JP2002241126A - アルミニウムに富むafiゼオライトの合成 - Google Patents

アルミニウムに富むafiゼオライトの合成

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sio
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チシャン・フオ
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 アルミノシリケートゼオライト、一層特にア
ルミニウムに富む(低シリカ)AFI及びGMEゼオラ
イトの合成及び用途を提供する。 【解決手段】 SiO2/Al23比が約10以下であ
る低シリカAFIゼオライト及び高純度グメリナイトゼ
オライト。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルミノシリケー
トゼオライト、一層特にアルミニウムに富む(低シリ
カ)AFI及びGMEゼオライトの合成及び用途に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ゼオライトは、シリケート格子を有する
モレキュラーシーブである。それらは、可変組成を有す
ることができかつチャンネル(くびれ)及び/又はケー
ジ(かご)を有する三次元構造を特徴とする微孔質の結
晶性物質であるのが典型的である。ケイ素(SiO4
又はアルミニウム(AlO4)四面体がゼオライト骨組
を組み立てる。
【0003】ゼオライトは、互いにそれらの組成及び構
造によって区別され、それらの組成及び構造は、それら
の物理的及び化学的性質並びにそれらが有用になる用途
を決める。3文字からなる構造符号が各々のゼオライト
に割り当てられるのが典型的である。例えば、FAUは
ゼオライトXについての構造符号であり、GMEはグメ
リナイトについての構造符号であり、AFIはAlPO
4−5モレキュラーシーブについての構造符号である。
【0004】多くのゼオライトは、骨組のゆがみを最少
だけにして可逆的に脱水され得る。ゼオライトの熱安定
性は、カチオン形態に依存することが示されてきた。例
えば、CHA−(チャバザイト)及びEAB−TMA−
E(AB)タイプゼオライト(それぞれAABBCC及
びABBACCの6−環順序を有する)のNa形態は、
乾燥N2中で600℃を越える温度でトポタクタクチカ
ルに(topotactically)変換してSOD
タイプ(ソーダライト)になる。この変換の温度は、A
l含量、プロトンの数、及び存在する水の量に大きく依
存する。水との接触反応において2つのT’−O−Tブ
リッジを破壊することによって、残留するT’−O−T
ブリッジの回りでT’を旋回させると、T’O4四面体
(ここで、T’はSi又はAlであり、TはSi又はA
lである)を逆転するに至る。一つの注目すべき観測
は、K交換されたCHA及びEABの8−環部位におけ
るカリウムイオンが、それらのSOD生成物への転換を
妨げることである。対照して、Na交換されたCHA及
びEABは、SOD生成物に転換する。
【0005】グメリナイト(GME)は、主要な特徴が
大きな12−環チャンネルである構造を有する良く知ら
れたアルミノシリケートである。GMEは、天然にミネ
ラルとして存在し、かつまた実験室で合成されることが
できる。CHAの存在しないグメリナイトは、ポリマー
テンプレート合成システムを使用して合成されることが
できる。加えて、細孔の大きなグメリナイトを合成する
別の方法は、Crのような遷移金属をグメリナイト骨組
中に導入するにある。
【0006】グメリナイトゼオライトは、SiO4及び
AlO4の12員環によって規定されるチャンネルを有
する大きな細孔構造を有する。しかし、グメリナイトゼ
オライトの吸着特性は、一層小さい細孔を有するゼオラ
イトに似ている。この理由は、天然及び合成グメリナイ
が、チャバザイト又は関連するゼオライトと互いに交わ
って生長する(intergrow)傾向を有し、グメ
リナイト構造の12−環チャンネルへの接近を妨げる及
び制限する積層欠陥を生じるからである。その結果、ゼ
オライトの期待される収着特性が低下する。これらの欠
陥面を除くと、グメリナイトゼオライトの吸着特性を増
大させそうである。ゼオライトは、良好な吸着剤になる
には、それの合成された又は天然の形態及び活性な形態
の両方で高い結晶化度を有すべきである。
【0007】AFIゼオライトもまた大きな細孔を有す
る12−環構造を有する。これらのアルミノシリケート
物質、特にアルミニウムに富む(低シリカ)物質は、ガ
スを分離及び精製し、イオンを交換させ、無機/有機化
合物を接触転化させ、触媒担体として働かせるのに使用
されてきた。その構造は、空洞の無い比較的円滑なチャ
ンネルを有する12−環によって束縛された一次元の直
径7.5オングストローム細孔システムを含む。Che
vron Research Companyは、N,
N,N−トリメチル−1−アダマンタアンモニウムヒド
ロキシドのような特殊なテンプレートを使用してSSZ
−24として知られる全シリカAFI物質を合成した。
ホウ素−SSZ−24もまた、直接合成によって造られ
た。
【0008】GMEゼオライト構造とAFIゼオライト
構造との間にいくつかの類似が存在する。GME骨組で
は、四面体が上を(U)向きかつ下を(D)向いてい
て、4−環のUUDD鎖に関して一般的に記載されてい
る。例えば、UUDD鎖は、フィリップサイト、ギスモ
ンダイン(gismondine)、グメリナイト、及
びメルリノイト(merlinoite)のゼオライト
骨組中に見出される。
【0009】他方、AFI骨組は、上を向く四面体を有
し、隣接する単位が下を向いている。AFI骨組は、U
DUD構造と記載されることができる。UDUD鎖は、
AlPO−5、AlPO−11、AlPO−25及びA
lPO−D中に見出される。
【0010】ほとんどのUUDD鎖は、シリケート物質
において生じるのに対し、ほとんどのUDUD鎖は、ア
ルミノホスフェート物質中に見出される。これは、何故
SSZ−24が、UDUD鎖ではO原子が4−環に接続
されることから、AlPO−5程に容易に形成しないか
を説明し得る。AlPO−5構造では、Al−O−P角
の内の一つは、178°であると記録された。これは、
シリケート骨組では、望ましくないようである。
【0011】ゼオライト骨組中のアルミニウムイオン
は、過剰の陰電荷を生じ、過剰の陰電荷は、アルカリ金
属(Na、K、Li、Rb及びCs)、アルカリ土類金
属(Mg、Ca、Ba)のイオン、有機アンモニウムカ
チオン、又は水素イオン(H+)によってバランスされ
ることができる。高いアルミニウム含量は、ゼオライト
酸性を増大させ、ゼオライト骨組の陰電荷をバランスす
るのに一層多くのカチオンを要し得る。これは、ゼオラ
イトの触媒特性を高める。
【0012】従来技術の焦点は、主にグメリナイトゼオ
ライトの品質を増大させることにあった。種々のテンプ
レート、反応組成物、及び条件がテストされてきた。グ
メリナイトゼオライトの品質を増大させるために採用さ
れるプロセスについて記載する特許はいくつもあるが、
本発明の方法を開示する特許は無い。
【0013】Kerr等に係る米国特許第4,061,
717号は、陽に荷電された窒素原子を終局的なゼオラ
イトのカチオン部位の内のいくつかを満足させるような
量で含有するアルカリ金属酸化物、シリケート、アルミ
ネート、イオネン又はイオノマーの源を含有する水性反
応混合物中で結晶化される結晶性アルミノシリケートゼ
オライトを合成するプロセスについて開示している。そ
の特許において、Kerrは、1,4−ジブロモブタン
(Dab−4Br)をテンプレートとして使用するグメ
リナイトの合成について記載している。テンプレート
は、通常グメリナイトチャンネルを閉塞するように思わ
れる積層欠陥の数を除く又は減少させる働きをする。
【0014】Vaughan等に係る米国特許第5,2
83,047号は、グメリナイト構造、規定されたX線
回折図によって特性表示された規定された化学組成を有
する合成遷移金属アルミノシリケート結晶性ゼオライト
について教示している。
【0015】Zonesに係る米国特許第4,665,
110号は、アダマンタン化合物をテンプレートとして
使用してゼオライトのような結晶性モレキュラーシーブ
を造ることについて教示している。合成されることがで
きるゼオライトの内の一種は、AFI構造を有するSS
Z−24として知られるAFIゼオライトである。
【0016】Zonesは、後に、B−SSZ−24を
合成後処理することによってAl−SSZ−24を造っ
た(R.A.van Nordstrand,D.S.
Santilli,S.I.Zones,”Almin
um− and Boron−Containing
SSZ−24”,in Synthesis ofMi
croporous Materials,Vol.
1,Molecular sieves(M.L.Oc
celli,H.Robson編集)、1992年、3
73頁、Van Nostrand Reinhol
d、ニューヨーク)。生成したAl−SSZ−24は、
SiO2/Al23比=100の低アルミニウム含量を
有する。
【0017】SSZ−24は、下記のような触媒用途及
び分離において使用されてきた:(1)SSZ−24に
よってナフサを改質する;(2)ホウ素−SSZ−24
によってナフサを接触改質する;(3)高オクタン燃料
の製造に関するSSZ−24によるジメチルパラフィン
のイソメレート(isomerate)からの抽出;
(4)AFI構造を有する物質(SSZ−24、Al−
SSZ−24、B−SSZ−24、AlPO−5及びS
APO−5)は、枝分れ鎖ヘキサンを吸着するために強
い親和力を有する;(5)物質(Al−SSZ−24及
びB−SSZ−24)は、触媒として逆形状選択性を有
する。
【0018】しかし、SSZ−24の触媒、吸着、及び
イオン交換使用効果は、従来技術合成手順から入手可能
な極低アルミニウム含量によって制限される。これは、
有意の欠点及び障害である。
【0019】Cartlidge(S.Cartlid
ge,W.M.Meier,Zeolites,198
4,4,218及びS.Cartlidge,E.B.
Keller,W.M.Meier,Zeolite
s,1984,4,226)は、Na−EAB(ゼオラ
イト)がどのようにしてSODに転移したか及びK−E
ABにおけるカリウムイオンの安定化役割について説明
した。
【0020】しかし、従来技術は、高純度低シリカAF
Iゼオライトを吸着及び触媒用途における可能性のある
使用のためにどのようにして調製するかについて教示し
ていない。その上に、従来技術は、どのようにして高純
度(欠陥の無いかつ互いに交わって生長することの無
い)低シリカグメリナイトゼオライト(GME)からテ
ンプレートを、GME構造を変えないで取り去るかにつ
いて教示していない。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】発明の目的は、高いN
2/O2選択性を有する低シリカグメリナイトゼオライト
吸着剤を合成するにある。
【0022】発明の別の目的は、低シリカAFIゼオラ
イト触媒を合成するにある。
【0023】発明のなお別の目的は、低シリカAFIゼ
オライト吸着剤を合成するにある。
【0024】発明の更になお別の目的は、高純度低シリ
カグメリナイトゼオライトを合成するにある。
【0025】発明の更になお別の目的は、SiO2/A
23比が約10以下である高純度グメリナイトゼオラ
イトを提供するにある。
【0026】発明の別の目的は、テンプレートを持たな
いグメリナイトゼオライトを調製するにある。
【0027】
【課題を解決するための手段】これらやその他の目的
は、SiO2/Al23比が約10以下であるAFIゼ
オライトを含む、本発明によって達成される。
【0028】本発明は、また、SiO2/Al23比が
約10以下である高純度グメリナイトゼオライトも含
む。
【0029】
【発明の実施の形態】従来、SiO2/Al23比が低
いAFIトポグラフィーを示すゼオライトは、触媒又は
吸着用途用に入手可能でなかった。そのような多孔質ゼ
オライトを合成しようとする従来技術の試みは、うまく
いかなかった。
【0030】本発明は、SiO2/Al23比が約10
以下である、AFIトポグラフィーを有する低シリカゼ
オライトを提供する。SiO2/Al23の比は、約2
〜約10であるのが好ましく、約2〜約5であるのが一
層好ましい。
【0031】低シリカAFIゼオライトは、グメリナイ
トゼオライトをAFIゼオライトに変換させることによ
って合成する。その方法は、第四アンモニウムテンプレ
ートを有するM−グメリナイトを焼成してM−グメリナ
イトから第四アンモニウムテンプレートを除き、それに
よりM−グメリナイトをM−AFIゼオライトに変換さ
せる(ここで、Mは、Na、Li、Ca、Ba、及びM
gからなる群より選ぶ)工程を含む。
【0032】グメリナイトゼオライトを焼成すること
は、グメリナイトを高純度M−グメリナイトか又はM−
AFI(ここで、Mは、Na、Li、Ca、Ba、及び
Mgからなる群によって定義する)のいずれかに変換さ
せる多形性の相転移をもたらすために必須である。ゼオ
ライト物質を加熱してそれの融点よりも低い温度にして
相転移をもたらすのが典型的である。これは、N2又は
空気環境下で行っても又は行わなくてもよい。本発明の
方法では、焼成を温度約100°〜約700℃で行う。
その温度は、約300°〜約600℃であるのが好まし
い。MがNa、Li、Ca、Ba、又はMgである時
は、グメリナイトは、第四アンモニウムテンプレートを
除くことによってAFIゼオライトに変換する。
【0033】加えて、その方法は、更に、第四アンモニ
ウムテンプレートを有するNa−グメリナイトゼオライ
トを提供する工程を含むことができる。
【0034】Na−AFIゼオライトを製造するには、
第四アンモニウムテンプレートを有するNa−グメリナ
イトゼオライトを焼成する。これは、テンプレートを除
き、Na−グメリナイトの構造をNa−AFIゼオライ
トに変換させる。Na−グメリナイトゼオライトの純度
に応じて、イオン交換工程を含んでも又は含まなくても
よい。
【0035】それ以上の実施態様では、イオン交換工程
を含んでよい。イオン交換工程は、第四アンモニウムテ
ンプレートを有するNa−グメリナイトから、Naイオ
ンを他のカチオンに替える。Naイオンを他のRイオン
に替え、それにより第四アンモニウムテンプレートを有
するR−グメリナイトを形成する(ここで、Rは、L
i、Ca、Ba、及びMgからなる群より選ぶ)のが好
ましい。この工程は、80°〜100℃の水溶液によっ
て行うのが典型的である。交換すべき無機カチオンの混
合物のモル濃度は、少なくとも10%であるのが好まし
い。
【0036】新規なAFI物質は、低シリカ骨組を有
し、SSZ−24の触媒的使用効果を増進させることに
なる。AFI構造は、他の知られている12−環ゼオラ
イトと実施的に異なる。それは、他の12−環チャンネ
ル低シリカゼオライトと同様の性質を振る舞いかつ示
し、有機及び無機化合物に関する触媒作用、吸着及び分
離プロセスにおいて有用であることが期待される。モル
デナイト、オフレタイト、グメリナイト、カンクリナイ
ト(cancrinite)、マジット(mazzit
e)、及びリンデ(Linde)Lのような12−環チ
ャンネルを含有するゼオライトは、すでに重要な触媒的
性質を有し、異性化(モルデナイト及びマジット)、脱
蝋(モルデナイト及びオフレタイト)、並びに芳香族化
(aromation)又は改質(リンデL)のような
プロセスにおいて有用にする。本発明のAFIゼオライ
トは、同様の用途において使用することができる可能性
がある。加えて、低シリカAFIゼオライトは、また、
プレッシャースイング吸着(PSA)空気分離用途にお
いて使用を見出すことができる。
【0037】AFI又はGMEトポグラフィーを有する
低シリカゼオライトの合成は、ポリマーテンプレートを
有しかつ熱不安定なNa−グメリナイトゼオライトで開
始する。Na−グメリナイトは、種々の方法で合成する
ことができる。好適な実施態様では、Na−グメリナイ
トは、ポリマー第四アンモニウムテンプレート合成シス
テムを穏和な条件下で温度約80°〜100℃において
使用して合成する。Naイオンを80°〜100℃の水
溶液中で交換して他のR−グメリナイト(R=Li、C
a、Ba、及びMg)を形成する。
【0038】ポリマー第四アンモニウムテンプレートで
あるDab−4Brは、1,4−ジアザビシクロ[2.
2.2]オクタン(DABCO)をBr(CH2)4B
rと室温で30日間反応させ、次いで、それをナトリウ
ムアルミネート溶液に溶解することによって合成するこ
とができる。次に、シリカ含有溶液をこの溶液に加えて
ゲルを形成する。この反応性ゲルを80°〜100℃で
3〜20日間加熱した。次いで、内容物をろ過し、洗浄
しかつ乾燥させた。生成する生成物はNa−グメリナイ
トであり、これはX線回折(XRD)分析によって確認
することができる。また、当分野で知られている他の方
法を使用してもよい。加えて、イオン交換工程を実施し
てNaカチオンを他のカチオンに替えることができる。
【0039】本発明は、また、SiO2/Al23比が
約10以下である高純度グメリナイトゼオライトも含
む。SiO2/Al23の比は、約2〜約10であるの
が好ましく、約5であるのが一層好ましい。
【0040】本発明の高純度GMEゼオライトは、第四
アンモニウムテンプレートを有するK−グメリナイトを
焼成して第四アンモニウムテンプレートを除き、それに
より高純度K−グメリナイトを形成する工程を含む方法
によって合成することができる。
【0041】本発明者等は、第四アンモニウムテンプレ
ートを有するK−グメリナイトを焼成して高純度K−グ
メリナイトゼオライトを形成することができることを見
出した。Kは。グメリナイト構造を安定化し、K−グメ
リナイトゼオライトを焼成する工程は、グメリナイト
を、第四アンモニウムテンプレートを除くことによっ
て、高純度K−グメリナイトに変換させる。ゼオライト
物質を加熱してそれの融点よりも低い温度にして相転移
をもたらす。これは、N2又は空気環境下で行っても又
は行わなくてもよい。焼成を温度約100°〜約700
℃で行う。その温度は、約300°〜約600℃である
のが好ましい。
【0042】高純度のグメリナイトゼオライトを合成す
る方法は、更に、(a)第四アンモニウムテンプレート
を有するNa−グメリナイトゼオライトを供し;及び
(b)第四アンモニウムテンプレートを有するNa−グ
メリナイトから、NaイオンをKイオンでイオン交換
し、それにより第四アンモニウムテンプレートを有する
K−グメリナイトを形成する工程を含み、工程(a)及
び(b)を実施した後に焼成工程を実施してよい。
【0043】加えて、第二イオン交換工程を、焼成工程
の後に、実施してよい。これは、高純度K−グメリナイ
トを他のカチオン形態に転化させる。イオン交換工程を
使用してKイオンをQイオンに替えてQ−グメリナイト
を形成する(ここで、Qイオンは、Na、Li、Ca、
Ba、及びMgからなる群より選ぶ)のが好ましい。
【0044】生成した高純度のグメリナイトの結晶純度
は、少なくとも約95%であり、約100%であるのが
好ましい。
【0045】新規に形成された高純度のグメリナイトゼ
オライトは、多孔度及び安定性の増大を示す。高純度の
グメリナイトゼオライトは、流体混合物を分離するため
の吸着剤としてかつ有機変換用の接触用途において有用
になることが期待される。
【0046】粉末X−線回折技術を用いて合成の間のゼ
オライト物質の変化を評価した。図1において、トレー
スは、原子の広範囲の順序(ordering)に相当
する特定の回折角における信号を示す。トレースを基準
図と比べて特定の骨組トポロジーを同定した。加えて、
個々の信号の強さ及び幅の広さを基準図に対して比較し
て、サンプル純度の指標をもたらした。
【0047】本発明を例示するために、下記の例を挙げ
る。本発明は、記載する例によって制限されないことを
理解すべきである。
【0048】
【実施例】例1 高品質Na−グメリナイトの合成 Dab−4Br5.42:Al231:Na2O16.
7:SiO230:H2O570を有するゲル組成物を下
記の通りにして調製した。初めに、水酸化アルミニウム
水和物(Al2354%、Aldrich)をNaOH
の溶液に溶解することによって、アルミン酸ナトリウム
溶液(Al230.4モル/kg及びNaOH4モル/
kg)を造った。アルミン酸ナトリウム溶液25.0g
とテンプレートDab−4Br溶液(16.4重量%)
54.2gとを混合し、次いでケイ酸ナトリウム溶液
(SiO227%、NaOH14%、Aldrich)
66.6gを加えた。反応混合物を室温で5分間撹拌
し、テフロン(登録商標)ボトルに入れ、空気対流炉中
で80℃において12日間反応させた。生成物をろ過
し、水で洗浄しかつ炉中で100℃において乾燥させ
た。XRD分析は、Na−グメリナイトが、それの特徴
的な信号、不純物ピークがなく、かつベースラインが低
い(図1を参照)ことに基づいて優れた品質を有するこ
とを示した。元素分析は、SiO2/Al23の比=
4.6を示した。最終生成物は、また、有機テンプレー
トから出た有機種も含有していた。
【0049】例2 Li−GMEの合成 例1に記載する通りにして調製したNa−グメリナイの
サンプルを、KOH2モル/kg及びKCl 1モル/
kgを含有する水溶液と90℃において1日間接触させ
ることによって、処理した。交換すべき無機カチオンの
混合物のモル濃度は、少なくとも10%でなければなら
ないことが予期される。この特定の場合では、カリウム
のモル濃度は、少なくとも10%である。このイオン交
換プロセスを、3度続けて繰り返した。KOHは、非晶
質及びその他の不純物を溶解することことができるの
で、KOHを使用することは随意であるが、望ましいこ
とである。生成物をろ過し、水で洗浄し、かつ炉中で1
00℃において乾燥させた。XRD分析は、K−交換さ
れたグメリナイトが、それの特徴的な信号、不純物ピー
クがなく、かつベースラインが低い(図1Bを参照)こ
とに基づいて高い品質であることを示した。
【0050】K−交換されたグメリナイトを空気中で5
00℃において5時間焼成して有機テンプレートを除い
た。XRD分析は、生成物がグメリナイトであることを
確認した(図1Cを参照)。
【0051】K−グメリナイの焼成されたサンプルを、
LiCl 2モル/kg及びpH=9.6を含有する水
溶液と3度続けて80℃において1日間接触させること
によって、処理した。生成物をろ過し、水で洗浄し、か
つ炉中で100℃において乾燥させた。XRD分析は、
特徴的な信号、不純物ピークがなく、かつベースライン
が低い(図1Dを参照)ことに基づいて優れたグメリナ
イトであることを示した。
【0052】例3 AFIの合成 例1に記載する通りにして調製したグメリナイのサンプ
ルを、空気中で500℃において5時間焼成した。XR
D分析は、生成物がAFI構造を有することを示した
(図1E)。加熱速度は、有意の影響を与えない。
【0053】例4 AFIの代わりの調製 例1に記載する通りにして調製したグメリナイのサンプ
ルを、LiCl 2モル/kg及びpH=9.6を含有
する水溶液と3度続けて90℃において1日間接触させ
ることにより、処理することによってイオン交換した。
生成物をろ過し、水で洗浄し、かつ炉中で100℃にお
いて乾燥させた。XRD分析は、高品質のグメリナイト
を示した。
【0054】Li−交換されたグメリナイトを空気中で
500℃において5時間焼成した。XRD分析は、生成
物がAFI構造を有することを示した。
【0055】Ba、Ca、及びMgイオン交換されたグ
メリナイサンプルを、上記のLi−交換されたグメリナ
イトを調製するために記載した一般的な方法を使用する
ことによって調製した。すべての場合において、焼成さ
れた生成物は、AFI構造を有する。
【0056】発明を発明の特定の実施態様を参照して上
に説明したが、多くの変更、変更態様及び変形を本明細
書中に開示する発明の概念から逸脱しないでなすことが
できることは明らかである。よって、特許請求の範囲に
記載する精神及び広い範囲内に入るそのような変更、変
更態様及び変形をすべて包含することを意図する。本明
細書中に引用する特許出願、特許及びその他の刊行物
を、すべて全体を本明細書中に援用する。
【図面の簡単な説明】
【図1】種々のゼオライトの合成する間のX−線回折分
析の結果を示すグラフ的プリントアウトである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 SiO2/Al23比が10以下である
    低シリカAFIゼオライト。
  2. 【請求項2】 SiO2/Al23比が10以下である
    シリカAFIゼオライトを合成する方法であって、下
    記:第四アンモニウムテンプレートを有するM−グメリ
    ナイトを焼成し、それにより該M−グメリナイトをM−
    AFIゼオライトに変換させる(ここで、Mは、Na、
    Li、Ca、Ba、及びMgからなる群より選ぶ)工程
    を含む方法。
  3. 【請求項3】 下記:SiO2/Al23比が10以下
    である低シリカAFIゼオライトを供する工程;及び無
    機又は有機化合物を該低シリカAFIゼオライトの存在
    において反応させる工程を含む無機又は有機化合物を接
    触変換させる方法。
  4. 【請求項4】 下記:SiO2/Al23比が10以下
    である低シリカAFIゼオライトを供する工程;及び流
    体を該低シリカAFIゼオライトを通過させる工程を含
    む流体混合物を分離する方法。
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