JP2002243431A - ウエハのそり測定方法 - Google Patents
ウエハのそり測定方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ウエハ自体のそりを非接触の測定装置により非
接触状態で精度よく測定することができるウエハのそり
測定方法を提供することにある。 【解決手段】ウエハの外周を少なくとも３点で水平に支
持して、ウエハの表面側の各測定点の変位量を第１の測
定値として非接触の測定装置で測定し、ウエハを反転し
て水平に支持して表面側の各測定点に対応する位置の変
位量を第２の測定値として前記の測定装置で測定し、各
測定点の第１の測定値と第の測定値の差の実質的に１／
２の値を前記ウエハのそり量として算出するものであ
る。
接触状態で精度よく測定することができるウエハのそり
測定方法を提供することにある。 【解決手段】ウエハの外周を少なくとも３点で水平に支
持して、ウエハの表面側の各測定点の変位量を第１の測
定値として非接触の測定装置で測定し、ウエハを反転し
て水平に支持して表面側の各測定点に対応する位置の変
位量を第２の測定値として前記の測定装置で測定し、各
測定点の第１の測定値と第の測定値の差の実質的に１／
２の値を前記ウエハのそり量として算出するものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ウエハのそり測
定方法に関し、詳しくは、ウエハ自体のそりを非接触の
変位量測定装置により非接触状態で精度よく測定するこ
とができるようなウエハのそり測定方法に関する。
定方法に関し、詳しくは、ウエハ自体のそりを非接触の
変位量測定装置により非接触状態で精度よく測定するこ
とができるようなウエハのそり測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエハ自体のそりは、従来、水平定盤の
テーブル上にウエハを載置し、ウエハの上面に設けられ
た、例えば、光学的変位測定装置、静電センサ等により
ウエハ上のＸＹ座標上あるいはＲθ座標上の各測定点で
変位量を測定してその変位量からウエハのそりの状態を
算出し、それを、例えば、プリント出力し、あるいはデ
ィスプレイ上にグラフ表示している。近年、８インチ径
あるいはそれ以上の径のウエハが使用されるようにな
り、ウエハの径が大きく、その相対的な厚さは薄くなっ
てきている。そのため、ウエハ自体のそりがより問題と
される。
テーブル上にウエハを載置し、ウエハの上面に設けられ
た、例えば、光学的変位測定装置、静電センサ等により
ウエハ上のＸＹ座標上あるいはＲθ座標上の各測定点で
変位量を測定してその変位量からウエハのそりの状態を
算出し、それを、例えば、プリント出力し、あるいはデ
ィスプレイ上にグラフ表示している。近年、８インチ径
あるいはそれ以上の径のウエハが使用されるようにな
り、ウエハの径が大きく、その相対的な厚さは薄くなっ
てきている。そのため、ウエハ自体のそりがより問題と
される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このそりと類似する測
定としてウエハの平坦度（フラットネス）測定がある。
その測定の際に行われる測定項目としてウエハの厚さ測
定とウエハ厚さむら測定があって、このときのウエハ厚
さ測定の精度として現在では、±０．５μｍ以下の測定
精度が要求されている。そのため、このそりもより精度
の高い測定が要求される。一方、集積化されるＩＣの線
密度は、年々向上し、サブミクロンオーダとなると、ウ
エハの裏面側に発生する微小な疵やゴミ、異物などの影
響が問題となってくる。従来の定盤に載置するそり測定
では、裏面側に異物が付着し易く、また、裏面に疵が付
き易い。そこで、ウエハのそり量測定においても非接触
状態でのそり測定の要請がある。
定としてウエハの平坦度（フラットネス）測定がある。
その測定の際に行われる測定項目としてウエハの厚さ測
定とウエハ厚さむら測定があって、このときのウエハ厚
さ測定の精度として現在では、±０．５μｍ以下の測定
精度が要求されている。そのため、このそりもより精度
の高い測定が要求される。一方、集積化されるＩＣの線
密度は、年々向上し、サブミクロンオーダとなると、ウ
エハの裏面側に発生する微小な疵やゴミ、異物などの影
響が問題となってくる。従来の定盤に載置するそり測定
では、裏面側に異物が付着し易く、また、裏面に疵が付
き易い。そこで、ウエハのそり量測定においても非接触
状態でのそり測定の要請がある。
【０００４】非接触状態でのそり測定としては、現在の
ところウエハを垂直に支持して測定する方法がある。し
かし、ウエハの口径が大きくなると自重による重力の影
響で精度の高いそり測定ができない。この発明の目的
は、このような従来技術の問題点を解決するものであっ
て、ウエハ自体のそりを非接触の測定装置により非接触
状態で精度よく測定することができるウエハのそり測定
方法を提供することにある。
ところウエハを垂直に支持して測定する方法がある。し
かし、ウエハの口径が大きくなると自重による重力の影
響で精度の高いそり測定ができない。この発明の目的
は、このような従来技術の問題点を解決するものであっ
て、ウエハ自体のそりを非接触の測定装置により非接触
状態で精度よく測定することができるウエハのそり測定
方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためのこの発明のウエハのそり測定方法の特徴は、ウ
エハが水平になるようにウエハの外周を支持して、ウエ
ハの表面側の各測定点の変位量を第１の測定値として非
接触の測定装置で測定し、ウエハを反転して水平に支持
して表面側の各測定点に対応する位置の変位量を第２の
測定値として前記の測定装置で測定し、各測定点の第１
の測定値と第２の測定値の差の実質的に１／２の値を前
記ウエハのそり量として算出するものである。また、他
の発明として、各測定点の第１の測定値と第２の測定値
の和の実質的に１／２の値をウエハの自重たわみ量とし
て求めて、これによりウエハのそり量を算出するもので
ある。
るためのこの発明のウエハのそり測定方法の特徴は、ウ
エハが水平になるようにウエハの外周を支持して、ウエ
ハの表面側の各測定点の変位量を第１の測定値として非
接触の測定装置で測定し、ウエハを反転して水平に支持
して表面側の各測定点に対応する位置の変位量を第２の
測定値として前記の測定装置で測定し、各測定点の第１
の測定値と第２の測定値の差の実質的に１／２の値を前
記ウエハのそり量として算出するものである。また、他
の発明として、各測定点の第１の測定値と第２の測定値
の和の実質的に１／２の値をウエハの自重たわみ量とし
て求めて、これによりウエハのそり量を算出するもので
ある。
【０００６】
【発明の実施の形態】このように、この発明では、ウエ
ハを水平に支持して変位量を測定することにより、ウエ
ハの自重による重力の影響が付加されて表面側の変位量
と裏面側の変位量とがそれぞれ各測定点について求め
る。このとき、ウエハに加わる重力の方向は表裏反転し
ても同じ方向である。一方、ウエハの厚さは実質的に均
一とみることができるので、表面側のそり方向と裏面側
のそり方向とは逆になる。そこで、一方の測定値と他方
の測定値との差を採ることにより自重の影響が相殺され
る。このとき、各測定点の測定値の差は、逆方向の差と
なることから測定するそり量の２倍となる。これの１／
２を実際の各測定点のそり量として算出することができ
る。その結果、ウエハ自体のそりを非接触の測定装置に
より非接触状態で精度よく測定することができ、ウエハ
の裏面に疵が付きにくく、ウエハへの異物の付着が防止
される。なお、各測定点の第１の測定値と第２の測定値
の和の実質的に１／２の値は、そり量が相殺されてウエ
ハの自重たわみ量の２倍が得られる。そこで、このたわ
み量を求めることで一方の測定値からウエハのそり量を
算出することができる。
ハを水平に支持して変位量を測定することにより、ウエ
ハの自重による重力の影響が付加されて表面側の変位量
と裏面側の変位量とがそれぞれ各測定点について求め
る。このとき、ウエハに加わる重力の方向は表裏反転し
ても同じ方向である。一方、ウエハの厚さは実質的に均
一とみることができるので、表面側のそり方向と裏面側
のそり方向とは逆になる。そこで、一方の測定値と他方
の測定値との差を採ることにより自重の影響が相殺され
る。このとき、各測定点の測定値の差は、逆方向の差と
なることから測定するそり量の２倍となる。これの１／
２を実際の各測定点のそり量として算出することができ
る。その結果、ウエハ自体のそりを非接触の測定装置に
より非接触状態で精度よく測定することができ、ウエハ
の裏面に疵が付きにくく、ウエハへの異物の付着が防止
される。なお、各測定点の第１の測定値と第２の測定値
の和の実質的に１／２の値は、そり量が相殺されてウエ
ハの自重たわみ量の２倍が得られる。そこで、このたわ
み量を求めることで一方の測定値からウエハのそり量を
算出することができる。
【０００７】
【実施例】図１は、この発明のウエハのそり測定方法の
一実施例を示す測定方法のフローチャートであり、図２
は、そのウエハ支持機構の説明図、図３は、ウエハのそ
り量と重力の作用との関係の説明図である。図２（ａ）
に示すすように、ウエハのそり測定の際に用いられる光
学変位量測定装置３が装置に固定されたフレーム９に支
持され、中空円筒のテーブル２の上部に設けられてい
る。図２（ｂ）は、中空円筒のテーブル２を平面からみ
たものであり、ウエハ１は、中空円筒のテーブル２にそ
の外周で３点で支持されてテーブル２に載置され、この
ウエハ１の上部にある光学変位量測定装置３から測定レ
ーザビームＬが垂直よりθ傾斜してウエハ１に落射され
る。光学変位量測定装置３の測定データは、データ処理
装置１０に転送されて、各測定点の測定値がメモリに記
憶されて、そり量が後述する式に基づいて算出される。
一実施例を示す測定方法のフローチャートであり、図２
は、そのウエハ支持機構の説明図、図３は、ウエハのそ
り量と重力の作用との関係の説明図である。図２（ａ）
に示すすように、ウエハのそり測定の際に用いられる光
学変位量測定装置３が装置に固定されたフレーム９に支
持され、中空円筒のテーブル２の上部に設けられてい
る。図２（ｂ）は、中空円筒のテーブル２を平面からみ
たものであり、ウエハ１は、中空円筒のテーブル２にそ
の外周で３点で支持されてテーブル２に載置され、この
ウエハ１の上部にある光学変位量測定装置３から測定レ
ーザビームＬが垂直よりθ傾斜してウエハ１に落射され
る。光学変位量測定装置３の測定データは、データ処理
装置１０に転送されて、各測定点の測定値がメモリに記
憶されて、そり量が後述する式に基づいて算出される。
【０００８】図２（ｂ）において、３点支持として、ウ
エハ１の外周に係合する３つの支持つめ４ａ、４ｂ，４
ｃが１２０度の等角度で分割された位置にそれぞれ配置
され、これら爪がその外側にある爪支持リング４に支持
され、３つの支持つめ４ａ、４ｂ，４ｃは、ウエハ１の
中心Ｏに向かって前進し、後退する（進退機構は図示せ
ず）。各支持つめ４ａ、４ｂ，４ｃの支持点の延長線が
ウエハ１の中心Ｏを通る。また、爪支持リング４は、支
持つめ４ａの中心Ｏを通る軸線上において、両端で回動
可能に軸ピン５ａ、５ｂを介して外側の円筒６に固定さ
れている。さらに、支持つめ４ａ側の軸ピン５ａは、円
筒６を貫通して反転駆動機構７の軸に結合されている。
これによりウエハ１は、軸ピン５ａ、５ｂの軸を中心と
して表裏反転可能となっていて、支持つめ４ａ、４ｂ，
４ｃの進退により中空円筒のテーブル２にチャックさ
れ、アンチャックされる。
エハ１の外周に係合する３つの支持つめ４ａ、４ｂ，４
ｃが１２０度の等角度で分割された位置にそれぞれ配置
され、これら爪がその外側にある爪支持リング４に支持
され、３つの支持つめ４ａ、４ｂ，４ｃは、ウエハ１の
中心Ｏに向かって前進し、後退する（進退機構は図示せ
ず）。各支持つめ４ａ、４ｂ，４ｃの支持点の延長線が
ウエハ１の中心Ｏを通る。また、爪支持リング４は、支
持つめ４ａの中心Ｏを通る軸線上において、両端で回動
可能に軸ピン５ａ、５ｂを介して外側の円筒６に固定さ
れている。さらに、支持つめ４ａ側の軸ピン５ａは、円
筒６を貫通して反転駆動機構７の軸に結合されている。
これによりウエハ１は、軸ピン５ａ、５ｂの軸を中心と
して表裏反転可能となっていて、支持つめ４ａ、４ｂ，
４ｃの進退により中空円筒のテーブル２にチャックさ
れ、アンチャックされる。
【０００９】中空円筒のテーブル２は、ＸＹテーブル８
に支持されていて、光学変位量測定装置３はフレーム９
に支持されている。これにより、測定光ＬをＸＹ座標上
の各測定点に移動させて各測定点の変位量を測定する。
図１は、その測定方法であって、まず、ウエハ１の表面
側の各測定点の変位量を測定してデータ処理装置１０に
転送してそのメモリに記憶する（ステップ１０１）。次
に、反転駆動機構７を駆動してウエハ１を反転する（ス
テップ１０２）、そしてウエハの裏面側の各測定点の変
位量を測定してデータ処理装置１０に転送してそのメモ
リに記憶する（ステップ１０３）。そして、データ処理
装置１０において、表面側の各測定点の測定値からその
測定点に対応する裏面がｗの測定値の差を算出する（ス
テップ１０４）。これは、表面側の各測定点の測定値
（第１の測定値）について、前記の軸ピン５ａ、５ｂの
軸に対して対称となる裏面側の測定点の測定値（第２の
測定値）とをメモリから読み出して、各測定点での第１
の測定値と第２の測定値の差を算出する。さらに、差値
の１／２を各測定点のそり量として算出する（ステップ
１０５）。
に支持されていて、光学変位量測定装置３はフレーム９
に支持されている。これにより、測定光ＬをＸＹ座標上
の各測定点に移動させて各測定点の変位量を測定する。
図１は、その測定方法であって、まず、ウエハ１の表面
側の各測定点の変位量を測定してデータ処理装置１０に
転送してそのメモリに記憶する（ステップ１０１）。次
に、反転駆動機構７を駆動してウエハ１を反転する（ス
テップ１０２）、そしてウエハの裏面側の各測定点の変
位量を測定してデータ処理装置１０に転送してそのメモ
リに記憶する（ステップ１０３）。そして、データ処理
装置１０において、表面側の各測定点の測定値からその
測定点に対応する裏面がｗの測定値の差を算出する（ス
テップ１０４）。これは、表面側の各測定点の測定値
（第１の測定値）について、前記の軸ピン５ａ、５ｂの
軸に対して対称となる裏面側の測定点の測定値（第２の
測定値）とをメモリから読み出して、各測定点での第１
の測定値と第２の測定値の差を算出する。さらに、差値
の１／２を各測定点のそり量として算出する（ステップ
１０５）。
【００１０】このとき、ステップ１０１で測定されたウ
エハ表面側の各測定点の第１の測定値Ｏとすれば、 Ｏ＝Ｓ＋Ｔ＋θo …… となる。ここに、Ｓは、ウエハの各測定点でのそり量で
あり、Ｔは、重力による自重たわみ量、θoは、測定誤
差である。たたし、凹のそり量Ｓを正とする。また、ス
テップ１０３で測定されたウエハ裏面側の各測定点の第
２の測定値Ｕとすれば、 Ｕ＝−Ｓ＋Ｔ＋θu …… となる。ここに、θuは、測定誤差である。ただし、ウ
エハ裏面側の各測定点の位置は、位置関係が反転された
ときに表裏対応する位置にある。これは、前記したよう
に、表面側の測定点の測定値に対し、前記の軸ピン５
ａ、５ｂの軸に対して対称となる裏面側の測定点の測定
値である。そこで、ステップ１０４での差値は、データ
処理装置１０のメモリに記憶されている測定データから
式−式により、Ｏ−Ｕ＝２Ｓ＋（θo−θu）として
算出され、さらにデータ処理装置１０において、ステッ
プ１０５でそり量ＳがＳ＝１／２｛（Ｏ−Ｕ）−（θo
−θu）｝として算出される。
エハ表面側の各測定点の第１の測定値Ｏとすれば、 Ｏ＝Ｓ＋Ｔ＋θo …… となる。ここに、Ｓは、ウエハの各測定点でのそり量で
あり、Ｔは、重力による自重たわみ量、θoは、測定誤
差である。たたし、凹のそり量Ｓを正とする。また、ス
テップ１０３で測定されたウエハ裏面側の各測定点の第
２の測定値Ｕとすれば、 Ｕ＝−Ｓ＋Ｔ＋θu …… となる。ここに、θuは、測定誤差である。ただし、ウ
エハ裏面側の各測定点の位置は、位置関係が反転された
ときに表裏対応する位置にある。これは、前記したよう
に、表面側の測定点の測定値に対し、前記の軸ピン５
ａ、５ｂの軸に対して対称となる裏面側の測定点の測定
値である。そこで、ステップ１０４での差値は、データ
処理装置１０のメモリに記憶されている測定データから
式−式により、Ｏ−Ｕ＝２Ｓ＋（θo−θu）として
算出され、さらにデータ処理装置１０において、ステッ
プ１０５でそり量ＳがＳ＝１／２｛（Ｏ−Ｕ）−（θo
−θu）｝として算出される。
【００１１】ここで、ウエハが凸側に湾曲しているとす
ると、重力によるたわみの影響がない、ウエハ自体の各
測定点でのそり量Ｓが図３（ａ）に示すように、Ｓがそ
れでである。この状態で、テーブル２に載置すると、図
（ｂ）に示すようになる。このとき、図（ｃ）に示すよ
うに、反転前の表面側では、凸側に湾曲が凹状となっ
て、実線のようになり、−Ｓ＋Ｔの状態で湾曲する。こ
れを反転すると、図（ｂ）に示す領域Ａ，Ｂの位置が左
右入れ替わり、各測定点は軸線に対称に配置される。こ
のとき、点線に示すよう、さらに凹状態となり、Ｓ＋Ｔ
となる。この場合も前記そり量Ｓが負になっているだけ
であり、そり量Ｓが算出できる。
ると、重力によるたわみの影響がない、ウエハ自体の各
測定点でのそり量Ｓが図３（ａ）に示すように、Ｓがそ
れでである。この状態で、テーブル２に載置すると、図
（ｂ）に示すようになる。このとき、図（ｃ）に示すよ
うに、反転前の表面側では、凸側に湾曲が凹状となっ
て、実線のようになり、−Ｓ＋Ｔの状態で湾曲する。こ
れを反転すると、図（ｂ）に示す領域Ａ，Ｂの位置が左
右入れ替わり、各測定点は軸線に対称に配置される。こ
のとき、点線に示すよう、さらに凹状態となり、Ｓ＋Ｔ
となる。この場合も前記そり量Ｓが負になっているだけ
であり、そり量Ｓが算出できる。
【００１２】また、自重たわみＴは、式＋式によ
り、次の式となり、これにより求めることができる。 Ｔ＝１／２｛（Ｏ＋Ｕ）−（θo＋θu）｝ そこで、データ処理装置１０のメモリに、多数のあるウ
エハについてこのたわみ量Ｔを求めてその平均値をあら
かじめ各測定点対応に記憶しておけば、表面側の各測定
点について測定した値から式からたわみ量Ｔを引い
て、Ｏ−Ｔ＝Ｓ＋Ｔ＋θo−Ｔ＝Ｓ＋θoとして、そり量
Ｓを求めることができる。これにより、表裏の測定点に
ついて測定することなく、表面側の測定点の測定データ
のみでそり量の算出が可能になる。なお、各式におい
て、測定誤差θo，θuは、そり量Ｓからみて無視できる
程度のものである。
り、次の式となり、これにより求めることができる。 Ｔ＝１／２｛（Ｏ＋Ｕ）−（θo＋θu）｝ そこで、データ処理装置１０のメモリに、多数のあるウ
エハについてこのたわみ量Ｔを求めてその平均値をあら
かじめ各測定点対応に記憶しておけば、表面側の各測定
点について測定した値から式からたわみ量Ｔを引い
て、Ｏ−Ｔ＝Ｓ＋Ｔ＋θo−Ｔ＝Ｓ＋θoとして、そり量
Ｓを求めることができる。これにより、表裏の測定点に
ついて測定することなく、表面側の測定点の測定データ
のみでそり量の算出が可能になる。なお、各式におい
て、測定誤差θo，θuは、そり量Ｓからみて無視できる
程度のものである。
【００１３】以上、説明してきたが、実施例では、実施
例のウエハ反転機構は一例であって、他の反転機構をも
ちいることができる。また、変位量の測定は、光学的な
ものに限定されない。非接触状態で測定できれば、例え
ば、静電センサのようなものであってもよい。さらに、
ウエハの支持点は、３点に限定されるものではなく、こ
れより多くてもよい。
例のウエハ反転機構は一例であって、他の反転機構をも
ちいることができる。また、変位量の測定は、光学的な
ものに限定されない。非接触状態で測定できれば、例え
ば、静電センサのようなものであってもよい。さらに、
ウエハの支持点は、３点に限定されるものではなく、こ
れより多くてもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明にあって
は、ウエハを水平に支持して変位量を測定することによ
り、ウエハの自重による重力の影響が付加されて表面側
の変位量と裏面側の変位量とがそれぞれ各測定点につい
て求める。このとき、ウエハに加わる重力の方向は表裏
反転しても同じ方向である。表面側のそり方向と裏面側
のそり方向とは逆になる。そこで、一方の測定値と他方
の測定値との差を採ることにより自重の影響が相殺さ
れ、各測定点の測定値の差の１／２を実際の各測定点の
そり量として算出することができる。その結果、ウエハ
自体のそりを非接触の測定装置により非接触状態で精度
よく測定することができ、ウエハの裏面に疵が付きにく
く、ウエハへの異物の付着が防止される。
は、ウエハを水平に支持して変位量を測定することによ
り、ウエハの自重による重力の影響が付加されて表面側
の変位量と裏面側の変位量とがそれぞれ各測定点につい
て求める。このとき、ウエハに加わる重力の方向は表裏
反転しても同じ方向である。表面側のそり方向と裏面側
のそり方向とは逆になる。そこで、一方の測定値と他方
の測定値との差を採ることにより自重の影響が相殺さ
れ、各測定点の測定値の差の１／２を実際の各測定点の
そり量として算出することができる。その結果、ウエハ
自体のそりを非接触の測定装置により非接触状態で精度
よく測定することができ、ウエハの裏面に疵が付きにく
く、ウエハへの異物の付着が防止される。
【図１】図１は、この発明のウエハのそり測定方法の一
実施例を示す測定方法のフローチャートである。
実施例を示す測定方法のフローチャートである。
【図２】図２は、そのウエハ支持機構の説明図である。
【図３】図３は、ウエハのそり量と重力の作用との関係
の説明図である。
の説明図である。
１…ウエハ、２…回転テーブル、３…光学的変位量測定
装置、４…爪支持リング、４ａ、４ｂ，４ｃ…支持つ
め、５…円筒、５ａ、５ｂ…軸ピン、６…円筒、７…反
転駆動機構、８…ＸＹテーブル、９…フレーム、１０…
データ処理装置。
装置、４…爪支持リング、４ａ、４ｂ，４ｃ…支持つ
め、５…円筒、５ａ、５ｂ…軸ピン、６…円筒、７…反
転駆動機構、８…ＸＹテーブル、９…フレーム、１０…
データ処理装置。
Claims (5)
- 【請求項１】ウエハが水平になるように前記ウエハの外
周を支持して、前記ウエハの表面側の各測定点の変位量
を第１の測定値として非接触の測定装置で測定し、前記
ウエハを反転して水平に支持して前記表面側の各測定点
に対応する位置の変位量を第２の測定値として前記測定
装置で測定し、各測定点の前記第１の測定値と前記第の
測定値の差の実質的に１／２の値を前記ウエハのそり量
として算出することを特徴とするウエハのそり測定方
法。 - 【請求項２】前記ウエハの外周支持は、少なくとも３点
で行う請求項１記載のウエハのそり測定方法。 - 【請求項３】前記３点の支持は、実質的に均等に角度分
割された位置であり、前記ウエハの反転は、前記３点の
うちの１点と前記ウエハの中心を通る線を軸として行わ
れ、前記第２の測定値は、前記表面側の測定点と前記軸
に対して対称となる測定点の測定値である請求項２記載
のウエハのそり測定方法。 - 【請求項４】ウエハが水平になるように前記ウエハの外
周を支持して、前記ウエハの表面側の各測定点の変位量
を第１の測定値として非接触の測定装置で測定し、前記
ウエハを反転して水平に支持して前記表面側の各測定点
に対応する位置の変位量を第２の測定値として前記測定
装置で測定し、各測定点の前記第１の測定値と前記第の
測定値の和の実質的に１／２の値を前記ウエハの自重た
わみ量として求めて、これにより前記ウエハのそり量を
算出することを特徴とするウエハのそり測定方法。 - 【請求項５】前記ウエハの外周支持は、少なくとも３点
で行う請求項４記載のウエハのそり測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001033603A JP2002243431A (ja) | 2001-02-09 | 2001-02-09 | ウエハのそり測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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2001
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