JP2002244247A - 紫外線吸収剤練り込みポリエステルフィルムベース支持体および画像形成要素 - Google Patents

紫外線吸収剤練り込みポリエステルフィルムベース支持体および画像形成要素

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達也 野村
Takanori Sato
隆則 佐藤
Hideki Takagi
秀樹 高木
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明ポリエステルフィルムに紫外線吸収剤を
練り込むことにより、紫外線吸収剤のブリードアウトが
ないベース支持体およびこれを用いる画像形成要素を提
供すること。 【解決手段】 紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエス
テルフィルムを少なくとも有するベース支持体であっ
て、前記紫外線吸収剤が窒素ガス下、３００℃の温度に
到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質
量減量％が１０％以下である紫外線吸収剤および／また
は紫外線吸収剤を０．４質量％含み、含水率が５０ｐｐ
ｍ以下のポリエステル樹脂を３００℃で１分加熱した
後、厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値と、前記ポリエ
ステル樹脂を８分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形し
た板のｂ値との差が３．０以下である紫外線吸収剤の少
なくとも一種が練り込まれているベース支持体およびこ
れを用いる画像形成要素。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体に画像
形成層を設けた画像形成要素、たとえば、画像形成層が
ハロゲン化銀感光材料層である画像形成要素、特に、モ
ノシート型インスタント写真に関し、また、ベース支持
体にも関する。
【０００２】
【従来の技術】透明支持体に画像形成層を設けた画像形
成要素は種々のものが知られているが、その中の１つで
ある、いわゆるモノシート型のインスタント写真である
画像形成要素は、支持体上に少なくとも一つの感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有する感光シートとして、別の支持
体上に少なくとも中和のための酸ポリマー層を有するカ
バーシートそしてこれらの両シート間にアルカリ性現像
液を含む圧力で破裂可能な容器とを組み合わせたフィル
ムユニット形態で使用されるのが一般的である。この感
光シートの感光性ハロゲン化銀乳剤層を有さない側とカ
バーシートの酸ポリマー層を有さない側は、すなわち、
フィルムユニット形態の最外層側には、カメラからの排
出性や紫外線による画像劣化を考慮して、滑剤や紫外線
吸収剤などを含む塗工層を設けることがよく行われてい
る。この塗工層は、当初、写真用のゼラチン塗工層を設
けた支持体上に形成していたため、バインダーとして
は、アセチルセルロースを選択していた。しかし、ゼラ
チン層の上に、滑剤や紫外線吸収剤などを含むアセチル
セルロース塗工層を形成した場合、簡単に塗工層が支持
体から剥がれてしまうという層間接着の問題があった。
【０００３】この層間接着の問題を克服するため、ゼラ
チン層の上に設ける紫外線吸収剤含有塗工層のバインダ
ー樹脂として、たとえば、特開平９−２９７３８２号公
報には、無水マレイン酸コポリマーとイソシアネート基
を少なくとも２つ有する化合物を含有するアセチルセル
ロースを用いることが記載され、また、特開平１０−８
３０４９号公報には、マレイン酸のモノエステル共重合
体とイソシアネート基を少なくとも２つ有する化合物を
含有するアセチルセルロースを用いることが記載されて
いる。
【０００４】層間接着の問題は、前記の特定のバインダ
ーを用いることにより解決することが可能となるが、特
開平９−２９７３８２号公報および特開平１０−８３０
４９号公報に記載の塗工層を設けた支持体の場合、この
塗工層は、前記紫外線吸収剤やバインダーを溶媒に溶解
させた塗布液を用いているため、環境に対する負荷の観
点からは改善の余地があり、また、塗工層に含まれてい
る紫外線吸収剤が経時的に表面にブリードアウトし、支
持体の透明性が大幅に低下するため、バック面から見る
画像濃度が著しく低下する他、ブリードアウトした紫外
線吸収剤が、製造過程においてハロゲン化銀乳剤面へ転
写し、カメラ排出後、アルカリ現像液と接触すると黄色
化するという画像性能上の問題が発生する。
【０００５】このフィルムユニット形態の最外層側にお
ける紫外線吸収剤のブリードアウトを防止するものとし
て、本出願人が先に出願した特願平１１−２６９５６５
号では、紫外線吸収剤として分子中にカルボキシル基ま
たはスルホ基を有しかつ特定の化学構造を有する紫外線
吸収剤を用い、かつ、イソシアネート基を少なくとも２
つ有する化合物を含むアセチルセルロース層を塗工層と
して形成することにより、紫外線吸収剤のブリードアウ
トを防止して、ブリードアウトに基づく画像濃度の低下
を予防したモノシート型のインスタント写真が開示され
ている。しかし、このモノシート型のインスタント写真
においても、前記ブリードアウト予防は完全とはいえ
ず、また、塗工層の形成は、塗工層成分を有機溶媒溶液
として塗布することにより行なわれるので、環境問題の
点においても問題を残すものである。
【０００６】また、本発明者らは、溶剤塗布による環境
への負荷に対応するために、水系の塗布液に紫外線吸収
剤を含ませ、この塗布液を用いて塗工層を形成すること
を検討したが、紫外線吸収剤含有水系塗布液を用いるこ
とによっては、充分な紫外線吸収性を発揮させるための
添加量を薄層である塗工層に含ませることは不可能であ
った上、ブリードアウトの改善には至らなかった。
【０００７】このように、紫外線吸収剤のブリードアウ
トがない高性能のモノシート型のインスタント写真を、
環境に対する負荷が小さい方法により製造することは実
現されていないのが現状である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、支持体の一方
の面に画像記録層を有する画像形成要素の支持体に紫外
線吸収剤を練り込むことにより、紫外線吸収剤のブリー
ドアウトがない画像形成要素及びベース支持体を提供す
ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の前記目的は、以
下の画像形成要素を提供することにより解決される。 （１）紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエステルフィ
ルムを少なくとも有するベース支持体であって、前記紫
外線吸収剤が、窒素ガス下、３００℃の温度に到達する
まで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％
が１０％以下である紫外線吸収剤の少なくとも一種であ
るベース支持体。 （２）紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエステルフィ
ルムを少なくとも有するベース支持体であって、前記紫
外線吸収剤が、該紫外線吸収剤を０．４質量％含み、含
水率が５０ｐｐｍ以下のポリエステル樹脂を３００℃で
１分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値
と、前記ポリエステル樹脂を８分加熱した後、厚さ１．
５ｍｍに成形した板のｂ値との差が３．０以下である紫
外線吸収剤の少なくとも一種であるベース支持体。 （３）紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエステルフィ
ルムを少なくとも有するベース支持体であって、前記紫
外線吸収剤が、窒素ガス下、３００℃の温度に到達する
まで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％
が１０％以下であり、かつ該紫外線吸収剤を０．４質量
％含み、含水率が５０ｐｐｍ以下のポリエステル樹脂を
３００℃で１分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した
板のｂ値と、前記ポリエステル樹脂を８分加熱した後、
厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値との差が３．０以下
である紫外線吸収剤の少なくとも一種であるベース支持
体。 （４）紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエステルフィ
ルムを少なくとも有するベース支持体であって、前記紫
外線吸収剤が、下記一般式（１）で表される紫外線吸収
剤の少なくとも一種であることを特徴とするベース支持
体。
【００１０】
【化３】
【００１１】式中、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1は、それぞれ独
立して、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基またはヘテロ環基を示し、Ｘ1、Ｙ1
およびＺ1のうち少なくとも一つは下記構造式（Ａ）で
示される置換基を表す。
【００１２】
【化４】
【００１３】式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アミノ基、アシル基、オキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシ
ル基もしくはその塩またはスルホ基もしくはその塩を表
す。隣り合うＲ1およびＲ2が連結して環を形成してもよ
い。 （５）紫外線吸収剤の分子量が４００以上であることを
特徴とする前記（４）に記載のベース支持体。
【００１４】（６）ベース支持体および該支持体の一方
に画像形成層を有する画像形成要素において、前記ベー
ス支持体が、前記（１）ないし（５）のいずれか１に記
載のベース支持体であることを特徴とする画像形成要
素。 （７）ベース支持体の画像形成層とは反対側の面に、水
分散性樹脂を含む塗工層を設けたことを特徴とする前記
（６）に記載の画像形成要素。 （８）前記塗工層の表面の対ステンレス鋼に対する動摩
擦係数が０．３０以下であることを特徴とする前記
（６）または（７）に記載の画像形成要素。 （９）前記塗工層が、界面活性剤、マット剤または滑剤
の少なくとも１種以上を含むことを特徴とする前記
（６）ないし（８）のいずれか１に記載の画像形成要
素。
【００１５】（１０）前記塗工層の表面電気抵抗（Ｓ
Ｒ）が１０6〜１０12Ω／□、の範囲であることを特徴
とする前記（６）ないし（９）のいずれか１に記載の画
像形成要素。 （１１）前記塗工層がアンチモンをドープした導電性酸
化スズを含むことを特徴とする前記（６）ないし（１
０）のいずれか１に記載の画像形成要素。 （１２）前記導電性酸化スズが、その短軸に対する長軸
の比が３〜５０の範囲にある針状構造を有することを特
徴とする前記（６）ないし（１１）のいずれか１に記載
の画像形成要素。
【００１６】（１３）ベース支持体の画像形成層とは反
対側の面に、表面電気抵抗（ＳＲ）が１０6〜１０12Ω
／□の範囲の塗工層と、対ステンレス鋼に対する動摩擦
係数が０．３０以下の表面特性を有する塗工層とをこの
順に形成したことを特徴とする前記（６）ないし（１
２）のいずれか１に記載の画像形成要素。 （１４）前記表面電気抵抗（ＳＲ）が１０6〜１０12Ω
／□の範囲の塗工層が水分散性樹脂とアンチモンをドー
プした導電性酸化スズを含み、また、対ステンレス鋼に
対する動摩擦係数が０．３０以下の表面特性を有する塗
工層が水分散性樹脂および滑剤を含むことを特徴とする
前記（６）ないし（１３）のいずれか１に記載の画像形
成要素。
【００１７】（１５）前記画像形成層がハロゲン化銀感
光材料層であることを特徴とする前記（６）ないし（１
４）のいずれか１に記載の画像形成要素。 （１６）前記ハロゲン化銀感光材料層が拡散転写写真感
光材料層であることを特徴とする前記（６）ないし（１
５）のいずれか１に記載の画像形成要素。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の画像形成要素において
は、透明ポリエステル支持体中に、窒素ガス下、３００
℃の温度に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温し
た場合の質量減量％が１０％以下である揮散性の少ない
紫外線吸収剤、あるいは紫外線吸収剤が、該紫外線吸収
剤を０．４質量％含み、含水率が５０ｐｐｍ以下のポリ
エステル樹脂を３００℃で１分加熱した後、厚さ１．５
ｍｍに成形した板のｂ値と、前記ポリエステル樹脂を８
分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値との
差が３．０以下であるような（以下において、このよう
な性質を単に「耐熱性」ということがある）紫外線吸収
剤、さらには、前記揮散性および耐熱性に関する性能を
併せもつ紫外線吸収剤を少なくとも一種、練り込むこと
を特徴とする。
【００１９】窒素ガス下、３００℃の温度に到達するま
で１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％が
１０％以下である揮散性の少ない紫外線吸収剤を用い
と、透明ポリエステル樹脂に該紫外線吸収剤を添加して
溶融混練した後、ダイ部から排出された直後のフィルム
から紫外線吸収剤が揮散することが少ないため、紫外線
吸収能の低下が防がれ、あるいは多量の紫外線吸収剤の
使用を不要とする。また、紫外線吸収剤が多量に揮散す
ると、製造ラインにおいて揮散（昇華）した紫外線吸収
剤がラインを汚し、これがまた、ライン中を進む支持体
フィルムに付着するなどを起こすことにもなるが、本発
明においてはこのようなことも回避することができる。
前記の質量減量は好ましくは５％以下、さらには１％以
下にすることがより好ましい。一般的に紫外線吸収剤の
分子量を４００以上とすることにより、質量減量を５％
以下に抑制することができる。前記の特性を有する紫外
線吸収剤としては、下記一般式（１）に示される構造式
を有する紫外線吸収剤のほか、下記の化（３）および化
（４）で示されるベンゾフェノン系、下記の化（６）、
化（７）、化（９）、化（１０）で示されるベンゾトリ
アゾール系、サリチル酸エステル系、シアノアクリレー
ト系、ベンゾオキサジン系、トリアジン−クマリン共重
合体系の紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００２０】また、前記のごとき耐熱性を示す紫外線吸
収剤は、ポリエステル樹脂と溶融混練する際の樹脂温度
（たとえば３００℃）においても安定であり熱分解しな
いため、ポリエステル樹脂支持体に用いた場合、紫外線
吸収剤の分解に基づく支持体フィルムの黄色化や紫外線
吸収能の低下を抑制することができる。また、紫外線吸
収剤の分解に起因して生ずるポリエステル樹脂の分解
（ポリエステル樹脂の低分子量化）を防ぐこともでき
る。前記ｂ値の差が好ましくは２．０以下、さらには
１．０以下にすることが好ましい。前記の特性を有する
紫外線吸収剤としては、下記一般式（１）に示される構
造式を有する紫外線吸収剤のほか、ベンゾオキサジン系
紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００２１】また、前記２つの特性を併せ持つ紫外線吸
収剤を用いることにより、前記の効果を併せ発揮するこ
とが可能となる。このような特性を有する紫外線吸収剤
としては、下記一般式（１）に示される構造式を有する
紫外線吸収剤のほか、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤
等が挙げられる。
【００２２】さらに、本発明の画像形成要素において
は、前記のごとき揮散性および／または耐熱性を有する
紫外線吸収剤を、画像形成要素の支持体を成膜する際
に、同時に混練せしめて、紫外線吸収能を有する支持体
を容易に作製することができ、従来行なっていた、紫外
線吸収剤をバインダーとともに有機溶媒に溶解させた塗
布液を支持体上に塗布するという工程を省くことができ
る。また、有機溶媒を用いないため、環境に与える悪影
響も小さい。
【００２３】また、本発明の画像形成要素は、下記一般
式（１）で示される紫外線吸収剤を用いることをも特徴
とするものである。下記一般式（１）で示される紫外線
吸収剤は、高温において安定でありかつ揮散性が少ない
ので、ポリエステル樹脂に前記紫外線吸収剤を添加して
溶融混練する際の樹脂温度（たとえば３００℃）におい
ても安定であり熱分解せず、また、ダイ部から出た直後
において揮散することもない。したがって、フィルムの
黄色化や紫外線吸収能の低下を抑制することができる。
また、前記の工程簡素化等の効果を有することも勿論で
ある。
【００２４】
【化５】
【００２５】前記一般式（１）中、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1
は、それぞれ独立して、置換もしくは無置換のアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環基を示
し、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1のうち少なくとも一つは下記構
造式（Ａ）で示される置換基を表す。
【００２６】
【化６】
【００２７】式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アミノ基、アシル基、オキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシ
ル基もしくはその塩またはスルホ基もしくはその塩を表
す。隣り合うＲ1およびＲ2が連結して環を形成してもよ
い。
【００２８】前記一般式（１）および構造式（Ａ）にお
けるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアルキル基は、炭
素数１〜２０が好ましく、置換基〔例えば、ヒドロキシ
基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば塩素、
臭素、フッ素）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エ
トキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、フェノキシエトキ
シ）、アリーロキシ基（例えばフェノキシ）、エステル
基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、オクチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボ
ニル）、カルボニルオキシ基（例えば、エチルカルボニ
ルオキシ、ヘプチルカルボニルオキシ、フェニルカルボ
ニルオキシ）、アミノ基（例えば、ジメチルアミノ、エ
チルアミノ、ジエチルアミノ）、アリール基（例えば、
フェニル、トリル、４−メトキシフェニル）、カルボン
アミド基（例えば、メチルカルボニルアミド、フェニル
カルボニルアミド）、カルバモイル基（例えば、エチル
カルバモイル、フェニルカルバモイル）、スルホンアミ
ド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド）、スルファモイル基（例えば、ブチルスルフ
ァモイル、フェニルスルファモイル、メチルオクチルア
ミノスルホニル）、カルボキシル基およびその塩、スル
ホ基およびその塩〕を有していてもよい。具体的には、
メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ｔ−ペ
ンチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ｔ
−オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタ
デシル、ベンジル、フェネチル、シクロプロピル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、ビシクロ［２，２，２］
オクチル等の基及び上述の置換基を有する基を挙げるこ
とができる。
【００２９】前記一般式（１）および構造式（Ａ）にお
けるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアリール基は、炭
素数６〜１０が好ましく、置換基〔例えばアルキル基
（メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ｔ−ペン
チル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘ
キサデシル）及び前記のアルキル基が有してもよい置換
基として挙げた基〕を有していてもよい。アリール基と
して具体的には、フェニル、ナフチルを挙げることがで
きる。
【００３０】前記一般式（１）および構造式（Ａ）にお
けるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアルコキシ基は、
炭素数１〜２０が好ましく、例えばメトキシ、エトキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、ｎ−オクトキシ、イソオ
クトキシ、ドデシルオキシ、ベンジルオキシ、オクタデ
シルオキシ等を挙げることができ、これらは前記したア
ルキル基が有してもよい置換基として挙げた基で置換さ
れていてもよい。
【００３１】前記一般式（１）および構造式（Ａ）にお
けるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアリールオキシ基
は、炭素数６〜１０が好ましく、例えばフェノキシ、ナ
フトキシを挙げることができ、これらは前記したアリー
ル基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されて
いてもよい。
【００３２】前記一般式（１）および構造式（Ａ）にお
けるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアルキルチオ基
は、炭素数１〜２０が好ましく、例えば、メチルチオ、
ヘキシルチオ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等を挙
げることができる。
【００３３】前記一般式（１）および構造式（Ａ）にお
けるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアリールチオ基
は、炭素数６〜１０が好ましく、例えば、フェニルチ
オ、ナフチルチオを挙げることができる。これらのアル
キルチオ基及びアリールチオ基は前記したアルキル基又
はアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置
換されていてもよい。
【００３４】前記一般式（１）におけるＸ1、Ｙ1および
Ｚ1のヘテロ環基は、フラン、チオフェン、インドー
ル、ピロール、ピラブール、イミダゾール、ピリジン等
を挙げることができ、前記したアリ−ル基が有してもよ
い置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
【００３５】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
アルケニル基は、炭素数３〜２０が好ましく、アリル、
２−ブテニル、３−ブテニル、オレイルを挙げることが
でき、これらは前記アルキル基が有してもよい置換基と
して挙げた基で置換されていてもよい。
【００３６】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
アシルオキシ基は、炭素数２〜２０が好ましく、アセチ
ルオキシ、ヘキサノイルオキシ、デカノイルオキシ、ス
テアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ等を挙げることが
でき、前記したアリール基が有してもよい置換基として
挙げた基で置換されていてもよい。
【００３７】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
アミノ基は、炭素数０〜４０の置換もしくは無置換のア
ミノ基が好ましく、例えば無置換のアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、オクチルアミ
ノ、ジヘキシルアミノ、ジステアリルアミノ、ジイソブ
チルアミノ、アニリノ、ジフェニルアミノ、メチルフェ
ニルアミノ、ホルムアミド、アセチルアミノ、ヘキサノ
イルアミノ、デカノイルアミノ、ステアロイルアミノ、
ベンゾイルアミノ、メタンスルホンアミド、エタンスル
ホンアミド、ノナンスルホンアミド、ブタンスルホンア
ミド、ドデカンスルホンアミド、オクタデカンスルホン
アミド、ベンゼンスルホンアミド、メトキシカルボニル
アミノ、フェノキシカルボニルアミノ、カルバモイルア
ミノ、シクロヘキシルカルバモイルアミノ、ジエチルカ
ルバモイルアミノ等を挙げることができ、前記したアリ
ール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換され
ていてもよい。
【００３８】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
アシル基は、炭素数１〜２０が好ましく、アセチル、ブ
タノイル、ピバロイル、オクタノイル、ヘキサデカノイ
ル、ベンゾイル等を挙げることができ、前記したアリー
ル基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されて
いてもよい。
【００３９】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
オキシカルボニル基は、炭素数２〜２０が好ましく、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニル、ヘプチルオキシカル
ボニル、テトラデシルオキシカルボニル、オクタデシル
オキシカルボニル、フェノキシカルボニル等を挙げるこ
とができ、前記したアリール基が有してもよい置換基と
して挙げた基で置換されていてもよい。
【００４０】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
カルバモイル基は、炭素数１〜２０が好ましく、例えば
無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、プロピル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、オクチルカルバ
モイル、ドデシルカルバモイル、ヘキサデシルカルバモ
イル、オクタデシルカルバモイル、フェニルカルバモイ
ル等を挙げることができ、前記したアリール基が有して
もよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
【００４１】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
スルファモイル基は、炭素数０〜２０が好ましく、無置
換のスルファモイル、エチルスルファモイル、ブチルス
ルファモイル、ヘプチルスルファモイル、テトラデシル
スルファモイル、ジブチルスルファモイル、オクタデシ
ルスルファモイル、フェニルスルファモイル等を挙げる
ことができ、前記したアリール基が有してもよい置換基
として挙げた基で置換されていてもよい。
【００４２】前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2の
ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素等を挙げることが
できる。
【００４３】また、前記一般式（１）で示される紫外線
吸収剤の分子量は４００以上であることが好ましい。分
子量が４００以上の紫外線吸収剤は、特に揮散性が低い
ので製造ラインを汚すことなく、低添加量で必要な紫外
線吸収能を与えることができる。
【００４４】以下の表１に、下記化（１）ないし化（１
３）で示される各種紫外線吸収剤の分子量と揮散（昇
華）性を示す。揮散性は窒素ガス下、３００℃の温度に
到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質
量減量を示す。また、図１に、横軸に分子量を、縦軸に
昇華性をプロットしたグラフを示す。この表１および図
１から分かるように、紫外線吸収剤の揮散性はその分子
量に大きく依存し、また、分子量が４００以上である
と、揮散性を１０質量％以下に抑制することができる。
【００４５】
【化７】
【００４６】
【化８】
【００４７】
【表１】
【００４８】また、以下に、化（４）、化（９）、化
（１２）および化（１３）で示される紫外線吸収剤につ
いての耐熱性を示す（なお、ここでの耐熱性は、前記ｂ
値だけでなく、下記のＩＶ値が含まれている）。耐熱性
は、全ポリエステル樹脂に対し、前記紫外線吸収剤を正
味０．４質量％、ＴｉＯ2粒子を正味０．２質量％（拡
散転写写真材料としてのヘイズ調整のため）添加した材
料を、真空オーブン内で１８０℃・８時間乾燥させた
後、射出成型機（NEOMAT 150/75 住友重機（株）製）に
おいて、ヒーター温度：３００℃、滞留時間を０、２、
８分と変えた条件下で、それぞれ、厚さ約１．５ｍｍの
成型板を形成した。その成型板のｂ値およびＩＶ値を測
定した。なお、ｂ値とはＣＩＥＬＡＢ着色系に基づいた
ｂ＊を指し、ＩＶとはIntrinsic Viscosityの略で極限
粘度を指す。また、紫外線吸収剤およびＴｉＯ2粒子
は、あらかじめこれらをポリエステル樹脂に練り込んだ
チップの形態で添加した。ｂ値は、日本電色工業（株）
製 SZ-Σ９０型色差計により測定した。結果を図２お
よび図３に示す。図より、紫外線吸収剤としてトリアジ
ン系のものが特に優れた耐熱性を有することが分かる。
【００４９】本発明においては、前記画像形成要素にお
いて、さらに支持体の画像形成層とは反対の面に、水分
散性樹脂からなる塗工層を設けることができる。この塗
工層は動摩擦係数を０．３０以下にすることが、カメラ
排出性の観点から好ましい。塗工層の動摩擦係数を０．
３０以下にするためには、たとえば前記塗工層に滑剤を
添加することによることができる。さらに、この塗工層
には、界面活性剤やマット剤、硬膜剤、硬膜助剤、防腐
剤、pH調整剤等を添加することができる。水分散性樹脂
としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリスチレン樹脂、ＳＢＲ、ＰＶＤＣ、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂ある
いはその共重合体等を用いることができ、これらの樹脂
は、耐水性およびポリエステルフィルムとの密着性が良
好である。
【００５０】前記滑剤としては、長鎖炭化水素基を有す
るワックス（界面活性剤を含む）、コロイダルシリカ粒
子等の無機粒子、ポリオレフィン粒子等の有機粒子等が
好ましく用いられ、特に炭素数１２〜２４の長鎖飽和炭
化水素基を有するワックスが好ましい。滑剤の添加量
は、塗工層の乾燥固形分に対し１〜２０質量％程度が好
ましい。前記塗工層は、前記水分散性樹脂、滑剤等の添
加剤を界面活性剤で水中に分散させた水性分散液を塗布
することにより形成することができる。また、塗工層の
厚さは０．０１〜１．０μｍ程度が好ましい。
【００５１】また、本発明の画像形成要素においては、
支持体の画像形成層とは反対側、好ましくは、前記塗工
層と支持体の間に、表面抵抗（ＳＲ）が１０6〜１０12
Ω・ｃｍ以下の層（この層を下塗り層ということがあ
る）を設けることが好ましい。下塗り層の表面抵抗を前
記のようにすることにより、加工時のスタチック静電故
障が改善され、カブリを有効に防止することができる。
表面抵抗をこの範囲にするためには、下塗り層中に導電
性粒子を添加することができる。導電性粒子としては、
酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウ
ム、酸化チタン等が挙げられるが、中でもアンチモンを
ドープした酸化スズが好ましく、特に、その短軸に対す
る長軸の比が３〜５０の範囲にある針状構造を有するア
ンチモンドープ導電性酸化スズ粒子が好ましい。前記の
ごとき針状構造の導電性酸化スズ粒子を用いると、少な
い添加量で必要な導電性を得ることができるため、下塗
り層に、酸化スズの色味である青味がつき、そのためＤ
ｍｉｎが高くなり（地肌の色味がくすんでくる）、写真
画像性能が低下するという問題を回避することができ
る。また、下塗り層には、硬膜剤や界面活性剤、マット
剤、防腐剤、ｐＨ調整剤等を含有させることができる。
導電性粒子の添加量は、前記下塗り層の表面抵抗が得ら
れるように決定されるが、一般的には、下塗り層の固形
分に対し３０〜７０質量％程度添加される。前記下塗り
層は、バインダー樹脂として水分散性の樹脂、たとえば
アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、
ポリスチレン樹脂、ＳＢＲ、ＰＶＤＣ樹脂等を用いるこ
とができ、これらは、耐水性およびポリエステルフィル
ムとの密着性が良好である。下塗り層は、バインダー樹
脂と導電性粒子等を界面活性剤を用いて水中に分散させ
た下塗り層塗液を塗布乾燥することにより形成すること
ができる。また、下塗り層の厚さは０．０５〜５μｍ程
度が好ましい。
【００５２】本発明における前記塗工層あるいは下塗り
層は、耐水性が良好でまたポリエステル支持体との密着
性が良好な水分散性樹脂を含むため、前記のごとき層間
接着性、耐水性の問題が解決される。
【００５３】本発明の透明ポリエステル支持体には、紫
外線吸収剤の他に白色顔料、たとえば酸化チタン顔料を
添加することが好ましい。白色顔料は透明ポリエステル
支持体のヘイズを上げるためであり、これを加えること
により、製造過程において、支持体端面より入射した光
により感材層がかぶることを防止できる。酸化チタンの
添加量は０．００５〜０．０５質量％程度が好ましい。
また、透明ポリエステル支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびそ
の共重合体または混合物等が用いられる。
【００５４】また、本発明の画像形成層はハロゲン化銀
感光材料層であることができる。また、前記ハロゲン化
銀感光材料層は拡散転写写真感光材料層であることがで
きる。拡散転写写真感光材料は、特願平１１−２６９５
６５号出願の段落００５０から段落００７９に記載の技
術事項をすべて利用することができる。
【００５５】
【実施例】以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。 実施例１ 前記化（１２）で示される紫外線吸収剤およびＴｉＯ2
粒子を予めポリエステル樹脂に練り込んだチップの形態
とし、通常のポリエステル樹脂のチップとブレンドし
た。全ポリエステル樹脂に対し、前記紫外線吸収剤が正
味０．４質量％、ＴｉＯ2粒子が正味０．１８質量％と
なるような含有量に調節した。これらのチップ材料を、
ヘンシェルミキサーおよびパドルドライヤー乾燥機内で
含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、ヒーター温度を
２８０℃〜３００℃に設定した押し出し機内で溶融させ
た。溶融させたポリエステル樹脂を、ダイ部より静電印
加されたチラーロール上に吐出させ、非結晶ベースを得
た。この非結晶ベースをベース流れ方向に延伸比３．３
倍に延伸後、ベース幅方向に延伸比３．９倍に延伸し、
厚さ９７μｍ±２μｍのフィルムを得た（フィルムシー
ト１）。得られたフィルムの紫外線吸収剤の染み出しは
観察されなかった。紫外線吸収剤染み出しはフィルムシ
ート６０℃・９０％相対湿度雰囲気下に１０日間放置
し、表面の紫外線吸収剤の染み出し（ブリードアウト）
を目視観察した。
【００５６】実施例２ 全ポリエステル樹脂に対し、化（１２）で表される紫外
線吸収剤が正味０．２９質量％、化（１３）で表される
紫外線吸収剤が正味０．１７質量％、ＴｉＯ2粒子が正
味０．２質量％となるようなチップ材料を用いる他は、
実施例１と同様にして、厚さ９７μｍのフィルムを得た
（フィルムシート２）。得られたフィルムシートの紫外
線吸収剤の染み出しは観察されなかった。
【００５７】実施例３ 全ポリエステル樹脂に対し、化（１２）で表される紫外
線吸収剤が正味０．２４質量％、化（１３）で表される
紫外線吸収剤が正味０．２４質量％、ＴｉＯ2粒子が正
味０．２質量％となるようなチップ材料を用いる他は、
実施例１と同様にして、厚さ９７μｍのフィルムを得た
（フィルムシート３）。得られたフィルムの紫外線吸収
剤の染み出しは観察されなかった。
【００５８】実施例４ 実施例３に記載の厚さ９７μｍのフィルムシートを搬送
速度３０ｍ/分で搬送し、コロナ電極−支持体間隙が
１．８ｍｍ、電力２００Ｗの条件でコロナ放電処理を行
った。次に、下記組成からなる水性塗布液を、バーコー
ト法により、第１下塗り層、第２下塗り層の順で重層塗
布した。第１層、第２層の塗布量は、ともに約５．７ｃ
ｃ/ｍ2とし、乾燥は、ともに１８０℃・１分乾燥とし、
フィルムシート４を作製した。 第１下塗り液 ポリアクリル樹脂（ジュリマーET-410：日本純薬：固形分３０％） ２４質量部 針状酸化スズ（FS-10D：石原産業：固形分２０％） ５０質量部 エポキシ系硬膜剤（EX614B：ナガセ化成工業：固形分１００％） ２．２質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１４）（固形分１００％） ０．８質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） １．８質量部 蒸留水 ９２１．２質量部 第２下塗り液 ポリアクリル樹脂(ジュリマーET-410：日本純薬：固形分30％) １５質量部 コロイダルシリカ粒子（スノーテックスC：日産化学工業：固形分20％） １１質量部 エポキシ系硬膜剤（EX614B：ナガセ化成工業：固形分１００％） １．３質量部 アニオン系界面活性剤（化合物１５）（固形分１００％） １．１質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１６）（固形分１００％） ０．５質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） ３．４質量部 蒸留水 ９６７．７質量部
【００５９】
【化９】
【００６０】実施例５ 実施例４に記載の第２下塗り液を下記塗布液に変更する
他は、実施例４と同様にして、フイルムシート５を作製
した。 第２下塗り液 ポリアクリル樹脂(ジュリマーET-410：日本純薬：固形分30％) １５質量部 コロイダルシリカ粒子（スノーテックスC：日産化学工業：固形分20％） １１質量部 エポキシ系硬膜剤（EX614B：ナガセ化成工業：固形分100％） １．３質量部 ステアリン酸アミド系ワックス（ハイミクロンG110：中京油脂：固形分27.5％） ５．２質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１６）（固形分１００％） ０．５質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） ３．４質量部 蒸留水 ９６３．６質量部
【００６１】実施例６ 実施例４に記載の第2下塗り液を下記塗布液に変更する
他は、実施例４と同様にして、フイルムシート６を作製
した。 第２下塗り液 ポリアクリル樹脂(ジュリマーET-410：日本純薬：固形分30％) １５質量部 コロイダルシリカ粒子（スノーテックスC：日産化学工業：固形分20％） １１質量部 メラミン系硬膜剤（M-3：住友化学工業：固形分80％） １．３質量部 アニオン系界面活性剤（化合物１５）（固形分100％） ０．９質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１６）（固形分100％） ０．５質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） ３．４質量部 ポリオレフィンマット剤（ケミパールW950：三井化学工業：固形分４０％） ０．４質量部 蒸留水 ９６７．５質量部
【００６２】比較例１ ＴｉＯ2粒子を予めポリエステル樹脂に練り込んだチッ
プの形態とし、これを全ポリエステル樹脂に対し、Ｔｉ
Ｏ2粒子が正味０．１８質量％になるように、通常のポ
リエステル樹脂のチップとブレンドすることにより、チ
ップ材料を調製した後、ヘンシェルミキサーおよびパド
ルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下になるよ
うに乾燥させた。次に、このチップ材料を、ヒーター温
度を２８０℃〜３００℃に設定した押し出し機内で溶融
させた。溶融させたポリエステル樹脂をダイ部より静電
印加されたチラーロール上に吐出させ、非結晶ベースを
得た。この非結晶ベースをベース流れ方向に延伸比３．
３倍に延伸後、ベース幅方向に延伸比３．６倍に延伸
し、厚さ９７μ±２μのフィルムを得た。このフィルム
を搬送速度３０ｍ/分で搬送し、コロナ電極−支持体間
隙１．８ｍｍ、電力２００Ｗの条件でコロナ放電処理を
行った。前記フィルムに、下記組成からなる塗布液を、
バーコート法により、第１下塗り層、第２下塗り層の順
で重層塗布した。第１層、第２層の塗布量は、第１層が
約５．７ｃｃ/ｍ2、第２層が約８．７ｃｃ/ｍ2とした。
乾燥は、ともに１８０℃１分乾燥とした。 第１下塗り液 ＳＢＲ樹脂（Nipol Latex LX407C4C：日本ゼオン：固形分43％） ４８質量部 ＳＢＲ樹脂（ Nipol Latex LX407C4E：日本ゼオン：固形分43％ ） １４質量部 ポリエチルアクリレート樹脂（化合物１７）（２０％水溶液） ０．７質量部 ポリスチレン粒子（Nipol UFN1008：日本ゼオン：固形分２０％） ０．２質量部 トリアジン系硬膜剤（化合物１８）（８％水溶液） １１．７質量部 アニオン系界面活性剤（化合物１９）（固形分１００％ ） ０．１質量部 アニオン系界面活性剤（化合物２０）（固形分１００％ ） ０．３質量部 防腐剤（プロキセルＬＶ：ゼネカ：固形分２０％） １２質量部 蒸留水 ９１３質量部
【００６３】
【化１0】
【００６４】 第２下塗り液 ゼラチン（固形分１００％） ７０．６質量部 硬膜剤（化合物２１）（２０％水溶液） １１．２質量部 セルロース樹脂（TC-5：信越化学：固形分１００％） ２．３質量部 防腐剤（化合物２２）（固形分３．５％） ５質量部 酢酸（ダイセル化学：固形分９９％） １０質量部 蒸留水 ９００．９質量部
【００６５】
【化１1】
【００６６】上記ゼラチン下塗り層のさらに上層に以下
の塗工液からなる第３塗布液を８０ｃｃ/ｍ2の厚さで塗
布し、１１０℃５分の乾燥を実施し、フィルムシート７
を作製した。 第３塗布液 アセチルセルロース（酢化度５５％） ６０ｇ イソシアネート化合物（化合物２３）（７５質量％酢酸エチル溶液） １０ｇ 紫外線吸収剤（化合物２４） １．５ｇ 紫外線吸収剤（化合物２５） ４．５ｇ 紫外線吸収剤（化合物２６） １．５ｇ アセトン ７５０ｃｃ ジアセトンアルコール ２５０ｃｃ
【００６７】
【化１2】
【００６８】比較例２ 実施例４の紫外線吸収剤を前記表１中、化（１）で示し
た構造式のもの（分子量２７４）であって、質量減量が
３７．４９％であるものに変更する他は、実施例４と同
様にしてフィルムシート８を作製した。
【００６９】比較例３ 実施例４の紫外線吸収剤を前記表１中、化（９）で示し
た構造式のもの（分子量６５８）であって、質量減量が
０．１０と良好であるものの、耐熱性評価においてｂ値
の差が４．３のものに変更する他は、実施例４と同様に
してフィルムシート９を作製した。
【００７０】実施例４ないし６および比較例１ないし３
で作製したフィルムシート４ないし９について紫外線吸
収剤染み出し、層間接着性、地肌明るさおよび黄色味ｂ
値、動摩擦係数、表面電気抵抗（ＳＲ）、および紫外線
透過率（３９０ｎｍ）を測定した。これらの評価方法
は、以下のとおりである。結果を表１に示す。 ＜層間接着性試験＞塗布後１週間経った上記フィルムシ
ートを、塗布面側縦１１ｃｍｘ横５ｃｍ角の中にカッタ
ーナイフ（ＮＴ Ｃｕｔｔｅｒ Ａ−３００ 日本転写
紙（株）製）で、ポリエチレンテレフタレートベース中
まで切り込みを斜め対角線上に８本ずつ入れた。その切
り込みを入れたフィルムシート表面にニットーポリエス
テル粘着テープ（Ｎｏ．３１ 日東電工（株）製）を均
一に貼り付けた後、その粘着テープを勢い良く剥がし
た。この際に粘着テープ側に剥ぎ取られなかった塗布層
の面積を求め、層間接着性を評価した。 ＜地肌の明るさ（Ｄｍｉｎ）および黄色味ｂ値＞地肌の
明るさ（Ｄｍｉｎ）および黄色味ｂ値は、上記フィルム
シートを、日本電色工業（株）製 SZ-Σ９０型色差計
により、透過のＬ値（明度）およびｂ値を測定すること
により評価した。ｂ値が３．０未満の場合を○で、３．
０以上の場合を×で表した。
【００７１】＜動摩擦係数＞上記フィルムシートを２５
℃・６５％ＲＨの雰囲気で３日間保存した後、動摩擦係
数測定機（東洋ボールドウィン（株）製）を用いて動摩
擦係数を測定した。即ち、２０ｇの加重を加えた直径５
ｍｍの鋼球を、試料フィルム表面に接触させ、２０ｃｍ
／分の速度で滑走させた時の抵抗を歪みゲージで検出し
て求めた。 ＜表面電気抵抗（ＳＲ）＞上記フィルムシートを２５℃
・３０％ＲＨの雰囲気で６時間保存した後、同雰囲気下
で、定電圧電源（ＴＲ−３００Ｃ、タケダ理研工業
（株）製、電流計（ＴＲ−８６５１、同社製）及びサン
プルチャンバー（ＴＲ−４２、同社製）を用いて、ＪＩ
Ｓ−Ｋ−６９１１−１９７９の抵抗率に記載の方法に従
い測定した。 ＜３５０ｎｍの紫外線の透過率＞上記フィルムシートを
日本分光（株）製分光光度計Ｕ−ｂｅｓｔ５５０により
照射光波長３５０ｎｍとした際の透過率を測定した。透
過率が１％未満の場合を○と、１％以上を×と表した。
【００７２】
【表２】
【００７３】さらに、上記フィルムシート４ないし６の
カメラ排出性を調べたところ、全く問題なかった。ま
た、フィルムシート７ないし９（比較例１ないし３）の
場合も、カメラ排出性に問題はなかった。
【００７４】実施例７ 実施例４に記載の第１下塗り液を下記塗布液に変更する
他は、実施例４と同様にして、フイルムシート１０を作
製した。 第１下塗り液 ポリアクリル樹脂（ジュリマーET-410：日本純薬：固形分３０％） ２４質量部 エポキシ系硬膜剤（EX614B：ナガセ化成工業：固形分100％） ２．２質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１４）（固形分１００％） ０．８質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） １．８質量部 蒸留水 ９７１．２質量部
【００７５】実施例８ 実施例４に記載の第１下塗り液を下記塗布液に変更する
他は、実施例４と同様にして、フイルムシート１１を作
製した。 第１下塗り液 ポリアクリル樹脂（ジュリマーET-410：日本純薬：固形分３０％） ２４質量部 球状酸化スズ（TDL-1：三菱マテリアル：固形分１７％） １１０質量部 エポキシ系硬膜剤（EX614B：ナガセ化成工業：固形分100％） ２．２質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１４）（固形分１００％） ０．８質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） １．８質量部 蒸留水 ８６１．２質量部
【００７６】実施例９ 実施例４に記載の第２下塗り液を下記の塗布液に変更す
る他は、実施例４と同様にして、フイルムシート１２を
作製した。 第２下塗り液 ポリアクリル樹脂(ジュリマーET-410：日本純薬：固形分30％) １５質量部 コロイダルシリカ粒子（スノーテックスC：日産化学工業：固形分20％） １１質量部 エポキシ系硬膜剤（EX614B：ナガセ化成工業：固形分100％） １．３質量部 ノニオン系界面活性剤（化合物１６）（固形分１００％） ０．５質量部 アニオン系界面活性剤（サンデットBL：三洋化成工業：44.6％） １．０質量部 蒸留水 ９７１．２質量部
【００７７】前記実施例７ないし９のフィルムシート１
０ないし１２について、紫外線吸収剤染み出し、層間接
着性、地肌明るさ、動摩擦係数および表面電気抵抗（Ｓ
Ｒ）を測定した。これらの評価方法は、前述のとおりで
ある。結果を表２に示す。
【００７８】
【表３】
【００７９】さらに、上記フィルムシート１０ないし１
２（実施例７ないし９）のカメラ排出性を調べたとこ
ろ、特に問題はなかった。
【００８０】
【発明の効果】本発明においては、揮散（昇華）性の小
さい紫外線吸収剤を用いることにより、ダイ部から排出
された直後のフィルムから紫外線吸収剤が揮散すること
が少ないため、紫外線吸収能の低下が防がれ、あるいは
多量の紫外線吸収剤の使用を不要とする。また、紫外線
吸収剤が製造ラインを汚したりするなどの現象を防ぐこ
とができる。また、本発明の耐熱性を示す紫外線吸収剤
を用いることにより、紫外線吸収剤の分解に基づく支持
体フィルムの黄色化や紫外線吸収能の低下を抑制するこ
とができ、また、紫外線吸収剤の分解に起因して生ずる
ポリエステル樹脂の分解を防ぐこともできる。また、前
記２つの特性を併せ持つ紫外線吸収剤を用いることによ
り、前記の効果を併せ発揮することが可能となる。さら
に、前記一般式（１）で示される紫外線吸収剤は、高温
において安定でありかつ揮散性が少ないので、前記のよ
うな効果を同様に発揮することができる。また、本発明
においては、紫外線吸収剤含有塗工層を溶液塗布により
行う必要がないため、環境に対する負荷が小さく、か
つ、紫外線吸収剤を支持体作製時に支持体中に練り込む
ため、紫外線吸収剤含有塗工層をあらためて形成する必
要がなく、工程簡素化の効果も有している。
【図面の簡単な説明】
【図１】 紫外線吸収剤の分子量と昇華性の関係を表す
グラフである。
【図２】 本発明の紫外線吸収剤をポリエステル樹脂に
練り込んだ場合のメルト滞留時間とｂ値の関係を示すグ
ラフである。
【図３】 本発明の紫外線吸収剤をポリエステル樹脂に
練り込んだ場合のメルト滞留時間とＩＶ値の関係を示す
グラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｇ０３Ｃ 1/76 Ｇ０３Ｃ 1/76 ５０２ ５０２ 1/85 1/85 8/06 8/06 8/52 8/52 (72)発明者 高木 秀樹 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H023 CD05 CD08 CD09 FA01 FA09 FC00 FC02 4J002 CF061 CF081 EE046 EU176 EU186 EV086 EV096 EV236 FD056 GF00 GP03

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエス
    テルフィルムを少なくとも有するベース支持体であっ
    て、前記紫外線吸収剤が、窒素ガス下、３００℃の温度
    に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の
    質量減量％が１０％以下である紫外線吸収剤の少なくと
    も一種であるベース支持体。
  2. 【請求項２】 紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエス
    テルフィルムを少なくとも有するベース支持体であっ
    て、前記紫外線吸収剤が、該紫外線吸収剤を０．４質量
    ％含み、含水率が５０ｐｐｍ以下のポリエステル樹脂を
    ３００℃で１分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した
    板のｂ値と、前記ポリエステル樹脂を８分加熱した後、
    厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値との差が３．０以下
    である紫外線吸収剤の少なくとも一種であるベース支持
    体。
  3. 【請求項３】 紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエス
    テルフィルムを少なくとも有するベース支持体であっ
    て、前記紫外線吸収剤が、窒素ガス下、３００℃の温度
    に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の
    質量減量％が１０％以下であり、かつ該紫外線吸収剤を
    ０．４質量％含み、含水率が５０ｐｐｍ以下のポリエス
    テル樹脂を３００℃で１分加熱した後、厚さ１．５ｍｍ
    に成形した板のｂ値と、前記ポリエステル樹脂を８分加
    熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値との差が
    ３．０以下である紫外線吸収剤の少なくとも一種である
    ベース支持体。
  4. 【請求項４】 紫外線吸収剤を練り込んだ透明ポリエス
    テルフィルムを少なくとも有するベース支持体であっ
    て、前記紫外線吸収剤が、下記一般式（１）で表される
    紫外線吸収剤の少なくとも一種であることを特徴とする
    ベース支持体。 【化１】 式中、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1は、それぞれ独立して、置換
    もしくは無置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ
    基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
    基またはヘテロ環基を示し、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1のうち
    少なくとも一つは下記構造式（Ａ）で示される置換基を
    表す。 【化２】 式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子、
    ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アル
    ケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
    基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
    基、アミノ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバ
    モイル基、スルファモイル基、カルボキシル基もしくは
    その塩またはスルホ基もしくはその塩を表す。隣り合う
    Ｒ1およびＲ2が連結して環を形成してもよい。
  5. 【請求項５】 紫外線吸収剤の分子量が４００以上であ
    ることを特徴とする請求項４に記載のベース支持体。
  6. 【請求項６】 ベース支持体および該支持体の一方に画
    像形成層を有する画像形成要素において、前記ベース支
    持体が、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載
    のベース支持体であることを特徴とする画像形成要素。
  7. 【請求項７】 ベース支持体の画像形成層とは反対側の
    面に、水分散性樹脂を含む塗工層を設けたことを特徴と
    する請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の画
    像形成要素。
  8. 【請求項８】 前記塗工層の表面の対ステンレス鋼に対
    する動摩擦係数が０．３０以下であることを特徴とする
    請求項６または請求項７に記載の画像形成要素。
  9. 【請求項９】 前記塗工層が、界面活性剤、マット剤ま
    たは滑剤の少なくとも１種以上を含むことを特徴とする
    請求項６ないし請求項８のいずれか１項に記載の画像形
    成要素。
  10. 【請求項１０】 前記塗工層の表面電気抵抗（ＳＲ）が
    １０6〜１０12Ω／□、の範囲であることを特徴とする
    請求項６ないし請求項９のいずれか１項に記載の画像形
    成要素。
  11. 【請求項１１】 前記塗工層がアンチモンをドープした
    導電性酸化スズを含むことを特徴とする請求項６ないし
    請求項１０のいずれか１項に記載の画像形成要素。
  12. 【請求項１２】 前記導電性酸化スズが、その短軸に対
    する長軸の比が３〜５０の範囲にある針状構造を有する
    ことを特徴とする請求項６ないし請求項１１のいずれか
    １項に記載の画像形成要素。
  13. 【請求項１３】 ベース支持体の画像形成層とは反対側
    の面に、表面電気抵抗（ＳＲ）が１０6〜１０12Ω／□
    の範囲の塗工層と、対ステンレス鋼に対する動摩擦係数
    が０．３０以下の表面特性を有する塗工層とをこの順に
    形成したことを特徴とする請求項６ないし請求項１２の
    いずれか１項に記載の画像形成要素。
  14. 【請求項１４】 前記表面電気抵抗（ＳＲ）が１０6〜
    １０12Ω／□の範囲の塗工層が水分散性樹脂とアンチモ
    ンをドープした導電性酸化スズを含み、また、対ステン
    レス鋼に対する動摩擦係数が０．３０以下の表面特性を
    有する塗工層が水分散性樹脂および滑剤を含むことを特
    徴とする請求項６ないし請求項１３のいずれか１項に記
    載の画像形成要素。
  15. 【請求項１５】 前記画像形成層がハロゲン化銀感光材
    料層であることを特徴とする請求項６ないし請求項１４
    のいずれか１項に記載の画像形成要素。
  16. 【請求項１６】 前記ハロゲン化銀感光材料層が拡散転
    写写真感光材料層であることを特徴とする請求項６ない
    し請求項１５のいずれか１項に記載の画像形成要素。
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