JP2002228959A - マルチビーム合成走査記録装置 - Google Patents
マルチビーム合成走査記録装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】複数の光ビームの走査間隔を自動的に調整でき
るマルチビーム合成走査記録装置を提供する。 【解決手段】レーザダイオードＬＤ１、ＬＤ２、これら
ＬＤ１、ＬＤ２からの光ビームのコリメータレンズ７、
８、ＬＤ２からの光ビームの偏光方向を変えるλ／２板
５、ＬＤ１、ＬＤ２からの光軸合わせ用偏光ビームスプ
リッタ６、偏光ビームスプリッタ６からの光ビームを走
査感材面１３に結像させるシリンドリカルレンズ１０、
１２、ポリゴンミラー９、ｆθレンズ１１等からなる結
像光学系および２個の中空マイクロステップモータ３
０、３１にウエッジプリズム１６を実装し、結像面に位
置調整スリットユニット３３を配置し、ＬＤ２から出る
光ビームを走査方向と直交する副走査方向に自動的に偏
向する。
るマルチビーム合成走査記録装置を提供する。 【解決手段】レーザダイオードＬＤ１、ＬＤ２、これら
ＬＤ１、ＬＤ２からの光ビームのコリメータレンズ７、
８、ＬＤ２からの光ビームの偏光方向を変えるλ／２板
５、ＬＤ１、ＬＤ２からの光軸合わせ用偏光ビームスプ
リッタ６、偏光ビームスプリッタ６からの光ビームを走
査感材面１３に結像させるシリンドリカルレンズ１０、
１２、ポリゴンミラー９、ｆθレンズ１１等からなる結
像光学系および２個の中空マイクロステップモータ３
０、３１にウエッジプリズム１６を実装し、結像面に位
置調整スリットユニット３３を配置し、ＬＤ２から出る
光ビームを走査方向と直交する副走査方向に自動的に偏
向する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は記録装置、特に複数
の光（レーザ）ビームを所定の感光感材上に同時に集光
させて感光感材を露光するために使用するマルチビーム
合成走査記録装置に関する。
の光（レーザ）ビームを所定の感光感材上に同時に集光
させて感光感材を露光するために使用するマルチビーム
合成走査記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のマルチビーム合成記録装置とし
て、例えば特開平９−１９７３１０号公報の「マルチビ
ーム走査装置」等に開示された技術が知られている。図
３は、この従来のマルチビーム走査装置の構成を示す。
また、図４は、図３中のビームスプリッタの詳細構成を
示す。このマルチビーム走査装置は、発光手段として２
個のレーザダイオードＬＤ１１、ＬＤ１２、コリメータ
レンズ１０７、１０８、λ／２板１０５、偏光ビームス
プリッタ１０６、角度変位調整ユニット１１４、シリン
ドリカル（筒状）レンズ１１０、１１２、ポリゴン（多
角形）ミラー１０９、ｆθレンズ１１１等により構成さ
れる。レーザダイオードＬＤ１１、ＬＤ１２からの光ビ
ームは、コリメータレンズ１０７、１０８によって、そ
れぞれ平行光束となる。ここで、レーザダイオードＬＤ
１１からの光ビーム１０３を、Ｐ波としてλ／２板１０
５に入射し、λ／２板１０５により偏光方向が９０°変
えられてＳ波として出射され、偏光ビームスプリッタ１
０６に入射される。また、レーザダイオードＬＤ１２か
らの光ビーム１０４は、Ｐ波として偏光ビームスプリッ
タ１０６に入射される。
て、例えば特開平９−１９７３１０号公報の「マルチビ
ーム走査装置」等に開示された技術が知られている。図
３は、この従来のマルチビーム走査装置の構成を示す。
また、図４は、図３中のビームスプリッタの詳細構成を
示す。このマルチビーム走査装置は、発光手段として２
個のレーザダイオードＬＤ１１、ＬＤ１２、コリメータ
レンズ１０７、１０８、λ／２板１０５、偏光ビームス
プリッタ１０６、角度変位調整ユニット１１４、シリン
ドリカル（筒状）レンズ１１０、１１２、ポリゴン（多
角形）ミラー１０９、ｆθレンズ１１１等により構成さ
れる。レーザダイオードＬＤ１１、ＬＤ１２からの光ビ
ームは、コリメータレンズ１０７、１０８によって、そ
れぞれ平行光束となる。ここで、レーザダイオードＬＤ
１１からの光ビーム１０３を、Ｐ波としてλ／２板１０
５に入射し、λ／２板１０５により偏光方向が９０°変
えられてＳ波として出射され、偏光ビームスプリッタ１
０６に入射される。また、レーザダイオードＬＤ１２か
らの光ビーム１０４は、Ｐ波として偏光ビームスプリッ
タ１０６に入射される。
【０００３】図４に示す偏光ビームスプリッタ１０６
は、Ｓ波を透過し、Ｐ波を反射するよう構成されてい
る。このため、レーザダイオードＬＤ１１からの光ビー
ム１０３は、偏光ビームスプリッタ１０６を通過する。
その後、光ビーム１０３は、シリンドリカルレンズ１１
０を通過し、また光偏向器として使用されるポリゴンミ
ラー１０９に入射する。そして、この光ビーム１０３
は、ポリゴンミラー１０９の面で反射し、ｆθレンズ１
１１を通り、更に結像面上での倒れ補正用のシリンドリ
カルレンズ１１２を通過して、感光材Ｐの走査感材面１
１３に結像する。
は、Ｓ波を透過し、Ｐ波を反射するよう構成されてい
る。このため、レーザダイオードＬＤ１１からの光ビー
ム１０３は、偏光ビームスプリッタ１０６を通過する。
その後、光ビーム１０３は、シリンドリカルレンズ１１
０を通過し、また光偏向器として使用されるポリゴンミ
ラー１０９に入射する。そして、この光ビーム１０３
は、ポリゴンミラー１０９の面で反射し、ｆθレンズ１
１１を通り、更に結像面上での倒れ補正用のシリンドリ
カルレンズ１１２を通過して、感光材Ｐの走査感材面１
１３に結像する。
【０００４】一方、レーザダイオードＬＤ１２から出射
されたビーム１０４は、コリメータレンズ１０８にて平
行光束とされた後に、角度変位調整ユニット１１４を通
過して微小角度だけ光軸よりずれた状態で、偏光ビーム
スプリッタ１０６の入射面にＰ波として入射する。偏光
ビームスプリッタ１０６は、光ビーム１０４を反射面で
反射する。その後は、光ビーム１０３と同じ光路を通
り、シリンドリカルレンズ１１０を透過し、ポリゴンミ
ラー１０９の面で反射した後に、ｆθレンズ１１１とシ
リンドリカルレンズ１１２を通過して上述した走査感材
面１１３に結像する。
されたビーム１０４は、コリメータレンズ１０８にて平
行光束とされた後に、角度変位調整ユニット１１４を通
過して微小角度だけ光軸よりずれた状態で、偏光ビーム
スプリッタ１０６の入射面にＰ波として入射する。偏光
ビームスプリッタ１０６は、光ビーム１０４を反射面で
反射する。その後は、光ビーム１０３と同じ光路を通
り、シリンドリカルレンズ１１０を透過し、ポリゴンミ
ラー１０９の面で反射した後に、ｆθレンズ１１１とシ
リンドリカルレンズ１１２を通過して上述した走査感材
面１１３に結像する。
【０００５】図５および図６に示す如く、角度変位調整
ユニット１１４は、２枚のウエッジプリズム１１６によ
り構成されている。そして、互いの頂角を打ち消すよう
に、光ビームが直進する位置を原点とし、２枚のウエッ
ジプリズム１１６を逆方向で回転させることができる構
成となっている。この角度変位調整ユニット１１４の２
枚のウエッジプリズム１１６は、それぞれラック歯車１
１７が加工されたホルダ１１８に実装される。２枚のウ
エッジプリズム１１６の間には、ピニオン歯車１１９が
垂直に取り付けられおり、各ラック歯車１１７と連動す
るよう構成されている。更に、ピニオン歯車１１９は、
調整つまみ１２０に連動する歯車１２１と連結してい
る。この角度変位調整ユニット１１４の調整つまみ１２
０を回転することで、感光材Ｐ上におけるレーザダイオ
ードＬＤ１１、ＬＤ１２による走査線の間隔を自由に選
定できる。
ユニット１１４は、２枚のウエッジプリズム１１６によ
り構成されている。そして、互いの頂角を打ち消すよう
に、光ビームが直進する位置を原点とし、２枚のウエッ
ジプリズム１１６を逆方向で回転させることができる構
成となっている。この角度変位調整ユニット１１４の２
枚のウエッジプリズム１１６は、それぞれラック歯車１
１７が加工されたホルダ１１８に実装される。２枚のウ
エッジプリズム１１６の間には、ピニオン歯車１１９が
垂直に取り付けられおり、各ラック歯車１１７と連動す
るよう構成されている。更に、ピニオン歯車１１９は、
調整つまみ１２０に連動する歯車１２１と連結してい
る。この角度変位調整ユニット１１４の調整つまみ１２
０を回転することで、感光材Ｐ上におけるレーザダイオ
ードＬＤ１１、ＬＤ１２による走査線の間隔を自由に選
定できる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この角度変位
調整ユニット１１４では、実際にウエッジプリズム１１
６の微小角度の製造が難しく且つ非常に高価なものとな
る。また、ラック／ピニオン歯車１１７、１１９で構成
されているため、ギヤ間のバックラッシュを取り除くこ
とが困難で調整等に時間がかかる。更に、新聞社で使用
される複数線密度対応は自動でできなかった。
調整ユニット１１４では、実際にウエッジプリズム１１
６の微小角度の製造が難しく且つ非常に高価なものとな
る。また、ラック／ピニオン歯車１１７、１１９で構成
されているため、ギヤ間のバックラッシュを取り除くこ
とが困難で調整等に時間がかかる。更に、新聞社で使用
される複数線密度対応は自動でできなかった。
【０００７】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、安価なウエッ
ジプリズムを使用し、機構的ガタをなくし且つ各線密度
においても自由自在に走査間隔を変えて安定したビーム
間隔を保持することが可能なマルチビーム合成走査記録
装置を提供することである。
ジプリズムを使用し、機構的ガタをなくし且つ各線密度
においても自由自在に走査間隔を変えて安定したビーム
間隔を保持することが可能なマルチビーム合成走査記録
装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のマルチビーム合
成走査記録装置は、それぞれ光ビームを出力する複数の
発光手段と、進行方向の異なる複数の光ビームの光軸合
わせをする合成手段と、この光軸合わせされた複数の光
ビームを偏向する偏向手段と、この偏向された複数の光
ビームを被走査面に結像させる結像手段とを含む記録装
置であって、更に複数の光ビームの少なくとも１つを走
査方向と直交する副走査方向に偏向する中空マイクロス
テップモータと、この副走査方向に移動した量を測定す
る測定手段として位置調整スリットユニットとを備え
る。
成走査記録装置は、それぞれ光ビームを出力する複数の
発光手段と、進行方向の異なる複数の光ビームの光軸合
わせをする合成手段と、この光軸合わせされた複数の光
ビームを偏向する偏向手段と、この偏向された複数の光
ビームを被走査面に結像させる結像手段とを含む記録装
置であって、更に複数の光ビームの少なくとも１つを走
査方向と直交する副走査方向に偏向する中空マイクロス
テップモータと、この副走査方向に移動した量を測定す
る測定手段として位置調整スリットユニットとを備え
る。
【０００９】また、本発明のマルチビーム合成走査記録
装置の好適実施形態によると、中空マイクロステップモ
ータは、それぞれウエッジプリズムを組み合わせた２対
設け、ウエッジプリズムは、中空マイクロステップモー
タを回転して偏向量を調整する。位置調整スリットユニ
ットは、発光手段からの光が入射する倍率変換レンズ
と、この倍率変換レンズからの光が横切るスリットと、
このスリットを移動する移動手段と、スリットを通過し
た光量を検出するフォトディテクタセンサとを備える。
スリットの移動手段としてステッピングモータを使用す
る。倍率変換レンズは、結像面を約３〜５倍に拡大させ
る。スリットは、約２０〜３０μｍの幅を有する。中空
マイクロステップモータおよび位置調整スリットユニッ
トのステッピングモータは、位置調整制御ユニット部に
より制御される。
装置の好適実施形態によると、中空マイクロステップモ
ータは、それぞれウエッジプリズムを組み合わせた２対
設け、ウエッジプリズムは、中空マイクロステップモー
タを回転して偏向量を調整する。位置調整スリットユニ
ットは、発光手段からの光が入射する倍率変換レンズ
と、この倍率変換レンズからの光が横切るスリットと、
このスリットを移動する移動手段と、スリットを通過し
た光量を検出するフォトディテクタセンサとを備える。
スリットの移動手段としてステッピングモータを使用す
る。倍率変換レンズは、結像面を約３〜５倍に拡大させ
る。スリットは、約２０〜３０μｍの幅を有する。中空
マイクロステップモータおよび位置調整スリットユニッ
トのステッピングモータは、位置調整制御ユニット部に
より制御される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明によるマルチビーム
合成走査記録装置の好適実施形態の構成および動作を、
添付図面を参照して詳細に説明する。
合成走査記録装置の好適実施形態の構成および動作を、
添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１１】先ず、図１は、本発明によるマルチビーム
合成走査記録装置の好適実施形態の光学系概略を示す斜
視図である。図１に示すマルチビーム合成走査記録装置
は、発光手段として２個のレーザダイオード（発光手
段）ＬＤ１、ＬＤ２、コリメータレンズ７、８、λ／２
板５、偏光ビームスプリッタ６、２個の中空マイクロス
テップモータ３０、３１、シリンドリカルレンズ１０、
ポリゴンミラー（偏向手段）９、ｆθレンズ１１と、副
走査方向に移動した量の測定手段として位置調整スリッ
トユニット３３等により構成される。
合成走査記録装置の好適実施形態の光学系概略を示す斜
視図である。図１に示すマルチビーム合成走査記録装置
は、発光手段として２個のレーザダイオード（発光手
段）ＬＤ１、ＬＤ２、コリメータレンズ７、８、λ／２
板５、偏光ビームスプリッタ６、２個の中空マイクロス
テップモータ３０、３１、シリンドリカルレンズ１０、
ポリゴンミラー（偏向手段）９、ｆθレンズ１１と、副
走査方向に移動した量の測定手段として位置調整スリッ
トユニット３３等により構成される。
【００１２】レーザダイオードＬＤ１、ＬＤ２からの光
ビームは、コリメータレンズ７、８によって、それぞれ
平行光束となる。ここで、レーザダイオードＬＤ１から
の光ビーム３は、Ｐ波としてλ／２板５に入射し、λ／
２板５により偏光方向が９０°変えられてＳ波として出
射され、偏光ビームスプリッタ６に入射される。また、
レーザダイオードＬＤ２からの光ビーム４は、Ｐ波とし
て偏光ビームスプリッタ６に入射される。
ビームは、コリメータレンズ７、８によって、それぞれ
平行光束となる。ここで、レーザダイオードＬＤ１から
の光ビーム３は、Ｐ波としてλ／２板５に入射し、λ／
２板５により偏光方向が９０°変えられてＳ波として出
射され、偏光ビームスプリッタ６に入射される。また、
レーザダイオードＬＤ２からの光ビーム４は、Ｐ波とし
て偏光ビームスプリッタ６に入射される。
【００１３】偏光ビームスプリッタ６は、Ｓ波を透過
し、Ｐ波を反射するように構成されている。このため、
レーザダイオードＬＤ１からの光ビーム３は、偏光ビー
ムスプリッタ６を通過する。その後、光ビーム３は、シ
リンドリカルレンズ１０を通過し、また光偏向器として
使用されるポリゴンミラー９に入射する。そして、光ビ
ーム３は、ポリゴンミラー９の面で反射し、ｆθレンズ
１１を通り、更に結像面上での倒れ補正用のシリンドリ
カルレンズ１２を通過して、感光材Ｐの走査感材面（被
走査面）１３に結像する。
し、Ｐ波を反射するように構成されている。このため、
レーザダイオードＬＤ１からの光ビーム３は、偏光ビー
ムスプリッタ６を通過する。その後、光ビーム３は、シ
リンドリカルレンズ１０を通過し、また光偏向器として
使用されるポリゴンミラー９に入射する。そして、光ビ
ーム３は、ポリゴンミラー９の面で反射し、ｆθレンズ
１１を通り、更に結像面上での倒れ補正用のシリンドリ
カルレンズ１２を通過して、感光材Ｐの走査感材面（被
走査面）１３に結像する。
【００１４】一方、レーザダイオードＬＤ２から出射さ
れたビーム４は、コリメータレンズ８にて平行光束とな
った後に、中空マイクロステップモータ３０、３１を通
過し、微小角度だけ光軸よりずれた状態で、偏光ビーム
スプリッタ６の入射面にＰ波として入射する。偏光ビー
ムスプリッタ６は、光ビーム４を反射面で反射する。そ
の後は、光ビーム３と同じ光路を通り、シリンドリカル
レンズ１０を透過し、ポリゴンミラー９の面で反射した
後に、ｆθレンズ１１とシリンドリカルレンズ１２を通
過して走査感材面１３に結像する。
れたビーム４は、コリメータレンズ８にて平行光束とな
った後に、中空マイクロステップモータ３０、３１を通
過し、微小角度だけ光軸よりずれた状態で、偏光ビーム
スプリッタ６の入射面にＰ波として入射する。偏光ビー
ムスプリッタ６は、光ビーム４を反射面で反射する。そ
の後は、光ビーム３と同じ光路を通り、シリンドリカル
レンズ１０を透過し、ポリゴンミラー９の面で反射した
後に、ｆθレンズ１１とシリンドリカルレンズ１２を通
過して走査感材面１３に結像する。
【００１５】中空マイクロステップモータ３０、３１の
中空部にそれぞれ上述したウエッジプリズム１６が実装
されている。これらウエッジプリズム１６は、互いの頂
角を打ち消すように、光ビームが直進する位置を原点と
し、各ウエッジプリズム１６を逆方向で回転させること
ができる構成となっている。
中空部にそれぞれ上述したウエッジプリズム１６が実装
されている。これらウエッジプリズム１６は、互いの頂
角を打ち消すように、光ビームが直進する位置を原点と
し、各ウエッジプリズム１６を逆方向で回転させること
ができる構成となっている。
【００１６】光学系内には、位相開始センサ２２と位置
調整スリットユニット３３は、記録走査エリアの外にな
るように結像面手前で反射ミラー３２により折り返され
ている。この走査ビームは、光学的に結像ビームが保証
されている有効エリアに実装されている。位置調整スリ
ットユニット３３は、結像面を３〜５倍に拡大させる倍
率変換レンズ３４と、２０〜３０μｍ幅を有するスリッ
ト３５、フォトディテクタ（光検出）センサ３６、Ｚ軸
ステージユニット３７、このステージユニット３７を上
下させるためのステッピングモータ３８により構成され
ている。
調整スリットユニット３３は、記録走査エリアの外にな
るように結像面手前で反射ミラー３２により折り返され
ている。この走査ビームは、光学的に結像ビームが保証
されている有効エリアに実装されている。位置調整スリ
ットユニット３３は、結像面を３〜５倍に拡大させる倍
率変換レンズ３４と、２０〜３０μｍ幅を有するスリッ
ト３５、フォトディテクタ（光検出）センサ３６、Ｚ軸
ステージユニット３７、このステージユニット３７を上
下させるためのステッピングモータ３８により構成され
ている。
【００１７】Ｚ軸ステージユニット３７は、図示しない
リニアボールやボールネジ等で構成されている。上述し
たステッピングモータ３８との組み合わせで、４〜５μ
ｍ／ステップ程度の位置決め精度を有する。Ｚ軸ステー
ジユニット３７は、原点位置を有している。このＺ軸に
移動するステージ３９に、スリット３５は固定されてお
り、ステージ３９が上下するとき、スリット３５も上下
する。倍率変換レンズ３４は、結像面で数１０ミクロン
に結像されるビームを拡大し、スリットの幅の加工を容
易にすることと、Ｚ軸ステージ３９の精度をラフにでき
る目的で実装してある。２個のビーム間隔を調整する方
法として、レーザダイオードＬＤ１の光軸は固定されて
いるため、このレーザダイオードＬＤ１から出射される
光ビーム３が結像される位置がマスタ位置となる。
リニアボールやボールネジ等で構成されている。上述し
たステッピングモータ３８との組み合わせで、４〜５μ
ｍ／ステップ程度の位置決め精度を有する。Ｚ軸ステー
ジユニット３７は、原点位置を有している。このＺ軸に
移動するステージ３９に、スリット３５は固定されてお
り、ステージ３９が上下するとき、スリット３５も上下
する。倍率変換レンズ３４は、結像面で数１０ミクロン
に結像されるビームを拡大し、スリットの幅の加工を容
易にすることと、Ｚ軸ステージ３９の精度をラフにでき
る目的で実装してある。２個のビーム間隔を調整する方
法として、レーザダイオードＬＤ１の光軸は固定されて
いるため、このレーザダイオードＬＤ１から出射される
光ビーム３が結像される位置がマスタ位置となる。
【００１８】次に、図２は、図１に示すレーザビーム合
成走査記録装置の位置決め制御部の構成を示すブロック
図である。図２には、レーザダイオードＬＤ２、コリメ
ータレンズ８、それぞれウエッジプリズム１６を有する
中空マイクロステップモータ３０、３１、位置調整スリ
ットユニット３３、メモリ４３を含む位置調整制御ユニ
ット部４０、ステッピングモータ駆動制御部４１、光量
出力制御部４２および中空マイクロステップモータ３
０、３１用のマイクロステップ制御部４４、４５を示
す。また、位置調整スリットユニット３３は、倍率変換
レンズ３４、スリット３５、フォトディテクタセンサ３
６およびステッピングモータ３８を有する。
成走査記録装置の位置決め制御部の構成を示すブロック
図である。図２には、レーザダイオードＬＤ２、コリメ
ータレンズ８、それぞれウエッジプリズム１６を有する
中空マイクロステップモータ３０、３１、位置調整スリ
ットユニット３３、メモリ４３を含む位置調整制御ユニ
ット部４０、ステッピングモータ駆動制御部４１、光量
出力制御部４２および中空マイクロステップモータ３
０、３１用のマイクロステップ制御部４４、４５を示
す。また、位置調整スリットユニット３３は、倍率変換
レンズ３４、スリット３５、フォトディテクタセンサ３
６およびステッピングモータ３８を有する。
【００１９】以下、図１および図２を参照して本発明に
よるレーザビーム合成走査記録装置の動作を説明する。
先ず、レーザダイオードＬＤ１を点灯し、レーザダイオ
ードＬＤ２を消灯させる。次に、位置調整スリットユニ
ット３３のスリット３５は、位置調整制御ユニット部４
０から指令に応じて、ステッピングモータ駆動制御部４
１を介してステッピングモータ３８にパルスを入力する
ことにより、図示しない原点位置からして移動する。こ
のとき、スリット３５は、フォトディテクタセンサ３６
に当たるレーザ光３を横切るように移動する。また、フ
ォトディテクタセンサ３６の出力値のピーク値を光量出
力制御部４２で検出し、位置調整制御ユニット部４０が
内蔵するメモリ４３に入力パルスを記憶させる。この記
憶された入力パルス値に対して、レーザダイオードＬＤ
２から出射される光ビーム４の結像位置の必要移動量を
位置調整制御ユニット部４０で予め記憶してある必要値
をメモリ４３から読み出す。そして、光ビーム３の位置
情報から必要な位置になるように、Ｚ軸ステージユニッ
ト３７に実装されているステッピングモータ３８へステ
ッピングモータ駆動制御部４１を介してパルスを入力し
て、スリット３５を移動させ、モータを励磁して固定す
る。
よるレーザビーム合成走査記録装置の動作を説明する。
先ず、レーザダイオードＬＤ１を点灯し、レーザダイオ
ードＬＤ２を消灯させる。次に、位置調整スリットユニ
ット３３のスリット３５は、位置調整制御ユニット部４
０から指令に応じて、ステッピングモータ駆動制御部４
１を介してステッピングモータ３８にパルスを入力する
ことにより、図示しない原点位置からして移動する。こ
のとき、スリット３５は、フォトディテクタセンサ３６
に当たるレーザ光３を横切るように移動する。また、フ
ォトディテクタセンサ３６の出力値のピーク値を光量出
力制御部４２で検出し、位置調整制御ユニット部４０が
内蔵するメモリ４３に入力パルスを記憶させる。この記
憶された入力パルス値に対して、レーザダイオードＬＤ
２から出射される光ビーム４の結像位置の必要移動量を
位置調整制御ユニット部４０で予め記憶してある必要値
をメモリ４３から読み出す。そして、光ビーム３の位置
情報から必要な位置になるように、Ｚ軸ステージユニッ
ト３７に実装されているステッピングモータ３８へステ
ッピングモータ駆動制御部４１を介してパルスを入力し
て、スリット３５を移動させ、モータを励磁して固定す
る。
【００２０】次に、レーザダイオードＬＤ２を点灯し、
レーザダイオードＬＤ１を消灯させる。マイクロスッテ
プモータ３０、３１は、位置制御調整ユニット部４０か
らの指令により、マイクロステップ制御部４４、４５を
介してステップを入力され回転する。マイクロステップ
モータ３０、３１に対して同一パルス数を与え、マイク
ロステップモータ３０およびマイクロステップモータ３
１に対して、光ビーム４の入射方向に対して相互に逆回
転させる。２個のマイクロステップモータ３０、３１を
回転させることで、レーザダイオードＬＤ２からの光ビ
ーム４は、結像面で副走査方向に倍率変換レンズ３４を
介してスリット３５の面上を走査する。このとき、フォ
トディテクタセンサ３６の値がピーク（最大）値となっ
たとき、マイクロステップモータ３０、３１に対するパ
ルス入力を止め、励磁して固定する。
レーザダイオードＬＤ１を消灯させる。マイクロスッテ
プモータ３０、３１は、位置制御調整ユニット部４０か
らの指令により、マイクロステップ制御部４４、４５を
介してステップを入力され回転する。マイクロステップ
モータ３０、３１に対して同一パルス数を与え、マイク
ロステップモータ３０およびマイクロステップモータ３
１に対して、光ビーム４の入射方向に対して相互に逆回
転させる。２個のマイクロステップモータ３０、３１を
回転させることで、レーザダイオードＬＤ２からの光ビ
ーム４は、結像面で副走査方向に倍率変換レンズ３４を
介してスリット３５の面上を走査する。このとき、フォ
トディテクタセンサ３６の値がピーク（最大）値となっ
たとき、マイクロステップモータ３０、３１に対するパ
ルス入力を止め、励磁して固定する。
【００２１】以上、本発明によるマルチビーム合成走査
記録装置の好適実施形態の構成および動作を詳述した。
しかし、斯かる実施形態は、本発明の単なる例示に過ぎ
ず、何ら本発明を限定するものではないことに留意され
たい。本発明の要旨を逸脱することなく、特定用途に応
じて種々の変形変更が可能であること、当業者には容易
に理解できよう。
記録装置の好適実施形態の構成および動作を詳述した。
しかし、斯かる実施形態は、本発明の単なる例示に過ぎ
ず、何ら本発明を限定するものではないことに留意され
たい。本発明の要旨を逸脱することなく、特定用途に応
じて種々の変形変更が可能であること、当業者には容易
に理解できよう。
【００２２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のマルチビーム合成走査記録装置によると、次の如き実
用上の顕著な効果が得られる。先ず、結像位置において
レーザダイオードＬＤ１、ＬＤ２の距離を、予め決めて
おいた位置に対して自由自在に自動で調整することが可
能である。中空のマイクロステップモータを使用するこ
とで、ウエッジプリズムの微小角度の製造が難しく且つ
非常に高価なものとなっていたのが安価なウエッジプリ
ズムが使用でき、機構的ギヤ等を使用せず、バックラッ
シュの発生がないため、位置精度が大幅に改善される。
のマルチビーム合成走査記録装置によると、次の如き実
用上の顕著な効果が得られる。先ず、結像位置において
レーザダイオードＬＤ１、ＬＤ２の距離を、予め決めて
おいた位置に対して自由自在に自動で調整することが可
能である。中空のマイクロステップモータを使用するこ
とで、ウエッジプリズムの微小角度の製造が難しく且つ
非常に高価なものとなっていたのが安価なウエッジプリ
ズムが使用でき、機構的ギヤ等を使用せず、バックラッ
シュの発生がないため、位置精度が大幅に改善される。
【００２３】また、本発明のマルチビーム合成走査記録
装置は、マルチ化された光ビームが経時変化および温度
変動に対しても追従できるため、記録品質が改善でき
る。更に、例えば新聞社特有の１紙面内に存在する線密
度切替に対応できるため、高速描画が可能となる。
装置は、マルチ化された光ビームが経時変化および温度
変動に対しても追従できるため、記録品質が改善でき
る。更に、例えば新聞社特有の１紙面内に存在する線密
度切替に対応できるため、高速描画が可能となる。
【図１】本発明によるマルチビーム合成走査記録装置の
好適実施形態の構成を示す斜視図である。
好適実施形態の構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示すマルチビーム合成走査記録装置に使
用される位置決め制御の一例のブロック説明図である。
用される位置決め制御の一例のブロック説明図である。
【図３】従来のマルチビーム走査装置の構成を示す斜視
図である。
図である。
【図４】典型的なビームスプリッタの説明図である。
【図５】典型的なウエッジプリズム２枚の動作説明図で
ある。
ある。
【図６】従来の角度変位調整ユニットの説明図である。
【符号の説明】 ５ λ／２板 ６ 偏光ビームスプリッタ ７、８ コリメータレンズ ９ ポリゴンミラー（偏向手段） １３ 走査感材面（被走査面） １６ ウエッジプリズム ３０、３１ 中空マイクロステップモータ ３３ 位置調整スリットユニット ３５ スリット ３６ フォトディテクタセンサ（測定手段） ３７ Ｚ軸ステージユニット ３８ ステッピングモータ ４０ 位置調整制御ユニット部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 BA58 BA61 BA69 BA71 BA89 BB30 BB32 BB46 DA03 2H045 AA01 BA22 BA33 DA02 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22 DB24 DB30 DC05 DC07 DE26 5C072 AA03 BA13 HA02 HA06 HA08 HA13 HB08
Claims (7)
- 【請求項１】それぞれ光ビームを出力する複数の発光手
段と、進行方向の異なる前記複数の光ビームの光軸合わ
せをする合成手段と、前記光軸合わせされた複数の光ビ
ームを偏向する偏向手段と、前記偏向された複数の光ビ
ームを被走査面に結像させる結像手段とを含むマルチビ
ーム合成走査記録装置において、 更に前記複数の光ビームの少なくとも１つを走査方向と
直交する副走査方向に偏向する中空マイクロステップモ
ータと、前記副走査方向に移動した量を測定する測定手
段として位置調整スリットユニットとを備えることを特
徴とするマルチビーム合成走査記録装置。 - 【請求項２】前記中空マイクロステップモータは、それ
ぞれウエッジプリズムを組み合わせた２対設け、前記ウ
エッジプリズムは、前記中空マイクロステップモータを
回転して前記偏向量を調整することを特徴とする請求項
１に記載のマルチビーム合成走査記録装置。 - 【請求項３】前記位置調整スリットユニットは、前記発
光手段からの光が入射する倍率変換レンズと、該倍率変
換レンズからの光が横切るスリットと、該スリットを移
動する移動手段と、前記スリットを通過した光量を検出
するフォトディテクタセンサとを備えることを特徴とす
る請求項２に記載のマルチビーム合成走査記録装置。 - 【請求項４】前記スリットの移動手段として、ステッピ
ングモータを使用することを特徴とする請求項３に記載
のマルチビーム合成走査記録装置。 - 【請求項５】前記倍率変換レンズは、結像面を約３〜５
倍に拡大させることを特徴とする請求項３に記載のマル
チビーム合成走査記録装置。 - 【請求項６】前記スリットは、約２０〜３０μｍの幅を
有することを特徴とする請求項３、４又は５に記載のマ
ルチビーム合成走査記録装置。 - 【請求項７】前記中空マイクロステップモータおよび前
記位置調整スリットユニットのステッピングモータは、
位置調整制御ユニット部により制御されることを特徴と
する請求項２乃至６の何れかに記載のマルチビーム合成
走査記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001028252A JP2002228959A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | マルチビーム合成走査記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001028252A JP2002228959A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | マルチビーム合成走査記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002228959A true JP2002228959A (ja) | 2002-08-14 |
Family
ID=18892782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001028252A Pending JP2002228959A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | マルチビーム合成走査記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002228959A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7253938B2 (en) | 2003-08-11 | 2007-08-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laser scanning apparatus |
| US7525561B2 (en) | 2002-07-02 | 2009-04-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming apparatus |
| US7808689B2 (en) | 2006-03-31 | 2010-10-05 | Kyocera Mita Corporation | Image forming apparatus, and scanning optical unit and optical element used for the apparatus |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6155482U (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | ||
| JPH09197310A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Nec Eng Ltd | マルチビーム走査装置 |
| JPH1058740A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム走査型画像形成装置・走査線ピッチ検出方法・走査線ピッチ検出装置 |
| JPH116976A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Asahi Optical Co Ltd | 透過型光学偏向装置 |
| JP2000249946A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マルチビーム走査装置 |
-
2001
- 2001-02-05 JP JP2001028252A patent/JP2002228959A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6155482U (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | ||
| JPH09197310A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Nec Eng Ltd | マルチビーム走査装置 |
| JPH1058740A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム走査型画像形成装置・走査線ピッチ検出方法・走査線ピッチ検出装置 |
| JPH116976A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Asahi Optical Co Ltd | 透過型光学偏向装置 |
| JP2000249946A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マルチビーム走査装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7525561B2 (en) | 2002-07-02 | 2009-04-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming apparatus |
| US7532227B2 (en) | 2002-07-02 | 2009-05-12 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming apparatus |
| US7253938B2 (en) | 2003-08-11 | 2007-08-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laser scanning apparatus |
| US7808689B2 (en) | 2006-03-31 | 2010-10-05 | Kyocera Mita Corporation | Image forming apparatus, and scanning optical unit and optical element used for the apparatus |
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