JP2002241710A - 薄膜接着方法及びそれを利用した光ディスクの接着方法並びにその装置 - Google Patents
薄膜接着方法及びそれを利用した光ディスクの接着方法並びにその装置Info
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Abstract
させず、均一厚さに接着し得る、薄膜接着方法及びそれ
を利用した光ディスクの接着方法並びにその装置を提供
する。 【解決手段】 第1基板44の表面に接着剤46を塗布
し、第2基板48を接着剤層46上に安着させ、第1基
板44の表面及び第2基板48に、流体を利用した圧力
を時間の経過に連れそれら基板44、48の中心部から
外周縁側に印加しながらそれら44、48間の接着を漸
次的に進行させた後、接着剤46を硬化させて、薄膜の
接着を行う。
Description
係るもので、詳しくは、光ディスクの製造の際に用いら
れる薄膜の接着方法及びそれを利用した光ディスク接着
方法並びにその装置に関するものである。
ンパクトディスク(CD)に続いてデジタル多用途ディ
スク(DVD)の規格が提案されて標準化され、DVD
−ROM、DVD−RAM、DVD−R、DVD−RW
及びDVD+RWなどの多様な製品が一般化されてい
る。
が著しく向上しており、普及が拡大される展望である。
例えば、DVDの容量は、片面単層(Single-sided sin
glelayer)を基準として約4.7ギガバイト(GB)程
度で、VHS級の画質で約2時間分の映画を録画するこ
とができる。
は、図6に示したように、ピットパターンの形成された
情報記録層及び反射膜を含む第1基板2と、第1基板2
の上部に塗布される接着剤4を介して第1基板2に接合
される第2基板6とにより構成されている。
て、通常、ポリカーボネートなどのような高分子物質に
より形成され、0.6mm程度の厚さを有する。
たは案内溝などを形成して情報を記録する情報記録層と
して利用されている。情報記録層の上面(図面上)には
第1基板2を介して入射されるレーザービームLBを反
射するための反射膜が形成されている。
て、第1基板2と同一材質により形成されて、第1基板
2の変形及び反射膜の劣化を防止する保護層としての役
割を果たしている。
m程度の厚さで、接着剤4により第1基板2の反射膜上
に接合されている。
基板6と、情報が記録される第1基板2とが接合された
構造となっている光記録媒体は、厚さ1.2mm、直径
12cmの円板形状に形成される。
記録するか、または、媒体上の情報をリードするために
光ピックアップ(未図示)から発生するレーザービーム
LBが第1基板2を透過して情報記録層上に照射され
る。
る情報記録層上に形成されるビームスポットの大きさ
は、光ピックアップに含まれた光源の波長に比例し、対
物レンズ(OL)の開口数(NA)に反比例する。
るためには、与えられた光透過層、即ち、第1基板2の
厚さに対して短波長の光源及び開口数の大きい対物レン
ズを使用することが必須である。
と、光ディスクのチルトに対するコマ収差が開口数の3
乗(NA3)に比例して著しく増加するため、記録された
光情報の信頼性が低下するという問題点がある。
うに、光が透過される各透明基板10、12の厚さの4
乗(t4)に比例して増加する。
レンズOLを介して集束されるレーザービームLBが、
図7(A)の厚い第1基板10と図7(B)の薄い第1
基板12を透過する場合を考える。それらのチルト角
(θ1)が同一であるとすると、同一の材質により形成
される各基板の内部での屈折角(θ2)が同じであるの
で、同一位置に焦点が形成されるが、各基板10、12
の厚さが異なる場合は、像が形成される焦点の位置
(f)が各基板10、12の厚さによって変化する。
ザービームLBは、傾斜された薄い第1基板12を透過
する時の位置偏差(δ2)よりも厚い第1基板10を透
過する時の位置偏差(δ1)が大きくなる。
12を通過して照射される位置が正常の位置から外れる
と、フォーカス制御やトラックキング制御に悪影響を及
ぼして、情報記録及び再生に致命的なエラーが発生す
る。
上の高記録容量を有する光記録媒体においては、高開口
数の対物レンズ及び薄い光透過層基板を有する光記録媒
体の導入が提案された。
は、図8に示したように、保護層を形成する厚い第1基
板14と、情報記録用の薄い第2基板18とによい構成
される。これらが接着剤16を介して接合される。第2
基板18には、先の例と同様に、ピットパターンの形成
された情報記録層及び反射膜を備えている。
8は、コマ収差の基板厚さに対する依存性を最小化する
ために、0.1mmの厚さとした。
接合される第1基板14は、保護層であって、1.2m
mの厚さを有する既存の光ディスクとの互換性を有する
ために1.1mmの厚さを有する。
基板18を備える光ディスクは、コマ収差の発生を最小
化し得るというメリットはあるが、第2基板18が薄す
ぎるため、生産性が著しく低下して実用化され難いとい
う問題点があった。それは極度に薄い第2基板18を第
1基板14に接着することが容易でないからである。
し、図9及び図10に基づいて説明する。先ず、光ディ
スク接着装置19は中心に回転軸17を備え、その先端
に円板形状の光ディスク支持部15が取り付けられてい
る。その支持部15の上に厚い第1基板14を載せる、
すなわち安着させる(S20)。
れた第1基板14を回転させながら、紫外線により硬化
される液状接着剤を第1基板14上に塗布して接着剤層
16を形成する(S22)。その接着剤層16上に反射
膜を含む薄い第2基板18を載せる(S24)。
を加え、その力を利用して接着剤16である紫外線硬化
樹脂を第1基板14と第2基板18間の境界面に満遍な
く拡散させる(S26)。次いで、紫外線を照射して接
着剤層16を硬化させて(S28)、光ディスクの接着
を終了する。
来光ディスクの接着方法においては、第2基板18の全
面を一気に加圧するため、第1基板14と第2基板18
間に空気が捕らえられるトラップが発生するか、接着剤
層16の厚さが不均一になるという不都合な点があっ
た。
された空気中大きい気泡は、光ディスクの記録密度向上
条件の一つである光ディスクの平面度を悪化させ、ま
た、小さい気泡も温度変化によって膨脹して光ディスク
の平面度を悪化させるという問題点があった。
ディスクのたわみ、チルトまたは振動及び光スポットの
にじみを誘発して、情報の記録及び再生動作に悪影響を
及ぼすという問題点があった。
なされたもので、薄膜を均一に接着することができる薄
膜接着方法を提供することを目的とする。本発明の他の
目的は、光ディスクに用いる薄膜に空気のトラップを発
生せず、均一厚さに接着することができる光ディスクの
接着方法及びその装置を提供しようとするものである。
る本発明に係る薄膜接着方法は、(A)ターゲットの表
面に接着剤を塗布し、薄膜をその接着剤上に載せる段階
と、(B)ターゲットの表面及び薄膜に、流体を利用し
た圧力を時間の経過に連れそれら薄膜及びターゲットの
表面の中心部から外周縁側に加えながらそれら間の接着
を漸次的に進行させる段階と、(C)接着剤を硬化させ
る段階と、を順次行うことを特徴とする。
は、(A)第1基板上に接着剤を介して薄膜を載せる段
階と、(B)第1基板及び第1基板に載せられた薄膜を
回転させながら、流体圧力を、時間の経過に連れ第1基
板及び薄膜の中心部から外周縁側に順次加えて、それら
間の接合を螺旋状に進行させる段階と、(C)接着剤を
硬化させる段階とを順次行うことを特徴とする。
は、回転力を発生する駆動モータに一体に結合された回
転軸と、回転軸の一端側に結合され、上面に厚い第1基
板を載せることができるディスク支持部と、ディスク支
持部に載せられた第1基板の上面に接着剤を供給するた
めに、ディスク支持部の上側に配置された第1ノズル
と、接着剤を介して第1基板上に載せられた薄膜に、流
体圧力を時間の経過に連れ第1基板と薄膜の中心部から
外周縁側に加えて、それら間の接着を螺旋状に進行させ
る圧力供給手段とを備えることを特徴とする。
し、図面を用いて説明する。本発明に係る光ディスク接
着装置の第1実施形態においては、図1に示したよう
に、回転力を発生する駆動モータ(未図示)に一体に結
合された回転軸40と、回転軸40の一端に結合されて
上面に厚い第1基板44が載せられるディスク支持部4
2と、紫外線により硬化される接着剤46を第1基板4
4の上面に供給するために、ディスク支持部42の上側
に所定間隔を保って配置される第1ノズル50と、第1
基板44上に接合される薄い第2基板48の上面に磁性
懸濁液を供給するために、ディスク支持部42の上側に
所定間隔を保って配置される第2ノズル52と、ディス
ク支持部42の下面に隣接して位置される電磁石54
と、電磁石54が含まれ、電磁石54がディスク支持部
42の半径方向を沿って移動できるように形成されたガ
イドレール56とを備えている。
用して、接着装置の電気的構成を簡単にすることもでき
る。
クの接着方法に対し、図2に基づいて説明する。先ず、
ディスク支持部42の上面に厚い第1基板44を載せる
(S30)。この時、ディスク支持部42の上面に載せ
られた第1基板44は、ディスク支持部42の所定部位
に穿孔形成された複数の真空吸入口41から発生する真
空吸入力によってディスク支持部42に瞬間的に固定さ
れる。
ってディスク支持部42の上面に載せられた第1基板4
4を回転させながら、第1基板44の上方中央部に位置
する第1ノズル50を利用して液状接着剤46を供給す
る(S32)。
の回転による遠心力及び自体の粘性によって第1基板4
4の中心部から外周縁側に広がって所定厚さに塗布され
る。ここで、液状接着剤層46の厚さは、第1基板44
の回転速度、接着剤46の粘性及び回転時間などの組合
せによって決定される。
44の上面に薄い第2基板48を載せる(S34)。
って第1基板44の上面に載せられた第2基板48を回
転させながら、第2基板48の上方中央部に配置した第
2ノズル52を利用して磁性微粒子を含む磁性懸濁液ま
たは磁性流体を供給する(S36)。その結果、回転し
ている第2基板48の上面に磁性懸濁液または磁性流体
が均一に塗布される。
に維持しながら、ディスク支持部42の下面に隣接して
位置する電磁石54をガイドレール56を利用してディ
スク支持部42の中心部から外周縁側に直線的に移動さ
せる(S38)。
8上に塗布された磁性懸濁液または磁性流体によって発
生する磁力が第1基板44及び第2基板48に垂直に作
用する。したがって、第1基板44と第2基板48間に
は、第2基板48の上面とディスク支持部42の下側と
の間で発生する磁力による押圧力が作用するので、その
圧力によって第1基板44と第2基板48との接着が堅
固に維持される。
支持部42の中心部から外周縁側に直線的に移動する電
磁石54の磁力によって発生する押圧力は、支持部42
が回転しているので、ディスク支持部42の中心部から
外周縁側に螺旋状に進む。したがって、第1基板44と
第2基板48間に塗布された接着剤層46にトラップさ
れた空気若しくは気泡を接着剤層46の外部であるディ
スク支持部42の外周縁側に押し出すことができるの
で、第1基板44と第2基板48とは空気トラップが発
生せずに高速に堅固に接合される。
48との接合が終了すると、第2基板48の上面に塗布
された磁性懸濁液または磁性流体を除去する(S4
0)。
磁性懸濁液または磁性流体の除去は、電磁石54をディ
スク支持部42の外側に完全に移動させて、ディスク支
持部42と各基板44、48間に形成された磁場を除去
して行われる。
性懸濁液または磁性流体が流動性を有するので、ディス
ク支持部42を回転させて発生する遠心力によって迅速
に除去される。また、このように除去された磁性懸濁液
または磁性流体は、別途の容器に回収されてリサイクル
される。
た紫外線放出ランプ(未図示)を介して紫外線を照射し
て、第1基板44と第2基板48間の接着剤46を硬化
させて(S42)、光ディスクの接着を終了する。
置及びその方法によると、磁性懸濁液または磁性流体及
び、電磁石または永久磁石を利用した磁力による押圧力
が、時間の経過に連れてディスクの中心部から外周縁側
に加えられるので、第1基板44と第2基板48間の接
着剤層46に存在する空気トラップが除去されて、空気
トラップによるディスクの平面度低下を防止することが
できる。
光ディスク接着装置及びその方法においては、第1基板
44に一枚の第2基板48を接着する方法に限定され
ず、多層膜の接着方法としても容易に適用することが可
能である。すなわち、上述したような方法によって多層
膜の間々に接着剤を塗布し、最上位層に磁性懸濁液また
は磁性流体を塗布した後、大きい磁場を発生させる電磁
石または永久磁石を利用して、磁力による押圧力を基板
の中心部から外周縁側に印加させることによって接着さ
せることができる。
第2実施形態においては、図3に示したように、回転力
を発生する駆動モータ(未図示)に一体に結合された回
転軸60と、回転軸60の一端に結合され、上面に第1
基板44が載せられるディスク支持部62と、紫外線に
より硬化される接着剤46を第1基板44の上面に供給
するために、ディスク支持部62の上側に所定間隔を保
って配置される第1ノズル64と、第1基板44の上面
に接合される第2基板48の上面中心部から外周縁側に
空気圧を供給するために、ディスク支持部62の上側に
所定間隔を保って配置される第2ノズル66とを備えて
いる。
クの接着方法の1実施形態に対し、図4に基づいて説明
する。
1基板44を載せる(S50)。この時、ディスク支持
部62の上面に載せられた第1基板44は、ディスク支
持部62の所定部位に形成された複数個の真空吸入口6
1から発生する真空吸入力によってディスク支持部62
に瞬間的に固定される。
ってディスク支持部62の上面に載せられた第1基板4
4を低速回転させながら、第1基板44の上方中央部に
位置する第1ノズル64を利用して液状接着剤46を供
給する(S52)。
の回転による遠心力及び自体の粘性によって第1基板4
4の中心部から外周縁側に広がって所定厚さに塗布され
る。ここで、液状接着剤層46の厚さは、第1基板44
の回転速度、接着剤46の粘性及び回転時間などの組合
せによって決定される。
44の上面に薄い第2基板48を載せる(S54)。
転させながら第2ノズル64を利用して圧縮空気を加え
て、第2基板48を加圧させる(S56)。
4を光ディスクの中心部から外周縁側に直線的に移動さ
せる。ディスク支持部62の高速回転によって、圧縮空
気による圧力が第2基板48の上面に螺旋状に加えられ
て行く。このように螺旋状に進みながら加えられる圧縮
空気圧によって、第1基板44と第2基板48間の接着
剤層46にトラップされていた空気または気泡が接着剤
層46の外部であるディスク支持部62の外周縁側に押
し出されるので、第1基板44と第2基板48間は空気
のトラップが発生せずに高速に堅固に接合される。
は、加えられる空気圧の一部分は先に印加された部分と
部分的に重畳されることが好ましく、それを実現するた
めにディスク支持部62の回転速度及び第2ノズル66
の移動速度を適切に制御する。
を均一に印加するために、所定線速度(CLV)方式で
ディスク支持部62を回転させる駆動モータ(未図示)
の回転速度を制御する。
が第2基板48の外周縁側に到達した後、高圧の圧縮空
気を利用して第2基板48の全面を瞬間的に加圧する
(S58)。これは必要に応じて行えばよい。次いで、
第2基板48の上方側に形成された紫外線放出ランプ
(未図示)を利用して紫外線を照射して、第1基板44
と第2基板48間の接着剤46を硬化させて(S6
0)、光ディスクの接着を終了する。
使用することも可能で、この場合、接着剤46である紫
外線硬化樹脂の酸化を防止して、紫外線による接着剤4
6の硬化を效果的に行うことができるという効果があ
る。
ク接着装置及びその方法においては、空気圧による圧力
が時間の経過に連れディスクの中心部から外周縁側に加
えられるので、第1基板44と第2基板48間の接着剤
層46に存在する空気トラップを効果的に除去すること
ができる。
クの接着方法の他の実施形態に対し、図5に基づいて説
明する。
た各ディスク支持部の上面に厚い第1基板44及び第2
基板をそれぞれ載せる(S62、S68)。次いで、そ
れぞれのディスク接着装置の各駆動モータ(未図示)の
回転によって各ディスク支持部の上面に載せられた第1
基板44及び第2基板48を低速回転させながら、第1
基板44と第2基板48の上方中央部にそれぞれ位置す
る第1ノズルを利用して液状接着剤46を供給する(S
64、S70)。
44及び第2基板48をそれぞれ高速回転させる(S6
6、S72)。
48の回転による遠心力及び自体の粘性によって第1基
板44及び第2基板48の中心部から外周縁側に広がっ
て所定の厚さに塗布される。ここで、液状接着剤層46
の厚さは、第1基板44及び第2基板48の回転速度、
接着剤46の粘性及び回転時間などの組合せによって決
定される。
48を、やはり接着剤46の塗布された第1基板44の
上面に載せた後、第1基板44と第2基板48とを接合
させる(S74)。
基板48を高速回転させながら第2ノズルを利用して圧
縮空気を加えて、第2基板48を加圧させる(S7
6)。
ディスクの中心部から外周縁側に直線的に移動させる
と、ディスク支持部62の高速回転によって第2基板4
8の上面に形成される圧縮空気の圧力の分布が螺旋状と
なる。このように螺旋状に進みながら加えられる圧縮空
気圧によって第1基板44と第2基板48間の接着剤層
46にトラップされた空気または気泡は、接着剤層46
の外部であるディスク支持部62の外周縁側側に押し出
される。したがって、第1基板44と第2基板48とは
空気のトラップが発生せずに高速に堅固に接合される。
加えられる空気圧の一部分は先に印加された部分と部分
的に重畳されることが好ましく、そのためにディスク支
持部の回転速度及び第2ノズルの移動速度を適切に制御
する。
を均一に印加するために、所定線速度(CLV)方式で
ディスク支持部を回転させる駆動モータ(未図示)の回
転速度を制御する。
圧が第2基板48の外周縁側に到達した後、別の高圧の
圧縮空気を利用して第2基板48の全面を瞬間的に加圧
させる(S78)。
た紫外線放出ランプ(未図示)を介して紫外線を照射し
て、第1基板44と第2基板48間の接着剤46を硬化
させて(S80)、光ディスクの接着を終了する。
を使用することも可能である。その場合、接着剤46で
ある紫外線硬化樹脂の酸化を防止して、紫外線による接
着剤46の硬化を效果的に行うことができるという効果
がある。更に、ディスクを冷却させると、紫外線の照射
時、ディスクの温度上昇によるディスクの変形を防止す
ることができる。
スクの接着方法は、図4に示した接着方法において、第
1基板44と第2基板48の安着段階(S50、S5
2)を順次に行わず、別々のディスク接着装置を利用し
て第1基板44の安着工程(S62)及び第2基板48
の安着工程(S68)をそれぞれ進行させた後、それら
第1基板44と第2基板48との接着工程を行うことが
特徴である。
法においては、空気圧による押圧力が時間の経過と共に
ディスクの中心部から外周縁側に加えられるので、第1
基板44と第2基板48間の接着剤層46に存在する空
気トラップが除去されて、空気トラップによるディスク
の平面度低下を防止することが可能である。また、ディ
スク全面を均一な高圧力によりさらに加圧すると、ディ
スクの平面性を一層向上させることができる。
スクを例としてあげているが、光ディスクに限らず、薄
膜状の物体すなわち薄膜を任意の平坦な物体すなわちタ
ーゲットに接着することに利用することができる。
接着方法及びそれを利用した光ディスクの接着方法並び
にその装置においては、薄膜接合時に流体または磁力を
有する流体を利用した押圧力が、時間の経過に連れディ
スクの中心部から外周縁側に螺旋状に進むように加えら
れるので、接着剤層に存在する空気トラップを效果的に
除去して、空気トラップによるディスクの平面度低下を
防止し得るという効果がある。
形態を示した断面概略図である。
方法を示したフローチャートである。
形態を示した断面概略図である。
方法の1実施形態を示したフローチャートである。
方法の他の実施形態を示したフローチャートである。
収差の基板厚さに対する依存性を示したもので、(A)
は、基板が厚い場合、(B)は、基板が薄い場合、をそ
れぞれ示した模式図である。
るために提案された光ディスクの構造を示した概略図で
ある。
概略図である。
たフローチャートである。
1基板、46:接着剤、48:第2基板、50、64:
第1ノズル、52、66:第2ノズル、54:電磁石、
56:ガイドレール。
Claims (16)
- 【請求項1】 任意のターゲットの表面に接着剤を利用
して薄膜を接着させる方法であって、 (A)ターゲットの表面に接着剤を塗布し、薄膜を前記
接着剤上に載せる段階と、 (B)前記ターゲットの表面及び薄膜に、圧力を時間の
経過に連れ薄膜とターゲットの表面の中心部から外周縁
側に加えながらそれら間の接着を漸次的に進行させる段
階と、 (C)前記接着剤を硬化させる段階と、を包含すること
を特徴とする薄膜接着方法。 - 【請求項2】 前記(B)段階は、 (B1)前記薄膜上に磁性微粒子を含む磁性懸濁液を塗
布する段階と、 (B2)前記ターゲットの表面及び薄膜を回転させなが
ら、前記ターゲットの表面の下部に隣接して位置されて
直径方向に移動可能に設置された磁力発生手段によって
時勢微粒子との間で発生する押圧力を、前記薄膜及びタ
ーゲットの表面の中心部から外周縁側に直線的に移動さ
せながらそれら間の接着を漸次的に進行させる段階と、 (B3)前記塗布された磁性懸濁液を除去する段階と、
を包含することを特徴とする請求項1記載の薄膜接着方
法。 - 【請求項3】 前記(B)段階は、 (B1)前記ターゲットの表面及び薄膜を高速回転させ
ながら、それらの直径方向に移動可能に設置された流体
供給手段を利用して、流体圧力を前記薄膜及びターゲッ
トの表面の上面中心部から外周縁側に加えて前記接着を
漸次的に進行させる段階を包含することを特徴とする請
求項1記載の薄膜接着方法 - 【請求項4】 第1基板上に薄膜を接着させる光ディス
クの接着方法であって、 (A)第1基板上に接着剤を介して薄膜を載せる段階
と、 (B)前記第1基板及び該第1基板に載せられた薄膜を
回転させながら、圧力を時間の経過に連れ前記第1基板
及び薄膜の中心部から外周縁側に加えて、それら間の接
合を螺旋状に進行させる段階と、 (C)前記接着剤を硬化させる段階と、 を包含することを特徴とする光ディスクの薄膜接着方
法。 - 【請求項5】 前記(B)段階は、 (B1)前記薄膜上に磁性微粒子を含む磁性懸濁液を塗
布する段階と、 (B2)前記薄膜及び第1基板を回転させながら、前記
第1基板の下部に隣接して位置されて直径方向に移動可
能に設置された磁力発生手段によって磁性微粒子との間
に発生する押圧力を、前記薄膜及び第1基板の中心部か
ら外周縁側に直線的に移動させることによってそれら間
の接着を漸次的に進行させる段階と、 (B3)前記磁性懸濁液を除去する段階と、 を包含することを特徴とする請求項4記載の光ディスク
の薄膜接着方法。 - 【請求項6】 前記(B)段階は、 (B1)前記第1基板及び薄膜を高速回転させながら、
それらの直径方向に移動可能に設置された流体供給手段
を利用して、流体圧力を前記薄膜及び第1基板の上面中
心部から外周縁側に加えることによってそれら間の接着
を漸次的に進行させる段階を包含することを特徴とする
請求項4記載の光ディスクの薄膜接着方法。 - 【請求項7】 前記第1基板及び薄膜が所定線速度を維
持するように回転されることを特徴とする請求項6記載
の光ディスクの薄膜接着方法。 - 【請求項8】 前記流体圧力源として、空気が利用され
ることを特徴とする請求項6記載の光ディスクの薄膜接
着方法。 - 【請求項9】 前記流体圧力源として、窒素が利用され
ることを特徴とする請求項6記載の光ディスクの薄膜接
着方法。 - 【請求項10】 前記第1基板上に載せられる薄膜に
は、別々の工程により前記接着剤層が均一に塗布される
ことを特徴とする請求項4記載の光ディスクの薄膜接着
方法 - 【請求項11】 回転力を発生する駆動モータに一体に
結合された回転軸と、 前記回転軸の一端に結合され、上面に厚い第1基板を載
せることができるディスク支持部と、 前記ディスク支持部に載せられた前記第1基板の上面に
接着剤を供給するために、前記ディスク支持部の上側に
配置された第1ノズルと、 前記接着剤を介して前記第1基板上に載せられる薄膜
に、圧力を時間の経過に連れ前記第1基板及び薄膜の中
心部から外周縁側に加えて、それら間の接着を螺旋状に
進行させる圧力供給手段と、を備えて構成されることを
特徴とする光ディスクの薄膜接着装置。 - 【請求項12】 前記圧力供給手段は、 前記薄膜上に磁性微粒子を含む磁性懸濁液を供給するた
めの第2ノズルと、 前記第1基板の下部に隣接して移動可能に設置されて、
磁性押圧力を回転する前記第1基板と薄膜間に印加する
ための磁力発生手段と、 前記磁力発生手段が前記第1基板の直径方向に移動でき
るように案内するガイドレールと、により構成されるこ
とを特徴とする請求項11記載の光ディスクの薄膜接着
装置。 - 【請求項13】 前記圧力供給手段は、 前記薄膜上に、その直径方向に移動可能に設置されて、
流体圧力を高速回転する前記薄膜の上面中心部から外周
縁側に加えるための第2ノズルを具備することを特徴と
する請求項11記載の光ディスクの薄膜接着装置。 - 【請求項14】 前記駆動モータは、前記第1基板及び
薄膜に前記流体圧力を印加するとき、前記ディスク支持
部が所定線速度を維持するように回転することを特徴と
する請求項11記載の光ディスクの薄膜接着装置。 - 【請求項15】 前記流体圧力源として、空気が利用さ
れることを特徴とする請求項13記載の光ディスクの薄
膜接着装置。 - 【請求項16】 前記流体圧力源として、窒素が利用さ
れることを特徴とする請求項13記載の光ディスクの薄
膜接着装置。
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