発明による):
シクロドデシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びシクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。23.1%のシクロドデシルベンゼン−変換率で95.1%の選択率を有するシクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0075】
例6(本発明によらない、助触媒あり):
シクロドデシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.03mmol及び酢酸Co(II)0.03mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。7.3%のシクロドデシルベンゼン−変換率で59.1%の選択率を有するシクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0076】
例7(本発明による):
エチルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びエチルベンゼンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。8%のエチルベンゼン−変換率で99.9%の選択率を有するエチルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0077】
例8(本発明によらない、助触媒あり):
エチルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。0.5%のエチルベンゼン−変換率で22.4%の選択率を有するエチルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0078】
例9(本発明による):
トルエン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びクメンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。8%のトルエン−変換率で51.7%の選択率を有するベンジルヒドロペルオキシドが得られる。別の生成物は、ベンズアルデヒド(24.6%)及び安息香酸(23.6%)である。
【0079】
例10(本発明によらない、助触媒あり):
トルエン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。3.7%のトルエン−変換率で18.9%の選択率を有するベンジルヒドロペルオキシドが得られる。それに加えて、多数の別の生成物、とりわけベンズアルデヒド及び安息香酸が得られる。
【0080】
例11(本発明による):
内部にあるガラスフリット(空気導入のため)を有する2 l−ガラス容器中で、1450の浸透圧による分子量及び0mgKOH/gろうの酸価を有するポリエチレンろう500gを170℃で、空気(流量6 l/min)を用いて、N−ヒドロキシフタルイミド0.1gの添加下に、溶融物中で酸化した。3時間後、23mgKOH/gろうの酸価が達成された。生成物はその白い固有色を有していた。
【0081】
例12(本発明によらない、助触媒あり):
内部にあるガラスフリット(空気導入のため)を有する2 l−ガラス容器中で、1450の浸透圧による分子量及び0mgKOH/gろうの酸価を有するポリエチレンろう500gを、170℃で、空気(流量6 l/min)を用いて、N−ヒドロキシフタルイミド0.1g及び酢酸Co(II)0.22gの添加下に、溶融物中で酸化した。6時間後はじめて17mgKOH/gろうの酸価が達成された。生成物は黄褐色に変色していた。
【0082】
例13(本発明による):
シクロペンタデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、酸素約15 l/hを8時間導通させる。44%のシクロペンタデカン−変換率で、20%の選択率を有するシクロペンタデカノール及び46%の選択率を有するシクロペンタデカノンが得られる。
【0083】
例14(本発明による):
シクロペンタデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、空気約15 l/hを8時間導通させる。46%のシクロペンタデカン−変換率で19%の選択率を有するシクロペンタデカノール及び48%の選択率を有するシクロペンタデカノンが得られる。
【0084】
例16(本発明による):
シクロオクタン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、酸素約15 l/hを8時間導通させる。53%のシクロオクタン−変換率で17%の選択率を有するシクロオクタノール及び46%の選択率を有するシクロオクタノンが得られる。
【0085】
例17(本発明による):
シクロオクタン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びジ−t−ブチルペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、空気約15 l/hを8時間導通させる。51%のシクロオクタン−変換率で15%の選択率を有するシクロオクタノール及び43%の選択率を有するシクロオクタノンが得られる。
【0086】
例18(本発明による):
シクロドデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、酸素約15 l/hを8時間導通させる。49%のシクロドデカン−変換率で17%の選択率を有するシクロドデカノール及び43%の選択率を有するシクロドデカノンが得られる。
【0087】
例19(本発明による):
シクロドデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、空気約15 l/hを8時間導通させる。47%のシクロドデカン−変換率で18%の選択率を有するシクロドデカノール及び42%の選択率を有するシクロドデカノンが得られる。
本発明は、置換又は非置換の炭化水素を接触酸化して、相応するアルコール、ヒドロペルオキシド、カルボン酸、ジカルボン酸又はケトンに変換する方法に関する。
【0002】
炭化水素の酸化は、工業有機化学における重要な反応である。これらの酸化のためには、KMnO4、CrO3又はHNO3のような化合物が酸化剤として使用されることができる。しかし、これらは、一方では、相対的に高い価格の欠点を有し、他方では、これらの使用は、廃棄物処理問題及び生態系の負荷でありうる望ましくないカップリング生成物を共にもたらす。
【0003】
従って、好ましくは、ペルオキシド又はN2Oをベースとする酸化剤が使用される。しかし、最も低価格の酸化剤は、純粋な形でか又は空気酸素としての分子状酸素である。しかし、単独で利用される酸素は、炭化水素の酸化にはたいてい不適当である、それというのも、エネルギー論により好都合な三重項−形で存在するO2−分子の反応性は、不十分であるからである。
【0004】
レドックス金属触媒の使用により、分子状酸素を有機化合物の酸化に利用することは可能である。多数の工業的方法は、炭化水素の金属触媒作用された自動酸化に基づいている。そして、例えば、コバルト塩の使用下に、シクロヘキサンをO2で酸化してシクロヘキサノール若しくはシクロヘキサノンに変換することが行われる。これらの工業的方法は、ラジカル連鎖機構に基づいている。ビラジカルである酸素は、炭化水素ラジカルと、ペルオキシラジカルの形成及び別の炭化水素でのH−原子の引抜きによるその後の連鎖成長下に反応する。しかし、金属塩に加えて、有機分子も、ラジカル開始剤として機能しうる。
【0005】
これらの方法の場合には、選択率が上昇する変換率と共に極めて強く低下し、ひいては、方法が低い変換率水準で運転されなければならないことが不利である。そして、例えばシクロヘキサノール/シクロヘキサノンへのシクロヘキサンの酸化は、10〜12%の変換率で実施され、これで選択率は80〜85%である(“Industrielle Organische Chemie” 1994, 261, VCH−Verlag, D−69451 Weinheim)。別の重要な工業的自動酸化プロセス、つまりクメン−酸化において、変換率は、約90%のクメンヒドロペルオキシド−選択率で約30%である(上記引用文中、385以降)。
【0006】
金属塩触媒の代わりは、触媒系若しくはメディエーター系、例えばN−ヒドロキシフタルイミド(NHPI)の使用である。しかしながら、紹介された方法の場合の反応速度は、多量のメディエーター(基質に対して等モルの割合まで)にもかかわらず、十分ではない(J. Mol. Catalysis A. 1997, 117, 123−137)。そして、US 5 030 739には、イソプレン誘導体を相応するアクロレイン化合物に酸化するためのN−ヒドロキシジカルボン酸イミドの使用が記載されている。シクロヘキサジエン若しくは六環系、例えばα−テルピンの組み合わされた酸化/脱水は、確かにクメン誘導体をもたらすが、しかしながら、この誘導体はもはや酸化されない。従って、この方法は、クメンをクメンヒドロペルオキシドに変換するには適していない。
【0007】
一般に、基質に比較して少なくとも10モル%のメディエーター量は使用され、その際、反応速度の増大のためにより多量のメディエーターが使用される(J. Org. Chem. 1995, 60, 3934−3935)。生成物選択率は、技術的用途には不十分である。そして、NHPIでのクメンの酸化の際に、アセトフェノンを有する生成物混合物が主生成物として得られるが、しかしながら所望の酸化生成物であるクメンヒドロペルオキシドは、単離されることができなかった(J. Org. Chem. 1995, 60, 3934−3935)。
【0008】
系の別の展開は、助触媒の使用である。助触媒として、金属化合物、特に重金属塩、酵素又は強ブレンステッド−酸が使用されることができる。例えば、Ishii他により、助触媒としてレドックス金属塩と組み合わせたNHPIは、助触媒を有しない類似の酸化に対して利点を有しうることが示されている(例えばEP 0878234、EP 0864555、EP 0878458、EP 0858835、JP 11180913、J. Mol. Catalysis A. 1997, 117, 123−137)。しかし、これらの系については、望ましくない重金属含有量に加えて、ここでも多量の使用されるNHPIが不利である。満足のいく反応速度を保証するために、少なくとも10モル%のメディエーターが使用されなければならない。更に、使用したレドックス金属は、生成物の部分的に続行される反応を触媒し、かつこうして反応の選択率が低下することは不利である。
【0009】
飽和環式炭化水素、例えばシクロペンタデカノン、シクロドデカノン又はシクロオクタノンの酸化生成物は、重要な発香性物質若しくは発香性物質中間生成物である。これらの物質には、高い純度要求がなされるので、触媒作用により含まれた金属塩量自体が、大きな問題を引き起こす。必要な後処理工程、例えば金属化合物の分離及び特に添加された金属塩の回収は、金属塩触媒された方法の効率及び環境に負荷をかける。
【0010】
助触媒なしでメディエーターのみを使用する方法も公知になってきている。しかしながら、これらは、特に活性化された基質、例えばエーテル、エステル又はイソプレン誘導体の酸化に限定されている。
【0011】
例えば、系NHPI/酢酸コバルトでのクメンの酸化の際に、アセトフェノン(選択率54%)、2−フェニル−2−プロパノール(10%)及びフェノール(17%)からなる生成物混合物が得られる。所望の生成物であるクメンヒドロペルオキシドは、中間にのみ形成され、かつ与えられた方法条件下で不安定である。
【0012】
別の変法は、助触媒としてアルコール又はアルデヒドと組み合わせたNHPIの使用である(Chem. Commun. 1999, 727−728, Tetrahedron Letters 1999, 40, 2165−2168, Chem. Commun. 1997, 447−448)。これらの方法については、カップリング生成物の形成及び使用された高いメディエーター−基質−比(10モル%)が不利である。
【0013】
DE 19723890には、芳香族及び複素芳香族のアルデヒド及びケトンの製造のための有機メディエーター及び酸化還元酵素ラッカーゼからなる酸化系が記載されている。ここでも、使用されるメディエーター量が極めて高い。その上、この方法は、酵素の使用により、生物学的に必要な緩衝液系を有する複雑な反応系を有し、このことは、この系の幅広い利用可能性を制限する。
【0014】
本発明の課題は、高い変換率で高い選択率を有する、炭化水素の酸化のための重金属不含若しくは金属不含の方法を発展させることにあった。
【0015】
意外なことに、タイプ
【0016】
【化8】
【0017】
で示される化合物若しくはこれらの化合物の誘導体が、重金属又は強酸なしでも、基質、例えば炭化水素の酸化に使用されることができることが見出された。
【0018】
従って、本発明の対象は、飽和又は不飽和で、置換又は非置換の炭化水素、複素環式化合物、アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、アミン又はカーボンブラック(以下:基質)を接触酸化して、相応するヒドロペルオキシド、アルコール、ケトン、カルボン酸又はジカルボン酸に変換する方法であり、その際、触媒として、式I
【0019】
【化9】
【0020】
[式中、R1、R2は、H、それぞれ1〜20個の炭素原子を有する、脂肪族又は芳香族のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又は炭化水素基、SO3H、NH2、OH、F、Cl、Br、I及び/又はNO2であり、ここでR1及びR2は、同じか又は異なる基を表してよく、又はR1及びR2は、共有結合を介して互いに結合していてよく、
Q1、Q2はそれぞれ同じか又は異なり、C、CH、N、CR5であり、
X、Zはそれぞれ同じか又は異なり、C、S、CH2であり、
YはO、OHであり、
kは0、1、2であり、
lは0、1、2であり、
mは1〜3であり;
R5はR1の意味の1つである]で示される化合物をラジカル開始剤の存在下に使用し、その際、触媒と炭化水素とのモル比が10モル%未満である。
【0021】
本発明による方法において、金属化合物又は酵素が助触媒として使用されない。本方法は、好ましくは有機溶剤中で強酸の不在下に実施され、中性ないし塩基性のpH−範囲における水溶液の使用も同様に可能である。
【0022】
触媒と酸化すべき炭化水素とのモル比は、10− 6モル%〜10モル%、好ましくは10− 6〜5モル%、まさに特に好ましくは10− 6〜2.5モル%、特別な実施態様において10− 6〜1モル%であってよい。
【0023】
酸化すべき基質に対するこの僅かな割合での式Iによる触媒(メディエーター)の使用は、意外なことに、短い反応時間で高い変換率を達成する結果になるだけではなくて、技術水準に対して、達成された選択率によっても卓越している。本発明による方法の別の利点は、メディエーター量の低下による経済性の改善にある。
【0024】
本発明による方法の特別な実施態様において、式Iの化合物の誘導体若しくは特例も使用されることができる。
【0025】
好ましくは、式IIのメディエーター/触媒、即ちm=1である式Iによる化合物である。
【0026】
【化10】
【0027】
Q1、Q2、R1、R2、X、Y、Z、k及びlは式Iに定義された意味を有する。
【0028】
特に好ましくは、式III
【0029】
【化11】
【0030】
[式中、R1、R2、R3、R4は、H、それぞれ1〜20個の炭素原子を有する、脂肪族又は芳香族のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又は炭化水素基、SO3H、NH2、OH、F、Cl、Br、I及び/又はNO2であり、その際、R1、R2、R3及びR4は、同じか又は異なる基を表していてよく、ここで
X、Zはそれぞれ同じか又は異なり、C、S、CH2であり、
YはO、OHであり、
kは0、1、2であり、
lは0、1、2である]のメディエーター/触媒である。
【0031】
更に、本発明による方法において、式IX
【0032】
【化12】
【0033】
[式中、Q1、R1、R2、X、Z、k、l、mは請求項1に記載の意味を有する]で示されるヒダントイン誘導体が使用されることができる。
【0034】
本発明による方法において使用される式Iによる触媒の例は、N−ヒドロキシフタルイミド、4−アミノ−N−ヒドロキシフタルイミド、3−アミノ−N−ヒドロキシフタルイミド、テトラブロモ−N−ヒドロキシフタルイミド、テトラクロロ−N−ヒドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシヘチミド(N−hydroxyhetimid)、N−ヒドロキシヒミミド(N−hydroxyhimimid)、N−ヒドロキシトリメリトイミド、N−ヒドロキシ−ベンゼン−1,2,4−トリカルボン酸イミド、N,N′−ジヒドロキシ−ピロメリト酸ジイミド、N,N′−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン−3,3′,4,4′テトラカルボン酸−ジイミド、N−ヒドロキシマレイミド、ピリジン−2,3−ジカルボン酸イミド、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ酒石酸イミド、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸イミド、エキソ−N−ヒドロキシ−7−オキサビシクロ[2.2.1]−ヘプタ−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ヒドロキシ−シス−シクロヘキサン−1,2−ジカルボキシイミド、N−ヒドロキシ−シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−ヒドロキシナフタル酸イミド−ナトリウム塩、ヒダントイン、ヒダントイン誘導体又はN−ヒドロキシ−o−ベンゼンジスルホンイミドである。
【0035】
本発明の特別な一実施態様において、液相中の酸化は、0〜500℃、好ましくは50〜300℃の温度で、特に好ましくは50〜200℃の温度で行われる。その際、溶剤若しくは溶剤混合物並びに基質自体が溶剤として使用されることができる。
【0036】
酸化すべき基質は、通例、置換又は非置換で、飽和又は不飽和の炭化水素のグループに属する。本発明による方法を用いて、多数のこれらの化合物、例えば芳香族化合物、脂肪族化合物、オレフィン又は脂環式化合物が選択的に酸化されることができる。本発明の方法のための基質は、酸素原子、硫黄原子及び/又は窒素原子及び/又はシアノ基を含有していてよい。特に、本発明による方法は、環式及び非環式のアルカン、アルケン、アルコール、アルデヒド、ケトン、アミン、窒素を含有しているヘテロ環式化合物、有機スルフィド及びスルホキシド、シアノ基を含有している化合物、ベンゼン、トルエン−誘導体及びアルキル芳香族化合物の酸化に使用されることができる。そのような化合物の例は、特にエタン、エテン、エチン、プロピン、アミノシクロドデカン、ブタジエン、ブテン、ブチルベンゼン、クメン、シクロデカジエン、シクロデカン、シクロデセン、シクロドデカジエン、シクロドデカン、シクロドデカノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキセン、シクロヘキサノン、シクロドデカノン、シクロドデカトリエン、シクロドデセン、シクロドデシルベンゼン、シクロヘプテン、シクロヘキシルベンゼン、シクロノネン、シクロオクタジエン、シクロオクタン、シクロオクタノール、シクロオクタノン、シクロオクテン、シクロペンタデカン、シクロペンタデカノール、シクロペンタデカノン、シクロペンタデカトリエン、シクロペンタデセン、シクロペンタデカジエン、デカリン、ジシクロドデシルエーテル、エチルベンゼン、イソブタン、イソブテン、イソホロン、イソホロン誘導体、m−キシレン、o−キシレン、p−キシレン、ピコリン、プロパン、プロペン、テトラリン、トルエン、トリメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノン、トリビニルシクロヘキサンであり、それぞれ純物質として、溶液中で又は混合物として使用される。
【0037】
環式の化合物の酸化の際に、ジカルボン酸、ケトン、アルデヒド及びアルコールの形成下に環を開裂させることができる。
【0038】
酸化によるこれらの化合物の廃水の精製は、本発明による方法で同様に可能である。
【0039】
この方法を用いて、天然及び合成由来のろう、特に炭化水素ろう、例えばパラフィン、微晶ろう、ポリエチレンろう及びポリプロピレンろう並びにフィッシャー−トロプシュ−ろうの酸化も、効率よく実施されることができる。基質がアンモニアの存在で酸化され、かつそれによりニトリルが製造されるいわゆるアンモ酸化も本方法を用いて可能である。
【0040】
本発明の範囲内で、特定の含分の配合された炭化水素を有する炭素骨格を含有するカーボンブラックは、炭化水素とみなされるべきである。例えば、充填剤として及び/又はポリマー又はゴムの着色に使用されるカーボンブラックの酸化による表面処理は、同様に本発明による方法の使用可能性である。カーボンブラックの表面酸化の際に、純粋に酸化による表面処理並びにアンモ酸化は、技術的に大きく重要である。
【0041】
原則的に、本発明による方法を用いて、炭素原子又はヘテロ原子の目的に合致した酸化により、アルコール、アルデヒド、ケトン、カルボン酸、ジカルボン酸、特にα−ω−ジカルボン酸、エポキシド、N−オキシド、スルホキシド、スルホン及びスルホン酸が製造されることができる。
【0042】
好ましくは、第一、第二又は第三炭素原子を有する炭化水素は相応するヒドロペルオキシドに酸化される。酸化は、それによればCH−結合で行われる。C−C−結合のみを有する第四炭素原子は、本発明による方法により酸化されず、むしろ開裂する。好ましくは、第二又は第三炭素原子を有する炭化水素、特に好ましくは、式
【0043】
【化13】
【0044】
[式中、R1、R2は、H、1〜20個の炭素原子を有する脂肪族又は芳香族の炭化水素基であり、その際、R1及びR2は、同じか又は異なる基を表していてよく、かつR1及びR2は、共有結合を介して互いに結合していてよく、かつ
Arは芳香族炭化水素基である]の第三炭素原子を有する化合物が基質として使用される。
【0045】
式IVの化合物の例は、クメン、シクロヘキシルベンゼン、シクロドデシルベンゼン、エチルベンゼン及び2−n−ブチルベンゼンである。
【0046】
更に、本発明による方法に好ましい基質は、式V、VI、VII及びVIII
【0047】
【化14】
【0048】
[式中、Arは芳香族炭化水素基を表す]で示される化合物である。
【0049】
本発明の方法によるこれらの炭化水素の酸化は、相応するヒドロペルオキシド、アルコール、アルデヒド、ケトン又はカルボン酸をもたらす。
【0050】
芳香族炭化水素基Arは、式IVないしVIII中で、フェニル基、ナフチル基又はジフェニル基を表す。
【0051】
更に、酸化すべき基質として、式X
【0052】
【化15】
【0053】
[式中、n=3〜21]で示される環式で、置換又は非置換の飽和炭化水素が使用されることができる。
【0054】
その上、酸化すべき基質として、式XI
【0055】
【化16】
【0056】
[式中、R6はOH又は1〜10個のC−原子を有するアルキル鎖であり、かつn=3〜21]で示される環式で、置換又は非置換の飽和炭化水素が使用されることができる。
【0057】
本発明による反応は、気相、液相又は固相中で行われることができる。反応媒体としての気相は、易揮発性物質、例えばプロパン、プロペン、ブタン、ブテン、イソブタン及びイソブテンが、例えば相応するアルデヒド又はカルボン酸に酸化されるべき場合には、技術的に重要である。固相は、固体製品、例えばカーボンブラックの表面変性の際に該当する。この場合に例えば温めた流動床槽又は回転管室オーブン(Drehrohrkammeroefen)が使用される。しかし、特に好ましくは、液相中の酸化である。酸化すべき基質は、それ自体溶剤としても利用することができる。
【0058】
本発明による方法により、おそらくまず最初に相応するヒドロペルオキシドが形成される。これらは、−安定性に応じて−単離されかつ目的に合致して再加工されることができるか、又は選択された反応条件下にその場で、後続の生成物(アルデヒド、ケトン又はモノ−又はジ−カルボン酸)への更なる変換(即ちヒドロペルオキシドの開裂又は転位)が行われる。
【0059】
反応混合物は、ラジカルの形成下に、即ちラジカル開始分子に崩壊するラジカル開始剤、例えばペルオキシ化合物又はアゾ化合物を含有する。そのような化合物の例は、クメンヒドロペルオキシド、シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシド、シクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシド、1,4−ジ(2−ネオデカノイル−ペルオキシイソプロピル)ベンゼン、アセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシド、クミルペルオキシネオデカノエート、ジシクロヘキシルペルオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジミリスチルペルオキシジカーボネート、ジセチルペルオキシジカーボネート、t−ブチルペルオキシネオデカノエート、t−アミルペルオキシネオデカノエート、t−アミルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、ジイソノナノイルペルオキシド、ジデカノイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシイソノナノエート、2,2′−ジ−t−ブチルペルオキシブタン、ジ−t−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、3,4−ジメチル−3,4−ジフェニルヘキサン、ジベンゾイルペルオキシド、1,4−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン、t−ブチルペルオキシエチルヘキシルカーボネート、1,1−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2′−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)、1,1′−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)又はシクロヘキシルヒドロペルオキシドである。もちろん、中間に形成されたペルオキシド及びアゾ化合物も、ラジカル開始剤として使用されることができる。
【0060】
好ましくは、第二又は第三炭素原子に結合した酸素原子を含有するラジカル開始剤であり、特に好ましくは、最終生成物を誘導し、かつ第一、第二又は第三炭素原子に結合した酸素原子少なくとも1個を含有するラジカル開始剤である。ラジカル開始剤は、別々に添加されるか又は上記のように反応の間に中間に生じるか又はそれどころか、製造プラントが完全に清浄化されることができないので、先行する反応から僅かな量でなお存在している。そのような化合物の例は、クメンヒドロペルオキシド(1−メチル−1−フェニルエチルヒドロペルオキシド)、シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシド(1−フェニルシクロヘキシルヒドロペルオキシド)、シクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシド(1−フェニルシクロ−ドデシルヒドロペルオキシド)及び2−n−ブチルベンゼンヒドロペルオキシド(1−メチル−1−フェニルプロピル−ヒドロペルオキシド)である。
【0061】
ラジカル開始分子(例えばヒドロキシラジカル)の濃度は、本発明による方法において、反応の開始に、しばしば、触媒の濃度よりも少ない。しかしながら、反応の過程でこれらの化合物の中間の形成が行われることが観察されうるので、ラジカル開始分子の濃度は反応の過程で高められる。
【0062】
ラジカル開始剤と触媒とのモル比は、4:1、好ましくは3:1、まさに特に好ましくは2:1又は1未満:1ないし0.5:1であってよい。ラジカル開始分子の濃度は、反応パラメーター、例えば温度又は反応時間に依存する。
【0063】
ラジカル開始剤の含分が少なければ少ないほど、反応はますますゆっくりになる、それというのも、最初に特定の含分のラジカル開始分子が形成されなければならないからである。ラジカル開始剤量は、より高い温度で運転される場合に、選択率の費用をなお再び低下することができる。
【0064】
形成された酸化生成物は、それ自体単離されることができるが、しかし別の生成物へのこの化合物の更なる直接変換も可能である。生成物の単離は、それぞれ現行の技術的方法、例えば蒸留又は結晶化により可能である。
【0065】
本発明による方法は、バッチ式に、フィードバッチ(fedbatch)で並びに連続的に実施されることができる。
【0066】
本発明による方法は、酸化剤として酸素含有ガスの使用下に実施されることができる。ガス中の酸素含分は、5〜100体積%であってよい。好ましくは、空気酸素又は純酸素が酸化剤として使用される。各場合に、液相及び気相の完全混合が考慮されうる。このことは、例えば、相応する撹拌速度によるか又は装入物による撹拌釜中で、及び充填要素を有する管形反応器中で、並びに気泡塔で達成されることができる。
【0067】
本発明による方法は、僅かな真空下並びに大気圧下並びに100barまでの高められた圧力下に実施されることができる。好ましくは、1bar〜50barの圧力であり、特に好ましくは1bar〜20barの圧力である。
【0068】
以下の実施例は、本発明の保護範囲を制限することなく、本発明をより詳細に説明する。
【0069】
反応の変換率は、一方ではヨウ素でのヒドロペルオキシドの滴定により、かつ他方では内部標準(ナフタレン)を用いるGC−分析により測定した。反応の選択率は、同様に、内部標準(同様にナフタレン)を用いるGC−分析により測定した。
【0070】
例1(本発明による):
シクロヘキシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、110℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び1−シクロヘキシベンジルヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。28.6%のシクロヘキシルベンゼン変換率で、96.2%の選択率を有する1−シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0071】
例2(本発明によらない、助触媒あり):
シクロヘキシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、110℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。18.7%のシクロヘキシルベンゼン−変換率で54.1%の選択率を有する1−シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0072】
例3(本発明による):
クメン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びクメンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。30.8%のクメン−変換率で99.9%の選択率を有するクメンヒドロペルオキシドが得られる。
【0073】
例4(本発明によらない、助触媒あり):
クメン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。目的生成物だけではなくて、49.3%のクメン−変換率で、58.7%の選択率を有するアセトフェノン、2−フェニル−2−プロパノール(13.1%)及びフェノール(10.4%)が得られる。
【0074】
例5(本発明による):
シクロドデシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びシクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。23.1%のシクロドデシルベンゼン−変換率で95.1%の選択率を有するシクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0075】
例6(本発明によらない、助触媒あり):
シクロドデシルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.03mmol及び酢酸Co(II)0.03mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。7.3%のシクロドデシルベンゼン−変換率で59.1%の選択率を有するシクロドデシルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0076】
例7(本発明による):
エチルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びエチルベンゼンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。8%のエチルベンゼン−変換率で99.9%の選択率を有するエチルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0077】
例8(本発明によらない、助触媒あり):
エチルベンゼン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。0.5%のエチルベンゼン−変換率で22.4%の選択率を有するエチルベンゼンヒドロペルオキシドが得られる。
【0078】
例9(本発明による):
トルエン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及びクメンヒドロペルオキシド0.6mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。8%のトルエン−変換率で51.7%の選択率を有するベンジルヒドロペルオキシドが得られる。別の生成物は、ベンズアルデヒド(24.6%)及び安息香酸(23.6%)である。
【0079】
例10(本発明によらない、助触媒あり):
トルエン30mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、125℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド0.3mmol及び酢酸Co(II)0.3mmolと混合する。反応混合物を、上記の温度で、1barの酸素雰囲気下に8時間撹拌する。3.7%のトルエン−変換率で18.9%の選択率を有するベンジルヒドロペルオキシドが得られる。それに加えて、多数の別の生成物、とりわけベンズアルデヒド及び安息香酸が得られる。
【0080】
例11(本発明による):
内部にあるガラスフリット(空気導入のため)を有する2 l−ガラス容器中で、1450の浸透圧による分子量及び0mgKOH/gろうの酸価を有するポリエチレンろう500gを170℃で、空気(流量6 l/min)を用いて、N−ヒドロキシフタルイミド0.1gの添加下に、溶融物中で酸化した。3時間後、23mgKOH/gろうの酸価が達成された。生成物はその白い固有色を有していた。
【0081】
例12(本発明によらない、助触媒あり):
内部にあるガラスフリット(空気導入のため)を有する2 l−ガラス容器中で、1450の浸透圧による分子量及び0mgKOH/gろうの酸価を有するポリエチレンろう500gを、170℃で、空気(流量6 l/min)を用いて、N−ヒドロキシフタルイミド0.1g及び酢酸Co(II)0.22gの添加下に、溶融物中で酸化した。6時間後はじめて17mgKOH/gろうの酸価が達成された。生成物は黄褐色に変色していた。
【0082】
例13(本発明による):
シクロペンタデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、酸素約15 l/hを8時間導通させる。44%のシクロペンタデカン−変換率で、20%の選択率を有するシクロペンタデカノール及び46%の選択率を有するシクロペンタデカノンが得られる。
【0083】
例14(本発明による):
シクロペンタデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、空気約15 l/hを8時間導通させる。46%のシクロペンタデカン−変換率で19%の選択率を有するシクロペンタデカノール及び48%の選択率を有するシクロペンタデカノンが得られる。
【0084】
例16(本発明による):
シクロオクタン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、酸素約15 l/hを8時間導通させる。53%のシクロオクタン−変換率で17%の選択率を有するシクロオクタノール及び46%の選択率を有するシクロオクタノンが得られる。
【0085】
例17(本発明による):
シクロオクタン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びジ−t−ブチルペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、空気約15 l/hを8時間導通させる。51%のシクロオクタン−変換率で15%の選択率を有するシクロオクタノール及び43%の選択率を有するシクロオクタノンが得られる。
【0086】
例18(本発明による):
シクロドデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、酸素約15 l/hを8時間導通させる。49%のシクロドデカン−変換率で17%の選択率を有するシクロドデカノール及び43%の選択率を有するシクロドデカノンが得られる。
【0087】
例19(本発明による):
シクロドデカン200mmolを、載置された還流冷却器を有する丸底フラスコ中で、130℃の温度で、N−ヒドロキシフタルイミド2mmol及びクメンヒドロペルオキシド4mmolと混合する。反応混合物に、上記の温度で、空気約15 l/hを8時間導通させる。47%のシクロドデカン−変換率で18%の選択率を有するシクロドデカノール及び42%の選択率を有するシクロドデカノンが得られる。
Claims (18)
- 飽和又は不飽和で、置換又は非置換の炭化水素、複素環式化合物、アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、アミン又はカーボンブラック(基質)を接触酸化して、相応するヒドロペルオキシド、アルコール、ケトン、カルボン酸又はジカルボン酸に変換する方法において、
触媒として、式I
Q1、Q2は、それぞれ同じか又は異なり、C、CH、N、CR5であり、
X、Zは、それぞれ同じか又は異なり、C、S、CH2であり、
Yは、O、OHであり、
kは、0、1、2であり、
lは、0、1、2であり、
mは、1〜3であり;
R5は、R1の意味の1つである]で示される化合物を、ラジカル開始剤の存在下に使用し、その際、触媒と炭化水素とのモル比が、10モル%未満であることを特徴とする、飽和又は不飽和で、置換又は非置換の炭化水素、複素環式化合物、アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、アミン又はカーボンブラック(基質)を接触酸化する方法。 - 触媒と酸化すべき基質とのモル比が、10− 6モル%〜10モル%である、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 触媒と酸化すべき基質とのモル比が、10− 6モル%〜2.5モル%である、請求項4記載の方法。
- ラジカル開始剤として、ペルオキシ化合物又はアゾ化合物を使用する、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- ラジカル開始剤及び触媒をモル比4:1で使用する、請求項6記載の方法。
- 液相中の接触酸化を0〜500℃の温度で実施する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 酸化剤として、酸素5〜100体積%を有するガスを使用する、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 接触酸化を、1〜100barの圧力下に実施する、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 酸化すべき炭化水素が、酸素原子、窒素原子及び/又は硫黄原子及び/又はシアノ基を含有する、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- 酸化すべき基質として、アミノシクロドデカン、ブタジエン、ブテン、ブチルベンゼン、クメン、シクロデカジエン、シクロデカン、シクロデセン、シクロドデカジエン、シクロドデカン、シクロドデカノール、シクロドデカノン、シクロドデカトリエン、シクロドデセン、シクロドデシルベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキセン、シクロヘキサノン、シクロヘプテン、シクロヘキシルベンゼン、シクロノネン、シクロオクタジエン、シクロオクタン、シクロオクタノール、シクロオクタノン、シクロオクテン、シクロペンタデカン、シクロペンタデカノール、シクロペンタデカノン、シクロペンタデカトリエン、シクロペンタデセン、シクロペンタデカジエン、デカリン、ジシクロドデシルエーテル、エチルベンゼン、イソブタン、イソブテン、イソホロン、イソホロン誘導体、m−キシレン、o−キシレン、p−キシレン、ピコリン、プロパン、プロペン、テトラリン、トルエン、トリメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノン、トリビニルシクロヘキサンをそれぞれ、純物質として、溶液中で又は混合物として使用する、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
- 酸化すべき基質として、天然又は合成由来のろうを使用する、請求項1記載の方法。
- 接触酸化を、アンモニアの存在で実施する、請求項1から17までのいずれか1項記載の方法。
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